TW201923479A - 電子束裝置以及元件製造方法 - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/035521 WO2019064502A1 (fr) | 2017-09-29 | 2017-09-29 | Dispositif à faisceau d'électrons et procédé de fabrication de dispositif |
??PCT/JP2017/035521 | 2017-09-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201923479A true TW201923479A (zh) | 2019-06-16 |
Family
ID=65901131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW107133977A TW201923479A (zh) | 2017-09-29 | 2018-09-27 | 電子束裝置以及元件製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
TW (1) | TW201923479A (fr) |
WO (1) | WO2019064502A1 (fr) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114999335A (zh) * | 2022-06-10 | 2022-09-02 | 长春希达电子技术有限公司 | 基于超宽带、一维包络峰值的led拼接屏修缝方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4945763B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2012-06-06 | 国立大学法人京都大学 | 電子ビーム露光装置 |
JP5360529B2 (ja) * | 2008-07-01 | 2013-12-04 | 株式会社ニコン | 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法 |
JP6137485B2 (ja) * | 2012-01-18 | 2017-05-31 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
EP2876499B1 (fr) * | 2013-11-22 | 2017-05-24 | Carl Zeiss SMT GmbH | Système d'illumination d'un appareil d'exposition de projection micro-lithographique |
JP6593678B2 (ja) * | 2015-03-30 | 2019-10-23 | 株式会社ニコン | 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |
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2017
- 2017-09-29 WO PCT/JP2017/035521 patent/WO2019064502A1/fr active Application Filing
-
2018
- 2018-09-27 TW TW107133977A patent/TW201923479A/zh unknown
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114999335A (zh) * | 2022-06-10 | 2022-09-02 | 长春希达电子技术有限公司 | 基于超宽带、一维包络峰值的led拼接屏修缝方法 |
CN114999335B (zh) * | 2022-06-10 | 2023-08-15 | 长春希达电子技术有限公司 | 基于超宽带、一维包络峰值的led拼接屏修缝方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2019064502A1 (fr) | 2019-04-04 |
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