TW201837520A - 光學元件及光學元件之製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種將使光彎折之偏向元件與光學濾光片一體化並且光損耗較少且製造容易之光學元件，及提供一種簡便地製造藉由接著層使偏向元件與光學濾光片一體化而成之光學元件之方法。一種光學元件，其具備：偏向元件，其使入射之光偏向後出射；光學濾光片，其位於上述偏向元件之入射側或出射側，將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷；及接著層，其於上述偏向元件與上述光學濾光片之間使兩者一體化；且於將上述偏向元件之折射率設為n_P ，將上述接著層之折射率設為n_G ，以及將上述光學濾光片中所包含之構件中層厚最大之構件之折射率設為n_F 時，滿足式(1)及式(2)之關係。 Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5…(1) Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5…(2)

Description

光學元件及光學元件之製造方法

本發明係關於一種光學元件及光學元件之製造方法。

於數位靜態相機等搭載有CCD(Charge Coupled Device，電荷耦合元件)或CMOS(complementary metal oxide semiconductor，互補金氧半導體)影像感測器等固體攝像元件之攝像裝置中，更小型化與高功能化不斷發展。例如，於包含變焦透鏡等耦合透鏡系統及固體攝像元件之攝像裝置中，使用將光彎折之稜鏡等偏向元件來謀求小型化。 於專利文獻1中記載有一種攝影裝置，其使用有如下光學零件，該光學零件具有：稜鏡，其使透過成像透鏡群之光彎折；及覆蓋玻璃，其使經稜鏡彎折後之光透過；且將射出光之稜鏡之射出面與覆蓋玻璃之入射面利用光學上透明之接著劑接著而成。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利特開2012-68509號公報

[發明所欲解決之問題] 本發明之目的在於，提供一種將使光彎折之偏向元件與光學濾光片一體化並且光損耗較少且製造容易之光學元件，及提供一種簡便地製造使偏向元件與光學濾光片藉由接著層一體化而成之光學元件之方法。 [解決問題之技術手段] 本發明之光學元件具備：偏向元件，其使入射之光偏向後出射；光學濾光片，其位於上述偏向元件之入射側或出射側，將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷；及接著層，其於上述偏向元件與上述光學濾光片之間使兩者一體化；且於將上述偏向元件之折射率設為n_P ，將上述接著層之折射率設為n_G ，以及將上述光學濾光片中所包含之構件中層厚最大之構件之折射率設為n_F 時，滿足下式(1)及下式(2)之關係。 Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5…(1) Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5…(2) 本發明之光學元件之製造方法係製造如下光學元件之方法，該光學元件具備：偏向元件，其使入射之光偏向後出射；光學濾光片，其位於上述偏向元件之入射側或出射側，將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷；及接著層，其於上述偏向元件與上述光學濾光片之間使兩者一體化；且於將上述偏向元件之折射率設為n_P ，將上述接著層之折射率設為n_G ，以及將上述光學濾光片中所包含之構件中層厚最大之構件之折射率設為n_F 時，滿足Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5及Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5之關係，且該光學元件之製造方法包含如下步驟：於上述偏向元件與上述光學濾光片之間製作光學元件前驅物，該光學元件前驅物具有包含紫外線硬化性材料之接著層形成用組合物層；及自於製成上述光學元件之情形時成為入射側之側或於製成上述光學元件之情形時成為出射側之側對上述光學元件前驅物照射紫外線區域之光使上述接著層形成用組合物層硬化而製成上述接著層。 [發明之效果] 根據本發明，可提供一種將使光彎折之偏向元件與光學濾光片一體化並且光損耗較少且製造容易之光學元件。又，根據本發明，可提供一種簡便地製造使偏向元件與光學濾光片藉由接著層一體化而成之光學元件之方法。 於攝像裝置中，若將本發明之光學元件配置於固體攝像元件之緊鄰受光面之前方使用，則對攝像裝置之小型化有利。

以下，對本發明之實施形態進行說明。再者，於本說明書中，根據需要將紫外線或紫外線區域之光簡略記載為「UV」，將近紅外線或近紅外區域之光簡略記載為「NIR」。於本說明書中，「折射率」係指對於於波長589 nm之光之折射率。所謂「硬化性材料」係指藉由加熱或光照射而硬化成為硬化材料之硬化前之未硬化之材料，所謂「硬化材料」係指硬化性材料藉由加熱或光照射而硬化後所獲得之硬化物。於本說明書中，於表示數值範圍之「～」中包含上下限。 於本說明書中，所謂光學元件之「入射側」係指於使用時光沿著攝像裝置等之光軸自光之進入方向入射至光學元件之側。所謂光學元件之「出射側」係指自光學元件之入射側入射之光向特定之方向、例如接收出射光之元件之方向偏向後出射之側。 [光學元件] 參照圖式對本發明之實施形態之光學元件進行說明。圖1係表示本實施形態之光學元件之一例之剖視圖。圖2係概略性地表示具備圖1所示之本實施形態之光學元件之攝像裝置之一例的剖視圖。 圖1所示之光學元件10具備：偏向元件1，其使入射之光偏向後出射；光學濾光片2，其位於偏向元件1之出射側，將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷；及接著層3，其位於偏向元件1與光學濾光片2之間且使偏向元件1與光學濾光片2一體化。於圖1所示之光學元件10中，光學濾光片2位於偏向元件1之出射側，但於本發明之光學元件中，光學濾光片2亦可位於偏向元件1之入射側。於該情形時，成為自光之入射側起依序配置有光學濾光片2、接著層3、偏向元件1之光學元件10。 於圖1中，為了方便說明，將偏向元件1中光出射之方向定義為Z軸方向，將與Z軸方向正交且相互正交之兩個方向定義為X軸方向(與紙面正交之方向)、Y軸方向(與紙面平行之方向)。於本說明書中，將Z軸方向稱為「Z方向」。關於X軸方向、Y軸方向亦相同。於本說明書中，只要事先未特別說明，則X方向、Y方向、Z方向係與圖1所示者相同之方向。圖1及圖2係YZ剖視圖。 於光學元件10中，於將偏向元件1之折射率設為n_P ，將接著層3之折射率設為n_G ，以及將光學濾光片2中所包含之構件中層厚最大之構件(以下，亦稱為「最厚構件」)之折射率設為n_F 時，滿足下式(1)及下式(2)之關係。 Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5…(1) Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5…(2) 以下，將偏向元件之折射率亦稱為「折射率n_P 」，將接著層之折射率亦稱為「折射率n_G 」，將光學濾光片中所包含之最厚構件之折射率亦稱為「折射率n_F 」。 偏向元件1為直角稜鏡，具有供光入射之入射面1a、將入射後之光反射之反射面1b、以及將反射後之光出射之出射面1c。接著層3及光學濾光片2分別具有與偏向元件1之出射面1c平行之2個主面。接著層3之2個主面中之一者為與偏向元件1之出射面1c相接之主面，且係供自偏向元件1出射之光入射之入射面3a，另一者係將該光出射之出射面3b。光學濾光片2之2個主面中之一者為與接著層3之出射面3b相接之主面，且係供自接著層3出射之光入射之入射面2a，另一者係將該光出射之出射面2b。 於光學元件10中，光係自Y方向入射至偏向元件1之入射面1a，於偏向元件1之反射面1b藉由反射而偏向之後，自偏向元件1之出射面1c沿Z方向出射，透過接著層3及光學濾光片2後自光學濾光片2之出射面2b沿Z方向出射。 本實施形態之光學元件藉由如此般使用接著層將偏向元件與光學濾光片一體化而兼具偏向元件與光學濾光片之功能。即，於本實施形態之光學元件中，自入射面入射之光偏向，並且自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光被選擇性地遮斷後出射。如此，根據本實施形態之光學元件，可謀求攝像裝置之小型化。進而，藉由偏向元件、接著層及光學濾光片中之折射率之關係滿足式(1)、式(2)，從而本實施形態之光學元件中之光損耗較少。 以下，使用圖2對攝像裝置之小型化進行說明。圖2係具有物鏡5、物體側稜鏡6、成像透鏡群8(包括透鏡81、82、83)、透鏡移動機構7、光學元件10及固體攝像元件4之攝像裝置100之構成例。 被物鏡5擷取之來自Z方向之入射光於物體側稜鏡6之反射面向Y方向偏向，透過成像透鏡群8後入射至光學元件10。自光學元件10出射之光入射至固體攝像元件4之受光面41，而轉換為電氣信號。 此處，藉由使用物體側稜鏡6及包含偏向元件1之光學元件10，而使攝像裝置100之Z方向之厚度薄型化。尤其是，於藉由使用步進馬達等透鏡移動機構7使成像透鏡群8之一部分於Y方向上移動而賦予變焦透鏡功能或聚焦調整功能之攝像裝置中亦可薄型化。如此，於將光學元件10配置於緊鄰固體攝像元件4之前方使用之情形時，如圖2所示，光學元件10較佳為自入射側起依序配置偏向元件1、接著層3、光學濾光片2。 再者，於圖2中，光學元件10係配置為藉由偏向元件1使來自Y方向之入射光向Z方向偏向後出射。於攝像裝置100中，光學元件10亦可配置為以Y方向為旋轉軸旋轉90°，藉此，可構成為使來自Y方向之入射光向X方向偏向後出射。 攝像裝置100之包括物鏡5、物體側稜鏡6及成像透鏡群8之攝像透鏡系統之F數值根據孔徑光闌直徑而變化。而且，該F數值係使用擷取角θ及數值孔徑NA＝sinθ以F＝1/(2×NA)建立關係，根據F數值將來自被攝體之放射光擷取至固體攝像元件4之亮度產生變化。相對於攝像透鏡系統之代表性的F＝1、1.4、2、2.4之最大擷取角θ_m 分別為30°、21.1°、14.5°、10.4°。即，相對於光學元件10之入射面1a中之光軸，-θ_m ～+θ_m 之入射角範圍之光入射至光學元件10。 其次，以下對作為本發明之光學元件中之構成要素的偏向元件、光學濾光片及接著層進行說明。 ＜偏向元件＞ 於圖1中例示了直角稜鏡作為偏向元件1，但作為本發明之光學元件中之偏向元件，只要為使入射之光偏向後出射且具有於與接著層之折射率之關係滿足式(2)之折射率n_P 之元件，則可無特別限制地使用。 作為偏向元件，具體而言，可列舉繞射元件、稜鏡等。作為繞射元件，可列舉剖面形狀呈週期性的鋸形狀之炫耀型反射繞射光柵、體積全像片繞射元件。作為稜鏡，可列舉三角柱稜鏡、將反射面設為非平面之自由曲面稜鏡等。又，炫耀型反射繞射光柵藉由調整光柵材料與炫耀形狀，例如，以特定之繞射角度，發揮作為+1次繞射效率較高之偏向元件之功能。 作為偏向元件，自可穩定地加工高精度之光學反射面之觀點而言，較佳為稜鏡，更佳為三角柱稜鏡。又，於三角柱稜鏡中，亦進而較佳為於YZ面之剖面中，入射面與出射面所成之角度為90°且入射面與反射面所成之角度(例如，於圖3中以α表示)、及反射面與出射面所成之角度(例如，於圖3中以β表示)分別為40～50°之範圍內之三角柱稜鏡，特佳為YZ面之剖面為直角等腰三角形之α＝β＝45°之直角稜鏡。 關於光學元件中之光之入射角及出射角，基於與偏向元件之折射率n_P 之關係進行說明。圖3係表示圖1所示之光學元件10中之光之入射角θ₀ 與出射角θ之關係的模式圖。於圖3中，偏向元件1係YZ面之剖面為直角等腰三角形且於X方向延伸之三角柱稜鏡、即直角稜鏡(以下，將偏向元件1亦稱為直角稜鏡1)。 直角稜鏡1之入射面1a與反射面1b所成之角、及出射面1c與反射面1b所成之角均為45°。再者，於圖3中，為了對三角柱稜鏡一般化地進行說明，而以α表示入射面1a與反射面1b所成之角之角度，以β表示出射面1c與反射面1b所成之角之角度。於以下之直角稜鏡1之說明中，於將該等角度設為α、β進行說明之情形時，可將該說明直接一般化為三角柱稜鏡。 於YZ面內，以入射角θ₀ 入射至折射率n_P 之直角稜鏡1之光之入射面1a的光係於入射面1a折射後以折射角θ'於稜鏡內部傳播，而到達至反射面1b。 於直角稜鏡1中入射面1a與反射面1b所成之角度為α，向反射面1b之入射角成為(α－θ')。再者，根據斯奈爾折射定律，滿足sinθ₀ ＝n_P ×sinθ'之關係。此處，為了使反射面1b之入射光藉由全反射向出射面1c偏向，必須滿足n_P ×sin(α－θ')≧1。即，直角稜鏡1之折射率n_P 必須滿足以下之關係。 [數1]再者，對於收斂或發散光之入射光而全反射光之入射角條件嚴格之設定係於圖3之方向之入射角θ₀ 之條件(θ₀ ＞0)下，根據所使用之攝像透鏡之F數值，以sinθ₀ ＝1/(2F)規定入射光之入射角範圍。 於圖4中表示於α＝45°之直角稜鏡1中，用以使作為最大擷取角之入射角θ_m 之光全反射之折射率n_P 之最低值的曲線圖。於圖4中，顯示只要為較表示入射角θ_m 與折射率n_P 之關係之直線靠上方之區域則能夠全反射。如圖4所示，若θ_m ＝10°(NA＝0.17，F＝2.9)，則n_P ≧1.60，若θ_m ＝15°(NA＝0.26，F＝1.9)，則n_P ≧1.69，若θ_m ＝20°(NA＝0.34，F＝1.5)，則n_P ≧1.79，若θ_m ＝25°(NA＝0.42，F＝1.2)，則n_P ≧1.89。 於直角稜鏡1之反射面1b被全反射之光到達至出射面1c。出射面1c與反射面1b所成之角度為β，向出射面1c之入射角成為(β－α＋θ')。進而，根據斯奈爾折射定律，透過接著層3及光學濾光片2後自光學濾光片2之出射面2b向大氣側出射之光之出射角θ成為sinθ＝n_P ×sin(β－α＋θ')。 再者，於α＝β＝45°之直角稜鏡1中，成為sinθ＝sinθ₀ ，出射角θ與入射角θ₀ 相等。 此處，考慮直角稜鏡1為將入射角θ_m ＝5～30°設為最大入射角之全反射稜鏡(n_P ＝1.50～1.98)。若將以下要說明之接著層3之折射率n_G 設為1.35～1.80之範圍且將光學濾光片2之折射率n_F 設為1.35～2.50之範圍，則於反射面1b被全反射之光不會於直角稜鏡1與接著層3之界面及接著層3與光學濾光片2之界面全反射，而是於各個界面及光學濾光片2與空氣之界面折射之後，向較光學濾光片2靠固體攝像元件側之空氣面出射。 再者，於使用三角柱稜鏡之光學元件中，即便於入射光之入射角θ₀ 之範圍不滿足於稜鏡之反射面全反射之折射率n_P 之關係之情形時，例如，於n_P ＝1.50且入射角θ₀ 大於5°之情形、或n_P ＝1.70且入射角θ₀ 大於16°之情形、或n_P ＝1.90且入射角θ₀ 大於27°之情形時，亦能夠藉由在反射面形成反射層而抑制光損耗。作為反射層，例如，只要使用將Ag或Al等金屬膜、或高折射率之介電膜(以下，稱為「高折射率膜」)與低折射率之介電膜(以下，稱為「低折射率膜」)積層而成之介電多層膜等即可。於在反射面形成有反射層之稜鏡中，與使用在反射面能夠全反射之稜鏡之情形相比，具有可使用低價之稜鏡材料之優點。另一方面，成膜反射層之步驟成為負載，並且反射率不滿足100%，故而於生產性及性能之方面不利。再者，偏向元件1亦包含具備稜鏡與反射層之構成。 偏向元件包含具有於與接著層之折射率之關係滿足式(2)之折射率n_P 的材料。偏向元件中所使用之材料之折射率n_P 雖亦取決於偏向元件之種類，但較佳為1.4～2.5。於偏向元件為稜鏡之情形時，就最大擷取角越大則成為越小之F數值之明亮之攝像透鏡之觀點而言，折射率n_P 較佳為1.70以上，較佳為1.75以上，更佳為1.80以上。 於使用直角稜鏡作為偏向元件之情形時，如上所述，若n_P 為1.55以下且最大入射角θ_m 為8°以上則於反射面具備反射層為宜。再者，即便於具備反射層之情形時，折射率n_P 亦設為稜鏡材料之折射率。為了於直角稜鏡中能夠以最大入射角θ_m 全反射，較佳為θ_m ＝8°且n_P 超過1.55，較佳為θ_m ＝10°且n_P 為1.60以上，較佳為θ_m ＝15°且n_P 為1.69以上，較佳為θ_m ＝20°且n_P 為1.79以上，較佳為θ_m ＝25°且n_P 為1.89以上。就可使與接著層之折射率n_G 之差為0.5以下之觀點及經濟性之觀點而言，n_P 之上限較佳為2.1，更佳為2.0。 作為偏向元件用之材料，可列舉具有上述n_P 之玻璃、樹脂等，較佳為玻璃。作為1.70≦n_P ＜1.80之玻璃，可列舉光玻璃公司製造之J-LASF014(n_P ＝1.7879)、J-LASF016(n_P ＝1.7724)、J-LAK09(n_P ＝1.7339)、J-LAK18(n_P ＝1.7290)、J-LAK10(n_P ＝1.7199)、OHARA公司製造之S-LAH66(n_P ＝1.772)、S-YGH51(n_P ＝1.755)、S-LAL19(n_P ＝1.729)等。 作為1.80≦n_P ＜1.90之玻璃，可列舉光玻璃公司製造之J-LASFH22(n_P ＝1.8483)、J-LASF05(n_P ＝1.8346)、J-LASF09(n_P ＝1.8158)、J-LASF015(n_P ＝1.8038)、OHARA公司製造之S-LAH92(n_P ＝1.892)、S-LAH58(n_P ＝1.883)、S-LAH89(n_P ＝1.851)、S-LAH55VS(n_P ＝1.835)、S-LAH53V(n_P ＝1.806)、S-LAH65VS(n_P ＝1.804)、HOYA公司製造之TAFD30(n_P ＝1.883)、TAFD5F(n_P ＝1.835)、TAFD5G(n_P ＝1.835)、TAF3(n_P ＝1.804)等。 作為1.90≦n_P 之玻璃，可列舉光玻璃公司製造之J-LASFH21(n_P ＝1.9535)、J-LASFH9(n_P ＝1.9024)、OHARA公司製造之S-LAH88(n_P ＝1.916)、HOYA公司製造之TAFD45(n_P ＝1.954)、TAFD35(n_P ＝1.911)、TAFD25(n_P ＝1.904)、TAFD37(n_P ＝1.900)、TAFD55(n_P ＝2.001)、FDS18-W(n_P ＝1.946)、E-FDS1-W(n_P ＝1.923)等。 又，對於偏向元件，除了要求上述折射率n_P 以外，還存在根據接著層及光濾器之種類而要求UV透過性之情形。例如，於以下要說明之接著層包含使用紫外線硬化性材料而獲得之紫外線硬化材料之情形且光學濾光片具有將UV遮斷之功能之情形時，偏向元件具有UV透過性為宜。再者，於本說明書中，於提及偏向元件之光透過性之情形時，指入射之光與入射後偏向而出射之光之關係中之光透過性。 對偏向元件要求透過性之UV之波長雖取決於接著層中所使用之紫外線硬化性材料，但大致為250～400 nm之範圍。紫外線硬化性材料之硬化尤其較佳地使用HgXe放電燈之發光強度較高之i射線(365 nm)附近之波長。若考慮該情況，則於上述情形時，波長340～390 nm之最大透過率較佳為10%以上，更佳為50%以上。偏向元件尤其對於於365 nm之光之透過率較佳為5%以上，更佳為20%以上，進而較佳為50%以上。越為高透過率對UV照射時間之縮短越有利，較佳為70%以上，進而較佳為80%以上。 進而，偏向元件使可見光透過為宜。上述之1.70≦n_P 之玻璃均係UV波長365 nm之內部透過率為10%以上，並且420 nm～700 nm之可見光區域之內部透過率為92%以上，可用作偏向元件用之玻璃材料。 於本實施形態之光學元件中，於使用三角柱稜鏡作為偏向元件之情形時，例如，於圖1、圖3所示之三角柱稜鏡1中，YZ剖面上之3處之角部成為直角或銳角，故而容易成為碎屑或裂縫之原因。因此，較佳為對該等角部進行倒角。 圖5中例示之本實施形態之光學元件中所使用之三角柱稜鏡11係對圖1所示之直角稜鏡1之YZ剖面上之3處之角部實施倒角加工而獲得。 三角柱稜鏡11中，入射面1a與反射面1b交叉之角部具有寬度w1之W1面，反射面1b與出射面1c交叉之角部具有寬度w2之W2面，及入射面1a與出射面1c交叉之角部(頂角＝90°)具有寬度c之C面。W1面、W2面、及C面係倒角部。如此，藉由具有對角部進行倒角加工而獲得之倒角部，可減少碎屑或裂縫之產生。 倒角加工係於可確保三角柱稜鏡11之入射面1a之信號光有效寬度Φin及出射面1c之信號光有效寬度Φout之範圍內進行。 與有無倒角部無關，於本實施形態之光學元件中，與傾斜角偏差相同之透過折射面中之折射光路偏角相比，反射面中之反射光路偏角較大，故而反射面所要求之面精度嚴格，為透過折射面之2～4倍左右。因此，三角柱稜鏡11之反射面1b之平坦性與影響攝像裝置之解像度之波面像差有關，依賴於所使用之稜鏡材料之剛性或光之入射面1a、及出射面1c中之成膜應力或所接合之接著層。 即，存在於三角柱稜鏡11之入射面1a或出射面1c如下所述般成膜抗反射層或反射層之情形，此時產生膜應力。又，於在入射面1a或出射面1c介隔接著層3而將光學濾光片2一體化時，產生伴隨熱膨脹率之差異(於形成接著層時使用熱硬化性材料之情形時)或聚合收縮(於形成接著層時使用熱硬化性材料或光硬化性材料之情形時)之殘量應力。存在如下情形：因該等應力之影響，若倒角寬度w1、w2較窄則無法確保三角柱稜鏡11之反射面1b之端部之平坦性。於將此種使用三角柱稜鏡11之光學元件例如用於如圖2所示之攝像裝置之情形時，有導致攝像透鏡系統之像差劣化從而導致攝像裝置之解像度降低之虞。 就上述觀點而言，倒角部中之倒角寬度w1、w2分別獨立地較佳為0.1 mm以上，更佳為0.2 mm以上。若將倒角寬度w1、w2取較大，則三角柱稜鏡11及使用其之光學元件整體會大型化，故而倒角寬度w1、w2分別獨立地較佳為0.4 mm以下。又，倒角寬度c較佳為0.05～0.2 mm左右。 圖5所示之作為倒角部之W1面、W2面及C面與下述偏向元件之側面相同，較佳為如入射至該面之光不雜散光化之擴散面。又，進而較佳為於該等面具備光吸收遮光膜。 ＜接著層＞ 於光學元件10中，接著層3係設置於偏向元件1與光學濾光片2之間，具有將兩者接著而一體化之功能。接著層3只要為對於應透過光學元件10之特定波長之光、例如對於固體攝像元件作為信號光接收之波長區域之光為透明，且具有於與光學濾光片2之折射率之關係滿足式(1)且於與偏向元件1之折射率之關係滿足式(2)之折射率n_G 的接著層，則可無特別限制地使用。 接著層之構成材料較佳為包含熱硬化材料或光硬化材料。作為光硬化材料，較佳為紫外線硬化材料。包含熱硬化材料或光硬化材料之接著層之形成時可使用藉由利用加熱或紫外線等光照射進行聚合固化、換言之硬化而使接著層固定之熱硬化性材料或光硬化性材料。與熱硬化性材料相比，光硬化性材料之聚合固化以短時間即可完成，生產性較高。進而，光硬化性材料由於在硬化時構成光學元件之其他構件不易受到熱之影響，故而於包含耐熱性較低之構件之情形時有利。 作為光硬化性材料，較佳為紫外線硬化性材料，於使用紫外線硬化性材料之情形時，較佳為添加光聚合起始劑。對於紫外線硬化性材料之光照射波長或聚合感度依賴於紫外線硬化性材料之種類或光聚合起始劑之種類。於使用紫外線硬化性材料之情形時，作為照射光，使用250～400 nm之波長區域之光，大多使用HgXe放電燈之發光強度較高之i射線(365 nm)附近之光。 作為熱硬化性材料，例如，能夠使用EPO-TEK公司之環氧系樹脂、＃301、＃301-2、＃310M-1等。作為光硬化性材料，例如，作為紫外線硬化性材料，能夠使用Norland-Products公司之巰基酯系樹脂、NOA60系列或NTT-AT公司之環氧系樹脂、AT3925M、3727E、丙烯酸酯系樹脂、＃18165、＃6205等。 接著層3係包含藉光及/或熱而硬化之硬化性材料硬化而成之硬化材料的層。接著層3亦可根據需要於不損及本發明之效果之範圍內，包含硬化材料以外之包括非硬化材料之各種添加劑，例如UV吸收劑、NIR吸收劑等吸收劑、聚合起始劑或聚合抑制劑。 接著層3之折射率n_G 係於與光學濾光片2之折射率之關係滿足式(1)且於與偏向元件1之折射率之關係滿足式(2)之折射率n_G 。接著層3之折射率n_G 取決於組合之偏向元件1及光學濾光片2，但具體而言，較佳為1.35～1.80，更佳為1.45～1.65。若n_G 為1.35以上，則於光學濾光片2中所包含之最厚構件中可使用低價且種類豐富之折射率n_F 之材料，就該方面而言較佳，若為1.80以下，則可抑制與折射率n_P 及折射率n_F 之折射率差，故而各界面之菲涅耳反射較小，就該方面而言較佳。 接著層3對於應透過光學元件10之特定波長之光為透明。雖取決於使用光學元件之光學裝置，但一般而言至少對於可見光顯示高透過性為宜。又，就透明性、接著強度、生產性等觀點而言，接著層3之厚度較佳為1～20 μm，更佳為2～10 μm。 再者，於使用紫外線硬化性材料作為將偏向元件1與光學濾光片2接合之接著層3之情形時，根據以下製造上之理由，偏向元件1或光學濾光片2必須為使UV透過之材料。例如，於製造圖1之光學元件10之情形時，首先，製作光學元件10中之接著層3為包含接著層形成用組合物之層的光學元件前驅物，該接著層形成用組合物包含用以獲得接著層3之紫外線硬化性材料。繼而，藉由自該光學元件前驅物之偏向元件1側或光學濾光片2側照射UV而使包含接著層形成用組合物之層中之紫外線硬化性材料硬化，從而製成接著層3。 再者，於對本發明之光學元件要求UV遮斷性之情形時，進行於偏向元件1形成UV反射層，於光學濾光片2形成含有UV吸收劑之層或UV反射層等。於此種光學元件中，於使用紫外線硬化性材料形成接著層之情形時，以接著層能夠接收自光學元件之偏向元件側入射之UV、或能夠接收自光學元件之光學濾光片側入射之UV之方式構成光學元件。 若對於使紫外線硬化性材料硬化而言充分之量之UV到達至接著層，則亦可於接著層之偏向元件側及光學濾光片側之兩者存在具有UV遮斷性之構件，但較佳為於其中一者之側不存在具有UV遮斷性之構件，較佳為充分之量之UV可自偏向元件側到達至接著層之構成。偏向元件或光學濾光片之UV透過率可應用關於上述偏向元件所說明之值。 ＜光學濾光片＞ 作為本發明之光學元件中之光學濾光片，只要為將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷之光學濾光片，且光學濾光片中所包含之最厚構件之折射率n_F 於與接著層之折射率n_G 之關係滿足式(1)，則可無特別限制地使用。 作為光學濾光片，例如，可列舉將(i)UV、及(ii)自可見光區域至近紅外區域之至少一部分區域之光之兩者選擇性地遮斷的光學濾光片。於將該光學濾光片與包含紫外線硬化材料之接著層組合之情形時，如上所述，偏向元件較佳為具有UV透過性，具體而言，較佳為波長340～390 nm之最大透過率為10%以上。 作為此種光學濾光片，具體而言，可列舉將(i)UV及(ii-1)NIR遮斷且使可見光透過之NIR截止濾光片、或將(i)UV及(ii-2)可見光遮斷且使NIR透過之NIR透過濾光片。又，亦可列舉將(i)UV及(ii-3)近紅外區域中之第1區域之光遮斷且使可見光與近紅外區域中之處於較第1區域靠長波長側之第2區域之光透過的頻帶透過濾光片。 作為該等光學濾光片所具有之(i)UV之遮斷性，例如，較佳為將波長300～400 nm之UV之平均透過率設為10%以下之遮斷性，更佳為2%以下。 作為上述NIR截止濾光片所具有之(ii-1)NIR之遮斷性，例如，較佳為波長700～1100 nm之NIR之平均透過率為5%以下之遮斷性，更佳為2%以下。作為NIR截止濾光片中之可見光透過性，例如，較佳為波長440～620 nm之可見光之平均透過率為80%以上，更佳為90%以上。 作為上述NIR透過濾光片所具有之(ii-2)可見光之遮斷性，例如，較佳為波長400～730 nm之可見光之平均透過率為5%以下之遮斷性，更佳為2%以下。作為NIR透過濾光片中之NIR透過性，例如，於NIR波長800～1000 nm之間具有透過率為80%以上之連續之40 nm以上之波長區域為宜，較佳為具有80 nm以上之波長區域。 作為上述頻帶透過濾光片所具有之將(ii-3)近紅外區域中之第1區域之光遮斷之遮斷性，例如，於NIR波長700～1100 nm中，將處於較第1區域靠長波長側之第2區域之連續之透過波長頻帶除外的第1區域之NIR之平均透過率較佳為5%以下，更佳為2%以下。作為頻帶透過濾光片中之處於較第1區域靠長波長側之第2區域之NIR之透過性，例如，於NIR波長800～1000 nm之間具有透過率為80%以上之連續之40 nm以上且80 nm以下之波長區域為宜，較佳為具有40 nm以上且60 nm以下之波長區域。作為頻帶透過濾光片中之可見光透過性，較佳為與(ii-1)相同之可見光透過性。 作為具有上述光之選擇遮斷性之光學濾光片之具體性構成的圖6A～圖6C係分別表示本實施形態之光學元件中所使用之光學濾光片2A、2B及2C之YZ剖視圖。光學濾光片2A、2B及2C例如可代替圖1所示之光學元件10之光學濾光片2而使用。於光學濾光片2A、2B及2C中，左邊表示與接著層3相接之入射面2a，右邊表示與大氣相接之出射面2b。 圖6A所示之光學濾光片2A僅由吸收型基板21構成。吸收型基板21之形狀係具有相互對向之一對主面之平行平板形狀，光之遮斷係藉由吸收而進行。於光學濾光片2A中，光學濾光片中所包含之最厚構件係吸收型基板21，光學濾光片2A之折射率n_F 為吸收型基板21之折射率。 作為吸收型基板21，可列舉吸收型之玻璃基板或含有樹脂及吸收色素之樹脂基板(以下，稱為「吸收型樹脂基板」)等。吸收型基板21之厚度雖取決於構成，但較佳為20 μm以上。於吸收型之玻璃基板之情形時，厚度較佳為50～500 μm，於吸收型樹脂基板之情形時，厚度較佳為20～200 μm。 吸收型之玻璃基板係將吸收型之玻璃成形為平行平板形狀而獲得。作為吸收型之玻璃，可列舉含有CuO之氟磷酸鹽系玻璃、含有CuO之磷酸鹽系玻璃等。以下，將含有CuO之氟磷酸鹽系玻璃及含有CuO之磷酸鹽系玻璃總稱為「含有CuO之玻璃」。 含有CuO之玻璃典型而言具有吸收波長700～1100 nm之NIR之能力。於含有CuO之玻璃中，藉由調節CuO含量及厚度，可調整近紅外區域中之吸收能力。 又，例如，含有Fe₂ O₃ 、MoO₃ 、WO₃ 、CeO₂ 、Sb₂ O₃ 、V₂ O₅ 等之1種或2種以上之含有CuO之玻璃於紫外線區域之短波長側、例如波長300 nm以下具有吸收特性。作為吸收型之玻璃基板之折射率，作為含有CuO之玻璃之折射率，較佳為1.40～1.75，較佳為1.45～1.60。 吸收型樹脂基板係使吸收色素均勻地溶解或分散於樹脂中而成之基板。樹脂係用以形成平行平板形狀之基質成分，較佳為透明樹脂。作為吸收色素，可使用將光學濾光片2所要求之遮斷波長之光選擇性地吸收之色素。具體而言，可列舉將紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地吸收之色素，可組合使用將與上述(i)對應之波長區域之光選擇性地吸收之UV吸收色素以及將與上述(ii-1)、(ii-2)、(ii-3)分別對應之波長區域之光選擇性地吸收之吸收色素中之任一者。 於吸收型樹脂基板中，藉由吸收色素之選定及濃度或板厚之調整，可調整吸收波段及吸光特性。吸收型樹脂基板之折射率取決於作為基質成分之樹脂之折射率。作為吸收型樹脂基板之折射率，較佳為1.35～1.75，較佳為1.45～1.60。 圖6B所示之光學濾光片2B包含具有相互對向之一對主面之平行平板形狀之基板21B、及形成於基板21B之一主面上之吸收層22。於光學濾光片2B中，基板21B之不與吸收層22相接之主面係與接著層3相接之入射面2a，吸收層22之不與基板21B相接之主面係與大氣相接之出射面2b。 即，於光學濾光片2B中，吸收層22形成於基板21B之與接著層3側為相反側之主面上。作為光學元件10中所使用之光學濾光片2，亦可為於基板21B之接著層3側具有吸收層22之構成。但是，就越為接近固體攝像元件之受光面之層則其反射光越容易成為影響畫質劣化之雜散光之觀點而言，較佳為吸收層22形成於基板21B之與接著層3側為相反側之主面上之光學濾光片2B。 基板21B既可為與光學濾光片2A中之吸收型基板21相同之吸收型之基板，亦可為於紫外線區域至近紅外區域不具有吸收之透明基板。作為透明基板，可列舉包含對透明玻璃或水晶、鈮酸鋰、藍寶石等結晶、鈉鈣玻璃等實施化學強化而成之化學強化玻璃、結晶化玻璃、或透明樹脂之基板等，其等之厚度可分別與上述吸收型之玻璃基板、吸收型樹脂基板相同。再者，吸收層22之厚度如以下所述般為1～50 μm左右，由於較基板21B薄，故而於光學濾光片2B中，光學濾光片中所包含之最厚構件為基板21B。光學濾光片2B之折射率n_F 為基板21B之折射率。 基板21B之折射率係於基板21B為玻璃之情形時，與吸收型基板21為吸收型之玻璃基板之情形時相同，較佳為1.40～1.75，較佳為1.45～1.60。於基板21B為透明樹脂基板或吸收型樹脂基板之情形時，與吸收型基板21為吸收型樹脂基板之情形時相同，較佳為1.35～1.75，較佳為1.45～1.60。 吸收層22係使吸收色素均勻地溶解或分散於樹脂中而成之層。樹脂及吸收色素可與吸收型樹脂基板相同。吸收層22由於可藉由例如濕式塗佈等方法形成於基板21B上，故而可薄膜化，相對於此，吸收型樹脂基板其本身維持形狀，故而具有相應之厚度，該方面不同。吸收層22之厚度較基板21B薄，較佳為1～50 μm，更佳為2～20 μm。 吸收層22中所使用之樹脂較佳為透明樹脂。作為吸收色素，可列舉於將含有其之吸收層22與基板21B組合而製成光學濾光片2B時，可將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地吸收之色素。 具體而言，可列舉將與上述(i)對應之波長區域之光選擇性地吸收之UV吸收色素、將與上述(ii-1)、(ii-2)、(ii-3)分別對應之波長區域之光選擇性地吸收之吸收色素等。作為吸收色素，於將吸收層22與基板21B組合而製成光學濾光片2B時，將可表示上述NIR截止濾光片、NIR透過濾光片或頻帶透過濾光片所具有之吸收透過特性之吸收色素單獨地使用或將2種以上組合使用。再者，於使用2種以上之吸收色素之情形時，亦可將包含不同吸收色素之複數個吸收層依序形成於基板21B上而製成積層型之吸收層22。 圖6C所示之光學濾光片2C包含具有相互對向之一對主面之平行平板形狀之基板21C、形成於基板21C之一主面上之吸收層22及形成於另一主面上之反射層23。於光學濾光片2C中，反射層23之不與基板21C相接之主面係與接著層3相接之入射面2a，吸收層22之不與基板21C相接之主面係與大氣相接之出射面2b。 即，於光學濾光片2C中，反射層23形成於基板21C之接著層3側之主面上，吸收層22形成於其相反側之主面上。作為光學元件10中所使用之光學濾光片2，亦可為於基板21C之接著層3側具有吸收層22且於其相反側具有反射層23之構成。進而，光學濾光片2亦可為於基板21C之接著層3側之主面上或其相反側之主面上依序積層吸收層22與反射層23而成之構成。但是，就越為接近固體攝像元件之受光面之層則其反射光越容易成為影響畫質劣化之雜散光之觀點而言，較佳為於基板21C之接著層3側具有反射層23且於其相反側具有吸收層22之光學濾光片2C。 基板21C可與光學濾光片2B中之基板21B相同。吸收層22係除了於製成光學濾光片2C時，以與基板21C之吸收特性及反射層23之反射特性組合而獲得光學濾光片2所要求之遮斷特性之方式，適當選擇所使用之吸收色素以外，可與光學濾光片2B中之吸收層22相同。再者，反射層23之厚度如以下所述般為1～10 μm左右，故而於光學濾光片2C中，光學濾光片中所包含之最厚構件為基板21C。光學濾光片2C之折射率n_F 為基板21C之折射率。 反射層23係具有將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地反射之反射波段的層。反射層23較佳為藉由與基板21C及吸收層22互補地發揮功能，而具有表示上述NIR截止濾光片、NIR透過濾光片或頻帶透過濾光片所具有之吸收透過特性之反射特性。 反射層23特佳為具有將紫外線區域之光之一部分遮斷之反射特性。於該情形時，具有將波長350～400 nm之平均透過率設為10%以下之UV遮斷性為宜，較佳為2%以下。 反射層23較佳為由將低折射率膜與高折射率膜交替地積層而成之介電多層膜構成。介電多層膜亦可為根據需要亦包含金屬膜之構成。 介電多層膜可根據所要求之光學特性，使用先前公知之方法設計其具體之層數或膜厚、以及所使用之高折射率材料及低折射率材料之折射率而製造。於反射層23為介電多層膜之情形時，總膜厚較佳為1～10 μm，更佳為2～6 μm。 再者，關於光學濾光片2A、2B及2C之構成中所包含之吸收型之玻璃基板、吸收型樹脂基板、透明基板、吸收層、反射層等各種構件及其構成材料，例如例示於WO2016/114362A中。 以上，使用圖6A～圖6C對光學濾光片2之例進行了說明，但光學濾光片2並不限定於光學濾光片2A、2B及2C之構成，能夠根據本發明之主旨適當變更其等之構成。例如，光學濾光片2亦可為包含基板21B及形成於其主面之任一者或兩者之反射層23者。又，於包含基板21B與吸收層22之光學濾光片2中，亦可為於基板21B之兩個主面形成有吸收層22者。 ＜折射率n_P 、折射率n_G 及折射率n_F 之關係＞ 對本發明之光學元件中之偏向元件、接著層、光學濾光片之折射率之關係、即折射率n_P 、折射率n_G 及折射率n_F 之關係進行說明。關於在不同之折射率n1與n2之光學界面中產生之反射光之反射率R[%]，根據菲涅耳反射定律，於入射角為30°以下之情形時，可利用下式近似。 R＝｜n1－n2｜² /(n1＋n2)² 即，若設為Δn＝｜n1－n2｜，則成為R＝Δn² /(n1＋n2)² ，若Δn＞0.3則R＞0.09/(n1＋n2)² ，若Δn＞0.2，則R＞0.04/(n1＋n2)² ，若Δn＞0.1則R＞0.01/(n1＋n2)² 。 於本發明之光學元件中規定之式(1)表示折射率n_G 與折射率n_F 之關係，式(2)表示折射率n_P 與折射率n_G 之關係。可將折射率n_G 與折射率n_F 替換為n1與n2，可將折射率n_P 與折射率n_G 替換為n1與n2。 就於波長350～1100 nm之範圍內具有透過波長區域之實在之光學材料之觀點而言，於本發明之光學元件中n_G ＋n_F 及n_P ＋n_G 要求為2.6以上。於圖7中表示將其適用於n1＋n2而計算反射率R[%]所得之結果。圖7係表示不同之折射率(n1，n2)之光學界面中之折射率和(n1＋n2)與反射率R[%]之關係的曲線圖。 根據圖7，可知於(n1＋n2)≧2.6之情形時，若Δn＝0.5則R≦3.70%，若Δn＝0.4則R≦2.37%，若Δn＝0.3則R≦1.33%，若Δn＝0.2則R≦0.59%，若Δn＝0.1則R≦0.15%。 藉由滿足式(1)、即Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5，可使於接著層與光學濾光片之界面中產生之菲涅耳反射光之反射率為3.70%以下。同樣地，藉由滿足式(2)、即Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5，可使於偏向元件與接著層之界面中產生之菲涅耳反射光之反射率為3.70%以下。 即，於折射率n1＝1.5以上之光學材料與折射率n2＝1.0之空氣之界面中產生之反射光之反射率為4%以上，但藉由使用相對於偏向元件與光學濾光片之折射率n_P 及n_F 滿足式(1)及式(2)之關係之折射率n_G 之接著層，可使各界面之反射率為3.7%以下。 就將菲涅耳反射光之反射率抑制得較低之觀點而言，Δn_GF 及Δn_PG 較佳為0.3以下，更佳為0.2以下，特佳為0.1以下。再者，於Δn_GF 為0.2～0.5且界面之反射率為1%以上之情形時，為了減少菲涅耳反射，亦可於接著層與光學濾光片之界面形成抗反射層。於Δn_PG 為0.2～0.5之情形時，同樣地亦可於偏向元件與接著層之界面形成抗反射層。再者，抗反射層由於難以形成於接著層上，故而形成於光學濾光片之與接著層相接之面或偏向元件之與接著層相接之面為宜。 上述反射率R之關係式為垂直入射之情形，但只要入射角為30°以下則與垂直入射之反射率之差異微小。 ＜抗反射層＞ 如上所述，本發明之光學元件亦可於式(1)及式(2)之折射率關係之下，於偏向元件與接著層之界面、接著層與光學濾光片之界面具有抗反射層。進而，光學元件亦可於與大氣相接之面具有抗反射層。抗反射層係於其等之中，既可設置於1個部位，亦可設置於2個部位，還可設置於所有部位。尤其，較佳為於該等界面中產生之反射光之反射率為1%以上之情形時形成抗反射層而將反射率降低至0.5%以下。 圖8係於本實施形態之光學元件中進而具有抗反射層之光學元件之一例。圖8所示之光學元件10A係如下構成：於圖1所示之光學元件10中，除了具有偏向元件1、接著層3、光學濾光片2以外，還於偏向元件1之與空氣之界面即入射面1a具有抗反射層12a，於偏向元件1之與接著層3相接之界面即出射面1c具有抗反射層12b，於光學濾光片2之與接著層3相接之界面即入射面2a具有抗反射層13a，及於光學濾光片2之與空氣之界面即出射面2b具有抗反射層13b。 作為抗反射層12a，可使用考慮光之入射角之範圍，根據偏向元件1之折射率n_P 而設計之包含將低折射率膜與高折射率膜交替地積層而成之介電多層膜的抗反射層。 抗反射層12b係根據Δn_PG 之值而設置。例如，於Δn_PG 為0.1以下之情形時，如圖7所示，由於反射率R≦0.15%，故而亦可不設置抗反射層12b。同樣地，於Δn_PG ＝0.2～0.5之範圍，根據折射率值成為R≧0.59%，故而設置抗反射層12b為宜。作為抗反射層12b，藉由使用包含折射率n_c 且膜厚d_c 之單層介電膜之抗反射層、具體而言為滿足以下2個式子之抗反射層，可降低偏向元件1與接著層3之界面中之反射率R。 [數2]此處，λ_c 係來自光學元件10A之出射光所要求之光之中心波長，例如，相當於圖2所示之攝像裝置100中利用固體攝像元件4檢測之入射信號光之中心波長，使用最短波長λ_S 與最長波長λ_L ，規定為λ_c ＝2×λ_S ×λ_L /(λ_S ＋λ_L )。 即，若將抗反射層12b之折射率n_c 調整為1.6～1.9之範圍，根據波長λ_c 設為膜厚d_c ＝λ_c /(4×n_c )，則於波長λ_c 時成為R＝0%。又，若入射角θ₀ ≦30°，則抗反射層12b之反射率R之入射角依賴性微小。為了對廣泛之波長範圍之入射光降低反射率，只要將抗反射層12b與抗反射層12a相同地設為介電多層膜即可。 抗反射層13a係與抗反射層12b根據Δn_PG 之值而設置相同地，根據Δn_GF 之值而設置。例如於Δn_GF 為0.1以下之情形時，亦可不設置抗反射層13a，於Δn_PG ＝0.2～0.5之範圍，根據折射率值成為R≧1.0%，故而設置抗反射層13a為宜。於該情形時，作為抗反射層13a，與抗反射層12b相同地，可使用包含折射率n_c 且膜厚d_c 之單層介電膜之抗反射層或包含以降低反射率R之方式設計之介電多層膜之抗反射層。 抗反射層13b係為了減少光學濾光片2與空氣之界面之反射而形成。作為抗反射層13b，與抗反射層12a相同地，只要使用將低折射率膜與高折射率膜交替地積層而成之介電多層膜即可。於圖8所示之光學元件10A中，光學濾光片2例如可為圖6A～圖6C所示之光學濾光片2A、2B或2C。於光學濾光片2A之情形時，可使用包含根據吸收型基板21之折射率n_F 而設計之介電多層膜之抗反射層，作為抗反射層13b。又，於光學濾光片2B、2C之情形時，可使用包含根據吸收層22之折射率而設計之介電多層膜之抗反射層，作為抗反射層13b。 ＜反射層＞ 於本發明之光學元件中，光學濾光片具有將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷之功能。如上所述，光學濾光片具有例如將(i)UV及(ii-1)NIR、(ii-2)可見光或(ii-3)近紅外區域中之第1區域之光選擇性地遮斷之功能。於本發明之光學元件中，亦可為將該等遮斷性能之一部分由光學濾光片以外分擔之構成。 具體而言，亦可將反射選自上述(i)、(ii-1)、(ii-2)、(ii-3)之波長區域之光的反射層代替抗反射層12a或抗反射層12b而設置於例如圖8所示之光學元件10A中之偏向元件1之入射面1a上或出射面1c上。於該情形時，光學濾光片2亦可成為不具有設置於偏向元件1上之反射層所具有之光之遮斷性之構成。如此一來，作為光學元件整體，設為具有特定區域之光之透過、遮斷性能之設計。 ＜遮光膜＞ 本發明之光學元件例如於用於攝像裝置時，產生減少由來自攝像裝置所具有之各種光學構件或其保持構件等之散射或反射所致之雜散光的必要性。而且，為了減少該雜散光等，進而具備將自入射側入射至光學元件之光局部地遮斷之第1遮光膜及/或將自側面入射至光學元件之光遮斷之第2遮光膜為宜。 再者，所謂「遮光膜」係指將入射光中之至少可見光遮斷之膜。遮光膜較佳為將自紫外線區域至近紅外區域之所有波長之光遮斷。具體而言，遮光膜係只要波長350～1000 nm之光之透過率為10%以下即可，若為2%以下則較佳。 例如，於圖2所示之攝像裝置100中，根據攝像透鏡系統(物鏡5、物體側稜鏡6及成像透鏡群8)之F數值而規定之-θ₀ ～+θ₀ 之入射角範圍之光入射至光學元件10且偏向，並且對固體攝像元件4而言不需要之光被遮斷後出射，作為信號光到達至固體攝像元件4之受光面41。此處，若於攝像透鏡系統之各光學構件表面產生之反射光或於透鏡固持器等殼體(未圖示)壁面散射之光成為雜散光而入射至光學元件10，則成為畫質劣化之原因。 為了將此種於固體攝像元件4中使用之信號光以外之雜散光於入射至固體攝像元件4之受光面41之前遮斷，攝像裝置100於與受光面41對應之開口部以外之區域具有遮光膜為宜。該遮光膜係若於攝像裝置100中形成於接近固體攝像元件4之受光面41之側之光學元件10，則對去除雜散光有效。 光學元件10具有將來自光學元件10之入射側之光局部地遮斷之第1遮光膜為宜。又，光學元件10較佳為具有將自側面入射至光學元件10之光遮斷之第2遮光膜。光學元件10亦可具有第1遮光膜與第2遮光膜之兩者。 於圖9A、9B、圖10、圖11、圖12中分別表示於本發明之光學元件中具有遮光膜之光學元件10B、10C、10D、10E之剖視圖、俯視圖、或立體圖。圖9A、9B、圖10、圖11所示之光學元件10B、10C、10D係具有將自光學元件之入射側入射之光局部地遮斷之作為第1遮光膜之遮光膜15的光學元件之例。圖12所示之光學元件10E係具有將自光學元件之側面入射之光遮斷之作為第2遮光膜之遮光膜15B的光學元件之例。 圖9A表示於圖1所示之光學元件10中於光學濾光片2之與空氣之界面形成有遮光膜15之光學元件10B，圖9B表示自遮光膜15側觀察到之光學元件10B。於光學元件10B中，偏向元件1、接著層3、及光學濾光片2可與光學元件10相同。 於光學元件10B中，遮光膜15之形狀具有於主面之形狀中外周與光學濾光片2之出射面2b之外周一致之邊框狀之形狀。藉由將遮光膜15設為此種邊框形狀，例如，於將光學元件10B代替光學元件10而配置於圖2所示之攝像裝置100時，能以不將入射至固體攝像元件4之受光面41之信號光遮斷之方式中心部確保矩形形狀之信號光出射區域，而僅遮斷周緣部之入射光。 作為遮光膜15，例如，可例示將Cr等金屬膜與防止金屬膜之表面反射之CrOx等抗反射層積層而成之構成、或含有表現遮光性之光吸收劑及樹脂之樹脂遮光膜等。作為光吸收劑，可列舉碳黑、鈦黑等無機或有機著色劑。樹脂係用以形成遮光膜之基質成分。樹脂遮光膜例如係使用光吸收劑與光硬化性材料(樹脂)，藉由印刷法或光微影法以成為上述形狀之方式形成於光學濾光片2之出射面2b上。 再者，樹脂遮光膜中之光吸收劑、光硬化材料(樹脂)、進而含有其等之遮光膜之形成方法例如例示於WO2014/021245A。 關於遮光膜15之厚度，於積層有抗反射層之構成之情形時，較佳為大致50～500 nm，於樹脂遮光膜之情形時，較佳為大致0.1～400 μm。更佳為0.2～100 μm，進一步較佳為0.5～10 μm。 圖10所示之光學元件10C係於圖9A、9B所示之光學元件10B中，將遮光膜15設置於光學濾光片2之入射面2a上而非光學濾光片2之出射面2b上之例。又，圖11所示之光學元件10D係於圖9A、9B所示之光學元件10B中，將遮光膜15設置於偏向元件1之入射面1a上而非光學濾光片2之出射面2b上之例。 光學元件10C及光學元件10D所具有之遮光膜15係與光學元件10B所具有之遮光膜15除了配設位置不同以外可相同。光學元件10B、10C、10D分別係於光學濾光片2之出射面2b上、光學濾光片2之入射面2a上、偏向元件1之入射面1a上之各1個面具有遮光膜15之例，但為了進一步提高雜散光之遮光性，亦可形成於該等之2個面(1a＋2a、1a＋2b、2a＋2b)或3個面(1a＋2a＋2b)。 圖12所示之光學元件10E係於圖1所示之光學元件10中遍及光學元件之側面中偏向元件1之兩側面之整個區域具有遮光膜15B之例。 圖1所示之光學元件10中之偏向元件1係三角柱稜鏡，且與光之入射出射面1a、1c正交之側面1d及1e之面積較大。因此，有入射至稜鏡內之雜散光到達至側面時反射並透過光之出射面1c之後自光學元件10出射之虞。於該情形時，例如，於圖2所示之攝像裝置100中，自光學元件10出射之雜散光到達至固體攝像元件4之受光面41之比率較高。尤其，於高折射率之三角柱稜鏡之情形時，入射至側面1d或1e之光全反射，而到達至受光面41之雜散光增加。 因此，藉由如光學元件10E般遍及偏向元件1之兩側面1d、1e之整個區域形成遮光膜15B，可使來自側面1d及1e之反射光本身充分地降低，例如，使正反射率降低為5%以下，從而可將自光學元件10出射之雜散光抑制為較低之級別。遮光膜15B係除了形狀以外之構成、例如層構成、構成材料、形成方法可與光學元件10B所具有之遮光膜15相同。再者，於形成遮光膜15B時，若於將側面1d及1e製成表面不平坦之擴散面之後形成遮光膜15B，則實質上之雜散光進一步減少，故而較佳。 作為將側面1d及1e設為擴散面之方法，可列舉如下方法：於將偏向元件1加工成三角柱稜鏡形狀時，使用如側面1d及1e成為粗面之切削刀進行切削，或者於切削後對側面1d及1e進行研磨面研磨，而製成相當於＃1000以下之番定之擴散面。 再者，於光學元件10中，僅藉由將偏向元件1之側面1d及1e設為擴散面，亦能夠將自光學元件之出射面出射之雜散光在某種程度上減少。即，藉由將偏向元件1之側面1d及1e設為擴散面，而抑制於光學平坦面產生之全反射光之產生(增加向空氣側之透過光)，並且藉由使入射光呈廣角擴散，例如，可減少作為亮點入射至固體攝像元件4之受光面41之雜散光之光量。於本發明之光學元件中，如上所述，關於偏向元件1之側面1d及1e，較佳為於製成擴散面之後形成遮光膜15B。 ＜光學元件之變化例＞ 於以上所說明之本實施形態之光學元件中，均為偏向元件1之出射面1c與光學濾光片2之入射出射面2a、2b之大小(外緣)大致相同。於本發明之光學元件中，例如，偏向元件為稜鏡，且(I)可為於稜鏡與光學濾光片對向之各面中，稜鏡之外緣處於較光學濾光片之外緣更靠內側之構成，(II)亦可為於稜鏡與光學濾光片對向之各面中，稜鏡之外緣處於較光學濾光片之外緣更靠外側之構成。 圖13A表示於圖9A、9B所示之光學元件10B中，除了為上述(I)之構成以外與光學元件10B相同之光學元件10F。圖13B係自遮光膜15側觀察光學元件10F之圖。 光學元件10F係偏向元件1之出射面1c之外緣處於較光學濾光片2之入射出射面2a、2b之外緣更靠內側。於圖13A、13B中，以L_p 表示偏向元件1之出射面1c之Y方向之長度，以W_p 表示X方向之長度，以L_F 表示光學濾光片2之入射出射面2a、2b之Y方向之長度，以W_F 表示X方向之長度，且示出L_F ＞L_P 且W_F ＞W_P 。 於光學元件10F中，藉由上述(I)之構成，於能以確實地包含至偏向元件1之外周之方式形成遮光膜15，從而可確實地減少雜散光之方面有利。 圖14A表示於圖9A、9B所示之光學元件10B中，除了為上述(II)之構成以外與光學元件10B相同之光學元件10G。圖14B係自遮光膜15側觀察光學元件10G之圖。 光學元件10G係偏向元件1之出射面1c之外緣處於較光學濾光片2之入射出射面2a、2b之外緣更靠外側。於圖14A、14B中，以L_p 表示偏向元件1之出射面1c之Y方向之長度，以W_p 表示X方向之長度，以L_F 表示光學濾光片2之入射出射面2a、2b之Y方向之長度，以W_F 表示X方向之長度，且示出L_F ＜L_P 且W_F ＜W_P 。 於光學元件10G中，藉由上述(II)之構成，於與光學元件之出射側之外緣與偏向元件1之外緣一致且與光學濾光片2之外緣一致之情形相比可提高光學元件之尺寸精度之方面有利。 以上，使用光學元件10、10A～10G對本發明之光學元件之實施形態進行了說明，但本發明之光學元件並不限定於上述實施形態。可於不脫離本發明之主旨及範圍之情況下對該等實施形態進行變更或變化。 [製造方法] 本發明之製造方法具體而言具有以下之(A)步驟及(B)步驟。 (A)於偏向元件與光學濾光片之間製作光學元件前驅物之步驟，該光學元件前驅物具有包含紫外線硬化性材料之接著層形成用組合物層(此處，光學元件前驅物係於欲製造之光學元件之接著層之配設位置具有包含紫外線硬化性材料之接著層形成用組合物層代替接著層之構成) (B)自於製成光學元件之情形時成為入射側之側或於製成光學元件之情形時成為出射側之側對光學元件前驅物照射紫外線區域之光使接著層形成用組合物層硬化而製成接著層之步驟 以下，關於本發明之製造方法之各步驟，以製造圖1所示之光學元件10之方法為例進行說明。 (A)步驟 (A)步驟係製作具有偏向元件1、位於偏向元件1之出射側之光學濾光片2、及位於偏向元件1與光學濾光片2之間、且藉由以下之(B)步驟而硬化後成為將偏向元件1與光學濾光片2一體化之接著層3之接著層形成用組合物層的光學元件10之前驅物的步驟。 構成接著層形成用組合物層之接著層形成用組合物含有紫外線硬化性材料。紫外線硬化性材料如上所述。接著層形成用組合物較佳為含有上述光聚合起始劑，且根據需要含有各種添加劑。又，為了防止於儲藏中因光、熱、空氣等導致硬化性材料聚合固化，亦可將聚合抑制劑混入使用。接著層形成用組合物亦可進而為了確保良好之塗佈性而含有溶劑。溶劑係於光學元件之製造過程中藉由乾燥等自接著層形成用組合物層去除之成分。 於光學元件10之前驅物製作中，準備含有上述各成分之接著層形成用組合物，於偏向元件1之出射面1c上，以硬化後之膜厚成為所期望之厚度之方式，均勻地塗佈該接著層形成用組合物，而獲得附有接著層形成用組合物層之偏向元件1。繼而，於該接著層形成用組合物層上，以光學濾光片2之入射面2a與其相接之方式積層光學濾光片2。再者，於所使用之接著層形成用組合物含有溶劑之情形時，於積層光學濾光片2之前將溶劑乾燥去除。 於上述中，塗佈接著層形成用組合物之面亦可為光學濾光片2之入射面2a。於該情形時，於形成於光學濾光片2之入射面2a上之接著層形成用組合物層上以偏向元件1之出射面1c與其相接之方式，積層偏向元件1。與上述同樣地，於所使用之接著層形成用組合物含有溶劑之情形時，於積層偏向元件1之前將溶劑乾燥去除。如此一來，製作於光學元件10中具有接著層形成用組合物層來代替接著層3之光學元件10之前驅物。 (B)步驟 關於(A)步驟中所獲得之光學元件10之前驅物，根據接著層形成用組合物所含有之紫外線硬化性材料之硬化條件，對接著層形成用組合物層照射UV。藉此，紫外線硬化性材料硬化，而獲得具有包含紫外線硬化材料之接著層3之光學元件10。 作為對接著層形成用組合物層照射UV之方法，可列舉對光學元件10之前驅物，自偏向元件1之入射面1a側照射UV、或自光學濾光片2之出射面2b側照射UV之方法。於偏向元件1之反射面1b為全反射面且未形成將向偏向元件1之內部之UV入射遮斷之反射材料之情形時，亦可自反射面1b側照射UV。 再者，於在偏向元件1形成有UV反射層之情形、或光學濾光片2具有具備將UV遮斷之功能之吸收層或反射層之情形時，若自用於光聚合硬化之UV之透過率較高之側照射UV，則生產性提高，而較佳。於光學濾光片2具備將UV遮斷之功能之情形時，偏向元件1設為具有UV透過性之構成，自偏向元件1之入射面1a側或反射面1b側照射UV而將接著層形成用組合物層設為接著層。又，於在偏向元件1形成有UV反射層之情形時，光學濾光片2係以不具有UV遮斷性之方式進行設計，自光學濾光片2之出射面2b側照射UV而將接著層形成用組合物層設為接著層。於本發明之製造方法中，前者較佳。 根據以上所說明之本發明之製造方法，藉由利用UV照射，可簡便地製造將偏向元件與光學濾光片藉由接著層一體化而成之光學元件。 [實施例] 以下，對本發明之光學元件之製作例進行說明。 ＜製作例＞ 以下，使用圖15，對本發明之光學元件之製作例進行說明，本發明之光學元件係自偏向元件之入射面入射之光之前進方向藉由偏向元件而偏向，繼而藉由在偏向元件之出射面使用接著層而一體化之光學濾光片將入射光之特定波長區域遮斷後之光自該光學濾光片之出射面出射。 於圖15中表示剖視圖，光學元件10H具有與圖5所示者相同之偏向元件11，於偏向元件11之出射側具有圖6C所示之光學濾光片2C，以及於偏向元件11與光學濾光片2C之間具有接著層3。光學元件10H於偏向元件11之入射面1a上具有抗反射層12a，於偏向元件11之出射面1c上具有抗反射層12b，及於光學濾光片2C之出射面2b上具有抗反射膜13b。光學元件10H進而於抗反射膜13b上具有遮光膜15，該遮光膜15具有於主面之形狀中外周與抗反射膜13b之外周一致之邊框狀之形狀，雖未圖示，但於偏向元件11之2個側面1d、1e上之整個區域具有與圖12所示者相同之遮光膜15B。 (偏向元件11之製作) 作為偏向元件11，將波長589 nm時之折射率n_P 為1.75以上、波長區域為400～1100 nm、透明且紫外波長為365 nm、內部透過率為10%以上之光學玻璃切削加工成三角柱稜鏡形狀。 此處，三角柱稜鏡剖面設為頂角為90°之等腰直角三角形。將自Y方向入射之光入射面、向Z方向出射之光出射面、進而自Y方向朝Z方向偏向之全反射面均研磨加工成光學鏡面。進而，實施C面加工及W1面、W2面之倒角加工，而獲得各倒角部。將作為三角柱稜鏡之光入射出射面之2個等邊面之寬度加工成覆蓋光入射面之信號光有效寬度Φin及光出射面之信號光有效寬度Φout之尺寸。作為偏向元件11之三角柱稜鏡係使用n_P ＝1.954且10 mm厚之波長365 nm之內部透過率為26%之光玻璃公司製造之J-LASFH21。 其次，以覆蓋作為三角柱稜鏡之光入射面1a之空氣界面與作為光出射面1c之接著層界面之有效寬度Φin及Φout的方式，成膜抗反射層12a、12b，將對各界面之信號光波長區域之殘留反射設為0.5%以下。 其次，將三角柱稜鏡以X方向之尺寸覆蓋固體攝像元件之受光面之方式使用切割裝置與ZY面平行地切斷為圖12所示之元件形狀，將切斷面1d及1e設為光擴散面。為了使自切斷面1d及1e入射之光不雜散光化，進而，於其上塗佈包含光吸收劑及紫外線硬化性樹脂之遮光膜形成用組合物，藉由UV照射形成遮光膜15B而製成附有遮光膜之偏向元件11。 (光學濾光片2C之製作) 光學濾光片2C係使可見光透過且將UV及NIR遮斷之NIR截止濾光片，例如，具有將300～400 nm之UV與700～1100 nm之NIR遮斷且使420～660 nm之可見光透過之濾光片功能。 使用對氟磷酸鹽系玻璃添加CuO等而成之NIR吸收型之玻璃基板21C作為光學濾光片2C之基板21C。光學濾光片2C中之最厚構件為玻璃基板21C，n_F ≒1.52。於經光學研磨之NIR吸收型之玻璃基板21C之接著層3側之界面，成膜包含介電多層膜之反射層23，該介電多層膜於350～400 nm及700～1100 nm具有反射波長頻帶。又，於NIR吸收型之玻璃基板21C之光出射面(固體攝像元件)側之空氣界面，形成含有NIR吸收色素之吸收層22，該NIR吸收色素於650～750 nm具有吸收極大波長。吸收層22任意地含有UV吸收色素。 NIR吸收型之玻璃基板21C於900 nm附近具有吸收極大波長，但若欲提高NIR之吸收，則會於可見光產生吸收，而導致可見光之透過率降低。因此，以抑制可見光之透過率降低之方式調整玻璃基板厚度。同樣地，以抑制可見光之透過率降低之方式調整吸收層22之NIR吸收色素之含量。若以抑制可見光之透過率降低之方式調整NIR吸收型之玻璃基板21C及吸收層22，則會產生於350～400 nm及700～1100 nm產生透過光之波長區域，故而設計將該波長區域設為反射波長頻帶之反射層23。 再者，以於較少之層數及總膜厚之反射層23中於波長420～660 nm之可見光區域顯示高透過率且可於反射波長頻帶實現低透過率之方式，在使用與玻璃基板21C之折射率n_F 之差異為0.1以下之折射率n_G 之接著層3的前提下，設計介電多層膜。 此處，反射層23係伴隨著入射光之入射角增加而反射波段向短波長區域位移，從而光學濾光片2C整體之分光透過率產生變化，故而導致攝像畫質劣化。吸收層22亦具有補充NIR吸收型之玻璃基板21C之NIR吸收性並且減少此種分光特性之入射角依賴性之作用。 繼而，於光學濾光片2C之吸收層22之空氣界面成膜抗反射層13b，將相對於界面之信號光波長區域之殘留反射設為0.5%以下。進而，於抗反射層13b之空氣界面之信號光透過有效區域以外之周邊區域形成邊框形狀之遮光膜15，而製成附有遮光膜之光學濾光片2C。 (藉由形成接著層3而進行之光學元件之製作) 為了將以此方式製作之附有遮光膜之光學濾光片2C接著固定於上述所製作之附有遮光膜之偏向元件(三角柱稜鏡)11，而於偏向元件(三角柱稜鏡)11或光學濾光片2C之接著面塗佈包含硬化前之紫外線硬化性材料之液狀之接著層形成用組合物，而形成接著層形成用組合物層，且於其上積層附有遮光膜之偏向元件11或附有遮光膜之光學濾光片2C而獲得光學元件之前驅物。接著層形成用組合物層之厚度係以最終所獲得之接著層3之厚度為2～20 μm且均勻之方式進行調整。 其次，自偏向元件(三角柱稜鏡)11之入射面或/及全反射面照射UV，使接著層形成用組合物層中之紫外線硬化性材料聚合固化，而獲得接著層3。 於使用紫外線硬化性材料作為接著層3之情形時，例如，於硬化後之折射率n_G 為1.56之Norland Products公司之NOA61之情形時，由於Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜＝0.04，故而於接著層3與光學濾光片2C之界面不具有抗反射層。另一方面，由於Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜＝0.394，故而於偏向元件(三角柱稜鏡)11與接著層3之界面具有抗反射層12b。 再者，於光學元件10H中，於折射率n_P 與折射率n_G 之差異較小之情形時，亦可設為如下構成：於偏向元件11之出射側設置圖6B所示之光學濾光片2B而代替光學濾光片2C，於偏向元件11與光學濾光片2B之間具有接著層3，於偏向元件11之出射面1c上具有反射層23，並且不具有抗反射層12b。於該情形時，抗反射層12a、抗反射層13b及遮光膜15、15B可與光學元件10H相同地構成。 [產業上之可利用性] 本發明之光學元件係兼具光之偏向功能與選擇遮斷功能之光學元件，於使用有固體攝像元件之數位靜態相機等攝像裝置中，若配置於固體攝像元件之緊鄰受光面之前方使用，則對攝像裝置之小型化有利。

1‧‧‧偏向元件

1a‧‧‧入射面

1b‧‧‧反射面

1c‧‧‧出射面

1d‧‧‧側面

1e‧‧‧側面

2‧‧‧光學濾光片

2a‧‧‧入射面

2b‧‧‧出射面

2A‧‧‧光學濾光片

2B‧‧‧光學濾光片

2C‧‧‧光學濾光片

3‧‧‧接著層

3a‧‧‧入射面

3b‧‧‧出射面

4‧‧‧固體攝像元件

5‧‧‧物鏡

6‧‧‧物體側稜鏡

7‧‧‧透鏡移動機構

8‧‧‧成像透鏡群

10‧‧‧光學元件

10A‧‧‧光學元件

10B‧‧‧光學元件

10C‧‧‧光學元件

10D‧‧‧光學元件

10E‧‧‧光學元件

10F‧‧‧光學元件

10G‧‧‧光學元件

10H‧‧‧光學元件

11‧‧‧偏向元件

12a‧‧‧抗反射層

12b‧‧‧抗反射層

13a‧‧‧抗反射層

13b‧‧‧抗反射層

15‧‧‧遮光膜

15B‧‧‧遮光膜

21‧‧‧吸收基板

21B‧‧‧基板

21C‧‧‧基板

22‧‧‧吸收層

23‧‧‧反射層

41‧‧‧受光面

81、82、83‧‧‧透鏡

100‧‧‧攝像裝置

c‧‧‧寬度

C‧‧‧面

L_F‧‧‧光學濾光片2之入射出射面2a、2b之Y方向之長度

L_P‧‧‧偏向元件1之出射面1c之Y方向之長度

n_F‧‧‧折射率

n_G‧‧‧折射率

n_P‧‧‧折射率

R‧‧‧反射率

w1‧‧‧寬度

W1‧‧‧面

w2‧‧‧寬度

W2‧‧‧面

W_F‧‧‧光學濾光片2之入射出射面2a、2b之X方向之長度

W_p‧‧‧偏向元件1之出射面1c之X方向之長度

X‧‧‧方向

Y‧‧‧方向

Z‧‧‧方向

α‧‧‧角度

β‧‧‧角度

θ‧‧‧出射角

θ₀‧‧‧入射角

θ_m‧‧‧入射角

θ'‧‧‧折射角

Φin‧‧‧入射面1a之信號光有效寬度

Φout‧‧‧出射面1c之信號光有效寬度

圖1係表示實施形態之光學元件之一例之剖視圖。 圖2係概略性地表示具備實施形態之光學元件之攝像裝置之一例的剖視圖。 圖3係模式性地表示實施形態之光學元件中之光之入射角與出射角之關係的剖視圖。 圖4係表示於直角稜鏡中使入射角θ_m 全反射之折射率n_P 之曲線圖。 圖5係表示實施形態之光學元件中所使用之偏向元件之一例的剖視圖。 圖6A係表示實施形態之光學元件中所使用之光學濾光片之一例的剖視圖。 圖6B係表示實施形態之光學元件中所使用之光學濾光片之另一例的剖視圖。 圖6C係表示實施形態之光學元件中所使用之光學濾光片之又一例的剖視圖。 圖7係表示不同之折射率(n1，n2)之光學界面中之折射率和與反射率之關係的曲線圖。 圖8係表示實施形態之光學元件之另一例之剖視圖。 圖9A係表示具有遮光膜之實施形態之光學元件之一例的剖視圖。 圖9B係圖9A所示之光學元件之俯視圖。 圖10係表示具有遮光膜之實施形態之光學元件之變化例的剖視圖。 圖11係表示具有遮光膜之實施形態之光學元件之變化例的剖視圖。 圖12係表示具有遮光膜之實施形態之光學元件之變化例的立體圖。 圖13A係表示具有遮光膜之實施形態之光學元件之變化例的剖視圖。 圖13B係圖13A所示之光學元件之俯視圖。 圖14A係表示具有遮光膜之實施形態之光學元件之變化例的剖視圖。 圖14B係圖14A所示之光學元件之俯視圖。 圖15係表示製作例之光學元件之剖視圖。

Claims (20)

1. 一種光學元件，其具備： 偏向元件，其使入射之光偏向後出射； 光學濾光片，其位於上述偏向元件之入射側或出射側，將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷；及 接著層，其於上述偏向元件與上述光學濾光片之間使兩者一體化；且 於將上述偏向元件之折射率設為n_P ，將上述接著層之折射率設為n_G ，以及將上述光學濾光片中所包含之構件中層厚最大之構件之折射率設為n_F 時，滿足式(1)及式(2)之關係， Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5…(1) Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5…(2)。
2. 如請求項1之光學元件，其中上述偏向元件為稜鏡。
3. 如請求項2之光學元件，其中上述稜鏡為直角稜鏡。
4. 如請求項2或3之光學元件，其中上述稜鏡之折射率n_P 為1.70以上。
5. 如請求項1至4中任一項之光學元件，其中上述接著層包含紫外線硬化材料。
6. 如請求項5之光學元件，其中上述接著層能夠接收自上述光學元件之上述偏向元件側入射之紫外線區域之光，或能夠接收自上述光學元件之上述光學濾光片側入射之紫外線區域之光，並且於上述光學元件中自上述偏向元件之入射側入射之紫外線區域之光不透過至上述光學濾光片之出射側。
7. 如請求項5或6之光學元件，其中上述光學濾光片將紫外線區域之光遮斷，並且將自可見光區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷， 上述偏向元件係波長340～390 nm之光之最大透過率為10%以上。
8. 如請求項7之光學元件，其中上述光學濾光片係使可見光區域之光透過且將近紅外區域之光遮斷之近紅外線截止濾光片。
9. 如請求項1至8中任一項之光學元件，其中上述光學濾光片中之層厚最大之構件為玻璃基板。
10. 如請求項9之光學元件，其中上述玻璃基板包括含有CuO之氟磷酸鹽系玻璃或含有CuO之磷酸鹽系玻璃。
11. 如請求項9或10之光學元件，其中上述光學濾光片於上述玻璃基板之至少一個面具有含有樹脂與吸收色素之吸收層。
12. 如請求項1至8中任一項之光學元件，其中上述光學濾光片中之層厚最大之構件為樹脂基板。
13. 如請求項12之光學元件，其中上述樹脂基板含有吸收色素。
14. 如請求項12或13之光學元件，其中上述光學濾光片於上述樹脂基板之至少一個面具有含有樹脂與吸收色素之吸收層。
15. 如請求項9至14中任一項之光學元件，其中上述光學濾光片具備反射層，該反射層包含將紫外線區域之一部分區域之光遮斷之介電多層膜。
16. 如請求項1至15中任一項之光學元件，其進而具有將自入射側入射至上述光學元件之光局部地遮斷之第1遮光膜。
17. 如請求項1至16中任一項之光學元件，其進而具有將自側面入射至上述光學元件之光遮斷之第2遮光膜。
18. 如請求項2至17中任一項之光學元件，其中於上述稜鏡與上述光學濾光片對向之各面中，上述稜鏡之外緣處於較上述光學濾光片之外緣更靠內側。
19. 如請求項2至17中任一項之光學元件，其中於上述稜鏡與上述光學濾光片對向之各面中，上述稜鏡之外緣處於較上述光學濾光片之外緣更靠外側。
20. 一種光學元件之製造方法，其係製造如下光學元件之方法，該光學元件具備：偏向元件，其使入射之光偏向後出射；光學濾光片，其位於上述偏向元件之入射側或出射側，將自紫外線區域至近紅外區域之至少一部分區域之光選擇性地遮斷；及接著層，其於上述偏向元件與上述光學濾光片之間使兩者一體化；且 於將上述偏向元件之折射率設為n_P ，將上述接著層之折射率設為n_G ，以及將上述光學濾光片中所包含之構件中層厚最大之構件之折射率設為n_F 時，滿足Δn_GF ＝｜n_G －n_F ｜≦0.5及Δn_PG ＝｜n_P －n_G ｜≦0.5之關係，且該光學元件之製造方法包含如下步驟： 於上述偏向元件與上述光學濾光片之間製作光學元件前驅物，該光學元件前驅物具有包含紫外線硬化性材料之接著層形成用組合物層；及 自於製成上述光學元件之情形時成為入射側之側或於製成上述光學元件之情形時成為出射側之側對上述光學元件前驅物照射紫外線區域之光使上述接著層形成用組合物層硬化而製成上述接著層。