TW201809726A - 光學觸碰膜、包含其之顯示裝置以及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

光學觸碰膜包括感應器層、光學膜、黏合層、分離層和折射絕緣層。感應器層包括形成感應器的觸碰電極。黏合層位於感應器層與光學膜之間。分離層位於感應器層的表面上。分離層包括有機聚合物材料。折射絕緣層位於觸碰電極上。折射絕緣層的折射率比分離層的折射率大。

Description

光學觸碰膜、包含其之顯示裝置以及其製造方法
相關申請的交叉引用
本申請要求2011年6月13日提交的韓國專利申請No.10-2016-0073183和2017年5月30日提交的韓國專利申請10-2017-0066929的優先權和權益，其內容透過引用併入本文。
本發明基本上涉及光學觸碰膜、包括該光學觸碰膜的顯示裝置及其製造方法。
諸如液晶顯示器(LCD)和有機發光二極體(OLED)顯示器的顯示裝置通常包括像素電極和光電主動層(electro-optical active layer)。例如，OLED顯示器可以包括作為光電主動層的有機發光層，並且LCD可以包括作為光電主動層的液晶層。像素電極可以連接到諸如薄膜電晶體的開關元件以施加資料訊號，並且光電主動層可以將資料訊號轉換為光訊號以顯示圖像。
除了顯示圖像的功能之外，顯示裝置還可以包括用於實現與用戶的互動時的感測功能。感測功能是可以確定對像是靠近還是接觸顯示裝置的螢幕的功能，並且當用戶用手指、觸碰筆等接近或接觸螢幕，以輸入文字、繪圖和/或以其他方式與顯示裝置互動時，可以透過檢測壓力、電荷、聲學或光線的變化來提供關於接觸位置等的接觸資訊。顯示裝置可以基於接觸資訊接收圖像訊號以顯示圖像。
可以透過感應器實現感測功能。感應器可以根據電阻型、電容型、電磁(EM)型、聲學型、光學型等各種方法進行分類。在這些方法中，電容式感應器通常包括複數個用於傳輸檢測訊號的觸碰電極。觸碰電極可以單獨形成感測電容器，或者與相鄰的觸碰電極一起形成。如果諸如手指的導體接近或接觸感應器(或顯示裝置的螢幕)，則由檢測電容器產生電容的變化或電荷量的變化，從而確定接觸持續時間和接觸位置。
複數個觸碰電極可以設置在可以感測接觸點的顯示裝置的觸碰感測區域處，並且可以連接到傳輸檢測訊號的複數個訊號傳輸線。感應器可以形成在顯示裝置內(例如，內嵌型感應器(in-cell type sensor))內，或者可以直接形成在顯示裝置的外表面(例如，外嵌型感應器(on-cell type sensor))上。作為另一示例，單獨的觸碰感應器單元(或模組)可以附接到顯示裝置(例如，外掛型感應器(add-on cell type sensor))。觸碰感應的可撓性顯示裝置通常包括具有感應器的膜，並且膜通常以外掛的方式附著在可撓性顯示裝置的顯示面板上。
本節中公開的上述資訊僅用於增強對本發明概念的背景的理解，因此，它可以包含非構成本領域之具有通常知識者已知的現有技術的資訊。
一部分例示性實施例能夠減少包括感測功能的顯示裝置的厚度和製造成本。還應注意，一部分例示性實施例還能夠改善顯示裝置的光學特性(例如，增加透光率，減少顏色變化或偏移等)。
另外的方面將在下面的詳細描述中闡述，並且部分地將從本公開中顯而易見，或者可以通過本發明概念的實踐來了解。
根據一部分例示性實施例，光學觸碰膜包括感應器層、光學膜、固化型黏合層、分離層和折射絕緣層。感應器層包括形成感應器的觸碰電極。固化型黏合層在該感應器層和光學膜之間。分離層位於感應器層的表面上。分離層包括有機聚合物材料。折射絕緣層位於接觸觸碰電極的層。折射絕緣層的折射率比分離層的折射率大。
根據一部分例示性實施例，顯示裝置包括顯示面板和光學觸碰膜。光學觸碰膜包括感應器層、光學膜、固化型黏合層、分離層和折射絕緣層。感應器層包括形成感應器的觸碰電極。固化型黏合層位於感應器層和光學膜之間。分離層位於感應器層的表面上。分離層包括有機聚合物材料。折射絕緣層位於接觸觸碰電極的層。折射絕緣層的折射率比該分離層的折射率大。
根據一部分例示性實施例，製造顯示裝置的方法包括：在載體基板上塗覆包括有機聚合物材料的分離層；在分離層上形成感應器層；將感應器層和分離層與載體基板分離；以及在感應器層和光學膜之間固化黏合層。感應器層包括觸碰電極和與觸碰電極接觸的折射絕緣層。折射絕緣體的折射率大於分離層的折射率。
根據一部分例示性實施例，光學觸碰膜包括感應器層、光學膜、黏合層、分離層和折射絕緣層。感應器層包括形成感應器的觸碰電極。光學膜位於感應器層上。黏合層位於感應器層與光學膜之間。分離層是該感應器層的表面上。分離層包括有機聚合物材料。折射絕緣層位於觸碰電極上。折射絕緣層的折射率比分離層的折射率大。
上述一般描述和以下詳細描述是例示性和說明性的，並且旨在提供所要求保護的主題的進一步說明。
在下面的描述中，為了說明的目的，闡述了許多具體細節，以便提供對各種例示性實施例的透徹理解。然而，顯而易見的，可以在沒有這些具體細節或一個或多個等效設置的情況下實踐各種例示性實施例。在其他實施例中，以框圖形式示出了公知的結構和設備，以避免不必要地模糊各種例示性實施例。此外，各種例示性實施例可以不同，但不一定是排他性的。例如，在不脫離本公開的精神和範圍的情況下，可以在另一例示性實施例中實現例示性實施例的特定形狀、配置和特徵。
除非另有說明，所示出的例示性實施例將被理解為提供一部分例示性實施例的不同細節的例示性特徵。因此，除非另有說明，否則可以將各種圖示的特徵、部件、模組、層膜、面板、區域、態樣等(以下單獨地或統稱為“元件”)彼此組合、分離、互換和/或重新排列而不脫離公開的例示性實施例。
通常提供在附圖中使用交叉影線(cross-hatching)和/或陰影來使相鄰元件之間的邊界更加清楚。因此，交叉影線或陰影的存在和不存在傳達或表示所示元件之間的特定材料、材料性質、尺寸、比例、共同性，和/或元件的任何其它特徵、屬性、性質等的任何偏好或需求除非另有說明。此外，在附圖中，為了清楚和/或描述目的，元件的尺寸和相對尺寸可能被誇大。當可以不同的方式實現例示性實施例時，可以不同於所描述的順序執行特定處理順序。例如，可以實質上同時執行兩個連續描述的處理或者以與所描述的順序相反的順序執行。同樣，元件符號表示相同的元件。
當元件被稱為“在其上(on)”、“連接到(connected to)”或“耦合到(coupled to)”另一個元件時，其可以直接在另一元件上、直接連接到或耦合到另一元件，或者可以存在中間元件。然而，當元素被稱為“直接連接(directly on)”、“直接連接到(directly connected to)”或“直接耦合到(directly coupled to)”另一個元素時，不存在中間元素。此外，Dr1軸、Dr2軸和Dr3軸不限於直角坐標系的三個軸，並且可以在更廣泛的意義上被解釋。例如，Dr1軸、Dr2軸和Dr3軸可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。為了本公開的目的，“X、Y和Z中的至少一個”和“選自X、Y和Z的至少一個”可以解釋為僅X、僅Y、或X、Y、Z兩個以上的任意組合，例如XYZ、XYY、YZ、ZZ等。如本文所用，術語“和/或(and/or)”包括一個或多個相關列出的項目的任何和所有組合。
儘管術語“第一(first)”、“第二(second)”等可以用於描述各種元素，但是這些元素不應該受這些術語的限制。這些術語用於區分一個元素和另一個元素。因此，在不脫離本公開的教示的情況下，下面討論的第一元件可以被稱為第二元件。
為了描述的目的，這裡可以使用諸如“下(beneath)”、“下(below)”、“下(under)”、“下(lower)”、“上(above)”、“上(upper)”、“上(over)”等之類的空間相對術語，描述一個元件與另一元件的關係，如圖所示。空間相對術語旨在包括除了附圖所示的方向之外的使用、操作和/或製造中的裝置的不同方向。例如，如果附圖中的設備被翻轉，則被描述為“下面(below)”或“下面(beneath)”其它元件或特徵的元件將被定向在其他元件或特徵“之上(above)”。因此，例示性術語“下面(below)”可以包括上下方向。此外，該設備可以以其他方式定向(例如，旋轉90度或以其他方向)，並且因此本文中使用的空間相對描述符被相應地解釋。
本文使用的術語是為了描述特定實施例的目的，而不是限制性的。如本文所使用的，單數形式“一(a)”、“一(an)”和“該(the)”也旨在包括複數形式，除非上下文另有明確指示。此外，在本說明書中使用時，術語“包括(comprise)”、“包括(comprising)”、“包括(includes)”和/或“包括(including)”指定該特徵、整體、步驟、操作、元件、組件和/或組和的存在但不排除存在或添加一個或多個其它特徵、整體、步驟、操作、元件、組件和/或其組合。還應注意，如本文所使用的，術語“實質上(substantially)”、“約(about)”和其他類似術語用作近似術語，而不是作為程度術語，並且因此在本領域之具有通常知識者將可以理解的測量、計算和/或提供的值的固有偏差。
本文參照作為理想化例示性實施例和/或中間結構的示意圖的截面圖和/或分解圖描述了各種例示性實施例。因此，例如製造技術及/或誤差的結果所造成的圖示的形狀的變化是在預期中的。因此，本文公開的例示性實施例不應被解釋為限於具體示出的區域的形狀，而是包括由例如製造產生的形狀偏差。以這種方式，附圖中所示的區域本質上是示意性的，這些區域的形狀可能不示出裝置的區域的實際形狀，並且不意圖在限制本發明。
根據本領域的慣例，在功能區塊(functional blocks)、單元和/或模組方面，在附圖中描述和示出了一部分例示性實施例。本領域具有通常知識之技術人員將理解，這些區塊、單元和/或模組透過電子(或光學)電路物理地實現，例如邏輯電路、分立部件、微處理器、硬佈線電路、記憶體元件、佈線連接等，其可以使用基於半導體的製造技術或其他製造技術形成。在由微處理器或其他類似硬體實現的區塊、單元和/或模組的情況下，可以使用軟體(例如，微代碼)對其進行編程和控制，以執行本文所討論的各種功能，並且可以可選地由韌體和/或軟體。還可以設想，每個區塊、單元和/或模組可以由專用硬體實現，或者作為專用硬體的組合來執行一部分功能，以及處理器(例如，一個或複數個已編程的微處理器和相關聯的電路)來執行其他功能。而且，在不脫離本發明構思的精神和範圍的情況下，一部分例示性實施例的每個區塊、單元和/或模組可以被物理地分離成兩個或更多個互動和離散區塊、單元和/或模組。此外，一部分例示性實施例的區塊、單元和/或模組可以在不脫離本發明構思的精神和範圍的情況下物理地組合成更複雜的區塊、單元和/或模組
除非另有定義，本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域之具有通常知識者理解的相同的含義。諸如常用詞典中定義的術語應被解釋為具有與其在相關領域的背景下的含義一致的含義，並且不會以理想化或過度正式的意義來解釋，除非本文明確定義。如本文所用，術語“在平面上(on a plane)”是指從頂部觀看對象物，並且術語“在截面上(on a cross-section)”是指從側面觀看垂直切割的對象物的截面。
現在將參照第1至5圖，其描述根據一部分例示性實施例的顯示裝置。
第1圖是根據一部分例示性實施例的顯示裝置的示意性截面圖。第2圖是根據一部分例示性實施例的顯示裝置的顯示面板的示意性平面圖。第3圖是根據一部分例示性實施例的包括在顯示裝置中的光學觸碰膜的示意性平面圖。第4圖是第3圖的根據一部分例示性實施例的光學觸碰膜的一部分的放大圖。第5圖是根據一部分例示性實施例的光學觸碰膜沿著第4圖的線IV-IV'截取的截面圖。
顯示裝置1是具有感測功能的顯示裝置，其可以實現諸如外部觸碰之類的用戶互動的感測(或檢測)。顯示裝置1包括顯示圖像的顯示面板300、光學觸碰薄膜600和控制器700。
顯示面板300和光學觸碰薄膜600可以具有在平行於第一方向Dr1和第二方向Dr2的平面上延伸的主表面。從垂直於第一方向Dr1和第二方向Dr2的第三方向Dr3觀察時，可以觀察到顯示面板300和光學觸碰膜600的主表面。顯示面板300和光學觸碰薄膜600的至少一部分可以是可撓性的，並且因此可以透過彎曲、彎折或捲起而變形。
參考第1圖，顯示面板300和光學觸碰薄膜600可以設置成在與第三方向Dr3平行的方向上靠近。光學觸碰膜600可以在第三方向Dr3上黏合在顯示面板300上。
參考第2圖，顯示面板300包括其中定位有複數個像素PX(每個像素PX是顯示圖像的單元)的顯示區域DA。顯示面板300可以包括至少一種結構的顯示元件，諸如包括液晶層(未示出)的液晶面板、包括有機發光元件(未示出)的有機發光面板等。
參考第5圖，當觀察截面結構時，光學觸碰膜600可以包括光學膜550、感應器層400、黏合層10和分離層120a。黏合層10可以位於光學膜550和感應器層400之間。分離層120a可被定位在感應器層400的任何表面。第5圖示出了黏合層10和分離層120a彼此接觸的實施例。此外，根據一部分例示性實施例，光學膜550可以位於感應器層400和顯示面板300之間，但是例示性實施例不限於此。例如，感應器層400可以設置在顯示面板300和光學膜550之間。
以下將參照第3至第5圖，以更詳細地描述感應器層400的例示性結構。
參考第3圖，光學觸碰膜600的感應器層400可以包括平面上的觸碰區域TA和周邊區域PA。
觸碰區域TA是能夠感測外部對象的觸碰的區域。觸碰區域TA可以與顯示面板300的顯示區域DA對應並重疊。於此，外部物體的觸碰包括外部物體接近顯示裝置1或以接近狀態徘徊的情況以及外部物體(諸如用戶的手指)在觸碰區域TA接觸顯示設備1的情況。為了描述方便，將結合外部對像在觸碰區域TA中接觸顯示裝置1的情況來描述例示性實施例。
能夠感測接觸點的感應器位於觸碰區域TA中。感應器可以感測各種方式(scheme)中的至少一種的接觸。例如，該感應器可以是電阻型、電容型、電磁(EM)型、聲學型、和/或光學型的感應器。為了描述方便，將結合例示性實施例更詳細地描述電容型感應器的結構，更具體地，係描述互電容式感應器的結構。
參考第3圖，感應器可以包括複數個觸碰電極。在互電容型感應器的情況下，複數個觸碰電極可以包括彼此分離的複數個第一觸碰電極410和複數個第二觸碰電極420。
第一觸碰電極410和第二觸碰電極420交替地分散在觸碰區域TA中，實質上彼此不重疊，如下文將更加清楚地敘述。第一觸碰電極410可以根據行方向和列方向設置，並且第二觸碰電極420也可以根據行方向和列方向設置。第一觸碰電極410和第二觸碰電極420可以實質上位於同一層；然而，例示性實施例不限於此。
設置在同一行或列中的第一觸碰電極410可以彼此連接或者可以在觸碰區域TA內部或外部彼此分離。設置在同一行或列中的第二觸碰電極420的至少一部分可以彼此連接或者可以在觸碰區域TA的內部或外部彼此分離。如第3圖所示，設置在同一列中的第一觸碰電極410可以在觸碰區域TA中連接，並且設置在同一行中的第二觸碰電極420可以在觸碰區域TA中彼此連接。
根據一部分例示性實施例，位於每一列中的第一觸碰電極410可以透過第一連接部412彼此連接，並且位於每一行中的第二觸碰電極420可以透過第二連接部422彼此連接。
參考第3至第5圖，連接相鄰的第二觸碰電極420的第二連接部422可以位於與第二觸碰電極420相同的層中，並且可以包括與第二觸碰電極420相同的材料。也就是說，第二觸碰電極420和第二連接部422可以是一體的，並且可以在製造過程中同時被圖樣化。連接相鄰的第一觸碰電極410的第一連接部412可以位於與第一觸碰電極410不同的層。也就是說，第一觸碰電極410和第一連接部412可以以不同的處理單獨形成。
根據一部分例示性實施例，第一連接部412和第一觸碰電極410可以位於相同的層並且可以彼此一體地形成，並且第二連接部422可以設置在與第二觸碰電極420不同的層。
第一絕緣層430位於第一連接部412和第二連接部422之間，並且使第一連接部412和第二連接部422彼此絕緣。第一絕緣層430可以包括分別暴露相鄰的第一觸碰電極410以將第一連接部412連接到相鄰的第一觸碰電極410的接觸孔435。
參考第3圖，每一列的第一觸碰電極410可以透過第一觸碰線411連接到周邊區域PA中的墊部分450，並且每一行的第二觸碰電極420可以透過第二觸碰線421連接到周邊區域PA中的墊部分450。在一部分例示性實施例中，第一觸碰線411和第二觸碰線421的至少一部分可以位於觸碰區域TA中。
第一觸碰電極410和第二觸碰電極420可以具有預定或更高的透射率，使其可以發射光。例如，第一觸碰電極410和第二觸碰電極420可以由諸如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、諸如銀奈米線(AgNW)的薄金屬層、金屬網、奈米碳管(CNT)和導電聚合物等透明導電材料製成，。
第一觸碰線411和第二觸碰線421可以包括包含在第一觸碰電極410和第二觸碰電極420中的透明導電材料，並且還可以包括相對低電阻的材料，例如鉬(Mo)、銀(Ag)、鈦(Ti)、銅(Cu)和/或鋁(Al)。在一部分例示性實施例中，第一觸碰線411和第二觸碰線421可以具有上述材料中的一種或多種的多層結構，例如鉬/鋁/鉬(Mo/Al/Mo)的多層結構。第5圖示出了第一觸碰線411包括相對於第三方向Dr3彼此設置的第一導電層411a和第二導電層411b的示例。應注意的是，第5圖所示的第一觸碰線411的結構可以相關聯地應用至第二觸碰線421。第一導電層411a可以位於與第一觸碰電極410相同的層，並且可以包括與第一觸碰電極410相同的材料。第二導電層411b可以被設置在第一導電層411a且可包括低電阻材料，如金屬。
彼此相鄰的第一觸碰電極410和第二觸碰電極420形成用作感應器的互感電容器(mutual sensing capacitor)。互感電容器可以透過第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的一個觸碰電極接收感測輸入訊號(sensing input signal)，並且可以透過第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的另一個觸碰電極輸出與作為感測輸出訊號(sensing output signal)的與外部對象的接觸相關聯的電荷量的變化。
如第3圖和第4圖所示，複數個第一觸碰電極410和複數個第二觸碰電極420可以分別連接到觸碰佈線(touch wiring)(未示出)。在這種情況下，每個觸碰電極可以形成用作感應器的自感電容(self-sensing capacitance)。可以透過接收感測輸入訊號來對自感電容器充電預定的電荷量，並且可以響應於諸如手指的外部物體的接觸，產生電荷量的變化，並且輸入感測輸入訊號不同的感測輸出訊號可以被輸出到例如控制器700。
參考第5圖，感應器層400還可以包括位於第一連接部412和第一絕緣層430上的第二絕緣層440。以這種方式，感應器層400的主表面包括第一表面SA1和第二表面SA2。第一表面SA1和第二表面SA2形成彼此相對的感應器層400的表面。在第一表面SA1和第二表面SA2中，第一連接部412、第一觸碰電極410和第二觸碰電極420中更靠近第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的表面被稱為作為第一表面SA1，第一表面SA1的相對表面被稱為第二表面SA2。第一表面SA1和第二表面SA2的位置可以改變。也就是說，第二表面SA2可以位於比第一表面SA1更靠近顯示面板300的位置。
如第5圖所示，光學膜550可以位於感應器層400和顯示面板300之間。黏合層10可以設置在感應器層400和光學膜550之間。黏合層10可以與光學膜550的表面接觸，例如光學膜550的與感應器層400的第一表面SA1相對的表面。
黏合層10可以包括有機聚合物材料，並且可以是與不改變材料本身的典型黏合不同的固化型黏合，例如熱固型或紫外線(UV)固化型，但可以透過黏合劑本身的黏度黏附到其他材料上。因此，黏合層10包括固化(或硬化)黏合材料。
分離層120a可以位於黏合層10和感應器層400之間，或位於感應器層400的第二表面SA2上。第5圖示出了分離層120a位於感應器層400和黏合層10之間的示例。在這種情況下，黏合層10可以直接鄰近分離層120a並與分離層120a接觸。黏合層10可以位於分離層120a和光學膜550之間，從而將分離層120a和光學膜550彼此黏合。
分離層120a可以包括有機聚合物材料。例如，分離層120a可以包括聚酰亞胺(polyimide)、聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)、聚酰胺酸(polyamic acid)、聚酰胺(polyamide)、聚乙烯(polyethylene)、聚苯乙烯(polystyrene)、降冰片烯(polynorbornene)、苯基馬來酰亞胺共聚物(phenylmaleimide copolymer)、具偶氮苯(polyazobenzene)、聚伸苯基鄰苯二甲醯胺(polyphenylenephthalamide)、聚酯(polyester)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate)、聚芳酯(polyarylate)、肉桂酸酯類聚合物(cinnamate-based polymer)、香豆素類聚合物(coumarin-based polymer)、苯二酰亞胺類聚合物(phthalimidine-based polymer)、查耳酮基聚合物(chalcone-based polymer)及芳族乙炔基聚合物(aromatic acetylene-based polymer)中的至少一種。除了有機聚合物材料之外，分離層120a還可以包括無機材料。
分離層120a相對於第一觸碰電極410和第二觸碰電極420可以具有比與玻璃相比更大的黏附力。分離層120a在第三方向Dr3上的厚度可以為約1微米至約100微米，但是例示性實施例不限於此。
不像第5圖所示，光學膜550可以位於感應器層400的第二表面SA2上。以這種方式，黏合層10可以位於第二表面SA2和光學膜550之間。
在一部分例示性實施例中，光學膜550可以包括透明膜和偏光膜(polarization film)中的至少一個。透明膜可以是等向膜(isotropic film)。偏光膜(例如，用於改善光學特性的膜)可以包括至少一個偏光層和至少一個相位延遲層(phase retardation layer)。偏光層可以包括聚乙烯醇(polyvinyl alcohol，PVA)，並且還可以包括至少一個支撐元件。偏光膜可以是圓偏光膜(circular polarization film)，在這種情況下，偏光膜可以包括線性偏光層(linear polarization layer)和四分之一波長相位延遲層(quarter wavelength phase retardation layer)。在光學膜550是偏光膜的情況下，偏光膜中的相位延遲層可以在偏光層和顯示面板300之間。也就是說，偏光層可以位於相位延遲層和感應器層400之間。
光學膜550可以用於防止(或減少)外部光從顯示面板300、電極反射和/或其中的佈線反射而被識別，例如，防止被感應器層400中的電極反射的光被識別。換句話說，入射到顯示裝置1內的光通過光學膜550，被下面的電極或佈線反射，並再次入射到光學膜550，並且與入射到光學膜550的環境光引起相消干涉(destructive interference)，使得光可能不被識別為在顯示裝置1的外部。
在光學觸碰膜600的製造過程中，根據一部分例示性實施例，在分離層120a上形成分離層120a之後，在分離層120a上形成感應器層400(未示出)。感應器層400與分離層120a一起與載體基板分離，並且使用黏合層10將分離的感應器層400和分離層120a黏合到光學膜550的表面。以這種方式，光學膜550不會因形成感應器層400的製程而損壞。還應注意，光學膜550和感應器層400可以具有相對高的黏附力和固定力。因此，當顯示裝置1是可撓性時，其可以減小或消除光學膜550和感應器層400之間的分離的可能性，從而不會產生缺陷。
通常，用作感測層和光學膜的膜分別形成並黏合到顯示面板；然而，根據一部分例示性實施例，由於感應器層400透過黏合層10黏合在光學膜550上，所以具有感測功能的一個光學觸碰膜600改善顯示裝置1的光學特性，並可以取代兩個或更多的傳統薄膜。因此，可以減小顯示裝置1的整體厚度。在可撓性顯示裝置的情況下，減小的厚度也減小了當顯示裝置1變形時的應力。此外，具有諸如感測功能和光學特性改善功能等複數功能的光學觸碰膜600僅包括一個膜，使得膜的生產成本可以降低，並且可以減少顯示裝置1的製造成本。此外，位於顯示面板300上的複數個膜可以被最小化(或減小)，從而可以增加透過顯示面板300所顯示的圖像的透射率，並且可以最小化(或減少)顏色變化(或偏移)。
回到第1圖，控制器700可以控制顯示面板300和光學觸碰薄膜600的操作。例如，控制器700可以從源(例如，外部源)接收輸入圖像訊號，並且可以基於輸入圖像訊號將該訊號施加到顯示面板300。控制器700可以連接到光學觸碰膜600的感應器，從而控制感應器的操作。也就是說，控制器700可以將感測輸入訊號發送到感應器，或者可以接收要處理的感測輸出訊號，從而生成接觸資訊，諸如接觸持續時間資訊和接觸位置資訊。
在一部分例示性實施例中，控制器700可以至少一個集成電路(IC)晶片的形式安裝在顯示面板300或光學觸碰薄膜600上、或以帶狀載體封裝(tape carrier package，TCP)的形式直接安裝在可撓性印刷電路膜(未示出)上以附接到顯示面板300的光學觸碰薄膜600、或安裝在單獨的印刷電路板(未示出)上。
接下來，將參照第6圖和第7圖配合第1至5圖描述根據一部分例示性實施例的顯示裝置1的製造方法。
第6圖和第7圖是根據一部分例示性實施例的製造光學觸碰膜的製程的中間步驟的中間產品的截面圖。
參考第6圖，將聚合物有機材料塗覆在載體基板110上以形成分離層120。載體基板110可以包括玻璃；然而，可以與例示性實施例相關聯地使用任何合適的材料。
第一觸碰電極410、第二觸碰電極420、第一觸碰線411、第二觸碰線421、第一連接部412和第二連接部422形成在分離層120上。例如，包括諸如ITO和/或IZO的透明導電材料的第一導電層(未示出)和包括諸如金屬的低電阻材料的第二導電層(未示出)順序地設置在分離層120並圖樣化。除去與第一觸碰線411和第二觸碰線421相對應的部分之外的第二導電層的一部分，以形成包括第一導電層411a和第二導電層411b的第一觸碰線411和第二觸碰線421。將第二導電層和第一導電層的圖樣化以形成複數個第一觸碰電極410、複數個第二觸碰電極420和複數個第二連接部422。絕緣材料設置在第一觸碰電極410、第二觸碰電極420、第二連接部422、第一觸碰線411和第二觸碰線421上，並被圖樣化以形成具有接觸孔435的第一絕緣層430。然後將導電材料設置在第一絕緣層430上並被圖樣化以形成第一連接部412。絕緣材料設置在第一連接部412和第一絕緣層430上以形成第二絕緣層440。
與第6圖所示的不同之處在於，第一觸碰電極410和第二觸碰電極420以及第一連接部412的垂直設置位置可以改變。
參考第7圖，在形成感應器層400之後，分離層120與感應器層400一起被剝離並與載體基板110分離。可以使用卷對卷剝離法(roll-to-roll peeling method)作為剝離方法；然而，可以與例示性實施例相關聯地使用任何其它合適的方法。以這種方式，分離層120a可以位於分離的感應器層400的第一表面SA1的下方。分離層120a可以實質上包括在執行分離處理之前存在的大部分分離層120。因此，在分離處理之前，分離層120a在第三方向Dr3上的厚度可以實質上等於或稍小於分離層120在第三方向Dr3上的厚度。
參考第5圖，在位於分離後的感應器層400下的分離層120a的下表面和/或感應器層400的上表面塗佈黏合材料以形成黏合層10。光學膜550和感應器層400經由黏合層10黏合，並且黏合層10透過熱固化(或硬化)或紫外線(UV)固化(或硬化)而固化(或硬化)，從而結合感應器層400和光學膜550。因此，可以形成根據一部分例示性實施例的光學觸碰膜600。
根據一部分例示性實施例的顯示裝置1的製造方法，感應器層400單獨形成在載體基板110上，並被分離接著黏合到光學膜550，使得光學膜550可以不被感應器層400的製造過程中的加熱損害。此外，此過程還使得光學膜550和感應器層400具有相對較高(或良好)的黏附性。此外，具有感應功能和光學特性改善功能等多種功能的光學式觸碰膜600僅包含單層膜，從而可以降低膜的生產成本，從而降低顯示裝置1的製造成本和顯示裝置1的厚度。
第1至5圖以及第8至31圖包括了所描述的根據一部分例示性實施例的顯示裝置1中的光學觸碰膜600的各種修改。為了避免模糊例示性實施例，下面將主要討論差異。
第8圖至第31圖是根據各種例示性實施例的顯示裝置中包括的光學觸碰薄膜的截面圖。
參考第8圖，可以包括在顯示裝置1中的光學觸碰膜600a類似於光學觸碰膜600；然而，感應器層400可以位於光學膜500和顯示面板300之間。光學膜500實質上與上述的光學膜550相同。在光學膜500是偏光膜的情況下，包含在偏光膜中的相位延遲層可以位於偏光層和感應器層400之間。光學膜500可以位於感應器層400的第一表面SA1上。黏合層10和分離層120a可被定位在第一表面SA1和光學膜500之間。
根據一部分例示性實施例，由於光學膜500比感應器層400更遠離顯示面板300，所以可以更有效地防止(或減少)由感應器層400中包括的電極或佈線所反射的外部光被識別。
參考第9圖，可以包括在顯示裝置1中的光學觸碰膜600b類似於光學觸碰膜600a；然而，感應器層400的垂直方向(或方位)可以不同。也就是說，顯示面板300可以位於感應器層400的第一表面SA1下方，並且光學膜500可以位於感應器層400的第二表面SA2上。此外，分離層120a不與黏合層10接觸，而是可以位於顯示面板300和感應器層400之間。
參考第10圖，可以包括在顯示裝置1中的除了感應器層400a的結構之外類似於光學式觸碰膜600a的光學式觸碰膜600c。例如，第一連接部412a可以位於分離層120a的下方，具有接觸孔435的第一絕緣層430可以位於第一連接部412a的下方，第一觸碰電極410a、第二觸碰電極420、第一觸碰線411、及第二觸碰線421可以位於第一絕緣層430下方，並且第二絕緣層440可以位於其下方。在這種情況下，比第一連接部412a更靠近第一觸碰電極410a和第二觸碰電極420的感應器層400a的主表面被稱為第一表面SA1。感應器層400a的相對側的表面被稱為第二表面SA2。
參考圖第11至第31圖，除了感應器層400中包含或位於感應器層400周圍的至少一個高折射絕緣層之外，光學觸碰膜類似於光學觸碰膜600、600a、600b和600c。例如，至少一個高折射絕緣層可以設置在形成感應器的第一觸碰電極410和第二觸碰電極420相鄰並接觸的層上。
第11圖示出了高折射絕緣層450M位於分離層120a和第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間的層的示例。高折射絕緣層450M可以是折射率匹配層(refractive index matching layer)，以減少全反射(total reflection)，及減小感應器層400b的圖樣反射，並且透過減小來自第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的表面的光的折射以降低透光率。以這種方式，高折射絕緣層450M的折射率可以具有接近第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的折射率的高折射率。
在一部分例示性實施例中，高折射絕緣層450M的折射率可以大於約1.5。例如，高折射絕緣層450M的折射率可以在約1.6至約2.0的範圍內。在一部分例示性實施例中，高折射絕緣層450M的折射率可以大於組成光學觸碰膜600d的除導電層(例如，第一觸碰電極410、第二觸碰電極420、第一連接部412和第二連接部422)之外的任何絕緣層(例如，分離層120a和第二絕緣層440)的折射率。因此，高折射絕緣層450M的折射率可以是組成光學觸碰膜600d的絕緣層中最接近第一觸碰電極410的第二觸碰電極420絕緣層(例如，分離層120a和第二絕緣層440的折射率)的。
在第一觸碰電極410和第二觸碰電極420包括氧化銦錫(ITO)的情況下，當高折射絕緣層450M具有與第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的折射率相似的折射率時，其設置成接觸第一觸碰電極410和第二觸碰電極420，可以減少全反射，並且因為ITO的折射率為大約在約1.7至約1.9的範圍內，而可以防止或減小感應器層400b的圖樣反射和透射率的降低。分離層120a的折射率可以小於高折射絕緣層450M的折射率。例如，分離層120a的折射率可大於0且小於或等於約1.5。第二絕緣層440的折射率可以小於高折射絕緣層450M的折射率。例如，第二絕緣層440的折射率可以大於0且小於或等於約1.5。
此外，與第一觸碰電極410和第二觸碰電極420接觸的高折射絕緣層450M提升了第一觸碰電極410和第二觸碰電極420的膜的品質，使得可以防止(或減少)缺陷，例如裂紋等在第一觸碰電極410和第二觸碰電極420中發生。例如，當光學觸碰膜600d附接到可撓性顯示裝置並變形(例如，彎曲、彎折等)時，由ITO等形成的第一觸碰電極410和第二觸碰電極420可能出現裂紋。即使在這種情況下，由於高折射絕緣層450M被設置成接觸第一觸碰電極410和第二觸碰電極420，所以可以防止(或減少)諸如裂紋等的缺陷的發生。
高折射絕緣層450M可以是透過塗佈法形成的塗層型絕緣層。高折射絕緣層450M可以包括有機材料(例如，有機聚合物材料)，並且還可以包括奈米顆粒。奈米顆粒可以包括諸如二氧化鋯(ZrO2 )、二氧化矽(SiO2 )等的材料。根據一部分例示性實施例，高折射絕緣層450M可以包括各種高折射率聚合物(high refractive index polymers，HIRP)或無機薄膜。高折射絕緣層450M可以透過在該感應器層400b的形成過程中的塗佈方法來形成。
高折射絕緣層450M的第三方向Dr3的厚度可以在約幾奈米至約幾微米的範圍內；例如，可以在約1奈米至約10微米的範圍內。然而，可以根據包括在第一觸碰電極410和第二觸碰電極420中的層的厚度和/或特性來改變高折射絕緣層450M的厚度。
在一部分例示性實施例中，分離層120a、光學膜550和顯示面板300可以依序地設置在感應器層400b的第一表面SA1側上。光學膜550可以是等向膜。黏合層5可以被定位在顯示面板300和光學膜550之間。黏合層5可以包括例如壓敏黏合(pressure sensitive adhesive，PSA)材料，並且可以在根據環境條件下黏合之後分離。光學膜500可以透過黏合層15黏合在感應器層400b上。黏合層15可以具有與黏合層5相同的性質。光學膜500可以是偏光膜。此外，黏合層10可以與分離層120a接觸。高折射絕緣層450M可以與分離層120a接觸。
參考第12圖，光學觸碰膜600e類似於光學觸碰膜600d；然而，作為取代包括高折射絕緣層450M，感應器層400c可以包括設置在第一觸碰電極410和第二觸碰電極420以及第一連接部412之間的高折射絕緣層430M。在這種情況下，可以省略第一絕緣層430的一部分或全部，並且可以將高折射絕緣層430M設置在省略第一絕緣層430的位置。為此，高折射絕緣層430M可以包括接觸孔435M來代替接觸孔435。高折射絕緣層430M的特性及其效果可以與高折射絕緣層450M的特性相同。
參考第13圖，光學觸碰膜600f類似於光學觸碰膜600d；然而，作為取代高折射絕緣層450M，感應器層400d可以包括設置在第一連接部412上的層中的高折射絕緣層440M。在這種情況下，可以省略第二絕緣層440的一部分或全部，並且可以將高折射絕緣層440M設置在省略第二絕緣層440的位置。高折射絕緣層440M的特性及其效果可以與高折射絕緣層450M的特性相同。
參考第14圖，光學觸碰膜600g與光學觸碰膜600d實質上相同；然而，省略了顯示面板300和感應器層400b之間的光學膜550和黏合層5。
參考第15圖，光學觸碰膜600h實質上與光學觸碰膜600e相同；然而，省略了顯示面板300和感應器層400c之間的光學膜550和黏合層5。
參考第16圖，光學觸碰膜600i實質上與光學觸碰膜600f相同；然而，省略了顯示面板300和感應器層400d之間的光學膜550和黏合層5。
參考第17圖，光學觸碰膜600j實質上與光學觸碰膜600h相同；然而，包括有機聚合物材料的固化型黏合層10可以設置在感應器層400c和光學膜500之間，並且黏合層20可以設置在分離層120a和顯示面板300之間。黏合層20可以具有與黏合層5相同的性質。
參考第18圖，光學觸碰膜600k類似於光學觸碰膜600e；然而，感應器層400e可以具有與感應器層400a相似的結構。也就是說，第一表面SA1和第二表面SA2的頂部和底部位置可以改變。例如，第一連接部412、第一觸碰線411和第二觸碰線421可以設置在分離層120a上；第一觸碰電極410、第二觸碰電極420和第二連接部422可以設置在第一連接部412、第一觸碰線411和第二觸碰線421上；並且第二絕緣層440可以設置在第一觸碰電極410、第二觸碰電極420、第二連接部422以及高折射絕緣層430M的暴露部分上。第一觸碰線411和第二觸碰線421可以包括第一導電層411a和第二導電層411b。第一導電層411a可以被設置在同一層中作為第一連接部412，並且可包括與第一連接部412相同的材料。第二導電層411b可以被設置在第一導電層411a，並且可以包括一種低電阻材料，如金屬。
如第18圖所示，高折射絕緣層430M作為包括至少一個高折射絕緣層的實施例設置在第一連接部412和第二連接部422之間。高折射絕緣層430M可以設置在與第一觸碰電極410和第二觸碰電極420接觸的層中。高折射絕緣層430M可以具有定位為暴露第一連接部412的部分的接觸孔435M。此外，高折射絕緣層430M的特性及其效果等同於上述各種高折射絕緣層的特性。
參考第19圖，光學觸碰膜600l實質上與光學觸碰膜600k相同；然而，作為取代包括高折射絕緣層430M，感應器層400f包括設置在光學膜500和第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間的高折射絕緣層440M。高折射絕緣層440M可以設置在與第一觸碰電極410和第二觸碰電極420接觸的層中。在這種情況下，可以省略第二絕緣層440的一部分或全部，並且可以將高折射絕緣層440M設置在省略第二絕緣層440的位置。
參考第20圖，光學觸碰膜600m與光學觸碰膜600l基本相同；然而，感應器層400g可以包括第一連接部412和第二連接部422之間的第一絕緣層430和高折射絕緣層433M。以這種方式，可以透過高折射絕緣層433M和第一絕緣層430形成接觸孔435Ma，以露出第一連接部412的部分。高折射絕緣層433M可以設置在與第一觸碰電極410和第二觸碰電極420接觸的層中。也就是說，高折射絕緣層433M、第一絕緣層430和第一連接部412可以依序設置在第一觸碰電極410、第二觸碰電極420和第二連接部422的下方。此外，光學膜550可以設置在分離層120a和顯示面板300之間。黏合層10可以設置在光學膜550和分離層120a之間。黏合層20可以設置在光學膜550和顯示面板300之間。光學膜550可以是等向膜。本實施例中，光學觸碰膜600m包含光學膜550。然而，應注意的是，感應器層400g和顯示面板300之間的黏合層5可以被省略。另，光學膜550可以進一步地於其他實施例中被省略。
參考第21圖，光學觸碰膜600n類似於前述的光學觸碰膜；然而，光學觸碰膜600n可以包括不同方向的感應器層400b，例如，第一表面SA1可以設置得比第二表面SA2離顯示面板300更遠。此外，光學觸碰膜600n可以包括設置在顯示面板300上的感應器層400b、設置在感應器層400上的分離層120a以及設置在分離層120a上的光學膜500。為此，光學膜500可以是偏光膜，並且黏合層10可以設置在光學膜500和分離層120a之間。黏合層20可以設置在感應器層400b和顯示面板300之間。此外，高折射絕緣層450M可以設置在黏合層10和第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間。
參考第22圖，光學觸碰膜600o與光學觸碰膜600n基本相同，並且可以包括不同方向的感應器層400c(例如，第一表面SA1可以比第二表面SA2離顯示面板300更遠)。以這種方式，作為取代包括高折射絕緣層450M的感應器層400c，感應器層400c可以包括設置在第一連接部412和第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間的高折射絕緣層430M。在這種情況下，可以省略第一絕緣層430的一部分或全部。高折射絕緣層430M可被設置在其中省略了第一絕緣層430的位置。
參考第23圖，光學觸碰膜600p實質上與光學觸碰膜600o相同；然而，作為取代包括高折射絕緣層430M的感應器層400h，感應器層400h包括高折射絕緣層431M和設置在第一連接部412和第一觸碰電極410以及第二觸碰電極420之間的第一絕緣層430。高折射絕緣層431M可以設置在第一絕緣層430和第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間以接觸第一觸碰電極410和第二觸碰電極420。以這種方式，可以在高折射絕緣層431M和第一絕緣層430中形成接觸孔435Mb以暴露第一觸碰電極410的部分。
參考第24圖，光學觸碰膜600q與光學觸碰膜600o實質上相同；然而，光學觸碰膜600q可以包括不同方向的感應器層400c，例如，第一表面SA1可以設置地比第二表面SA2離顯示面板300更遠。此外，光學觸碰膜600q可以包括設置在顯示面板300和感應器層400c之間的光學膜550。黏合層5可以設置在光學膜550和顯示面板300之間。黏合層10可以設置在光學膜550和感應器層400c之間。光學膜550可以是等向膜。此外，代替黏合層10的黏合層15可以設置在光學膜500和感應器層400c之間。
參考第25圖，光學觸碰膜600r與光學觸碰膜6001實質上相同；然而，代替黏合層10的黏合層20可以設置在顯示面板300和分離層120a之間。此外，代替黏合層15的黏合層10可以設置在感應器層400f和光學膜500之間。
參考第26圖，光學觸碰膜600s與光學觸碰膜600k實質上相同；然而，光學觸碰膜600s可以包括設置在顯示面板300和分離層120a之間的黏合層20而不是黏合層10。此外，代替黏合層15的黏合層10可以設置在感應器層400e和光學膜500之間。
參考第27圖，光學觸碰膜600t類似於光學觸碰膜600r；然而，感應器層400f可以具有其他的方向。也就是說，第一表面SA1和第二表面SA2的頂部和底部位置可以改變。例如，第一連接部412、第一觸碰線411和第二觸碰線421可以設置在分離層120a的下方；第一絕緣層430可以設置在第一連接部412、第一觸碰線411和第二觸碰線421下方；並且第一觸碰電極410和第二觸碰電極420可以設置在第一絕緣層430的下方。第一觸碰線411和第二觸碰線421可以包括第一導電層411a和第二導電層411b。第一導電層411A可以被設置在同一層中作為第一連接部412，並且可包括與第一連接部412相同的材料。第二導電層411b可以設置在第一導電層411a的下方，並且可以包括諸如金屬的低電阻材料。高折射絕緣層440M可被設置在第一觸碰電極410、第二觸碰電極420和第二連接部422下方。高折射絕緣層440M可以與第一觸碰電極410和第二觸碰電極420接觸。
參考第28圖，光學觸碰膜600u幾乎與光學觸碰膜600t相同；然而，光學觸碰膜600u可以包括感應器層400i，並且可以包括設置在第一觸碰電極410和第二觸碰電極420下方的高折射絕緣層441M和第二絕緣層440。高折射絕緣層441M可被設置在第二絕緣層440和第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間。
參考第29圖，光學觸碰膜600v類似於光學觸碰膜600t；然而，光學觸碰膜600v可以包括如第18圖的不同方向的感應器層400e，例如，第二表面SA2可以設置地比第一表面SA1離顯示面板300設置更遠。為此，光學觸碰膜600v可以包括高折射絕緣層430M而不是高折射絕緣層440M。高折射絕緣層430M可以設置在第一連接部412及第二連接部422、第一觸碰電極410和第二觸碰電極420之間。高折射絕緣層430M可以接觸第一觸碰電極410和第二觸碰電極420。
參考第30圖，光學觸碰膜600w實質上與光學觸碰膜600n相同；然而，光學觸碰膜600w可以包括不同方向的感應器層400d，例如，第一表面SA1可以設置得比第二表面SA2離顯示面板300更遠。為此，光學觸碰膜600w可以包括高折射絕緣層440M而不是高折射絕緣層450M。高折射絕緣層440M可以設置在第一連接部412的下方。
參考第31圖，光學觸碰膜600x類似於光學觸碰膜600w；然而，感應器層400j可以包括高折射絕緣層460M而不是高折射絕緣層440M。第二絕緣層440可以設置在第一連接部412的下方，且高折射絕緣層460M可被設置在第二絕緣層440的下方。
雖然這裡已經描述了某些例示性實施例和實施方式，但是從此描述中，其他實施例和修改將是顯而易見的因此，本發明的概念不限於這些實施例，而是包含所提出的申請專利範圍的更廣泛的範圍和各種明顯的修改和等效的配置。
1‧‧‧顯示裝置
5、10、15、20‧‧‧黏合層
110‧‧‧載體基板
120、120a‧‧‧分離層
300‧‧‧顯示面板
400、400a、400b、400c、400d、400e、400f、400g、400h、400i、400j‧‧‧感應器層
410、410a‧‧‧第一觸碰電極
411‧‧‧第一觸碰線
411a‧‧‧第一導電層
411b‧‧‧第二導電層
412、412a‧‧‧第一連接部
420‧‧‧第二觸碰電極
421‧‧‧第二觸碰線
422‧‧‧第二連接部
430‧‧‧第一絕緣層
430M、431M、440M、441M、450M、460M‧‧‧高折射絕緣層
435、435M、435Ma、435Mb‧‧‧接觸孔
440‧‧‧第二絕緣層
450‧‧‧墊部分
500、550‧‧‧光學膜
600、600a、600b、600c、600d、600e、600f、600g、600h、600i、600j、600k、600l、600m、600n、600o、600p、600q、600r、600s、600t、600u、600v、600w、600x‧‧‧光學觸碰膜
700‧‧‧控制器
DA‧‧‧顯示區域
Dr1‧‧‧第一方向
Dr2‧‧‧第二方向
Dr3‧‧‧第三方向
PA‧‧‧周邊區域
PX‧‧‧像素
SA1‧‧‧第一表面
SA2‧‧‧第二表面
TA‧‧‧觸碰區域
本說明書包括圖式以提供對本發明構思的進一步理解，並將圖式併入並構成本說明書的一部分，圖式示出了本發明概念的例示性實施例，並且與說明書內容一起用於解釋本發明的概念。
第1圖是根據一部分例示性實施例的顯示裝置的示意性截面圖。
第2圖是根據一部分例示性實施例的顯示裝置的顯示面板的示意性平面圖。
第3圖是根據一部分例示性實施例的包括在顯示裝置中的光學觸碰膜的示意性平面圖。
第4圖是根據一部分例示性實施例的第3圖的光學觸碰膜的一部分的放大圖。
第5圖是根據一部分例示性實施例的第4圖的光學觸碰膜沿著線IV-IV'截取的截面圖。
第6圖和第7圖是根據一部分例示性實施例的製造光學觸碰膜的製程的中間步驟的中間產品的截面圖。
第8圖至第31圖是根據各種例示性實施例的顯示裝置中包括的光學觸碰薄膜的截面圖。

Claims (33)

  1. 一種光學觸碰膜，包括： 一感應器層，包括形成一感應器的複數個觸碰電極； 一光學膜； 一固化型黏合層，位於該感應器層和該光學膜之間； 一分離層，位於該感應器層的表面上，該分離層包含有機聚合物材料；以及 一折射絕緣層，位於與該等觸碰電極接觸的層， 其中該折射絕緣層的折射率大於該分離層的折射率。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學觸碰膜，其中該感應器層包括該折射絕緣層。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光學觸碰膜，其中： 該感應器層還包括連接該等觸碰電極中的兩個相鄰觸碰電極的一連接部，該連接部位於不同於該等觸碰電極的層；以及 該折射絕緣層位於該等觸碰電極和該連接部之間。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之光學觸碰膜，其中該折射絕緣層位於該等觸碰電極和該固化型黏合層之間。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光學觸碰膜，其中該分離層在該折射絕緣層和該固化型黏合層之間。
  6. 如申請專利範圍第2項所述之光學觸碰膜，其中： 該感應器層進一步包括： 一連接部，其在該等觸碰電極之間連接兩個相鄰的觸碰電極，該連接部位於與該等觸碰電極不同的層；以及 一第一絕緣層，位於該等觸碰電極和該連接部之間； 其中該等觸碰電極位於該折射絕緣層和該第一絕緣層之間的層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光學觸碰膜，其中該連接部接觸該分離層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學觸碰膜，其中該分離層位於該固化型黏合層和該連接部之間。
  9. 如申請專利範圍第6項所述之光學觸碰膜，其包括： 一第二絕緣層，與該折射絕緣層接觸； 其中該折射絕緣層位於該第二絕緣層和該等觸碰電極之間的層。
  10. 如申請專利範圍第2項所述之光學觸碰膜，其中該折射絕緣層包括有機材料。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學觸碰膜，其中該折射絕緣層還包含奈米顆粒。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之光學觸碰膜，其中該分離層與該固化型黏合層相鄰並與其接觸。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之光學觸碰膜，其中該折射絕緣層的折射率比該分離層的折射率更接近於該等觸碰電極的折射率。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之光學觸碰膜，其中該折射絕緣層的折射率在1.6〜2.0的範圍內。
  15. 一種顯示裝置，其包括： 一顯示面板；以及 一光學觸碰膜； 其中該光學觸碰膜包括： 一感應器層，包括形成一感應器的複數個觸碰電極； 一光學膜； 一固化型黏合層，位於該感應器層和該光學膜之間； 一分離層，位於該感應器層的表面上，該分離層包含有機聚合物材料；以及 一折射絕緣層，位於與該等觸碰電極接觸的層，且 其中該折射絕緣層的折射率大於該分離層的折射率。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之顯示裝置，其中該感應器層包括該折射絕緣層。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之顯示裝置，其中： 該感應器層還包括連接該等觸碰電極中的兩個相鄰觸碰電極的一連接部，該連接部位於不同於該等觸碰電極的層；以及 該折射絕緣層位於該等觸碰電極和該連接部之間。
  18. 如申請專利範圍第16項所述之顯示裝置，其中該折射絕緣層位於該等觸碰電極和該固化型黏合層之間。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之顯示裝置，其中該分離層在該折射絕緣層和該固化型黏合層之間。
  20. 如申請專利範圍第16項所述之顯示裝置，其中： 該感應器層還包括： 一連接部，其在該等觸碰電極之間連接兩個相鄰的觸碰電極，該連接部位於與該等觸碰電極不同的層；以及 一第一絕緣層，位於該等觸碰電極和該連接部之間；以及 該等觸碰電極位於該折射絕緣層和該第一絕緣層之間的層。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之顯示裝置，其中該連接部接觸該分離層。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之顯示裝置，其中該分離層位於該固化型黏合層和該連接部之間。
  23. 如申請專利範圍第20項所述之顯示裝置，更包括： 一第二絕緣層，與該折射絕緣層接觸； 其中該折射絕緣層位於該第二絕緣層和該等觸碰電極之間的層。
  24. 如申請專利範圍第15項所述之顯示裝置，其中該折射絕緣層包括有機材料。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之顯示裝置，其中該折射絕緣層更包含奈米顆粒。
  26. 如申請專利範圍第15項所述之顯示裝置，其中該分離層與該固化型黏合層相鄰並與其接觸。
  27. 如申請專利範圍第15項所述之顯示裝置，其中該感應器層位於該顯示面板和該光學膜之間。
  28. 如申請專利範圍第15項所述之顯示裝置，其中該折射絕緣層的折射率比該分離層的折射率更接近於該等觸碰電極的折射率。
  29. 如申請專利範圍第15項所述之顯示裝置，其中該折射絕緣層的折射率在1.6〜2.0的範圍內。
  30. 一種製造顯示裝置的方法，包括： 在一載體基板上塗佈包含有機聚合物材料的一分離層； 在該分離層上形成一感應器層，該感應器層包括： 一觸碰電極；以及 一折射絕緣層，與該觸碰電極接觸，該折射絕緣層的折射率大於該分離層的折射率； 將該感應器層和該分離層與該載體基板分離；以及 將該感應器層和一光學膜之間的一黏合層固化。
  31. 如申請專利範圍第30項所述之方法，其中該折射絕緣層在該觸碰電極和該黏合層之間。
  32. 如申請專利範圍第30項所述之方法，其中該分離層與該黏合層相鄰並與其接觸。
  33. 一種光學觸碰膜，包括： 一感應器層，包括形成一感應器的一觸碰電極； 一光學膜，位於該感應器層上； 一黏合層，位於該感應器層和該光學膜之間； 一分離層，位於該感應器層的表面上，該分離層包含有機聚合物材料；以及 一折射絕緣層，位於該觸碰電極上； 其中該折射絕緣層的折射率大於該分離層的折射率。
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