TW201822384A - 發光裝置 - Google Patents

Abstract

一種發光裝置，包括一殼體、一光阻擋構件以及一發光單元。光阻擋構件配置於殼體內，且適於阻擋入射至殼體內的一環境光。發光單元配置於殼體內。

Description

發光裝置

本發明是有關於一種發光裝置，且特別是有關於一種可降低反射光且改變入射光聚焦位置的發光裝置。

習知呈現面光源的交通燈具大都是由一前蓋、一後蓋、一點光源以及一內部元件所組成，其中前蓋具有一透鏡部，前蓋與後蓋定義出一容置空間，點光源與內部元件配置於後蓋上且位於容置空間內。當環境光由前蓋的透鏡部入射至容置空間內時，入射的環境光會照射到後蓋上而再反射至前蓋外。此時，觀看者不管點光源是否有被點亮都會產生燈具發光的錯覺，而影響交通安全。此外，由於前蓋具有透鏡部，可將入射至容置空間內的環境光聚焦至內部元件上，而使聚焦處產生高溫，進而燒壞內部元件。因此，如何改善上述呈現面光源的交通燈具的相關缺點，實為亟待解決的課題之一。

本發明提供一種發光裝置，其可降低環境光照射至殼體內之後而被反射到觀看者的機率，且可改變入射的環境光的聚焦位置。

本發明的發光裝置，其包括一殼體、一光阻擋構件以及一發光單元。光阻擋構件配置於殼體內，且適於阻擋入射至殼體內的一環境光。發光單元配置於殼體內。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件為一遮光罩，具有一容置開口以及多個環繞容置開口設置的凹槽結構。每一凹槽結構以多次反射的方式阻擋入射至殼體內的環境光，且發光單元對應設置於容置開口中。

在本發明的一實施例中，上述每一凹槽結構的俯視形狀包括多邊形、圓形、橢圓形或不規則形，且每一凹槽結構的深度與寬度的比介於1至100之間。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件的表面塗佈有一吸光材料。

在本發明的一實施例中，上述凹槽結構的深度相同或不同。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件的一阻擋角度大於發光單元的發光角度。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件包括一第一遮光罩以及一第二遮光罩。第一遮光罩與第二遮光罩相互組立，且第一遮光罩位於第二遮光罩與發光單元之間。

在本發明的一實施例中，上述發光裝置更包括一菲涅爾透鏡，配置於光阻擋構件上，以準直發光單元所發出的一光束。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件為一吸光柵，以吸收的方式阻擋入射至殼體內的環境光。

在本發明的一實施例中，上述發光裝置更包括一菲涅爾透鏡，配置於光阻擋構件與發光單元之間，以準直發光單元所發出的一光束。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件包括多個彼此分離且配置於菲涅爾透鏡上的吸光結構。每一吸光結構的長度及寬度分別介於10毫米至300毫米之間，且每一吸光結構的厚度介於0.1毫米至10毫米之間。吸光結構的數量介於2片至10000片之間，且每一吸光結構相對於菲涅爾透鏡的一傾斜角度介於0度至180度。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件包括一遮光罩以及一吸光柵。吸光柵配置於遮光罩上且以吸收的方式阻擋入射至殼體內的環境光。遮光罩位於吸光柵與發光單元之間且以多次反射的方式阻擋入射至殼體內的環境光。

在本發明的一實施例中，上述遮光罩具有一容置開口以及多個環繞容置開口設置的凹槽結構。每一凹槽結構以多次反射的方式阻擋入射至殼體內的環境光，且發光單元對應設置於容置開口中。

在本發明的一實施例中，上述發光裝置更包括一菲涅爾透鏡，配置於遮光罩與吸光柵之間，以準直發光單元所發出的一光束。

在本發明的一實施例中，上述吸光柵包括多個彼此分離且配置於菲涅爾透鏡上的吸光結構。每一吸光結構的長度及寬度分別介於10毫米至300毫米之間，且每一吸光結構的厚度介於0.1毫米至10毫米之間。吸光結構的數量介於2片至10000片之間，且每一吸光結構相對於菲涅爾透鏡的一傾斜角度介於0度至180度。

在本發明的一實施例中，上述殼體包括一前蓋與一後蓋。前蓋與後蓋相互組立而定義出一容置空間，而光阻擋構件與發光單元位於容置空間中。

在本發明的一實施例中，上述前蓋具有一透鏡部，環境光經由透鏡部進入殼體內。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件與發光單元配置於殼體的後蓋上。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件為一遮光罩。遮光罩相對鄰近發光單元的一側與後蓋之間具有一第一垂直距離。遮光罩相對遠離發光單元的另一側與後蓋之間具有一第二垂直距離。第二垂直距離大於第一垂直距離，且遮光罩的形狀為一透斗狀。

在本發明的一實施例中，上述發光裝置更包括至少一內部元件，配置於殼體的後蓋上。光阻擋構件於後蓋上的正投影重疊於內部元件於後蓋上的正投影。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件平行後蓋設置。

在本發明的一實施例中，上述光阻擋構件為一遮光罩。發光裝置更包括：多個支撐件，配置於遮光罩與後蓋之間，以在遮光罩與後蓋之間定義出一配置空間。

在本發明的一實施例中，上述前蓋的一內表面具有多個微結構，且微結構彼此相連。

基於上述，在本發明的發光裝置的設計中，由於光阻擋構件適於阻擋入射至殼體內的一環境光，因此可以降低環境光照射至殼體內之後而被反射到觀看者的機率。如此一來，當發光單元尚未被點亮時，可降低且避免觀看者產生發光裝置發光的錯覺。此外，本發明的光阻擋構件的設計還可以改變環境光的聚焦位置，藉此避免因為聚焦產生高溫而破壞內部元件。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

在本發明的實施例中，發光裝置包括一殼體、一光阻擋構件以及一發光單元，其中光阻擋構件配置於殼體內且適於阻擋入射至殼體內的一環境光，而發光單元配置於殼體內。光阻擋構件可以是一遮光罩、一吸光柵或一遮光罩與一吸光柵的組合，藉此以多次反射的方式阻擋入射至殼體內的環境光或/與吸收的方式阻擋入射至殼體內的環境光，來達到降低環境光照射至殼體內之後而被反射到觀看者的機率。以下將以多個實施例來分別說明本案的發光裝置。

圖1A繪示為本發明的一實施例的一種發光裝置的立體示意圖。圖1B繪示為圖1A的發光裝置的剖面示意圖。圖1C繪示為圖1B的遮光罩的立體示意圖。圖1D繪示為圖1C的遮光罩的局部立體剖面示意圖。請同時參考圖1A、圖1B、圖1C與圖1D，本實施例的發光裝置100包括一殼體110、一遮光罩120a以及一發光單元130。遮光罩120a配置於殼體110內，且具有一容置開口122以及多個環繞容置開口122設置的凹槽結構124a，其中每一凹槽結構124a適於多次反射入射至殼體110內的一環境光L。發光單元130配置於殼體110內，且對應設置於遮光罩120a的容置開口122中。

詳細來說，請參考圖1B，本實施例的殼體110包括一前蓋112與一後蓋114。前蓋112與後蓋114相互組立而定義出一容置空間S，而遮光罩120a與發光單元130位於容置空間S中。前蓋112具有一透鏡部112a，而環境光L經由透鏡部112a進入殼體110內。遮光罩120a與發光單元130配置於殼體110的後蓋114上。再者，本實施例的後蓋114上設置有一電路板150，而發光單元130與遮光罩120a配置於電路板150上，且發光單元130與電路板150電性連接。為了提高發光單元130的出光效率，本實施例的發光裝置100亦包括一透鏡160，配置於容置開口122內且遮蓋發光單元130。

請再參考圖1C與圖1D，本實施例的光阻擋構件實際為為遮光罩120a，其中遮光罩120a具體上為均一厚度的遮罩，而遮光罩120a具有多個凹槽結構124a，且這些凹槽結構124a的深度可相同或不相同。也就是說，遮光罩120a可具有相同深度的凹槽結構124a，或者是，遮光罩120a可具有深度不一的凹槽結構124a，於此並不加以限制。遮光罩120a可例如採用深色且具有吸光的材料所製成，於此並不加以限制。本實施例的凹槽結構124a的俯視形狀可例如是多邊形、圓形、橢圓形或不規則形。如圖1D所示，凹槽結構124a包括多個凹槽結構124a1以及多個凹槽結構124a2，其中凹槽結構124a1的俯視形狀具體化為六角型，而凹槽結構124a2位於遮光罩120a的邊緣因面積不足，故凹槽結構124a2的俯視形狀具體化為不規則形。

當然，本發明並不限定凹槽結構124a的俯視形狀。於其它實施例中，請參考圖2A與圖2B，遮光罩120b的凹槽結構124b包括多個凹槽結構124b1、多個凹槽結構124b2以及多個凹槽結構124b3。凹槽結構124b1的俯視形狀具體化為六角型，而凹槽結構124b2、124b3位於遮光罩120a的邊緣因面積不足，故凹槽結構124b2、124b3的俯視形狀具體化分別為不規則形與圓形。

上述遮光罩120a、120b的凹槽結構124a、124b皆分佈且散布於表面121a、121b上，其中這些凹槽結構124a、124b皆呈現相互緊鄰且約略呈陣列的排列方式，但並不以此為限。於其它實施例中，請參考圖3A與圖3B，遮光罩120c的凹槽結構124c具體化為沿著容置開口122c以同心圓的方式一圈一圈的向外排列，其中凹槽結構124c的俯視形狀具體化圓形。

請再參考圖1B，為了要達成多次反射的目的，本實施例的凹槽結構124a的深度D與寬度W的比，較佳地，介於1至100 之間。由於本實施例的凹槽124a的深度D與寬度W的比值介於1 至100之間，因此入射的環境光L照射到凹槽結構124a時，會在凹槽結構124a內產生多次反射與擴散而被凹槽結構124a所吸收。也就是說，本實施例的凹槽結構124a的設計可提高入射的環境光L被吸收的比率，而降低反射到觀看者的機率。

再者，如圖1B所示，遮光罩120a相對鄰近發光單元130的一側S1與後蓋114之間具有一第一垂直距離H1，而遮光罩120a相對遠離發光單元130的另一側S2與後蓋114之間具有一第二垂直距離H2，且第二垂直距離H2大於第一垂直距離H1。換言之，本實施例的遮光罩120a的具體的形狀為一透斗狀，請參考圖1C，但並不以此為限。

特別是，如圖1B所示，本實施例的遮光罩120a的一遮光角度A1（可視為是阻擋角度）大於發光單元130的發光角度A2，其中發光單元130例如是點光源，如紅光發光二極體、綠光發光二極體或黃光發光二極體，但並不以此為限。此處，遮光角度A1例如是介於141度至180度之間，而發光單元130的發光角度A2例如是介於0度至140度之間。由於本實施例的遮光罩120a的遮光角度A1大於發光單元130的發光角度A2，因此遮光罩120a的設置不會限制及遮擋到發光單元130的出光範圍。

此外，本實施例的發光裝置100還包括至少一內部元件（圖1B中適意地繪示兩個內部元件140a、140b），配置於殼體110的後蓋114上，其中內部元件140a、140b例如是晶片、電路板或上述的組合。特別是，遮光罩120a於後蓋114上的正投影重疊於內部元件140a、140b於後蓋114上的正投影。因此，當環境光L入射到殼體110的容置空間S時，遮光罩120a的凹槽結構124a會多次反射與擴散入射至殼體110內的環境光L，因而可吸收及降低環境光L的能量，且凹槽結構124a亦可以吸收熱源。再者，遮光罩120a設置於內部元件140a、140b的前面，因此可透過凹槽結構124a的設置來改變環境光L的焦點位置，可以避免入射的環境光L的焦點位置落在內部元件140a、140b上而導致高溫損毀內部元件140a、140b。也就是說，透過凹槽結構124a的設計來打散環境光L的光路徑，並接收環境光L的能量，來降低反射光的產生。

請再參考圖2A與圖2B，本實施例的遮光罩120b並不是採用深色的吸光材料所製成，但為了提高遮光罩120b的吸光效率，可在遮光罩120b的表面121b亦可塗佈有一吸光材料125，其中吸光材料125例如是奈米碳管、黑色樹脂或其它深色塗料。當環境光L由前蓋112的透鏡部112a進入容置空間S時（請參考圖1B），入射的環境光L會先照射到遮光罩120b上，並藉在凹槽結構124b內產生多次的反射與擴散而被吸收。由於遮光罩120b的表面121b塗佈有吸光材料125，因此可提升環境光L被遮光罩120b吸收的比率，進而可降低入射的環境光L被反射到觀看者的機率。

需說明的是，雖然上述的遮光罩120a、120b、120c皆屬於一體成型的結構，但於其它實施例中，請參考圖4A與圖4B，本實施例的發光裝置100’的遮光罩120d包括一第一遮光罩120d1以及一第二遮光罩120d2，其中第一遮光罩120d1與第二遮光罩120d2相互組立，且第一遮光罩120d1位於第二遮光罩120d2與發光單元130之間。如圖4A所示，第一遮光罩120d1的凹槽結構124d1的具體化是以同心圓的方式一圈一圈的向外排列，其中凹槽結構124d1的俯視形狀例如是圓形，而第二遮光罩120d2的凹槽結構124d2的俯視形狀例如是六角形，但並不此為限。

簡言之，本發明的發光裝置100、100’因具有遮光罩120a、120b、120c、120d的設計，因此當環境光L入射到殼體110的容置空間S內時，環境光L會在遮光罩120a、120b、120c、120d的凹槽結構124a、124b、124c、124d1、124d2內產生多次反射與擴散而被吸收。如此一來，可降低環境光L照射至殼體110內之後而被反射到觀看者的機率。此外，環境光L透過殼體110的透鏡部112a而產生聚焦時，遮光罩120a、120b、120c、120d的設計可提前或破壞入射的環境光L的聚焦位置，且可以接收入射的環境光L的能量。如此一來，可以避免聚焦點落在內部元件140a、140b上因高溫而燒毀的現象產生。

在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖5繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖5與圖1B，本實施例的發光裝置100a與圖1B的發光裝置100相似，兩者的差異在於：本實施例的遮光罩120e實質上平行於後蓋114配置，且本實施例的發光裝置100a還包括多個支撐柱170，配置於後蓋114上且用以支撐遮光罩120e。

詳細來說，如圖5所示，本實施例的支撐柱170位於遮光罩120e與後蓋114之間，且在遮光罩120e與後蓋114之間定義出一配置空間R，其中內部元件140a、140b位於配置空間R內。當環境光L入射到殼體110的容置空間S內時，環境光L會在遮光罩120e的凹槽結構124e內產生多次反射與擴散而被吸收。如此一來，可降低環境光L照射至殼體110內之後而被反射到觀看者的機率。此外，環境光L透過殼體110的透鏡部112a而產生聚焦時，遮光罩120e的設計可提前或破壞入射的環境光L的聚焦位置，且可以接收入射的環境光L的能量。如此一來，可以避免聚焦點落在內部元件140a、140b上因高溫而燒毀的現象產生。此處，遮光罩120e實質上呈水平設置，意即遮光罩120e的遮光角度A1’具體化為180度，而凹槽結構124e的俯視形狀具體化為六角型，請配合參考圖1D，但並不此為限。

圖6繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖6與圖5，本實施例的發光裝置100b與圖5的發光裝置100a相似，兩者的差異在於：本實施例的遮光罩120f包括一第一遮光罩120f1以及一第二遮光罩120f2，其中第一遮光罩120f1與第二遮光罩120f2相互組立，且第一遮光罩120f1位於第二遮光罩120f2與發光單元130之間。此處，第一遮光罩120f1的凹槽結構124f1的具體化是以同心圓的方式一圈一圈的向外排列，其中凹槽結構124f1的俯視形狀例如是圓形，而第二遮光罩120f2的凹槽結構124f2的俯視形狀例如是六角形，請參考圖4B。

圖7繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖7與圖1B，本實施例的發光裝置100c與圖1B的發光裝置100相似，兩者的差異在於：本實施例的發光裝置100c更包括一菲涅爾透鏡180，其中菲涅爾透鏡180配置於遮光罩120a上，以準直發光單元130所發出的一光束L1。此外，本實施例的殼體110c的前蓋112c的一內表面113c具有多個微結構115c，其中微結構115c彼此相連。由於前蓋112c內的微結構115c的表面曲率會讓光發生折射，因此被準直的光束L1可以射到不同的方位角度，藉此滿足法規光強度需求。

圖8繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖8與圖1B，本實施例的發光裝置100d與圖1B的發光裝置100相似，兩者的差異在於：本實施例具體化採用一吸光柵190來作為一光阻擋構件。詳細來說，本實施例的發光裝置更包括一菲涅爾透鏡180，配置於吸光柵190與發光單元130之間，以準直發光單元130所發出的一光束L1。吸光柵190包括多個彼此分離且配置於菲聶爾透鏡180上的吸光結構194。每一吸光結構194的長度及寬度分別例如是介於10毫米至300毫米之間，而每一吸光結構194的厚度介於0.1毫米至10毫米之間，其中吸光結構194的材質可採用深色素材，或可於吸光結構194的表面塗佈深色材質，以利吸收環境光L。較佳地，吸光結構194的數量例如是介於2片至10000片之間，其中吸光結構194的數量越多則吸光效能越佳。每一吸光結構194相對於菲聶爾透鏡180的一傾斜角度A例如是介於0度至180度，可依據遮光需求而做調整。此處，傾斜角度A是繪示為90度以作為舉例說明，但並不以此為限。

透過實際測量中可得知，習知再未加設吸光柵時，發光單元所發出的光束約為640燭光(cd)，環境光的反射光約為40燭光，則抗太陽幻影（Sun Phantom）值為640/16=16；加設吸光柵190之後，發光單元130所發出的光束L1可減少約10%，即為576燭光(cd)，環境光L的反射光可減少約40%，即為24燭光，則抗太陽幻影（Sun Phantom）值為576/24=24。

由於本實施例採用吸光柵190來作為光阻擋構件，透過以吸收的方式阻擋入射至殼體110內的環境光L，因此可以降低環境光L照射至殼體110內之後而被反射到觀看者的機率。如此一來，當發光單元130尚未被點亮時，可降低且避免觀看者產生發光裝置100d發光的錯覺。此外，本實施例的吸光柵190的設計可在環境光L入射至內部元件140b之前吸收環境L，可避免入射的環境光L因為聚焦產生高溫而破壞內部元件140b。

圖9繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖9與圖8，本實施例的發光裝置100e與圖8的發光裝置100d相似，兩者的差異在於：本實施例的發光裝置100e的殼體110c的前蓋112c的一內表面113c具有多個微結構115c，其中微結構115c彼此相連。由於前蓋112c內的微結構115c的表面曲率會讓光發生折射，因此被準直的光束L1可以射到不同的方位角度，藉此滿足法規光強度需求。

圖10繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖10與圖9，本實施例的發光裝置100f與圖9的發光裝置100e相似，兩者的差異在於：本實施例的吸光柵190b的每一吸光結構194b可相對於菲涅爾透鏡180傾斜一角度A’，此角度A’可介於0至180度之間，可依據遮光需求而做調整，於此並不加以限制。

圖11繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。請同時參考圖11與圖9，本實施例的發光裝置100g與圖9的發光裝置100e相似，兩者的差異在於：本實施例的光阻擋構件是由遮光罩120a與吸光柵190c所組成，其中吸光柵190c配置於遮光罩120a上且以吸收的方式阻擋入射至殼體110c內的環境光L，而遮光罩120a位於吸光柵190c與發光單元130之間且以多次反射的方式阻擋入射至殼體110c內的環境光L。

更具體來說，如圖11所示，本實施例的菲涅爾透鏡180位於遮光罩120a與吸光柵190c之間，其中菲涅爾透鏡180配置於遮光罩120a上，而吸光柵190c的吸光結構194c分散配置於菲涅爾透鏡180上。當發光單元130所發出的光束L1透過二次光學元件，即透鏡160與菲涅爾透鏡180形成平行光後，入射至前蓋112c的微結構115c。由於前蓋112c內的微結構115c的表面曲率會讓光發生折射，因此光束L1可以射到不同的方位角度，藉此滿足法規光強度需求。

綜上所述，在本發明的發光裝置的設計中，光阻擋構件適於阻擋入射至殼體內的一環境光，因此可以降低環境光照射至殼體內之後而被反射到觀看者的機率。如此一來，當發光單元尚未被點亮時，可降低且避免觀看者產生發光裝置發光的錯覺。此外，本發明的光阻擋構件的設計還可以改變環境光的聚焦位置，藉此避免因為聚焦產生高溫而破壞內部元件。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100、100’ 、100a、100b、100c、100d、100e、100f、100g‧‧‧發光裝置

110、110c‧‧‧殼體

112、112c‧‧‧前蓋

112a‧‧‧透鏡部

113c‧‧‧內表面

114‧‧‧後蓋

115c‧‧‧微結構

120a、120b、120c、120d、120e、120f‧‧‧遮光罩

120d1、120f1‧‧‧第一遮光罩

120d2、120f2‧‧‧第二遮光罩

121a、121b‧‧‧表面

122、122c‧‧‧容置開口

124a、124a1、124a2、124b、124b1、124b2、124b3、124c、124d1、124d2、124e、124f1、124f2‧‧‧凹槽結構

125‧‧‧吸光材料

130‧‧‧發光單元

140a、140b‧‧‧內部元件

150‧‧‧電路板

160‧‧‧透鏡

170‧‧‧支撐柱

180‧‧‧菲涅爾透鏡

190、190b、190c‧‧‧吸光柵

194、194b、194c‧‧‧吸光結構

A‧‧‧傾斜角度

A’‧‧‧角度

A1、A1’‧‧‧遮光角度

A2‧‧‧發光角度

D‧‧‧深度

L‧‧‧環境光

L1‧‧‧光束

H1‧‧‧第一垂直高度

H2‧‧‧第二垂直高度

R‧‧‧配置空間

S‧‧‧容置空間

S1‧‧‧第一側

S2‧‧‧第二側

W‧‧‧寬度

圖1A繪示為本發明的一實施例的一種發光裝置的立體示意圖。 圖1B繪示為圖1A的發光裝置的剖面示意圖。 圖1C繪示為圖1B的遮光罩的立體示意圖。 圖1D繪示為圖1C的遮光罩的局部立體剖面示意圖。 圖2A繪示為本發明的另一實施例的一種遮光罩的立體示意圖。 圖2B繪示為圖2A的遮光罩的局部立體剖面示意圖。 圖3A繪示為本發明的又一實施例的一種遮光罩的立體示意圖。 圖3B繪示為圖3A的遮光罩的局部立體剖面示意圖。 圖4A繪示為本發明的另一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖4B繪示為圖4A的遮光罩的立體示意圖。 圖5繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖6繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖7繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖8繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖9繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖10繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。 圖11繪示為本發明的又一實施例的一種發光裝置的剖面示意圖。

Claims (23)

1. 一種發光裝置，包括： 一殼體； 一光阻擋構件，配置於該殼體內，且適於阻擋入射至該殼體內的一環境光；以及 一發光單元，配置於該殼體內。
2. 如申請專利範圍第1項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件為一遮光罩，具有一容置開口以及多個環繞該容置開口設置的凹槽結構，而各該凹槽結構以多次反射的方式阻擋入射至該殼體內的該環境光，且該發光單元對應設置於該容置開口中。
3. 如申請專利範圍第2項所述的發光裝置，其中各該凹槽結構的俯視形狀包括多邊形、圓形、橢圓形或不規則形，且各該凹槽結構的深度與寬度的比介於1至100之間。
4. 如申請專利範圍第2項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件的表面塗佈有一吸光材料。
5. 如申請專利範圍第2項所述的發光裝置，其中該些凹槽結構的深度相同或不同。
6. 如申請專利範圍第2項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件的一阻擋角度大於該發光單元的發光角度。
7. 如申請專利範圍第2項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件包括一第一遮光罩以及一第二遮光罩，該第一遮光罩與該第二遮光罩相互組立，且該第一遮光罩位於該第二遮光罩與該發光單元之間。
8. 如申請專利範圍第2項所述的發光裝置，更包括： 一菲涅爾透鏡，配置於該光阻擋構件上，以準直該發光單元所發出的一光束。
9. 如申請專利範圍第1項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件為一吸光柵，以吸收的方式阻擋入射至該殼體內的該環境光。
10. 如申請專利範圍第9項所述的發光裝置，更包括： 一菲涅爾透鏡，配置於該光阻擋構件與該發光單元之間，以準直該發光單元所發出的一光束。
11. 如申請專利範圍第10項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件包括多個彼此分離且配置於該菲涅爾透鏡上的吸光結構，各該吸光結構的長度及寬度分別介於10毫米至300毫米之間，各該吸光結構的厚度介於0.1毫米至10毫米之間，而該些吸光結構的數量介於2片至10000片之間，且各該吸光結構相對於該菲涅爾透鏡的一傾斜角度介於0度至180度。
12. 如申請專利範圍第1項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件包括一遮光罩以及一吸光柵，該吸光柵配置於該遮光罩上且以吸收的方式阻擋入射至該殼體內的該環境光，而該遮光罩位於該吸光柵與該發光單元之間且以多次反射的方式阻擋入射至該殼體內的該環境光。
13. 如申請專利範圍第12項所述的發光裝置，其中該遮光罩具有一容置開口以及多個環繞該容置開口設置的凹槽結構，各該凹槽結構以該些次反射的方式阻擋入射至該殼體內的該環境光，且該發光單元對應設置於該容置開口中。
14. 如申請專利範圍第12項所述的發光裝置，更包括： 一菲涅爾透鏡，配置於該遮光罩與該吸光柵之間，以準直該發光單元所發出的一光束。
15. 如申請專利範圍第14項所述的發光裝置，其中該吸光柵包括多個彼此分離且配置於該菲涅爾透鏡上的吸光結構，各該吸光結構的長度及寬度分別介於10毫米至300毫米之間，各該吸光結構的厚度介於0.1毫米至10毫米之間，而該些吸光結構的數量介於2片至10000片之間，且各該吸光結構相對於該菲涅爾透鏡的一傾斜角度介於0度至180度。
16. 如申請專利範圍第1項所述的發光裝置，其中該殼體包括一前蓋與一後蓋，該前蓋與該後蓋相互組立而定義出一容置空間，而該光阻擋構件與該發光單元位於該容置空間中。
17. 如申請專利範圍第16項所述的發光裝置，其中該前蓋具有一透鏡部，該環境光經由該透鏡部進入該殼體內。
18. 如申請專利範圍第16項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件與該發光單元配置於該殼體的該後蓋上。
19. 如申請專利範圍第18項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件為一遮光罩，該遮光罩相對鄰近該發光單元的一側與該後蓋之間具有一第一垂直距離，而該遮光罩相對遠離該發光單元的另一側與該後蓋之間具有一第二垂直距離，且該第二垂直距離大於該第一垂直距離，該遮光罩的形狀為一透斗狀。
20. 如申請專利範圍第16項所述的發光裝置，更包括： 至少一內部元件，配置於該殼體的該後蓋上，其中該光阻擋構件於該後蓋上的正投影重疊於該內部元件於該後蓋上的正投影。
21. 如申請專利範圍第16項所述的發光裝置，其中該光阻擋構件平行該後蓋設置。
22. 如申請專利範圍第21項所述的發光裝置，該光阻擋構件為一遮光罩，該發光裝置更包括： 多個支撐件，配置於該遮光罩與該後蓋之間，以在該遮光罩與該後蓋之間定義出一配置空間。
23. 如申請專利範圍第16項所述的發光裝置，其中該前蓋的一內表面具有多個微結構，且該些微結構彼此相連。