TW201908861A - 使用骨架之規則輔助特徵安置 - Google Patents

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Abstract

一種用於光罩的目標特徵為了產生子解析度輔助特徵（SRAF）的方法，包含產生2D基於規則的輔助特徵（RBAF）規則表，其估計從基於模型的SRAF方法獲得的結果。2D RBAF規則表使用極座標界定種子骨架。環繞目標特徵的空的空間被分成相應的所屬區域。使用2D RBAF規則表將種子骨架置於所屬區域中。種子骨架被加寬，並且結果的結構被再骨架化。對再骨架化的結構執行清潔過程，這消去潛在的麻煩特徵，包括殘段、叉部、三重點和四重點。清潔後的骨架結構被拉直，並且多邊形SRAF被置於由拉直的骨架結構指定的位置處。

Description

使用骨架之規則輔助特徵安置
本發明係關於一種用以確定一微影蝕刻罩上的子解析度輔助特徵（Sub Resolution Assist Features，SRAF）的安置的方法。
在傳統的半導體製程中，光阻遮罩被用於界定半導體裝置的不同各層的圖案。光阻遮罩是透過在一半導體結構上沉積一層光敏感材料（例如光阻），將該光阻層經由一圖案化的微影蝕刻罩(photolithography mask)（“光罩”）而曝光於一發光源，再將該光阻層的未曝光（或已曝光）的部分移除而形成。透過該光罩而露出的材料（例如金屬）可以被蝕刻，從而將該光罩上的圖案轉移到該半導體裝置。隨著要被形成於光阻層的圖案變得更小（即，具有較小的臨界尺寸）並且更複雜，以光學方式將一圖案從一光罩移轉光阻材料層變得更加困難。特別是，干涉以及其他的製程效應會導致所想要的圖案和實際移轉到該光阻材料上的圖案之間有不想要的偏差。這些不想要的偏差會顯著地的影響所導致的半導體裝置的性能。為了要最小化這些偏差，不同的補償方案可以被採用，包含利用光學近接更正（OPC）方法來修正提供於光罩上的圖案。一種傳統的方案涉及加入子解析度輔助特徵（SRAF）於該光罩的圖案，SRAF是被安置於靠近用來被移轉到光阻層的光罩的目標特徵。SRAF係足夠的小所以不會被印於光阻層。然而，SRAF是被定位以強化從光罩光學式地轉移到光阻層的影像。
兩種傳統方法被用以確定光罩上的SRAF的安置，包括依據規則的方法和依據模型的方法。在一典型的依據規則來放置SRAF的方法中，需要平行輔助特徵的光罩圖案的目標特徵邊緣被識別，且SRAF是依據成組的預先確定規則所放置。
第1A圖是一光罩圖案100的一俯視圖，該光罩圖案100包括要用來光學式地轉移到一光阻層的目標特徵101至111。如第1A圖中虛線矩形所示的SRAF的潛在位置係與目標特徵101至111之不同的水平與垂直邊緣平行而定位，而按照預先確定規則於目標特徵101至111之間的空的空間位中。當試圖擴展傳統的規則輔助特徵（RBAF）安置運算法到複雜的二維（2D）目標特徵佈局時，限制存在了。如第1A圖所示，在該些潛在SRAF位置（例如，虛線矩形）重疊或相互接近處，牴觸存在。這些牴觸必須被解決。然而，這樣的牴觸解決在多邊形領域使用傳統的設計規則查核（DRC）方法是困難的。
第1B圖顯示第1A圖中該些牴觸的潛在SRAF位置的一個可能解決，其中在光罩圖案100上的實際SRAF位置是用具有實線邊界（且無陰影）的多邊形來顯示。請注意隨著設計縮小，最佳化且必須的SRAF安置可能不再專有地平行於目標特徵的邊緣，但可能需要依隨較複雜的形狀，這用傳統的規則方法是不可能的。如下所述，一種模型輔助特徵（MBAF）的方法可以用來產生較複雜的形狀，並因此提供較佳結果。
第2圖是一光罩圖案200的一俯視圖，光罩圖案200包括要用來光學式地轉移到一光阻層的目標特徵201，和環繞目標特徵201的相關聯的模型SRAF 211至223。模型SRAF 211至223是由使用經校正的製程模組來執行迭代的程序模擬而產生，其中該些SRAF被修改以降低所要的光學移轉圖案和實際的光學移轉圖案之間的差異。模型SRAF的產生需要相對長的設計時間（和規則SRAF的產生相比），並且增加所需光罩的複雜性和成本（因為以模型方法所產生的SRAF 211至223係典型地比以規則方法所產生的SRAF更佳複雜，如第1B圖和第2圖的例子所示）。然而，模型方法典型地提供較規則方法更佳的結果。
因此需要有一種用以產生SRAF的方法，該方法沒有模型方法複雜（且比較不貴），卻提供相當於模型方法的結果。更盼需要有一種使用所修正規則方法來產生SRAF的方法，其中潛在的SRAF牴觸被輕易的解決，製程可被相對快速的完成，且所產出的SRAF圖案比傳統的規則方式所產生的SRAF圖案更加複雜。還盼所產出的SRAF圖案由相對易於製造的簡單多邊形狀所組成。
無
通常，本發明利用兩個主要策略來克服前開所述，關於使用傳統的依據規則和模型方法來產生子解析度輔助特徵的缺陷。依據一第一策略，規則/安置表被界定於一二維（2D）方法中（而不是兩個一維方法，如傳統的依據規則法）。依據一第二策略，這些輔助特徵之幾何使用骨架網路而非多邊形來追蹤。這就讓輔助特徵的創造能夠近似使用依據模型方法而產生之輔助特徵的形狀，而保持依據規則DRC方法的運轉時間和一致性。許多複雜的2D形狀交互作用和簡化是用骨架而非多邊形來被較容易的操作，特別是當輔助特徵的幾何不是嚴謹的直線形。以下本發明被更詳細的描述。
第3圖是流程圖300，其顯示依據本發明各種實施例用來產生子解析度輔助特徵（SRAF）的方法。最初地，模型輔助特徵（MBAF）更正被執行於一或多個目標圖案，從而產生模型SRAF（步驟301）。這些模型SRAF被用以產生一或更多2D規則輔助特徵（RABF）表（步驟302）。如所更詳細的描述，該2D RABF表是透過指明該些模型SRAF從多個不同預先確定角度（用極座標所提供的結果）的測試圖案的距離所確定。該2D RBAF表之後被用為一目標圖案（換句話說，將被包含在一光罩上的目標特徵的圖案）產生輔助特徵。為了將這完成，目標特徵的空的空間被利用一中軸轉換（MAT）操作而分成多個所屬區域，其中各目標特徵位於一對應的所屬區域（步驟303）。該些2D RBAF表之後被用於在各所屬區域中放置一種子骨架，其中每個種子骨架包括一或多條線條/曲線（步驟304）。種子骨架隨後被處理以移除任何牴觸，包括不同的所屬區域邊界上可能存在的牴觸（步驟305）。經處理後的骨架接著被伸直，使得伸直後的骨架包括沿著光罩的X和Y軸伸展的線，及相應於光罩X和Y軸以45度角伸展的線（步驟306）。多邊形（例如矩形）SRAF之後被沿著由伸直後的骨架所指明的位置而放置，其中多邊形SRAF具有類似於相關聯的模型SRAF之寬度的寬度（步驟307）。這些多邊形SRAF在光罩上被印於接近目標特徵（步驟308）。方法300的不同的步驟現在將利用一或多個例子做更詳細的描述。
第4圖是一光罩400的俯視圖，包含目標特徵401以及使用符合步驟301的一模型輔助特徵更正法所產生的SRAF 410至413和421至424。需要留意的是，模型輔助特徵SRAF 410至413和421至424並非對稱。特別是，模型SRAF 424具有不同於模型SRAF 421至423的形狀。模型SRAF的不規則形狀是典型因為存在於模型系統的雜訊。
第5圖是一光罩500的俯視圖，包含目標圖案401和2D規則SRAF 510至513和521至524。依據一實施例，SRAF 510至513和521至524是基於模型SRAF 410至413和421至424以一迭代方法所產生。更具體地，模型SRAF 410至413和421至424的平均特性（例如，自目標特徵401起的SRAF 410至413和421至424的平均距離、SRAF 410至413和421至424對應於目標特徵401的相對角度、和SRAF 410至413和421至424的寬度）被檢查以確定是否一或更多規則可被用以指明模型SRAF 410-413和421-424的一‘較清楚’的版本。在這個‘較清楚’的版本中，該些SRAF是對稱於目標特徵401，具有固定的寬度，且包括位置沿X和Y軸，和相應於X和Y軸呈45度的相對地直的片段。在本示例中，一組規則可被用以指明第5圖中的SRAF 510至513和521至524（其代表第4圖中模型SRAF 410至413和421至424的一‘較清楚’版本）。光罩500（包括SRAF 510至513和521至524）是模擬的，這光罩的品質是用軟體模擬而確定。即，軟體模擬確定是否目標特徵401將被用該模擬的光罩500準確的轉換成一光阻層。用來指明SRAF 510至513和521至524的該組規則可被修改（也就是，以迭代方法）直到由SRAF 510至513和521至524所達成的結果近似由模型SRAF 410至413和421至424所達成的結果。當這結果達成，最終的該組規則被保存作為一2D RBAF規則表（步驟302）。
在本範例中，2D RBAF規則表與矩形的目標特徵401相關聯。應了解的是，與目標特徵401相關聯的2D RBAF規則表也可被應用至其它目標特徵。然而，應了解的是具有不同形狀及/或距離鄰近目標特徵不同鄰近度的一些其他目標特徵可能需要不同的2D RBAF表 （即，如果與目標特徵401相關聯的2D RBAF表不能提供用於這些其它目標特徵的可接受SRAF）。在此情況下，可利用上述相同方法推導出用於這些其它目標特徵的額外2D RBAF表。預期的是，不再需要超過10至20個2D RBAF規則表來定義與光罩相關聯的所有SRAF。
現在將描述根據本發明的一個實施例2D RBAF規則表指明SRAF的方式。第6A圖說明目標特徵601以及兩個對應種子骨架611至612，其被用來以以下更詳細描述的方式定義SRAF。定義種子骨架611至612的對應2D RBAF表使用與目標特徵601周圍的一個象限相關聯的極座標、以及表明極座標在目標特徵601周圍的每個象限被重複的參數。每個極座標的強度(magnitude)是由“種子_距離”參數來定義，且每個極座標的角度是由“θ”參數來定義。參數“強制_對稱性”表明種子_距離以及θ參數是否是鏡射至其它象限（強制_對稱性=真）或者否（強制_對稱性=假）。在本文所述的實施例中，θ參數的列表以0.0開始，包括0.0º、360.0º範圍內的角度，且具有遞升次序。θ的預設值=[0.0]，意味著相同的種子_距離值被應用至所有360度。
因此，以第6A圖為例，定義種子骨架611至612的2D RBAF表可包括以下參數： 種子_距離 = [[64.0, 69.0, 73.0, 79.0, 86.0]， [165.0, 161.0, 156.0, 160.0, 166.0]] θ = [0.0, 22.5, 45.0, 67.5, 90.0]， 強制_對稱性 = 真
因此，在種子骨架611上的點A、B、C、D及E分別位於距離目標特徵610的對應角落Z之 64.0 nm、69.0 nm、73.0 nm、79.0 nm及86.0 nm處。此外，如圖所示，輔助特徵611上的點A、B、C、D及E分別位於“θ”角0.0° 、22.5° 、45° 、67.5° 、90.0° 處。
類似地，在種子骨架612上的點F、G、H、I及J分別位於距離目標特徵610的對應角落Z之 165.0 nm、161.0 nm、156.0 nm、160.0 nm及166.0 nm處。此外，如圖所示，輔助特徵612上的點F、G、H、I及J分別位於“θ”角0.0° 、22.5° 、45° 、67.5° 及90.0° 處。因為2D RBAF表的強制_對稱性參數為“真”，種子_距離及θ被鏡射至目標特徵601的每個角落，以建立種子骨架611及612。
第6B圖說明目標特徵601及四個對應的種子骨架621至624，其相比於第6A圖中的種子骨架611至612是關聯於不同的照明源。在第6B圖的例子中，並非所有的θ角都包括對應的種子_距離值。這些θ角在對應的2D RBAF表中將不具有對應的種子_距離（即“無”）。因此，以第6B圖為例，2D RBAF表可包括以下參數： 種子_距離 = [[無, 69.0, 73.0, 79.0, 86.0]， [無, 無, 161.0, 156.0, 160.0, 166.0]] θ = [0.0, 22.5, 45, 67.5, 90.0]， 強制_對稱性 = 真
實際上，第6B圖的2D RBAF表從圖6A例子消去了點A、F及G。這些被消去的點在鏡射至目標特徵601的每個角落時，造成分開的種子骨架621至624的形成。因此，在第6B圖的例子中，相關聯的照明配置不需要目標特徵601之緊鄰的左邊及右邊的輔助特徵。
雖然以上在第6A圖至第6B圖中提供的例子包括了兩種子骨架帶（以及因而兩相關聯的SRAF帶），應了解的是，更多（或更少）種子骨架（SRAF）帶可藉由包括其它數量的“種子_距離”列表而實施。同樣的，當第6A圖至第6B圖提供的範例包括五個不同的“θ”角時，應了解的是，其它數量的“θ”角也可被用於其他實施例中。舉例來說，用於第5圖的SRAF 510至512及521至524的2D RBAF表可被指明如下： 種子_距離 = [[95.5, 95.0, 94.5, 93.9, 92.7, 90.9, 無, 無, 無, 無, 無, 無, 無, 95.6, 96.7, 96.8, 96.5, 96.3, 96.2]， [無, 無, 176.2, 179.9, 181.2, 175.0, 167.1, 161.5, 158.8, 157.9, 158.4, 161.0, 165.8, 168.2, 無, 無, 無, 無, 無]] ， θ= [0.0, 5.0, 10.0, 15.0, 20.0, 25.0, 30.0, 35.0, 40.0, 45.0, 50.0, 55.0, 60.0, 65.0, 70.0, 75.0, 80.0, 85.0, 90.0] ， 強制_對稱性 = 真。
如上所述，2D RBAF表指明以線接合以形成種子骨架的多個點。如以下更詳細內容所述，這些種子骨架係針對多個目標特徵的每一個而被佈置、被處理以解決牴觸及提供簡化、然後被拉直。然後，沿著被拉直處理的骨架所定義的路徑佈置多邊形輔助特徵。
根據一個實施例，2D RBAF表可被用來控制種子骨架的形狀。在第6A圖及第6B圖的例子中，種子骨架為“圓”形。然而，應了解的是，藉由調整種子_距離，種子骨架可被修改為只具有直線，如藉由第6C圖的種子骨架631至638說明的，使得所造成的SRAF將只由矩形組成，或者如藉由第6D圖的種子骨架641至648及651至658說明的，所造成的SRAF將只由矩形及方形組成。應注意種子骨架645至648及655至658在後續處理期間，最終變成方形SRAF（以下更詳細內容所描述）。
根據一個實施例，2D RBAF規則表也包括“交互作用_半徑”參數，其以帶設定兩個SRAF的中心之間的最小輔助特徵種子距離。第7A圖是兩個相鄰目標特徵701至702的俯視圖，其中2D RBAF規則表定義了自目標特徵701的右邊緣起的種子_距離SD1，以及自目標特徵702的左邊緣起的種子_距離SD2。種子_距離SD1及SD2對應於目標特徵701及702的相同SRAF帶（例如第一SRAF帶）。在對應的種子_距離SD1及SD2產生的多邊形SRAF 711及712各具有寬度“w”，寬度“w”也由2D RBAF規則表所定義。在種子_距離SD1及SD2之間存在中心-至-中心距離（d）。交互作用_半徑“r”等於此中心-至-中心距離（d）的一半。如果實際的交互作用半徑“r”小於針對相關聯SRAF帶所指明的（如2D RBAF規則表中所設定的）“交互作用_半徑”值，則SRAF 711至712被合併為單一SRAF。交互作用_半徑參數大於0。在一個實施例中，交互作用_半徑參數被設定為等於或大於0.5*（MRC_空間 + w）的值，其中MRC_空間被定義為相鄰SRAF的邊緣之間所允許的最小距離的一半。MRC_空間說明於第7A圖中，且典型地被選擇以具有大約如寬度w的相同大小。在上述方式中，交互作用_半徑參數被用來控制鄰近種子區域之間的交互作用。
根據另一實施例，2D RBAF規則表可選地可包括用於每個SRAF帶（允許每個SRAF帶被獨立地控制）的“距離_縮放_因子”參數。“距離_縮放_因子”參數在0.0至1.0的範圍之間變化，且被應用至對應的AF帶的種子_距離參數，以縮放種子_距離參數以利SRAF的早期插入。較小的距離_縮放_因子值使更多AF被插入更緊密的空間。也就是說，較小的距離_縮放_因子(dist_scale_factor)值減少了兩個目標特徵之間插入SRAF所需的最小空間。
第7B圖為一圖式，說明當目標陣列變得較不密集時，距離_縮放_因子參數以及交互作用_半徑參數影響SRAF放置的方式。如第7B圖中所示，使用距離_縮放_因子參數以及交互作用_半徑參數的組合在目標特徵之間允許0至1至2個SRAF的彈性轉變。
在第7B圖中，X軸表示“s”值，其定義為兩個鄰近目標特徵的邊緣之間的二分之一空間寬度。在第7A圖中，針對目標特徵701至702視覺化地說明此“s”參數。Y軸表示從目標特徵的邊緣至SRAF的距離（例如，在第7A圖中目標特徵701的SD1或者目標特徵702的SD2）。
第7B圖中的實心曲線721對應於1.0的距離_縮放_因子值（即，未對種子_距離參數應用距離縮放以允許SRAF早期插入），以及大於0的交互作用_半徑值。當s值小於對應目標特徵的種子_距離參數（例如，對目標特徵701而言s＜SD1以及對目標特徵702而言s＜SD2），因為目標特徵太靠近，沒有SRAF被導入目標特徵701及702之間。在第7B圖中以小於S1 的S值表示的這些狀況下，圖案A代表目標特徵及輔助特徵的一般佈置（其中在目標特徵之間無輔助特徵，其以一方形陣列說明）。
當在實心曲線721上的s值大於S1 時，一或多個SRAF可位於目標特徵之間。當s值大於S1 （例如，種子_距離SD1）但小於種子_距離（例如SD1）加上交互作用_半徑（例如r）時，則（第一SRAF帶的）一個SRAF可位於目標特徵之間。圖案C及圖案D代表當第一SRAF帶的一個SRAF位於目標特徵之間時，目標特徵及輔助特徵的一般佈置。應注意圖案D中的s的值比圖案C中的更大，使得圖案D中的目標特徵位置相隔更遠。
當s值大於S2 （例如，種子_距離SD1加上交互作用_半徑）時，則（第一SRAF帶的）兩個SRAF可位於目標特徵之間。圖案E代表第一SRAF帶的兩個SRAF（例如SRAF 711及712）位於鄰近目標特徵之間時，目標特徵及輔助特徵的一般佈置。
第7B圖的虛線曲線722對應於具有小於1.0的值的距離_縮放_因子參數（即，對種子_距離參數應用距離縮放以利於SRAF的早期插入）以及大於0的交互作用_半徑值。在第7B圖中，s值S0 代表SRAF將被插入的最小一半空間值。當s值小於對應目標特徵的種子_距離參數乘上距離_縮放_因子（例如，目標特徵701的s＜SD1*距離_縮放_因子以及目標特徵702的s＜SD2*距離_縮放_因子）時，因為目標特徵靠近在一起，沒有SRAF被導入目標特徵701及702之間。在第7B圖中以小於S0 的s值表示的這些情況下，圖案A代表目標特徵及輔助特徵的一般佈置。
如果在虛線曲線722上s值大於S0 時，一或多個SRAF可位於目標特徵之間。當s值大於S0 （例如，種子_距離SD1*距離_縮放_因子）但小於S0 加上交互作用_半徑（例如r）時，則（第一SRAF帶的）一個SRAF可位於目標特徵之間。圖案B代表s值等於S0 時，目標特徵及輔助特徵的一般佈置。應注意圖案B中的輔助特徵位於目標特徵之間、比圖案C及D中更小的空間。當s值增加，虛線曲線722沿著包括圖案C及圖案D的路徑前進（如上所述）。
當s值大於S2 （例如，種子_距離SD1加上交互作用_半徑）時，則（第一SRAF帶的）兩個SRAF可位於目標特徵之間。同樣地，圖案E代表在這些情況下目標特徵及輔助特徵的一般佈置。
第8A圖、第8B圖及第8C圖為說明圍繞五個目標特徵A、B、C、D及E的兩個SRAF帶的俯視圖。第8A圖、第8B圖及第8C圖的第一SRAF帶分別標示為SRAF帶811、812及813。第8A圖、第8B圖及第8C圖的第二SRAF帶分別標示為SRAF帶821、822及823。第8A圖、第8B圖及第8C圖的第二SRAF帶的距離_縮放_因子皆等於1.0，使得對應的SRAF帶821、822及823相同。然而，第8A圖、第8B圖及第8C圖的第一SRAF帶的距離_縮放_因子分別等於1.0、0.9及0.7。因此，SRAF帶812（第8B圖）比SRAF帶811（第8A圖）提供了更多SRAF涵蓋範圍，而SRAF帶813（第8C圖）比SRAF帶812（第8B圖）提供了更多SRAF涵蓋範圍。可藉由比較被包括在第8A圖、第8B圖及第8C圖的相同虛線區域內的SRAF帶811、812及813之部分，而看出由較小的距離_縮放_因子值所導入的增加的SRAF涵蓋範圍。
根據另一實施例，2D RBAF規則表可選地包括每個SRAF帶的矩形_強度參數（允許每個SRAF帶被獨立地控制）。矩形_強度參數在0.0至1.0的範圍之間變化，且在角落區（無-0或90度角）內部地被應用到種子_距離參數，以增加種子_離參數的矩形特性。0.0的矩形_強度值表示相關聯SRAF帶的種子_距離值沒有變化，而1.0的矩形_強度值表示相關聯SRAF帶的種子_距離值之完全矩形化。因為光罩可輕易地印刷直線（例如矩形及三角形），使SRAF帶更像矩形可以是有益地，其中曲線必須被斷裂成許多更小的區段。因此，製造實施矩形SRAF的光罩較不貴。
第9A圖及第9B圖是說明第8B圖的SRAF帶812及822的矩形化的俯視圖。在第9A圖的例子中，SRAF帶812及822的矩形_強度值分別被選為0.0及1.0。結果，第9A圖的第一SRAF帶911未從第8B圖的SRAF帶812改變，而第9A圖的第二SRAF帶921是第8B圖的第二SRAF帶822的完全矩形化版本。
在第9B圖的例子中，SRAF帶812及822的矩形_強度值分別被選為1.0及1.0。結果，第9A圖的第一SRAF帶912及第二SRAF帶922皆分別是第8B圖的第一SRAF帶812及第二SRAF帶822的完全矩形化版本。0.0與1.0之間的矩形_強度值將造成SRAF帶之矩形化的不同程度。
在已經由上述方式產生2D RBAF規則表之後，使用中軸轉換函數（MAT）將目標圖案的空的空間分成所屬區域（第3圖，步驟303）。中軸轉換函數將空的空間分成與相應目標特徵專有地相關的“所屬的”區。每個所屬區域的邊界與目標特徵的邊緣上的二或更多個點等距。儘管MAT函數在計算幾何中是已知的，但此函數以前未用於促進SRAF的安置。如下面更詳細的描述，與目標特徵相關的SRAF不被允許侵占與其他目標特徵相關的所屬區域，這藉由消去越過所屬區域的邊界的SRAF的交叉而大大地簡化了SRAF的安置。
第10圖是包括目標特徵1至9的目標圖案的俯視圖，其中MAT函數將目標圖案分成多個所屬區域1001至1009（步驟303）。請注意，MAT函數導致目標特徵1至9的每一個被置於相應的所屬區域1001至1009中的一個。在替代實施例中，可以使用特殊代碼為目標特徵指明定制所屬區域，其可以使用或不使用中軸轉換。定制所屬區域可被用於干擾/抹除在特定區中的中軸，使得一個目標特徵局部“貪婪”，導致較大的相應的定制(custom)所屬區域。同樣，每個目標特徵準確地具有一個相應的定制所屬區域。
在所示示例中，具有三個不同的目標特徵組，其中第一組G1包含目標特徵1至4，第二組G2包括目標特徵5至8，並且第三組G3包括目標特徵9。每個組G1、G2和G3包含自己所屬對應的2D RBAF規則表。以這種方式，不同組的目標特徵（或每個目標特徵）可以具有不同的2D RBAF規則表。在第10圖的例子中還定義了多個“不接觸”（DNT）區域1010、1011和1012。在所述示例中，DNT區域1010至1012是不放置SRAF的區域。在替代實施例中，DNT區1010至1012界定區域，其中根據相關的2D RBAF規則表置於這些區域1010至1012內的SRAF不經由進一步處理而被修改。
如第11圖所示，使用分配給對應目標特徵1至9的2D RBAF規則表，將種子骨架置於所屬區域1001至1009之每一者中（步驟304）。因此，使用分配給相應目標特徵1的2D RBAF規則表，將種子骨架11011 和11012 置於所屬區域1001中。請注意，儘管與目標特徵1相關的2D RBAF規則表界定了完全包圍目標特徵1的兩個種子骨架帶，種子骨架11011 和11012 僅被置於目標特徵1相關的所屬區域1101中。
以類似的方式，種子骨架11021 至11022 、11031 、11041 至11042 、11051 至11052 、11061 至11062 、11071 至11072 、11081 至11082 和11091 至11092 分別被置於所屬區域1102至1109中，其分別使用分別分配給目標特徵2至9的2D RBAF規則表。通常，用於標記種子骨架的下標“1”和“2”分別指第一（內部）SRAF帶和第二（外部）SRAF帶。因為相同的2D RBAF規則表被分配給目標特徵1至4（組G1），相關的種子骨架在所屬區域1001、1002、1003和1004的邊界處被對齊。類似地，因為相同的2D RBAF規則表是分配給目標特徵5-8（組G2），相關的種子骨架在所屬區域1005、1006、1007和1008的邊界處被對齊。以上述方式將種子骨架置於所屬區域1001至1009有利地簡化種子骨架安置，並消去所屬區域中的安置牴觸。
在第11圖的例子中，與組G1的目標特徵1至4相關的2D RBAF規則表的種子_距離參數大於與組G2的目標特徵5至8相關的2D RBAF規則表的種子_距離參數。儘管在所示例子中的組G1和G2的種子_距離參數不同，可以理解在其他實施例中，組G1和G2的種子_距離參數可以相同。
然後處理種子骨架11011 至11012 、11021 至11022 、11031 、11041 至11042 、11051 至11052 、11061 至11062 、11071 至11072 、11081 至11082 和11091 至11092 以解決可能由2D RBAF規則表施加的任何牴觸（第3圖；步驟305）。更具體地，藉由與相關的2D RBAF規則表的交互作用_半徑參數相對應的寬度將種子骨架偏增(biased up)（加厚）。
根據本例子，第12圖為示出了由偏增種子骨架11011 至11012 、11021 至11022、11031 、11041 至11042 、11051 至11052 、11061 至11062 、11071 至11072 、11081 至11082 和11091 至11092 所導致的加厚的骨架1201至1206的俯視圖。請注意，加厚的骨架1201至1206被排除在DNT區域1010至1012之外。在替代實施例中，種子骨架可以在加厚這些種子骨架之前從DNT區域1010至1012中消去。
如第13圖所示，加厚的骨架1201至1206被再骨架化，其中加厚的骨架1201至1206的連續特徵被合併，從而解決了2D RBAF規則表引起的骨架彼此過於靠近所引入的任何牴觸。再骨架化的結果由第13圖的骨架結構1301至1306示出。
在一個實施例中，骨架結構1301至1306可以表示步驟305的牴觸解決過程的結論。然而，根據另一實施例，骨架結構1301至1306經受一或多個清潔步驟以進一步最佳化。第14圖為示出根據本發明的一個實施例的十步驟骨架清潔過程1400的流程圖。第15圖至第24圖為示出根據本發明的各種實施例的清潔過程1400的十個步驟1401至1410的骨架結構的俯視圖。應該理解，可以根據本發明的各種實施例來實施過程1400的十個步驟1401至1410中的任意數量。下面更詳細地描述清潔過程1400的步驟。
在步驟1401中，實施骨架殘段修剪。第15圖示出了可經由殘段修剪步驟1401改進的可能骨架結構配置。如第15圖所示，一或多個骨架殘段1501至1504從主骨架線1500延伸出去。選擇了殘段半徑值（STUB_R），其界定了從主骨架線1500延伸的殘段的最小可允許長度。未自主骨架線1500延伸至少殘段半徑值（STUB_R）的任何骨架殘段被消去。在第15圖所示的例子中，每個骨架殘段1501至1504並未從主骨架線1501延伸至少殘段半徑值（STUB_R）。因此，這些骨架殘段1501至1504經由骨架殘段修剪步驟1401從骨架結構中消去。
在步驟1402中，骨架結構的T形三重點被修整。如第16圖所示，三重點1610由三個骨架片段1601至1603之接合所形成。如果由三個骨架片段1601至1603形成的最大角度超過預先確定最小角度（例如140°），則三重點1610被確定為“T形”。在示例的例子中，在骨架片段1601和1603之間形成的角度θ大於140°的預先確定最小角度，從而三重點1610被識別為T形三重點。根據一個實施例，未包括在T形三重點1610的大角度θ中的骨架片段1602從三重點1601向後修整長度（L），由此消去三重點。在一個實施例中，回應於被修整的骨架片段1602對未修整的骨架片段1601和1603的取向(orientation)來選擇從骨架片段1602修整的長度（L）。長度（L）被選擇以確保被修整的骨架片段1602的末端和未修整的骨架片段1601和1603之間的適當空間。
在步驟1403中，骨架結構的三重點叉部被切割。如第17圖所示，三重點1710由三個骨架片段1701至1703的接合所形成。三重點1710的骨架片段1702至1703的其中兩個短於預定義的叉部長度（FL ），並且骨架片段1701的一個長於預定義的叉部長度（FL ）。在這些情形下，三重點1710被界定為“分叉的”三重點。分叉的三重點1710可以使用兩種選擇中的一種來消去（切割）。在第一種選項中，較短的骨架片段1702至1703被併入與較長的骨架片段1701連續的單個骨架片段1704。在一個實施例中，被併入的骨架片段1704沿著較長的骨架片段1701的中心線延伸。在第二種選項中，較短的骨架片段1702至1703被置換為分別的骨架片段1705，其通常在原始骨架片段1702至1703的末端之間延伸，並且較長的骨架片段被縮短LF 的距離（自三重點1710起）。儘管在第17圖的選項1和2中示出了三重點用於參考，但應該理解，在這些選項中實際上三重點1710被消去。
在步驟1404中，三重點連接部被切割。如第18圖所示，骨架片段1801至1803被連接以形成第一三重點1810，以及骨架片段1803至1805被連接以形成第二三重點1811，其中片段1803接合三重點1810和1811。如果連接片段1803的長度小於預先確定長度（c），則連接片段1803被識別為三重點連接部，並被移除。在一個實施例中，剩餘骨架片段1801至1802和1804至1805可以被拉直以確保這些剩餘骨架片段之間存在適當的最小距離。
在步驟1405中，緻密的三重點被調整。如第19圖所示，骨架片段1901至1903被連接以形成三重點1910，其中每個骨架片段具有的長度小於預先確定的緻密半徑值RC 。在這些情形下，三重點1910被界定為一個“緻密的”三重點。緻密的三重點1910藉由以具有中心位於三重點1910的位置和預先確定的邊緣長度LE 的小方形1911置換骨架片段1901、1903而被消去。
在步驟1406中，四重點被調整。如第20圖所示，骨架片段2001至2004被連接以形成四重點2010，其中每一個片段2001至2004具有大於預先確定最小長度的長度。四重點2010藉由具有中心位於四重點2010的位置以及預先確定的邊緣長度LE 的小方形2011置換四重點2010來消去。另外，每一個骨架片段2001至2004從盒子2011收回預先確定距離DR ，其被選擇以確保在方形2011與骨架片段2001至2004的剩餘部分之間存在適當的空間。
在步驟1407中，三重點的所有片段都被收回。如第21圖所示，骨架片段2101至2103被連接以形成三重點2110，其中每一個片段2101至2103具有大於預先確定最小長度的長度。藉由從三重點2110將每個骨架片段收回長度LR 來消去三重點2110。選擇長度LR 以確保隨後形成的骨架多邊形在三重點2110附近的位置分離。
在步驟1408中，用八角形置換小的開放或閉環骨架結構。如第22圖所示，具有質量中心M和小於預先確定長度的周長的C形骨架特徵2201（或具有質量中心M的小閉環骨架特徵2202）被具有離質量中心M預先確定半徑RO 的八邊形2203置換。
在步驟1409中，呈現小於預先確定角度的骨架結構被切回。如第23圖所示，具有頂點2310和小於預先確定最小角度（例如，110度）的相關角度φ的骨架結構2301被識別。在回應中，骨架結構2301從頂點2310被切回，導致兩個分別的片段2301A和2301B的形成。切回是由自頂點2310之位置起的半徑RCUT 被執行。選擇半徑RCUT 以確保隨後形成的與骨架片段2301A和2301B相關的骨架多邊形之間存在適當的空間。
在步驟1410中，短的骨架片段被一個方形置換。如第24圖所示，具有小於預先確定長度的長度和質量中心M的骨架片段2401被以質量中心M為中心並具有預先確定的邊緣長度LE 的方形2402置換。
根據本發明的一個實施例，第25圖為在步驟305的牴觸解決過程（其包括第14圖的清潔步驟1401至1410）被應用於第13圖的骨架結構1301至1306之後剩餘的清潔的骨架結構2501至2516的俯視圖。
然後清潔的骨架結構2501至2516（第3圖，步驟306）被拉直。第26圖為示出拉直的骨架結構2601至2616的俯視圖，其緣於將第25圖的清潔骨架結構2501至2516拉直。一般來說，拉直過程是藉由將清潔的骨架結構2501至2516的線與X軸、Y軸或相對於X和Y軸以45度角對齊（配合）而實施。這種對齊可以使用各種統計方法來執行，包括但不限於最小平方函數。
然後沿著拉直的骨架2601至2616置放多邊形（例如矩形），從而提供最終的SRAF（第3圖，步驟307）。第27圖為示出了多邊形SRAF 2700的俯視圖，其緣於將多邊形沿著第26圖的拉直的骨架結構2601至2616置放。請注意，多邊形SRAF 2700的寬度是依據相關的照明方案來選擇，並且可由2D RBAF規則表指明。
然後將多邊形SRAF 2700連同目標多邊形1至9印刷在光罩上（第3圖，步驟308）。在一個實施例中，根據本發明的一個實施例，第27圖所示的圖案可以代表印刷後的光罩2701。
如上面所述結合第10圖，環繞目標特徵的空的空間被分成所屬區域，其中每一個目標特徵具有對應的所屬區域。然而，根據本發明的另一個實施例，基於目標特徵的邊緣將環繞目標特徵的空的空間分成所屬區域，其中目標特徵的每一個邊緣可以具有對應的所屬區域。這個概念由第28A圖和第28B圖示出。
第28A圖是包含目標邊緣2801至2808的目標特徵2800的俯視圖。第28B圖是目標特徵2800的俯視圖，其中環繞目標特徵2800的區被分成多個所屬區域2811至2814（步驟303）。請注意，確定所屬區域的函數可由使用者指明，以對目標特徵2800的特別形狀提供最佳結果。在所示例子中，存在目標邊緣的四個不同群組，其中第一群組包含目標邊緣2801至2803，第二群組包含目標邊緣2804至2805，第三群組包含目標邊緣2806，並且第四群組包含目標邊緣2807至2808。目標邊緣的四個群組的每一群組都具有相應的所屬區域。因此，目標邊緣2801至2803被分配對應的所屬區域2811，目標邊緣2804至2805被分配對應的所屬區域2812，目標邊緣2806被分配對應的所屬區域2813，以及目標邊緣2807至2808被分配對應的所屬區域2814。目標邊緣的四個群組的每一群組具有其所屬對應的2D RBAF規則表，從而目標特徵2800的不同邊緣可具有不同的2D RBAF規則表。請注意，不同的所屬區域可能與不同數目的相關目標邊緣相關。因此，所屬區域2813與單個目標邊緣2806相關，所屬區域2812和2814的每一個分別與兩個目標邊緣2804至2805和2807至2808相關，以及所屬區域2811與三個目標邊緣2801至2803相關。這有利地提供了界定將被引入於目標特徵2800的周圍之SRAF的靈活性。在備替代實施例中，目標特徵2800的一些目標邊緣不與環繞的所屬區域相關。例如，在一個實施例中，目標邊緣2802可以與所屬區域2811相關，而目標邊緣2801和2803為了在所屬區域2811內產生種子骨架的目的而被忽略。注意，“不接觸”（DNT）區域，類似那些以上描述，可以被包含在所屬區域2811至2814內。
一旦已經界定了所屬區域2811至2814，以上述根據第3圖的方法300的相同方式進行處理，其中種子骨架被置於所屬區域（從相關的目標邊緣）（步驟304），種子骨架被處理以解決牴觸（步驟305），骨架被拉直（步驟306），在拉直的骨架指明的位置添加多邊形SRAF（步驟307），以及將多邊形SRAF印刷在光罩上（步驟308）。請注意，與其他目標邊緣（或目標邊緣的群組）相關的SRAF不允許侵占與其他目標邊緣（或目標邊緣的群組）相關的所屬區域，這藉由消去跨越所屬地區的界限的SRAF的交叉，大大地簡化了SRAF的安置。
本發明的SRAF安置方法300相對於傳統的基於規則的SRAF安置方法和傳統的基於模型的SRAF安置方法呈現許多優點。首先，本發明的SRAF安置方法300的速度與傳統的基於規則的SRAF安置方法的速度相當，且比傳統的基於模型的SRAF安置方法的速度快數個數量級。由本發明的SRAF安置方法300提供的結果實質上優於由傳統的基於規則的SRAF安置方法提供的結果，因為方法300的2D RBAF規則表允許用於比傳統的基於規則的SRAF安置方法中那些可用者更為複雜的SRAF的加工。
事實上，本發明的SRAF安置方法300非常接近由傳統的基於模型的SRAF安置方法所達成的結果。此外，因為本發明的SRAF安置方法300純粹是幾何驅動的，由此方法300所提供的結果比由傳統的基於模型的SRAF安置方法提供的結果更一致。另外，本發明的SRAF安置方法300提供了比傳統的基於模型的SRAF安置方法的不規則形狀的SRAF更容易印刷在光罩上的多邊形SRAF。
此外，本發明的SRAF安置方法300使用極座標來界定2D RBAF規則表，其更自然地接近微影製程驅動的最佳解。再者，由SRAF安置方法300實施的所屬區域劃分和基於骨架的網路處理對於典型的輔助特徵而言更為自然，該典型的輔助特徵通常是窄的並且可以遵循非直線的路徑。本發明的SRAF安置方法300還可以被使用於為了較新的設計界定多個SRAF，例如藉由定向自組裝（DSA）所創建的那些，其典型地包含具有很多小的全部角度邊緣（all angle edge）的曲線圖案，這對於傳統的RBAF方法是難於處理（由於上提供的原因）。
第29圖是包含根據上述方法300使用2D RBAF規則表用於產生多邊形SRAF的過程的示範性數位ASIC設計流程的簡化表示的方塊圖。在高層次上，該過程起始於產品創意（步驟2900）並且在EDA軟體設計過程中實現（步驟2910）。當設計最終化後，可以將其送交製造（事件2940）。在送交製造後，製造過程（步驟2950）和封裝和組裝過程（步驟2960）發生，最終導致完工的晶片（結果2970）。根據各種實施例，根據上述方法300能夠在EDA軟體設計過程（步驟2910）中使用2D RBAF規則表使多邊形SRAF的產生被實施。
EDA軟體設計過程（步驟2910）實際上由多個步驟2912至2930組成，為簡化，以線性方式示出。在實際的ASIC設計過程中，特別的設計可能需通過步驟返回直到某些測試通過。類似地，在任何實際的設計過程中，這些步驟都可能以不同的順序和組合發生。因此，這類描述是藉由上下文和一般解釋的方式提供，而不是對於特別ASIC作為特定的或被推薦的設計流程。
EDA軟體設計過程（步驟2910）的組件/步驟的簡要描述將於現在提供。在一個實施例中，EDA軟體設計過程的一或多個步驟可以使用電腦可讀媒體2911A（其可被電腦2911B讀取）來實施。請注意，Astro、AstroRail、CustomSim、ESP、Hercules、IC Compiler、Magellan、Model Architect、Power Compiler、PrimeRail、Proteus、ProteusAF、PSMGen、Saber、StarRC和System Studio為新諾普系統公司（Synopsys, Inc.）的商標，以及CATS、DesignWare、Design Compiler、Formality、HSIM、Leda、NanoSim、Primetime、Syndicated、TetraMAX、VCS和Vera為Synopsys, Inc.的註冊商標。系統設計（步驟2912）：設計人員描述他們想要實施的功能性，他們可以執行若-則（what-if）規劃來精化功能性、檢查成本等。硬體-軟體架構分區可以在此階段發生。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含Model ArchitectTM 、SaberTM 、System StudioTM 和DesignWare®產品。
邏輯設計和功能驗證（步驟2914）：在此階段，為了功能準確性，在系統中用於模組的VHDL或Verilog代碼被寫入以及該設計被檢查。更具體地，依所檢查進行該設計以確保其產出正確的輸出。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含HSIM®、NanoSim®、CustomSimTM 、VCS®、VERA®、DesignWare®、MagellanTM 、Formality®、ESPTM 和LEDA®產品。
用於測試的合成和設計（步驟2916）：此處，VHDL/Verilog被翻譯至網路連線表(netlist)。為了目標技術該網路連線表可被最佳化。另外，允許已完工的晶片的檢查之測試的設計和實施有發生。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含Design Compiler®、Power CompilerTM 、Tetramax®、和DesignWare®產品。
網路連線表驗證（步驟2918）：在該步驟，檢查網路連線表被檢查，以用於符合時序約束以及對應於VHDL/Verilog源代碼。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含Formality®、PrimeTimeTM 和VCS®產品。
設計規劃（步驟2920）：此處，為了時序和頂層選路(routing)，晶片的全面佈局規劃被建構及分析。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含AstroTM 和IC CompilerTM 產品。
實體實施（步驟2922）：安置（電路元件的定位）和選路（同者之連接）在此步驟發生。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含AstroTM 和IC CompilerTM 產品。
分析和提取（步驟2924）：在此步驟，電路功能在電晶體級被驗證，這接著允許what-if精化。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含AstroRailTM 、PrimeRailTM 、Primetime®和Star RC/XTTM 產品。
實體驗證（步驟2926）：在此步驟各種檢查功能被執行以確保以下各項正確性：製造、電氣問題、微影製程問題和電路。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含HerculesTM 產品。
解析度增強（步驟2928）：此步驟涉及佈局的幾何操作以提高設計的可製造性。根據本發明的一個實施例，用於生成多邊形SRAF的上述方法300在解析度增強步驟2928期間實施。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含ProteusTM 、ProteusAFTM 和PSMGenTM 產品。根據一個實施例，電腦可讀媒體2911A儲存指令，當由處理器2911B執行時，將實施用於使用2D RBAF規則表來生成多邊形SRAF的上述方法300。
光罩資料準備（步驟2930）：該步驟提供用於微影製程使用的光罩的生產用的該“送交製造”(tape out)資料以生產完工的晶片。在該資料光罩準備步驟2930期間，本發明的包含多邊形SRAF的光罩被製造。可被使用於此步驟的來自Synopsys, Inc.的示範性EDA軟體產品包含CATS®家族產品。
雖然在本文中已經詳細描述了本發明的示例性實施例並參閱所附圖式，但是應該理解，本發明不限於那些精確的實施例。因此，本發明的範圍由以下申請專利範圍以及其等效者所界定。
1、2、3、4、5、6、7、8、9、101、102、103、104、105、106、107、108、109、110、111、201、401、601、701、702、2800‧‧‧目標特徵
100、200‧‧‧光罩圖案
211、212、213、214、215、216、217、218、219、220、221、222、223、410、411、412、413、421、422、423、424、510、511、512、513、521、522、523、524、711、712‧‧‧子解析度輔助特徵（SRAF）
300‧‧‧流程圖
301、302、303、304、305、306、307、308、1401、1402、1403、1404、1405、1406、1407、1408、1409、1410、2900、2910、2950、2960、2912、2914、2916、2918、2920、2922、2924、2926、2928、2930‧‧‧步驟
400、500、2701‧‧‧光罩
611、612、621、622、623、624、631、632、633、634、635、636、637、638、641、642、643、644、645、646、647、648、651、652、653、654、655、656、657、658、11011、11012、11021 、11022、11031、11041、11042、11051、11052、11061、11062、11071、11072、11081、11082、11091、11092‧‧‧種子骨架
721‧‧‧實心曲線
722‧‧‧虛線曲線
811、812、813、821、822、823、911、912、921、922‧‧‧SRAF帶
1001、1002、1003、1004、1005、1006、1007、1008、1009、2811、2812、2813、2814‧‧‧所屬區域
1010、1011、1012‧‧‧不接觸（DNT）區域
1201、1202、1203、1204、1205、1206‧‧‧加厚的骨架
1301、1302、1303、1304、1305、1306、2301、2501、2502、2503、2504、2505、2506、2507、2508、2509、2510、2511、2512、2513、2514、2515、2516、2601、2602、2603、2604、2605、2606、2607、2608、2609、2610、2611、2612、2613、2614、2615、2616‧‧‧骨架結構
1400‧‧‧骨架清潔過程
1500‧‧‧主骨架線
1501、1502、1503、1504‧‧‧骨架殘段
1601、1602、1603、1701、1702、1703、1704、1705、1801、1802、1803、1804、1805、1901、1902、1903、2001、2002、2003、2004、2101、2102、2103、2301A、2301B、2401‧‧‧骨架片段
1610、1710、1810、1811、1910、2110‧‧‧三重點
1911、2011‧‧‧小方形
2010‧‧‧四重點
2201‧‧‧C形骨架特徵
2202‧‧‧小閉環骨架特徵
2203‧‧‧八邊形
2310‧‧‧頂點
2402‧‧‧方形
2700‧‧‧多邊形SRAF
2801、2802、2803、2804、2805、2806、2807、2808‧‧‧目標邊緣
2911A‧‧‧電腦可讀媒體
2911B‧‧‧電腦、處理器
2940‧‧‧事件
2970‧‧‧結果
A、B、C、D、E、F、G、H、I、J‧‧‧點
c、L‧‧‧長度
d、LF‧‧‧距離
DR‧‧‧預先確定距離
FL‧‧‧叉部長度
LE‧‧‧邊緣長度
LR‧‧‧收回長度
M‧‧‧質量中心
R、RO、RCUT‧‧‧半徑
RBAF‧‧‧規則輔助特徵
RC‧‧‧緻密半徑值
SD1、SD2‧‧‧種子_距離
w‧‧‧寬度
Z‧‧‧角落
第1A圖是一光罩圖案的俯視圖，其顯示目標特徵周圍的牴觸規則輔助特徵的安置。 第1B圖是第1A圖光罩圖案在牴觸規則輔助特徵被解決後的俯視圖。 第2圖是一光罩圖案的俯視圖，其顯示一目標特徵周圍的模型輔助特徵的安置。 第3圖是一流程圖，其顯示依據本發明一種用來產生子解析度輔助特徵（SRAF）的方法。 第4圖是一光罩圖案的俯視圖，該圖案包含一目標特徵以及使用符合第3圖方法的一模型輔助特徵更正法所產生的SRAF。 第5圖是一光罩圖案的俯視圖，該圖案包含一目標特徵以及依據本發明一實施例，從第4圖的光罩圖案所導出的SRAF。 第6A圖是依據本發明一實施例的種子骨架的一俯視圖，該種子骨架係由二維（2D）規則輔助特徵（RBAF）規則表的極座標所指明。 第6B圖是依據本發明另一實施例的種子骨架的一俯視圖，該種子骨架係由一2D RBAF規則表的極座標所指明。 第6C圖是依據本發明另一實施例的種子骨架的一俯視圖，其中該種子骨架界定矩形SRAF，並由一2D RBAF規則表的極座標所指明。 第6D圖是依據本發明另一實施例的種子骨架的一俯視圖，其中該種子骨架界定矩形與方形SRAF兩者，並由一2D RBAF規則表的極座標所指明。 第7A圖是依據本發明一實施例的目標特徵和相關聯的多邊形SRAF的一俯視圖，其顯示一交互動作_半徑參數。 第7B圖是依據本發明一實施例顯示方法之圖式，其中隨著一目標陣列變得較不緊密，一距離_縮放_因子(dist_scale_factor)參數和該交互動作_半徑參數影響SRAF安置的方法圖示。 第8A圖、第8B圖、及第8C圖是依據本發明一實施例的目標特徵和相關聯的SRAF帶的俯視圖，其顯示一距離_縮放_因子參數的功效。 第9A圖、第9B圖、第9C圖是依據本發明一實施例的目標特徵和相關聯的SRAF帶的俯視圖，其顯示一矩形_強度參數的功效。 第10圖是依據本發明一實施例的目標特徵和相關聯的所屬區域的一俯視圖，該所屬區域以一中間軸轉換功能所形成。 第11圖是依據本發明一實施例，第10圖中的目標特徵和相關聯的所屬區域的一俯視圖，搭配從2D RBAF規則表增加的種子骨架。 第12圖是依據本發明一實施例，第11圖中的種子骨架在這些種子骨架已經響應一交互作用_半徑參數而被加寬後的俯視圖。 第13圖是依據本發明一實施例，當第12圖中的這些種子骨架被再骨架化之後的俯視圖。 第14圖是一方法流程圖，其用以依據本發明一實施例，清潔第13圖中的被再骨架化的種子骨架。 第15圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以修剪一骨架結構的殘段的方法。 第16圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以修整一骨架結構的T形三重點的方法。 第17圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以切割三重點叉部骨架結構的的方法。 第18圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以切割一骨架結構的三重點連接的方法。 第19圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以調整一骨架結構的緻密(compact)三重點的方法。 第20圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以調整四重點骨架結構的方法。 第21圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以收回三重點骨架結構的所有片段的方法。 第22圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以處理C形骨架片段的方法。 第23圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以切割有彎角骨架結構的方法。 第24圖是一俯視圖，其顯示依據第14圖方法中一步驟，用以修正短骨架結構的方法。 第25圖是一俯視圖，其顯示依據本發明一實施例，當第14圖的清潔方法施加於這些種子骨架後的第13圖之再骨架化的種子骨架。 第26圖是一俯視圖，其顯示依據本發明一實施例，當第25圖中的被清潔的種子骨架被伸直後的府視圖。 第27圖是多邊形SRAF的一俯視圖，該些多邊形SRAF係依據本發明一實施例，被放置於以第26圖的被伸直後種子骨架所指明的位置。 第28A圖是包含多個目標邊緣的目標特徵的一俯視圖。 第28B圖是依據本發明一實施例，第28A圖的目標特徵的一俯視圖，其中環繞該目標特徵的區依據一或多個目標邊緣的群組而被分成多個所屬區域。 第29圖是依據本發明一實施例，一簡化的示例性數位ASIC設計流程的一方塊圖之代表，包括使用2D RBAF規則表來產生多邊形SRAF之製成。 本發明將可由下列描述而得到更充分瞭解。

Claims (24)

  1. 一種用於一光罩的目標特徵為了產生子解析度輔助特徵（SRAF）的方法，該方法包括： 將環繞一目標特徵的一區分成多個所屬區域，其中該目標特徵包含多個目標邊緣，且該多個所屬區域的每一個與該目標邊緣的至少一個相關； 在該所屬區域的每一個中，產生一種子骨架，該產生該種子骨架係基於一對應的2維（2D）規則表，該對應的2D規則表指明從該相關的該目標邊緣的至少一個至該種子骨架的點的距離及角度；以及 基於該種子骨架將多邊形SRAF置於該光罩。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中在該所屬區域的每一個中，該產生的種子骨架至少部分地圍繞該相關的該目標邊緣的至少一個而延伸。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之方法，還包括藉由以下步驟產生該2D規則表： 基於該目標特徵產生基於模型的SRAF； 將一或多個該基於模型之SRAF的特性平均以建立一對稱的SRAF圖案；以及 使用該對稱的SRAF圖案以指明該2D規則表的該距離及角度。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該2D規則表還指明界定介於相鄰種子骨架的一最小距離的一交互作用半徑。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該2D規則表還指明被應用於該距離的一縮放因子。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中與該所屬區域的一第一個相關的一2D規則表不同於與該所屬區域的一第二個相關的一2D規則表。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該2D規則表還指明控制該種子骨架的一矩形形狀的一矩形強度參數。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之方法，還包括處理該不同的所屬區域的該種子骨架以解決介於那些種子骨架的牴觸。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中處理該種子骨架包括： 加寬該種子骨架的每一個以建立加寬的骨架，其中該加寬的種骨架的至少兩個相接觸，成為該加寬的一結果； 再骨架化該加寬的種子骨架以建立再骨架化的種子骨架；以及 修正該再骨架化的種子骨架。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中該種子骨架的每一個被界定一相鄰的種子骨架之間的一最小距離的該2D規則表的一交互作用半徑參數所指明的一數量所加寬。
  11. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括移除延伸小於來自該再骨架化的種子骨架的主線的一第一半徑的殘段。
  12. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別一第一種子骨架片段、一第二種子骨架片段及一第三種子骨架片段相交的一三重點，其中該第一種子骨架片段和該第二種子骨架片段形成大於一第一角的一角；以及 將該第三種子骨架片段修整遠離該三重點。
  13. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別一第一種子骨架片段、一第二種子骨架片段及一第三種子骨架片段相交的一叉部，其中該第一種子骨架片段和該第二種子骨架片段短於一第一長度；以及 以與該第三種子骨架片段連續的一第四種子骨架片段置換該第一種子骨架片段及該第二種子骨架片段。
  14. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別一第一種子骨架片段、一第二種子骨架片段及一第三種子骨架片段相交的一叉部，其中該第一種子骨架片段和該第二種子骨架片段短於一第一長度；以及 以與該第三種子骨架片段間隔分離的一第四種子骨架片段置換該第一種子骨架片段及該第二種子骨架片段。
  15. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別具有在一第一三重點處連接至一第二種子骨架片段以及一第三種子骨架片段的一第一端的、以及在一第二三重點處連接至該第四種子骨架片段及一第五種子骨架片段的一第二端的一第一種子骨架片段；以及 消去該第一種子骨架片段。
  16. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別一第一種子骨架片段、一第二種子骨架片段及一第三種子骨架片段相交的一三重點，其中該第一種、第二和該第三種子骨架片段皆短於一第一長度；以及 用以該三重點為中心的一方形置換該第一、第二及第三種子骨架片段。
  17. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別一第一種子骨架片段、一第二種子骨架片段、一第三種子骨架片段及一第四種子骨架片段相交的一四重點； 將一方形置於該四重點；以及 從該方形收回該第一、第二、第三及第四種子骨架片段。
  18. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別一第一種子骨架片段、一第二種子骨架片段及一第三種子骨架片段相交的一三重點；以及 從該三重點收回該第一、第二及第三種子骨架片段之每一者。
  19. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別實質上橫向環繞一質量中心以及具有小於一第一長度的一周長的一種子骨架片段；以及 用以該質量中心為中心的一八邊形置換該種子骨架片段。
  20. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別具有一頂點及小於一第一角度的一對應角度的一種子骨架片段；以及 移除圍繞該頂點的該種子骨架片段的部分。
  21. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中修正該再骨架化的種子骨架包括： 識別具有一質量中心以及小於一第一長度的一長度的一種子骨架片段；以及 以在該質量中心為中心的一方形置換該種子骨架片段。
  22. 如申請專利範圍第8項所述之方法，還包括將該處理後的種子骨架拉直。
  23. 如申請專利範圍第22項所述之方法，其中該拉直包括將該處理後的種子骨架修正為只包含位置平行於一X-軸或一Y-軸、或相對於該X及Y軸在45度角的種子骨架片段。
  24. 如申請專利範圍第22項所述之方法，還包括將該多邊形SRAF置於由該拉直後的骨架所指明的位置。
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