TW201712377A - 偏光板之套組及液晶面板 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種可在高溫環境下抑制液晶面板的翹曲之偏光板之套組，以及將此偏光板之套組貼合於液晶單元而成之液晶面板。 本發明之偏光板之套組，係配置在液晶單元的觀看側之觀看側偏光板、及配置在液晶單元的背面側之背面側偏光板之套組，前述背面側偏光板係具有積層有增亮膜與吸收型偏光板之構成，於配置在前述液晶單元的背面側時，從接觸於前述液晶單元之表面至前述增亮膜之距離為100μm以下，於85℃加熱前述觀看側偏光板100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率、與於85℃加熱前述背面側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率之比為超過1且為1.4以下。

Description

偏光板之套組及液晶面板
本發明係關於在高溫環境下抑制液晶面板的翹曲之偏光板之套組，以及使用此之液晶面板。
近年來，消耗電力低，以低電壓作動，輕量且薄型之液晶顯示器，係作為行動電話、可攜式資訊終端、電腦用的顯示器、電視等之資訊顯示裝置而急速地漸普及。伴隨著液晶技術的發展，已提出有各種模式的液晶顯示器，並逐漸解決反應速度或對比、窄視角之液晶顯示器的問題點。此外，伴隨著行動裝置用液晶顯示器的普及，對於液晶面板亦要求輕薄短小者。
伴隨著液晶面板的薄型化，由於在高溫環境下貼合於液晶單元之偏光板的收縮，而使液晶面板翹曲以造成無法容納於最終製品的框體等問題。
為了抑制此液晶顯示面板的翹曲，以往即已開發出藉由改變配置在液晶單元的觀看側以及與液晶單元的觀看側為相反側(背面側)之偏光板的厚度，以抑制液晶顯示面板的翹曲之手法。例如，日本特開2012-58429號公 報(專利文獻1)中，係記載一種將配置在液晶單元的觀看側之偏光板之偏光膜(本發明中稱為偏光膜)的厚度，設為較配置在液晶單元的背面側之偏光膜更薄，以抑制液晶顯示面板的翹曲之方法。
此外，日本特開2013-37115號公報(專利文獻2)中，係提出一種將觀看側的光學積層體所包含之偏光膜(本發明中稱為偏光膜)，設為較配置在與觀看側為相反側的光學積層體所包含之偏光膜更厚5μm以上，以抑制液晶面板的翹曲之手法。然而，關於液晶面板翹曲之抑制，仍有較大的改善空間。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2012-58429號公報
[專利文獻2]日本特開2013-37115號公報
本發明之目的在於提供一種可在高溫環境下抑制液晶面板的翹曲之偏光板之套組，以及將此偏光板之套組貼合於液晶單元而成之液晶面板。
本發明係提供一種偏光板之套組，其係配置在液晶單元的觀看側之觀看側偏光板與配置在液晶單元的背面側之背面側偏光板之套組，其特徵為：背面側偏光板 係具有積層有增亮膜與吸收型偏光板之構成，從液晶單元至增亮膜之距離為100μm以下，於85℃加熱觀看側偏光板100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率、及於85℃加熱背面側偏光板100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率之比為超過1且為1.4以下。
為了抑制翹曲，前述觀看側偏光板所包含之偏光膜的厚度，較佳係大於前述背面側偏光板所包含之吸收型偏光板之偏光膜的厚度。此外，前述背面側偏光板所包含之吸收型偏光板中，為了縮小液晶單元與增亮膜之距離，較佳係僅於單面具有保護膜之構成。
觀看側偏光板係其吸收軸成為液晶單元的短邊方向，且背面側偏光板係其吸收軸成為液晶單元的長邊方向為較佳。
此外，本發明亦提供一種液晶面板，其特徵係具備：前述偏光板之套組、以及液晶單元；於液晶單元的觀看側貼著有觀看側偏光板，於液晶單元的背面側貼著背面側偏光板，於85℃加熱240小時後之翹曲量以絕對值計為0.5mm以下。
根據本發明，可解決液晶面板在高溫環境下的翹曲，而能夠得到即使在高溫環境下亦可容納於最終製品的框體之液晶面板。
30‧‧‧觀看側偏光板
31a、31b、51‧‧‧保護膜
32、52‧‧‧偏光膜
33、53‧‧‧黏著劑層
35‧‧‧表面處理層
50‧‧‧吸收型偏光板
54‧‧‧接著層
60‧‧‧背面側偏光板
61‧‧‧增亮膜
第1圖係顯示本發明之偏光板之套組之較佳層構成的例子之概略剖面圖。
第2圖係顯示本發明之偏光板之套組之較佳層構成的例子之概略剖面圖。
第3圖係顯示本發明所使用之反射偏光膜的一例之概略剖面圖。
以下，適當地使用圖示來說明本發明之偏光板之套組及使用此之液晶面板，但本發明並不限定於此等實施形態。
本發明之偏光板之套組，係由觀看側偏光板30與背面側偏光板60所構成。參考第1圖，說明本發明之觀看側偏光板30及背面側偏光板60的層構成。第1圖中，觀看側偏光板30係於偏光膜32的雙面分別貼合有保護膜31a、31b。於保護膜31a中之與偏光膜32之貼合面為相反側的面上形成表面處理層者亦為有用。關於背面側偏光板60，吸收型偏光板50係於偏光膜52之至少一方的面貼合有保護膜51而形成。再者，透過接著層54而將增亮膜61積層於吸收型偏光板50而形成背面側偏光板60。此等偏光板分別透過黏著劑層33、53貼合於液晶單元，形成液晶面板。
在前述背面側偏光板中，從液晶單元至增亮膜61為止之距離為100μm以下，較佳為80μm以下，尤佳為60μm以下。下限並無特別限定，通常為5μm以上， 典型上為10μm以上。此外，於85℃以100小時加熱前述觀看側偏光板30後之吸收軸方向上的尺寸變化率、及於85℃以100小時加熱前述背面側偏光板60後之吸收軸方向上的尺寸變化率之比為超過1且為1.4以下，較佳為1.01以上1.4以下，尤佳為1.05以上1.3以下。本發明中，所謂從液晶單元至增亮膜之距離，意指從背面側偏光板之與液晶單元接觸的面(例如於第1圖至第2圖中，黏著劑層53之與液晶單元接觸的面相當於此)至增亮膜之液晶單元側的面之距離。
液晶面板的翹曲量係配置在距離液晶單元為最外層之增亮膜的影響大。因此，藉由使液晶單元與增亮膜之距離滿足上述範圍，並且使於85℃以100小時加熱觀看側偏光板30及背面側偏光板60後之吸收軸方向上的尺寸變化率為在上述範圍，可縮小液晶面板的翹曲量。
本發明中，由於使增亮膜更接近液晶單元，所以前述背面側偏光板60所包含之吸收型偏光板50，較佳係成為僅於偏光膜的單面具有保護膜之構成。如此，藉由將增亮膜配置在接近於液晶單元之位置，可降低因增亮膜的尺寸變化所產生之力對液晶面板的翹曲所造成之影響。
再者，係以前述觀看側偏光板係其吸收軸與液晶單元的短邊方向大致平行，且前述背面側偏光板係其吸收軸與液晶單元的長邊方向大致平行之配置為較佳。所謂大致平行，並不限定於嚴格來說為平行者，例如，偏光 板的吸收軸與液晶單元的各邊所構成之角，較佳為5°以下，尤佳為3°以下，更佳為1°以下。若採取如此之軸構成，可更顯著地縮小液晶面板的翹曲。
此外，根據本發明，亦提供一種上述觀看側偏光板30及背面側偏光板60透過黏著劑層33而積層於液晶單元之液晶面板。
以下，係詳細說明構成本發明之偏光板之套組及液晶面板之零件。此外，有時將觀看側偏光板具有之偏光膜32與背面側偏光板具有之偏光膜52僅總稱為偏光膜，將保護膜31a與保護膜31b與保護膜51僅總稱為保護膜。
[偏光膜32、52]
偏光膜32、52只要滿足前述尺寸變化率及偏光膜的厚度即可，可使用任意適當者。偏光膜通常經過下列步驟而製得：將聚乙烯醇系樹脂膜進行單軸拉伸之步驟、藉由以雙色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜染色而使雙色性色素吸附之步驟、以硼酸水溶液處理吸附有雙色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜而交聯之步驟、以及於硼酸水溶液的交聯處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂係可藉由使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂係除了乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯之外，亦可為乙酸乙烯酯以及可與此共聚合之其他單體之共聚物。可與乙酸乙烯酯共聚合 之其他單體係可列舉出不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、以及具有銨基之丙烯醯胺類等。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常約為85至100莫耳%，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經改質，例如亦可使用經醛類改質之聚乙烯甲醛以及聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度通常約為1,000至10,000，較佳約為1,500至5,000。
將如此的聚乙烯醇系樹脂製膜而成者，可使用作為偏光膜的胚材膜。將聚乙烯醇系樹脂製膜之方法並無特別限定，可採用一般所知的方法製膜。聚乙烯醇系胚材膜的膜厚，例如約10至100μm，較佳約為10至50μm。
聚乙烯醇系樹脂膜的縱向單軸拉伸，可在雙色性色素的染色前、與染色同時、或染色後進行。於染色之後進行縱向單軸拉伸時，該縱向單軸拉伸可在硼酸處理前或硼酸處理中進行。當然，亦可於在此所示之複數個階段中進行縱向單軸拉伸。縱向單軸拉伸係可採用：在周速不同之輥間單軸地拉伸之方法，或使用熱輥而單軸拉伸之方法等。此外，縱向單軸拉伸可藉由在大氣中進行拉伸之乾式拉伸進行，或使用水等之溶劑，藉由在使聚乙烯醇系樹脂膜膨潤之狀態下進行拉伸之濕式拉伸來進行。拉伸倍率通常約為3至8倍。
聚乙烯醇系樹脂膜之以雙色性色素所進行之染色，例如可藉由將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有雙色性色素之水溶液中之方法來進行。就雙色性色素而言，具體 而言可採用碘或雙色性有機染料。聚乙烯醇系樹脂膜係於染色處理前預先進行浸漬在水中而使其膨潤之處理為較佳。
當使用碘作為雙色性色素時，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有碘及碘化鉀之水溶液而進行染色之方法。該水溶液中之碘的含量，通常是水每100重量份約為0.01至1重量份，碘化鉀的含量，通常是水每100重量份約為0.5至20重量份。使用於染色之水溶液的溫度，通常約20至40℃。此外，於水溶液中的浸漬時間(染色時間)，通常約20至1,800秒。
另一方面，當使用雙色性有機染料作為雙色性色素時，通常係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含有水溶性雙色性有機染料之水溶液中而進行染色之方法。該水溶液中之雙色性有機染料的含量，通常是水每100重量份約為1×10-4至10重量份，較佳約為1×10-3至1重量份。該染料水溶液亦可含有硫酸鈉等之無機鹽作為染色助劑。染色所使用之雙色性有機染料水溶液的溫度，通常約20至80℃。此外，於水溶液中的浸漬時間(染色時間)，通常約為10至1,800秒。
以雙色性色素進行染色後之硼酸處理，係藉由將經染色後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在含硼酸水溶液之方法而進行。含硼酸水溶液中之硼酸的含量，通常係水每100重量份約為2至15重量份，較佳約為5至12重量份。當使用碘作為雙色性色素時，該含硼酸水溶液較佳係含有 碘化鉀。含硼酸水溶液中之碘化鉀的含量，通常是水每100重量份約為0.1至15重量份，較佳為5至12重量份。於含硼酸水溶液中的浸漬時間，通常約60至1,200秒，較佳為150至600秒，尤佳為200至400秒。含硼酸水溶液的溫度，通常約50℃以上，較佳為50至85℃，更佳為60至80℃。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜，通常會進行水洗處理。水洗處理係例如可藉由將硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬在水中之方法來進行。水洗處理中之水的溫度通常約為5至40℃。此外，浸漬時間通常約為1至120秒。
水洗後係施以乾燥處理，可得到偏光膜。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器來進行。乾燥處理的溫度通常約為30至100℃，較佳為50至80℃，乾燥處理的時間通常約為60至600秒，較佳為120至600秒。藉由乾燥處理，偏光膜的水分率可降低至實用程度。該水分率通常約為5至20重量%，較佳為8至15重量%。當水分率低於5重量%時，會喪失偏光膜的可撓性，於乾燥後有時會產生損傷或斷裂。此外，當水分率超過20重量%時，會有熱穩定性不足之傾向。
如以上做法，可製造於聚乙烯醇系樹脂膜吸附配向有雙色性色素之偏光膜。
此外，偏光膜的製造步驟中之聚乙烯醇系樹脂膜的拉伸、染色、硼酸處理、水洗步驟、乾燥步驟，例 如可依據日本特開2012-159778號所記載之方法來進行。此文獻記載的方法中，使用藉由將聚乙烯醇系樹脂塗布於基材膜以形成成為偏光膜之聚乙烯醇系樹脂層之方法者，亦為有用。
為了將偏光膜的收縮力抑制較低且以將偏光板形成為期望的尺寸變化率，較佳係將偏光膜的厚度形成為15μm以下，亦可形成為未達15μm。從可賦予良好的光學特性之點來看，偏光膜的厚度通常為3μm以上。
前述觀看側偏光板具有之偏光膜32的厚度，較佳係大於前述背面側偏光板具有之偏光膜52的厚度。例如，較佳係將觀看側偏光板具有之偏光膜32的厚度設為10μm以上，將背面側偏光板具有之偏光膜的厚度設為未達10μm。此外，偏光膜32與偏光膜52之厚度之差的大小，較佳為2μm以上，可為5μm以上，且較佳為未達10μm。
[保護膜31a、31b、51]
在保護膜31a、31b、51係可使用由適當的透明樹脂所構成者。具體而言，較佳係使用由透明性或均一的光學特性、機械強度、熱穩定性等優異之聚合物所構成者。此透明樹脂膜例如可使用：三乙酸纖維素及二乙酸纖維素等之纖維素系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯及聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂；聚(甲基)丙烯酸甲酯及聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸系膜；聚碳酸酯系 膜、聚醚碸系膜、聚碸系膜、聚醯亞胺系膜、聚烯烴系膜、聚降莰烯系膜等，但並不限定於此。
適用於觀看側偏光板30之保護膜31a、31b以及適用於背面側偏光板60之保護膜51，可分別獨立地為相同者或相異者。
上述保護膜係在貼合於偏光膜之前，可對該貼合面施以皂化處理、電暈處理、引體處理、定錨塗布處理等之易接著處理。保護膜的厚度通常為5至200μm的範圍，較佳為10μm以上，此外，較佳為80μm以下，更佳為40μm以下。
此外，為了賦予所期望的表面光學特性或其他特徵，可於保護膜31a的外面設置塗布層(表面處理層35)。塗布層的具體例包含硬塗層、防眩層、抗反射層、抗帶電層、防污層。形成塗布層之方法並無特別限定，可使用一般所知的方法。
此外，就保護膜31a而言，亦可使用：於穿越偏光太陽眼鏡觀看畫面時用以改善觀看性之相位差板。配置λ/4板作為相位差板者，從提升觀看性之觀點來看為佳。此外，於積層長條狀的偏光膜時，當朝相對於長條的長邊方向所形成之角度大致呈45°或135°被拉伸時，能夠以輥對輥方式來製作偏光板，故較佳。
當液晶單元為橫向電場(IPS：In-Plane Switching)模式時，為了不損及其IPS模式液晶單元原本具有之廣視角特性，當保護膜31b及保護膜51配置在偏光膜 與液晶單元之間時，厚度方向的相位差值Rth較佳位於-10至10nm的範圍。此外，面內的相位差值Re較佳亦位於-10至10nm的範圍。
厚度方向的相位差值Rth為將膜的厚度乘上從面內的平均折射率扣除厚度方向的折射率後之值所得之值，並以下述(a)所定義。此外，面內的相位差值Re為將膜的厚度乘上面內的折射率差所得之值，並以下述(b)所定義。
Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d (a)
Re=(nx-ny)×d (b)
式中，nx為膜面內的x軸方向(面內慢軸方向)的折射率，ny為膜面內的y軸方向(面內快軸方向，於面內與x軸正交之方向)的折射率，nz為垂直於膜面之z軸方向(厚度方向)的折射率，而且d為膜的厚度。
在此，相位差值係於可見光的中心附近之約500至650nm的範圍內可為任意波長之值，但本說明書中，係以波長590nm的相位差值作為標準。厚度方向的相位差值Rth及面內的相位差值Re，可使用市售的各種相位差計來測定。
將保護膜之厚度方向的相位差值Rth控制在-10至10nm的範圍內之方法，可列舉出於製作膜時，極力地縮小殘留於面內及厚度方向之應變之方法。例如，於上述溶劑澆鑄法中，可採用：藉由熱處理，使其澆注樹脂溶液乾燥時所產生之面內及厚度方向的殘留收縮應變緩和之 方法等。另一方面，於上述熔融擠壓法中，可採用：從模頭將樹脂膜擠壓出，且為了防止至冷卻為止之間被拉伸，極力地縮短從模頭至冷卻滾筒為止之距離，同時以不會使膜拉伸之方式控制擠壓量與冷卻滾筒的旋轉速度之方法等。此外，與溶劑澆鑄法相同，亦可採用：藉由熱處理而使殘留於所得之膜的應變緩和之方法。
[增亮膜61]
本發明之背面側偏光板60係具有積層有增亮膜61與吸收型偏光板50之構成。增亮膜61具代表性者可列舉出直線偏光分離型的反射偏光膜。第3圖係顯示本發明所使用之反射偏光膜的一例之概略剖面圖。反射偏光膜61為交互地積層具有複折射性之層A與實質上不具有複折射性之層B之多層積層體。例如，於圖示的例子中，A層之x軸方向的折射率nx大於y軸方向的折射率ny，B層之x軸方向的折射率nx與y軸方向的折射率ny實質上為相同。因此，A層與B層之折射率差，於x軸方向上較大，於y軸方向上實質上為零。其結果係x軸方向成為反射軸，y軸方向成為穿透軸。A層與B層之x軸方向上的折射率差，較佳為0.2至0.3。x軸方向係對應於反射偏光膜的拉伸方向。
上述A層較佳係以藉由拉伸而顯現複折射性之材料所構成。此材料的代表例，可列舉出萘二羧酸聚酯(例如聚萘二甲酸乙二酯)、聚碳酸酯及丙烯酸系樹脂(聚甲 基丙烯酸甲酯)。較佳為聚萘二甲酸乙二酯。上述B層較佳係以即使拉伸亦實質上不顯現複折射性之材料所構成。此材料的代表例，可列舉出萘二羧酸與對苯二甲酸之共聚酯。
反射偏光膜於A層與B層之界面上，使具有第1偏光方向之光(例如p波)穿透，並且使具有與第1偏光方向正交之第2偏光方向之光(例如s波)反射。反射後之光，於A層與B層之界面上，一部分作為具有第1偏光方向之光而穿透，一部分作為具有第2偏光方向之光而反射。於反射偏光膜的內部，藉由重複進行許多次此反射及穿透，可提高光的利用效率。
較佳係反射偏光膜61包含反射層R作為與偏光膜52相反之最外層。藉由設置反射層R，可進一步利用最終未被利用而返回反射偏光膜的最外部之光，故可進一步提高光的利用效率。反射層R具代表性者為藉由聚酯樹脂層的多層構造而顯現反射機能者。
反射偏光膜的全體厚度，可因應目的、反射偏光膜所包含之層的合計數等而適當地設定。從抑制高溫環境時的尺寸變化之觀點來看，反射偏光膜的全體厚度，較佳為15μm至50μm，尤佳為30μm以下。
反射偏光膜例如可使用日本特表平9-507308號公報所記載者。
反射偏光膜61可直接使用市售品，或是對市售品進行2次加工(例如拉伸)而使用。市售品例如可列舉出3M公司製的商品名稱DBEF或APF。
[偏光膜與保護膜之貼合]
偏光膜與保護膜之貼合，可藉接著劑或黏著劑來貼合。貼合偏光膜與保護膜之接著劑層，其厚度可設為0.01至30μm，較佳為0.01至10μm，更佳為0.05至5μm。若接著劑層的厚度在此範圍，則於所積層之保護膜與偏光膜之間不會產生浮起或剝離，可得到實用上無問題之接著力。貼合偏光膜與保護膜之黏著劑層，其厚度可設為5至50μm，較佳為5至30μm，更佳為10至25μm。
於偏光膜與保護膜之接著時，對偏光膜或保護膜預先施以皂化處理、電暈處理、電漿處理等，亦為有用。
於接著劑層的形成時，可因應被接著體的種類或目的，適當地使用適合的接著劑，此外，可視需要使用定錨塗布劑。接著劑例如可列舉出溶劑型接著劑、乳化型接著劑、感壓性接著劑、再濕潤性接著劑、聚縮合型接著劑、無溶劑型接著劑、膜狀接著劑、熱熔型接著劑等。
較佳的接著劑之一，可列舉出水系接著劑，亦即接著劑成分溶解或分散於水者，列舉出可溶解於水之接著劑成分的例子，係有聚乙烯醇系樹脂。此外，列舉出可分散於水之接著劑成分的例子，係有具有親水基之胺甲酸乙酯系樹脂。水系接著劑係可將此接著劑成分，與視需要所調配之追加的添加劑一起混合於水中而調製。列舉出可成為水系接著劑之市售的聚乙烯醇系樹脂的例子，係有 Kuraray股份有限公司所販售之經羧基改質聚乙烯醇之〝KL-318〞等。
水系接著劑可視需要而含有交聯劑。列舉出交聯劑的例子，係有胺化合物、醛化合物、羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂、異氰酸酯化合物、多價金屬鹽等。當以聚乙烯醇系樹脂作為接著劑成分時，可較佳地使用以乙二醛(Glyoxal)為首之醛化合物、以羥甲基三聚氰胺為首之羥甲基化合物、水溶性環氧樹脂等作為交聯劑。在此，水溶性環氧樹脂係例如可為使表氯醇、與由二乙三胺及三乙四胺等之聚烷多胺與己二酸等之二羧酸之反應物的聚醯胺多胺進行反應所得到之聚醯胺環氧樹脂。水溶性環氧樹脂的市售品，可列舉出由田岡化學工業股份有限公司所販售之”Sumirez Resin(註冊商標)650(30)”等。
於偏光膜及/或貼合於此之保護膜的接著面，塗布水系接著劑並貼合兩者後，施以乾燥處理，藉此，可製得偏光板。於接著之前，預先對保護膜施以皂化處理、電暈處理、電漿處理、或引體處理之易接著處理以提高潤濕性者亦為有效。乾燥溫度係例如可設為約50至100℃。乾燥處理後，在較室溫稍為高的溫度下，例如約30至50℃的溫度下熟化約1至10天者，可進一步提高接著力，故較佳。
另一種較佳的接著劑，可列舉出含有藉由活化能射線的照射或加熱而硬化之環氧化合物之硬化性接著劑組成物。在此，硬化性的環氧化合物為於分子內具有至 少2個環氧基者。此時，偏光膜與保護膜之接著，可藉由對於該接著劑組成物的塗布層照射活化能射線或賦予熱，使接著劑所含有之硬化性的環氧化合物硬化之方法來進行。環氧化合物的硬化，一般係藉由環氧化合物之陽離子聚合來進行。此外，從生產性之觀點來看，此硬化較佳係藉由活化能射線的照射來進行。
從耐候性、折射率、陽離子聚合性等觀點來看，硬化性接著劑組成物所含有之環氧化合物，較佳係於分子內不含芳香環者。於分子內不含芳香環之環氧化合物，可例示出氫化環氧化合物、脂環型環氧化合物、脂肪族環氧化合物等。可較佳地使用在如此之硬化性接著劑組成物中之環氧化合物，例如於日本特開2004-245925號公報中詳細地說明，但在此係概略地說明。
氫化環氧化合物係例如可在觸媒的存在下及加壓下，選擇性地對芳香族環氧化合物的原料之芳香族聚羥基化合物進行核氫化反應，以使所得之核加氫聚羥基化合物進行縮水甘油醚化而成者。芳香族環氧化合物的原料之芳香族聚羥基化合物，例如可列舉出雙酚A、雙酚F、雙酚S般之雙酚類；酚-酚醛樹脂、甲酚-酚醛樹脂、及羥基苯甲醛酚-酚醛樹脂般之酚醛型樹脂；四羥基二苯基甲烷、四羥基二苯基酮、及聚乙烯基酚般之多官能型的化合物等。對此芳香族聚羥基化合物進行核氫化反應，並使表氯醇與所得之核加氫聚羥基化合物反應，藉此可進行縮水甘油醚化。較佳的氫化環氧化合物可列舉出氫化後之雙酚 A的縮水甘油醚。
脂環型環氧化合物係於分子內具有至少1個鍵結於脂環型環之環氧基之化合物。所謂「鍵結於脂環型環之環氧基」意指以下式所示之結構中之交聯的氧原子-O-，此式中，m為2至5的整數。
此式中之扣除(CH2)m中的1個或複數個氫原子之形式的基鍵結於其他化學結構之化合物，可成為脂環型環氧化合物。此外，形成脂環型環之(CH2)m中的1個或複數個氫原子，亦可藉甲基或乙基般的直鏈狀烷基適當地取代。脂環型環氧化合物之中，具有氧雜雙環己烷環(上式中m=3者)或氧雜雙環庚烷環(上式中m=4者)之環氧化合物，由於顯示出優異的接著性，故可較佳地使用。以下係列舉出脂環型環氧化合物的具體例。在此，首先列舉化合物名稱，然後，顯示分別對應之化學式，並對化合物名稱與對應於此之化學式附加相同符號。
A：3,4-環氧環己基甲基3,4-環氧環己烷羧酸酯、B：3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基3,4-環氧基-6-甲基環己烷羧酸酯、C：伸乙基雙(3,4-環氧環己烷羧酸酯)、 D：雙(3,4-環氧環己基甲基)己二酸酯、E：雙(3,4-環氧基-6-甲基環己基甲基)己二酸酯、F：二乙二醇雙(3,4-環氧環己基甲基醚)、G：乙二醇雙(3,4-環氧環己基甲基醚)、H：2,3,14,15-二環氧基-7,11,18,21-四氧雜三螺旋[5.2.2.5.2.2]二十一烷、I：3-(3,4-環氧環己基)-8,9-環氧基-1,5-二氧雜螺旋[5.5]十一烷、J：二氧化4-乙烯基環己烯、K：二氧化檸檬烯、L：雙(2,3-環氧環戊基)醚、M：二氧化二環戊二烯等。
〔化2〕
脂肪族環氧化合物係可為脂肪族多元醇或其環氧烷加成物的聚縮水甘油醚。具體可列舉出丙二醇的二縮水甘油醚；1,4-丁二醇的二縮水甘油醚；1,6-己二醇的二 縮水甘油醚；甘油的三縮水甘油醚；三羥甲基丙烷的三縮水甘油醚；藉由使環氧烷(環氧乙烷或環氧丙烷)加成於乙二醇、丙二醇、及甘油般之脂肪族多元醇所得之聚醚多元醇的聚縮水甘油醚(例如聚乙二醇的二縮水甘油醚)等。
在硬化性接著劑組成物中，環氧化合物可僅單獨使用1種或併用2種以上。其中，此環氧化合物較佳係含有：於分子內具有至少1個鍵結於脂環型環之環氧基之脂環型環氧化合物。
硬化性接著劑組成物所使用之環氧化合物，通常具有30至3,000g/當量的範圍內之環氧當量，此環氧當量較佳為50至1,500g/當量的範圍。當使用環氧當量低於30g/當量之環氧化合物時，硬化後之偏光板的可撓性可能會降低，或是接著強度降低。另一方面，具有超過3,000g/當量的環氧當量之化合物中，與接著劑組成物所含有之其他成分的相溶性有可能會降低。
從反應性之觀點來看，環氧化合物的硬化反應較佳係採用陽離子聚合。因此，於含有環氧化合物之硬化性接著劑組成物中，較佳係調配陽離子聚合起始劑。陽離子聚合起始劑係藉由可見光、紫外線、X射線、及電子束般之活化能射線的照射或加熱，產生陽離子物種或路易斯酸，而開始環氧基的聚合反應。從作業性之觀點來看，較佳係對陽離子聚合起始劑賦予潛伏性。以下係將藉由活化能射線的照射產生陽離子物種或路易斯酸而開始環氧基的聚合反應之陽離子聚合起始劑，稱為「光陽離子聚合起 始劑」，將藉由熱而產生陽離子物種或路易斯酸，開始環氧基的聚合反應之陽離子聚合起始劑，稱為「熱陽離子聚合起始劑」。
使用光陽離子聚合起始劑，並藉由活化能射線的照射使接著劑組成物硬化之方法，可於常溫常壓下硬化，可降低考量偏光膜的耐熱性或因膨脹所造成之扭曲之必要性，可良好地接著保護膜與偏光膜，就此點而言乃為有利。此外，光陽離子聚合起始劑由於以光進行觸媒作用，故即使混合於環氧化合物，保存穩定性或作業性亦優異。
光陽離子聚合起始劑例如可列舉出芳香族重氮鹽、芳香族錪鹽或芳香族鋶鹽等之鎓鹽；以及鐵-丙二烯錯合物等。此外，光陽離子聚合起始劑的調配量，相對於環氧化合物100重量份，通常為0.5至20重量份，較佳為1重量份以上，此外，較佳為15重量份以下。相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑的調配量低於0.5重量份時，硬化不足，而有硬化物的機械強度或接著強度降低之傾向。另一方面，相對於環氧化合物100重量份，光陽離子聚合起始劑的調配量超過20重量份時，硬化物中的離子性物質增加，使硬化物的吸濕性提高，耐久性能可能會降低。
使用光陽離子聚合起始劑時，硬化性接著劑組成物，可視需要而更含有光增感劑。藉由使用光增感劑，可提升陽離子聚合的反應性，而提升硬化物的機械強度或接著強度。光增感劑例如可列舉出羰基化合物、有機硫化 合物、過硫化物、氧化還原系化合物、偶氮化合物、二偶氮化合物、鹵素化合物、光還原型色素等。調配光增感劑時，其量係相對於硬化性接著劑組成物100重量份較佳係設為0.1至20重量份的範圍內。此外，為了提升硬化速度，可使用萘醌衍生物般之增感助劑。
另一方面，熱陽離子聚合起始劑可列舉出苄基鋶鹽、噻吩鹽(Thiophenium)、硫羥鹽(Thiolanium)、苄基銨、吡啶鹽、聯胺鹽、羧酸酯、磺酸酯、胺醯亞胺等。
含有環氧化合物之硬化性接著劑組成物，如前述般，較佳係藉由光陽離子聚合而硬化，但亦可使上述熱陽離子聚合起始劑存在並藉由熱陽離子聚合而硬化，或是併用光陽離子聚合與熱陽離子聚合。當併用光陽離子聚合與熱陽離子聚合時，於硬化性接著劑組成物中，較佳係含有光陽離子聚合起始劑與熱陽離子聚合起始劑之兩者。
此外，硬化性接著劑組成物更可含有氧呾化合物或多元醇化合物等之用以促進陽離子聚合之化合物。氧呾化合物為於分子內具有4員環醚之化合物。調配氧呾化合物時，其量於硬化性接著劑組成物中，通常為5至95重量%，較佳為5至50重量%。此外，多元醇化合物可為包含乙二醇或六亞甲二醇、聚乙二醇等之烷二醇或其低聚物、聚酯多元醇、聚己內酯多元醇、聚碳酸酯多元醇等。調配多元醇化合物時，其量於硬化性接著劑組成物中通常為50重量%以下，較佳為30重量%以下。
再者，硬化性接著劑組成物係只要無損及其 接著性，可含有其他添加劑，例如離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、可塑劑、消泡劑等。離子捕集劑係例如可列舉出包含粉末狀的鉍系、銻系、鎂系、鋁系、鈣系、鈦系、此等之混合系等無機化合物，抗氧化劑例如可列舉出受阻酚系抗氧化劑等。
將含有環氧化合物之硬化性接著劑組成物塗布於偏光膜或保護膜的接著面或此等兩者的接著面後，以塗布接著劑後之面來貼合，並藉由照射活化能射線或加熱以使未硬化的接著劑層硬化，可接著偏光膜與保護膜。接著劑的塗布方法，例如可採用刮刀、線棒、壓模塗布、缺角輪塗布、凹版塗布等之塗布方式。
此硬化性接著劑組成物，基本上可使用來作為實質上不含溶劑之無溶劑型接著劑，但由於各塗布方式有各自最適之黏度範圍，故為了黏度調整，可含有溶劑。溶劑較佳係在不使偏光膜的光學特性降低，可良好地溶解以環氧化合物為首之各成分之有機溶劑，例如可使用以甲苯為代表之烴類、以乙酸乙酯為代表之酯類等。
當藉由活化能射線的照射來進行接著劑組成物的硬化時，活化能射線可使用前述所示之各種者，但從容易處理且亦容易控制照射光量等來看，可較佳地使用紫外線。活化能射線例如紫外線的照射強度或照射量，在不會對以偏光膜的偏光度為首之各種光學性能、以及以保護膜的透明性或相位差特性為首之各種光學性能造成影響之 範圍內，可適當地決定以保持適度的生產性。
當藉由熱來進行接著劑組成物的硬化時，可藉由一般所知的方法來加熱。通常是以使調配於硬化性接著劑組成物之熱陽離子聚合起始劑產生陽離子物種或路易斯酸之溫度以上進行加熱，具體的加熱溫度，例如約為50至200℃。
[黏著劑]
黏著劑只要為光學透明性優異，且包含適度的潤濕性、凝聚性、接著性等之黏著特性優異者即可，再者，較佳為耐久性等亦優異者。具體而言，作為形成黏著劑層之黏著劑，較佳係含有丙烯酸系樹脂之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。
在丙烯酸系黏著劑所含有之丙烯酸系樹脂，為丙烯酸丁酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異辛酯、及丙烯酸2-乙基己酯般之丙烯酸烷酯為主要單體之樹脂。於此丙烯酸系樹脂中，通常共聚合有極性單體。極性單體為具有聚合性不飽和鍵及極性官能基之化合物，在此，聚合性不飽和鍵一般係來自(甲基)丙烯醯基，此外，極性官能基可為羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等。列舉出極性單體的例子，係有(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯醯胺、2-N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等。
此外，於丙烯酸系黏著劑中，通常與丙烯酸 系樹脂一起調配交聯劑。交聯劑的代表例，可列舉出於分子中具有至少2個異氰酸基(-NCO)之異氰酸酯化合物。
黏著劑中，更可調配各種添加劑。較佳的添加劑可列舉出矽烷偶合劑和抗帶電劑等。矽烷偶合劑對於提高與玻璃之接著力上為有效。抗帶電劑對於降低或防止靜電的產生上為有效。
黏著劑層可藉由：調製出如以上的黏著劑成分溶解於有機溶劑而成之黏著劑組成物，將此直接塗布在偏光膜上或保護膜上，並將溶劑乾燥去除之方法；或者是將上述黏著劑組成物塗布在由施以脫模處理後之樹脂膜所構成之基材膜的脫模處理面，將溶劑乾燥去除而形成黏著劑層，並將此貼著於透明保護膜上以轉印黏著劑層之方法來形成。當藉由前者之直接塗布法而將黏著劑層形成於透明保護膜上時，一般作法是將施以脫模處理後之樹脂膜(亦稱為分離膜)貼合於其表面，以暫時貼著而保護黏著劑層表面直到使用時為止。從作為有機溶劑溶液之黏著劑組成物的處理性之觀點等來看，較多係採用後者的轉印法，此時，最初使用在黏著劑層的形成之脫模處理後的基材膜，在貼著於偏光板後，可直接成為分離膜，就此點而言亦較佳。
在將黏著劑積層於偏光膜或保護膜之前，預先對偏光膜面、保護膜面及黏著劑面進行電暈處理或電漿處理者亦為有用。
[黏著劑層33、53、接著層54]
偏光板與液晶單元之貼合、及吸收型偏光板50與增亮膜61之貼合，可使用接著劑或黏著劑，較佳係使用黏著劑。黏著劑層係只要光學透明性優異，包含適度的潤濕性、凝聚性、接著性等之黏著特性優異者即可，但再者較佳為耐久性等亦優異者。具體而言，就形成黏著劑層之黏著劑而言，較佳係含有丙烯酸系樹脂之黏著劑(丙烯酸系黏著劑)。
黏著劑層係可使用與上述偏光膜及保護膜之貼合所使用者為同等者，黏著劑可使用分別不同者或相同者。
在將黏著劑積層於偏光板之前，預先對偏光膜面、保護膜面及黏著劑面進行電暈處理或電漿處理等亦為有用。此外，在積層增亮膜時，預先對增亮膜61的貼合面及黏著劑面進行電暈處理或電漿處理等亦為有用。從使增亮膜61接近於液晶單元之觀點來看，增亮膜的積層所使用之黏著劑層，較佳為25μm以下。更佳為15μm以下。黏著劑層的厚度通常為3μm以上。
以上所說明之本發明之偏光板之套組，較佳係於觀看側偏光板30中，偏光膜32的吸收軸與液晶單元的短邊方向大致平行，且於背面側偏光板60中，偏光膜52的吸收軸與液晶單元的長邊方向大致平行。
[液晶單元]
液晶單元係具有2片單元基板與夾持於此等基板間之 液晶層。單元基板一般較多是由玻璃所構成，但亦可為塑膠基板。此外，本發明之液晶面板所使用之液晶單元本身，可由該領域所採用之各種者(例如，驅動模式為IPS模式、VA模式、TN模式等之一般所知者)來構成。
[液晶面板]
介於黏著劑層將偏光板貼合於液晶單元，可製作液晶面板。
本發明之液晶面板，係使用：將從液晶單元至增亮膜為止之距離設為100μm以下，於85℃將觀看側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率、與於85℃將背面側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率之比為超過1且為1.4以下之偏光板之套組。從其他觀點來看，本發明之液晶面板，於85℃加熱240小時後之翹曲量的絕對值為0.5mm以下，較佳為0.3mm以下。藉由將如此之偏光板之套組貼合於液晶單元，本發明之液晶面板，可抑制高溫環境下的翹曲，成為可容納於最終製品的框體之液晶顯示面板。
本發明之液晶面板，尤其可較佳地使用在較多被暴露在室外等高溫下之中小型用的液晶顯示裝置。例如，適用於液晶面板的大小為對角線15吋以下之情形。
此外，從更降低高溫環境下之液晶面板的翹曲之點來看，從液晶單元至增亮膜為止之距離較佳係設為80μm以下，尤佳設為60μm以下。此外，於85℃將觀看 側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率、及於85℃將背面側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率之比，較佳為1.01以上1.4以下，尤佳為1.05以上1.3以下。
於85℃將觀看側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率，較佳為1.0%以上，更佳為1.1%以上。此外，於85℃將背面側偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率，較佳為1.1%以下，更佳為1.0%以下。偏光板之吸收軸方向上的尺寸變化率，例如可藉由調整將保護膜貼合於偏光膜後之乾燥步驟的長度或溫度、偏光膜的厚度及偏光膜的拉伸倍率等來控制。
此外，在製作偏光板後，於40℃至80℃的範圍進行加熱處理來調整偏光板之吸收軸方向上的尺寸變化率之方法亦為有用。從避免偏光板因急遽收縮所造成的外觀不良之觀點來看，尤佳係於40℃至60℃的範圍進行加熱處理。
於85℃將偏光板加熱100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率，係如下述方式測定。首先將偏光板裁切為長度方向100mm×寬度方向100mm的大小，於溫度23℃、濕度55%的環境下靜置1天，測定MD方向(吸收軸方向)的尺寸(L0)。接著於85℃的環境下靜置100小時，測定靜置於高溫環境下後之MD方向的尺寸(L1)。根據該結果，從式(c)求取尺寸變化率。
尺寸變化率=[(L0-L1)/L0]×100 (c)
尺寸變化率之比，可從觀看側偏光板的尺寸變化率A與背面側偏光板的尺寸變化率B之值，藉由下述式(d)來求取。
尺寸變化率之比=A/B (d)
[實施例]
以下，係顯示實施例而更具體地說明本發明，但本發明並不限定於此等例。例中，表示含量及使用量之份及%，在無特別記載時為重量基準。又，在以下的例子中之各物性的測定係藉由以下之方法來進行。
(1)厚度之測定：
使用Nikon股份有限公司製的Digital Micrometer〝MH-15M〞來測定。
(2)面內相位差值及厚度方向的相位差值之測定
使用王子計測機器股份有限公司製之以平行偏光旋轉法為原理之相位差計〝KOBRA(註冊商標)-WPR〞，於23℃的溫度下，測定波長590nm中之面內相位差值及厚度方向的相位差值。
(3)尺寸變化率之測定
使用Nikon股份有限公司製的二維測定器〝NEXIV VMR-12072〞來測定。
(4)偏光板的翹曲量之測定
將所製作之液晶面板於85℃的環境下靜置240小時 後，以觀看側偏光板為上側而放置在Nikon股份有限公司製的二維測定器〝NEXIV VMR-12072〞的測定台上。接著，將焦點對準於測定台的表面，以此為基準，將焦點對準於液晶面板的4角落部、4邊的各中央及液晶面板表面的中央，測定與作為基準的焦點之距離後，將以絕對值計與測定台之距離為最長之距離設為翹曲量。
[製造例1]偏光膜1的製作
藉由乾式拉伸，將厚度20μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳以上)單軸拉伸至約4倍，然後，保持張緊狀態，於40℃的純水浸漬40秒後，於28℃浸漬在碘/碘化鉀/水的重量比為0.052/5.7/100之水溶液中30秒，而進行染色處理。然後，於70℃浸漬在碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100之水溶液120秒。接著，以8℃的純水洗淨15秒後，在以300N的張力予以保持之狀態下，於60℃進行50秒，接著於75℃進行20秒的乾燥，而得到於聚乙烯醇膜吸附配向碘之厚度7μm的吸收型偏光膜。
[製造例2]偏光膜2的製作
藉由乾式拉伸，將厚度30μm的聚乙烯醇膜(平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳以上)單軸拉伸至約4倍，然後保持張緊狀態，於40℃的純水浸漬40秒後，於28℃浸漬在碘/碘化鉀/水的重量比為0.052/5.7/100之水溶液30 秒，而進行染色處理。然後，於70℃浸漬在碘化鉀/硼酸/水的重量比為11.0/6.2/100之水溶液120秒。接著以8℃的純水洗淨15秒後，在以300N的張力予以保持之狀態下，於60℃進行50秒，接著於75℃進行20秒的乾燥，而得到於聚乙烯醇膜吸附配向碘之厚度12μm的吸收型偏光膜。
[製造例3]水系接著劑的製作
將3重量份之經羧基改質聚乙烯醇[從Kuraray股份有限公司所取得之商品名稱「KL-318」]溶解於水100重量份，然後於其水溶液中添加1.5重量份之水溶性環氧樹脂的聚醯胺環氧系添加劑[從田岡化學工業股份有限公司所取得之商品名稱「Sumirez Resin(註冊商標)650(30)」、固體成分濃度30重量%的水溶液]，而調製出水系接著劑。
[黏著劑A、B、C]
製備以下3種黏著劑。
黏著劑A：厚度20μm的薄片黏著劑[Lintec股份有限公司製的「NCF #KT」]
黏著劑B：厚度5μm的薄片黏著劑[Lintec股份有限公司製的「NCF #L2」]
黏著劑C：厚度15μm的薄片黏著劑[Lintec股份有限公司製的「NCF #K1」]
[保護膜A、B、C、D、E、F]
製備以下6種保護膜。
保護膜A：Konica Minolta股份有限公司製之附有硬塗層的三乙酸纖維素膜；25KCHCN-TC(厚度32μm)
保護膜B：Konica Minolta股份有限公司製的三乙酸纖維素膜；KC2CT(厚度20μm、波長590nm之面內相位差值=1.2nm、波長590nm之厚度方向相位差值=1.3nm)
保護膜C：Zeon Japan股份有限公司製的環狀聚烯烴系樹脂膜；ZF14-023(厚度13μm、波長590nm之面內相位差值=0.5nm、波長590nm之厚度方向相位差值=4.3nm)
保護膜D：Zeon Japan股份有限公司製的環狀聚烯烴系樹脂膜；ZF14-013(厚度23μm、波長590nm之面內相位差值=0.5nm、波長590nm之厚度方向相位差值=3.3nm)
保護膜E：Konica Minolta股份有限公司製的三乙酸纖維素膜；KC2UAW(厚度25μm)
保護膜F：Konica Minolta股份有限公司製的三乙酸纖維素膜；KC4UYW(厚度40μm)
[增亮膜A]
製備以下之增亮膜。
增亮膜A：26μm厚的增亮膜(3M公司製的商品名稱〝Advanced Polarized Film,Version 3)
[製造例4]觀看側偏光板1的製作
對保護膜A進行皂化處理，對保護膜C之一面進行電 暈處理。以使保護膜A的三乙酸纖維素面及保護膜C的電暈處理面分別成為與偏光膜2之貼合面之方式，以水系接著劑貼合保護膜A、偏光膜2、及保護膜C，並進行乾燥處理而得到觀看側偏光板1。
觀看側偏光板1之MD方向的尺寸變化率為1.02%。可藉由調整上述乾燥處理中的乾燥時間來調整尺寸變化率。
再者，將黏著劑A貼合於觀看側偏光板1的保護膜C上，而形成黏著劑層。此時，預先對保護膜表面及黏著劑表面進行電暈處理。
[製造例5至9]觀看側偏光板2至6的製作
調整上述乾燥處理中的乾燥時間，形成MD方向(吸收軸方向)的尺寸變化率相異者以外，其他與製造例4相同而分別製作觀看側偏光板2至6，接著將黏著劑A貼合於保護膜C上，而形成黏著劑層。觀看側偏光板2至6的尺寸變化率如下所述。
觀看側偏光板2：1.09
觀看側偏光板3：1.23
觀看側偏光板4：1.30
觀看側偏光板5：1.41
觀看側偏光板6：0.95
[製造例10]背面側偏光板1的製作
對保護膜C進行電暈處理。以使進行電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，藉水系接著劑貼合保護膜C與偏光膜1。接著，將黏著劑B貼合於偏光膜1之與貼合有保護膜C之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對偏光膜1的表面及黏著劑B的表面進行電暈處理。然後，將增亮膜A貼合於黏著劑B之與貼合有偏光膜1之面為相反側的面，而製作背面側偏光板1。此時，預先對增亮膜A的表面進行電暈處理。背面側偏光板1之MD方向的尺寸變化率為0.98%。
將黏著劑A貼合於如此所得到之背面側偏光板1的保護膜C面，而形成黏著劑層。此時，亦預先對保護膜C的表面及黏著劑A的表面進行電暈處理。
[製造例11]背面側偏光板2的製作
對保護膜C進行電暈處理。以使進行電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，藉水系接著劑來貼合保護膜C與偏光膜1。接著，將黏著劑B貼合於保護膜C之與貼合有偏光膜1之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對保護膜C的表面及黏著劑B的表面進行電暈處理。然後，將增亮膜A貼合於黏著劑B之與貼合有保護膜C之面為相反側的面，而製作背面側偏光板2。此時，預先對增亮膜A的表面進行電暈處理。背面側偏光板2之MD方向的尺寸變化率為0.98%。
將黏著劑A貼合於如此所得到之背面側偏光板2的偏 光膜1面，而形成黏著劑層。此時，亦預先對偏光膜1的表面及黏著劑A的表面進行電暈處理。
[製造例12]背面側偏光板3的製作
對保護膜D進行電暈處理。以使進行電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，藉水系接著劑貼合保護膜D與偏光膜1。接著，將黏著劑B貼合於保護膜D之與貼合有偏光膜1之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對保護膜D的表面及黏著劑B的表面進行電暈處理。然後將進行皂化處理後之保護膜E，貼合於黏著劑B之與貼合有保護膜D之面為相反側的面。再者，將黏著劑C貼合於保護膜E之與貼合有黏著劑B之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對黏著劑C的表面進行電暈處理。最後，將增亮膜A貼合於黏著劑C之與貼合有保護膜E之面為相反側的面，而製作背面側偏光板3。此時，預先對增亮膜A的表面進行電暈處理。背面側偏光板3之MD方向的尺寸變化率為0.97%。
將黏著劑A貼合於如此所得到之背面側偏光板3的偏光膜1面，而形成黏著劑層。此時，亦預先對偏光膜1的表面及黏著劑A的表面進行電暈處理。
[製造例13]背面側偏光板4的製作
對保護膜D進行電暈處理。以使進行電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，藉水系接著劑貼合保護膜 D與偏光膜1。接著將黏著劑B貼合於保護膜D之與貼合有偏光膜1之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對保護膜D的表面及黏著劑B的表面進行電暈處理。然後將進行皂化處理後之保護膜F，貼合於黏著劑B之與貼合有保護膜D之面為相反側的面。再者，將黏著劑B貼合於保護膜F之與貼合有黏著劑B之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對黏著劑B的表面進行電暈處理。最後，將增亮膜A貼合於黏著劑B之與貼合有保護膜F之面為相反側的面，而製作背面側偏光板4。此時，預先對增亮膜A的表面進行電暈處理。背面側偏光板4之MD方向的尺寸變化率為0.75%。
將黏著劑A貼合於如此所得到之背面側偏光板4的偏光膜1面，而形成黏著劑層。此時，亦預先對偏光膜1的表面及黏著劑A的表面進行電暈處理。
[製造例14]背面側偏光板5的製作
對保護膜D進行電暈處理。以使進行電暈處理之面成為與偏光膜1之貼合面之方式，藉水系接著劑貼合保護膜D與偏光膜1。接著將黏著劑B貼合於保護膜D之與貼合有偏光膜1之面為相反側的面，而形成黏著劑層。此時，預先對保護膜D的表面及黏著劑B的表面進行電暈處理。然後將進行皂化處理後之保護膜F，貼合於黏著劑B之與貼合有保護膜D之面為相反側的面。再者，將黏著劑A貼合於保護膜F之與貼合有黏著劑B之面為相反側的面，而 形成黏著劑層。此時，預先對黏著劑A的表面進行電暈處理。最後，將增亮膜A貼合於黏著劑A之與貼合有保護膜F之面為相反側的面，而製作背面側偏光板5。此時，預先對增亮膜A的表面進行電暈處理。背面側偏光板5之MD方向的尺寸變化率為0.58%。
將黏著劑A貼合於如此所得到之背面側偏光板5的偏光膜1面，而形成黏著劑層。此時亦預先對偏光膜1的表面及黏著劑A的表面進行電暈處理。
[液晶單元]
從Google Inc.製之Nexus7的液晶面板中，剝離觀看側偏光板及背面側偏光板而得到液晶單元。
[實施例1]
以使偏光膜的吸收軸相對於液晶單元的短邊呈平行之方式，將觀看側偏光板1裁切為對角線7吋的大小，並以使偏光膜的吸收軸相對於液晶單元的長邊呈平行之方式，將背面側偏光板1裁切為對角線7吋的大小。將如此所製作之偏光板，透過黏著劑分別貼合於液晶單元而製作液晶面板。觀看側偏光板與背面側偏光板之尺寸變化率之比為1.04。此外，從增亮膜至液晶單元為止之距離為55μm。
將如此所製作之液晶面板，於85℃的環境下靜置240小時後測定翹曲量，結果為0.4mm。
[實施例2至10、比較例1至5]
使用第1表所示之觀看側偏光板及背面側偏光板，除此之外，其他與實施例1相同而製作液晶面板。
實施例1至10、比較例1至5所使用之觀看側偏光板之吸收軸方向上的尺寸變化率及背面側偏光板之吸收軸方向上的尺寸變化率、背面側偏光板之從增亮膜至液晶單元為止之距離、以及尺寸變化率之比，係彙整顯示於第1表。
[產業上之可應用性]
根據本發明，可解決液晶面板在高溫環境下的翹曲，而能夠得到即使在高溫環境下亦可容納於最終製品的框體之液晶面板。
30‧‧‧觀看側偏光板
31a、31b、51‧‧‧保護膜
32、52‧‧‧偏光膜
33、53‧‧‧黏著劑層
35‧‧‧表面處理層
50‧‧‧吸收型偏光板
54‧‧‧接著層
60‧‧‧背面側偏光板
61‧‧‧增亮膜

Claims (5)

  1. 一種偏光板之套組，其係配置在液晶單元的觀看側之觀看側偏光板、及配置在液晶單元的背面側之背面側偏光板之套組，前述背面側偏光板係具有積層有增亮膜與吸收型偏光板之構成，於配置在前述液晶單元的背面側時，從接觸於前述液晶單元之表面至前述增亮膜之距離為100μm以下，於85℃加熱前述觀看側偏光板100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率、及於85℃加熱前述背面側偏光板100小時後之吸收軸方向上的尺寸變化率之比為超過1且為1.4以下。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板之套組，其中，前述觀看側偏光板及前述背面側偏光板分別具有偏光膜，前述觀看側偏光板具有之偏光膜的厚度，係大於前述背面側偏光板具有之偏光膜的厚度。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板之套組，其中，前述背面側偏光板所包含之吸收型偏光板係具有偏光膜，該吸收型偏光板為僅於偏光膜的單面具有保護膜之偏光板。
  4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之偏光板之套組，其中，前述觀看側偏光板係其吸收軸與前述液晶單元的短邊方向大致平行，前述背面側偏光板係其吸收軸與前述液晶單元的長邊方向大致平行。
  5. 一種液晶面板，係包含：液晶單元、以及如申請專利範圍第1至4項中任一項所述之偏光板之套組，於前述液晶單元的觀看側配置前述觀看側偏光板，於前述液晶單元的背面側配置前述背面側偏光板，於85℃加熱240小時後之翹曲量的絕對值為0.5mm以下。
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