TW201707817A - 餵槽出口調節器 - Google Patents

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Abstract

一種構造成環繞一出口的耐火塊體，在一耐火容器內調節穿過該出口之熔融金屬的流動。該塊體採用一基座及一壁的形式，一主孔口穿過該基座，該壁圍繞該基座的周邊向上延伸。在該塊體中可包含的結構特徵包含一環周唇部、一內體積、及在該壁中的流動開口，該環周唇部圍繞該壁的外部，在該內體積中朝向在複數個階梯中之主孔口的半徑係朝下遞減，該等流動開口構造成在該塊體內體積的流動模式中引導漩流。

Description

餵槽出口調節器
本發明係有關於鋼材的連續鑄造，且特別是有關於鋼材離開耐火容器出口之高停留時間且增加堵塞可能性的問題，及在耐火容器出口之非金屬夾雜物沉積的問題。本發明係構造成到達該出口及運載爐渣到該出口之防止渦流的管路，且在該出口中引入控制渦流以延遲非金屬夾雜物的沉積。本發明也構造成以一控制手段使在耐火容器底部的冷鋼與在該容器本體中的鋼材結合，以使從該容器離開之鋼材溫度均勻及以避免因冷鋼體積過大通過所產生的堵塞。特別是，本發明係有關於一種耐火部件，當流動被導向該出口時，該耐火塊調節在耐火容器內的液態鋼流動。該耐火部件與一擋塊結合可實現這些效果。本發明也有關於一種包含一如前所述之耐火部件結合一擋塊的總成。該擋塊可具有一波紋外部；該波紋可在接近於該耐火容器出口之該擋塊末端上形成同心環。
隨著對於品質及性能控制的需求不斷增長，鋼材的潔淨度變得越來越重要。如控制化學組合物及同質性的議題仍然是重要的，但已被加入了由存在非金屬夾雜物及由堵塞所產生的疑慮。
氧化鋁及尖晶石夾雜物的存在被視為對於生產過程本身及對於該鋼材性能二者都有害。這些夾雜物主要形成於在盛桶中的鋼材脫氧期間，這對於連續鑄造係必要的。在連續鑄造期間，於鋼材熔化之二次冶煉及再氧化期間的不完全去除非金屬夾雜物導致噴嘴堵塞。該堵塞材料層通常包含大集群的三氧化二鋁。它的厚度與鋼材澆鑄量以及與鋼材潔淨度有關。噴嘴堵塞造成減少生產力，因為每單位時間可澆鑄更少的鋼材(由於口徑縮小的結果)及因為更換噴嘴的同時發生澆鑄中斷。除了堵塞之外，再氧化產物的存在可引起該噴嘴之侵蝕，且可引起在鋼材中形成夾雜物缺陷。
在熔融金屬本身中的熔融金屬表面或接近表面的夾帶物質(例如，爐渣)也可產生堵塞。從一冶煉容器輸送熔融金屬也涉及將包含爐渣(上清光階段)的該雜質與下方的精煉或部分精煉金屬(鋼材)分離。當從該容器發生流動時，對於能夾帶大量爐渣進入液態金屬的流動導致下游金屬品質的問題的漏斗或旋渦，並不少見。
在一清空容器中的流動行為係被在液體中旋轉速度分量所影響。在沒有這樣的速度分量時，液體離開該清空容器係主要由圍繞噴嘴出口的半球形區域所吸引，且遠在排水噴嘴上方的表面液體顯示小量的移動。朝向排水盡頭，浮在表層液體的夾帶確實發生如同一非旋渦漏斗通過一漏斗形狀的核心。
因此希望提供一解決方案，能產生穿過一耐火容器之出口的熔融鋼材的溫度均勻化，且在該出口中或該出口下方減少或延遲非金屬夾雜物的沉積，同時避免在從耐火容器離開流體中的浮在表層液體的旋渦及夾帶。
本發明的目的是通過一耐火容器之出口的熔融鋼材的溫度均勻化，且在該出口中或該出口下方減少或延遲非金屬夾雜物的沉積。
這些目的藉由一耐火部件或塊體來達成，該耐火部件或塊體在一耐火容器內調節引向該出口的液態鋼流動。單獨或與其他耐火部件結合，可以防止旋渦管到達該出口。在該出口附近，可控制冷或高停留時間的鋼材與低停留時間之較高溫度的鋼材的混合。可引入該耐火容器出口的下游渦流，以延遲非金屬夾雜物的沉積，例如，在位於該耐火容器出口的一澆鑄槽入口處。
具體來說，這些目的藉由使用一塊體或圍繞耐火元件、一噴嘴及一塊體或圍繞耐火元件的總成、或安置在如餵槽之耐火容器中的一噴嘴及一塊體或圍繞耐火元件的總成來達成，其中該塊體或圍繞耐火元件具有一具有一上表面的基座、一底部及一從該主表面向上延伸的壁，通常該壁在該主表面的周邊向上延伸。該壁可以是連續的或可包含複數個從該主表面向上延伸的突出。該塊體或圍繞耐火元件在該基座中包含一開口，該開口可配置成與該耐火容器出口流體連通。在這種配置中，該塊體或圍繞耐火元件的基座圍繞該耐火容器出口。
該塊體或圍繞耐火元件的這種基本配置係可依據包含一個或多個之任意組合的設計特徵來修改，以實現本發明的預期效果。
一第一設計特徵係一環周唇部從該塊體或圍繞耐火元件之壁的環周外表面徑向向外延伸。在該環周唇部下方的體積之內容物受阻於直接流動通過該出口，且以一控制手段使該環周唇部上方的內容物混合。
一第二設計特徵係在該塊體或圍繞耐火元件內表面上存在一個或多個鰭片。該等鰭片向內延伸。在某些配置中，該等鰭片不延伸進入由該出口向上投影所形成的體積內，或不延伸進入在該出口之向上投影的一已定義徑向延伸的體積內。
一第三設計特徵係在該塊體或圍繞耐火元件的內表面上引入一粗糙表面。該粗糙度可採用突出或階梯的形式。在某些構造中，該等階梯可被定向使得它們面向該出口之向上投影的表面可藉由旋轉來產生，圍繞該出口主軸的一連串半徑長度於朝向該基座下表面遞減。
一第四設計特徵係存在一個或多個從該壁環周外表面延伸到該壁環周內部表面的入口流動開口。
一第五設計特徵係存在複數個從該裝置之基座上表面的環周向上延伸的屏障，以形成該壁。每個屏障係在每一側與一環周地相鄰屏障成環周地相鄰。
本發明可包含該第一特徵，該第二特徵，該第三特徵，該第四特徵，該第五特徵，特徵1及2，特 徵1及3，特徵1及4，特徵1及5，特徵2及3，特徵2及4，特徵2及5，特徵3及4，特徵3及5，特徵1、2及3，特徵1、2、及4，特徵1、2及5，特徵2、3及4，特徵2、3及5，特徵1、2、3及4，或特徵1、2、3及5。
由於根據本發明的特別安排，在一耐火容器底部的冷熔融鋼材以一受控制的比率與在該耐火容器本體中較熱的熔融鋼材混合。此外，夾雜物存在於該冶煉容器流動中，穿過在該塊體中的幾何形狀，當它們離開時，該幾何形狀引導渦流；因此，它們被夾帶在流動中，而不是從該熔化金屬流沉澱及堵塞該塊體出口。
必須理解的是，圍繞該噴嘴的元件可具有任何適當的形狀。在冶煉容器設計的功能中；它可為圓形、橢圓形、或多邊形；其主孔口可以是中心或偏心。在本發明一替代實施例中，對於該元件的適當形狀可排除圓形形狀。圍繞該噴嘴的元件也可被切斷，以適應當一個或多個餵槽壁接近於澆孔口時的那些情況。該元件的主要表面可以是平坦的或不平坦的(它可為截頭圓錐形、波紋、傾斜)。該噴嘴可為一內噴嘴(例如，在該熔融鋼材流動以一滑閘閥來控制的情況下，或如果安裝配備有一管或校準噴嘴變換器的情況下)或一浸入式入口噴嘴或SEN(例如，在擋塊控制的情況下)。該冶煉容器或餵槽可配備有一個或多個的這類裝置。
因為圍繞該噴嘴的元件不必是圓形的，且因為該元件可被放置在一不具有圓形對稱的容器中，重要 的是將該元件與該噴嘴對準，且因此與該噴嘴的周圍對準，以在該噴嘴附近產生出所需的流動模式。因此，該元件及該噴嘴可構造為匹配的視覺指標或標記，當對準或放置接觸時，產生所期望之該元件及該噴嘴的幾何安排。替代地，該元件及該噴嘴可構造為匹配的幾何形狀，使得當這些幾何形狀配合時，產生所期望之該元件及該噴嘴的幾何安排，且產生所期望之該元件及該噴嘴與其周圍的結合。該等匹配的幾何形狀可為一匹配凹陷及突出、一匹配凹槽及唇部、一匹配樁及孔、一匹配缺口及突出、一匹配微凹及巨座、一匹配嶺脊及凹槽、對準的螺紋接收器、對準的鍵或凸刺接收器、或匹配的非圓形表面的幾何形狀，如橢圓形或多邊形表面。該元件的匹配幾何形狀可被放置在其主孔口內或放置在該基座的底部上。單獨考慮該元件在其主孔口內或在其基座上，可包含一個或多個定向幾何形狀，例如樁、孔、突出、凹陷、缺口、斜角、微凹、巨座、嶺脊、凹槽、用於螺絲或凸刺接頭的外殼、或形狀或螺紋接收器部分。該元件的孔的形狀可不對稱、橢圓形、或多角形。
根據本發明，該耐火元件包含一基座及一壁，該基座具有一主表面，該壁圍繞該主表面，周邊的上表面高於該耐火元件的基座表面。必須理解的是，該壁的上表面不需要是平坦的。它可為波浪狀或沿環周具有不同高度(例如在其環周接近一到容器橫向壁的區域較高，且在另一邊上較低)。該壁可包含一個或多個中斷或開口。該壁可在高度上包含階梯變化，或可在高度上 包含緩坡變化。該壁的上表面可具有一鋸齒形結構、一半圓形缺口結構、一方形缺口結構、一波浪狀結構、一半圓形突出結構，或可包含一個或多個階梯。該壁的上表面可與一向外突出的唇部連通。該壁的上表面可與一向內突出的唇部連通。在本發明某些實施例中，該壁的上表面可完全暴露，不與該塊體的任何其他元件直接接觸。該壁可包括複數個圓柱，或呈多邊形垂直投影形式的實心體，配置有從該基座上表面延伸且垂直於該基座上表面的縱向軸線。該壁可包含一個或多個端口；這些端口形狀可為圓形、橢圓形、或多角形，且該等端口可具有水平軸線、向上及向內導向的軸線、向下及向內導向的軸線、或不垂直於周邊外表面的軸線。該等端口可具有矩形、帶圓角之矩形、或藉由鈍角形成的底部。該等端口可構造成具有在周邊內與一圓互相相切的軸。該等端口可向內擴大，使得一端口的剖面在主孔口的方向增大。
在本發明實施例中具有一壁環周唇部，從該基座上表面到該壁環周唇部下表面的距離稱為「h」，且從該基座上表面到該壁上表面的距離，也表示為該裝置內部高度，稱為「H」，關係可為2h<H<3h，2h<H<4h，或2h<H<5h。
在本發明實施例中具有一壁環周唇部，從該基座上表面到該壁環周唇部下表面的距離稱為「h」，且從該壁外表面到該唇部最遠幅度的距離稱為「p」，關係可為0.1h<p<2h，0.2h<p<2h，或0.5h<p<2h。
在本發明實施例中具有一壁環周唇部，從該基座上表面到該壁上表面的距離，也表示為該裝置內部高度，稱為「H」，從該壁內表面到該壁內表面另一部分的最大內部水平尺寸稱為「2L」，關係可為H×tan(10°)+50mm<L<H×tan(70°)+15mm。
本發明該耐火元件的周邊可藉由特定的比例或比例範圍，採用一壁尺寸與該元件其他尺寸相關的形式。在某些實施例中，從該基座底部測量的該壁最大高度，與從該基座底部測量的該壁最小高度，具有一比例為1：1到6：1、或1.1：1到6：1。在某些實施例中，從該基座底部測量的該壁最大高度，與該基座的最大外部直徑，具有一比例為0.1：1到10：1、或0.1：1到8.5：1、或0.2：1到8.5：1、或0.5：1到8.5：1。在某些實施例中，該壁具有一最小厚度2mm、5mm、或10mm。在某些實施例中，該壁具有一最大厚度60mm、80mm、或100mm。在某些實施例中，該基座具有一最大厚度100mm或200mm。
本發明該耐火元件的周邊可採用一具有一外表面的壁的形式，該外表面具有一不是垂直的部分。在某些實施例中，此壁的整個外表面不是垂直的。在某些實施例中，當從該元件內部測量時，該整個壁與該主表面形成一鈍角。在某些實施例中，在該基座底部表面與該壁外表面之間的角度具有一角度位於45度到89.5度及90.5度到135度內的範圍。在某些實施例中，在該基座底部表面與該壁外表面之間的角度可圍繞該元件的環 周而變化。在特別實施例中，該元件具有非垂直的外壁，且該元件部分地包圍一具有一剖面的體積，該剖面隨著到該噴嘴的距離減小或隨著到該噴嘴所在之端口的距離減小而縮小尺寸。該等壁可採用一圓柱的形式，該圓柱具有一不垂直於水平面的軸。該等壁可採用一截頭圓錐形之徑向表面的形式，該徑向表面具有一凸出頂點於該主表面平面的下方。該等壁可採用一截頭圓錐形之徑向表面的形式，該徑向表面具有一凸出頂點於該主表面平面的上方。該壁上表面可在一平面中形成一圓形、橢圓形、或多邊形輪廓，該平面不平行於該主表面平面。
該耐火元件的壁內部與該耐火元件的基座可用一個或多個葉片來連通、分離、或在一起。可配置一葉片使得該葉片平面的投影與該噴嘴的軸相交。也可配置一葉片使得該葉片平面的投影沒有與該噴嘴的軸相交。該葉片可具有表面及邊緣；該等表面可為平面、可在一維或二維為彎曲、且可為光滑或具有凹槽。該等葉片的邊緣可為倒角或具有一鋸齒形結構、一半圓形缺口結構、一方形缺口結構、一波浪狀結構、一半圓形突出結構，或可包含一個或多個階梯。
該圍繞耐火元件可由一不透氣的材料製成，這種被視為不透氣的材料具有一低於20%(在使用時的溫度狀態下)的開口孔隙率(因此低於通常具有高於30%開口孔隙率的常見襯裡材料)。用於耐火材料，滲透率通常與孔隙率相關。因此一孔隙率低的材料具有一對氣體低的滲透率。藉由在構成該圍繞元件的材料中包含除氧 劑的材料(例如抗氧化劑)，可獲得這種低孔隙率。合適的材料是硼或碳化矽、或如矽或鋁的金屬(或其合金)。優選地，它們的用量不超過5重量%。替代地(或者此外)，產生熔融相的產物(例如B2O3)也可包含在構成該圍繞元件的材料中。優選地，它們的用量不超過5重量%。替代地或(此外)，形成更大量新相(無論是在溫度反應或效應下)及從而關閉該現有孔隙的材料也可包含在構成該預製元件的材料中。合適的材料包含氧化鋁及氧化鎂成分。從而，在圍繞該噴嘴的區域之鋼材可防止再氧化。在本發明某些實施例中，該耐火材料根據ASTM標準測試，具有一滲透率值小於15cD、20cD、25cD、或30cD。一種可使用的材料包含0.5至1%或1至5%的二氧化矽、0.005%至0.2%的二氧化鈦、75%至95%的氧化鋁、0.1%至0.5%的鐵(III)氧化物、0.5%至1%的氧化鎂、0.1%至0.5%的氧化鈉、0.25%至2%的氧化硼、及1%至10%的氧化鋯+氧化鉿。一合適的材料在燃燒值上可具有0至5%的損失。
該噴嘴或元件可由耐火氧化物(氧化鋁、氧化鎂、氧化鈣)製成且可以被等壓地壓下。在本發明中被視為不透氣的候選材料100克樣品在氬氣下放置在一爐中(溫和的(約1升/分鐘)氬氣氣流連續地吹入該爐)且溫度升溫至1000℃。然後溫度逐漸升高至1500℃(1小時內)，接著在1500℃離開2小時。然後測量在1000℃與1500℃之間樣品的重量損失。對於合格作為不透氣的材料，這重量損失必須低於2%。因此，不僅夾雜物或再氧化產物 不能到達該噴嘴，而且此外它們不能在該噴嘴或該元件中形成。因此這種特殊的組合提供一協同效應，根據此效應可澆鑄一完美無夾雜物且無再氧化產物的鋼材。
構成該元件的材料可從三種不同類別的材料中選擇：a)不含碳的材料；b)基本上由非還原耐火氧化物與碳組合所構成的材料；或c)包含與將與所產生的一氧化碳反應的元件之材料。
該所選材料可具有上列二個或三個類別的特性。
第一類別合適材料的例子是氧化鋁、莫來石、氧化鋯、或氧化鎂基底的材料(尖晶石)。
第二類別合適的材料，例如，純鋁與碳之組成物。特別是，這些組成物應包含非常少量的二氧化矽或常見雜質，它們通常在二氧化矽(鈉或鉀的氧化物)中被發現。特別是，二氧化矽及其常見雜質應保持低於1.0重量%，優選地低於0.5重量%。
第三類別合適的材料包含，例如，能與一氧化碳結合以形成一金屬氧化物及無碳之自由金屬。矽及鋁都適合用於這種應用。這些材料也可或替代地包含能與氧化合物反應的碳化物或氮化物(例如矽或碳化硼)。
所選的材料可屬於該第二或第三類別，或該第二及第三類別。
構成在使用溫度不產生一氧化碳層的一合適材料可包含60至88重量%的氧化鋁、10至20重量%的 石墨、及2至10重量%的碳化矽。這種材料包含氧吸氣劑，如非氧化物物質如氮化物或碳化物，或非還原氧化物，其可與任何存在的氧反應。
本發明的該圍繞元件包含一主孔口，適用於與一噴嘴外表面的至少一部分、一圍繞該主孔口的基座、及一圍繞該主要表面且從該主要表面延伸的壁匹配囓合。優選地，該圍繞耐火元件由一不透氣的材料製成。從而，防止在圍繞該噴嘴的區域中鋼材再氧化。例如，在此末端之一特別合適的組合物係基本上包含至少75重量%的Al2O3之高氧化鋁材料、少於1.0重量%的SiO2、少於5重量%的C，在使用溫度時構成耐火氧化物或氧化物化合物的剩餘物不能藉由鋁(特別是鋁溶解在熔融鋼材中)而減少(例如氧化鈣及/或尖晶石)。一特別合適的材料係VESUVIUS UK Ltd.提供的可澆鑄CRITERION 92S。該材料係一高鋁低水泥的可澆鑄材料，以電熔鋁鎂尖晶石強化。此產品的典型分析如下：
在一第二特徵中，該耐火元件或塊體的組成包含一抗氧化鋁沉積的樹脂粘合材料。該樹脂粘合材料包含至少一個耐火骨材、一可固化樹脂粘合劑、及一反應性金屬。該可固化性樹脂粘合劑應被固化但不應為可 燃。通常情況下，該粘合劑係有機體且通常該粘合劑係一碳樹脂，例如一源自瀝青或樹脂的含碳粘合劑。該粘結劑可包含其他類型的有機粘合劑，如酚類化合物、澱粉、或木硫質。在固化後，粘合劑存在的量必須使未燒製部件有足夠的生坯強度。固化通常發生在約300℃以下。熱處理包含在燒製溫度以下加熱該部件，如在約800℃以下，或在約500℃以下。該粘合劑的量將根據例如所使用粘合劑的類型及所需的生坯強度而變化。典型地一粘合劑的足夠量從1至10重量%。
在一根據該第二特徵的組合物中，反應性金屬包含鋁、鎂、矽、鈦、及混合物和它們的合金。合宜地，反應性金屬可為粉末、薄片、及類似物來添加。該反應性金屬應存在足夠的量，使得在熔化鋼材的澆鑄期間，該反應性金屬清除任何可擴散到該耐火製品或從該耐火製品散發的氧氣。從而限制氧氣與該熔化鋼材或其他耐火組件接觸或反應。各種因素影響足以清除氧氣之反應性金屬的量。例如為了清除釋放的氧氣，氧釋放化合物的夾雜物，如二氧化矽，需要更高階的反應性金屬。顯然，以惰性氣體覆蓋的樹脂粘合材料將減少氧氣到達該樹脂粘合材料的量，因此該反應性金屬的所需量將減小。限制該反應性金屬的量包含成本及危害性。反應性金屬通常比耐火骨材更昂貴，且特別用粉末時，反應性金屬在加工期間可能爆炸。一典型反應性金屬的量從0.5至10重量%。
重要的是，根據該第二特徵的耐火材料直到使用時能固化但不能點燃。使用包含預熱或澆鑄操作。點燃往往會破壞該樹脂粘合劑及反應性金屬組件。在點燃期間，該粘合劑可氧化，從而降低了該製品的物理完整性，且該反應性金屬可形成不良化合物。例如，在還原條件或氧化鋁在標準大氣下時，鋁金屬可起反應以形成碳化鋁。一包含碳化鋁的製品容易水合作用及破壞性膨脹。氧化鋁不能抑制且實際上可加速氧化鋁的沉積。在任一情況下，失去鋁金屬的有益效果。
根據該第二特徵的耐火組成物也可包含碳、穩定的碳化物、硼酸鹽、及抗氧化劑。碳往往以石墨添加，以減少透過鋼材的熱衝擊及潤濕性。可存在的碳量至多30重量%，但優選地存在量低於約15重量%。穩定的碳化物包含碳化物不形成不穩定的氧化物、不形成具有低蒸汽壓的氧化物、或不形成透過氧化鋁、二氧化鈦、或其他稀土氧化物減少的氧化物，在鋼材處理中使用其他稀土如，例如，鈰及鑭。穩定碳化物的例子包含碳化鋁、碳化鈦、及碳化鋯。應注意的是確保在使用前該碳化物不會水合作用。在預熱期間碳化物可能在該製品中造成裂開。
如在根據該第二特徵描述的組合物中所用的術語，抗氧化劑包含任何優先與氧氣反應的耐火化合物，從而使該熔融鋼材無法獲得氧氣。硼化合物是特別有效的且包含硼元素、氧化硼、氮化硼、碳化硼、硼砂、及它們的混合物。硼化合物作用為助熔劑及抗氧化劑二 者。作為助熔劑，硼化合物降低孔隙率及滲透率，從而創建對氧氣擴散及進入的物理屏障。作為抗氧化劑，硼化合物清除游離氧，使該鋼材無法獲得氧氣。就像反應性金屬，當保持其固化效用的同時，燃燒破壞抗氧化劑。抗氧化劑的有效量將取決於所選擇的。通常一硼化合物的有效量從0.5至7重量%。
根據又另一型態，本發明係涉及一用於鋼材連續鑄造的製作方法，該方法包含澆注該熔化鋼材通過一如上方所述的元件。本發明係也涉及在該鋼材的澆鑄中使用一元件。
本發明的實施例元件包含：
10‧‧‧耐火元件或塊體
12‧‧‧基座
13‧‧‧主孔口或排出孔
14‧‧‧基座上表面
15‧‧‧基座下表面
16‧‧‧壁
17‧‧‧壁內表面
18‧‧‧壁上表面
19‧‧‧壁外表面
20‧‧‧壁環周唇部
22‧‧‧壁環周唇部上表面
24‧‧‧壁環周唇部下表面
25‧‧‧壁環周唇部外表面
26‧‧‧唇部屏蔽體積
28‧‧‧操作屏蔽高度
30‧‧‧操作屏蔽體積
32‧‧‧內部高度
34‧‧‧唇部水平突出距離
36‧‧‧唇部屏蔽體積高度
37‧‧‧內體積
38‧‧‧內體積最大水平尺寸
40‧‧‧主孔口中心軸
42‧‧‧壁上表面仰角
44‧‧‧WDD(壁仰角頂點位移距離)
46‧‧‧唇部下表面仰角
48‧‧‧LDD(唇部下表面仰角頂點位移距離)
50‧‧‧擋塊體積
52‧‧‧內部鰭片
54‧‧‧內部階梯
55‧‧‧擋塊鼻部/塊體座落處接觸點的切線
56‧‧‧入口流動開口
57‧‧‧入口流動開口初始垂直面
58‧‧‧入口流動開口外壁
59‧‧‧入口流動開口外壁凹部
60‧‧‧導流板
62‧‧‧角度面
64‧‧‧倒圓或圓角
65‧‧‧入口流動開口出口
67‧‧‧中間入口流動開口地板層
68‧‧‧中間入口流動開口出口
70‧‧‧柱狀壁組件
現在本發明參照附圖描述，其中第1圖係一構造成一塊體之耐火元件透視圖；第2圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部的耐火元件立體圖；第3圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部的耐火元件立體表示的剖面圖；第4圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部的耐火元件垂直剖面圖；第5圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部及二個內部鰭片的耐火元件立體表示；第6圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部及四個內部鰭片的耐火元件立體表示； 第7圖係一具有一階梯狀內表面之環周壁及二個內部鰭片的耐火元件立體表示；第8圖係一具有一階梯狀內表面之環周壁及四個內部鰭片的耐火元件立體表示；第9圖係一具有一階梯狀內表面之環周壁及六個內部鰭片的耐火元件立體表示；第10圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部及一階梯狀內表面之環周壁的耐火元件剖面表示；第11圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部及一階梯狀內表面之環周壁的耐火元件立體表示；第12圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部、一階梯狀內表面之環周壁、及有角度入口流動開口的耐火元件立體圖的剖面；第13圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部、一階梯狀內表面之環周壁、及六個有角度入口流動開口的耐火元件立體圖；第14圖係一具有一位於一環周壁頂部與底部之間之向外唇部、一階梯狀內表面之環周壁、及六個有角度入口流動開口的耐火元件頂視圖；第15圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件頂視圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間； 第16圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件立體圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間；第17圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件立體圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間；第18圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件頂視圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間，該等流動導向體係直接與該環周壁的內側連通；第17圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件頂視圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間，該等流動導向體係直接與該環周壁的內側連通；第18圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件頂視圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間，該等流動導向體係直接與該環周壁的內側連通；第19圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件立體 圖，該等流動導向體在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間，該等流動導向體係直接與該環周壁的內側連通；第20圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件頂視圖，其中該開口底部與該開口壁的交點係斜角或圓角的，該等流動導向體從在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間的環周壁向內突出；第21圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件頂視圖，其中該開口底部與該開口壁的交點係斜角或圓角的，該等流動導向體從在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間的環周壁向內突出；第22圖係具有一從一環周壁延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件立體圖，其中該開口底部與該開口壁的交點係斜角或圓角的，該等流動導向體從在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間的環周壁向內突出；第23圖係具有一從一環周壁的該環周壁頂部與底部之間延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件立體圖，其中該開口底部與該開口壁的交點係斜角或圓角的，該等流動導向體從在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間的環周壁向內突出； 第24圖係具有一從一環周壁的該環周壁頂部與底部之間延伸向外之向外唇部、入口流動開口、及流動導向體的耐火元件立體圖，其中該開口底部與該開口壁的交點係斜角或圓角的，該等流動導向體從在該等入口流動開口與該元件之主垂直軸之間的環周壁向內突出；第25圖係一耐火元件頂視圖，其中該環周壁採用複數個圓柱的形式；及第26圖係一耐火元件立體圖，其中該環周壁採用複數個圓柱的形式。
第1圖係本發明一耐火元件10某些組件的剖面表示，顯示其幾何關係。耐火元件10包含一基座12，該基座描述為圓柱形狀，且具有一從一基座上表面14到一基座下表面15而穿過該基座的主孔口13。一壁16從基座上表面14向上延伸。壁16係圍繞該基座12的周邊配置。該壁具有一壁內表面17、一壁上表面18、及一壁外表面19。一壁環周唇部20從壁16向外延伸。該壁環周唇部20具有一壁環周唇部上表面22、一壁環周唇部下表面24、及一壁環周唇部外表面25。在第1圖表述中，壁上表面18及壁環周上表面22係同一平面。屏蔽體積26係位於該壁環周下表面24下方的體積。操作屏蔽高度28係在基座上表面14與壁環周唇部下表面24之間的距離。操作屏蔽體積30係位於該壁環周唇部下表面24下方而在該基座上表面14平面與該壁環周唇部下表面 24平面之間的體積。內部高度32係在基座上表面14與壁上表面18之間的距離。壁環周唇部突出距離34係在壁外表面19與壁環周唇部20的最遠徑向幅度之間的距離。屏蔽高度36係在該基座下表面15平面與該壁環周唇部下表面24平面之間的距離。一內體積37係部分地藉由壁內表面17及基座上表面14界定。
第2圖描述一耐火元件10具有一位於一環周壁的頂部與底部之間向外延伸的壁環周唇部。該元件具有一基座12，主孔口13垂直地穿過該基座。壁16從基座12的基座上表面14向上延伸。該壁具有一壁上表面18。壁環周唇部20從壁16徑向向外延伸。該壁環周唇部20具有一壁環周唇部上表面22。在第2圖所呈現者，壁上表面18及壁環周唇部上表面22位於不同的水平面。該壁環周唇部下表面24平面係位於該基座上表面14平面上方和該基座下表面15平面上方。
第3圖描述一耐火元件10具有一位於一環周壁的頂部與底部之間向外延伸的壁環周唇部20。該元件具有一基座12，主孔口13垂直地穿過該基座。壁16從基座12的基座上表面14向上延伸。該壁具有一壁上表面18。壁環周唇部20從壁16徑向向外延伸。該壁環周唇部20具有一壁環周唇部上表面22及一壁環周唇部下表面24。在第3圖中所呈現的，壁上表面18及壁環周唇部上表面22位於不同的水平面。該壁環周唇部下表面24平面係位於該基座上表面14平面上方和該基座下表面15平面上方。高度「H」係在基座上表面14與壁上表 面18之間的距離，且相當於內部高度32。高度「h」係在該基座上表面14平面與該壁環周唇部下表面24平面之間的距離，且相當於操作屏蔽高度28。從壁外表面19之該壁環周唇部22徑向向外的幅度表示為「p」，相當於唇部水平突出距離34。
第4圖描述一耐火元件10具有一位於一環周壁的頂部與底部之間向外延伸的壁環周唇部20。該元件具有一基座12，主孔口13垂直地穿過該基座。壁16從基座12的基座上表面14向上延伸。該壁具有一壁內表面17及一壁上表面18。壁環周唇部20從壁16徑向向外延伸。該壁環周唇部20具有一壁環周唇部下表面24。在第4圖表述中，內最大水平尺寸38代表在壁內表面17一個部分與壁內表面17另一部分之間在水平面中的最大直線距離，且也稱為「2×L」或「2L」。主孔口中心軸40縱向或垂直穿過該主孔口13。一第一條線在(a)壁內表面17和壁上表面18的交點與(b)於該基座上表面14平面中從主孔口中心軸40朝向(a)位移一距離44(稱為「WDD」)的一個點之間，一第二條線由在該基座上表面14平面上之該第一條線的垂直投影所形成，元件壁內仰角42係描述為在該第一線及該第二線交點之頂點所形成的角度。WDD 44的值可以是15mm。WDD也可代表主孔口13的最小半徑。一第一條線在(a)壁環周該唇部外表面25和壁環周唇部下表面24的交點與(b)於該基座上表面14平面中從主孔口中心軸40朝向(a)位移一距離48(稱為「LDD」)的一個點之間，一第二條線由在該基座 上表面14平面上之該第一條線的垂直投影所形成，唇部下表面仰角46係描述為在該第一線及該第二線交點之頂點所形成的角度。LDD的值可以是50mm，或可以是在與基座上表面14的交點處的主孔口13之半徑值，或可以是主孔口13的最小半徑值。
在本發明某些實施例中，元件壁內仰角42可以是小於60度的非零值，範圍從60度到5度、從60度到10度、從60度到20度、從50度到5度、從50度到10度、或從50度到20度。
在本發明某些實施例中，唇部下表面仰角46值的範圍可從10度到80度、15度到80度、10度到60度、10度到50度、或10度到45度。
在本發明某些實施例中，內部高度32(「H」)與L(內水平最大尺寸38的一半長度)的關係可藉由關係式H×tan(10°)+LDD<L<H×tan(70°)+WDD
2×L係本發明裝置的最大內部水平尺寸。對於一具有一圓柱形外表的裝置，2×L代表直徑，但是該裝置也可具有一正方形、矩形、八角形、三角形、或其它多邊形的內部、或一橢圓形內部。
擋塊體積50代表該裝置的內體積，在使用時一擋塊可佔有該體積。在顯示的配置中，該擋塊桿採用以一半球形實心體與一圓柱形實心體的形式，藉由各自圓形表面之接觸使該圓柱形實心體與半球形實心體結合。
第5圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，其中一對內部鰭片52從壁內表面17向內延伸入該內體積。內部鰭片52與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以減少在該塊體10的內體積中形成漩渦。壁環周唇部20係位移於該壁上表面18平面下方，且係位移於該基座下表面平面上方及在該基座上表面平面上方。在各種實施例中，一本發明的塊體可包含1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、或12個內部鰭片。
第6圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，其中四個內部鰭片52從壁內表面17向內延伸入該內體積。內部鰭片52與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以減少在該塊體10的內體積中形成漩渦。壁環周唇部20的配置使得該壁環周唇部上表面22平面在該壁上表面18平面下方，且該壁環周唇部下表面平面在該基座下表面平面上方及在該基座上表面平面上方。在此實施例中，所有的熔融金屬必須在壁環周唇部上表面22上方且在壁上表面18上方流動以離開通過該主孔口。壁上表面18係塊體10的最上部分或最上層。
第7圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，其中二個內部鰭片52向內延伸入該內體積。該描述的實施例包含三層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。該等階梯可形成為直角、鈍角、或可採用獨立凸塊的形式。在某些實施例中，需要複數個階梯。在此實施例中，該壁環周唇部20的壁環周唇部上表面22與壁上表面18位於同一平面。
第8圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，其中四個內部鰭片52向內延伸入該內體積。該描述的實施例包含四個在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。鰭片52及階梯54與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以使形成的漩渦最小化，且在流動通過該主孔口中產生渦流以減少沉積。該壁環周唇部20的上表面22係從壁16的壁上表面18平面向下位移。該壁環周唇部的下表面係從該基座下表面向上位移。在此實施例中，所有的熔融金屬必須在壁環周唇部上表面22上方且在壁上表面18上方流動以離開通過該主孔口。壁上表面18係塊體10的最上部分或最上層。在各種實施例中，一本發明的塊體可包含1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、或16層的內部階梯54。
第9圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，其中六個內部鰭片52向內延伸入該內體積。該描述的實施例包含四層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。鰭片52及階梯54與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以使形成的漩渦最小化，且在流動通過該主孔口中產生渦流以減少沉積。該壁環周唇部20的上表面22係從壁16的壁上表面18平面向下位移。該壁環周唇部的下表面係從該基座下表面向上位移。在此實施例中，所有的熔融金屬必須在壁環周唇部上表面22上方且在壁上表面18上方流動以離開通過該主孔口。壁上表面18係塊體10的最上部分或最上層。
第10圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，包含複數層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。切線55係一條與一佔有擋塊體積50之擋塊鼻部表面及在該塊體10的內體積中該擋塊的座落處相切的線。在本發明各種實施例中，該切線與一內部階梯54、複數個內部階梯54、或至少三個內部階梯54相交。所有的內部階梯54位於基座上表面14那層上方的水平。基座上表面14與該用以模鑄澆鑄槽之餵槽的入口在同一水平，塊體10在此被用於一餵槽中。在這樣的配置中，該用以模鑄澆鑄槽的餵槽起始於表面14的水平或下方。在本發明的一塊體中呈現一階梯或複數個階梯54；此配置係不同於在一用以模鑄澆鑄槽之餵槽的座落處中使用單一階梯。
第11圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，包含複數層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。鰭片52及階梯54與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以使形成的漩渦最小化，且在流動通過該主孔口13中產生渦流以減少沉積。壁環周唇部20係位移於該壁上表面18平面下方，且係從基座下表面15平面位移。
第12圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，包含複數層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。鰭片52及階梯54與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以使形成的漩渦最小化，且在流動通過該主孔口13中產生渦流以減少沉積。一壁環周唇部20從該塊體10之壁的外部水平地向外延伸。入口流動開口56在它們入口處具有一相當於壁環周唇部上表面22的下表面。入口流動開口 56在水平面中藉由相鄰內部鰭片52的表面來界定。入口流動開口56與該裝置或塊體的內部流體連通，且直接流到內部階梯54。入口流動開口56在水平面中向內擴大。在某些實施例中，入口流動開口56具有一具有一初始垂直面57的壁，該初始垂直面包含於一與擋塊體積50不相交的平面中。此幾何形狀使圍繞該擋塊的旋轉流動最大化。
第13圖描述一耐火元件或塊體10的實施例，包含複數層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。鰭片52及階梯54與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以使形成的漩渦最小化，且在流動通過該主孔口中產生渦流以減少沉積。一壁環周唇部20從該塊體10之壁的外部水平地向外延伸。入口流動開口56在它們入口處具有一相當於壁環周唇部上表面22的下表面。入口流動開口56在水平面中藉由相鄰內部鰭片52的表面來界定。入口流動開口56與該裝置或塊體的內體積37流體連通，且直接流到內部階梯54。入口流動開口56在水平面中向內擴大。在某些實施例中，入口流動開口56具有一具有一初始垂直面57的壁，該初始垂直面包含於一與擋塊體積50不相交的平面中。此幾何形狀使圍繞該擋塊的旋轉流動最大化。在此實施例中，入口流動開口56具有一外壁58，該外壁具有一入口流動開口外壁凹部59。在某些實施例中，該入口流動開口外壁凹部59形成的角度範圍從90度到160度、從190度到150度、從90度到140度、從90度到130度、從90度到120度、從90度到 110度、從100度到160度、從100度到150度、從100度到140度、從100度到130度、從100度到120度、或從100度到110度。
第14圖係一耐火元件或塊體10的實施例頂視圖，包含複數層在該壁內表面之面中形成的內部階梯54。鰭片52及階梯54與一佔有擋塊體積50的擋塊配合，以使形成的漩渦最小化，且在流動通過該主孔口中產生渦流以減少沉積。一壁環周唇部20從該塊體10之壁的外部水平地向外延伸。入口流動開口56在它們入口處具有一相當於壁環周唇部上表面22的下表面。入口流動開口56在水平面中藉由相鄰內部鰭片52的表面來界定。入口流動開口56與該裝置或塊體的內體積成流體連通，且直接流到內部階梯54。入口流動開口56在水平面中向內擴大。在某些實施例中，入口流動開口56具有一具有一初始垂直面57的壁，該初始垂直面包含於一與擋塊體積50不相交的平面中。在第14圖中，包含壁初始垂直面57的該平面係以一虛線表示，該平面與擋塊佔有體積50不相交。此幾何形狀使圍繞該擋塊的旋轉流動最大化。在此實施例中，入口流動開口56具有一具有一入口流動開口外壁凹部59的外壁58。入口流動開口外壁凹部59使通過入口流動開口56之流動的外側部分向內地改變方向。在此實施例中，入口流動開口56的主軸在水平面中不與該擋塊體積的任何水平半徑在同一直線。這種結構導致在塊體10的內體積之內旋轉流動。
第15圖係本發明一塊體10的實施例頂視圖。在此實施例中，壁從基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁上表面18係可見的。一壁環周唇部從該壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與該擋塊體積50的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。該不是成直角的角度範圍可從91°到179°、95°到175°、100°到170°、100°到160°、100°到150°、100°到140°、115°到155°、或120°到150°。該導流板也可具有使通過入口流動開口之流動改變方向成沿擋塊體積50水平半徑的環周方向的其他任何幾何形狀。
第16圖係在第15圖中說明之塊體10的實施例的立體表示。在此實施例中，壁16從基座12的基座上表面14向上延伸；在此視圖中壁內表面17、壁上表面18、及壁外表面19係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座12。一壁環周唇部20從壁16向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與該塊體10之縱軸的一水平半徑在 同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。
第17圖係在第15圖中說明之塊體10的實施例的另一立體表示。在此實施例中，壁16從基座12的基座上表面14向上延伸；在此視圖中壁內表面17、壁上表面18、及壁外表面19係可見的。一壁環周唇部20從壁16向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。壁上表面18及壁環周唇部上表面22在同一平面。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與該塊體10之縱軸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。該入口流動開口56的地板層是平的，且與該等分別的入口流動開口56的壁形成直角。
第18圖係本發明一塊體10的實施例頂視圖。在此實施例中，壁從基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁上表面18係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座12。一壁環周唇部20從該壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22 係可見的。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面的一部分相交於沿著一個在水平面中有銳角頂點的線段，且相交於沿著另一個在水平面中有鈍角頂點的線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的交點所形成。
第19圖係在第18圖中顯示之本發明塊體10的實施例的立體表示。在此實施例中，壁16從基座12的基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁內表面17、壁上表面18、及壁外表面19係可見的。一壁環周唇部20從壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60 包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面的一部分相交於沿著一個在水平面中有銳角頂點的線段，且相交於沿著另一個在水平面中有鈍角頂點的線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的交點所形成。
第20圖係本發明一塊體10的實施例頂視圖。在此實施例中，壁從基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁上表面18係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。一壁環周唇部20從該壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面的一部分相交於沿著一個在水平面中有鈍角頂點的垂直線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的 交點所形成。在該實施例中顯示每個導流板60也具有一與壁內表面的一部分的交點，該壁內表面在水平面中以一凹形曲線來描述。此彎曲表面使靠近壁內表面17的流動改方向朝向塊體10的內體積。該等入口流動開口56的地板係水平的，且在圓角或倒圓64處與該等入口流動開口56的壁接合。在其他實施例中，該等入口流動開口56的地板係水平的，且透過斜角與該等入口流動開口56的壁接合。入口流動開口出口65係該入口流動開口的地板與該基座上表面的交界處，且可採用階梯的形式。
第21圖係在第20圖中顯示之本發明塊體10的實施例立體圖。在此實施例中，壁16從基座12的基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁內表面17、壁上表面18、及壁外表面19係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。一壁環周唇部20從該壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。該壁及該壁環周唇部被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面 的一部分相交於沿著一個在水平面中有鈍角頂點的垂直線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的交點所形成。在該實施例中顯示每個導流板60也具有一與壁內表面的一部分的交點，該壁內表面在水平面中以一凹形曲線來描述。此彎曲表面使靠近壁內表面17的流動改方向朝向塊體10的內體積。該等入口流動開口56的地板係水平的，且在圓角或倒圓64處與該等入口流動開口56的壁接合。在其他實施例中，該等入口流動開口56的地板係水平的，且透過斜角與該等入口流動開口56的壁接合。
第22圖係本發明一塊體10的實施例頂視圖。在此實施例中，壁從基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁上表面18係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。一壁環周唇部20從該壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。在此實施例中壁上表面18及壁環周唇部上表面22不在同一平面；壁環周唇部上表面22係在壁上表面18水平的下方。在壁環周唇部上表面22上方的壁的一頂部部分被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面 中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面的一部分相交於沿著一個在水平面中有鈍角頂點的垂直線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的交點所形成。在該實施例中顯示每個導流板60也具有一與壁內表面的一部分的交點，該壁內表面在水平面中以一凹形曲線來描述。此彎曲表面使靠近壁內表面17的流動改方向朝向塊體10的內體積。該等入口流動開口56的地板係水平的，且在圓角或倒圓64處與該等入口流動開口56的壁接合。在其他實施例中，該等入口流動開口56的地板係水平的，且透過斜角與該等入口流動開口56的壁接合。入口流動開口出口65係位於具有一中間入口流動開口地板層67之入口流動開口的地板交界處，且可採用階梯的形式。在說明的實施例中，該等中間入口開口地板層67與角度面62及壁內表面17的交點係呈圓角或倒圓64的形式。中間體積出口68係位於中間入口流動開口地板層67之地板及基座上表面14的交界處，可採用階梯的形式。
第23圖係在第22圖中說明之本發明塊體10的實施例立體圖。在此實施例中，壁從基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁內表面17、壁上表面18、及壁外表面19係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。一壁環周唇部20從該壁向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。 在此實施例中壁上表面18及壁環周唇部上表面22不在同一平面；壁環周唇部上表面22係在壁上表面18水平的下方。在壁環周唇部上表面22上方的壁的一頂部部分被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面的一部分相交於沿著一個在水平面中有鈍角頂點的垂直線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的交點所形成。在該實施例中顯示每個導流板60也具有一與壁內表面的一部分的交點，該壁內表面在水平面中以一凹形曲線來描述。此彎曲表面使靠近壁內表面17的流動改方向朝向塊體10的內體積。該等入口流動開口56的地板係水平的，且在圓角或倒圓64處與該等入口流動開口56的壁接合。在其他實施例中，該等入口流動開口56的地板係水平的，且透過斜角與該等入口流動開口56的壁接合。入口流動開口出口65係位於具有一中間入口流動開口地板層之入口流動開口的地板交界處，且可採用階梯的形式。該中間入口流動開口地板層可相對於該入口流動開口的地板降低。
第24圖係在第22圖中描述之本發明塊體10的實施例另一立體圖。在此實施例中，壁16從基座上表面14向上延伸，且在此視圖中壁內表面17、壁上表面18、及壁外表面19係可見的。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。一壁環周唇部20從壁16向外凸出；在此視圖中壁環周唇部上表面22係可見的。在此實施例中壁上表面18及壁環周唇部上表面22不在同一平面；壁環周唇部上表面22係在壁上表面18水平的下方。在壁環周唇部上表面22上方的壁16的一頂部部分被入口流動開口56環周地中斷。在此實施例中，每個入口流動開口56的主軸在水平面中與從該塊體10之中心垂直軸延伸的一水平半徑在同一直線。每個入口流動開口56的主軸在水平面中與一從基座上表面14向上延伸的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在描述的實施例中，每個導流板60與壁內表面17的一部分直接連通。在該實施例中顯示每個導流板60與壁內表面的一部分相交於沿著一個在水平面中有鈍角頂點的垂直線段。該鈍角係藉由一具有角度面62之入口流動開口56的壁的交點所形成。在該實施例中顯示每個導流板60也具有一與壁內表面的一部分的交點，該壁內表面在水平面中以一凹形曲線來描述。此彎曲表面使靠近壁內表面17的流動改方向朝向塊體10的內體積。該等入口流動開口56的地板係水 平的，係與壁環周唇部上表面22在同一平面，且在圓角或倒圓64處與該等入口流動開口56的壁接合。在其他實施例中，該等入口流動開口56的地板係水平的，且透過斜角與該等入口流動開口56的壁接合。入口流動開口出口65係位於具有一中間入口流動開口地板層67之入口流動開口的地板交界處，且採用階梯的形式。在說明的實施例中，該等中間入口開口地板層67與角度面62及壁內表面17的交點係呈圓角或倒圓64的形式。中間體積出口68係位於中間入口流動開口地板層67之地板及基座上表面14的交界處，且採用階梯的形式。入口流動開口56係經由入口流動開口出口65而與在中間入口地板層67上方的體積成流體連通；在中間入口地板層67上方的體積經由中間入口流動開口出口68而與在基座上表面14上方的體積成流體連通。
第25圖係本發明一塊體10的實施例頂視圖。在此實施例中，從基座上表面14向上延伸的壁採用複數個圓柱或柱狀壁組件70的形式，該等柱狀表面壁組件圍繞該基座上表面14的環周配置。該等柱狀表面壁組件70的上表面代表壁上表面18。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。入口流動開口56係藉由在相鄰柱狀壁組件70之間的空間所形成。此實施例使用複數個柱狀壁組件70。例如，可使用2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、20、21、22、23、或24個柱狀壁組件。導流板60從在該等柱狀壁組件70與該塊體10中心垂直軸之間 的內體積塊體10中的基座上表面14向上延伸。在水平面中穿過一入口流動開口56中點的一直線與一相對應的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在該描述的實施例中，導流板60採用在徑向表面上具有複數個角度面的圓柱或柱的形式。
第26圖係在第25圖中描述之塊體10的實施例立體圖。在此實施例中，從基座上表面14向上延伸的壁採用複數個圓柱或柱狀壁組件70的形式，該等柱狀表面壁組件圍繞該基座上表面14的環周配置。該等柱狀表面壁組件70的上表面代表壁上表面18。主孔口13垂直穿過在基座上表面14與基座下表面之間的基座。入口流動開口56係藉由在相鄰柱狀壁組件70之間的空間所形成。此實施例使用複數個柱狀壁組件70。導流板60從在該等柱狀壁組件70與該塊體10中心垂直軸之間的內體積塊體10中的基座上表面14向上延伸。在水平面中穿過一入口流動開口56中點的一直線與一相對應的導流板60相交。在面向一相對應的入口流動開口56的方向中，每個導流板60包含一角度面62，該角度面具有一與該相對應入口流動開口的主軸在水平面中不是成直角的角度。在該描述的實施例中，導流板60採用在徑向表面上具有複數個角度面的圓柱或柱的形式。
本發明的許多變化及修改是可能的。因此，可以理解的是在下面請求項的範圍內，本發明可被以不同於所具體描述的方式實施。
10‧‧‧耐火元件或塊體
12‧‧‧基座
13‧‧‧主孔口或排出孔
14‧‧‧基座上表面
15‧‧‧基座下表面
16‧‧‧壁
17‧‧‧壁內表面
18‧‧‧壁上表面
19‧‧‧壁外表面
20‧‧‧壁環周唇部
22‧‧‧壁環周唇部上表面
24‧‧‧壁環周唇部下表面
26‧‧‧唇部屏蔽體積
28‧‧‧操作屏蔽高度
30‧‧‧操作屏蔽體積
32‧‧‧內部高度
34‧‧‧唇部水平突出距離
36‧‧‧唇部屏蔽體積高度
37‧‧‧內體積

Claims (17)

  1. 一種用於從一耐火容器控制流動的塊體，包含：a)一配置圍繞於一具有一主軸之澆鑄槽的基座，該基座具有一基座上表面及一基座下表面，該基座上表面具有一基座上表面環周；b)一從該基座上表面之環周延伸的壁，該壁具有一壁上表面；其中該塊體包含一從群組選取的設計特徵，該群組由下列組成：a)一第一設計特徵，其中該壁包含一具有一頂部及一底部的環周外表面，且其中該塊體進一步包含一從該壁之該環周外表面徑向向外延伸的壁環周唇部；b)一第二設計特徵，其中該壁包含一具有一頂部及一底部的環周內表面，且其中該塊體進一步包含一從該壁之該環周內表面向內延伸的內部鰭片；c)一第三設計特徵，該壁包含一具有一頂部及一底部的環周內表面，其中該壁環周內表面包含複數個階梯，且其中該壁環周內表面具有一相對於該澆鑄槽主軸的半徑，該半徑以朝向該壁環周內表面的底部而遞減；d)一第四設計特徵，其中該壁包含一具有一頂部及一底部的圓周外表面，其中該壁包含一具有一頂部及一底部的環周內表面，且其中該壁包 含至少一個從該壁環周外表面延伸至該壁環周內表面的入口流動開口；以及e)一第五設計特徵，其中該壁包含複數個從該基座上表面之環周向上延伸的屏障，且其中每個屏障係在每一側與一環周地相鄰屏障成環周地相鄰。
  2. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第一設計特徵，其中該壁環周唇部係遠離該壁之該環周外表面的底部，且其中一唇部屏蔽體積係由該壁環周唇部的下方和在該壁之該環周外表面的外部所界定。
  3. 如請求項2之塊體，其中該壁環周唇部係遠離該壁之該環周外表面的該頂部。
  4. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第四設計特徵，且其中該至少一個入口流動開口向上延伸至該壁上表面。
  5. 如請求項4之塊體，其中該至少一個入口流動開口在水平面中包含一主軸，其中該塊體進一步包含至少一個導流板，該導流板從該基座上表面向上延伸，且配置在該入口流動開口與該澆鑄槽的該主軸之間。
  6. 如請求項5之塊體，其中該至少一個導流板包含一角度面，該角度面在水平面中面向該至少一個入口流動開口的主軸，其中該至少一個入口流動開口的主軸與該導流板的角度面相交，且其中該至少一個入口流動開口的主軸與該導流板的角度面的交點在水平面中具有一不是成90度的角度。
  7. 如請求項5之塊體，其中該至少一個入口流動開口的主軸在水平面中不與該澆鑄槽的主軸相交。
  8. 如請求項5之塊體，其中該至少一個導流板係與該壁環周內表面連通。
  9. 如請求項8之塊體，其中該壁之該環周內表面相對於該澆鑄槽的主軸係凹形，其中該至少一個導流板包含一與該壁之該環周內表面連通的表面，且其中與該壁之該環周內表面連通的該導流板表面相對於該澆鑄槽的主軸係凸形。
  10. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第五設計特徵，其中每一對環周地相鄰屏障界定一入口流動開口，且其中每個入口流動開口包含一中心垂直平面，其中該塊體進一步包含至少一個從該基座上表面向上延伸且配置在該入口流動開口與該澆鑄槽的主軸之間的導流板，且其中該至少一個導流板包含一角度面，該角度面在面向一入口流動開口的中心平面的一小平面中，其中該入口流動開口的該中心垂直平面與該導流板的小平面相交，且其中該入口流動開口的該中心垂直平面與該小平面的交點具有一不是成90度的角度。
  11. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第一設計特徵，且其中該塊體包含該第三設計特徵。
  12. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第一設計特徵，其中該塊體包含該第二設計特徵，且其中該塊體包含該第三設計特徵。
  13. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第一設計特徵，其中該塊體包含該第四設計特徵，其中該至少一個入口流動開口向上延伸至該壁上表面，其中該至少一個入口流動開口在水平面中包含一主軸，其中該塊體進一步包含至少一個從該基座上表面向上延伸且配置在該入口流動開口與該澆鑄槽的主軸之間的導流板，其中該至少一個導流板包含一角度面，該角度面在水平面中面向該至少一個入口流動開口的主軸，其中該至少一個入口流動開口的主軸與該導流板的角度面相交，且其中該至少一個入口流動開口的該主軸與該導流板的該角度面的交點在水平面中具有一不是成90度的角度。
  14. 如請求項13之塊體，其中該至少一個導流板與該壁之該環周內表面連通。
  15. 如請求項14之塊體，其中該壁之該環周內表面相對於該澆鑄槽的該主軸係凹形，其中該至少一個導流板包含一與該壁之該環周內表面連通的表面，且其中與該壁之該環周內表面連通的該導流板表面相對於該澆鑄槽的主軸係凸形。
  16. 如請求項15之塊體，其中該入口流動開口係位於該壁環周唇部的上方。
  17. 如請求項1之塊體，其中該塊體包含該第三設計特徵，且其中該等複數個階梯係位於該基座上表面之水平上方的一水平上。
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