TW201815563A

TW201815563A - 水氣阻障材

Info

Publication number: TW201815563A
Application number: TW105134386A
Authority: TW
Inventors: 楊重光; 蔡軒儒; 黃聲東
Original assignee: 國立臺北科技大學
Priority date: 2016-10-25
Filing date: 2016-10-25
Publication date: 2018-05-01
Also published as: TWI606934B

Abstract

一種水氣阻障材，包含一層經改質基材及N組相同或不同的水氣阻障膜。該經改質基材是由一基材經電漿改質所形成，每組水氣阻障膜是由以下二層所組成：X層相同或不同且覆蓋該經改質基材的無機層，以及Y層相同或不同且覆蓋該無機層的無鹵素有機層。N、X及Y的範圍為1~10，每層無機層是由金屬氧化物或金屬氮化物所形成，每層無鹵素有機層是由具有聚對二甲苯骨架的聚合物所形成，其條件是當該無鹵有機層由聚(對二甲苯)形成時，形成該無機層的金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鈦、銦錫氧化物或前述的組合，及形成該無機層的金屬氮化物是氮化鈦。

Description

水氣阻障材

本發明是有關於一種水氣阻障材，特別是指一種用於阻隔外界水氣進入光電裝置的水氣阻障材。

近年來，為了增加可撓性等機械性質，如發光二極體、有機太陽能電池等光電裝置大多轉為利用塑膠基板[如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸酯、聚醯亞胺(PI)等]進行製造。然而，塑膠基板的缺點是具備高氧氣滲透率及高水氣穿透率，但是，發光二極體等光電裝置中的陰極或活性材料可能會與氧氣及水氣反應而無法發揮原有效用，也將導致光電裝置的使用壽命縮短。

目前為了讓光電裝置具備低水氣穿透率，大多會於裝置的最外層覆蓋一層水氣阻隔層。此水氣阻隔層除了需具備低水氣穿透率外，還需同時具備高光穿透率。例如「Mol. Cryst. Liq. Cryst. , Vol.458, pp.255-261, 2006」一文中就提及於一種封裝膜，依序包含PET基材、聚對二甲苯(parylene)、SiO₂ 及SiON。此封裝膜必須同時含有SiO₂ 及SiON，才可具備1×10^- ⁵ g/m² ．day的水氣穿透率，以及於可見光波長範圍下具備高於90%的光穿透率。

雖然已有很多關於水氣阻障膜的文獻資料，但目前所使用的聚對二甲苯主要為聚一氯對二甲苯(parylene C)及聚二氯對二甲苯(parylene D)。而隨著環保需求的增加，此兩種含氯的聚對二甲苯將可能無法使用，因此，未來仍須就含有無鹵素聚對二甲苯骨架的聚合物[如聚(對二甲苯)(parylene N)]的水氣阻隔膜進行研究。

因此，本發明之目的，即在提供一種符合環保需求、具備較低水氣穿透率(water vapor transmission rate)及良好光穿透率的水氣阻障材。

於是，本發明水氣阻障材，包含一層使一基材經電漿改質所形成的經改質基材及N組彼此相同或不同的水氣阻障膜，N的範圍為1~10且每組水氣阻障膜是由下列二層所組成： X層無機層，為相同或不同且覆蓋該經改質基材，X的範圍為1~10，每層無機層是由金屬氧化物或金屬氮化物所形成，該金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鋁、氧化矽、氧化鋅、氧化鈦，銦錫氧化物或前述的組合，及該金屬氮化物是選自於氮化矽、氮化鈦或前述的組合；及 Y層無鹵素有機層，為相同或不同且覆蓋該無機層，Y的範圍為1~10，每層無鹵素有機層是由一種具有聚對二甲苯骨架的聚合物所形成，其中，該具有聚對二甲苯骨架的聚合物是選自於聚(對二甲苯)、具有化學式1及化學式2所示重複單元的聚合物或前述的組合： [化學式1][化學式2]該化學式1中的R表示羥基、胺基、乙烯基、乙炔基、甲基或乙基；其條件是當該無鹵有機層由聚(對二甲苯)所形成時，形成該無機層的金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鈦、銦錫氧化物或前述的組合，及形成該無機層的金屬氮化物是氮化鈦。

本發明之功效在於：本發明水氣阻障材中的每組水氣阻障膜是由X層無機層及Y層無鹵素有機層所組成，其中該無鹵素有機層及該無機層能符合環保需求，且透過該無鹵素有機層及該無機層的組合，而能降低該水氣阻障材的水氣穿透率以及提升該水氣阻障材的光穿透率。此外，該經改質基材是經過改質處理，更能使其與該無機層之間具有良好的接合力。

本發明將就以下實施例來作進一步說明，但應瞭解的是，該實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本發明實施之限制。

在本發明被詳細描述之前，應當注意在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。

本發明水氣阻障材包含一層使一基材經電漿改質所形成的經改質基材及N組相同或不同的水氣阻障膜，N的範圍為1~10。較佳地，該N的範圍為1~4。

較佳地，該基材是由一種材料所形成，該材料是選自於聚對苯二甲酸乙二酯、聚醯亞胺、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)或前述的組合。該經改質基材是使該基材經過電漿改質處理，以利於增加該經改質基材與有機或無機材之間的接合力，也就是讓無機材或有機材易於附著在該經改質基材上。

每組水氣阻障膜是由下列二層所組成：X層相同或不同且覆蓋該經改質基材的無機層及Y層相同或不同且覆蓋該無機層的無鹵素有機層。X及Y的範圍分別為1~10。較佳地，X及Y的範圍分別為1~4。

每層無機層是由金屬氧化物或金屬氮化物所形成，該金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鋁、氧化矽、氧化鋅、氧化鈦、銦錫氧化物或前述的組合，以及該金屬氮化物是選自於氮化矽、氮化鈦或前述的組合。每層無鹵素有機層是由一種具有聚對二甲苯骨架的聚合物所形成，其中，該具有聚對二甲苯骨架的聚合物是選自於聚(對二甲苯)、具有化學式1及化學式2所示重複單元的聚合物或前述兩者的組合： [化學式1][化學式2]該化學式1中的R表示羥基、胺基、乙烯基、乙炔基、甲基或乙基；其條件是當該無鹵有機層由聚(對二甲苯)所形成時，形成該無機層的金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鈦、銦錫氧化物或前述的組合，及形成該無機層的金屬氮化物是氮化鈦。

該無機層是由金屬氧化物或金屬氮化物所形成。該無機層可使用已知方法製備，例如透過濺鍍方式，特別是使用合金鈀搭配單槍濺鍍方式進行。該每層無機層的厚度範圍可以依據實際需要進行調整，特別是基於降低水氣穿透率及提升光穿透率的考量下，較佳地，該每層無機層的厚度範圍為60~300 nm。

較佳地，該具有化學式1及化學式2所示重複單元的聚合物是選自於聚(2-甲基對二甲苯)、聚(2-乙基對二甲苯)、聚(2-乙烯基對二甲苯)、聚(2-胺基對二甲苯)或聚(2-羥基對二甲苯)。

該無鹵素有機層可使用例如化學鍍膜方式進行。該每層無鹵素有機層的厚度範圍可以依據實際需要進行調整，特別是基於降低水氣穿透率及提升光穿透率的考量下，較佳地，該每層無鹵素有機層的厚度範圍為300~1810 nm。

較佳地，該水氣阻障材還包含一層硬塗層，是覆蓋該N組水氣阻障膜。該硬塗層可由任何可提供保護(具備較佳硬度)且不影響光穿透率的材料所形成，該材料例如但不限於丙烯酸酯、環氧樹脂等。

[ 實施例 1-1~1-13] 含有一組水氣阻障膜的水氣阻障材 (N=1 、 X=1 及 Y=1) 實施例1-1~1-13的水氣阻障材結構如圖1所示，各個實施例所使用的材料整理於如下表1中。實施例1-1~1-13的水氣阻障材的共同製法為： 1. 先利用高壓空氣清潔PET基材1(厚度為125 mm)表面30秒，之後再將PET基材1放入電漿改質設備(Kao Duen Technology Corporation製造，型號為KD-02 Plasma)中，並同時將電漿改質設備中的腔體壓力抽至25毫托耳(mtorr)，再通入5N純氧氣，控制工作壓力為100毫托耳以下，然後以射頻電源50W氧電漿改質2分鐘，使PET基材1的接觸角由改質前約為40~50度，轉變為改質後約為5度以下，最後獲得經改質PET基材1。 2. 利用磁電管濺鍍系統，依據表1所使用的材料選用合金鈀材及氣體，同時控制基礎壓力為2×10^- ⁶ 托耳、工作壓力為1×10^- ³ 托耳、氬氣流速為30sccm、氣體流速為10 sccm、電壓為1000 W及靶材與經改質PET基材1距離為7cm，以於經改質PET基材1上形成一層無機層21(厚度為0.075~0.350 mm)。實施例1-1~1-6的無機層為鋅錫氧化物時，該合金靶材為鋅錫合金及該氣體為氧氣；實施例1-7~1-11的無機層為銦錫氧化物，該合金靶材為銦錫合金及該氣體為氧氣；實施例1-12的無機層為氧化鈦，該合金靶材為鈦及該氣體為氧氣；實施例1-13的無機層為氮化鈦，該合金靶材為鈦及該氣體為氮氣。 3. 利用化學蒸氣沉積系統(LA CHI-ENTERPRISE CO., LTD，型號為LH300)，依據表1所使用的材料選用單體材料，將2~4克單體放入材料室離管口3公分處，將形成有該無機層21的經改質PET基材1放入腔體內，開始對腔體進行抽真空，待壓力達到30毫托耳且前段管線壓力為10毫托耳以下，同時透過八段升溫，使溫度上升至120°C(材料昇華溫度)，接著繼續上升至650°C(材料裂解溫度)時，按下系統製程鈕，此時製程燈號亮起。待製程燈號熄滅後，製程即結束，共歷時3小時，於該無機層21上形成一層無鹵素有機層22(厚度為0.4~1 mm)，同時製得一組水氣阻障膜2。 4. 先利用高壓空氣清潔該水氣阻障膜2的表面，接著將形成有一組水氣阻障膜2的經改質PET基材1放置於平整玻璃台上，將塗布棒RDS No.4置於該無鹵素有機層22上，沿著塗布棒淋上適當丙烯酸酯後，由上往下以穩定速度往下拉，待塗布完成後，再以280 nm的紫外線進行硬化，以於該無鹵素有機層22上形成一層硬塗層3(厚度為25~50 mm)，同時製得水氣阻障材。

[ 測試 ] 分別將實施例1-1~1-13水氣阻障材進行以下測試： 1. 水氣穿透率(WVTR，g/m² ．day)：依據ASTM F1249標準方法進行測試。首先將水氣阻障材裁切成長寬為9公分的樣品，再將樣品放入水氣透過分析儀(型號為Mocon Aquatran Model 2，偵測極限為5×10^- ⁵ g/ m² ．day)的樣品槽中，使氮氣攜帶水氣滲入樣品中，再以偵測器進行偵測；其中，氮氣表頭壓力設定為40 psi，樣品槽流量設定為20 mL/min，量測濕度為90%，溫度為37.8°C，測試時間為24~48小時。當水氣穿透率低於1.5 g/ m² ．day時，即能滿足目前業界需求當水氣穿透率；當水氣穿透率等於或低於水氣透過分析儀的偵測極限5×10^- ⁵ g/ m² ．day時，顯示水氣阻隔性為最佳。 2. 光穿透率(%)：利用UV-VIS光譜儀(型號為Agilent cary5000)進行量測，首先以空氣作為背景進行校正，之後再將水氣阻障材裁切成樣品並置入該UV-VIS光譜儀中進行測試，量測波長範圍為380~780 nm，將所測得的數值進行平均取得平均光穿透率後，再以波長550 nm之穿透率值作為最後所測得的光穿透率。目前業界可接受的光穿透率為低於80%。

[表1]

[ 結果 ] ：由表1結果可知，實施例1-1~1-13之水氣阻障材於24~48小時測試所得的水氣穿透率皆低於1.5 g/ m² ．day，且光穿透率皆高於80%，顯示實施例1-1~1-13之水氣阻障材能滿足業界需求。

[ 實施例 2-1~2-3] 含有二組水氣阻障膜的水氣阻障材 (N=2 、 X=1 及 Y=1) 實施例2-1~2-3的水氣阻障材結構如圖2所示，各個實施例所使用的材料整理於如下表2中。實施例2-1~2-3的水氣阻障材的共同製法為： 1. 先利用高壓空氣清潔PET基材1(厚度為125 mm)表面30秒，之後再將PET基材1放入電漿改質設備(Kao Duen Technology Corporation製造，型號為KD-02 Plasma)中，並同時將電漿改質設備中的腔體壓力抽至25毫托耳，再通入5N純氧氣，控制工作壓力為100毫托耳以下，然後以射頻電源50W氧電漿改質2分鐘，使PET基材1的接觸角由改質前約為40~50度，轉變為改質後約為5度以下，最後獲得經改質PET基材1。 2. 利用磁電管濺鍍系統，依據表2所使用的材料選用合金鈀材及氣體，同時控制基礎壓力為2×10^- ⁶ 托耳、工作壓力為1×10^- ³ 托耳、氬氣流速為30sccm、氣體流速為10 sccm、電壓為1000 W及靶材與經改質PET基材1距離為7cm，以於經改質PET基材1上形成一層無機層21(厚度為0.075~0.350 mm)。實施例2-1及2-2的無機層為鋅錫氧化物，該合金靶材為鋅錫合金；實施例2-3的無機層為氧化鈦，該合金靶材為鈦氧合金。 3. 利用化學蒸氣沉積系統(LA CHI-ENTERPRISE CO., LTD，型號為LH300)，依據表1所使用的材料選用單體材料，將2~4克單體放入材料室離管口3公分處，將形成有該無機層21的經改質PET基材1放入腔體內，開始對腔體進行抽真空，待壓力達到30毫托耳且前段管線壓力為10毫托耳以下，同時透過八段升溫，使溫度上升至120°C(材料昇華溫度)，接著繼續上升至650°C(材料裂解溫度)時，按下系統製程鈕，此時製程燈號亮起。待製程燈號熄滅後，製程即結束，共歷時3小時，於該無機層21上形成一層無鹵素有機層22(厚度為0.4~1 mm)，同時製得第一組水氣阻障膜2。 4. 重複上述步驟2及3，於第一組水氣阻障膜2上再形成第二組水氣阻障膜2。 5. 先利用高壓空氣清潔該第二組水氣阻障膜2的表面，接著將形成有一組水氣阻障膜2的經改質PET基材1放置於平整玻璃台上，將塗布棒RDS No.4置於該無鹵素有機層22上，沿著塗布棒淋上適當丙烯酸酯後，由上往下以穩定速度往下拉，待塗布完成後，再以280 nm的紫外線進行硬化，以於該無鹵素有機層22上形成一層硬塗層3(厚度為25~50 mm)，同時製得水氣阻障材。依據0020段的測試流程，將實施例2-1~2-3所製得的水氣阻障材進行測試，結果整理於下表2中。

[表2]

[ 結果 ] ：由表2結果可知，實施例2-1~2-3之水氣阻障材於24~48小時測試所得的水氣穿透率皆低於1.5 g/ m² ．day以及光穿透率皆高於80%，顯示實施例2-1~2-3之水氣阻障材能滿足業界需求。

[ 實施例 3-1] 含有三組水氣阻障膜的水氣阻障材 (N=3 、 X=1 及 Y=1) 實施例3-1的水氣阻障材結構如圖3所示，所使用的材料整理於如下表3中。實施例3-1的水氣阻障材的製法為： 1. 先利用高壓空氣清潔PET基材1(厚度為125 mm)表面30秒，之後再將PET基材1放入電漿改質設備(Kao Duen Technology Corporation製造，型號為KD-02 Plasma)中，並同時將電漿改質設備中的腔體壓力抽至25毫托耳，再通入5N純氧氣，控制工作壓力為100毫托耳以下，然後以射頻電源50W氧電漿改質2分鐘，使PET基材1的接觸角由改質前約為40~50度，轉變為改質後約為5度以下，最後獲得經改質PET基材1。 2. 利用磁電管濺鍍系統，選用鈦作為鈀材，同時控制基礎壓力為2×10^- ⁶ 托耳、工作壓力為1×10^- ³ 托耳、氬氣流速為30sccm、氧氣流速為10 sccm、電壓為1000 W及靶材與經改質PET基材1距離為7cm，以於經改質PET基材1(厚度為125 mm)上形成一層無機層21(厚度為0.075~0.350 mm)。 3. 利用化學蒸氣沉積系統(LA CHI-ENTERPRISE CO., LTD，型號為LH300)，將2~4克對二甲苯作為單體材料並放入材料室離管口3公分處，將形成有該無機層21的經改質PET基材1放入腔體內，開始對腔體進行抽真空，待壓力達到30毫托耳且前段管線壓力為10毫托耳以下，同時透過八段升溫，使溫度上升至120°C(材料昇華溫度)，接著繼續上升至650°C(材料裂解溫度)時，按下系統製程鈕，此時製程燈號亮起。待製程燈號熄滅後，製程即結束，共歷時3小時，於該無機層21上形成一層無鹵素有機層22(厚度為0.4~1 mm)，同時製得第一組水氣阻障膜2。 4. 重複上述步驟2及3，於第一組水氣阻障膜2上再形成第二組水氣阻障膜2。 5. 重複上述步驟2及3，於第二組水氣阻障膜2上再形成第三組水氣阻障膜2。 6. 先利用高壓空氣清潔該第三組水氣阻障膜2的表面，接著將形成有第一組水氣阻障膜2、第二組水氣阻障膜2及第三組水氣阻障膜2的經改質PET基材1放置於平整玻璃台上，將塗布棒RDS No.4置於該無鹵素有機層22上，沿著塗布棒淋上適當丙烯酸酯後，由上往下以穩定速度往下拉，待塗布完成後，再以280 nm的紫外線進行硬化，以於該無鹵素有機層22上形成一層硬塗層3(厚度為25~50 mm)，同時製得水氣阻障材。依據0020段的測試流程，將實施例3-1所製得的水氣阻障材進行測試，結果整理於下表3中。

[表3]

[ 結果 ] ：由表3結果可知，實施例3-1之水氣阻障材於24~48小時測試所得的水氣穿透率皆低於1.5 g/ m² ．day以及光穿透率皆高於80%，顯示實施例3-1之水氣阻障材能滿足業界需求。

[ 實施例 4-1 及 4-2] 含有四組水氣阻障膜的水氣阻障材 (N=4 、 X=1 及 Y=1) 實施例4-1~4-2的水氣阻障材結構如圖4所示，各個實施例所使用的材料整理於如下表4中。實施例4-1~4-2的水氣阻障材的共同製法為： 1. 先利用高壓空氣清潔PET基材1(厚度為125 mm)表面30秒，之後再將PET基材1放入電漿改質設備(Kao Duen Technology Corporation製造，型號為KD-02 Plasma)中，並同時將電漿改質設備中的腔體壓力抽至25毫托耳，再通入5N純氧氣，控制工作壓力為100毫托耳以下，然後以射頻電源50W氧電漿改質2分鐘，使PET基材1的接觸角由改質前約為40~50度，轉變為改質後約為5度以下，最後獲得經改質PET基材1。 2. 利用磁電管濺鍍系統，選用鋅錫合金作為合金鈀材，同時控制基礎壓力為2×10^- ⁶ 托耳、工作壓力為1×10^- ³ 托耳、氬氣流速為30sccm、氧氣流速為10 sccm、電壓為1000 W及靶材與經改質PET基材1距離為7cm，以於經改質PET基材1(厚度為125 mm)上形成一層無機層21(厚度為0.075~0.350 mm)。 3. 利用化學蒸氣沉積系統(LA CHI-ENTERPRISE CO., LTD，型號為LH300)，將2~4克對二甲苯作為單體材料並放入材料室離管口3公分處，將形成有該無機層21的經改質PET基材1放入腔體內，開始對腔體進行抽真空，待壓力達到30毫托耳且前段管線壓力為10毫托耳以下，同時透過八段升溫，使溫度上升至120°C(材料昇華溫度)，接著繼續上升至650°C(材料裂解溫度)時，按下系統製程鈕，此時製程燈號亮起。待製程燈號熄滅後，製程即結束，共歷時3小時，於該無機層21上形成一層無鹵素有機層22(厚度為0.4~1 mm)，同時製得第一組水氣阻障膜2。 4. 重複上述步驟2及3，於第一組水氣阻障膜2上再形成第二組水氣阻障膜2。 5. 重複上述步驟2及3，於第二組水氣阻障膜2上再形成第三組水氣阻障膜2。 6. 重複上述步驟2及3，於第三組水氣阻障膜2上再形成第四組水氣阻障膜2。 7. 先利用高壓空氣清潔該第四組水氣阻障膜2的表面，接著將形成有第一組水氣阻障膜2、第二組水氣阻障膜2、第三組水氣阻障膜2及第四組水氣阻障膜2的經改質PET基材1放置於平整玻璃台上，將塗布棒RDS No.4置於該無鹵素有機層22上，沿著塗布棒淋上適當丙烯酸酯後，由上往下以穩定速度往下拉，待塗布完成後，再以280 nm的紫外線進行硬化，以於該無鹵素有機層22上形成一層硬塗層3(厚度為25~50 mm)，同時製得水氣阻障材。依據0020段的測試流程，將實施例4-1~4-2所製得的水氣阻障材進行測試，結果整理於下表4中。

[表4]

[ 結果 ] ：由表4結果可知，實施例4-1~4-2之水氣阻障材於24~48小時測試所得的水氣穿透率皆低於1.5 g/ m² ．day，甚至低於5×10^- ⁵ g/ m² ．day，顯示實施例4-1~4-2之水氣阻障材的水氣穿透率為最佳。就光穿透率來看，實施例4-1~4-2之水氣阻障材的光穿透率皆高於80%，顯示實施例4-1~4-2之水氣阻障材能滿足業界需求。

綜上所述，本發明水氣阻障材中的每組水氣阻障膜是由X層無機層及Y層無鹵素有機層所組成，其中該無鹵素有機層及該無機層能符合環保需求，且透過該無鹵素有機層及該無機層的組合，而能降低該水氣阻障材的水氣穿透率以及提升該水氣阻障材的光穿透率，故確實能達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，凡是依本發明申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

1‧‧‧經改質基材
22‧‧‧無鹵有機層
2‧‧‧水氣阻障膜
3‧‧‧硬塗層
21‧‧‧無機層

本發明之其他的特徵及功效，將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現，其中：圖1是一示意圖，說明本發明實施例1-1~1-13的水氣阻障材的結構；圖2是一示意圖，說明本發明實施例2-1~2-3的水氣阻障材的結構；圖3是一示意圖，說明本發明實施例3-1的水氣阻障材的結構；圖4是一示意圖，說明本發明實施例4-1~4-2的水氣阻障材的結構。

Claims

一種水氣阻障材，包含：一層經改質基材，是使一基材經電漿改質所形成；及 N組彼此相同或不同的水氣阻障膜，N的範圍為1~10且每組水氣阻障膜是由下列二層所組成： X層無機層，為相同或不同且覆蓋該經改質基材，X的範圍為1~10，每層無機層是由金屬氧化物或金屬氮化物所形成，該金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鋁、氧化矽、氧化鋅、氧化鈦，銦錫氧化物或前述的組合，及該金屬氮化物是選自於氮化矽、氮化鈦或前述的組合；及 Y層無鹵素有機層，為相同或不同且覆蓋該無機層，Y的範圍為1~10，每層無鹵素有機層是由一種具有聚對二甲苯骨架的聚合物所形成，其中，該具有聚對二甲苯骨架的聚合物是選自於聚(對二甲苯)、具有化學式1及化學式2所示重複單元的聚合物或前述的組合： [化學式1][化學式2]該化學式1中的R表示羥基、胺基、乙烯基、乙炔基、甲基或乙基；其條件是當該無鹵有機層由聚(對二甲苯)所形成時，形成該無機層的金屬氧化物是選自於鋅錫氧化物、氧化鈦、銦錫氧化物或前述的組合，及形成該無機層的金屬氮化物是氮化鈦。
如請求項1所述的水氣阻障材，其中，該每層無機層是由鋅錫氧化物所形成。
如請求項1所述的水氣阻障材，其中，該每層無機層的厚度範圍為60~300 nm。
如請求項1所述的水氣阻障材，其中，該每層無鹵素有機層的厚度範圍為300~1810 nm。
如請求項1所述的水氣阻障材，其中，N為1、X為1及Y為1。
如請求項1所述的水氣阻障材，其中，N為2，X為1及Y為1。
如請求項1所述的水氣阻障材，其中，N為4，X為1及Y為1。
如請求項1所述的水氣阻障材，還包含一層硬塗層，是覆蓋該N組水氣阻障膜。