TW201711978A - 玻璃板之製造方法、玻璃板、玻璃物品之製造方法、玻璃物品、及玻璃物品之製造裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明係一種玻璃板之製造方法，其具備如下步驟：(1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材；(2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面照射雷射，而於上述第1主表面形成排列有複數個孔隙之面內孔隙區域，並且自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，形成排列有1或2個以上孔隙之複數個內部孔隙行；及(3)將形成有上述內部孔隙行之上述玻璃坯材進行化學強化處理。

Description

玻璃板之製造方法、玻璃板、玻璃物品之製造方法、玻璃物品、及玻璃物品之製造裝置
本發明係關於一種玻璃板之製造方法、玻璃板、玻璃物品之製造方法、玻璃物品、及玻璃物品之製造裝置。
例如，於電子機器之覆蓋玻璃、建材用之窗玻璃、及車輛用之玻璃構件等之領域，存在對於所用之玻璃物品要求較高之強度之情形。於如此之情形時，對於作為玻璃物品之基礎之玻璃基板，經常適用化學強化處理。 化學強化處理係使玻璃基板浸漬於含有鹼金屬之熔鹽中，將存在於玻璃基板之表面之原子直徑更小之鹼金屬離子與存在於熔鹽中之原子直徑更大之鹼金屬離子進行置換之製程。 藉由化學強化處理，而對於玻璃基板之表面，導入原子直徑大於原先之原子之鹼金屬離子。因此，於玻璃基板之表面形成壓縮應力層，藉此，玻璃基板之強度提昇。 再者，一般而言，經化學強化所得之玻璃物品係經由如下步驟而製造： (I)準備較大尺寸之玻璃坯材； (II)自玻璃坯材，切斷收集製品形狀之複數個玻璃基板；及 (III)將所收集之玻璃基板進行化學強化處理。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]美國專利申請公開第2015/0166393號說明書 [專利文獻2]日本專利特表2013-536081號公報 [專利文獻3]美國專利申請公開第2012/0196071號說明書
[發明所欲解決之問題] 先前之製造方法係於自(II)中之切斷後進行(III)中之化學強化處理時，必須處理最終形狀較多之玻璃基板。然而，於該階段中，玻璃基板因尚未被化學強化處理，而尤其於端面容易劃傷，故要求極其謹慎之處理。例如，於將最終形狀之玻璃基板進行化學強化處理時，亦對於玻璃基板之於熔鹽中之支持或固持之方法、或玻璃基板與使用治具之接觸等，需要充分之對策。 如此般，先前之製造方法存在玻璃基板之操作較為繁雜之類的問題。又，存在最終所得之玻璃物品中主要之強度之品質難以確保，從而玻璃物品之製造良率不易提昇之類的問題。 另一方面，為避免如此之問題，而考慮預先對於較大尺寸之玻璃坯材實施化學強化處理，藉由將該玻璃坯材切斷，而製造經化學強化之玻璃物品之方法。 然而，於如此之方法中，存在因玻璃坯材之表面被強化，而變得難以自玻璃坯材切取玻璃物品之類的問題。又，即便可切取玻璃物品，藉此所得之玻璃物品亦因具有未經化學強化之端面，而產生無法獲得充分之強度之類的問題。 本發明係鑒於如此之背景研製而成者，本發明之目的在於提供一種可獲得必然地抑制因劃痕造成之外觀上之品質低下且具有良好之強度之玻璃物品之玻璃物品及玻璃板之製造方法。又，本發明之目的在於提供一種可藉由如此之製造方法而製造之玻璃物品及玻璃板。進而，本發明之目的在於提供一種如此之玻璃物品之製造裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明係提供一種玻璃板之製造方法，其包含如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包含雷射改質區域之斷開用線；及 (3)將形成有上述斷開用線之上述玻璃坯材進行化學強化處理； 於上述(2)之步驟中，上述斷開用線包括1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，上述製品線係對應於自上述玻璃坯材分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線。 又，本發明係提供一種玻璃板之製造方法，其包括如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包含雷射改質區域之製品線； (3)於上述(2)之步驟之前或上述(2)之步驟之後，於上述玻璃坯材之上述第1或第2主表面形成離型線；及 (4)將形成有上述製品線及上述離型線之上述玻璃坯材進行化學強化處理； 於上述(2)之步驟中，上述製品線係對應於自上述玻璃坯材分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述製品線以外之部分， 上述製品線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸，上述離型線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面，或自上述第2主表面朝向上述第1主表面，於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面具有藉由化學強化處理而形成之壓縮應力層。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 於利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線係以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 於利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有與該玻璃板之厚度之中央部分相比，越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，將第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線係以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 於利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。 又，本發明係提供一種玻璃板之製造方法，其具有如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面照射雷射，而於上述第1主表面，形成排列有複數個孔隙之面內孔隙區域，並且形成自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行；及 (3)將形成有上述內部孔隙行之上述玻璃坯材進行化學強化處理。 又，本發明係提供一種玻璃物品之製造方法，其具有如下步驟： 藉由具有上述任一特徵之玻璃板之製造方法，製造玻璃板，且上述玻璃板具有與上述玻璃坯材之上述第1主表面對應之第3主表面、及與上述玻璃坯材之上述第2主表面對應之第4主表面；及 沿著上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行，自上述玻璃板分離1或2個以上之玻璃物品。 再者，於該製造方法及上述之其他之玻璃板之製造方法中，上述(1)之步驟中之玻璃坯材既可為實施本製造方法之人所製造者，亦可自第三者購入。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面之中央，存在藉由化學強化處理而形成之壓縮應力層。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面中之自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有與該玻璃板之厚度之中央部分相比，越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。 又，本發明係提供一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。 又，本發明係提供一種玻璃物品，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及將兩主表面接合之至少一個端面，且 上述端面具有藉由化學強化處理而形成之壓縮應力層， 與上述端面垂直之方向之裂痕深度淺於與上述端面垂直之方向之上述壓縮應力層之深度。 又，本發明係提供一種玻璃物品，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及將兩主表面接合之至少一個端面，且 於上述端面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有與厚度方向之中央部分相比，越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述鹼金屬離子之濃度越高之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述端面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃物品之總體濃度。 又，本發明係提供一種玻璃物品，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及將兩主表面接合之至少一個端面，且 於上述端面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述端面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃物品之總體濃度。 又，本發明係提供一種玻璃物品之製造裝置，其具有 自玻璃板分離1或2個以上之玻璃物品之分離機構，且 上述玻璃板係具有上述任一特徵之玻璃板， 上述分離機構係藉由自下述處理中所選擇之一個以上處理，而自上述玻璃板，分離上述1或2個以上之玻璃物品： 對上述玻璃板施加沿上述面內孔隙區域之推壓力之處理、 使上述玻璃板以上述第1主表面或上述第2主表面成為凸起之方式變形之處理、及 對上述玻璃板施加沿上述面內孔隙區域之熱應力引起之拉伸應力之處理。 [發明之效果] 本發明可提供一種能夠獲得必然地抑制因劃痕造成之外觀上之品質低下且具有良好之強度之玻璃物品之玻璃物品及玻璃板之製造方法。又，本發明可提供一種能夠藉由如此之製造方法而製造之玻璃物品及玻璃板。進而，本發明可提供一種如此之玻璃物品之製造裝置。
以下，參照圖式，對本發明之一實施形態進行說明。 (本發明之一實施形態之玻璃物品之製造方法) 參照圖1～圖10，對本發明之一實施形態之玻璃物品之製造方法進行說明。 於圖1中，模式性表示本發明之一實施形態之玻璃物品之製造方法(以下，稱作「第1製造方法」)之流程。 如圖1所示，第1製造方法具有如下步驟： 準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材(玻璃坯材準備步驟)(步驟S110)； 對玻璃坯材之第1主表面照射雷射，於第1主表面形成面內孔隙區域，並且於玻璃坯材之內部形成內部孔隙行(雷射照射步驟)(步驟S120)； 將玻璃坯材進行化學強化處理(化學強化步驟)(步驟S130)；及 自經化學強化之玻璃坯材即玻璃板，沿著上述面內孔隙區域及內部孔隙行，將玻璃物品分離(分離步驟)(步驟S140)。 以下，參照圖2～圖10，對各步驟進行說明。再者，圖2～圖10分別為概略性表示第1製造方法之一步驟之圖。 (步驟S110) 首先，準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材。 玻璃坯材之玻璃組成只要為可實施化學強化之組成，則並無特別限定。玻璃坯材可為例如鈉鈣玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、或鹼鋁矽酸鹽玻璃等。 於該階段中，玻璃坯材既可實施化學強化處理，亦可不實施化學強化處理。再者，必須注意此處之化學強化處理不同於隨後之步驟S130中所實施之化學強化處理。 為明確此方面，以後，將該階段中之化學強化處理稱作「預備性化學強化處理」，從而區別於隨後之化學強化處理。 預備性化學強化處理之次數既可為1次，亦可為2次以上，並無特別限定。於將預備性化學強化處理實施2次以上之情形時，可將與主表面正交之方向上之殘留應力層之分佈設為與將預備性化學強化處理僅實施1次之情形時所得之分佈不同之狀態。 玻璃坯材之厚度並無特別限定，但例如可為0.03 mm～6 mm之範圍。又，於建材用或車輛用之玻璃坯材之情形時，例如亦可為2～19 mm之範圍。 玻璃坯材既可以板狀提供，亦可以輥狀提供。於使用輥狀之玻璃坯材之情形時，與板狀者相比，更容易搬送。再者，於板狀之玻璃坯材之情形時，第1及第2主表面無需為平坦者，亦可為曲面狀。 於圖2中，作為一例，模式性表示板狀之玻璃坯材110之形態。玻璃坯材110具有平坦之第1主表面112、平坦之第2主表面114、及端面116。 (步驟S120) 繼而，對板狀之玻璃坯材110照射雷射。藉此，於玻璃坯材110之第1主表面112，形成面內孔隙區域。又，自該面內孔隙區域至下側、即第2主表面114之側，形成複數個內部孔隙行。 此處，所謂「面內孔隙區域」係指將複數個表面孔隙以特定之配置排列而形成之線狀區域。又，所謂「內部孔隙行」係指於玻璃坯材之內部，1或2個以上之孔隙自第1主表面朝向第2主表面排列而形成之線狀區域。 以下，使用圖3，對「面內孔隙區域」及「內部孔隙行」之形態，更詳細地進行說明。於圖3中，模式性地表示形成於玻璃坯材之面內孔隙區域及內部孔隙行。 如圖3所示，於該玻璃坯材110中，形成有一個面內孔隙區域130、及與該面內孔隙區域130對應之複數個內部孔隙行150。 如上所述，面內孔隙區域130係表示將複數個表面孔隙138以特定之配置排列而成之線狀區域。例如，於圖3之例，在玻璃坯材110之第1主表面112，以固定之方向(X方向)排列有複數個表面孔隙138，藉此，形成面內孔隙區域130。 各表面孔隙138係與第1主表面112中之雷射之照射位置對應，且具有例如1 μm～5 μm之間之直徑。但，表面孔隙138之直徑因雷射之照射條件及玻璃坯材110之種類等而變化。 鄰接之表面孔隙138彼此之中心間距離P係基於玻璃坯材110之組成及厚度、及雷射加工條件等任意地決定。例如，中心間距離P可為2 μm～10 μm之範圍。再者，表面孔隙138彼此之中心間距離P不必於所有之位置相等，亦可因場所而不同。即，表面孔隙138亦可以不規則之間隔排列。 另一方面，內部孔隙行150係指如上所述於玻璃坯材110之內部，使1或2個以上之孔隙158自第1主表面112朝向第2主表面114排列而形成之線狀區域。 孔隙158之形狀、尺寸、及間距並無特別限定。孔隙158於例如自Y方向觀察時，可為圓形、橢圓形、矩形、或三角形等形狀。又，自Y方向觀察時之孔隙158之最大尺寸(通常之情形時，相當於沿內部孔隙行150之延伸方向之孔隙158之長度)可為例如0.1 μm～1000 μm之範圍。 各內部孔隙行150具有分別對應之表面孔隙138。例如，圖3所示之例中，形成有與18個表面孔隙138分別對應之合計18條內部孔隙行150。 再者，圖3之例中，構成一個內部孔隙行150之各孔隙158係沿著玻璃坯材110之厚度方向(Z方向)排列。即，各內部孔隙行150係於Z方向上延伸。然而，此情況僅為一例，構成內部孔隙行150之各孔隙亦可於相對Z方向傾斜之狀態下，自第1主表面112排列至第2主表面114。 又，於圖3之例中，各內部孔隙行150係分別除了表面孔隙138以外，包含合計3個孔隙158之排列。然而，此情況僅為一例，各內部孔隙行150亦可包含1個或2個孔隙158、或4個以上之孔隙158。又，於各個內部孔隙行150中，所含之孔隙158之數亦可不同。進而，若干個孔隙158亦可與表面孔隙138連結，形成「較長之」表面孔隙138。 進而，各內部孔隙行150亦可具有或不具有在第2主表面114上開口之孔隙(第2表面孔隙)。 再者，如根據以上之說明所明確，必須注意面內孔隙區域130表示於將各表面孔隙138連結時所形成之虛擬之線狀區域，而並非表示作為實際上連續之「線」所形成之區域。 同樣地，必須注意內部孔隙行150表示於將各孔隙158連結時所形成之虛擬之線狀區域，而並非表示作為實際上連續之「線」所形成之區域。 進而，一個面內孔隙區域130無需視為1條「線」(表面孔隙138之行)，一個面內孔隙區域130亦可作為於相互極其接近之狀態下配置之平行之複數個「線」之集合體而形成。 於圖4中，表示如此之被視為複數個「線」之集合體之面內孔隙區域130之一例。於該例中，於玻璃坯材110之第1主表面112，預先形成有相互平行之2條表面孔隙行138A、138B，藉此，構成一個面內孔隙區域130。兩表面孔隙行138A及138B之距離為例如5 μm以下，較佳為3 μm以下。 再者，於圖4之例中，面內孔隙區域130包括2條表面孔隙行138A及138B，但面內孔隙區域130亦可包括更多之表面孔隙行。 以下，將如此之包括複數個表面孔隙行之面內孔隙區域尤其稱為「多線面內孔隙區域」。又，如圖3所示，將包括一個表面孔隙行之面內孔隙區域130尤其稱為「單線面內孔隙區域」，從而區別於「多線面內孔隙區域」。 如以上說明之面內孔隙區域130及內部孔隙行150可藉由對玻璃坯材110之第1主表面112照射雷射而形成。 更具體而言，首先，藉由對玻璃坯材110之第1主表面112之第1位置照射雷射，而自第1主表面112遍及第2主表面114，形成包含第1表面孔隙之第1內部孔隙。繼而，改變雷射對玻璃坯材110之照射位置，並對玻璃坯材110之第1主表面112之第2位置照射雷射，藉此，自第1主表面112遍及第2主表面114，形成包含第2表面孔隙之第2內部孔隙行。可藉由重複實施該操作，而形成面內孔隙區域130、及與該面內孔隙區域130對應之內部孔隙行150。 再者，於未利用1次雷射照射，形成具有與第2主表面114充分地接近之孔隙158之內部孔隙行之情形時，即孔隙158中與第2主表面114最接近之孔隙依然位於與第2主表面114充分遠之位置之情形時(例如，在與第2主表面114最接近之孔隙中，與第1主表面112相距之距離為玻璃坯材110之厚度之1/2以下之情形時)等，可於實質上相同之照射位置，進行2次以上之雷射照射。此處，所謂「實質上相同之(照射)位置」係指不僅包含2個位置完全一致之情形，亦包含略微偏移之情形(例如最大3 μm之偏移)。 例如，亦可沿著與玻璃坯材110之第1主表面112平行之第1方向，複數次地進行雷射照射，形成第1面內孔隙區域130及與該第1面內孔隙區域130對應之內部孔隙行150(第1路徑)後，藉由於與第1路徑大致相同之方向及大致相同之照射位置進行雷射照射(第2路徑)，而形成與第1面內孔隙區域130對應之更「深」之內部孔隙行150。 構成內部孔隙行150之孔隙158中之自位於與第2主表面114相距最近之位置之孔隙之中心至第2主表面114之距離雖取決於玻璃坯材110之厚度，但較佳為0 μm～10 μm之範圍。 作為可用於如此之處理之雷射，例如可列舉脈寬為飛秒級～奈米秒級、即1.0×10-15 ～9.9×10-9 秒之短脈衝雷射。就更有效地形成內部孔隙之方面而言，較佳為，如此之短脈衝雷射進而為突發脈衝。又，如此之短脈衝雷射之照射時間內之平均輸出為例如30 W以上。於短脈衝雷射之該平均輸出未達10 W之情形時，存在無法形成充分之孔隙之情形。作為突發脈衝之雷射光之一例，可列舉利用脈衝數為3～10之突發雷射形成1個內部孔隙行，且雷射輸出為額定(50 W)之90%左右，突發之頻率為60 kHz左右，突發之時間寬度為20皮秒～165奈米秒。作為突發之時間寬度，就較佳之範圍而言，可列舉10奈米秒～100奈米秒。 又，作為雷射之照射方法，存在有利用基於克爾效應(Kerr-Effect)之光束之自聚焦之方法、將高斯/貝塞爾光束與旋轉三稜透鏡一同地利用之方法、利用球差透鏡之線焦點形成光束之方法等。總之，只要可形成面內孔隙區域、內部孔隙行，則可利用任何方法。 例如，於使用突發雷射裝置(專利文獻2)之情形時，可藉由適當變更雷射之照射條件，而使構成內部孔隙行150之各孔隙之尺寸、及內部孔隙行150中所含之孔隙之個數等某種程度地變化。 再者，於以下之記載中，存在將包含面內孔隙區域130、及與該面內孔隙區域130對應之內部孔隙行150之平面(圖3中，以影線表示之平面170)稱作「虛擬端面」之情形。該虛擬端面170係與藉由第1製造方法所製造之玻璃物品之端面實質性對應。 於圖5中，作為一例，模式性表示藉由步驟S120，而於玻璃坯材110之第1主表面112形成有複數個面內孔隙區域130之狀態。 於圖5之例中，在玻璃坯材110之第1主表面112，橫方向(X方向)上形成有5條之面內孔隙區域130，及縱方向(Y方向)上形成有5條之面內孔隙區域130。又，雖無法自圖5視認，但於各面內孔隙區域130之下側、即第2主表面114之側，形成有朝向第2主表面114斷續性地排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行。 將由4個面內孔隙區域130、及對應之內部孔隙行包圍而成之部分、即由4個虛擬端面包圍而成之虛擬性部分稱作玻璃片160。 面內孔隙區域130之形狀、進而玻璃片160之形狀係實質上與步驟S140後所得之玻璃物品之形狀對應。例如，於圖5之例中，自玻璃坯材110，最終製造16個矩形狀之玻璃物品。又，如上所述，包含各面內孔隙區域130、及與上述各面內孔隙區域130對應之內部孔隙行150之虛擬端面係與步驟S140後製造之玻璃物品之一個端面對應。 再者，圖5中所示之面內孔隙區域130、進而玻璃片160之配置形態僅為一例，且該等係對應於最終玻璃物品之形狀，以特定之配置形成。 於圖6及圖7中，模式性表示設想之面內孔隙區域之其他之形態之一例。 於圖6之例中，各面內孔隙區域131係作為大致矩形狀之一條閉合之線(環)而配置，且於角部具有曲線部分。因此，被面內孔隙區域131及內部孔隙行(無法視認)包圍之玻璃片161成為於角部具有曲線部分之大致矩形板狀之形態。 又，於圖7之例中，各面內孔隙區域132係作為大致圓形之一條閉合之線(環)而配置。因此，玻璃片162成為大致碟狀之形態。 又，該等例係藉由一個虛擬端面，而形成玻璃物品之端面，且由此所得之玻璃物品之端面均為一個。 如此般，面內孔隙區域130、131、132亦可以直線狀、曲線狀、或兩者之組合形成。又，玻璃片160、161、162既可被單一之虛擬端面包圍，亦可被複數個虛擬端面包圍。 (步驟S130) 繼而，將玻璃坯材110進行化學強化。 化學強化處理之條件並無特別限定。化學強化例如亦可藉由於430℃～500℃之熔鹽中將玻璃坯材110浸漬1分鐘～2小時之間而實施。 作為熔鹽，亦可使用硝酸鹽。例如，於將玻璃坯材110中所含之鋰離子置換為更大之鹼金屬離子之情形時，亦可使用包含硝酸鈉、硝酸鉀、硝酸銣、及硝酸銫中之至少一個之熔鹽。又，於將玻璃坯材110中所含之鈉離子置換為更大之鹼金屬離子之情形時，亦可使用包含硝酸鉀、硝酸銣、及硝酸銫中之至少一個之熔鹽。進而，於將玻璃坯材110中所含之鉀離子置換為更大之鹼金屬離子之情形時，亦可使用包含硝酸銣及硝酸銫中之至少一個之熔鹽。 再者，於熔鹽中，亦可進而追加一種以上之碳酸鉀等鹽。於該情形時，可於玻璃坯材110之表面，形成10 nm～1 μm之厚度之低密度層。 可藉由將玻璃坯材110進行化學強化處理，而於玻璃坯材110之第1主表面112及第2主表面114形成壓縮應力層，藉此，提昇第1主表面112及第2主表面114之強度。壓縮應力層之厚度係對應於置換用之鹼金屬離子之滲入深度。例如，於使用硝酸鉀，將鈉離子置換為鉀離子之情形時，鈉鈣玻璃中可將壓縮應力層之厚度設為8 μm～27 μm，鋁矽酸鹽玻璃中可將壓縮應力層之厚度設為10 μm～100 μm。於鋁矽酸鹽玻璃之情形時，鹼金屬離子所滲入之深度較佳為10 μm以上，更佳為20 μm以上。 如上所述，先前之經化學強化所得之玻璃物品之製造方法係經由 (I)準備較大尺寸之玻璃坯材之步驟、 (II)自玻璃坯材切取製品形狀之大量之玻璃基板之步驟、及 (III)將所收集之玻璃基板進行化學強化處理之步驟， 製造玻璃物品。 相對於此，第1製造方法係將玻璃坯材110作為被處理體，實施化學強化處理。於該情形時，與如同先前般將製品形狀之玻璃物品進行化學強化處理之情形不同，化學強化處理時之被處理體之操作變得容易。 例如，假設即便於玻璃坯材110之端面116(參照圖5)產生劃痕，該部分亦不包含於最終之玻璃物品中。又，於化學強化處理時，例如，亦可利用未被用作玻璃物品之玻璃坯材110之外周部，支持或固持被處理體。 因此，第1製造方法係與先前相比，容易確保所製造之玻璃物品中之無劃痕之外觀上及強度之品質，從而可提昇製造良率。 此處，第1製造方法係於製成玻璃物品之形狀前，對玻璃坯材110實施化學強化處理，因此，存在分離步驟S140後所得之玻璃物品具有未被化學強化之端面之可能性。於該情形時，導致玻璃物品中無法獲得充分之強度。 然而，本案發明者等發現於第1製造方法之步驟S130後、即化學強化處理後之玻璃坯材110中，即便於虛擬端面(即，被切斷之玻璃物品之端面)中，亦存在藉由化學強化處理而導入之鹼金屬離子(以下，稱作「導入離子」)。又，發現因虛擬端面之平滑度較高，故無需用以使端面之平滑度提昇之加工步驟。 再者，如下所述，虛擬端面係不同於第1主表面112及第2主表面114，導入離子於面內呈現不均一之濃度分佈，越靠近玻璃坯材110之厚度方向之中央部分，導入離子之濃度越低下。但，於虛擬端面整體被導入藉由化學強化處理而導入之鹼金屬離子，且即便於厚度方向之中央部分，亦存在導入離子，且該濃度並非為零。 該事實提示如下情形，即，第1製造方法係於步驟S130中之化學強化處理時，經由藉由雷射照射而形成於玻璃坯材110之表面之微細之表面孔隙138、及形成於玻璃坯材110之內部之微細之孔隙158，將熔鹽導入至玻璃坯材110之內部，進而，於被導入之熔鹽與虛擬端面之間，產生了置換反應。如此之現象就申請人所知，尚未有如此程度之報告。 又，作為證實該現象之結果，已確認經由第1製造方法、即步驟S110～步驟S140而製造之玻璃物品係與經由上述(I)～(III)之步驟而製造之先前之玻璃物品相比，具有不遜色之充分之強度。詳情後述。 如此般，第1製造方法可於步驟S130後，獲得第1主表面112、第2主表面114、及各虛擬端面均被化學強化之玻璃坯材110。 (步驟S140) 繼而，自經化學強化之玻璃坯材110、即玻璃板175，分離玻璃物品。 於圖8中，模式性表示自玻璃板175分離出合計16個玻璃物品180之狀態。各玻璃物品180具有4個端面186。 於自玻璃板175分離玻璃物品180時，利用上述虛擬端面。換言之，由上述虛擬端面包圍之玻璃片160自玻璃板175分離後成為玻璃物品180。因此，玻璃物品180之各端面186對應於上述虛擬端面之一個。 如上所述，通常，經化學強化處理之玻璃坯材係第1及第2主表面被強化，故存在難以自玻璃板175分離玻璃物品之類的問題。 然而，於第1製造方法中，玻璃板175之虛擬端面係於面內，具有包含於面內孔隙區域130及對應之內部孔隙行150中之複數個表面孔隙138及孔隙158。因此，當自玻璃板175分離玻璃物品180時，該等孔隙138、158可謂發揮如「形成於面內及內部之穿孔(perforation)」之類的作用。因此，第1製造方法可藉由利用虛擬端面，而容易地自玻璃板175進行分離。尤其，於面內孔隙區域130為「多線面內孔隙區域」之情形時，可更加容易分離玻璃物品180。 此處，如上所述，面內孔隙區域130包括複數個孔隙138，且內部孔隙行150包括複數個孔隙158。該等面內孔隙區域130及內部孔隙行150、進而孔隙138、158係與例如以將玻璃板之厚度方向貫通之方式形成之貫通孔不同。 又，如上所述，玻璃板175亦於虛擬端面實施化學強化處理。因而，所得之玻璃物品180亦具有經化學強化之端面186。因此，第1製造方法可避免先前之將玻璃坯材進行化學強化處理後再將玻璃物品分離之方法中之問題、即因具有未經化學強化之端面而於玻璃物品中無法獲得充分之強度之類的問題。 用以實施步驟S140之具體方法並無特別限定。例如，亦可藉由機械性之方法或熱方法，而自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180。 於圖9中，模式性表示於第1製造方法之步驟S140中，自玻璃板分離玻璃物品時可使用之裝置之一例。該裝置200可藉由機械性之方法，而自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180。 如圖9所示，該裝置200具有台座210、及輥220。輥220可藉由來自控制器(未圖示)之指令，而沿著XY平面內之任意方向移動或旋轉。又，可藉由控制器而同步地調整輥220之推壓力或移動速度。 於使用裝置200，自玻璃板分離玻璃物品時，首先，於台座210之上，載置玻璃板175。再者，亦可為防止劃痕，而於台座210與玻璃板175之間，配置保護片(未圖示)。 繼而，輥220以其前端與玻璃板175相接之方式，設置於玻璃板175上。此時，亦可為防止劃痕，而於玻璃板175之上進而配置保護片(未圖示)。 於該狀態下，若接收到來自控制器之指令，則輥220沿著面內孔隙區域130於玻璃板175上移動。輥220之前端係其形狀成為稜角或半球狀。因此，利用輥220之推壓力，將玻璃板175沿著虛擬端面斷開。可藉由將該操作沿著各面內孔隙區域130重複實施，而自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180。 再者，於圖9之例中，各面內孔隙區域130係直線狀。然而，例如，對於圖6及圖7所示之曲線狀之面內孔隙區域131、132，亦可藉由同樣之操作，而自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180。 於圖10中，模式性表示自玻璃板分離玻璃物品時可使用之其他之裝置之一例。該裝置250可藉由機械性之方法，而自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180。 如圖10所示，該裝置250具有介隔可變形之片狀構件260沿著支持構件270支持玻璃板175之構造。 裝置250中之支持構件270於各面內孔隙區域為直線形狀之情形時，亦可為普通之圓筒輥狀。於在支持構件270上進行搬送時，玻璃板175彎曲，沿著面內孔隙區域之彎曲力矩進行作用。其結果，面內孔隙區域被高速地斷開。下一步驟中使沿著其他方向進行斷開重複進行。又，於圖6及圖7所示之曲線狀之面內孔隙區域131、132之情形時，支持構件270為平板狀、或於上側凸起地彎曲，且介隔可沿支持構件270變形之片狀構件260，使玻璃板175之變形沿著支持構件270，使沿面內孔隙區域之彎曲力矩進行作用，藉此，自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180。於該情形時，片狀構件260較佳為預先以充分之接著力暫時接著於玻璃板175，且於分離時併用使片狀構件260延伸變形。片狀構件260之材質係利用具有可為分離而充分延伸變形之柔軟性之材料、例如橡膠材料等。 另一方面，於藉由熱方法，而自玻璃板175分離1或2個以上之玻璃物品180之情形時，亦可使用「表面吸收方式」或「內部吸收方式」。 其中，「表面吸收方式」係使用熱源，將玻璃板175之第1主表面112局部地加熱，產生熱應力，藉此，自玻璃板175分離玻璃物品180。作為熱源，可使用例如波長相對較長之雷射(CO2 雷射等)、燃燒器，或電熱導管等。藉由使來自熱源之熱集中於面內孔隙區域130，而於面內孔隙區域130、進而於虛擬端面產生熱應力，從而沿著該等虛擬端面，使玻璃板175斷裂。藉此，便可分離玻璃物品180。 相對於此，「內部吸收方式」係使用波長相對較短之雷射(CO雷射等)。若對玻璃板175照射如此之雷射，則雷射之熱被玻璃板175之內部吸收。因此，可藉由沿著面內孔隙區域130照射雷射，而使虛擬端面中局部地產生內部應力，從而自其他之部分使之斷裂。其結果，自玻璃板175將玻璃物品180分離。 再者，以上之說明係以自1片玻璃板175獲得1或2個以上之玻璃物品180之方法為例，說明了分離方法之實施形態。然而，上述方法(機械性方法、及「內部吸收方式」)亦可使複數個玻璃板175積層而實施。於該情形時，可一次製造更多之玻璃物品180。 一般而言，於將玻璃物品自玻璃坯材分離時，使用玻璃切刀等，將玻璃坯材切斷。於該情形時，玻璃物品之端面容易成為具有凹凸之「粗糙」之端面。 然而，第1製造方法係於分離玻璃物品180時，無需使用如玻璃切刀之切斷機構，故當分離玻璃物品180時，可獲得相對平滑之端面186。 但，尤其於無需平滑之端面186之情形時等特定之情形時，亦可藉由使用玻璃切刀等，沿著虛擬端面將玻璃板175切斷而分離玻璃物品180。亦於該情形時，亦可藉由虛擬端面之存在，而與通常之切斷相比更容易地切斷玻璃板175。 可藉由以上之步驟而製造1或2個以上之玻璃物品180。 再者，亦可為保護所得之玻璃物品180之端面186，而於該端面186上塗佈樹脂等材料。 第1製造方法可藉由如上所述之特徵，而獲得必然地抑制玻璃物品180中之外觀上之品質低下且具有良好之強度之玻璃物品180。 以上，以第1製造方法為例，對用以製造玻璃物品之一製造方法進行了說明。然而，第1製造方法僅為一例，於實際上製造玻璃物品時，可進行各種變更。 例如，第1製造方法之步驟S130中之化學強化處理並非必須對玻璃坯材110之第1主表面112及第2主表面114之兩表面實施，亦可考量不對一主表面實施化學強化處理之態樣。 又，例如，亦可於步驟S130之後且步驟S140之前，對於玻璃板175實施賦予各種功能之步驟(追加步驟)。 追加步驟並非僅限於此，例如亦可為對表面追加保護功能等追加功能，或將表面改質而對玻璃板175實施。 如此之追加步驟例如亦可具有對玻璃板175之第1主表面112、第2主表面及/或端面116(以下，將該等總稱為「露出面」)貼附功能膜之步驟、及對露出面之至少一部分實施表面處理(包括表面改質)之步驟等。 作為表面處理之方法，例如存在蝕刻處理、成膜處理、及印刷處理等。成膜處理亦可例如採用塗佈法、浸漬法、蒸鍍法、濺鍍法、PVD(Physical Vapor Deposition，物理氣相沈積)法、或CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法等而實施。再者，表面處理中亦包含利用藥液之洗淨。 可藉由表面處理，而形成例如低反射膜、高反射膜、IR吸收膜或UV吸收膜等波長選擇膜、防眩膜、防指紋膜、防霧膜、印刷、電子電路及該等之多層構成膜等。 進而，亦可於步驟S120之前或之後、或者該兩者、即面內孔隙區域130之形成前或後、或者該兩者之階段，在玻璃坯材110之至少一個主表面形成槽。 例如，於在玻璃坯材110之第1主表面112已形成有面內孔隙區域130之情形時，亦可沿著該面內孔隙區域130形成槽。或者，於在玻璃坯材110之第1主表面112尚未形成面內孔隙區域130之情形時，亦可沿著將來形成之面內孔隙區域130形成槽。 槽之形狀並無特別限定。槽亦可例如剖面為大致V字形狀、大致U字形狀、大致倒梯形形狀、及大致凹形狀等。又，於該等槽之形態中，槽之第1主表面112或第2主表面114之開口部分亦可設為圓角。 於形成有如此之剖面形態之槽之情形時，於步驟S140後所得之玻璃物品180中，成為端面186之與第1主表面112及/或第2主表面114之連接部分經倒角或圓角加工而成之狀態。因此，可將對於玻璃物品180之後加工之步驟省略。 槽之深度係例如未達玻璃坯材110之厚度之1/2。槽之深度較佳為0.01 mm以上。 槽之形成機構亦可為例如磨石及雷射等。尤其，根據槽之精度及品質之觀點，較佳為雷射之加工。 (本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法) 繼而，參照圖11，對本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法進行說明。 於圖11中，模式性表示本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法(以下，稱為「第2製造方法」)之流程。 如圖11所示，第2製造方法具有如下步驟： 準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材(玻璃坯材準備步驟)(步驟S210)； 對玻璃坯材之第1主表面照射雷射，於第1主表面形成面內孔隙區域，並且於玻璃坯材之內部形成內部孔隙行(雷射照射步驟)(步驟S220)、及 將玻璃坯材進行化學強化處理(化學強化步驟)(步驟S230)。 再者，如根據圖11所明確，該第2製造方法係相當於上述圖1所示之第1製造方法中將步驟S140之分離步驟省略所得者。 即，於該第2製造方法中，如上述圖5～圖7所示，製造具有1或2個以上之虛擬端面、即面內孔隙區域及與該面內孔隙區域對應之內部孔隙行之玻璃坯材，作為玻璃板。 換言之，於本案中，所謂「玻璃板」係指自玻璃坯材中製造玻璃物品之前之步驟中之中間體、即加工而成之玻璃坯材。 如此之「玻璃板」係於對玻璃坯材施加加工之步驟(例如步驟S210～步驟S230)與自玻璃板分離玻璃物品之步驟由其他人或於其他場所實施之情形時，或者，時間上隔開相應之間隔而實施之情形時較為有意義。 再者，即便如此之第2製造方法中，業者亦當明確可獲得與上述第1製造方法同樣之效果。即，第2製造方法中所得之玻璃板係虛擬端面經化學強化，且於自該玻璃板分離玻璃物品時，可獲得具有良好之強度之玻璃物品。又，所得之玻璃物品之品質之低下被必然地抑制。 (本發明之一實施形態之玻璃物品) 繼而，參照圖12，對本發明之一實施形態之玻璃物品進行說明。 於圖12中，概略性表示本發明之一實施形態之玻璃物品(以下，稱為「第1玻璃物品」)。 如圖12所示，第1玻璃物品380具有相互對向之第1主表面382及第2主表面384、以及將兩者連接之端面386。再者，第1主表面382係對應於玻璃坯板之相互對向之第1主表面，且第2主表面384係對應於玻璃坯板之相互對向之第2主表面。 於圖12之例中，第1玻璃物品380具有大致矩形狀之主表面382、384，且具有4個端面386-1～386-4。又，各端面386-1～386-4係與第1玻璃物品380之厚度方向(Z方向)平行地延伸。 然而，該圖12之例僅為一例，作為第1玻璃物品380之形態，可設想各種形態。例如，第1主表面382及第2主表面384不僅可為矩形，而且亦可為圓形、橢圓形、三角形、或多邊形之形狀。又，端面386之數量亦可根據第1主表面382及第2主表面384之形態而為例如1個、3個、或4個以上。進而，端面386亦可自Z方向傾斜地(即與Z方向不平行之方向)延伸。於該情形時，獲得「傾斜」端面。 第1玻璃物品380之厚度並無特別限定。第1玻璃物品380之厚度例如亦可為0.03 mm～6 mm之範圍。又，於建材用或車輛用之玻璃物品之情形時，例如可為2～19 mm之範圍。 此處，第1玻璃物品380係第1主表面382及第2主表面384被化學強化。又，第1玻璃物品380係端面386被化學強化。 但，主表面382、384與端面386係化學強化之狀態、即導入離子(藉由化學強化處理而導入之鹼金屬離子)之分佈狀態不同。 使用圖13，對此情況更詳細地進行說明。再者，此處，假設端面386於與主表面382、384垂直之方向上延伸。 於圖13中，模式性表示第1玻璃物品380之一個端面386(例如386-1)中之厚度方向(Z方向)上之導入離子之濃度分佈。於圖13中，橫軸係厚度方向之相對位置t(%)，且第1主表面382之側對應於t＝0%，第2主表面384之側對應於t＝100%。縱軸係導入離子之濃度C。如上所述，導入離子係指藉由化學強化處理而導入之鹼金屬離子，即，用以對玻璃物品之第1主表面及第2主表面賦予壓縮應力層，提昇該等主表面之強度之鹼金屬離子。 此處，該濃度C係將與玻璃物品380之主表面382、384、及端面386-1～386-4以外之部分、即玻璃物品380之總體部分中所含之導入離子同種之鹼金屬離子之濃度(總體濃度)減去進行運算。因此，總體濃度係與化學強化處理前之相對於玻璃坯板之體積之鹼金屬離子之算數平均數之濃度大致相同。 再者，如圖13所示之濃度分佈可於端面386-1之各面內位置(沿Y方向之任意之位置)測定。然而，若為玻璃物品380之同一端面386-1內，則無論於端面386-1之任何位置進行評價，濃度分佈之傾向大致相同。 如圖13所示，於端面386-1，沿厚度方向之導入離子之濃度C於端面整體成為大於總體濃度之分佈，且該例中呈現大致拋物線狀之分佈。即，導入離子之濃度C存在於第1主表面382之側(t＝0%)及第2主表面384之側(t＝100%)呈現最大值Cmax ，且於厚度方向之中央部分(t＝50%)呈現最小值Cmin 之傾向。此處，最小值Cmin ＞0。 再者，導入離子之濃度分佈之形狀係因第1玻璃物品380之厚度及材質、以及製造條件(化學強化處理之條件等)等而變化，但無論何種情形，於端面整體均大於總體濃度，且作為一例，產生如此之大致拋物線狀之分佈。但，較常見地認為因化學強化處理之方法等之影響，而於第1主表面382之側(t＝0%)與第2主表面384之側(t＝100%)，導入離子之濃度C並非嚴密地一致。即，時常出現任一主表面中僅濃度C達到Cmax 。又，此處之大致拋物線狀之分佈係指與拋物線之數學上之定義不同，導入離子之濃度C相對於厚度方向之中央部分而言，於第1主表面之側及第2主表面之側變大，且該濃度分佈中之導入離子濃度高於玻璃物品之總體濃度之分佈。因此，於該大致拋物線狀之分佈中，包括導入離子濃度高於玻璃物品之總體濃度，且導入離子C於厚度方向之中央部分相對平緩地變化之大致梯形形狀之分佈。 此處，將以矽離子標準化所得之導入離子之濃度(原子比)、即(導入離子之濃度C)/(Si離子之濃度)設為Cs，則對象端面中之Cs對於總體中之Cs之最小值之比較佳為1.6以上，更佳為1.8以上，進而較佳為2.2以上。 於第1主表面382及第2主表面384中，導入離子之濃度於面內實質上固定，且如此之端面386-1之濃度分佈為特徵性者。又，具有如此之化學強化狀態之端面386之第1玻璃物品380目前尚未被發現。 例如，於自玻璃坯材切取製品形狀之玻璃物品，將該玻璃物品進行化學強化處理之情形時，所得之玻璃物品之端面中之導入離子之濃度於面內實質上成為固定。於該情形時，典型而言，於圖13中，獲得如以虛線表示般之分佈。即，不取決於位置地成為C＝Cmax 。又，例如，於將玻璃坯材進行化學強化處理後，再切取製品形狀之玻璃物品之情形時，於所得之玻璃物品之端面中，幾乎未檢測出導入離子。即，成為C≒0。 第1玻璃物品380係端面386具有如此特徵性之導入離子之濃度分佈，故而，與先前之切取經化學強化之玻璃坯材所得之玻璃物品相比，具有更良好之強度。 第1玻璃物品380之第1主表面382、第2主表面384之表面壓縮應力係例如200 MPa～1000 MPa之範圍，較佳為500 MPa～850 MPa之範圍。第1玻璃物品380之端面386-1～386-4之表面壓縮應力係最小值超過0 MPa，例如為25 MPa～1000 MPa以上，較佳為50 MPa～850 MPa，更佳為100 MPa～850 MPa之範圍。再者，表面壓縮應力之測定可使用例如利用光彈性分析法之折原製作所製之表面應力測定裝置FSM-6000LE或FSM-7000H等而實施。 再者，第1玻璃物品380亦可於第1主表面382、第2主表面384、及/或端面386具備1或2個以上之追加構件。 如此之追加構件可例如以層、膜、及薄膜等之形態提供。又，如此之追加構件為呈現低反射特性及保護等功能，而可對第1主表面382、第2主表面384、及/或端面386提供。 第1玻璃物品380可例如適用於電子機器(例如，智慧型手機、顯示器等資訊終端機器)、相機或感測器之覆蓋玻璃、建材用玻璃、產業輸送機用玻璃、及活體醫療用玻璃機器等。 (本發明之一實施形態之玻璃板) 繼而，參照圖14，對本發明之一實施形態之玻璃板進行說明。 於圖14中，概略性表示本發明之一實施形態之玻璃板(以下，稱為「第1玻璃板」)。 如圖14所示，第1玻璃板415具有相互對向之第1主表面417及第2主表面419、以及將兩者連接之4個端面420(420-1～420-4)。再者，第1主表面417係對應於玻璃坯板之相互對向之第1主表面，第2主表面419係對應於玻璃坯板之相互對向之第2主表面。 第1玻璃板415之玻璃組成係只要可進行化學強化之組成，則並無特別限定。第1玻璃板415亦可為例如鈉鈣玻璃、鋁矽酸鹽玻璃、或鹼鋁矽酸鹽玻璃等。 第1玻璃板415之厚度並無特別限定，但例如為0.1 mm～6 mm之範圍。又，於建材用或車輛用之玻璃板之情形時，亦可例如為2～19 mm之範圍。 第1玻璃板415之第1主表面417及第2主表面419之形狀並無特別限定。其等例如亦可為矩形狀、圓狀、或橢圓狀等。再者，第1主表面417及第2主表面419並非必須平坦，亦可為曲面狀。 第1玻璃板415係於第1主表面112具有複數個面內孔隙區域431，且於各面內孔隙區域431之下側(第2主表面之側)，形成有對應之複數個內部孔隙行(無法視認)。內部孔隙行即便與第1玻璃板415之厚度方向(Z方向)平行地延伸，亦可相對厚度方向傾斜地延伸。 被各面內孔隙區域431、及對應之內部孔隙行包圍之部分、即被虛擬端面包圍之部分稱作玻璃片461。 如根據圖14所明確，第1玻璃板415係相當於上述圖5中所示之玻璃坯材110。即，第1玻璃板415係於自玻璃坯材製造玻璃物品之前用作步驟中之中間體，換言之，第1玻璃板415係用作分離所期望之形狀之玻璃物品之前之玻璃坯材。 更具體而言，於第1玻璃板415中，可藉由沿著虛擬端面自第1玻璃板415分離玻璃片461，而獲得玻璃物品(相當於玻璃片461)。 如此之第1玻璃板415係於自玻璃坯材製造第1玻璃板415之步驟、與自第1玻璃板415分離玻璃物品之步驟由其他人或於其他場所實施之情形時，或者，時間上隔開相應之間隔而實施之情形時較為有意義。 此處，參照圖15～圖18，對於第1玻璃板415中所含之面內孔隙區域431及內部孔隙行更詳細地進行說明。 於圖15中，表示包含圖14中所示之第1玻璃板415之第1主表面417及剖面之SEM照片之一例。於圖15中，上側對應於第1玻璃板415之第1主表面417，下側對應於第1玻璃板415之剖面。 於第1玻璃板415之第1主表面417，沿水平方向形成有2條表面孔隙之行，且各行對應於圖14中所示之面內孔隙區域431。於該例中，各表面孔隙具有約2 μm之直徑，且鄰接之表面孔隙間之距離P為約50 μm。 於各表面孔隙之周圍，形成有寬約1 μm～2 μm之變質部(發白之環狀之區域)。該變質部可視為第1玻璃板415之成分因於雷射照射時熔融且此後凝固而形成之應力殘留部。 另一方面，第1玻璃板415之剖面係實質上沿著一個面內孔隙區域431及與該面內孔隙區域431對應之內部孔隙行預先被切斷，因此，該剖面對應於第1玻璃板415之虛擬端面。再者，因手工作業之切斷之故，所示之剖面準確而言不含左端之表面孔隙。然而，即便圖15中，亦可實質上瞭解虛擬端面之形態。因而，對於圖15中之剖面部分，稱為虛擬端面。 於圖15中，於所示之虛擬端面中，可觀察到在垂直方向上延伸之3個內部孔隙行。若參照能夠最明確地視認之中央之內部孔隙行，則可知於該內部孔隙行，以「穿孔」之方式斷續性地排列有複數個微細之孔隙。於內部孔隙例，傾斜方向上產生之若干個須狀裂痕，具體而言，於中央之內部孔隙行可觀察到3個之須狀裂痕係起因於手工作業之切斷，而並非為內部孔隙。 於圖16中，表示第1玻璃板415之其他虛擬端面中之SEM照片之一例。於圖16中，上側對應於第1玻璃板415之第1主表面417之側，下側對應於第2主表面419之側。 根據該照片，可知於虛擬端面，自第1主表面417朝向第2主表面419，形成有一行之大量之孔隙，藉此，形成1條內部孔隙行。 於圖16之照片中，構成內部孔隙行之各孔隙具有約0.5 μm～約1.5 μm之最大長度(縱方向之長度)，且孔隙之形態成為大致圓形、大致橢圓形、及大致長方形等。又，鄰接之孔隙之間之間隔壁之尺寸為0.2 μm～0.5 μm左右。 於圖17及圖18中，分別表示第1玻璃板415之虛擬端面之其他之SEM照片之一例。 於圖17所示之例中，形成於虛擬端面之一個內部孔隙行包含尺寸為約0.5 μm～1.5 μm之孔隙。孔隙之形態為大致圓形或大致橢圓形。又，鄰接之孔隙之間之間隔壁之尺寸為0.1 μm～2 μm左右。 另一方面，於圖18所示之例中，形成於虛擬端面之一個內部孔隙行包含尺寸為約3 μm～6 μm之細長之孔隙。又，鄰接之孔隙之間之間隔壁之尺寸為0.8 μm左右。 如此般，第1玻璃板415之虛擬端面中所含之內部孔隙行、進而構成該內部孔隙行之孔隙群之形態並無特別限定。其等係因第1玻璃板415之玻璃組成及雷射之照射條件等而各種各樣地變化。再者，孔隙群藉由孔隙產生時之應力而沿著內部孔隙行產生微裂痕，且孔隙群亦可以玻璃坯材不沿著內面孔隙區域分離之程度由該微裂痕相連。此情況根據化學強化處理中熔鹽朝向玻璃坯材內部滲透之觀點而較佳。 但，典型而言，構成內部孔隙行之孔隙之沿內部孔隙行之方向之尺寸為0.1 μm～1000 μm之範圍，較佳為0.5 μm～100 μm，更佳為0.5 μm～50 μm之範圍。又，構成內部孔隙行之孔隙之形狀係矩形、圓形、及橢圓形等。進而，鄰接之孔隙之間之間隔壁之厚度通常為0.1 μm～10 μm之範圍。 同樣地，構成面內孔隙區域431之表面孔隙之尺寸亦因第1玻璃板415之玻璃組成及雷射之照射條件等而產生各種變化。 但，典型而言，表面孔隙之直徑為0.2 μm～10 μm之範圍，例如0.5 μm～5 μm之範圍。又，鄰接之表面孔隙之中心間距離P(參照圖3)為1 μm～20 μm之範圍，例如2 μm～10 μm之範圍。中心間距離P越小，則越容易自第1玻璃板415分離玻璃物品，但因雷射照射之重複次數增加，而受到加工速度之制約，從而需要大輸出之振盪機。 再次參照圖14，於第1玻璃板415中，第1主表面417及第2主表面419經化學強化處理。再者，4個端面420既可進行化學強化處理，亦可不進行化學強化處理。又，於第1玻璃板415中，各玻璃片461之周圍、即虛擬端面經化學強化。 但，主表面417、419與虛擬端面係化學強化之狀態、即導入離子之分佈之狀態不同。 即，於虛擬端面中，導入離子沿著內部孔隙行之延伸方向，如上述圖13所示，呈現大致拋物線狀之濃度分佈。 再者，如圖13所示之濃度分佈係即便改變虛擬端面內中之測定位置亦幾乎不產生變化，若為同一之虛擬端面內，則無論於任何之位置進行評價，濃度分佈之傾向亦大致相同。 於第1玻璃板415中，第1主表面417及第2主表面419係導入離子之濃度於面內實質上固定，從而如此之虛擬端面中之導入離子之濃度分佈為特徵性者。又，具有如此之化學強化狀態之虛擬端面之第1玻璃板415目前尚未被發現。 再者，根據本案發明者等，發現第1玻璃板415之虛擬端面於對第1玻璃板415實施普通之化學強化處理製程時，與第1主表面417及第2主表面419一同地被進行化學強化處理。 因此，可認為虛擬端面於第1玻璃板415之玻璃坯板之化學強化處理時，經由虛擬端面中所含之斷續之孔隙，將熔鹽導入至第1玻璃板415之內部，進而藉由於被導入之熔鹽與虛擬端面之間產生置換反應而進行化學強化。 具備如此特徵之第1玻璃板415可用作提供玻璃物品之供給構件。尤其，第1玻璃板415係虛擬端面被化學強化，故自第1玻璃板415所得之玻璃物品具有經化學強化之端部。因此，可提供一種藉由使用第1玻璃板415而具有良好之強度之玻璃物品。又，第1玻璃板415係自化學強化之前至分離，成為玻璃物品之端面並未突出，可作為與玻璃物品相比更大之板進行處理，因此，於玻璃板之表面及虛擬端面不易留下劃痕，強度之品質低下被有力地抑制。 再者，第1玻璃板415亦可於第1主表面417、第2主表面419、及端面420之至少一者具備1或2個以上之追加構件。 如此之追加構件可例如以層、膜、及薄膜等之形態提供。又，如此之追加構件可為了呈現低反射功能、高反射功能、IR吸收功能或UV吸收等波長選擇功能、防眩功能、防指紋功能、防霧功能、印刷及該等之多層構成功能、以及保護等功能，而提供至第1主表面417、第2主表面419、及端面420之至少一者。 (提前斷開現象及其對策) 繼而，對「提前斷開現象」、及其對策進行說明。 此處，所謂提前斷開現象係指於實際之分離步驟之前之非預期之階段，玻璃坯材(或玻璃板)被斷開成複數個部分之現象。提前斷開現象存在容易於形成有斷開用之斷開線(例如，上述面內孔隙區域等)之玻璃坯材產生之傾向。若產生如此之提前斷開現象，則以後之玻璃板之操作變得繁雜，故較佳為儘可能地抑制提前斷開現象。 因而，對用以抑制提前斷開現象之應對進行說明。 再者，此處，將具有以下特徵之玻璃板設為前提：具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 經由連接線使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸。 於如此之玻璃板，為抑制提前斷開現象，作為斷開線之形態，採用以下之任一構成較為有效： (I)於上述第1主表面，上述離型線均未連接於上述連接線；或 (II)於上述第1主表面，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體，構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線。 可藉由採用該等任一構成，而抑制提前斷開現象之問題。 以下，對於各態樣進行說明。 (用以抑制提前斷開現象之玻璃板) 參照圖19，對用以抑制提前斷開現象之玻璃板之具體構成進行說明。 於圖19中，表示如此之玻璃板(以下，稱為「第11玻璃板」)之概略性立體圖。 如圖19所示，第11玻璃板1100具有第1主表面1112及第2主表面1114。但，圖19中，第2主表面1114無法進行視認。又，第11玻璃板1100具有使第1主表面1112與第2主表面1114相連之4個端面1116、1117、1118、1119。 第11玻璃板1100具有俯視為大致長方形狀之形態。因此，第1端面1116與第2端面1117相互對向，且第3端面1118與第4端面1119亦相互對向。 再者，於以下之記載中，將第1主表面1112與各端面1116～1119之鄰接(交界)部分稱為「連接線」。具體而言，第1主表面1112與第1端面1116係由第1連接線1146連接，第1主表面1112與第2端面1117係由第2連接線1147連接，第1主表面1112與第3端面1118係由第3連接線1148連接，第1主表面1112與第4端面1119係由第4連接線1149連接。 再次參照圖19，第11玻璃板1100係於第1主表面1112，具有沿著長度方向(X方向)延伸之3條斷開用線1120、及沿著寬度方向(Y方向)延伸之9條斷開用線1125。 由斷開用線1120、1125包圍之片部分係對應於隨後之分離步驟中自第11玻璃板1100分離收集之玻璃物品1160。圖19中所示之例係於分離步驟中，可分離收集合計16個大致矩形狀之玻璃物品1160。 於圖19中所示之例中，各X方向之斷開用線1120包括X方向之製品線1130及X方向之離型線1132。 此處，所謂X方向之製品線1130係指自第1玻璃板1100分離玻璃物品1160時，構成該玻璃物品1160之輪廓線之至少一部分之X方向之斷開用線1120之部分。另一方面，所謂X方向之離型線1132係指X方向之斷開用線1120中之除了製品線1130以外之部分。 根據該定義，於圖19之例中，一條X方向之斷開用線1120包括自第1連接線1146之附近延伸至最左端之製品線1130之第1離型線1132a、合計8條之X方向之製品線1130、及自最右端之製品線1130延伸至第2連接線1147之附近之第2離型線1132b。 同樣地，Y方向之斷開用線1125係包括Y方向之製品線1135及Y方向之離型線1137。例如，於圖19之例中，一條Y方向之斷開用線1125包括自第3連接線1148之附近延伸至最下端之製品線1135之第2離型線1137a、合計2之條Y方向之製品線1135、及自最上端之製品線1135延伸至第4連接線1149之附近之第2離型線1137b。 第11玻璃板1100係第1主表面1112及第2主表面1114、及第1端面1116、第2端面1117、第3端面1118及第4端面1119經化學強化處理。進而，第11玻璃板1100具有如上所述之特徵。 即，於利用製品線1130、1135將第11玻璃板1100切斷時所得之玻璃物品1160之切斷面中，自第1主表面1112遍及第2主表面1114之特定之鹼金屬離子之濃度分佈呈現越靠近第1主表面1112之側及第2主表面1114之側，鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈。又，於上述切斷面中，鹼金屬離子之濃度高於第11玻璃板1100之總體濃度。 此處，第11玻璃板1100具有上述(提前斷開現象及其對策)之欄中所示之(I)之特徵。 即，第11玻璃板1100係X方向之離型線1132(1132a、1132b)及Y方向之離型線1137(1137a、1137b)均未連接於對應之連接線1146～1149。 其結果，X方向之斷開用線1120及Y方向之斷開用線1125均未將第1主表面1112完全地橫切。 例如，於圖19中所示之例，X方向之斷開用線1120之第1端(即X方向之第1離型線1132a)位於第1連接線1146之附近，且X方向之斷開用線1120之第2端(即X方向之第2離型線1132b)位於第2連接線1147之附近。又，Y方向之斷開用線1125之第1端(即Y方向之第1離型線1137a)位於第3連接線1148之附近，且Y方向之斷開用線1125之第2端(即Y方向之第2離型線1137b)位於第4連接線1149之附近。 此處，所謂「斷開用線(或離型線)位於連接線之附近」係指與位於斷開用線(或離型線)之延長線上之連接線最接近之斷開用線(或離型線)之前端位於與連接線相距5 mm以內之距離(但不包括0 mm)，較佳為3 mm以內之距離(但不包括0 mm)。 於使用具備如此特徵之第11玻璃板1100之情形時，於非預期之階段，即便對第11玻璃板1100、尤其對斷開用線1120、1125施加應力，亦可必然地抑制斷開用線1120、1125於第1主表面1112自一連接線完全地橫切至另一連接線。 其結果，於第11玻璃板1100中，可必然地抑制於非預期之階段導致第11玻璃板1100斷開之所謂提前斷開現象之問題。 例如，於製造第11玻璃板1100時，即便於將具有斷開用線1120、1125之玻璃坯材進行化學強化處理之步驟中，亦可抑制提前斷開現象。 (關於斷開用線1120、1125) 此處，對於斷開用線1120、1125，更詳細地進行說明。 X方向之製品線1130及Y方向之製品線1135係均藉由雷射照射而形成。即，X方向之製品線1130及Y方向之製品線1135係相當於雷射改質區域。作為可用於如此之雷射改質區域之形成之雷射，例如可列舉脈寬為飛秒級～奈米秒級、即1.0×10-15 ～9.9×10-9 秒之短脈衝雷射。 相對於此，X方向之離型線132及Y方向之離型線1137並非必須藉由雷射照射而形成。 例如，X方向之離型線1132及Y方向之離型線1137亦可藉由玻璃切刀及磨石等之機械加工處理而形成。但，於將X方向之離型線1132及Y方向之離型線1137利用與X方向之製品線1130及Y方向之製品線1135相同之雷射照射形成之情形時，可一次地形成一條斷開用線1120、1125，故可進行有效之雷射照射，降低製造成本。 又，於深度方向上，X方向之製品線1130及Y方向之製品線1135較佳為自第1主表面1112延伸至第2主表面1114。於該情形時，容易在分離收集步驟中，自第11玻璃板1100分離玻璃物品1160。 另一方面，X方向之離型線1132及/或Y方向之離型線1137並非必須自第1主表面1112延伸至第2主表面1114。例如，X方向之離型線1132及/或Y方向之離型線1137亦可於第2主表面1114之附近終止，而自第1主表面1112延伸至第2主表面1114之附近。可藉由設為如此之構成，而更確實地抑制提前斷開現象。 再者，以上之記載係以斷開用線1120、1125實質上包括直線之情形為例，對第11玻璃板1100之特徵進行了說明。然而，以上之記載僅為一例，斷開用線1120、1125亦可為曲線狀。或者，斷開用線1120、1125亦可包括直線與曲線之組合。 又，上述記載係以玻璃物品1160之輪廓線具有大致矩形狀，且一個玻璃物品1160包含複數(4條)條製品線1130、1135之情形為例進行了說明。然而，玻璃物品1160之輪廓線並非必須為大致矩形狀。又，形成一個玻璃物品1160之製品線之數量亦無特別限定。例如，亦可考慮製品線形成一條閉合之環之情形。於該情形時，形成一個玻璃物品1160之製品線之數量成為一個。 (追加之特徵) 繼而，對第11玻璃板1100之除了上述以外之追加之特徵進行說明。 上述記載係設想斷開用線1120、1125實質上包含連續之雷射改質區域(相當於上述面內孔隙區域。以下相同)之情形進行了說明。 然而，於離型線1132、1137藉由雷射照射而構成之情形時，至少一個離型線1132、1137亦可具有雷射改質區域之「缺失」部分。 參照圖20，對該構成進行說明。 於圖20中，模式性表示第11玻璃板1100之第1主表面1112上所形成之離型線1132(或離型線1137。以下相同)之局部放大圖。 如上所述，離型線1132係藉由雷射照射而形成，且具有表面孔隙行、即雷射改質區域。 如圖20所示，該雷射改質區域1121係於微觀上以等間隔或非等間隔且線狀地排列有大量之表面孔隙1139而構成。但，亦存在鄰接之表面孔隙1139彼此連結，形成更大之表面孔隙之情形。又，亦存在使該表面孔隙重複，實質上形成「線狀」之表面孔隙之情形。 再者，圖20係以圓形表示第1主表面1112上之表面孔隙1139，但須注意此情形僅為一例。表面孔隙1139可藉由雷射之照射及掃描條件，而獲得圓形、橢圓形、及圓角長方形等各種形態。 此處，離型線1132即雷射改質區域1121於本應存在表面孔隙1139之位置具有缺失部分1139d，且於該缺失部分1139d，不存在表面孔隙1139。 於使如此之缺失部分1139d有意地存在於離型線1132之情形時，可藉由於隨後之所需之時間中，對缺失部分1139d照射雷射，而形成表面孔隙1139，從而「完成」離型線1132。 因此，於形成有具有如此之缺失部分1139d之離型線1132之第11玻璃板1100中，可更確實地抑制處理時之提前斷開現象。又，可於隨後之玻璃物品1160之分離收集步驟中，藉由對缺失部分1139d照射雷射，而容易地分離收集玻璃物品1160。 (用以抑制提前斷開現象之其他之玻璃板) 繼而，參照圖21，對用以抑制提前斷開現象之其他之玻璃板之構成進行說明。 於圖21中，表示用以抑制提前斷開現象之其他之玻璃板(以下，稱為「第12玻璃板」)之概略性立體圖。 如圖21所示，第12玻璃板1200具有第1主表面1212及第2主表面1214。但，圖21中，無法視認第2主表面1214。又，第12玻璃板1200具有使第1主表面1212與第2主表面1214相連之4個端面1216、1217、1218、1219。 第12玻璃板1200具有俯視為大致長方形狀之形態。因此，第1端面1216與第2端面1217相互對向，第3端面1218與第4端面1219亦相互對向。 如上所述，第1主表面1212與第1端面1216係由第1連接線1246連接，第1主表面1212與第2端面1217係由第2連接線1247連接，第1主表面1212與第3端面1218係由第3連接線1248連接，第1主表面1212與第4端面1219係由第4連接線1249連接。 再次參照圖21，第12玻璃板1200係於第1主表面1212具有複數個斷開用線1220。斷開用線1220具有製品線1230、X方向上延伸之離型線1232、及Y方向上延伸之離型線1237。 於圖21中，製品線1230具有角變圓之大致矩形狀之形狀，且可自第12玻璃板1200分離縱2個×橫4個之合計8個玻璃物品1260。但，其僅為一例，須注意製品線1230之形態、及可分離之玻璃物品1260之數量等並無特別限定。 於圖21中所示之例，X方向之離型線1232具有一端未與製品線1230連接之第1離型線1232a(合計4條)、及將各製品線1230彼此相連之第2離型線1232b(合計6條)。第1離型線1232a係一端連接於製品線1230，且另一端連接於對應之連接線1246或1247。 又，Y方向之離型線1237具有一端未與製品線1230連接之第1離型線1237a(合計8條)、及將各製品線1230彼此相連之第2離型線1237b(合計4條)。第1離型線1237a係一端連接於製品線1230，且另一端連接於對應之連接線1248或1249。 第12玻璃板1200係第1主表面1212及第2主表面1214、以及第1端面1216、第2端面1217、第3端面1218及第4端面1219經化學強化處理。進而，第12玻璃板1200具有如上所述之特徵。 即，於利用製品線1230、1235將第12玻璃板1200切斷時所得之玻璃物品1260之切斷面中，自第1主表面1212遍及第2主表面1214之特定之鹼金屬離子之濃度分佈呈現越靠近第1主表面1212之側及第2主表面1214之側，鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈。又，於上述切斷面中，鹼金屬離子之濃度變得高於第12玻璃板1200之總體濃度。 此處，第12玻璃板1200具有上述(提前斷開現象及其對策)之欄中所示之(II)(i)之特徵。 即，於第12玻璃板1200，於第1主表面1212，X方向之第1離型線1232a係第1端部連接於第1連接線1246或第2連接線1247。又，Y方向之第1離型線1237a係第1端部連接於第3連接線1248或第4連接線1249。 但，X方向之第1離型線1232a係以被製品線1230阻礙進一步延伸之方式，將第2端部連接於製品線1230。同樣地，Y方向之第1離型線1237a係以被製品線1230阻礙進一步延伸之方式，將第2端部連接於製品線1230。 此處，所謂「阻礙離型線之進一步延伸」係指於第1離型線與製品線之交點，繪製第1離型線之虛擬之外插線時，於上述交點附近，外插線與製品線實質上不一致。 例如，於圖22中所示之斷開用線1080之例，在對於一端連接於連接線1070之離型線1082，自與製品線1084之交點P引出虛擬之外插線L時，於至少交點P之附近，外插線L與製品線1084實質上一致。因此，如此之斷開用線1080之形態無法稱為被製品線1084「阻礙離型線1082之進一步延伸」。 另一方面，於圖23中所示之斷開用線1080之例，當對於一端連接於連接線1070之離型線1082，自與製品線1084之交點P引出虛擬之外插線L時，於交點P之附近，外插線L與製品線1084實質上不一致。因此，如此之斷開用線1080之形態可稱為被製品線1084「阻礙離型線1082之進一步延伸」。 再次參照圖21，於第12玻璃板1200中，各X方向之第1離型線1232a以被介置於中間之製品線1230阻礙進一步延伸之方式配置。 於該情形時，即便將X方向之第1離型線1232a、製品線1230(之X成分)、及X方向之第2離型線1232b組合，亦無法藉此形成自一連接線(例如1246)貫通至其他之連接線(例如1247)之「連續線段」。 Y方向上亦同樣地，各Y方向之離型線1237以被介置於中間之製品線1230阻礙進一步之延伸之方式配置。 於該情形時，即便將Y方向之第1離型線1237a、製品線1230(之Y成分)、及Y方向之第2離型線1237b組合，亦無法藉此形成自一連接線(例如1248)貫通至其他之連接線(例如1249)之「連續線段」。 因而，於第12玻璃板1200，即便對第12玻璃板1200之斷開用線施加應力，亦可必然地抑制斷開用線於第1主表面1212自一連接線完全地橫切至另一連接線。 其結果，於第12玻璃板1200，可必然地抑制於非預期之階段中導致第12玻璃板1200斷開之所謂提前斷開現象之問題。 例如，於製造第12玻璃板1200時，即便在將具有斷開用線1220之玻璃坯材進行化學強化處理之步驟中，亦可抑制提前斷開現象。 再者，用以取得如此之效果之斷開用線1220之態樣不僅限於圖21中所示之配置。例如，斷開用線亦可具有以下之圖24～圖26所示之態樣。 例如，於圖24中所示之例，斷開用線1220-1具有製品線1230-1、X方向上延伸之離型線1232-1、及Y方向上延伸之離型線1237-1。 製品線1230-1係以鄰接之製品線與一個邊相互接觸之方式配置。因此，X方向上延伸之離型線1232-1係一端連接於連接線1246或1247，且另一端與製品線1230-1連接。即，於該例中，不存在如上述圖21所示之第2離型線1232b。 同樣地，Y方向上延伸之離型線1237-1均為一端連接於連接線1248或1249，且另一端與製品線1230-1連接。即，於該例中，不存在上述圖21所示之第2離型線1237b。 繼而，於圖25中所示之例，與圖24同樣地，斷開用線1220-2具有製品線1230-2、X方向上延伸之離型線1232-2、及Y方向上延伸之離型線1237-2。 但，與圖24之情形不同，X方向上鄰接之製品線1230-2係相互高度位準不同(鋸齒狀高度配置)。因而，X方向上延伸之離型線1232-2均具有實質上相等之長度，但Y方向上延伸之離型線1237-2與相鄰之離型線1237-2相比，長度不同。 又，於圖26中所示之例，與圖24同樣地，斷開用線1220-3具有製品線1230-3、實質上於X方向上延伸之離型線1232-3、及實質上於Y方向上延伸之離型線1237-3。 但，與圖24之情形不同，在該例中，X方向之離型線1232-3及/或Y方向之離型線1237-3包含曲線。 如此般，斷開用線1220之配置形態中，存在有各種各樣者。 再者，該等例僅為一例，除了所示者以外，亦可考慮各種構成。 例如，於圖21中所示之斷開用線1220，X方向之離型線1232及/或Y方向之離型線1237亦可包含曲線。同樣地，於圖25中所示之斷開用線1220-2中，X方向之離型線1232-2及/或Y方向之離型線1237-2亦可包含曲線。 又，如第11玻璃板1100之構成中所說明，於X方向之第1離型線1232a(圖21)、1232-1(圖24)、1232-2(圖25)、及1232-3(圖26)中，一個端部亦可不必與對應之連接線連接，而於對應之連接線之附近終止。 同樣地，於Y方向之第1離型線1237a(圖21)、1237-1(圖24)、1237-2(圖25)、及1237-3(圖26)中，一個端部亦可不必與對應之連接線連接，而於對應之連接線之附近終止。 進而，於圖21至圖26中所示之離型線，至少一個離型線亦可具有如上所述之「缺失」部分。 進而，又，圖21之離型線1232a、1237a、圖24之離型線1232-1、1237-1、及圖25之離型線1232-2、1237-2係一端連接於製品線之一個邊，而非連接於製品線之角及其附近。於該情形時，與將離型線連接於製品線之角之情形相比，相對地更難以產生提前斷開現象。 (用以抑制提前斷開現象之進而其他之玻璃板) 繼而，參照圖27，對用以抑制提前斷開現象之進而其他之玻璃板之構成進行說明。 於圖27中，表示用以抑制提前斷開現象之進而其他之玻璃板(以下，稱為「第13玻璃板」)之概略性立體圖。 如圖27所示，第13玻璃板1300具有第1主表面1312及第2主表面1314。但，圖27中，無法視認第2主表面1314。又，第13玻璃板1300具有使第1主表面1312與第2主表面1314相連之4個端面1316、1317、1318、1319。 第13玻璃板1300具有俯視為大致長方形狀之形態。因此，第1端面1316與第2端面1317相互對向，且第3端面1318與第4端面1319亦相互對向。 第1主表面1312與第1端面1316係由第1連接線1346連接，第1主表面1312與第2端面1317係由第2連接線1347連接，第1主表面1312與第3端面1318係由第3連接線1348連接，第1主表面1312與第4端面1319係由第4連接線1349連接。 第13玻璃板1300係於第1主表面1312，具有沿長度方向(X方向)延伸之3條斷開用線1320、及沿寬度方向(Y方向)延伸之9條斷開用線1325。 被斷開用線1320、1325所包圍之片部分係對應於隨後之分離步驟中自第13玻璃板1300分離收集之玻璃物品1360。圖27中所示之例係於分離步驟中，可分離收集合計16個大致矩形狀之玻璃物品1360。 各X方向之斷開用線1320係包括X方向之第1離型線1332a、X方向之複數個製品線1330、及X方向之第2離型線1332b。同樣地，各Y方向之斷開用線1325係包括Y方向之第1離型線1337a、Y方向之複數個製品線1335、及Y方向之第2離型線1337b。 第13玻璃板1300係第1主表面1312及第2主表面1314、以及第1端面1316、第2端面1317、第3端面1318及第4端面1319經化學強化處理。進而，第13玻璃板1300具有如上所述之特徵。 即，於利用製品線1330、1335將第13玻璃板1300切斷時所得之玻璃物品1360之切斷面中，自第1主表面1312遍及第2主表面1314之特定之鹼金屬離子之濃度分佈呈現越靠近第1主表面1312之側及第2主表面1314之側，鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈。又，於上述切斷面中，鹼金屬離子之濃度變得高於第13玻璃板1300之總體濃度。 此處，第13玻璃板1300具有上述(用以抑制提前斷開現象之玻璃板)之欄中所示之(II)(ii)之特徵。 即，於第13玻璃板1300中，在第1主表面1312上，X方向之第1離型線1332a係第1端部連接於第1連接線1346。又，X方向之第1離型線1332a係第2端部未連接於製品線1330，以利用X方向之製品線1330阻礙進一步延伸。 換言之，X方向之第1離型線1332a係以上述圖22所示之形態、即自X方向之第1離型線1332a之第2端部延伸之外插線與X方向之製品線1330一致之形態，配置於第1主表面1312上。 又，X方向之斷開用線1320可謂藉由X方向之第1離型線1332a、複數個X方向之製品線1330、及X方向之第2離型線1332b，而作為整體構成沿著X方向之第1離型線1332a可延伸之方向之連續線段。 進而，該連續成分、即X方向之斷開用線1320於第1主表面1312中，未自第1連接線1346橫切至第2連接線1347。 即便於如此構成之第13玻璃板中，亦與上述第11玻璃板1100及第12玻璃板1200效果相同，即，即便對第13玻璃板1300之斷開用線1320、1325施加應力，亦可必然地抑制該斷開用線1320、1325於第1主表面1312中自一連接線完全地橫切至另一連接線。 其結果，於第13玻璃板1300中，可必然地抑制於非預期之階段中導致第13玻璃板1300斷開之提前斷開現象之問題。 例如，於製造第13玻璃板1300時，即便在將具有斷開用線1320、1325之玻璃坯材進行化學強化處理之步驟中，亦可抑制提前斷開現象。 (用以抑制提前斷開現象之玻璃板之製造方法) 繼而，參照圖28～圖31，對用以抑制提前斷開現象之玻璃板之製造方法進行說明。 於圖28中，概略性表示本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法(以下，稱為「第11製造方法」)之流程。 如圖28所示，第11製造方法具有如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有經由連接線使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面(步驟S1110)； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包含雷射改質區域之斷開用線(步驟S1120)；及 (3)將上述玻璃坯材進行化學強化(步驟S1130)。 以下，對於各步驟詳細地進行說明。 (步驟S1110) 首先，準備玻璃坯材。玻璃坯材具有第1主表面及第2主表面、以及將兩者連接之端面。 玻璃坯材之詳情係如上述第1製造方法中之步驟S110中所述。再者，於以下之說明中，作為一例，假設玻璃坯材為矩形狀者。 於圖29中，表示如此之矩形狀之玻璃坯材之模式性立體圖。 如圖29所示，玻璃坯材1910具有第1主表面1912、第2主表面1914、及4個端面1916～1919。 各端面1916～1919與第1主表面1912係經由連接線而接合。更具體而言，第1主表面1912與第1端面1916係經由第1連接線1946而接合，第1主表面1912與第2端面1917係經由第2連接線1947而接合，第1主表面1912與第3端面1918係經由第3連接線1948而接合，第1主表面1912與第4端面1919係經由第4連接線1949而接合。 (步驟S1120) 繼而，對玻璃坯材1910照射雷射。藉此，於玻璃坯材1910之第1主表面1912，形成斷開用線。 於圖30中，模式性表示形成於玻璃坯材1910之X方向上延伸之斷開用線1920之一例。 如圖30所示，該X方向之斷開用線1920係包括雷射改質區域1921。雷射改質區域1921係線狀地排列大量之表面孔隙1939而構成。 再者，於圖30中所示之例中，雷射改質區域1921內之各表面孔隙1939係以間距P之等間隔配置。間距P亦可為例如2 μm～10 μm之範圍。然而，此情況僅為一例，各表面孔隙1939亦可非等間隔地排列。 又，如上所述，各表面孔隙1939不限於必定具有圖30所示之圓形形狀。表面孔隙1939之形狀可藉由雷射之照射及掃描條件等而採取各種態樣。 關於玻璃坯材1910之深度方向(Z方向)，斷開用線1920係自第1主表面1912朝向第2主表面1914延伸。因此，於第1主表面1912上之構成雷射改質區域1921之各表面孔隙1939之下側，形成沿深度方向延伸之複數個內部改質行1950。各內部改質行1950包含深度方向上排列之複數個孔隙1958。 孔隙1958係與表面孔隙1939同樣地，不限於必定具有如圖30所示之圓形形狀。孔隙1958之形狀可藉由雷射之照射及掃描條件等而採取各種態樣。 作為可形成如此之斷開用線1920之雷射，可列舉例如脈寬為飛秒級～奈米秒級、即1.0×10-15 ～9.9×10-9 秒之短脈衝雷射。於有效地形成內部孔隙之方面而言，較佳為，如此之短脈衝雷射光進而為突發脈衝。又，如此之短脈衝雷射之照射時間內之平均輸出為例如30 W以上。於短脈衝雷射之該平均輸出未達10 W之情形時，存在無法形成充分之孔隙之情形。作為突發脈衝之雷射光之一例，可列舉利用脈衝數為3～10之突發雷射形成1個內部孔隙行，且雷射輸出為額定(50 W)之90%左右，突發之頻率為60 kHz左右，突發之時間寬度為20皮秒～165奈米秒。作為突發之時間寬度，就較佳之範圍而言，可列舉10奈米秒～100奈米秒。 又，作為雷射之照射方法，存在有利用基於克爾效應(Kerr-Effect)之光束之自聚焦之方法、將高斯/貝塞爾光束與旋轉三稜透鏡一同地利用之方法、利用球差透鏡之線焦點形成光束之方法等。總之，只要可形成斷開用線1920，則雷射之照射條件並無特別限制。 例如，於使用突發雷射裝置(專利文獻2)之情形時，可藉由適當變更雷射之照射條件，而某種程度地控制面內方向上之表面孔隙1939、及深度方向上之孔隙1958之尺寸或個數。 於圖31中，模式性表示形成於玻璃坯材1910之斷開用線之形態之一例。 如圖31所示，X方向上之斷開用線1920之一部分係對應於X方向上之製品線1930，且X方向上之斷開用線1920之剩餘之部分係對應於X方向上之離型線1932。 又，Y方向上之斷開用線1925之一部分係對應於Y方向上之製品線1935，且Y方向上之斷開用線1925之剩餘之部分係對應於Y方向上之離型線1937。 此處，於利用第11製造方法所得之玻璃坯材1910中，X方向之斷開用線1920均未自第1連接線1946延伸至第2連接線1947。同樣地，Y方向之斷開用線1925均未自第3連接線1948延伸至第4連接線1949。 因此，具有如此之斷開用線1920、1925之玻璃坯材1910於非預期之階段中，即便對玻璃坯材1910施加應力，亦可必然地抑制斷開用線1920、1925於第1主表面1912中自一連接線完全地橫切至另一連接線。 (步驟S1130) 繼而，於步驟S1130中，將玻璃坯材1910進行化學強化。 化學強化處理之具體之方法已於上述第1製造方法中之步驟S130中進行了說明。 此處，第11製造方法藉由上述特徵，而必然地抑制於玻璃坯材1910之化學強化處理時產生提前斷開現象之可能性。 又，第11製造方法可提供即便步驟S1130之後之步驟中亦難以產生提前斷開現象之玻璃板。 此處，如上所述，上述(2)之步驟中形成之離型線1932、1937之至少一個亦可於全長範圍內，具有不存在雷射改質區域之缺失部分。 又，離型線1932、1937之至少一個亦可不貫通至玻璃坯材1910之第2主表面1914。 可藉由圖28中所示之第11製造方法，而製造例如圖19所示之第11玻璃板1100。或者，可藉由變更斷開用線1920、1925之形態，而製造例如圖21、圖24～圖26、及圖27中所示之玻璃板。 (用以抑制提前斷開現象之玻璃板之其他之製造方法) 繼而，參照圖32，對用以抑制提前斷開現象之玻璃板之其他之製造方法進行說明。 於圖32中，概略性表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板之其他之製造方法(以下，稱為「第12製造方法」)之流程。 如圖32所示，第12製造方法具有如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有經由連接線使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面(步驟S1210)； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包括雷射改質區域之製品線(步驟S1220)； (3)於上述玻璃坯材之上述第1或第2主表面形成離型線(步驟S1230)；及 (4)將上述玻璃坯材進行化學強化(步驟S1240)。 此處，第12製造方法中之步驟S1210係與上述第11製造方法中之步驟S1110相同。又，步驟S1240係如上所述。因而，此處對步驟S1220及步驟S1230進行說明。 (步驟S1220) 步驟S1220係對步驟S1210中所準備之玻璃坯材照射雷射。藉此，於玻璃坯材之第1主表面，形成製品線。 再者，關於製品線之形態及構成，可參照與上述第11製造方法中之斷開用線及製品線相關之記載。 (步驟S1230) 於步驟S1220之後，在玻璃坯材之第1主表面，形成離型線。離型線係自第1主表面延伸至第2主表面。或者，離型線亦可形成於玻璃坯材之第2主表面，且自第2主表面延伸至第1主表面。 形成離型線之機構並無特別限定。離型線例如亦可藉由玻璃切刀等機械加工處理而形成。 此後，於步驟S1240中，將玻璃坯材進行化學強化。 此處，即便於第12製造方法中，離型線亦以滿足以下之任一者之方式形成： (I)於玻璃坯材之第1主表面中，離型線均未連接於連接線；或者 (II)於玻璃坯材之第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)第1離型線以被製品線阻礙進一步延伸之方式，將第2端部連接於製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，第1離型線之第2端部連接於製品線之情形時，第1離型線、1或2個以上之製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體，構成沿著第1離型線可延伸之方向之連續線段，且該連續線段於玻璃坯材之第1主表面中，未自第1連接線橫切至其他之連接線。 因此，藉由第12製造方法而製造之玻璃板於非預期之階段中，即便對玻璃板施加應力，亦可必然地抑制於一表面中，斷開用線自一連接線完全地橫切至另一連接線。 例如，第12製造方法係於步驟S1240中之玻璃坯材之化學強化處理時，必然地抑制產生提前斷開現象之可能性。又，第12製造方法可提供一種於步驟S1240後之步驟中亦難以產生提前斷開現象之玻璃板。 (用以抑制提前斷開現象之玻璃板之進而其他之製造方法) 繼而，參照圖33，對用以抑制提前斷開現象之玻璃板之進而其他之製造方法進行說明。 於圖33中，概略性表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板之進而其他之製造方法(以下，稱為「第13製造方法」)之流程。 如圖33所示，第13製造方法具有如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有經由連接線使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面(步驟S1310)； (2)於上述玻璃坯材之上述第1或第2主表面形成離型線(步驟S1320)； (3)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包括雷射改質區域之製品線(步驟S1330)；及 (4)將上述玻璃坯材進行化學強化(步驟S1340)。 此處，第13製造方法係與上述第12製造方法相比，離型線之形成步驟(步驟S1320)與製品線之形成步驟(步驟S1330)之順序相反。然而，各步驟S1310、步驟S1320、及步驟S1330分別與第12製造方法中之步驟S1210、步驟S1230、及步驟S1220相同。 因此，應當明確可提供一種即便於如此之第13製造方法中亦難以產生提前斷開現象之玻璃板。 再者，於用以抑制提前斷開現象之玻璃板之進而其他之製造方法中，作為圖28之準備玻璃坯板之步驟(步驟S1110)之後之一個步驟，製品線與離型線亦可同時或交替地形成。 至此，對於斷開用線於存在製品線與離型線之兩者之情形時，難以產生提前斷開現象之態樣進行了說明。其他，作為更難以產生提前斷開現象之態樣，存在有作為圖11中所示之本發明之一實施形態之一者之以下之玻璃板之製造方法。 具有如下步驟：(1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有經由連接線使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包括雷射改質區域之至少製品線；及 (3)將上述玻璃坯材進行化學強化。 為了自經由該製造方法之玻璃板分離玻璃物品，而藉由對上述玻璃板之第1主表面之側照射雷射，於上述第1主表面，形成包括雷射改質區域之新的離型線，且此後適用上述分離機構，自上述玻璃板分離玻璃物品即可。 因此，藉由採用該玻璃板之製造方法，而於化學強化後且自玻璃板分離玻璃物品之前，形成新的離型線，因此，可提供一種自化學強化前直至玻璃物品之分離前更難以產生提前斷開現象之玻璃板。 [實施例] 繼而，對本發明之實施例進行說明。 利用以下之方法，製造各種玻璃物品之樣品，且評價其特性。 (樣品A之製造方法) 準備縱橫之長度L為100 mm且厚度t為1.3 mm之鋁矽酸鹽玻璃製之玻璃基板。再者，玻璃基板係相當於玻璃坯材。玻璃基板係使用Dragontrail(註冊商標)之化學強化前之坯板。因此，玻璃基板之玻璃組成係除了藉由化學強化處理而置換之鹼金屬成分以外，與Dragontrail之情形相同。對該玻璃基板自一主表面之側照射雷射，於縱方向及橫方向形成複數個面內孔隙區域。 雷射中，使用可出射皮秒級之短脈衝雷射之Rofin公司(德國)之突發雷射(脈衝數為3)。雷射之輸出係設為額定(50 W)之90%。雷射之1個突發頻率為60 kHz，脈寬為15皮秒，1個突發寬度為66奈米秒。 又，雷射之照射次數係於各面內孔隙區域中僅設為1次(因此，1路徑之雷射照射)。又，於各面內孔隙區域中，鄰接之表面孔隙之中心間距離P設為5 μm。 如圖34所示，於玻璃基板800之第1主表面802中，在縱方向上形成有2條面內孔隙區域831，在橫方向上形成有9條面內孔隙區域832。縱方向之面內孔隙區域831彼此之間隔R設為60 mm，且橫方向之面內孔隙區域832彼此之間隔Q設為10 mm。 再者，雷射係對第1主表面802，沿垂直之方向進行照射。因此，形成於面內孔隙區域831、832之下側之內部孔隙行與玻璃基板800之厚度方向大致平行地延伸。 繼而，對於所得之玻璃基板800，實施化學強化處理。 化學強化處理係藉由使玻璃基板800整體浸漬於硝酸鉀熔鹽中而進行。處理溫度設為435℃，處理時間設為1小時。 化學強化處理之結果，於玻璃基板未產生提前斷開現象。 繼而，藉由沿著各個面內孔隙區域831、832擠入玻璃基板800，而自1片之玻璃基板800之中央部分(圖34之粗框部)，收集合計8片之樣品880。各樣品880係長度(參照圖34之長度R)為約60 mm，寬度(參照圖34之長度Q)為約10 mm。各樣品880係4個端面均相當於上述虛擬端面。以目視確認各樣品之端面之狀態後，未確認到劃痕等問題。 將以此方式製造之樣品880稱作樣品A。 (樣品B之製造方法) 將與樣品A中使用之玻璃基板相同之玻璃基板於以與樣品A相同之雷射條件形成面內孔隙區域及內部孔隙行後進行切斷，收集長度60 mm且寬度10 mm之複數個樣品。此後，對於各樣品，實施化學強化處理，製造樣品B。化學強化處理之條件係與上述樣品A之情形相同。 再者，可知該樣品B之製造方法中，一部分之樣品於端面產生有劃痕，從而包含非健全狀態者。因而，以目視僅篩選健全狀態之樣品，準備樣品B。可預測該劃痕係因於切斷後之樣品中進行了化學強化處理，故於化學強化前之步驟之中途之某處所產生者。 (樣品C之製造方法) 使用與樣品A中使用之玻璃基板相同之玻璃基板，製造樣品C。於樣品C之情形時，不實施雷射照射，而對玻璃基板直接地實施化學強化處理。化學強化處理之條件係與上述樣品A之情形相同。 此後，將經化學強化處理之玻璃基板以與樣品A相同之雷射條件進行切斷，收集長度60 mm且寬度10 mm之複數個樣品C。 再者，可知該樣品C之製造方法中，一部分之樣品於端面產生有劃痕，從而包含非健全狀態者。因而，以目視僅篩選健全狀態之樣品，準備樣品C。可預測該劃痕係因化學強化處理後之切斷之難度而產生者。 (評價) 使用如上所述地製造之各樣品A～C，進行以下之評價。 (應力分佈之評價) 評價各樣品A～C之端面之應力分佈。該應力係主要取決於化學強化處理者。於評價中，使用雙折射成像裝置(abrio：美國CRi公司製)。於各個樣品中，評價對象面設為長度60 mm且厚度1.3 mm之端面(以下，稱作「第1端面」)。 於圖35～圖37中，分別表示在樣品A～C之第1端面中測定所得之面內應力分佈結果。再者，該等圖因黑白資料之故，而應力分佈並不非常明確，但於圖之右側之中央區域產生相對較小之拉伸應力，於圖之自左側之端部進入右側之較濃之區域產生相較圖之右側之中央區域更小之拉伸應力，於左上及左下之角部附近、及左側之端部，顏色越濃之部分，壓縮應力變得越大(相較白色部為更外側之區域)。 又，所使用之裝置中，不僅包含評價對象面之資訊，而且亦包含該評價對象面之縱深方向(本評價中為Q＝10 mm之部分)之資訊。因此，該評價獲得將自評價對象面至縱深方向10 mm處之所謂應力值積分所得之結果。 如圖35所示，樣品A中，於3個外表面、即上下2個主表面與寬度10 mm×厚度1.3 mm之端面(以下，稱為「第2端面」)中，存在有較大之壓縮應力。尤其，於「第2端面」中，不取決於厚度方向之位置而遍及整體地存在有較大之壓縮應力。 又，如圖36所示，亦於樣品B之情形時，於3個外表面之全部中，存在有較大之壓縮應力。 另一方面，如圖37所示，於樣品C之情形時，雖於上下2個主表面中存在有較大之壓縮應力，但於第2端面之尤其厚度方向之中心部分，實質上不存在壓縮應力。 如此般，可知於樣品A之第2端面，遍及厚度方向整體地存在有與樣品B之端面相同程度之壓縮應力。 (鉀離子之分析) 繼而，使用各樣品A～C，進行第1端面中之鉀離子濃度之分析。具體而言，將各樣品之第1端面設為對象，實施使用EDX法(能量分散型X線光譜法：Energy Dispersive X-ray Spectrometry)之線分析。 於圖38～圖40中，表示用各個樣品中所得之濃度分析之結果。再者，於該等圖中，橫軸係第1端面中之與第1主表面相距之距離，該距離係自0(第1主表面)至1300 μm(第2主表面)地進行變化。又，縱軸(左軸)係以矽離子進行標準化所得之鉀離子之濃度(原子比)。於圖38及圖39中，為進行參考，而於右縱軸表示鉀離子之滲入深度之分佈。該滲入深度係表示藉由EDX法測定所得之與第1端面垂直之方向上之鉀離子之滲入深度。即，該值係表示於第1端面中，沿著如上所述地進行定義之距離之方向之各位置測定所得之自第1端面起之深度方向上之鉀離子之滲入深度。 再者，該等分析係於各樣品之第1端面之若干個位置實施，但所得之結果大致相同。 根據圖38之結果，可知於樣品A之情形時，第1端面中之鉀離子之濃度自第1主表面沿著第2主表面，呈現大致拋物線狀之分佈。即，鉀離子濃度存在於第1主表面側及第2主表面側較高，且於兩主表面之中間部分較低之傾向。 此處，用於樣品A之製造之玻璃基板中原本所含之鉀離子濃度(K/Si)以總體濃度計為0.118、即約為0.12。另一方面，於圖38之分佈中，鉀離子濃度之最小值(深度約為650 μm處之值)為0.19～0.20。因此，於樣品A之情形時，可謂對第1端面，遍及整體地導入鉀離子。再者，亦可知此情況係鉀離子之滲入深度並不過於依存於與第1主表面相距之距離，且即便於距離為650 μm之位置，亦將鉀離子導入20 μm左右。此處，分佈之K/Si之最小值對於K/Si之總體濃度之比為1.6。 於圖39中，表示樣品B之情形時之分析結果。於樣品B之情形時，第1端面與第1主表面及第2主表面同樣地經化學強化。因此，鉀離子濃度不依存於橫軸之距離，而於任一距離中，呈現大致固定之較高值。 另一方面，如圖40所示，於樣品C之情形時，因對玻璃基板實施化學強化處理後，切取樣品，故於第1端面中，幾乎未導入鉀離子。即，鉀離子濃度不取決於橫軸之距離，而等於玻璃基板中原本所含之鉀離子之濃度即0.12。 如此般，於樣品A中，無論是否於化學強化處理後收集樣品，均確認到於端面中被導入鉀離子。 (強度評價) 繼而，使用各樣品A～C，進行4點彎曲試驗下之強度評價。 4點彎曲試驗係利用以下之2種方法(水平彎曲試驗及縱向彎曲試驗)實施。 (水平彎曲試驗) 於圖41中，模式性表示水平彎曲試驗裝置之構成。 如圖41所示，水平彎曲試驗裝置900具有1組之支點構件920、及1組之負載構件930。支點構件920之中心間距離L1為30 mm，負載構件930之中心間距離L2為10 mm。支點構件920及負載構件930係具有與用於試驗之樣品之寬度(10 mm)相比充分長之全長(Y方向之長度)。 於試驗時，於2個支點構件920之上，水平地配置樣品910。樣品910係以各個第2端面918相距兩支點構件920之中心成為相等之距離之方式配置。又，樣品910係以第1主表面912或第2主表面914成為向下之方式配置。 繼而，2個負載構件930係以兩者之中心對應於樣品910之中心之方式，配置於樣品910之上方。 繼而，藉由將負載構件930推壓至樣品910，而自樣品910之上部，對樣品910施加負載。頭部速度為5 mm/分鐘。試驗時之室內之溫度為約23℃及相對濕度為約60%。將自藉由如此之試驗而將樣品910斷裂時之負載求得之最大拉伸應力設為水平彎曲斷裂應力。 (縱向彎曲試驗) 於圖42中，模式性表示縱向彎曲試驗裝置之構成。 如圖42所示，縱向彎曲試驗裝置950具有1組之支點構件970、及1組之負載構件980。支點構件970之中心間距離L1為50 mm，且負載構件980之中心間距離L2為20 mm。支點構件970及負載構件980具有與用於試驗之樣品之厚度(1.3 mm)相比充分長之全長(Y方向之長度)。 於試驗時，在2個支點構件970之上，水平地配置樣品910。樣品910係以各個第2端面918與兩支點構件970之中心相距相等之距離之方式配置。又，樣品910係以第1端面916向上之方式配置。樣品910以不傾倒之方式得到支持。於該支持中，避免於樣品910與用以支持之構件之間產生摩擦。 繼而，2個負載構件980以兩者之中心對應於樣品910之中心之方式，配置於樣品910之上方。 繼而，藉由將負載構件980推壓至樣品910，而自樣品910之上部，對樣品910施加負載。頭部速度為1 mm/分鐘。試驗時之室內之溫度為約23℃及相對濕度為約60%。將自藉由如此之試驗而將樣品910斷裂時之負載求得之最大拉伸應力設為縱向彎曲斷裂應力。 (試驗結果) 於圖43中，總結地表示樣品A～C中所得之水平彎曲試驗之結果(韋伯分佈圖)。圖中之各樣品中之對韋伯圖之擬合所得之直線係藉由最小平方法而求出。 如圖43所示，可知樣品C係斷裂應力並非較高，未呈現良好之強度。相對於此，可知樣品A及樣品B呈現大致同等良好之強度。 再者，一般而言，可知於韋伯分佈圖中，直線之斜度係與樣品間之偏差相關聯。即，可謂樣品間之偏差越少，則直線之斜度變得越陡峭。 於圖43所示之結果中，樣品A之直線之斜度與樣品B相比變得更陡峭。因此，樣品A可謂與樣品B相比，樣品間之強度之偏差較少。其原因在於，於樣品A中，因成為其端部之內部孔隙行在化學強化步驟中被玻璃自身覆蓋，故難以附著劃痕，從而強度之偏差變少。 繼而，於圖44中，總結地表示樣品A～C中所得之縱向彎曲試驗之結果(韋伯分佈圖)。圖中之各樣品中之對韋伯圖之擬合所得之直線係藉由最小平方法而求出。 如圖44所示，可知樣品C係斷裂應力並非較高，未呈現良好之強度。相對於此，可知樣品A及樣品B呈現良好之強度。樣品A之斷裂應力略微地低於樣品B之斷裂應力之原因在於上述第1端面中之化學強化處理造成之鉀離子濃度存在差異。 又，如上所述，因樣品A之直線之斜度與樣品B相比變得陡峭，故可謂樣品A與樣品B相比，樣品間之強度之偏差更少。其原因在於，於樣品A中，因成為其端部之內部孔隙行在化學強化步驟中被玻璃自身覆蓋，故難以附著劃痕，從而強度之偏差變少。 如上所述，確認到樣品A於玻璃基板之化學強化處理時，對端面導入鉀離子；及作為其結果，樣品A呈現良好之強度。 (其他之實施例1) 繼而，對本發明之其他之實施例進行說明。 (樣品之準備) 使用上述樣品A，作為樣品。如圖38所示，於該樣品之情形時，於第1端面，鹼金屬離子之滲入深度不取決於與第1主表面相距之距離，而以大致20 μm固定。以下，將用於本實施例之樣品特別稱作「樣品D」。 (第1端面之表面粗糙度之測定) 測定樣品D之第1端面之表面粗糙度(算數平均數粗糙度Ra)。算數平均數粗糙度Ra係依據JIS B0601(2013年)，使用東京精密公司製之Surfcom1400D進行測定。測定長度係沿著第1端面之長度方向設為8.0 mm。λc輪廓曲線濾波器之截止值係設為0.8 mm。測定速度係設為0.3 mm/秒。 再者，測定係使用12片之樣品D而實施。各樣品均於3處進行測定。 (第1端面之裂痕深度之測定) 藉由以下之方法，而測定樣品D中之第1端面之裂痕深度。裂痕深度之測定方向係設為與第1端面垂直之方向。 因測定前容易進行裂痕之觀察，故將樣品D於以下之條件下進行蝕刻。 (1)蝕刻液之準備 蝕刻液係於900 ml之水中，混合46.0質量%之氫氟酸(HF)100 ml與36質量%之鹽酸(HCl)1000 ml進行製備。 (2)蝕刻處理 使樣品D浸漬於(1)中所準備之蝕刻液中1分鐘，實施約3 μm之各向同性蝕刻。 (3)毛刷研磨 於蝕刻後，對樣品D進行毛刷研磨，將殘留物去除。 裂痕深度之測定中，使用掃描型共聚聚焦雷射顯微鏡(LEXT OLS3000：奧林帕斯公司製)。 測定係於樣品D之第1端面中，在大致中央之區域(長度方向36 mm×厚度方向1.3 mm之區域)實施。 將觀察所得之裂痕中之最深之裂痕之深度設為該樣品D之表觀之裂痕深度D0 。但，實際之裂痕深度(稱作D1 )係對該D0 加上因毛刷研磨而減少之長度量進行估算。必須留意該實際之裂痕深度D1 係包含上述蝕刻處理所造成之影響之值。 (評價) 將對於12片之各個樣品D所得之第1端面之表面粗糙度及裂痕深度D1 之評價結果總結地表示於表1中。再者，於表1中，出於參考目的，而結合表示有各樣品D中之第1主表面之面內孔隙區域之表面孔隙間之間距。 [表1] 根據表1，可知各樣品D中之算數平均數粗糙度Ra(平均值)處於0.5 μm～0.6 μm之範圍，且裂痕深度D1 為5.5 μm以下。 再者，表1中所示之裂痕深度D1 係於第1端面之觀察對象區域中確認所得之裂痕中之最大者之值。實際上，於第1端面(之未觀察區域)，具有存在具有更大之裂痕深度D1 之裂痕之可能性。 因而，可視為所得之結果係表示樣品數設為12且於第1端面之長度方向36 mm×厚度方向1.3 mm之區域觀察所得之標準偏差為0.47 μm之情形時之裂痕深度D1 之平均值。 先前之方法，例如，於藉由＃1000之鑽石磨石、或相較該鑽石磨石更粗之鑽石磨石來研磨玻璃之端面之情形時，裂痕深度存在有呈現不取決於玻璃之組成而達到約7 μm以上之實驗數據。 由此，本次結果呈現出存在於第1端面之裂痕與先前之利用鑽石磨石研磨所得之端面上之裂痕相比，裂痕深度被更加必然地抑制。 此處，上述專利文獻1之圖12中記載之端面之裂痕深度成為本次樣品D中所測定之裂痕深度之約10倍。因此，可認為專利文獻1係與端面垂直之方向之裂痕深度相較與該端面垂直之方向上之鹼金屬離子之滲入深度變得更深者。 如此般，可知樣品D之第1端面中之表面粗糙度必然地變小，又，樣品D之與第1端面垂直之方向之裂痕深度淺於第1端面中之鹼金屬離子之滲入深度。 其結果可謂整合於對上述樣品A之強度評價之結果中。又，第1端面中之表面粗糙度係於雷射照射後，進行化學強化處理，且即便分離後，未進行端面之研磨處理等，端面亦可謂平滑且外觀品質優異。 (其他之實施例2) 以上述(樣品A之製造方法)所示之方法，製造3種樣品E、F及G。 但，樣品E係自厚度t為0.5 mm之玻璃基板(玻璃坯材)製造，又，樣品F係自厚度t為0.85 mm之玻璃基板(玻璃坯材)製造。相對於此，樣品G係自厚度t為1.3 mm之玻璃基板(玻璃坯材)製造。即，樣品G係藉由與樣品A相同之方法而製造。 如上所述，該等樣品E～G係於製造之過程中，經由對玻璃坯材實施化學強化處理之步驟，但即便任一樣品之情形時，剛進行化學強化處理後，均未產生樣品自玻璃坯材分離之現象。 對於各樣品E～G，使用EPMA法(電子探針・顯微・分析儀：Electron Probe Micro Analyzer)，進行上述「第1端面」中之鉀離子濃度之分析。 分析係於第1端面中之以下3處實施： 與玻璃坯材之第1主表面對應之任一位置、即與長度60 mm之一邊對應之任一位置(稱作「測定區域1」)； 自與玻璃坯材之第1主表面對應之位置，沿著樣品之厚度方向(朝向玻璃坯材之第2主表面之方向)移動1/4之任一位置(稱作「測定區域2」)；及 自與玻璃坯材之第1主表面對應之位置，沿著樣品之厚度方向移動1/2之任一位置(稱作「測定區域3」)。 於以下之表2中，表示在樣品E～G之各測定區域所得之鉀濃度之分析結果。 [表2] 鉀離子濃度係以由矽離子標準化所得之鉀離子之濃度(原子比)、即Cs表示。再者，嚴謹而言，即便於各測定區域之中，在對於各測定區域之表面沿正交之深度方向(樣品之寬度方向)略微滲入之表面之附近，鉀離子濃度達到最大。因而，此處採用於各測定區域中在表面之附近K之分析值達到最大之位置處之Cs值作為該測定區域中之Cs。 再者，利用EPMA法所得之Cs之值存在與上述EDX法之結果不同之情形。然而，並無對於分佈之評價時之影響。 又，於表2中，同時地表示各測定區域中之鉀離子之滲入深度之值。該滲入深度係表示沿深度方向(樣品之寬度方向)之自第1端面起之鉀離子之變化消失之滲入深度。 進而，於表2中，表示於測定區域3中計算所得之各測定區域之Cs對於總體之Cs之比(以下，稱作「Cs比」)。 根據表2之結果，已確認樣品E～G中，對第1端面整體導入有鉀離子、及鉀離子之濃度呈現自厚度之中央部分朝向第1主表面增加之分佈。進而，已確認第1端面中之鉀離子之濃度較樣品中原本所含之鉀離子濃度(總體濃度)大1.8倍以上。 本案係主張基於2015年9月4日提出申請之日本專利申請2015-175177號、2015年12月8日提出申請之日本專利申請2015-239733號、2015年12月8日提出申請之日本專利申請2015-239735號、2016年1月14日提出申請之日本專利申請2016-005616號、2016年8月8日提出申請之日本專利申請2016-156012號、及2016年8月8日提出申請之日本專利申請2016-156013號之優先權，且將該日本申請案之全部內容藉由參照而引用於本案中。
110‧‧‧玻璃坯材
112‧‧‧第1主表面
114‧‧‧第2主表面
116‧‧‧端面
130、131、132‧‧‧面內孔隙區域
138‧‧‧表面孔隙
138A、138B‧‧‧表面孔隙行
150‧‧‧內部孔隙行
158‧‧‧孔隙
160、161、162‧‧‧玻璃片
170‧‧‧虛擬端面
175‧‧‧玻璃板
180‧‧‧玻璃物品
186‧‧‧端面
200‧‧‧裝置
210‧‧‧台座
220‧‧‧輥
250‧‧‧裝置
260‧‧‧片狀構件
270‧‧‧支持構件
380‧‧‧第1玻璃物品
382‧‧‧第1主表面
384‧‧‧第2主表面
386(386-1～386-4)‧‧‧端面
415‧‧‧第1玻璃板
417‧‧‧第1主表面
419‧‧‧第2主表面
420(420-1～420-4)‧‧‧端面
431‧‧‧面內孔隙區域
461‧‧‧玻璃片
800‧‧‧玻璃基板
802‧‧‧第1主表面
831、832‧‧‧面內孔隙區域
880‧‧‧樣品
900‧‧‧水平彎曲試驗裝置
910‧‧‧樣品
912‧‧‧第1主表面
914‧‧‧第2主表面
916‧‧‧第1端面
918‧‧‧第2端面
920‧‧‧支點構件
930‧‧‧負載構件
950‧‧‧縱向彎曲試驗裝置
970‧‧‧支點構件
980‧‧‧負載構件
1070‧‧‧連接線
1080‧‧‧斷開用線
1082‧‧‧離型線
1084‧‧‧製品線
1100‧‧‧第11玻璃板
1112‧‧‧第1主表面
1114‧‧‧第2主表面
1116‧‧‧第1端面
1117‧‧‧第2端面
1118‧‧‧第3端面
1119‧‧‧第4端面
1120‧‧‧X方向之斷開用線
1121‧‧‧雷射改質區域
1125‧‧‧Y方向之斷開用線
1130‧‧‧X方向之製品線
1132‧‧‧X方向之離型線
1132a‧‧‧X方向之第1離型線
1132b‧‧‧X方向之第1離型線
1135‧‧‧Y方向之製品線
1137‧‧‧Y方向之離型線
1137a‧‧‧Y方向之第1離型線
1137b‧‧‧Y方向之第1離型線
1139‧‧‧表面孔隙
1139d‧‧‧缺失部分
1146‧‧‧第1連接線
1147‧‧‧第2連接線
1148‧‧‧第3連接線
1149‧‧‧第4連接線
1160‧‧‧玻璃物品
1200‧‧‧第2玻璃板
1212‧‧‧第1主表面
1214‧‧‧第2主表面
1216‧‧‧第1端面
1217‧‧‧第2端面
1218‧‧‧第3端面
1219‧‧‧第4端面
1220‧‧‧斷開用線
1220-1～1220-3‧‧‧斷開用線
1230‧‧‧製品線
1230-1～1230-3‧‧‧製品線
1232‧‧‧X方向之離型線
1232a‧‧‧X方向之第1離型線
1232b‧‧‧X方向之第2離型線
1232-1～1232-3‧‧‧X方向之離型線
1237‧‧‧Y方向之離型線
1237a‧‧‧Y方向之第1離型線
1237b‧‧‧Y方向之第2離型線
1237-1～1237-3‧‧‧Y方向之離型線
1246‧‧‧第1連接線
1247‧‧‧第2連接線
1248‧‧‧第3連接線
1249‧‧‧第4連接線
1260‧‧‧玻璃物品
1300‧‧‧第3玻璃板
1312‧‧‧第1主表面
1314‧‧‧第2主表面
1316‧‧‧第1端面
1317‧‧‧第2端面
1318‧‧‧第3端面
1319‧‧‧第4端面
1320‧‧‧X方向之斷開用線
1325‧‧‧Y方向之斷開用線
1330‧‧‧X方向之製品線
1332a‧‧‧X方向之第1離型線
1332b‧‧‧X方向之第2離型線
1335‧‧‧Y方向之製品線
1337a‧‧‧Y方向之第1離型線
1337b‧‧‧Y方向之第2離型線
1346‧‧‧第1連接線
1347‧‧‧第2連接線
1348‧‧‧第3連接線
1349‧‧‧第4連接線
1360‧‧‧玻璃物品
1910‧‧‧玻璃坯材
1912‧‧‧第1主表面
1914‧‧‧第2主表面
1916‧‧‧第1端面
1917‧‧‧第2端面
1918‧‧‧第3端面
1919‧‧‧第4端面
1920‧‧‧X方向上之斷開用線
1921‧‧‧雷射改質區域
1925‧‧‧Y方向上之斷開用線
1930‧‧‧X方向上之製品線
1932‧‧‧X方向上之離型線
1935‧‧‧Y方向上之製品線
1937‧‧‧Y方向上之離型線
1939‧‧‧表面孔隙
1946‧‧‧第1連接線
1947‧‧‧第2連接線
1948‧‧‧第3連接線
1949‧‧‧第4連接線
1950‧‧‧內部改質行
1958‧‧‧孔隙
L1、L2‧‧‧中心間距離
L‧‧‧外插線
P‧‧‧中心間距離
Q、R‧‧‧間隔
圖1係模式性表示本發明之一實施形態之玻璃物品之製造方法之流程之圖。 圖2係模式性表示本發明之一實施形態之玻璃物品之製造方法中可使用之玻璃坯材之形態之圖。 圖3係用以說明面內孔隙區域及內部孔隙行之形態之模式圖。 圖4係模式性表示面內孔隙區域之一形態之圖。 圖5係模式性表示於玻璃坯材之第1主表面形成有複數個面內孔隙區域之狀態之圖。 圖6係模式性表示面內孔隙區域之一例之圖。 圖7係模式性表示面內孔隙區域之另一例之圖。 圖8係模式性表示已自玻璃板分離複數個玻璃物品之狀態之圖。 圖9係模式性表示可於第1製造方法中自玻璃板分離玻璃物品時使用之裝置之一例之圖。 圖10係模式性表示可於第1製造方法中自玻璃板分離玻璃物品時使用之其他裝置之一例之圖。 圖11係模式性表示本發明之一實施形態之玻璃板之製造方法之流程之圖。 圖12係概略性表示本發明之一實施形態之玻璃物品之圖。 圖13係模式性表示本發明之一實施形態之玻璃物品之一個端面中之厚度方向上之導入離子之濃度分佈之圖。 圖14係概略性表示本發明之一實施形態之玻璃板之圖。 圖15係表示第1玻璃板之第1主表面及剖面之一例之SEM照片。 圖16係表示本發明之一實施形態之玻璃板之虛擬端面中之內部孔隙行之一例之SEM照片。 圖17係表示本發明之一實施形態之玻璃板之虛擬端面中之內部孔隙行之一例之SEM照片。 圖18係表示本發明之一實施形態之玻璃板之虛擬端面中之內部孔隙行之一例之SEM照片。 圖19係用以抑制提前斷開現象之玻璃板之概略性立體圖。 圖20係玻璃板之第1主表面上形成之離型線之模式性局部放大圖。 圖21係用以抑制提前斷開現象之其他之玻璃板之概略性立體圖。 圖22係模式性表示離型線與製品線之關係之一例之圖。 圖23係模式性表示離型線與製品線之關係之另一例之圖。 圖24係表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板中之斷開用線之一態樣之圖。 圖25係表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板中之斷開用線之一態樣之圖。 圖26係表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板中之斷開用線之一態樣之圖。 圖27係用以抑制提前斷開現象之進而其他之玻璃板之概略性立體圖。 圖28係概略性表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板之製造方法之一例之流程圖。 圖29係模式性表示玻璃板之製造方法中使用之玻璃坯材之一例之立體圖。 圖30係模式性表示形成於玻璃坯材且於X方向上延伸之斷開用線之一例之圖。 圖31係模式性表示形成於玻璃坯材之斷開用線之形態之一例之圖。 圖32係概略性表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板之其他之製造方法之一例之流程圖。 圖33係概略性表示用以抑制提前斷開現象之玻璃板之進而其他之製造方法之一例之流程圖。 圖34係表示實施例中之玻璃基板與所收集之樣品之關係之圖。 圖35係表示樣品A之第1端面中測定所得之面內應力分佈結果之圖。 圖36係表示樣品B之第1端面中測定所得之面內應力分佈結果之圖。 圖37係表示樣品C之第1端面中測定所得之面內應力分佈結果之圖。 圖38係表示樣品A中所得之鉀離子濃度分析之結果之圖表。 圖39係表示樣品B中所得之鉀離子濃度分析之結果之圖表。 圖40係表示樣品C中所得之鉀離子濃度分析之結果之圖表。 圖41係模式性表示水平彎曲試驗裝置之構成之圖。 圖42係模式性表示縱向彎曲試驗裝置之構成之圖。 圖43係集中地表示各樣品中所得之水平彎曲試驗之結果之圖(韋伯分佈圖)。 圖44係集中地表示各樣品中所得之縱向彎曲試驗之結果之圖(韋伯分佈圖)。
110‧‧‧玻璃坯材
112‧‧‧第1主表面
114‧‧‧第2主表面
116‧‧‧端面
130‧‧‧面內孔隙區域
160‧‧‧玻璃片

Claims (42)

  1. 一種玻璃板之製造方法，其包含如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包含雷射改質區域之斷開用線；及 (3)將形成有上述斷開用線之上述玻璃坯材進行化學強化處理； 於上述(2)之步驟中，上述斷開用線包括1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃坯材分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線。
  2. 如請求項1之製造方法，其中上述雷射改質區域係於上述第1主表面具有表面孔隙，且 上述離型線之至少一個係形成為於上述第1主表面中，在全長範圍內具有不存在上述表面孔隙之缺失部分。
  3. 如請求項1或2之製造方法，其中上述離型線之至少一個係形成為未貫通至上述第2主表面。
  4. 如請求項1至3中任一項之製造方法，其於上述(3)之步驟之後，進而具有 自上述玻璃坯材分離收集1或2個以上之玻璃物品之步驟。
  5. 一種玻璃板之製造方法，其包括如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材，且上述玻璃坯材具有使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面之側照射雷射，而於上述第1主表面，形成包含雷射改質區域之製品線； (3)於上述(2)之步驟之前或上述(2)之步驟之後，於上述玻璃坯材之上述第1或第2主表面形成離型線；及 (4)將形成有上述製品線及上述離型線之上述玻璃坯材進行化學強化處理； 於上述(2)之步驟中，上述製品線係對應於自上述玻璃坯材分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述製品線以外之部分， 上述製品線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸，上述離型線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面，或自上述第2主表面朝向上述第1主表面，於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線。
  6. 如請求項5之製造方法，其於上述(4)之步驟之後，進而具有 自上述玻璃坯材分離收集1或2個以上之玻璃物品之步驟。
  7. 如請求項1至6中任一項之製造方法，其中上述離型線具有曲線部分，或實質上包含直線。
  8. 如請求項1至7中任一項之製造方法，其中鄰接之2個玻璃物品之輪廓線不相互重合，且 於鄰接之2個玻璃物品之輪廓線之間，存在至少一個離型線。
  9. 如請求項1至7中任一項之製造方法，其中鄰接之2個玻璃物品之輪廓線之一部分相互重合。
  10. 一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面； 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面具有藉由化學強化處理而形成之壓縮應力層。
  11. 一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 於利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子。
  12. 一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 於利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有與該玻璃板之厚度之中央部分相比，越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。
  13. 一種玻璃板，其具有： 相互對向之第1主表面及第2主表面、及 使上述第1主表面與上述第2主表面相連之端面， 於上述第1主表面，形成有複數個斷開用線， 上述斷開用線係包含1或2個以上之製品線及1或2個以上之離型線，且上述製品線係對應於自上述玻璃板分離收集之玻璃物品之輪廓線，上述離型線係對應於上述斷開用線中之除了上述製品線以外之部分， 上述斷開用線係自上述第1主表面朝向上述第2主表面於深度方向上延伸， 當將上述第1主表面與上述端面之交界及上述第2主表面與上述端面之交界稱為連接線時， (I)於上述第1主表面中，上述離型線均未連接於上述連接線，或者 (II)於上述第1主表面中，第1離型線之第1端部連接於第1連接線之情形時， (i)上述第1離型線以被上述製品線阻礙進一步之延伸之方式，將第2端部連接於上述製品線，或者 (ii)於上述(i)以外之形態下，上述第1離型線之上述第2端部連接於上述製品線之情形時，上述第1離型線、1或2個以上之上述製品線、及1或2個以上之其他之離型線作為整體構成沿著上述第1離型線可延伸之方向之連續線段，且上述連續線段於該玻璃板之上述第1主表面中，未自上述第1連接線橫切至其他之連接線， 於利用製品線將該玻璃板切斷時所得之玻璃物品之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。
  14. 如請求項10至13中任一項之玻璃板，其中上述離型線具有曲線部分，或實質上包含直線。
  15. 如請求項10至14中任一項之玻璃板，其中上述製品線係包含雷射改質區域。
  16. 如請求項15之玻璃板，其中上述雷射改質區域係於上述第1主表面具有表面孔隙， 進而，上述雷射改質區域係自上述第1主表面沿著深度方向具有孔隙。
  17. 如請求項10至16中任一項之玻璃板，其中上述離型線之至少一個係包含雷射改質區域。
  18. 如請求項17之玻璃板，其中包含上述雷射改質區域之離型線係於上述第1主表面中，具有在全長範圍內不存在表面孔隙之缺失部分。
  19. 如請求項10至18中任一項之玻璃板，其中上述離型線係包含雷射改質區域。
  20. 如請求項10至19中任一項之玻璃板，其中上述離型線之至少一個未貫通至上述第2主表面。
  21. 如請求項10至20中任一項之玻璃板，其中鄰接之2個玻璃物品之輪廓線未相互重合，且 於鄰接之2個玻璃物品之輪廓線之間，存在至少一個離型線。
  22. 如請求項10至20中任一項之玻璃板，其中鄰接之2個玻璃物品之輪廓線之一部分係相互重合。
  23. 一種玻璃板之製造方法，其具有如下步驟： (1)準備具有相互對向之第1主表面及第2主表面之玻璃坯材； (2)藉由對上述玻璃坯材之上述第1主表面照射雷射，而於上述第1主表面，形成排列有複數個孔隙之面內孔隙區域，並且形成自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行；及 (3)將形成有上述內部孔隙行之上述玻璃坯材進行化學強化處理。
  24. 如請求項23之製造方法，其中於上述面內孔隙區域中，鄰接之孔隙彼此之間隔為3 μm～10 μm之範圍。
  25. 如請求項23或24之製造方法，其中上述(2)之步驟係於藉由第1路徑之雷射照射而形成上述面內孔隙區域後，進而沿著該面內孔隙區域，重複進行至少1次雷射照射，藉此，自上述第1主表面遍及上述第2主表面，形成上述內部孔隙行。
  26. 如請求項23至25中任一項之製造方法，其中於上述(2)之步驟中進而具有如下步驟： 於上述面內孔隙區域之形成後，於上述第1主表面及上述第2主表面之至少一者，沿著上述面內孔隙區域形成槽，或者 於上述面內孔隙區域之形成前，於上述第1主表面及上述第2主表面之至少一者，沿著隨後形成之面內孔隙區域形成槽。
  27. 一種玻璃物品之製造方法，其具有如下步驟： 藉由如請求項23至26中任一項之玻璃板之製造方法，製造玻璃板，且上述玻璃板具有與上述玻璃坯材之上述第1主表面對應之第3主表面、及與上述玻璃坯材之上述第2主表面對應之第4主表面；及 沿著上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行，自上述玻璃板分離1或2個以上之玻璃物品。
  28. 如請求項27之製造方法，其中將上述玻璃物品分離之步驟係藉由自下述處理中所選擇之一個以上處理而獲得上述1或2個以上之玻璃物品： 對上述玻璃板施加沿上述面內孔隙區域之推壓力之處理、 使上述玻璃板以上述第3主表面或上述第4主表面成為凸起之方式變形之處理、及 對上述玻璃板施加沿上述面內孔隙區域之熱應力引起之拉伸應力之處理。
  29. 一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面之中央，存在藉由化學強化處理而形成之壓縮應力層。
  30. 一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面中之自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子。
  31. 一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面， 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有與該玻璃板之厚度之中央部分相比，越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。
  32. 一種玻璃板，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面，且 於上述第1主表面，存在排列有複數個孔隙之面內孔隙區域， 自上述面內孔隙區域朝向上述第2主表面，存在排列有1或2個以上之孔隙之複數個內部孔隙行， 於將該玻璃板以穿過上述面內孔隙區域及上述複數個內部孔隙行之方式切斷時所得之切斷面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述特定之鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述切斷面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃板之總體濃度。
  33. 如請求項29至32中任一項之玻璃板，其中於上述面內孔隙區域中，鄰接之孔隙彼此之間隔為3 μm～10 μm之範圍。
  34. 如請求項29至33中任一項之玻璃板，其中上述切斷面係對應於自該玻璃板分離玻璃物品時之端面。
  35. 如請求項34之玻璃板，其中上述端面於與上述第1主表面之連接部分、及/或與上述第2主表面之連接部分被實施倒角或圓角加工。
  36. 一種玻璃物品，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及將兩主表面接合之至少一個端面， 上述端面具有藉由化學強化處理而形成之壓縮應力層， 與上述端面垂直之方向之裂痕深度淺於與上述端面垂直之方向之上述壓縮應力層之深度。
  37. 一種玻璃物品，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及將兩主表面接合之至少一個端面， 於上述端面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有與厚度方向之中央部分相比，越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述鹼金屬離子之濃度越高之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述端面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃物品之總體濃度。
  38. 一種玻璃物品，其具有 相互對向之第1主表面及第2主表面、及將兩主表面接合之至少一個端面， 於上述端面中，自上述第1主表面遍及上述第2主表面之特定之鹼金屬離子之濃度分佈具有越靠近上述第1主表面之側及上述第2主表面之側，上述鹼金屬離子之濃度越高之大致拋物線狀之分佈， 上述特定之鹼金屬離子係用以對上述第1主表面及上述第2主表面賦予壓縮應力層，提昇兩主表面之強度之鹼金屬離子， 於上述端面中，上述濃度分佈中之上述特定之鹼金屬離子之濃度高於該玻璃物品之總體濃度。
  39. 如請求項37或38之玻璃物品，其中與上述端面垂直之方向之裂痕深度淺於與上述端面垂直之方向之上述特定之鹼金屬離子之滲入深度。
  40. 如請求項37至39中任一項之玻璃物品，其中上述特定之鹼金屬離子係鈉離子及/或鉀離子。
  41. 如請求項36至40中任一項之玻璃物品，其中上述端面於與上述第1主表面之連接部分、及/或與上述第2主表面之連接部分被實施倒角或圓角加工。
  42. 一種玻璃物品之製造裝置，其具有 自玻璃板分離1或2個以上之玻璃物品之分離機構， 上述玻璃板係如上述請求項29至35中任一項之玻璃板， 上述分離機構係藉由自下述處理中所選擇之一個以上處理，而自上述玻璃板，分離上述1或2個以上之玻璃物品： 對上述玻璃板施加沿上述面內孔隙區域之推壓力之處理、 使上述玻璃板以上述第1主表面或上述第2主表面成為凸起之方式變形之處理、及 對上述玻璃板施加沿上述面內孔隙區域之熱應力引起之拉伸應力之處理。
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