TW201814392A - 光路調整機構及光學架構 - Google Patents

Abstract

一種光路調整機構包含一外框、一光學元件、一控制機件、至少一磁性體及一線圈組。光學元件設於外框內且以一轉軸線為軸心作動，且控制機件設於光學元件與外框之間。磁性體設於外框上且兩端的一連線實質上不平行轉軸線，且線圈組繞設於光學元件外。

Description

光路調整機構與元件及光學架構

本發明關於一種光路調整機構、光路調整元件及光學架構。

近年來，各種影像顯示技術已廣泛地應用於日常生活上。於一影像顯示裝置中，例如可設置一光路調整機構改變光線於裝置內的行進光路，以提供例如提高成像解析度、改善畫面品質等各種效果。然而，習知光路調整機構的構件數目、重量、體積均較大，難以進一步微型化。因此，亟需一種結構簡單、可靠度高且可大幅減少重量及體積的光路調整機構設計。

本發明的其他目的和優點可以從本發明實施例所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。

本發明一實施例提出一種光路調整機構，包含一外框、一光學元件、一控制機件、至少一磁性體及一線圈組。光學元件設於外框內且以一轉軸線為軸心作動，且控制機件設於光學元件與外框之間。磁性體設於外框上且兩端的一連線實質上不平行轉軸線，且於光學元件未作動時，磁性體與光學元件實質上位於同一水平面。線圈組繞設於光學元件外。

藉由本發明實施例的設計，因致動組件的至少部分結構可直接設置於連動件上，可大幅減少光路調整機構整體的體積、 重量及元件數，故利於將光路調整機構小型化或薄型化以搭配各種微型電子裝置。

本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例並配合所附圖式，作詳細說明如下。

100‧‧‧光路調整機構

110‧‧‧連動件

112‧‧‧鏡片

112a、112b‧‧‧固定孔

116‧‧‧階梯部

116a‧‧‧側壁

120‧‧‧致動組件

122‧‧‧線圈組

122a‧‧‧線圈

124‧‧‧磁鐵

1241、1242‧‧‧區段

130‧‧‧連接件

130a‧‧‧頸部

132、134‧‧‧板簧

132a、132b、134a、134b‧‧‧固定孔

132d、134d‧‧‧連接部

140‧‧‧框體

140a、140b‧‧‧固定孔

150‧‧‧壓電元件

200、200a‧‧‧光路調整機構

210‧‧‧連動件

212‧‧‧鏡片

214‧‧‧鏡片座

214a、214b‧‧‧固定孔

216‧‧‧凹下部份

220‧‧‧致動組件

222‧‧‧線圈組

224‧‧‧磁鐵

230‧‧‧連接件

232‧‧‧板簧

232a、232b、232c、232d‧‧‧固定孔

232e‧‧‧環型部

232f、232g‧‧‧延伸部

240‧‧‧框體

240a、240b‧‧‧固定孔

300‧‧‧光學裝置

310‧‧‧照明系統

312‧‧‧光源

312R、312G、312B‧‧‧發光二極體

314‧‧‧光束

314a‧‧‧子影像

316‧‧‧合光裝置

317‧‧‧集光柱

318‧‧‧鏡片組

319‧‧‧內部全反射稜鏡

320‧‧‧數位微鏡裝置

330‧‧‧投影鏡頭

340‧‧‧光路調整機構

350‧‧‧螢幕

400、400a、400b、400c‧‧‧光路調整機構

410‧‧‧連動件

420‧‧‧致動組件

422‧‧‧線圈組

424‧‧‧磁鐵

430‧‧‧連接件

440‧‧‧框體

440a、440b‧‧‧延伸部

440c‧‧‧凸耳結構

440d‧‧‧遮擋部

442‧‧‧缺口

446‧‧‧開口

448‧‧‧遮擋片

450‧‧‧光閥模組

452‧‧‧鏡片

460‧‧‧內部全反射稜鏡

A‧‧‧轉軸線

A1-A3、B1-B3‧‧‧板面

C、D‧‧‧連線

M‧‧‧初始位置

N‧‧‧法線方向

P、Q‧‧‧旋轉方向

T1、T2‧‧‧接觸點

θ‧‧‧角度

W‧‧‧長寬比

X‧‧‧長度

Y‧‧‧寬度

圖1為本發明一實施例之光路調整機構的構件分解圖。

圖2為圖1之光路調整機構於組裝後的示意圖。

圖3為本發明一實施例之連動件的致動狀態示意圖。

圖4為本發明另一實施例之光路調整機構的構件分解圖。

圖5為圖4之光路調整機構於組裝後的示意圖。

圖6A及圖6B分別為本發明一實施例的連接件示意圖。

圖7A為本發明一實施例的光路調整機構的示意圖，圖7B為沿圖7A的A-A’線切割的放大剖面示意圖。

圖8A為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖，圖8B為沿圖8A的B-B’線切割的放大剖面示意圖。

圖9為本發明一實施例的線圈容置結構型態的示意圖。

圖10為本發明另一實施例的致動組件的示意圖。

圖11為本發明一實施例的光路調整機構應用於一光學系統的示意圖。

圖12A為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。

圖12B為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。

圖13為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。

圖14為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。

圖15A為本發明另一實施例的光路調整機構搭配其他光學元件的構件分解圖，圖15B及圖15C分別為圖15A之光路調整機構搭配其他光學元件於組裝後的側視及俯視示意圖。

圖16A為本發明另一實施例的光路調整機構搭配其他光學元件的示意圖。

圖16B為本發明另一實施例的光路調整機構搭配其他光學元件的示意圖。

圖17A為本發明另一實施例的光路調整機構搭配其他光學元件的構件分解圖，圖17B及圖17C分別為圖17A之光路調整機構搭配其他光學元件於組裝後的側視及俯視示意圖。

圖18為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。以下實施例中所提到的方向用語，例如：上、下、左、右、前或後等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明並非用來限 制本發明。

下述實施例中之揭露內容揭示一種光路調整機構，其可運用於不同光學系統(例如顯示裝置、投影裝置等等)以調整或變化光路俾提供例如提升成像解析度、提高影像品質(消除暗區、柔和化影像邊緣)等效果而不限定，且光路調整機構於光學系統中的設置位置及配置方式完全不限定。光路調整機構例如可包含一連動件、一致動組件、一連接件及一框體這些構件中的局部構件或全部構件。於如下所述的各個實施例中，連動件可包含一可偏折光線的光學元件，且連動件可另包含承載光學元件的一承載座，連動件的作動形式例如可為轉動、振動、移動等而不限定；致動組件僅需能產生驅動連動件的效果即可，其組成構件並不限定，例如可為包含磁鐵及線圈組(或線圈)的電磁感應組件；連接件可具有發生形變後當外力撤消時能朝恢復原來大小和形狀的方向變化的性質，例如可至少略具彈性或撓性，且連接件可為各種可傳達動力的傳動機件、或用以緩衝震動或控制運動的控制機件而不限定，例如彈簧、板簧、線簧、可撓式片狀機件或可撓式葉狀機件等等；框體僅需能界定一容置空間即可，其可為具不同形式或外形的框架或外框而不限定。

圖1為本發明一實施例之光路調整機構的構件分解圖。如圖1所示，光路調整機構100包含一連動件110、一致動組件120、一連接件130及一框體140。於本實施例中，連動件110包括一可偏折光線的光學元件，例如一鏡片112，且鏡片112僅需能提供偏折光線的效果即可，其形式及種類並不限定，例如可為一透鏡(Lens)或一反射鏡(Mirror)。於另一實施例中，亦可包含一承載座，再於承載座上設置光學元件，或是承載座與光學元件二者一體成形。於本實施例中，致動組件120例如可為包含線圈組122及磁鐵124的電磁感應組 件，於另一實施例中，例如亦可用另一線圈組作為一磁性體或磁性材料取代磁鐵，設於框體140的另一線圈組(未圖示)同樣可與繞設於連動件110上的線圈組產生電磁力以驅動連動件110。於本實施例中，連接件130例如可為兩個具恢復力的板簧132、134。板簧132的兩端可具有固定孔132a、132b，板簧134的兩端可具有固定孔134a、134b，鏡片112的兩端可設置固定孔112a、112b，且框體140的兩端可設置固定孔140a、140b。於一組裝實施例中，連動件110設於框體140內，磁鐵124可固定於框體140，線圈組122可繞設於鏡片112外且例如可繞設於鏡片112的周緣，板簧132的一端可經由位置對應的固定孔132a、112a藉由例如螺絲(未圖示)的固定件固定至鏡片112，板簧132的另一端可經由位置對應的固定孔132b、140a固定至框體140，使板簧132設於鏡片112與框體140之間。再者，板簧134的一端可經由位置對應的固定孔134a、112b藉由例如螺絲(未圖示)的固定件固定至鏡片112，板簧134的另一端可經由位置對應的固定孔134b、140b固定至框體140，使板簧134設於鏡片112與框體140之間。組裝後的光路調整機構100如圖2所示。因此，設於鏡片112兩端的板簧132、134可形成連接至鏡片112，且板簧132、134的連線方向可實質重合連動件110的轉軸線A，鏡片112可以轉軸線A為軸心往復作動，例如可以轉軸線A為軸心順時針或逆時針轉動或擺動。如圖3所示，於一實施例中，線圈組122及磁鐵124間的電磁力可讓鏡片112以轉軸線A為中心由初始位置M沿旋轉方向P轉動一角度θ，且板簧132、134的恢復力可將鏡片112沿相反的旋轉方向Q旋轉回初始位置M；於另一實施例中，線圈組122及磁鐵124間可以施加另一電磁力協助板簧132、134的恢復力將鏡片112沿相反的旋轉方向Q旋轉回初始位置M，因此鏡片112可往復擺動至不同位置以 將入射光偏折至不同方向，獲得調整或變化光線行進光路的效果。於一實施例中，連動件110的轉動角度θ範圍可為0.1-1度，較佳範圍為0.2-0.5度，且例如可為0.32度。藉由本發明實施例的光路調整機構調整或變化光路，可視實際需求產生不同的效果，例如可用以提升投影解析度、提高影像品質(消除暗區、柔和化影像邊緣)等等而不限定。

藉由上述實施例的設計，因致動組件的至少部分結構(例如線圈組或線圈)直接設置於可偏折光線的光學元件上，故可減少光路調整機構整體的體積、重量或構件數目，因此可簡化整體結構並提高可靠度，且有利於微型化或薄型化以便於搭配各種微型電子裝置。

圖4為本發明另一實施例之光路調整機構的構件分解圖，圖5為圖4之光路調整機構於組裝後的示意圖。如圖4及圖5所示，於本實施例中，光路調整機構200的連動件210例如可包含一鏡片212及容置鏡片212的一鏡片座214，致動組件220例如可為包含線圈組222及磁鐵224的電磁感應組件，線圈組222可繞設於鏡片座214上且例如可繞設於鏡片座214的周緣，且磁鐵224可固定於框體240。連接件230例如可為由鏡片座214的一端橫跨至另一端的一體成形的板簧232。板簧232的外形並不限定，於本實施例中，板簧232具有一環型部232e及由環型部232e朝連動件210兩端延伸的二延伸部232f、232g，且二延伸部232f、232g的延伸方向可實質重合轉軸線A。板簧232的兩端可具有固定孔232a、232b、232c、232d，鏡片座214的兩端可分別設置固定孔214a(對應固定232b)及固定孔214b(對應固定孔232c)，且框體240的兩端可分別設置固定孔240a(對應固定孔232a)及固定孔240b(對應固定孔232d)。藉由例如螺絲(未圖 示)的固定件經由這些對應的固定孔進行固定，可將一體成形的板簧232設於鏡片座214與框體240之間。板簧232的延伸方向實質重合連動件210的轉軸線A，連動件210(鏡片212連同鏡片座214)可以轉軸線A為中心順時針或逆時針轉動，且板簧232的恢復力可將連動件210沿相反的旋轉方向旋轉回初始位置，於另一實施例中，線圈組222及磁鐵224間可以施加另一電磁力協助板簧232的恢復力將連動件210沿相反的旋轉方向旋轉回初始位置，因此連動件210可往復擺動至不同位置，以讓鏡片212將入射光偏折至不同方向，獲得調整或變化光線行進光路的效果。

藉由上述實施例的設計，因致動組件的至少部分結構(例如線圈組或線圈)直接設置於連動件的鏡片座上，可減少光路調整機構整體的體積、重量或元件數，故利於將光路調整機構小型化或薄型化以搭配各種微型電子裝置。

本發明實施例中的連接件的外形並不限定，於一實施例中，連接件可具有至少一個彎折部，亦即連接件連接連動件的一端與連接框體的另一端，兩端之間可至少包括一個轉折點。舉例而言，如圖6A及圖6B所示，各個板簧132(或板簧延伸部232f)、板簧134(或板簧延伸部232g)可至少具有夾有一角度的兩個面而構成一非平面式板簧，例如圖6A所示，板簧132(或板簧延伸部232f)的板面A2可實質垂直(約90度夾角)板面A1及板面A3，且板面A1與板面A3可實質平行，且如圖6B所示，板簧134(或板簧延伸部232g)的板面B2可實質垂直板面B1及板面B3，且板面B1與板面B3可實質垂直。於一實施例中，如圖6A所示，板簧132與鏡片112的接觸部份可形成一第一接觸點T1，且板簧132與框體140的接觸部份可形成一第二接觸點T2，且第一接觸點T1與第二接觸點T2可具有實質不同的 水平高度。再者，請再參考圖1，板簧132連接至框體140的連接部132d，其可實質垂直板簧134連接至框體140的連接部134d，但不以此限定。於另一實施例中，連接部132d可實質平行連接部134d但不限定。因此，於一實施例中，藉由連接件130兩端的不同向位的彎折部所產生的非平面式連接件設計，連接件運動時的扭轉中心可實質重合鏡片112的質心，但不以此限定。

於一實施例中，連接件130的厚度可小於0.5mm，例如厚度可為0.1mm、0.15mm或0.2mm，且連接件130的材質例如可為彈性材料(例如彈簧、板簧、線簧)、金屬材料(例如不銹鋼，鐵，銅、鋁)或塑膠材料。再者，因連接件130的頸部130a太細容易折斷且太粗會導致運動不順暢，故連接件130的頸部130a的長寬比W範圍可為0.5-1，一較佳範圍為0.6-0.9，一更佳範圍為0.7-0.8，且例如可為0.75。如圖6A及圖6B所示，頸部130a的長寬比W可定義為長度X除以寬度Y(W=X/Y)。

圖7A為本發明一實施例的光路調整機構的示意圖，圖7B為沿圖7A的A-A’線切割的放大剖面示意圖。如圖7A所示，線圈組122具有實質上沿鏡片112的法線方向N疊設的複數層線圈122a，以例如可縮減線圈組122的佈線平面的所佔面積，且線圈組122可圈繞出一範圍，而例如板簧132、134的控制機件或傳動機件可位於線圈組122所圈繞出的範圍之外，藉以例如可降低連動件210於作動時與其他元件干涉的可能性。如圖7B所示，鏡片112周緣可形成一容置結構以容置線圈組122，於本實施例中，鏡片112周緣厚度方向可設有相對的一凸部及一凹部，使鏡片112外緣的厚度方向呈現一L字型的階梯部116，且線圈組122在厚度方向可以一圈以上繞設於階梯部116的一側壁116a。

圖8A為依本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖，圖8B為沿圖8A的B-B’線切割的放大剖面示意圖。如圖8B所示，於連動件210未作動時，鏡片212與磁鐵224實質上位於同一水平面，以節省構件所占空間，鏡片座214的周緣可形成一容置結構以容置線圈組222，於本實施例中，鏡片座214周緣的厚度方向設有一凹下部份216，並使鏡片座214周緣具有C字型或U字型的端面結構，且線圈組222可容置於凹下部份216內。亦即，容置線圈組的容置結構可為一階梯部或一凹槽，可形成於連動件的不同位置且可具有例如C字型或U字型的不同外型但不限定，僅需能提供容置線圈組的效果即可。當線圈組容置於連動件的容置結構內，可省去線圈組所佔空間而可進一步縮減整體裝置的體積，且可避免線圈組與其他元件的磨損接觸，提高可靠度。再者，線圈容置結構於連動件周緣的配置完全不限定，舉例而言，線圈容置結構可如圖7A所示連續形成於連動件的周緣，或如圖9所示包含連動件210周緣的多個彼此分離的凹下部份216。

本發明各個實施例的連接件僅為例示，設於光學元件與框體之間的連接件可為各種可傳達動力的傳動機件或用以緩衝震動或控制運動的控制機件而不限定，例如彈簧、板簧、線簧、可撓式片狀機件或可撓式葉狀機件等等。再者，例如鏡片的光學元件可設於其他載體上而不限定為鏡片座，且框體可為不同形式或外形的框架或外框而不限定。

於一實施例中，線圈組的線徑可小於0.2mm，例如可為0.05mm，且線圈組固定於連動件上的方式並不限定，例如可採用膠合(例如UV點膠或外層漆包線上膠)、熱熔接、套接等方式。再者，於一實施例中，驅動線圈組的功率可小於200mW，且線圈組的耐熱 容許溫度可為小於120度。

於一實施例中，鏡片的材料可為玻璃、塑膠或鍍上金屬膜的玻璃、塑膠(例如鍍銀或鍍鋁)，且連接件可利用自攻牙、螺帽、熱熔接、或點膠等方式設於鏡片或鏡片座上。形成於鏡片上的固定孔若孔徑太小鏡片容易裂開，若孔徑太大則螺絲容易鎖不緊或滑牙，因此於一實施例中，鏡片上的固定孔可為M1.2自攻螺絲孔(孔徑0.85-1.1mm)、M1.6自攻螺絲孔(孔徑1.2-1.4mm)、M1.7自攻螺絲孔(孔徑1.3mm-1.5mm)或M2自攻螺絲孔(孔徑1.5mm-1.8mm)。

框體的材質例如可為金屬(鋁合金、鎂合金等)或塑膠而不限定。磁鐵的材質可為硬式磁鐵或軟式磁鐵而不限定，例如可為釹鐵硼磁鐵(NdFeB)。因磁鐵若太大會增加佔據空間，磁鐵太小則容易磁力不足，因此磁鐵的一尺寸較佳範圍為14mm×7mm×5mm-0.5mm×0.5mm×0.5mm，例如可為9mm×1.9mm×0.8mm，於一實施例中，例如可為9mm×1.9mm×0.3mm。磁鐵的耐熱容許溫度可為小於120度。

於一實施例中，可利用改變螺絲配重、增加質量塊、設置壓板等方式調整連動件的自然頻率，使連動件的自然頻率可大於90Hz以避免共振現象，且較高的自然頻率可提高連動件的反應速度，且可使用較小的致動器即可讓連動件達到預設的旋轉角度。再者，可藉由連接件鎖附磅力控制其運動型態，於一實施例中，連接件的鎖附磅力可為0.5-3kg-mm，一較佳範圍可為0.8-2.5kg-mm，一更佳範圍可為1-2kg-mm。

於一實施例中，光路調整機構的至少部分結構可為一體式結構以獲得例如減少零件數、簡化整體結構並縮短組裝工時的效果。舉例而言，連接件、鏡片及框體三者可利用相同材質(例如塑膠 或金屬)一體成形，或其中兩個組件先一體成形，例如連接件、鏡片先一體成形或者連接件、框體先一體成形後再與其餘元件組合亦可，此時組合的固定方式可以是點膠或以螺絲固定。於另一實施例中，連接件、鏡片、鏡片座及框體四者可利用相同材質(例如塑膠或金屬)一體成形，或其中至少兩個組件先一體成形後，再與其餘元件組合亦可。於另一實施例中，例如由連接件形成之轉軸可連接至光學元件，線圈可繞設於光學元件外圍，且光學元件與轉軸可一體成形而構成一用於調整光路的機構。於另一實施例中，一種用於調整光路的機構可包含一外框、一承載座、設於承載座上的一鏡片、繞設於承載座外圍的一線圈、以及設於承載座與外框之間的一控制機件，且控制機件與承載座可一體成形，或者控制機件、外框及光學元件可一體成形。於另一實施例中，一種用於調整光路的機構包含一框架、一鏡片座、一線圈組及一傳動機件，鏡片座容置於框架內且包含一鏡片，線圈組繞設於鏡片座上，傳動機件連接於鏡片座與框架之間，且框架、鏡片座及傳動機件三個元件中，至少其中二個係為一體成形。再者，可將例如橡膠的減震物充填於框體與其他內部構件之間以提供減震效果。

於一實施例中，光路調整機構的重量可小於5g，例如可為1.6g，且體積可小於40mm x 40mm x 10mm，例如可為21mm x 21mm x 3.6mm。致動組件的驅動頻率可為24Hz-120Hz，且電磁感應組件例如可為一音圈馬達。致動組件的型態並不限定，僅需能獲得驅動連動件使其往復擺動的效果即可。於另一實施例中，如圖10所示，致動組件例如可包含設置於鏡片112的一壓電元件150，透過在壓電元件150上施加電場可使壓電元件150產生壓縮或拉伸變形，意即可將電能轉為機械能以使鏡片112往復擺動達到調整光路效果。

圖11為本發明一實施例的光路調整機構應用於一光 學系統的示意圖。請參照圖11，光學裝置300包括照明系統310、數位微鏡裝置320、投影鏡頭330以及光路調整機構340。其中，照明系統310具有光源312，其適於提供光束314，且數位微鏡裝置320配置光束314的傳遞路徑上。此數位微鏡裝置320適於將光束314轉換為多數個子影像314a。此外，投影鏡頭330配置於這些子影像314a的傳遞路徑上，且數位微鏡裝置320係位於照明系統310與投影鏡頭330之間。另外，光路調整機構340可配置於數位微鏡裝置320與投影鏡頭330之間，例如可以在數位微鏡裝置320和內部全反射稜鏡319之間或是可以在內部全反射稜鏡319和投影鏡頭330之間，且位於這些子影像314a的傳遞路徑上。上述之光學裝置300中，光源312例如可包含紅光發光二極體312R、綠光發光二極體312G、及藍光發光二極體312B，各個發光二極體發出的色光經由一合光裝置316合光後形成光束314，光束314會依序經過集光柱(light integration rod)317、鏡片組318及內部全反射稜鏡(TIR Prism)319。之後，內部全反射稜鏡319會將光束314反射至數位微鏡裝置320。此時，數位微鏡裝置320會將光束314轉換成多數個子影像314a，而這些子影像314a會依序通過內部全反射稜鏡319及光路調整機構340，並經由投影鏡頭330將這些子影像314a投影於螢幕350上。於本實施例中，當這些子影像314a經過光路調整機構340時，光路調整機構340會改變部分這些子影像314a的傳遞路徑。也就是說，通過此光路調整機構340的這些子影像314a會投影在螢幕350上的第一位置(未繪示)，另一部份時間內通過此光路調整機構340的這些子影像314a則會投影在螢幕350上的第二位置(未繪示)，其中第一位置與第二位置係在水平方向(X軸)或/且垂直方向(Z軸)上相差一固定距離。於本實施例中，由於光路調整機構340能使這些子影像314a之成像位置在水平方向 或/且垂直方向上移動一固定距離，因此能提高影像之水平解析度或/且垂直解析度。當然，上述實施例僅為例示，本發明實施例的光路調整機構可運用於不同光學系統以獲得不同效果，且光路調整機構於光學系統中的設置位置及配置方式完全不限定。

於本發明的各個實施例中，磁性體的配置方式並不限定。舉例而言，如圖2所示，線圈122可圍繞光學元件110或繞設於光學元件110外，兩個例如磁鐵124的磁性體或磁性材料可分別位於轉軸線A的兩側，且可配置使各個磁鐵124兩端的一連線C實質上不平行轉軸線A，或者如圖5所示，可配置使各個磁鐵224兩端的一連線C實質上平行轉軸線A亦可。如圖12A所示，於另一實施例中，光路調整機構100a的磁鐵124可包含夾一角度的一第一區段1241及一第二區段1242，第一區段1241及一第二區段彼此相連，且磁鐵124兩端的一連線C可實質上不平行轉軸線A，亦即連線C的延伸線與轉軸線A的延伸線可相交於一點。如圖12B所示，於另一實施例中，光路調整機構100b的磁鐵124可包含夾一角度的一第一區段1241及一第二區段1242，第一區段1241及一第二區段1242彼此分離，板簧132、134分別設連動件110與框體140，且兩個板簧132、134的連線D可實質上不平行磁鐵124兩端的連線C，亦即連線C與連線A的延伸線會相交於一點。需注意雖然未繪示出，但圖12A、12B的磁鐵124的非平行配置型態亦可搭配本發明的其他實施例，舉例而言，若連接件採用如圖4所示橫跨連動件210的一板簧232，板簧232具有一環型部232e及由環型部232e朝連動件210兩端延伸的二延伸部232f、232g，則各個延伸部232f、232g的延伸方向可實質上不平行各個磁鐵224兩端的連線C。藉由圖12A、12B的磁鐵非平行配置型態，可使磁性體的配置更具彈性。舉例而言，如圖16A所示，當磁 鐵424配置於不與轉軸線A平行的邊上，可較遠離並避開例如光閥模組450的光件，因此磁鐵424得以延長而提供較高的磁力。

圖13為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖，如圖13所示，於本實施例中，光路調整機構100c的連動件110設於框體140內且包含一可偏折光線的鏡片112，磁鐵124設於鏡片112上，例如可設置於鏡片112的周緣，線圈組122繞設於框體140上，例如可繞設於框體140的周緣，線圈組122圍繞鏡片112，且磁鐵124位於線圈組圈繞出的範圍內，當連動件110作動時，磁鐵124會連同鏡片112擺動且線圈組122保持固定。圖14為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。如圖14所示，於本實施例中，光路調整機構200a的連動件210可設於框體240內且例如可包含一鏡片212及容置鏡片212的一鏡片座214，磁鐵224可設於鏡片座214上，例如設置於鏡片座214的周緣，且線圈組222可繞設於框體240上，例如可繞設於框體240的周緣，線圈組222可圈繞出一範圍，且磁鐵224位於線圈組圈繞出的範圍內。於一實施例中，連動件210可容置於框體240，連動件210包含一可偏折光線的光學元件212、設於該光學元件212周圍的一磁性材料或磁性體(例如磁鐵224)、以及一控制機件或傳動機件(例如連接件230)，控制機件或傳動機件設於光學元件212與框體240之間，且線圈或線圈組(例如線圈組222)繞設於框體240上且圍繞光學元件212。亦即，於本發明的各個實施例中，磁性體/磁性材料與線圈/線圈組的相對配置位置可視實際需求變化並不限定。再者，若磁性體/磁性材料設於可動件導致轉動扭矩增大時，可藉由調整磁性體/磁性材料的形狀、重量、磁力等使運動更為順暢。

圖15A為本發明另一實施例的光路調整機構搭配其他光學元件的構件分解圖，圖15B及圖15C分別為圖15A之光路調 整機構於組裝後的側視及俯視示意圖。如圖15A所示，光路調整機構400包含一連動件410、一致動組件420(例如線圈組422及磁鐵424)、一連接件430及一框體440。於一實施例中，框體440的材料可為金屬或塑膠。光路調整機構400例如可配置於鄰近光閥模組450和內部全反射稜鏡460位置處。於一實施例中，全反射稜鏡可以反射透鏡、反射鏡(Mirror)或是場鏡(Field lens)取代。於一實施例中，光閥模組450例如可包含一光閥、一電路板、一機構件、一保護蓋及一散熱件但不限定，且光閥模組450例如可包含一數位微鏡裝置。於一實施例中，光閥模組的保護蓋包含一可透光鏡片452，其表面與反射透鏡460的直線距離小於2mm。於另一實施例中，鏡片452的表面與反射透鏡460的直線距離小於1mm。於另一實施例中，鏡片452的表面與反射透鏡460的直線距離小於0.6mm。於本實施例中，框體440鄰近光閥模組450的一端可形成一缺口442，且光閥模組450的一部分可伸入缺口442。若框體440不形成缺口442，框體440的一端會與光閥模組450干涉，使光路調整機構400無法更靠近內部全反射稜鏡460，導致鏡頭的背焦較長。因此，請同時參考圖15A及圖15B，藉由本實施例的設計，因框體440面向光閥模組450的一端形成有缺口442，光閥模組450的一部分可伸入缺口442，亦即光路調整機構400可避開光閥模組450使組裝後的位置更靠近內部全反射稜鏡460，如此可進一步縮小整體的體積且可縮短鏡頭的背焦。另一方面，請同時參考圖15A及圖15C，於本實施例中，框體440的一端可形成一例如遮擋部440d的遮擋結構，框體440上形成的遮擋部440d可提供遮光效果，避免光閥模組450於關閉狀態(OFF state)時的反射光或系統內的雜散光照射到線圈組422及磁鐵424，導致線圈組422及磁鐵424的升溫進而導致失能的問題，且遮擋部440d可減少不必要的光線進 入鏡頭而可提昇對比度。再者，遮擋部440d可獨立形成再連接於框體440或與框體440一體成形均可。於一實施例中，連動件410包含一鏡片，其表面與反射透鏡460的直線距離小於3mm。於另一實施例中，此鏡片表面與反射透鏡460的直線距離小於2mm。於另一實施例中，此鏡片表面與反射透鏡460的直線距離小於1.5mm。

圖16A為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。如圖16A所示，光路調整機構400a的框體440於鄰近光閥模組450的一端具有一上延伸部440a及一下延伸部440b，且上延伸部440a及下延伸部440b界定出一容置空間，光閥模組450可置入上延伸部440a及下延伸部440b之間，使光閥模組450的例如上、下二個側面與延伸部440a、440b形成疊合關係，於此「疊合關係」的用語可定義為光閥模組450於空間中沿水平或鉛直方向的投影可投射到至少部分的延伸部440a、440b，或者延伸部440a、440b於空間中沿水平或鉛直方向的投影可投射到至少部分的光閥模組450。於本實施例中，光學元件410可設於框體440內，線圈組422可設於框體440與光學元件410之間，框體440可承載內部全反射稜鏡460(內部全反射稜鏡460由框體440所包覆)，使光路調整機構400組裝後的位置得以更靠近內部全反射稜鏡460。圖16B為本發明另一實施例的光路調整機構的示意圖。如圖16B所示，光路調整機構400b的框體440於鄰近光閥模組450的一端形成的延伸部可包含一凸耳結構440c，且光閥模組450可置入凸耳結構440c圈圍出的開口446，亦即凸耳結構440可與光閥模組450的至少二個側面形成疊合關係，使光路調整機構400組裝後的位置得以更靠近內部全反射稜鏡460。基於前述各個實施例可知，框體440僅需於鄰近光閥模組450的一端對應光閥模組450形成缺口或延伸部，且缺口或延伸部可界定出容置至少部分光閥 模組450的空間，即可獲得讓光路調整機構400組裝後的位置得以更靠近內部全反射稜鏡460的效果。

圖17A為本發明另一實施例的光路調整機構搭配其他光學元件的構件分解圖，圖17B為圖17A之光路調整機構於組裝後的側視及俯視示意圖。如圖17A及圖17B所示，光路調整機構400c的遮擋結構可為一獨立的遮擋片448，遮擋片448可設置於框體440與其他光件(例如光閥模組450、內部全反射稜鏡460)之間，避免光閥模組450於關閉狀態(OFF state)的反射光或系統的雜散光照射系統的其他構件造成溫度升高或對比度下降等問題。圖17C為依本發明一實施例，顯示遮擋片448與光閥模組450及內部全反射稜鏡460的示意圖。如圖17C所示，因獨立的遮擋片448沒有設於框體440上的條件限制，故於配置型態上具有較大的設計彈性，於一實施例中，遮擋片448的分佈區域、面積大小可視光閥模組450的關閉狀態(OFF state)反射光及系統雜散光的主要出沒位置進行最佳化的配置，以進一步提升光屏蔽效果。需注意上述各個實施例中，例如光閥模組及內部全反射稜鏡的元件僅為例示，例如內部全反射稜鏡可由場鏡(field lens)或反射鏡(mirror)替代，且當光路調整機構運用於不同光學系統或設置於光學系統的不同位置時，遮擋結構(例如遮擋部440d或遮擋片448)同樣可用以遮擋不同光件產生的不必要光線或雜散光。再者，遮擋結構的材料並不限定，例如可為塑膠或金屬，且若遮擋結構為例如金屬的導熱材料所構成，遮擋結構也例如可延伸至接觸光閥模組450以提供協助光閥模組450散熱的功能。另外，遮擋結構也可調整大小及外型以作為光閥模組450與投影鏡頭(未圖示)間的一光圈，或者可作為光機上蓋以提供防塵效果。

需注意本發明各個實施例所提及的個別特徵，並非僅 能運用於繪示或描述該特徵的實施例中，亦即該特徵可運用於本發明的各個其他實施例或其他說明書未例示出的變化例而不限定。舉例而言，圖15A的實施例顯示框體440具有一缺口442及遮擋結構440d，但其並不限定，具有缺口442的框體440亦可搭配如圖17A所示未與框體440連結的獨立的遮擋片448。或者，於如圖18所示的另一實施例中，鏡片212可藉由板簧232設於例如鏡片座214的載體上，且兩個彼此獨立不相連線圈組222可分別設置於鏡片座214的兩對角側。

雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。另外，本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明之權利範圍。

Claims (19)

1. 一種光路調整機構，包含：一外框；一光學元件，設於該外框內且以一轉軸線為軸心作動；一控制機件，設於該光學元件與該外框之間；至少一磁性體，設於該外框上，各該磁性體的兩端的一連線實質上不平行該轉軸線，且於該光學元件未作動時，該磁性體與該光學元件實質上位於同一水平面；以及一線圈組，繞設於該光學元件外。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光路調整機構，其中該控制機件為彈簧、板簧、線簧、可撓式片狀機件或可撓式葉狀機件。
3. 一種光路調整機構，包含：一框架；一連動件，包含一鏡片，容置於該框架內；一傳動機件，該傳動機件兩端分別連接於該連動件與該框架之間；至少一磁性材料，設於該框架上，且該磁性材料的兩端的一連線的延伸線，相交於該傳動機件兩端的一連線的延伸線；以及一線圈，圍繞該鏡片。
4. 如申請專利範圍第3項所述之光路調整機構，其中該傳動機件係為設於該連動件兩端的兩個板簧或者橫跨該連動件的一板簧。
5. 一種光路調整機構，包含：一外框；一鏡片，設於該外框內；以及 一控制機件，設於該鏡片與該外框之間；其中控制機件與該鏡片接觸部份形成一第一接觸點，該控制機件與該外框接觸部份形成一第二接觸點，且該第一接觸點與該第二接觸點具有實質不同的水平高度。
6. 如申請專利範圍第5項所述之光路調整機構，更包含：一線圈，繞設於該鏡片外。
7. 一種光路調整機構，包含：一框架；一連動件，包含一可偏折光線的光學元件；一線圈組，繞設於該連動件上；以及一傳動機件，具有實質相對的第一端與第二端，該第一端連接該連動件，該第二端連接該框架，且該第一端與第二端之間至少包括一個轉折點。
8. 如申請專利範圍第7項所述之光路調整機構，其中該第一端及該第二端分別包含彼此實質垂直的兩個面。
9. 一種光路調整元件，包含：一鏡片，該鏡片外緣的厚度方向設有階梯部，且該階梯部包含一側壁；以及一線圈，繞設於該鏡片階梯部的該側壁。
10. 一種光路調整機構，包含：一連動件，包含一可偏折光線的光學元件，且該連動件的周緣厚度方向設有一凹下部份；一線圈組，繞設於該連動件的該凹下部份，且圍繞該光學元件；以及一傳動機件，該傳動機件之一端連接於該連動件。
11. 如申請專利範圍第10項所述之光路調整機構，其中該線圈組具有實質上沿該光學元件法線方向疊設的複數層線圈。
12. 如申請專利範圍第10項所述之光路調整機構，其中該連動件的周緣厚度方向設有複數個彼此不連續的凹下部份。
13. 一種光路調整機構，包含：一外框，該外框於鄰近一光閥模組的一端形成一缺口，且該光閥模組一部分伸入該缺口；一光學元件，設於該外框內；以及一線圈組，圍繞該光學元件。
14. 一種光路調整機構，包含：一框架，該框架於鄰近一光閥模組的一端形成一延伸部，且該延伸部與該光閥模組的至少二個側面形成疊合關係；一鏡片，設於該框架內；以及一線圈，設於該框架與該鏡片之間。
15. 如申請專利範圍第14項所述之光路調整機構，其中該延伸部包含一凸耳結構。
16. 如申請專利範圍第14項所述之光路調整機構，其中該延伸部沿水平或鉛直方向的投影投射到至少部分的光閥模組。
17. 如申請專利範圍第14項所述之光路調整機構，其中該框架包覆一內部全反射稜鏡。
18. 一種光學架構，包含：一光閥模組，具有一光閥及一第一鏡片，該第一鏡片具有一第一表面；一反射透鏡，鄰近該光閥模組，且與該第一表面的直線距離小於2mm；以及 一光路調整機構，鄰近該反射透鏡。
19. 如申請專利範圍第18項所述之光學架構，其中該光路調整機構具有一第二表面的一第二鏡片，該第二表面與該反射透鏡的直線距離小於3mm。