TW201944432A

TW201944432A - 核反應爐以及相應的維護方法

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Publication number: TW201944432A
Application number: TW108112204A
Authority: TW
Inventors: 克里斯蒂安布雷寧; 丹尼斯波利耶; 勞倫卡歐特; 丹尼斯聖達特
Original assignee: 法商法瑪通公司
Priority date: 2018-04-05
Filing date: 2019-04-08
Publication date: 2019-11-16
Also published as: FR3079960B1; JP2021520491A; KR20200141458A; US11557402B2; JP7317041B2; KR102649496B1; CN111919265A; EP3776595A1; WO2019193088A1; US20210366624A1; ZA202005771B; FR3079960A1

Abstract

本發明提供一種核反應爐，該核反應爐包括：引導管件（12）；覆蓋件管道（22），該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器（24）並且界定內部通道（34），該管狀適配器固定在該些開口（2a）中的一個開口中，每個覆蓋件管道（22）還包括管狀套筒（36），該管狀套筒接合在該內部通道（34）中並且在該些引導管件（12）中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；每個套筒（36）通過該套筒的軸向上端（38）而懸掛，該套筒的軸向上端安置在上座（40）上，該上座設置在相應的適配器（24）上；該套筒（36）的軸向下端（48）軸向突出到該容器（1）中超過該適配器（24）並且與相應引導管件（12）的軸向上端（54）分開一定的軸向間隙，該軸向間隙的軸向高度小於50毫米。

Description

核反應爐以及相應的維護方法

本發明總體上涉及具有位於容器外部的用於驅動用於爐心反應性的控制構件的機構的核反應爐。

核反應爐可以包括：容器，該容器具有大致豎直的中心軸線，該容器包括具有多個開口的覆蓋件；爐心，該爐心佈置在該容器內；引導管件，該些引導管件佈置在該容器內；多個控制構件，該多個控制構件用於該爐心的反應性、能夠在該些引導管件內軸向移動；覆蓋件管道，該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器並且界定內部通道，該管狀適配器固定在該些開口中的一個開口中，每個覆蓋件管道還包括管狀套筒，該管狀套筒接合在內部通道中並且在該些引導管件中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；控制棒，該些控制棒固定地連結到控制構件並且各自延伸穿過該些套筒中的一個套筒；用於驅動控制構件的機構，該些機構位於容器外部，每個機構被構造成軸向驅動該些棒中的一個棒。

每個套筒可以通過該套筒的軸向上端而懸掛，該軸向上端安置在上座上，上座設置在相應的適配器上。

由於每個套筒相對於相應的管狀適配器是自由的，所以由於這兩個元件之間的相對運動，可能會產生管狀套筒和/或適配器的磨損。

在這種背景下，本發明的目的是提供可以更好地控制這種磨損現象的核反應爐。

為此，根據第一方面，本發明涉及核反應爐，該核反應爐包括：容器，該容器具有大致豎直的中心軸線，該容器包括具有多個開口的覆蓋件；爐心，該爐心佈置在該容器內；引導管件，該些引導管件佈置在該容器內；多個控制構件，該多個控制構件用於該爐心的反應性、能夠在該些引導管件內軸向移動；覆蓋件管道，該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器並且界定內部通道，該管狀適配器固定在該些開口中的一個開口中，每個覆蓋件管道還包括管狀套筒，該管狀套筒接合在內部通道中並且在該些引導管件中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；控制棒，該些控制棒固定地連結到控制構件並且各自延伸穿過該些套筒中的一個套筒；用於驅動控制構件的機構，該些機構位於該容器的外部，每個機構被構造成軸向驅動該些棒中的一個棒。

每個套筒通過該套筒的軸向上端而懸掛，該套筒的軸向上端安置在上座上，該上座設置在相應的適配器上。

該套筒的軸向下端軸向突出到該容器中超過該適配器並且與相應引導管件的軸向上端分開一定的軸向間隙，該軸向間隙的軸向高度小於50毫米。

由於套筒僅懸掛在相應的適配器上，所以由於主流體在容器內的迴圈，必然會在套筒與適配器之間產生相對移動。該些相對移動導致套筒的軸向上端和/或上座的磨損，使得套筒在給定時間之後朝向爐心軸向地下降。

由於將引導管件的軸向上端與套筒的軸向下端分開的軸向間隙非常小，因此套筒於是以其軸向下端安置在引導管件的軸向上端上。

因此，套筒不再通過其軸向上端而懸掛，而是在其兩端處軸向抵接。

套筒與適配器之間的相對移動被大大減少或甚至完全取消。

因此，套筒和/或適配器的磨損極度減小或甚至完全停止。

覆蓋件管道的使用壽命顯著增加。

核反應爐可以還具有一個或多個以下特徵，該些特徵被單獨考慮或者根據所有技術上可能的組合來考慮：該套筒的軸向下端與該相應引導管件的軸向上端分開一定的徑向間隙，該徑向間隙的徑向寬度小於20毫米；每個套筒的軸向下端具有朝向該引導管件加寬的形狀，該引導管件的軸向上端包括接合在該套筒的軸向下端中的軸向突出部，所述軸向間隙被限定在該加寬的套筒的軸向下端的內表面與該突出部之間；所述徑向間隙限定在該加寬的套筒的軸向下端的內表面與該突出部之間；該套筒的軸向下端具有截頭錐形，該突出部具有與該套筒的軸向下端的截頭錐形相適形的截頭錐形；該引導管件的軸向上端具有下座，該套筒的軸向下端的自由邊緣位於該下座的軸向上方，所述軸向間隙被限定在該自由邊緣與該下座之間；該下座由多個表面限定，該多個表面具有閉合輪廓並通過通道而彼此分開並且圍繞該棒分佈；該引導管件的軸向上端包括至少一個徑向止擋部，該至少一個徑向止擋部朝向該下座的內側和/或朝向該下座的外側徑向地定位，所述徑向間隙被限定在該自由邊緣與該至少一個徑向止擋部之間；每個引導管件包括管狀引導結構和端件，該端件固定到該引導結構並且限定該引導管件的軸向上端；該端件具有中心軸向開口和流體循環導管，該棒延伸穿過該中心軸向開口，該些流體循環導管在該中心軸向開口中開口；該引導結構包括上板，該上板具有用於該棒的、定位成與該中心軸向開口對準的貫通開口，該端件固定到該上板，該上板和該端件具有垂直於該中心軸線並基本相同的內截面和/或外截面。

根據第二方面，本發明涉及用於維護核反應爐的方法，該核反應爐包括：容器，該容器具有大致豎直的中心軸線，該容器包括具有多個開口的覆蓋件；爐心，該爐心佈置在該容器內；引導管件，該些引導管件佈置在該容器內，每個引導管件包括管狀引導結構；多個控制構件，該多個控制構件用於該爐心的反應性、能夠在該些引導管件內軸向移動；覆蓋件管道，該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器並且界定內部通道，該管狀適配器固定在該些開口中的一個開口中，每個覆蓋件管道還包括管狀套筒，該管狀套筒接合在內部通道中並且在該些引導管件中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；控制棒，該些控制棒固定地連結到控制構件並且各自延伸穿過該些套筒中的一個套筒；用於驅動控制構件的機構，該些機構位於該容器的外部，每個機構被構造成軸向驅動該些棒中的一個棒。

該套筒的軸向下端軸向突出到該容器中超過該適配器並且位於該引導管件的上方。

該方法至少包括以下步驟：將端件固定到至少一個引導管件的引導結構，該端件限定該引導管件的軸向上端，該套筒的軸向下端與該相應引導管件的軸向上端分開一定的軸向間隙，該軸向間隙的軸向高度小於50毫米。

該方法還可以具有以下特徵：該套筒的軸向下端與該相應引導管件的軸向上端分開一定的徑向間隙，該徑向間隙的徑向寬度小於20毫米。

圖1中所展示的核反應爐是壓水反應爐（PWR）型反應爐。作為變型，反應爐是沸水反應爐（BWR）型。

核反應爐包括具有大致豎直的中心軸線的容器1。

容器1包括大致圓柱形的環1a，該環在其下端由大致半球形的彎曲基底1b封閉。環在其上端處是開放的。

容器還包括具有多個開口2a的覆蓋件2。

覆蓋件2是大致半球形的並且安置在環1a的上端處的抵接座上。覆蓋件典型地通過夾緊螺柱3以不透流體的方式固定到環1a。

核反應爐還包括佈置在容器1內的爐心4。

爐心由核燃料元件構成，核燃料元件典型地是角柱形的並且並排佈置。

核反應爐還包括佈置在容器內的引導管件12和用於爐心的反應性的多個控制構件14，控制構件可以在引導管件12內軸向移動。

可以在圖1中看到引導管件，控制構件14的上部部分在圖2中展示出。

用於爐心的反應性的控制構件14（通常也稱為控制簇）典型地包括一束長形棒16，該些長形棒包含吸收中子的材料並懸掛在多腳架組件18上。

引導管件12具有豎直取向。引導管件典型地包括棒16在其中滑動的導板（未示出）和圓柱形外部護罩20。當控制構件處於下部位置時，棒16在其長度的至少一部分上接合在爐心中，並且當控制構件處於上部位置時，棒從爐心撤回。

核反應爐還包括在圖2中詳細展示出的覆蓋件管道22。每個覆蓋件管道22包括固定在開口2a中的一個開口中的管狀適配器24。

適配器24典型地包括直線部分26，該直線部分的直徑對應於開口2a的內直徑，並且該直線部分典型地最初收縮配合在覆蓋件中並隨後通過環形焊道28固定到覆蓋件2的下部內面。

適配器24還包括上部部分30，該上部部分在直徑上加寬並且位於容器的覆蓋件2的外側和上方。

此外，適配器24的下部部分32相對於覆蓋件2的內部下表面突出。

適配器24界定內部通道34。該通道典型地具有豎直軸線。

每個管道22還包括管狀套筒36，該管狀套筒接合在內部通道34中並且在引導管件12中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸，如圖1所示。每個套筒36通過套筒的軸向上端38而懸掛，該套筒的軸向上端安置在上座40上，該上座設置在相應的適配器24上（見圖2）。

套筒36典型地相對於適配器24同軸。套筒典型地包括中心部分42，該中心部分是大致圓柱形的並且具有在其整個高度上基本恆定的截面。

軸向上端38相對於中心部分42具有加寬的外截面，並且構成安置在上座40上的擴大部。

內部通道34具有直線部分，該直線部分具有幾乎在適配器的整個高度上延伸的基本恆定的內截面，該截面略大於套筒的中心部分42的外截面，使得在套筒的中心部分42與內部通道34的壁之間存在間隙44。

內部通道34具有上端46，該上端具有加寬的截面。上座40構成肩部，該肩部將內部通道的加寬的上端46連接到該直線部分。

上座40是向上定向的，由於套筒的重量，軸向上端38安置在上座40上。

套筒的軸向下端48突出到容器中、超過管狀適配器24。

套筒36支承在墊板（patin）49的外表面上，該些墊板確保套筒與通道34的內表面之間的間隔。因此，套筒和適配器保持實際上同軸的佈置。

核反應爐還包括固定地連結到控制構件14的控制棒50。

如圖2所示，多腳架組件18剛性地固定到控制棒50的下端。

每個棒50軸向延伸穿過套筒36中的一個套筒。

核反應爐還包括位於容器1外部的用於驅動控制構件14的機構52。每個機構52被構造成軸向驅動控制棒50中的一個控制棒，從而使相應的控制構件14移位。

機構52以不透流體的方式安裝在適配器的上部部分30上。

根據本發明，套筒36的軸向下端48與相應引導管件12的軸向上端54分開一定的軸向間隙，該軸向間隙的高度小於50毫米。

圖3和圖4中展示了這種情形。

換句話說，在套筒的軸向下端48與引導管件的軸向上端54之間存在間隙56，該間隙沿中心軸線截取的高度小於50毫米。優選地，該高度小於30毫米，並且進一步優選地小於10毫米。

以這種方式，在套筒的上端38與上座40之間發生相對移動（這將導致上座40或套筒的上端38的磨損）的情況下，套筒36的豎直高度水準將減小並且套筒的軸向下端48將移動以抵靠引導管件的軸向上端54。這將具有中斷上座40或套筒的上端38的磨損的效果。

有利地，套筒的軸向下端48與相應引導管件的軸向上端54分開一定的徑向間隙，該徑向間隙的寬度小於20毫米。該徑向間隙的寬度優選地小於10毫米，並且進一步優選地小於5毫米。

例如，圖4中可見的徑向截取的間隙56的寬度小於上述寬度。該寬度取自垂直於中心軸線的平面。它是相對於套筒的軸線X沿徑向方向截取的。

這具有限制或完全消除套筒圍繞其上部抵接部的任何搖擺運動的效果。

根據圖3至圖6所展示的第一實施例，套筒的軸向下端48具有朝向引導管件12變寬的形狀，並且引導管件的軸向上端54包括接合在套筒的軸向下端48中的突出部58。

從圖4中可以看出，套筒的軸向下端48的內表面60與突出部58的外表面61之間的間隙56對應於軸向間隙和徑向間隙兩者。

典型地，套筒的軸向下端48具有截頭錐形。突出部58也具有與套筒的軸向下端的截頭錐形適形的截頭錐形。該些截頭錐形的軸線與套筒的軸線X對準。

有利地，每個引導管件12包括管狀引導結構62和端件64，該端件固定到引導結構62並且限定引導管件的軸向上端54。

管狀引導結構62典型地至少包括導板和護罩20。管狀引導結構典型地還包括封閉護罩20的上端的上板66。上板66典型地具有垂直於中心軸線的取向。上板具有貫通開口68（圖4），棒50延伸穿過該貫通開口。

端件64包括底板70，該底板具有大的下面72和大的上面74。大的下面72直接抵靠上板66的上面76。

突出部58從大的上面面朝向套筒36軸向地突出。

底板70具有大致垂直於中心軸線的取向。

端件64具有中心軸向開口78，棒50延伸穿過該中心軸向開口。中心軸向開口78和貫通開口68定位成彼此對準。

上板66和端件64具有垂直於中心軸線的基本相同的內截面和/或外截面。

更具體地，貫通開口68的內截面與中心軸向開口78的內截面基本相同。底板70的外截面與上板66的外截面基本相同。

在所展示的示例中，底板70和上板66是圓形的。

如從圖3至圖6可看見的，端件64具有在中心軸向開口78中開口的流體循環導管。導管80從底板70的一部分82徑向延伸直到中心軸向開口78中的位置。其他迴圈導管86從突出部58的外表面61徑向延伸直到中心軸向開口78中的位置。

端件64還包括三個埋頭孔88（圖5），該些埋頭孔設置為接納用於將端件64固定到上板66的螺釘。在所展示的示例中，這三個埋頭孔88部分地佈置在底板64中並且部分地佈置在突出部58中。埋頭孔88的基部90被開口92刺穿，該些開口可以在圖6中看到並且設置用於引入固定螺釘93（圖7）。固定螺釘的頭部被接納在埋頭孔中。

作為變型，端件64不是通過螺釘固定到引導結構62，而是通過任何其他合適的手段（例如通過焊接）固定到引導結構。

從圖4中可以看出，引導管件12包括相對於上板66的上面76突出的防旋轉杆94。端件64在其大的下面72上具有接納構件96，該些接納構件用於接納該些杆的突出部。

根據圖7和圖8中所展示的構造變型，迴圈導管80、86由大尺寸的開口97代替。該些開口97在突出部58中產生，更具體地在外表面61中產生。該些開口在中心軸向開口78中開口。該些開口具有閉合輪廓。

開口97典型地在埋頭孔88之間圍繞突出部58沿周向分佈。

根據圖9中所展示的構造變型，開口97不具有閉合輪廓。

突出部58在朝向軸向下端48的內表面60的側向方向上由外表面61界定並且在軸向方向上由環形表面98界定。環形表面98垂直於軸線X並且是向上定向的。

開口97分別在環形表面98的區域中開口，將其分成彼此完全分開的三個環形部分。

根據圖10至圖12所示的構造變型，引導管件的軸向上端54具有下座99，套筒的軸向下端48的自由邊緣100位於下座99的軸向上方。

在這種情況下，軸向間隙56限定在自由邊緣100與下座99之間。

下座99例如由多個表面限定，該些表面具有閉合輪廓並通過通道而彼此分開並且圍繞棒50分佈。

該些具有閉合輪廓的表面例如由軸向突出的螺柱限定。下座99典型地內接在垂直於中心軸線的表面中。將不同表面與閉合輪廓分開的通道允許填充容器的主流體循環。

在這種情況下，下座99例如佈置在裝配到引導結構的端件上。該端件包括承載螺柱的板。

作為變型，下座是包圍棒50的連續表面。

有利地，引導管件的軸向上端54包括至少一個徑向止擋部102、104，該徑向止擋部朝向下座99的內側和/或朝向下座的外側徑向地定位，如圖10和圖11所示。徑向間隙限定在自由邊緣100與外徑向止擋部102或內徑向止擋部104之間。

典型地，止擋部102、104形成在限定下座99的端件上。

在圖10至12所展示的示例中，套筒的軸向下端48具有加寬式形狀。

在圖3至圖6的實施例中，套筒的軸向下端48可以不具有含有垂直於中心軸線的圓形截面的截頭錐形形式。該些截面可以是橢圓形或可以具有任何其他形狀。

根據構造變型，引導管件的軸向上端54由管狀引導結構限定，而不是由固定到管狀引導結構的端件限定。

根據第二方面，本發明涉及用於維護核反應爐的方法，該核反應爐包括：容器1，該容器具有大致豎直的中心軸線，容器1包括具有多個開口2a的覆蓋件2；爐心4，該爐心佈置在容器1內；引導管件12，該些引導管件佈置在容器1內，每個引導管件12包括管狀引導結構62；多個控制構件，該多個控制構件用於爐心14的反應性、能夠在引導管件12內軸向移動；覆蓋件管道22，該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器24並且界定內部通道34，該管狀適配器固定在該些開口2a中的一個開口中，每個覆蓋件管道22還包括管狀套筒36，該管狀套筒接合在內部通道34中並且在該些引導管件12中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；控制棒50，該些控制棒固定地連結到控制構件14並且各自延伸穿過該些套筒36中的一個套筒；用於驅動控制構件14的機構52，該些機構位於容器1的外部，每個機構52被構造成軸向驅動該些棒50中的一個棒。

每個套筒36通過套筒的軸向上端38而懸掛，該套筒的軸向上端安置在上座40上，該上座設置在相應的適配器24上。

套筒的軸向下端48軸向突出到容器1中超出覆蓋件管道22並且位於相應引導管件12的上方。

該方法至少包括以下步驟：將端件64固定到至少一個引導管件12的引導結構62，端件64限定引導管件的軸向上端54，套筒的軸向下端48與相應引導管件的軸向上端54分開一定的軸向間隙56，該軸向間隙的高度小於50毫米。

有利地，套筒的軸向下端48與相應引導管件的軸向上端54分開一定的徑向間隙，該徑向間隙的寬度小於20毫米。

端件有利地具有上述類型。

在將端件64固定到引導結構62的步驟之後，核反應爐是上述類型的。

典型地在已經處於運行中的反應爐上執行該維護方法。該維護方法可以在套筒或適配器發生顯著磨損之前以預防方式執行。可替代地，在套筒由於套筒或適配器的磨損而已經降低時，該方法還可以以校正方式執行。

維護方法典型地包括在將端件固定到引導結構的步驟之前執行的以下步驟：拆卸覆蓋件2並清空該覆蓋件；拆卸核反應爐的設備的上部內部件（包括引導管件12），並將它們轉移到核反應爐的池中。

對端件64進行固定的操作優選地在將引導管件12浸沒在反應爐的池中的情況下執行。

固定步驟典型地包括以下子步驟：在引導結構62的上板66中形成攻絲部分，該些攻絲部分被設置為接納用於將端件64固定到引導結構62的螺釘；將定心塞定位在上板66的貫通開口68中；將端件64定位在引導結構62上；將用於將端件64固定在已預先形成的攻絲部分中的螺釘擰緊；取出定心塞。

定心塞用於在將端件定位在引導結構上的子步驟期間進行引導並且防止物體落入引導管件12中。中心軸向開口78圍繞定心塞進行裝配。

在將端件64固定到引導結構62的步驟之後，維護方法包括以下步驟：將反應爐的設備的上部內部件（包括現在結合有端件64的引導管件12）從池中轉移到容器1中；重新定位覆蓋件2並且閉合容器1。

因此，本發明允許套筒36借助於固定到引導結構62的端件64而在給定的高度測量中穩定。套筒36保留其所有功能：液壓閥；適配器24的熱保護；引導和保護控制棒50。

套筒36從上座40升起，以在用於爐心的反應性的控制構件14迅速降低的情況下允許流體從容器1的內側朝向機構52的內側迴圈，從這種意義上說，套筒36具有液壓閥的功能。

端件64的定位允許套筒36和適配器24的磨損因套筒36在其兩端被保持（這限制了其位移）而停止。

端件64的定位對安全性沒有任何影響。它對引導管件12的其他預期維護操作幾乎沒有或沒有影響，並且僅需要夾持器的適配，該夾持器允許引導管件12被夾持和操縱。

端件64的安裝時間對於停機並不重要，該操作能夠相對於覆蓋件的其他工作在隱蔽時間內執行。

端件64非常廉價並且定位相對簡單。將端件64固定到結構62典型地僅需要攻絲操作。

1‧‧‧容器

1a‧‧‧環

1b‧‧‧基底

2‧‧‧覆蓋件

2a‧‧‧開口

3‧‧‧螺柱

4‧‧‧爐心

12‧‧‧引導管件

14‧‧‧控制構件

16‧‧‧棒

18‧‧‧多腳架組件

20‧‧‧護罩

22‧‧‧覆蓋件管道

24‧‧‧適配器

26‧‧‧直線部分

28‧‧‧環形焊道

30‧‧‧上部部分

32‧‧‧下部部分

34‧‧‧通道

36‧‧‧套筒

38‧‧‧上端

40‧‧‧上座

42‧‧‧中心部分

44‧‧‧間隙

46‧‧‧上端

48‧‧‧軸向下端

49‧‧‧墊板

50‧‧‧控制棒

52‧‧‧機構

54‧‧‧軸向上端

56‧‧‧間隙

58‧‧‧突出部

60‧‧‧內表面

61‧‧‧外表面

62‧‧‧引導結構

64‧‧‧端件

66‧‧‧上板

68‧‧‧貫通開口

70‧‧‧底板

72‧‧‧大的下面

74‧‧‧大的上面

76‧‧‧上面

78‧‧‧中心軸向開口

80、86‧‧‧迴圈導管

82‧‧‧一部分

88‧‧‧埋頭孔

90‧‧‧基部

92‧‧‧開口

93‧‧‧固定螺釘

94‧‧‧防旋轉杆

96‧‧‧接納構件

97‧‧‧開口

98‧‧‧環形表面

99‧‧‧下座

100‧‧‧邊緣

102、104‧‧‧止擋部

X‧‧‧軸線

根據以下參照附圖通過非限制性示例給出的本發明詳細描述，將理解本發明的其他特徵和優點，在附圖中：

圖1是核反應爐的容器的在豎直平面中截取的截面；

圖2是圖1的核反應爐的覆蓋件管道的豎直平面中的截面；

圖3是用於根據本發明的核反應爐的圖2的套筒的軸向下端和相應引導管件的軸向上端的側視圖；

圖4是用於根據本發明的核反應爐的圖2的套筒的軸向下端和相應引導管件的軸向上端的豎直平面中的截面；

圖5和圖6分別是圖3和圖4中所展示的端件的從上方和下方觀察時的透視圖；

圖7和圖8展示了端件的構造變型；

圖9展示了端件的另一構造變型；並且

圖10至圖12展示了本發明的與引導管件的不同形式的軸向上端相對應的不同變型。

Claims

一種核反應爐，包括：容器（1），該容器具有大致豎直的中心軸線，該容器（1）包括覆蓋件（2），該覆蓋件具有多個開口（2a）；爐心（4），該爐心佈置在該容器（1）內；引導管件（12），該些引導管件佈置在該容器（1）內；多個控制構件（14），該些控制構件用於該爐心的反應性、能夠在該些引導管件（12）內軸向移動；覆蓋件管道（22），該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器（24）並且界定內部通道（34），該管狀適配器固定在該些開口（2a）中的一個開口中，每個覆蓋件管道（22）還包括管狀套筒（36），該管狀套筒接合在該內部通道（34）中並且在該些引導管件（12）中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；控制棒（50），該些控制棒固定地連結到該些控制構件（14）並且各自延伸穿過該些套筒（36）中的一個套筒；以及用於驅動該些控制構件（14）的機構（52），該些機構位於該容器（1）的外部，每個機構（52）被構造成軸向驅動該些棒（50）中的一個棒，每個套筒（36）通過該套筒的軸向上端（38）而懸掛，該套筒的軸向上端安置在上座（40）上，該上座設置在相應的適配器（24）上，該套筒（36）的軸向下端（48）軸向突出到該容器（1）中超過該適配器（24）並且與相應引導管件（12）的軸向上端（54）分開一定的軸向間隙，該軸向間隙的軸向高度小於50毫米。
如申請專利範圍第1項所述的核反應爐，其中該套筒的軸向下端（48）與該相應引導管件的軸向上端（54）分開一定的徑向間隙，該徑向間隙的徑向寬度小於20毫米。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的核反應爐，其中每個套筒的軸向下端（48）具有朝向該引導管件（12）加寬的形狀，該引導管件的軸向上端（54）包括接合在該套筒的軸向下端（48）中的軸向突出部（58），所述軸向間隙被限定在該加寬的套筒的軸向下端（48）的內表面（60）與該突出部（58）之間。
如結合申請專利範圍第2項的申請專利範圍第3項所述的核反應爐，其中所述徑向間隙限定在該加寬的套筒的軸向下端（48）的內表面（60）與該突出部（58）之間。
如申請專利範圍第3項或第4項所述的核反應爐，其中該套筒的軸向下端（48）具有截頭錐形，該突出部（58）具有與該套筒的軸向下端（48）的截頭錐形相適形的截頭錐形。
如申請專利範圍第1項或第2項所述的核反應爐，其中該引導管件的軸向上端（54）具有下座（99），該套筒的軸向下端（48）的自由邊緣（100）位於該下座（99）的軸向上方，所述軸向間隙被限定在該自由邊緣（100）與該下座（99）之間。
如申請專利範圍第6項所述的核反應爐，其中該下座（99）由多個表面限定，該多個表面具有閉合輪廓並通過通道而彼此分開並且圍繞該棒（50）分佈。
如結合申請專利範圍第2項的申請專利範圍第6項或第7項所述的核反應爐，其中該引導管件的軸向上端（54）包括至少一個徑向止擋部（102，104），該至少一個徑向止擋部朝向該下座（99）的內側和/或朝向該下座的外側徑向地定位，所述徑向間隙被限定在該自由邊緣（100）與該至少一個徑向止擋部（102，104）之間。
如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的核反應爐，其中每個引導管件（12）包括管狀引導結構（62）和端件（64），該端件固定到該引導結構（62）並且限定該引導管件的軸向上端（54）。
如申請專利範圍第9項所述的核反應爐，其中該端件（64）具有中心軸向開口（78）和流體循環導管（80，86），該棒（50）延伸穿過該中心軸向開口，該些流體循環導管在該中心軸向開口（78）中開口。
如申請專利範圍第10項所述的核反應爐，其中該引導結構（62）包括上板（66），該上板具有用於該棒（50）的、定位成與該中心軸向開口（78）對準的貫通開口（68），該端件（64）固定到該上板（66），該上板（66）和該端件（64）具有垂直於該中心軸線並基本相同的內截面和/或外截面。
一種維護核反應爐的方法，該核反應爐包括：容器（1），該容器具有大致豎直的中心軸線，該容器（1）包括覆蓋件（2），該覆蓋件具有多個開口（2a）；爐心（4），該爐心佈置在該容器（1）內；引導管件（12），該些引導管件佈置在該容器（1）內，每個引導管件（12）包括管狀引導結構（62）；多個控制構件（14），該多個控制構件用於該爐心的反應性、能夠在該些引導管件（12）內軸向移動；覆蓋件管道（22），該些覆蓋件管道各自包括管狀適配器（24）並且界定內部通道（34），該管狀適配器固定在該些開口（2a）中的一個開口中，每個覆蓋件管道（22）還包括管狀套筒（36），該管狀套筒接合在該內部通道（34）中並且在該些引導管件（12）中的一個引導管件的延伸部中軸向延伸；控制棒（50），該些控制棒固定地連結到該些控制構件（14）並且各自延伸穿過該些套筒（36）中的一個套筒；用於驅動該些控制構件（14）的機構（52），該些機構位於該容器（1）的外部，每個機構（52）被構造成軸向驅動該些棒（50）中的一個棒；每個套筒（36）通過該套筒的軸向上端（38）而懸掛，該套筒的軸向上端安置在上座（40）上，該上座設置在相應的適配器（34）上；該套筒（36）的軸向下端（48）軸向突出到該容器（1）中超過該適配器（24）並且位於該引導管件（12）的上方；該維護核反應爐的方法至少包括以下步驟：將端件（64）固定到至少一個引導管件（12）的引導結構（62），該端件（64）限定該引導管件的軸向上端（54），該套筒的軸向下端（48）與該相應引導管件的軸向上端（54）分開一定的軸向間隙，該軸向間隙的軸向高度小於50毫米。
如申請專利範圍第12項所述的維護核反應爐的方法，其中該套筒的軸向下端（48）與該相應引導管件的軸向上端（54）分開一定的徑向間隙，該徑向間隙的徑向寬度小於20毫米。