TW201920765A - 於製造一半導體裝置時用於從矽-鍺/矽堆疊同時移除矽及矽-鍺合金的蝕刻組合物 - Google Patents

於製造一半導體裝置時用於從矽-鍺/矽堆疊同時移除矽及矽-鍺合金的蝕刻組合物 Download PDF

Info

Publication number
TW201920765A
TW201920765A TW107134269A TW107134269A TW201920765A TW 201920765 A TW201920765 A TW 201920765A TW 107134269 A TW107134269 A TW 107134269A TW 107134269 A TW107134269 A TW 107134269A TW 201920765 A TW201920765 A TW 201920765A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
silicon
acid
ammonium
germanium
etching solution
Prior art date
Application number
TW107134269A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI693305B (zh
Inventor
葛智逵
李翊嘉
劉文達
郭致賢
安德魯Ｊ 亞當奇克
Original Assignee
美商慧盛材料美國責任有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 美商慧盛材料美國責任有限公司 filed Critical 美商慧盛材料美國責任有限公司
Publication of TW201920765A publication Critical patent/TW201920765A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI693305B publication Critical patent/TWI693305B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • C09K13/08—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid containing a fluorine compound
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
    • H01L21/30604—Chemical etching
    • H01L21/30608—Anisotropic liquid etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K13/00—Etching, surface-brightening or pickling compositions
    • C09K13/04—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid
    • C09K13/06—Etching, surface-brightening or pickling compositions containing an inorganic acid with organic material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518—Deposited layers
    • H01L21/02521—Materials
    • H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
    • H01L21/02532—Silicon, silicon germanium, germanium
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
    • H01L21/02518—Deposited layers
    • H01L21/02587—Structure
    • H01L21/0259—Microstructure
    • H01L21/02603—Nanowires
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/306—Chemical or electrical treatment, e.g. electrolytic etching
    • H01L21/30604—Chemical etching
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3105—After-treatment
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3105—After-treatment
    • H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
    • H01L21/31105—Etching inorganic layers
    • H01L21/31111—Etching inorganic layers by chemical means
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
    • H01L21/3205—Deposition of non-insulating-, e.g. conductive- or resistive-, layers on insulating layers; After-treatment of these layers
    • H01L21/321—After treatment
    • H01L21/3213—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer
    • H01L21/32133—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by chemical means only
    • H01L21/32134—Physical or chemical etching of the layers, e.g. to produce a patterned layer from a pre-deposited extensive layer by chemical means only by liquid etching only
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
    • H01L29/0665—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body the shape of the body defining a nanostructure
    • H01L29/0669—Nanowires or nanotubes
    • H01L29/0673—Nanowires or nanotubes oriented parallel to a substrate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/10—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions with semiconductor regions connected to an electrode not carrying current to be rectified, amplified or switched and such electrode being part of a semiconductor device which comprises three or more electrodes
    • H01L29/107—Substrate region of field-effect devices
    • H01L29/1075—Substrate region of field-effect devices of field-effect transistors
    • H01L29/1079—Substrate region of field-effect devices of field-effect transistors with insulated gate
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/41—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions
    • H01L29/423—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape, relative sizes or dispositions not carrying the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/42312—Gate electrodes for field effect devices
    • H01L29/42316—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors
    • H01L29/4232—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate
    • H01L29/42384—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate for thin film field effect transistors, e.g. characterised by the thickness or the shape of the insulator or the dimensions, the shape or the lay-out of the conductor
    • H01L29/42392—Gate electrodes for field effect devices for field-effect transistors with insulated gate for thin film field effect transistors, e.g. characterised by the thickness or the shape of the insulator or the dimensions, the shape or the lay-out of the conductor fully surrounding the channel, e.g. gate-all-around
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66007—Multistep manufacturing processes
    • H01L29/66075—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials
    • H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
    • H01L29/66409—Unipolar field-effect transistors
    • H01L29/66439—Unipolar field-effect transistors with a one- or zero-dimensional channel, e.g. quantum wire FET, in-plane gate transistor [IPG], single electron transistor [SET], striped channel transistor, Coulomb blockade transistor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772—Field effect transistors
    • H01L29/775—Field effect transistors with one dimensional charge carrier gas channel, e.g. quantum wire FET
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00—Semiconductor devices adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching, or capacitors or resistors with at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof  ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
    • H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
    • H01L29/772—Field effect transistors
    • H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
    • H01L29/786—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film
    • H01L29/78696—Thin film transistors, i.e. transistors with a channel being at least partly a thin film characterised by the structure of the channel, e.g. multichannel, transverse or longitudinal shape, length or width, doping structure, or the overlap or alignment between the channel and the gate, the source or the drain, or the contacting structure of the channel

Abstract

本文描述出一種合適於從微電子裝置同時移除矽及矽-鍺之蝕刻溶液，其包含：水、氧化劑、包含胺化合物(或銨化合物)及多功能性有機酸之緩衝組合物、水溶混性溶劑及氟離子來源。

Description

於製造一半導體裝置時用於從矽-鍺/矽堆疊同時移除矽及矽-鍺合金的蝕刻組合物
相關申請案之相互參照 本申請案在35 U.S.C. §119(e)下主張2017年9月29日提出的美國臨時專利申請案案號62/565,704之優先權，其全文係以參考之方式併入本文。
發明領域 本發明係關於一種使用於半導體裝置製造的水性蝕刻溶液、其使用方法及其系統。更特別是，本發明提供一種同時蝕刻在矽-鍺/矽複合式半導體裝置中的矽及矽-鍺合金之水性蝕刻溶液。
發明背景 伴隨著連續不斷地縮小比例及對超高密度積體電路之速度及功能性的要求需求增加，習知的平面金氧半場效電晶體(MOSFETs)面對到增加的挑戰，諸如閘極氧化物厚度縮小及在通道區域上的閘極電極之靜電控制等問題。鰭片場效應電晶體(FinFETs)已藉由在鰭片通道的三邊上纏繞該閘極電極而具有超過平面閘極MOSFET設計之經改良的控制。
GAA MOSFETs類似於FinFETs，但是因為閘極電極完全包圍通道，其在通道上具有甚至較大的靜電控制之潛力。在GAA MOSFET中，該通道區域基本上係奈米線。該奈米線通道典型具有厚度(或直徑)在數十奈米(nm)或較少內及具有不受約束的長度。該奈米線通道通常水平懸浮在該GAA MOSFET之更大的源極與汲極區間且錨定於此。
該GAA MOSFETs可使用完全相容的CMOS技術在塊體矽基材上進行製造。在GAA MOSFET中形成該通道區域的典型製造方法包括於塊體基材的頂端上磊晶生長一堆疊(磊晶堆疊)，其中在該等通道層間夾有一犧牲層。該犧牲層及通道層係由二種不同材料構成，以便可藉由選擇性蝕刻來移除該犧牲層。
以實施例說明之，該磊晶堆疊可由交替的矽(Si)與矽鍺(SiGe)層形成，其中該Si層係犧牲層及該SiGe層係通道層。然後，可藉由選擇性蝕刻(例如，經由溼式蝕刻方法，諸如TMAH)來移除Si層，且亦由於構成該犧牲層及基材的材料類似性，其會非故意地將溝槽鑲嵌進該塊體基材中。隨後，該SiGe層可懸浮在該溝槽上而形成奈米線通道。然後，繞著該SiGe奈米線通道及在該基材的鑲嵌溝槽上配置一薄閘極介電質。然後，將金屬配置在該介電質上以形成該GAA MOSFET的金屬閘極電極。
亦有需要同時蝕刻矽及矽-鍺二者時的狀況，諸如例如，在鰭片修整(fin trimming)時。同時Si/SiGe鰭片修整之應用典型使用於5奈米技術。在圖案上有二種型式的鰭片，包括Si及SiGe。因為該等鰭片將經歷一些製程步驟，若原始鰭片寬度太窄時，此可產生鰭片崩塌的問題。因此，初始可製造出較寬的鰭片，然後藉由溼式蝕刻製程來修整其以避免鰭片崩塌。在技藝中，對把Si及SiGe作為標的以將鰭片厚度減低至等於約1奈米之蝕刻化學物質有需求，及該化學物質必需與氧化物及氮化物相容。
發明概要 在一個態樣中，本發明提供一種合適於從微電子裝置同時移除矽及矽-鍺之蝕刻溶液，其包含水、氧化劑、包含胺化合物與多功能性有機酸的緩衝組合物、水溶混性溶劑及氟離子來源。
在另一個態樣中，本發明提供一種用以從包含矽及矽-鍺的微電子裝置(複合式半導體裝置)同時蝕刻矽及矽-鍺之方法，該方法其步驟包括：讓該包含矽及矽-鍺的微電子裝置(複合式半導體裝置)與一包含下列的水性組合物(其於本文中可指為蝕刻溶液或蝕刻組合物)接觸：水、氧化劑、包含胺化合物與多功能性有機酸的緩衝組合物、水溶混性溶劑及氟離子來源；及在至少部分移除該矽及矽-鍺後，清洗該微電子裝置(複合式半導體裝置)，其中該矽相對於矽-鍺之蝕刻比率係約1.0。可增加或減少該方法條件，諸如時間及溫度，以修改該移除速率。該接觸步驟可使用本發明的任何組合物。
本發明的具體實例可單獨或彼此組合著使用。
較佳實施例之詳細說明 於本文中所引用的全部參照，包括公告、專利申請案及專利藉此以參考方式併入本文至如若每篇參照係各別及特別指示出係以參考方式併入本文及至其全文係如於本文中提出般相同的程度。
除非其它方面於本文中有指示出或於上下文中有明確矛盾，否則在描述出本發明之上下文中(特別在下列申請專利範圍的上下文中)所使用的用語「一」及「一種」及「該」及類似指示用字欲解釋為涵蓋單數及複數二者。除非其它方面有提到，否則用語「包含(comprising)」、「具有(having)」、「包括(including)」及「包括(containing)」係解釋為開放式用語(即，意謂著「包括但不限於」)。除非其它方面於本文中有指示出，否則於本文中的值範圍之列舉全然意欲提供作為各別指出每個分別值係落在該範圍內的速記方法，及每個分別值係併入該專利說明書中如若其各別於本文中敘述般。除非其它方面於本文中有指示出或其它方面於上下文中有明確矛盾，否則於本文中所描述的全部方法可以任何合適的順序進行。除非其它方面有主張，否則於本文中所提供的任何及全部實施例或範例性文字(例如，「諸如」)之使用全然意欲較好地闡明本發明及不在本發明之範圍上引起限制。在本專利說明書中並無文字應該解釋為指示出任何未主張的元素作為實行本發明之基本。在本專利說明書及申請專利範圍中所使用的用語「包含」包括「基本上由...組成」及「由...組成」之更窄義的文字。
於本文中描述出之本發明的具體實例包括由發明家已知用以進行本發明的最好模式。那些具體實例之變化可由一般熟悉此技藝之人士在讀取前述說明後變明瞭。本發明家預計熟悉人士將如適當地使用此等變化，及其它方面本發明家意欲非如本文所特別描述般實行本發明。此外，本發明包括在到此為止所附加如由適用法律所准許的申請專利範圍中所敘述之主題的全部改質及同等物。再者，除非其它方面於本文中有指示出或其它方面於上下文中有明確矛盾，否則本發明包括上述元素在其可能的全部變化中之任何組合。
本發明廣泛關於一種在上面具有矽及矽-鍺的微電子裝置之製造期間，對選擇性移除此等材料有用的組合物。
將要了解的是，當用語「矽」係以一材料沈積在微電子裝置上時，其將包括多晶矽。
為了參照容易，「微電子裝置」或「半導體裝置」係與經製造以使用於微電子、積體電路或電腦晶片應用的半導體基材，例如，晶圓、平板顯示器、相位改變記憶元件、太陽能面板及包括太陽能基材的其它產品、光電伏特計及微電機系統(MEMS)相應。該太陽能基材包括但不限於矽、非晶矽、多晶矽、單晶矽、CdTe、硒化銅銦、硫化銅銦及在鎵上的砷化鎵。該太陽能基材可經摻雜或未摻雜。要瞭解的是，用語「微電子裝置」不意欲以任何方式限制及包括最終將變成微電子裝置或微電子組合之任何基材。
「複合式半導體裝置」或「複合式微電子裝置」意謂著該裝置具有多於一種材料及/或層及/或部分的層存在於一不導電基材上。該等材料可包含高K介電質、及/或低K介電質、及/或障壁材料、及/或覆蓋材料、及/或金屬層、及/或由熟悉人士已知的其它。
如於本文中所定義，「低K介電材料」係與在積層的微電子裝置中使用作為介電材料之任何材料相應，其中該材料具有介電常數低於約3.5。較佳的是，該低K介電材料包括低極性材料，諸如含矽的有機聚合物、含矽的混雜有機/無機材料、有機矽酸鹽玻璃(OSG)、TEOS、氟化的矽酸鹽玻璃(FSG)、二氧化矽及摻雜碳的氧化物(CDO)玻璃。要瞭解的是，該低K介電材料可具有不同的密度及不同的多孔洞性。
如於本文中所定義，「高K介電材料」指為具有高介電常數K的材料(如與二氧化矽比較)。該高K介電質可使用來置換微電子裝置的二氧化矽閘極介電質或其它介電層。該高K材料可係二氧化鉿(HfO2 )、氧氮化鉿(HfON)、二氧化鋯(ZrO2 )、氧氮化鋯(ZrON)、氧化鋁(Al2 O3 )、氧氮化鋁(AlON)、氧化鉿矽(HfSiO2 )、氧化鉿鋁(HfAlO)、氧化鋯矽(ZrSiO2 )、二氧化鉭(Ta2 O5 )、氧化鋁、Y2 O3 、La2 O3 、氧化鈦(TiO2 )、摻雜鋁的二氧化鉿、鉍鍶鈦(BST)或鉑鋯鈦(PZT)。
如於本文中所定義，用語「障壁材料」與在技藝中使用來密封該金屬線例如銅互連線，以最小化該金屬例如銅擴散進該介電材料中之任何材料相應。較佳的障壁層材料包括鉭、鈦、釕、鉿及其它耐火性金屬、及其氮化物及矽化物。
「實質上無」於本文中係定義為少於0.001重量%。「實質上無」亦包括0.000重量%。用語「無」意謂著0.000重量%。
如於本文中所使用，「約」意欲與所描述的值之±5%相應。
在全部此等組合物中，其中該組合物的特定組分係就包括零下限之重量百分比範圍來進行討論，將要了解的是，此等組分可於該組合物的多個特定具體實例中存在或缺乏，及在此等組分係存在的例子中，它們可以低如0.001重量百分比之濃度呈現，以使用此等組分之組合物的總重量為基準。除非其它方面有定義，否則於本文中所報導的全部量係以該總組合物的重量百分比計，也就是說，100%。
在本發明的廣泛實行中，本發明之蝕刻溶液包含下列、基本上由下列組成或由下列組成：水、氧化劑、包含胺化合物及多功能性有機酸的緩衝組合物、水溶混性溶劑及氟離子來源。
在某些具體實例中，於本文中所揭示出的蝕刻溶液組合物係調配成實質上無或無下列化學化合物之至少一種：氫氧化銨、氫氧化四級銨(例如，TMAH、TEAH、ETMAH)及無機鹼。
本發明的組合物係合適於使用在電子裝置上來製造閘極全環(gate all around)構造之方法。此方法係在技藝中知曉，諸如例如，在美國專利申請案公告案號2017/0179248、美國專利申請案公告案號2017/0104062、美國專利申請案公告案號2017/0133462及美國專利申請案公告案號2017/0040321中所揭示出的方法，此等揭示係以參考之方式完全併入本文。
於本文中所使用的標題不意欲限制，而是，包括其係僅用於組織用目的。
於本文中所揭示出的組合物具有優良的矽及矽-鍺同時移除性。 水
本發展之蝕刻組合物係水性基底，因此包含水。在本發明中，水以多種方式作用，諸如例如，溶解該組合物之一或多種組分、作為該等組分之載劑、作為移除殘餘物輔助、作為該組合物之黏度改質劑及作為稀釋劑。較佳的是，在該清洗組合物中所使用之水係去離子(DI)水。在下一段中所描述之水範圍包括在該組合物中來自任何來源的全部水。
咸信對大部分應用來說，在該組合物中的水之重量百分比將以開始及結束點係選自於下列數字群之範圍呈現：0.5、1、5、10、15、20、25、30、40、50、60、65、68、70、71、72、73、74、75、76、77、78、79、80、82、85、87、90、92、95及96。可使用在該組合物中的水範圍之實施例包括例如約0.5%至約90重量%、或10%至約80重量%的水；或約15%至約80重量%、或約20%至約80重量%、或約40%至約75重量%、或約50%至約85重量%、或約65%至約90重量%、或70至約80重量%、或65至約85重量%的水。本發明的又其它較佳具體實例可包括達成其它成分之想要的重量百分比之水量。(要注意的是，於本文中所定義的水範圍包括在該組合物中的全部水。因此，該範圍包括以其它組分之部分加入的水，其中該其它組分可例如以水溶液加入至該組合物。) 氧化劑
本發明的蝕刻組合物包含一氧化試劑，亦指為「氧化劑」。該氧化劑主要作用為藉由形成相應的氧化物(即，鍺或矽)來蝕刻矽及矽-鍺合金。該氧化試劑可係任何合適的氧化試劑。合適的氧化試劑包括但不限於一或多種過氧化合物，即，包含至少一個過氧基團(-O-O-)的化合物。合適的過氧化合物包括例如過氧化物、過硫酸鹽(例如，單過硫酸鹽及二過硫酸鹽)、過碳酸鹽、及其酸、及其鹽、及其混合物。其它合適的氧化試劑包括例如氧化的鹵化物(例如，碘酸鹽、過碘酸鹽、及其酸、及其混合物、及其類似物)、過硼酸、過硼酸鹽、過氧酸(例如，過醋酸、過苯甲酸、其鹽、其混合物、及其類似物)、過錳酸鹽、鈰化合物、亞鐵氰化物(例如，亞鐵氰化鉀)、其混合物及其類似物。
在某些具體實例中，該氧化試劑包括但不限於過氧化氫、過碘酸、碘酸鉀、過錳酸鉀、過硫酸銨、鉬酸銨、硝酸鐵、硝酸、硝酸鉀、氨及其混合物。在又其它具體實例中，該氧化試劑包括過氧化氫及尿素-過氧化氫。在某些具體實例中，該氧化試劑係過氧化氫。
在某些具體實例中，該氧化劑(純淨)的量將包含該組合物之約0.1%至約20重量%，或約1.0%至約20重量%，或約1.5%至約15重量%，或1.5%至約10重量%，或2%至約10重量%，或具有開始及結束點係選自於下列之任何其它重量%範圍，以該組合物的總重量為基準：0.1、0.3、0.5、1、1.5、2、2.5、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、7、8、9、10、15及20。 氟離子來源
本揭示的蝕刻組合物亦包含一或多種氟離子來源。氟離子主要作用為輔助移除在該氧化劑作用後所形成之氧化矽或氧化鍺。提供根據本發明之氟離子來源的典型化合物有氫氟酸、氟化銨；氟化四級銨，諸如例如，氟硼酸鹽、氟硼酸、四氟硼酸四丁基銨；六氟化鋁；及具有下式之脂肪族一級、二級或三級胺的氟化物鹽： R1 NR2 R3 R4 F， 其中R1 、R2 、R3 及R4 各別代表H或(C1 -C4 )烷基。典型來說，在R1 、R2 、R3 及R4 基團中的總碳原子數係12個碳原子或較少。該脂肪族一級、二級或三級胺的氟化物鹽之實施例有諸如例如氟化四甲基銨、氟化四乙基銨、氟化甲基三乙基銨及氟化四丁基銨。
在選擇氟離子來源時，應該要考慮到該來源釋放出離子時是否會相反地影響欲清潔的表面。例如，在清洗半導體元件時，於該清洗組合物中存在有鈉或鈣離子可在元件表面上具有副作用。在某些具體實例中，該氟離子來源係氟化銨。
咸信對大部分應用來說，在該清洗組合物中使用作為氟離子來源之化合物量將包含約0.01至約10重量%，或約0.01至約8重量%的40%氟化銨溶液，或其化學計量同等物。較佳的是，該化合物包含約0.02至約8重量%，更佳為約0.02至約6重量%，又更佳為約1至約8重量%，及最佳為約0.025%至約5重量%的約40%氟化銨溶液。(該氟化銨溶液典型為一水溶液)。在某些具體實例中，該組合物將包含約0.01至約8重量%，或約0.01至約7重量%的氟離子來源，其可由40%氟化銨溶液提供。較佳的是，該化合物包含約0.02至約6重量%的氟離子來源；及最佳為約0.025%至約5%，或約0.04至約2.5重量%的氟離子來源；或約0.05至約15重量%的40%氟化銨溶液；最佳為約0.0625%至約12.5%，或約0.1至約6.25重量%的40%氟化銨溶液。可加入該組合物之40%氟化銨溶液的重量%包括具有開始及終點係選自於下列之數字群的任何範圍：0.01、0.02、0.025、0.04、0.05、0.06、0.5、0.6、0.75、0.1、0.2、0.5、0.6、0.75、1、2、2.5、3、3.5、4、5、6、7、8、10、12.5、15、17、18及20。可加入該組合物之氟離子來源(純淨)的重量%包括具有開始及終點係選自於下列之數字群的任何範圍：0.01、0.02、0.025、0.04、0.05、0.06、0.5、0.6、0.75、0.1、0.2、0.5、0.6、0.75、1、1.2、1.4、1.6、1.8、2、2.2、2.5、2.7、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、7、8、10、12.5、15、17、18、20、25、30、35、40、45及50。可加入該組合物的氟離子來源(純淨)之重量%包括例如約0.025%至約5%，或約0.04至約2.5%，或約0.1%至約2%，或約0.5至約1.5重量%的氟離子來源。
然而，應要瞭解的是，所使用之氟離子量典型將依欲清潔的特別基材而定。例如，在某些清洗應用中，當清洗包含對氟化物蝕刻具有高抗性之介電材料的基材時，該氟離子量可相當高。相反地，在其它應用中，例如，當清洗包含對氟化物蝕刻具有低抗性之介電材料的基材時，該氟離子量應該相當低。 水溶混性溶劑
本發明的蝕刻組合物包含一水溶混性溶劑。該水溶混性溶劑可作用以抑制矽蝕刻速率及推升矽-鍺蝕刻速率。可使用的水溶混性有機溶劑之實施例有乙二醇、丙二醇(PG)、丁基二甘醇(BDG)、1,4-丁二醇、三丙二醇甲基醚、丙二醇丙基醚、二甘醇正丁基醚(例如，可以商業稱號Dowanol DB商業購得)、己基氧基丙基胺、聚(氧基伸乙基)二胺、二甲基亞碸(DMSO)、四氫糠基醇、甘油、醇類、亞碸或其混合物。較佳的溶劑有醇、雙醇或其混合物。最佳的溶劑有雙醇，諸如例如，丁基二甘醇。
在本發明的某些具體實例中，該水溶混性有機溶劑可包含二醇醚。該二醇醚的實施例包括乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單丁基醚、乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二甘醇單甲基醚、二甘醇單乙基醚、二甘醇單丙基醚、二甘醇單異丙基醚、二甘醇單丁基醚、二甘醇單異丁基醚、二甘醇單苄基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚、三甘醇單甲基醚、三甘醇二甲基醚、聚乙二醇單甲基醚、二甘醇甲基乙基醚、三甘醇甲基乙基醚、醋酸乙二醇單甲基醚酯、醋酸乙二醇單乙基醚酯、醋酸丙二醇甲基醚酯、丙二醇單甲基醚、丙二醇二甲基醚、丙二醇單丁基醚、丙二醇、單丙基醚、二丙二醇單甲基醚(DPM)、二丙二醇單丙基醚、二丙二醇單異丙基醚、二伸丙基單丁基醚、二丙二醇二異丙基醚、三丙二醇單甲基醚、1-甲氧基-2-丁醇、2-甲氧基-1-丁醇、2-甲氧基-2-甲基丁醇、1,1-二甲氧基乙烷及2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇。
咸信對大部分應用來說，在該組合物中之水溶混性有機溶劑的量可在具有開始及結束點係選自於下列所列出之重量百分比範圍內：0.5、1、5、7、9、12、15、20、25、28、30、35、40、45、50、59.5、62、65。此溶劑範圍的實施例包括該組合物之約0.5%至約59.5重量%、或約1%至約50重量%、或約0.5%至約50%、或約1%至約40重量%、或約0.5%至約30重量%、或約1%至約30重量%、或約5%至約30重量%、或約5%至約15重量%、或約7%至約12%、或約10%至約25%、或約15%至約25重量%。 胺化合物
本發明的組合物包含一胺化合物，其可作用為下列角色之一或多種：在緩衝組合物中作為pH調整劑、錯合劑及/或作為共軛鹼，較佳為主要作為pH調整劑。合適的胺化合物包括至少一種烷醇胺。較佳的烷醇胺包括具有1至5個碳原子之一級、二級及三級的低級烷醇胺。此烷醇胺之實施例包括N-甲基乙醇胺(NMEA)、單乙醇胺(MEA)、二乙醇胺、單、二及三異丙醇胺、2-(2-胺基乙基胺基)乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、三乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、環己基胺二乙醇及其混合物。
在較佳具體實例中，該胺化合物係一選自於由下列所組成之群的烷醇胺：三乙醇胺(TEA)、二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、二異丙醇胺、單乙醇胺、胺基(乙氧基)乙醇(AEE)、N-甲基乙醇胺、單異丙醇胺、環己基胺二乙醇及其混合物。
咸信對大部分應用來說，於該組合物中之胺化合物量將包含該組合物的約0.01%至約50重量%，特別是，該組合物的約0.08%至約40重量%，或更特別是，該組合物的約0.2%至約30重量%。在某些具體實例中，所包含的胺化合物係該組合物之約0.02%至約15%重量百分比，及更特別是，約0.03至約12%，或約0.3至約7重量%，或約0.1至約3重量%。在該組合物中的胺之重量百分比可以具有開始及結束點係選自於下列之數字群的範圍呈現：0.01、0.02、0.03、0.04、0.05、0.7、0.09、0.1、0.2、0.3、0.5、0.7、0.9、1、1.2、1.5、1.7、2、2.5、3、3.5、5、7、10、12、15、20、25、30、35、40、45及50。
若使用相應的共軛酸，諸如例如，多功能性有機酸時，該胺化合物若過量使用時亦可提供作為緩衝劑的鹼組分。 緩衝劑
該蝕刻組合物包括一緩衝組合物。典型來說，該緩衝組合物包含如下列詳述之胺化合物(如上述詳述)及/或其它鹼及/或銨鹽與多功能性有機酸、基本上由其組成或由其組成。除了該胺化合物之外，可將額外或另一種鹼及/或銨鹽加入至該組合物以與該多功能性有機酸作用來緩衝該組合物。
在某些具體實例中，所使用的緩衝劑包含銨鹽，其係與主要作用為該緩衝劑的共軛酸部分之一或多種多功能性有機酸配成對。如於本文中所使用，用語「多功能性有機酸」指為酸或具有多於一個羧酸鹽基團的多酸，其包括但不限於：(i)二羧酸鹽酸(諸如丙二酸、蘋果酸等等)、含有芳香族部分的二羧酸(諸如酞酸等等)及其組合；及(ii)三羧酸(諸如檸檬酸等等)、含有芳香族部分的三羧酸(諸如偏苯三酸等等)及其組合。
用於該緩衝系統的較佳酸有具有至少三個羧酸基團之多質子酸。此等酸具有至少第二及第三解離常數，其各者相對於其各別的前述常數係較高。此指示出比起失去第二質子，該酸更容易失去第一質子，因為該第一質子係與單一負電荷離子分開，然而該第二質子係與雙負電荷離子分開。咸信雙負電荷強烈地將質子吸回該酸離子。類似關係存在於該第二與第三分開的質子間。因此，諸如例如，具有至少三個羧酸基團的那些多質子酸在控制溶液之pH上係有用，特別在與其較高pKa值相應的pH處。因此，除了具有pKa值約5至約7外，本發明的較佳多質子酸具有多重pKa值，其中最高的pKa係約5至約7，或約5至約6，或約6至約7，或約5.5至約6.5。
根據本發明之具有至少三個羧酸基團的多質子酸係與多羥基溶劑高度相容。較佳的多質子酸之實施例包括三羧酸(例如，檸檬酸、2-甲基丙烷-1,2,3-三羧酸、苯-1,2,3-三羧酸[半蜜蠟酸]、丙烷-1,2,3-三羧酸[丙三羧酸]、1,順-2,3-丙烯三羧酸[烏頭酸]及其類似物)、四羧酸(例如，丁烷-1,2,3,4-四羧酸、環戊烷四-1,2,3,4-羧酸、苯-1,2,4,5-四羧基[苯均四酸]及其類似物)、五羧酸(例如，苯五羧酸)及六羧酸(例如，苯六羧酸[蜜蠟酸])及其類似物。這些酸的各別pKa值係提供在表1中。特別佳的多質子酸包括三羧酸，且檸檬酸最佳。 表1
較佳的多質子酸檸檬酸係具有三個pKa值的三羧酸：3.13、4.76及6.40，其各別與三氫檸檬酸鹽離子、二氫檸檬酸鹽離子及單氫檸檬酸鹽離子相應。在本發明的某些較佳具體實例中，該緩衝系統包含檸檬酸的鹽，且特別佳的緩衝劑包含三元檸檬酸銨與檸檬酸之水溶液。
該緩衝劑的多功能性酸組分與該緩衝劑之含銨鹽組分組合將在本發明的組合物上發揮緩衝作用。當上述提及的酸係與根據具體實例之銨鹼反應時，它們會形成例如氯化銨、硫酸銨、硝酸銨、碳酸銨、次氯酸銨、氯酸銨、過錳酸銨、醋酸銨、二元磷酸銨、檸檬酸二銨、檸檬酸三銨(TAC)、氨基磺酸銨、草酸銨、甲酸銨、酒石酸銨、酒石酸氫銨及羥乙酸銨。在某些具體實例中，可將上述列出的銨鹽之一或多種加入至該組合物作為該緩衝劑的部分(除了多功能性酸外)來緩衝該組合物。在那些具體實例中，該緩衝劑可包含一種或多於一種銨鹽及一種或多於一種多功能性酸。
咸信在本揭示之組合物中的多功能性有機酸量將係約0.1重量%至約5重量%，或約0.25重量%至約3重量%，或約0.3重量%至約2.5重量%，或約0.5重量%至約2重量%，或約0.3至約2重量%，或約0.3至約1.5重量%，或約0.1重量%至約1重量%。在該組合物中之多功能性有機酸的重量百分比可以具有開始及結束點係選自於下列之數字群的範圍呈現：0.01、0.02、0.03、0.04、0.05、0.7、0.09、0.1、0.2、0.3、0.5、0.7、0.9、1、1.5、2、2.5、3、5、7、10、15及20。該與多功能性有機酸作用為緩衝劑之鹼、胺及/或銨鹽的量可與該多功能性有機酸以下列之量存在於該組合物中：1：10至10：1，或1：8至8：1，或1：5至5：1，或1：3至3：1，或1：2至2：1，或1.5：1至1：1.5，或1.3：1至1：1.3，或1.1：1至1：1.1，以重量計。
較佳的是，所揭示的蝕刻組合物之緩衝組合物會緩衝該組合物，如此它們呈鹼性。在某些具體實例中，該pH係2至12。在其它具體實例中，該pH係2至10。在其它具體實例中，該pH係3至9。在其它具體實例中，該pH可在具有開始及結束點係選自於下列之pH值群的範圍內：2、3、3.5、4、4.5、5、5.5、6、6.5、7、7.5、8、8.5、9、9.5、10、10.5、11、11.5、12、13、13.5。 其它選擇性成分
本發明的蝕刻組合物亦可包括一或多種下列添加劑：螯合劑、化學改質劑、染料、滅菌劑及其它添加劑。該添加劑可加入的程度為它們不會相反地影響該組合物之性能。
可使用在該蝕刻組合物中的另一種選擇性成分係金屬螯合劑，其可作用以增加該組合物將金屬保留在溶液中及提高該金屬殘餘物溶解的能力。對此目的有用的螯合劑之典型實施例有下列有機酸及其異構物及鹽：乙二胺四醋酸(EDTA)、丁二胺四醋酸、(1,2-環己二胺)四醋酸(CyDTA)、二伸乙基三胺五醋酸(DETPA)、乙二胺四丙酸、(羥乙基)乙二胺三醋酸(HEDTA)、N,N,N’,N’-乙二胺四(伸甲基膦)酸(EDTMP)、三伸乙基四胺六醋酸(TTHA)、1,3-二胺基-2-羥基丙烷-N,N,N’,N’-四醋酸(DHPTA)、甲基亞胺基二醋酸、伸丙基二胺四醋酸、硝基三醋酸(NTA)、檸檬酸、酒石酸、葡萄糖酸、糖質酸、甘油酸、草酸、酞酸、馬來酸、扁桃酸、丙二酸、乳酸、水楊酸、沒食子酸丙酯、焦棓酚、8-羥基喹啉及半胱胺酸。較佳的螯合劑有胺基羧酸，諸如EDTA、CyDTA；及胺基膦酸，諸如EDTMP。
咸信該螯合劑若存在時，其在該組合物中的量將係約0.1重量%至約10重量%，較佳量為該組合物的約0.5重量%至約5重量%。
在某些具體實例中，本發明的組合物將無或實質上無任何或全部或某些(呈任何組合)上述列出的螯合劑加入至該組合物。
可在該清洗組合物中包括習知量的其它普通已知組分，諸如染料、滅菌劑等等，例如，其量最高總共係該組合物的約5重量%。在其它具體實例中，該組合物將實質上無或無染料及滅菌劑。
在其它具體實例中，該蝕刻溶液將實質上無(或無)鈉及/或鈣。在某些具體實例中，於本文中所揭示出的組合物係調配成實質上無下列化學化合物之至少一種：無機酸、烷基硫醇及有機矽烷。在某些具體實例中，於本文中所揭示出的組合物係調配成實質上無或無無機鹼。在某些具體實例中，該組合物係無螯合劑，諸如EDTA及/或腐蝕抑制劑，諸如三唑類。在某些具體實例中，該組合物可實質上無或無下列之一或多種：氫氧化物、金屬氫氧化物，諸如KOH、或LiOH、或NaOH。在其它具體實例中，除了一或多種含氟化合物外，該組合物可實質上無或無含鹵化物化合物，例如，其可實質上無或無含溴、氯或碘化合物之一或多種。在其它具體實例中，該組合物可實質上無或無磺酸、及/或磷酸、及/或硫酸、及/或硝酸、及/或鹽酸。在其它具體實例中，該組合物可實質上無或無硫酸鹽、及/或硝酸鹽、及/或亞硫酸鹽、及/或亞硝酸鹽。在其它具體實例中，該組合物可實質上無或無氫氧化銨及/或乙基二胺。在其它具體實例中，該組合物可實質上無或無含鈉化合物、及/或含鈣化合物、及/或含錳化合物、或含鎂化合物、及/或含鉻化合物、及/或含硫化合物、及/或含矽烷化合物、及/或含磷化合物。某些具體實例可實質上無或無非離子、及/或陰離子、及/或陽離子界面活性劑、及/或聚伸乙基亞胺。
本發明的蝕刻溶液組合物典型藉由在室溫下於容器中一起混合該等組分直到全部固體已溶解在水性基底媒質中來製備。 方法
在另一個態樣中，有提供一種同時蝕刻在包含矽及矽-鍺之複合式半導體裝置中的矽及矽-鍺之方法，其係藉由讓該複合式半導體裝置與一包含下列、實質上由下列組成或由下列組成的組合物接觸：水、氧化劑、包含胺化合物及多功能性有機酸的緩衝組合物、水溶混性溶劑及氟離子來源。該方法包含一同時蝕刻在包含矽及矽-鍺的複合式半導體裝置上之矽及矽-鍺的步驟，該方法其步驟包括：讓該包含矽及矽-鍺的複合式半導體裝置與一包含下列之水性組合物接觸：水、氧化劑、包含胺化合物及多功能性有機酸的緩衝組合物、水溶混性溶劑及氟離子來源；及在至少部分移除矽及矽-鍺後，清洗該複合式半導體裝置，其中該矽相對於矽-鍺的蝕刻比率係在約2：1至1：2之範圍內。亦可在該方法中包括額外的乾燥步驟。「至少部分移除」意謂著移除至少50%的材料，較佳為移除至少70%。最佳的是，使用本發明之組合物移除至少80%。
該矽可呈任何定向，諸如例如，(100)或(110)。在某些具體實例中，該矽之定向係(110)，及在其它具體實例中，該矽之定向係(100)。
該接觸步驟可藉由任何合適的方法進行，諸如例如，沈浸、噴灑或經由單晶圓方法。該組合物在該接觸步驟期間之溫度較佳為約25至200℃，及更佳為約25至100℃，及更佳為約25至100℃。
當使用在包括矽及矽-鍺之基材上時，諸如例如，在製造堆疊的閘極全環元件期間，本發明之組合物驚人地具有優良的矽及矽-鍺同時蝕刻。在某些具體實例中，該矽及矽-鍺之蝕刻速率可係3：1至1：3。在某些具體實例中，該矽及矽-鍺之蝕刻速率可係1：2.5至2.5：1，或1：2至2：1，或1.9：1至1：1.9，或1.8：1至1：1.8，或1.7：1至1：1.7，或1.6：1至1：1.6，或1.5：1至1：1.5，或1.4：1至1：1.4，或1.3：1至1：1.3，或1.2：1至1：1.2，或1.1：1至1：1.1。在其它具體實例中，該矽及矽-鍺之蝕刻速率可係約1：1。該移除速率比率係在處理前後之厚度(例如，鰭片)變化的度量。
在該接觸步驟後係一選擇性清洗步驟。該清洗步驟可藉由任何合適的方法進行，例如，藉由沈浸或噴灑技術以去離子水清洗該基材。在較佳具體實例中，可使用去離子水與有機溶劑諸如例如異丙醇之混合物來進行該清洗步驟。
在該接觸步驟及選擇性清洗步驟後係一選擇性乾燥步驟，其係藉由任何合適的方法進行，例如，異丙醇(IPA)蒸氣乾燥、加熱、藉由向心力、或藉由直接使用乾淨的乾空氣或惰性氣體、及/或其組合。
下列討論的闡明性實施例更完整地顯示出特徵及優點。 實施例 用以製備清洗組合物的一般程序
在250毫升燒杯中，藉由塗佈鐵弗龍的1”攪拌棒來混合該等組分以製備本實施例主題之全部組合物。典型來說，加入燒杯的第一材料係去離子(DI)水，接著為其它組分，並無特別順序。 基材之組合物 使用Si或SiGe毯覆晶圓來檢查調配物發展出之蝕刻速率。使用具有Si及SiGe鰭片之經圖形化的晶圓來證實使用本發明的組合物之鰭片修整。 處理條件
於250毫升燒杯中，使用100克的蝕刻組合物與設定在400 rpm之½”圓鐵弗龍攪拌棒來進行矽及SiGe的蝕刻測試。在加熱板上(典型為25℃至80℃)，將該蝕刻組合物加熱至溫度約45℃。將測試試樣沈浸在該組合物中約20分鐘，同時攪拌。
然後，在DI水槽中或以噴灑來清洗該等斷片3分鐘，隨後使用經過濾的氮進行乾燥。從蝕刻前後之厚度變化及藉由穿透式電子顯微鏡測量來估計該矽及矽-鍺蝕刻速率。 實施例
表1列出所評估的組合物。
參照表2，表1之組合物係在製程溫度25℃及製程時間50秒下使用及實施例2亦在90秒處測試。對實施例1組合物來說，該Si修整厚度係0.9奈米及該SiGe修整係1.2奈米，此提供Si：SiGe之移除速率比率1：1.33。在50秒後，實施例2提供Si修整厚度4.5奈米及SiGe修整1.9奈米，此提供SiGe：Si之移除速率比率1：2.36。實施例3提供Si：SiGe移除速率1：1.11。實施例1及3二者之修整厚度皆大約1奈米。額外地，該組合物係與氧化物及氮化物相容。實施例2在90秒處100%移除Si及SiGe二者。可修改製程時間來改良結果。
表2：條件及結果 比較例：
在250毫升燒杯中，使用100克的比較用組合物與設定在400 rpm之½”圓鐵弗龍攪拌棒進行蝕刻測試。在加熱板上將該蝕刻組合物加熱至溫度約45℃。將該測試試樣沈浸在該等組合物中約20分鐘，同時進行攪拌。
然後，在DI水槽中或以噴灑清洗具有交替的Si及SiGe鰭片層之晶圓3分鐘，隨後使用經過濾的氮進行乾燥。從蝕刻前後之厚度變化及藉由橢圓偏振儀光譜(MG-1000，Nano-View Co., Ltd.，South Korea，我們使用SCI FilmTek SE2000)測量來估計該矽及矽-鍺蝕刻速率。對Si來說，典型的起始層厚度係1000埃，及對SiGe來說係1000埃。
表3顯示出比較例之多晶Si及SiGe選擇性。多晶Si對SiGe之蝕刻比率係大於3.4：1。 表3：比較例 由BASF供應的Lupasol®800係聚伸乙基亞胺。
前述說明主要意欲用於闡明目的。雖然本發明已顯示及描述出其相關範例性具體實例，應該要由熟習該項技術者了解的是，可在前述之形式及細節中製得多種其它變化、省略及加入而沒有離開本發明之精神及範圍。
(無)
(無)

Claims (18)

  1. 一種合適於從微電子裝置同時移除矽及矽-鍺之蝕刻溶液，其包含： 水； 一氧化劑； 一包含胺化合物及多功能性有機酸的緩衝組合物； 一水溶混性溶劑；及 一氟離子來源。
  2. 一種合適於從微電子裝置同時移除矽及矽-鍺之蝕刻溶液，其包含： 水； 一胺化合物； 一氧化劑； 一包含銨化合物及多功能性有機酸的緩衝組合物； 一水溶混性溶劑；及 一氟離子來源。
  3. 如請求項1或2之蝕刻溶液，其中該氧化劑係選自於由下列所組成之群：過氧化氫、過碘酸、碘酸鉀、過錳酸鉀、過硫酸銨、鉬酸銨、硝酸鐵、硝酸、硝酸鉀、氨及其混合物。
  4. 如請求項3之蝕刻溶液，其中該氧化劑係過氧化氫。
  5. 如前述請求項中任一項的蝕刻溶液，其中該胺化合物係選自於由下列所組成之群的烷醇胺化合物：N-甲基乙醇胺(NMEA)、單乙醇胺(MEA)、二乙醇胺、三乙醇胺、三異丙醇胺、2-(2-胺基乙基胺基)乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇(AEE)、三乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、環己基胺二乙醇、二異丙醇胺、環己基胺二乙醇及其混合物。
  6. 如請求項5之蝕刻溶液，其中該烷醇胺係胺基(乙氧基)乙醇(AEE)。
  7. 如前述請求項中任一項的蝕刻組合物，其中該水溶混性溶劑係選自於由下列所組成之群：乙二醇、丙二醇、1,4-丁二醇、三丙二醇甲基醚、丙二醇丙基醚、二甘醇正丁基醚、己基氧基丙基胺、聚(氧基伸乙基)二胺、二甲基亞碸、四氫糠基醇、甘油、醇、亞碸或其混合物。
  8. 如前述請求項中任一項的蝕刻溶液，其中該水溶混性溶劑係丁基雙甘油。
  9. 如前述請求項中任一項的蝕刻溶液，其中該胺化合物係烷醇胺及該多功能性有機酸係具有至少三個羧酸基團的多質子酸。
  10. 如請求項9之蝕刻溶液，其中該烷醇胺係選自於由下列所組成之群：二乙醇胺、二及三異丙醇胺、2-(2-胺基乙基胺基)乙醇、2-(2-胺基乙氧基)乙醇、三乙醇胺、N-乙基乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、N,N-二乙基乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、環己基胺二乙醇及其混合物。
  11. 如請求項10之蝕刻溶液，其中該多質子酸係選自於由下列所組成之群：檸檬酸、2-甲基丙烷-1,2,3-三羧酸、苯-1,2,3-三羧酸[半蜜蠟酸]、丙烷-1,2,3-三羧酸[丙三羧酸]、1,順-2,3-丙烯三羧酸[烏頭酸]，例如，丁烷-1,2,3,4-四羧酸、環戊烷四-1,2,3,4-羧酸、苯-1,2,4,5-四羧基[苯均四酸]、苯五羧酸、及苯六羧酸[蜜蠟酸]、及其混合物。
  12. 如請求項1之蝕刻溶液，其中該緩衝組合物進一步包含一選自於由下列所組成之群的銨化合物：氯化銨、硫酸銨、硝酸銨、碳酸銨、次氯酸銨、氯酸銨、過錳酸銨、醋酸銨、二元磷酸銨、檸檬酸二銨、檸檬酸三銨(TAC)、氨基磺酸銨、草酸銨、甲酸銨、酒石酸銨、酒石酸氫銨及羥乙酸銨。
  13. 如請求項2或12之蝕刻溶液，其中該銨化合物包含檸檬酸三銨(TAC)。
  14. 一種用以從包含矽及矽-鍺的微電子裝置同時蝕刻矽及矽-鍺之方法，該方法其步驟包括： 讓該包含矽及矽-鍺的微電子裝置與如請求項1至13中任一項的蝕刻溶液接觸；及 在至少部分移除該矽及矽-鍺後，清洗該微電子裝置，其中該矽相對於矽-鍺的蝕刻比率係約3：1至1：3。
  15. 如請求項14之方法，更包含乾燥該微電子裝置的步驟。
  16. 如請求項14或15之方法，其中該矽相對於矽-鍺的蝕刻比率係約2：1至約1：2。
  17. 如請求項14至16中任一項的方法，其中該矽相對於矽-鍺的蝕刻比率實質上係1：1。
  18. 如請求項14至17中任一項的方法，其中該接觸步驟係在溫度約25℃至約80℃下進行。
TW107134269A 2017-09-29 2018-09-28 於製造一半導體裝置時用於從矽-鍺/矽堆疊同時移除矽及矽-鍺合金的蝕刻溶液 TWI693305B (zh)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201762565704P 2017-09-29 2017-09-29
US62/565704 2017-09-29
US16/142,291 US20190103282A1 (en) 2017-09-29 2018-09-26 Etching Solution for Simultaneously Removing Silicon and Silicon-Germanium Alloy From a Silicon-Germanium/Silicon Stack During Manufacture of a Semiconductor Device
US16/142291 2018-09-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201920765A true TW201920765A (zh) 2019-06-01
TWI693305B TWI693305B (zh) 2020-05-11

Family

ID=65896880

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW107134269A TWI693305B (zh) 2017-09-29 2018-09-28 於製造一半導體裝置時用於從矽-鍺/矽堆疊同時移除矽及矽-鍺合金的蝕刻溶液

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20190103282A1 (zh)
EP (1) EP3684887A4 (zh)
JP (1) JP6963684B2 (zh)
KR (1) KR102396018B1 (zh)
CN (1) CN111164183B (zh)
IL (1) IL273545B1 (zh)
SG (1) SG11202002754TA (zh)
TW (1) TWI693305B (zh)
WO (1) WO2019067836A1 (zh)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11037792B2 (en) * 2018-10-25 2021-06-15 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Semiconductor structure etching solution and method for fabricating a semiconductor structure using the same etching solution
JP7450334B2 (ja) * 2018-12-27 2024-03-15 東京応化工業株式会社 エッチング液、及び半導体素子の製造方法
WO2020185745A1 (en) * 2019-03-11 2020-09-17 Versum Materials Us, Llc Etching solution and method for aluminum nitride
CN110373195A (zh) * 2019-06-26 2019-10-25 中国电子科技集团公司第十一研究所 腐蚀液及从二类超晶格外延薄膜层去除锑化镓衬底的方法
US11164892B2 (en) * 2019-07-01 2021-11-02 Newport Fab, Llc Semiconductor-on-insulator (SOI) device with reduced parasitic capacitance
EP4196546A1 (en) * 2020-08-13 2023-06-21 Entegris, Inc. Nitride etchant composition and method
US11820929B2 (en) 2020-09-11 2023-11-21 Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. Etching compositions
CN113161234B (zh) * 2021-04-27 2023-02-17 上海新阳半导体材料股份有限公司 一种含氟清洗液组合物的应用
WO2023286666A1 (en) * 2021-07-12 2023-01-19 Fujifilm Corporation Semiconductor etching solution
CN114351143B (zh) * 2021-12-09 2023-07-25 湖北兴福电子材料股份有限公司 一种侧蚀量可控的锗蚀刻液
CN114316990B (zh) * 2021-12-09 2023-04-07 湖北兴福电子材料股份有限公司 一种高蚀刻锥角的锗蚀刻液
WO2023112453A1 (ja) * 2021-12-17 2023-06-22 株式会社レゾナック ランタン化合物の除去方法及びランタン化合物除去用処理液
CN115505390B (zh) * 2022-09-20 2023-07-11 湖北兴福电子材料股份有限公司 一种高选择性锗蚀刻液
CN115537202B (zh) * 2022-09-28 2023-09-05 重庆臻宝科技股份有限公司 一种用于硅材料微孔蚀刻的蚀刻液及蚀刻方法

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003183652A (ja) * 2001-12-19 2003-07-03 Alps Electric Co Ltd エッチング剤
JP3516446B2 (ja) * 2002-04-26 2004-04-05 東京応化工業株式会社 ホトレジスト剥離方法
US20040242015A1 (en) * 2003-03-04 2004-12-02 Kyoung-Chul Kim Etching compositions for silicon germanium and etching methods using the same
TWI283442B (en) * 2004-09-09 2007-07-01 Sez Ag Method for selective etching
CN101233456B (zh) * 2005-06-07 2013-01-02 高级技术材料公司 金属和电介质相容的牺牲性抗反射涂层清洗及去除组合物
TW200709294A (en) * 2005-06-13 2007-03-01 Advanced Tech Materials Compositions and methods for selective removal of metal or metal alloy after metal silicide formation
KR100706798B1 (ko) * 2005-09-28 2007-04-12 삼성전자주식회사 실리콘막과 실리콘 게르마늄막이 노출된 기판의 세정 방법및 이를 이용하는 반도체 제조 방법
TWI516573B (zh) * 2007-02-06 2016-01-11 安堤格里斯公司 選擇性移除ＴｉＳｉＮ之組成物及方法
EP2128897B1 (en) * 2007-03-16 2015-05-06 Fujitsu Limited Silicon dielectric treating agent for use after etching, process for producing semiconductor device, and semiconductor device
DE102011050136A1 (de) * 2010-09-03 2012-03-08 Schott Solar Ag Verfahren zum nasschemischen Ätzen einer Siliziumschicht
US8753942B2 (en) 2010-12-01 2014-06-17 Intel Corporation Silicon and silicon germanium nanowire structures
CN112442374A (zh) * 2013-07-31 2021-03-05 恩特格里斯公司 用于去除金属硬掩模和蚀刻后残余物的具有Cu/W相容性的水性制剂
SG11201601158VA (en) * 2013-08-30 2016-03-30 Advanced Tech Materials Compositions and methods for selectively etching titanium nitride
US9472420B2 (en) * 2013-12-20 2016-10-18 Air Products And Chemicals, Inc. Composition for titanium nitride hard mask and etch residue removal
US10073351B2 (en) * 2014-12-23 2018-09-11 Versum Materials Us, Llc Semi-aqueous photoresist or semiconductor manufacturing residue stripping and cleaning composition with improved silicon passivation
US10301580B2 (en) * 2014-12-30 2019-05-28 Versum Materials Us, Llc Stripping compositions having high WN/W etching selectivity
US10957547B2 (en) * 2015-07-09 2021-03-23 Entegris, Inc. Formulations to selectively etch silicon germanium relative to germanium
EP3127862B1 (en) 2015-08-06 2018-04-18 IMEC vzw A method of manufacturing a gate-all-around nanowire device comprising two different nanowires
KR102457249B1 (ko) * 2015-09-18 2022-10-21 주식회사 이엔에프테크놀로지 식각 조성물
US10233413B2 (en) * 2015-09-23 2019-03-19 Versum Materials Us, Llc Cleaning formulations
US9716142B2 (en) 2015-10-12 2017-07-25 International Business Machines Corporation Stacked nanowires
US10400167B2 (en) * 2015-11-25 2019-09-03 Versum Materials Us, Llc Etching compositions and methods for using same
US9704962B1 (en) 2015-12-16 2017-07-11 Globalfoundries Inc. Horizontal gate all around nanowire transistor bottom isolation
KR102423325B1 (ko) * 2016-03-01 2022-07-20 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 반도체 기판 또는 장치의 세정액 및 세정 방법
US10879076B2 (en) * 2017-08-25 2020-12-29 Versum Materials Us, Llc Etching solution for selectively removing silicon-germanium alloy from a silicon-germanium/silicon stack during manufacture of a semiconductor device
US10934484B2 (en) * 2018-03-09 2021-03-02 Versum Materials Us, Llc Etching solution for selectively removing silicon-germanium alloy from a silicon-germanium/ germanium stack during manufacture of a semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
SG11202002754TA (en) 2020-04-29
EP3684887A4 (en) 2021-07-07
CN111164183A (zh) 2020-05-15
JP2020536377A (ja) 2020-12-10
JP6963684B2 (ja) 2021-11-10
EP3684887A1 (en) 2020-07-29
IL273545B1 (en) 2024-01-01
KR20200051838A (ko) 2020-05-13
KR102396018B1 (ko) 2022-05-10
US20190103282A1 (en) 2019-04-04
TWI693305B (zh) 2020-05-11
IL273545A (en) 2020-05-31
CN111164183B (zh) 2021-07-20
WO2019067836A1 (en) 2019-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI693305B (zh) 於製造一半導體裝置時用於從矽-鍺/矽堆疊同時移除矽及矽-鍺合金的蝕刻溶液
EP3447791B1 (en) Etching solution for selectively removing silicon-germanium alloy from a silicon-germanium/ silicon stack during manufacture of a semiconductor device
TWI714013B (zh) 於製造一半導體裝置時用於從一矽-鍺/鍺堆疊選擇性移除矽-鍺合金的蝕刻溶液
TWI773809B (zh) 於製造一半導體裝置時用於從一矽-鍺/矽堆疊相對矽-鍺合金選擇性移除矽的蝕刻組合物
TWI721311B (zh) 於製造一半導體裝置時用於相對氮化鈦選擇性移除氮化鉭的蝕刻組合物
TWI816379B (zh) 於製造一半導體裝置時用於從一矽-鍺/矽堆疊選擇性移除矽-鍺合金的蝕刻溶液