TW201707750A

TW201707750A - 中子捕獲治療法系統

Info

Publication number: TW201707750A
Application number: TW105126103A
Authority: TW
Inventors: Toshinori Mitsumoto; Minoru Suzuki; Hiroki Tanaka
Original assignee: Sumitomo Heavy Industries; Univ Kyoto
Priority date: 2015-08-25
Filing date: 2016-08-16
Publication date: 2017-03-01
Also published as: EP3136400B1; JP2017042310A; CN106474635A; EP3136400A1; JP6439092B2; TWI612986B

Abstract

本發明之課題，在於提供一種能夠提高治療效率之中子捕獲治療法系統。本發明之向患者(S)照射中子射線(N)之中子捕獲治療法系統(1)，具備：照射室(3)，係被將(N)從室內向室外輻射之中子射線予以阻斷之屏蔽壁(W)所包圍，用以將患者(S)配置於室內並照射中子射線(N)；中子射線照射部(8)，係用以向照射室(3)的室內照射中子射線(N)；屏蔽門(D1)，係用以關閉設置於屏蔽壁(W)之出入口(3b)；藥劑供給泵(17)，係用以向患者(S)供給藥劑；及藥劑供給管(18)，係用以將藥劑從藥劑供給泵(17)引導至配置於照射室(3)的室內之患者(S)。藥劑供給泵(17)係具有控制藥劑的供給量之控制部(17a)，並且配置於照射室(3)的室外。

Description

中子捕獲治療法系統

本發明，是關於向被照射體照射中子射線之中子捕獲治療法系統。

專利文獻1中記載有於中子捕獲治療法(NCT：NEUTRON CAPTURE THERAPY)中所利用之中子捕獲治療法裝置。使用該裝置之NCT治療中，首先對患者施用藥劑。該藥劑含有¹⁰B等與中子反應之物質，並具有選擇性地進入到需要治療之癌細胞之性質。並且，若對施用了藥劑之患者照射中子射線，則進入到患者的癌細胞之反應物質與中子射線進行反應而產生重帶電粒子。藉由該重帶電粒子的飛散，選擇性地僅破壞癌細胞。

(先前技術文獻) (專利文獻)

專利文獻1：日本特開2011-185784號公報

上述治療法中，從提高治療效率的觀點而言，希望不僅於照射中子射線之前，而且於照射中子射線之過程中亦使用輸液泵裝置等裝置向患者供給藥劑。但是，於輻射劑量較高之中子射線的照射室內，具有電子組件之裝置有可能發生誤動作。於該情況下，輸液泵裝置內的電子組件發生誤動作而難以對患者供給適當量的藥劑，無法期待於照射過程中藉由供給藥劑提高治療效率。

鑑於上述情況，本發明之目的為提供一種能夠提高治療效率之中子捕獲治療法系統。

本發明之一形態，是向被照射體照射中子射線之中子捕獲治療法系統。該中子捕獲治療法系統，具備：照射室，係被將從室內向室外輻射之中子射線予以阻斷的屏蔽壁所包圍，用以將被照射體配置於室內並照射中子射線；中子射線照射部，係用以向照射室的室內照射中子射線；屏蔽門，係用以關閉設置於屏蔽壁之出入口；藥劑供給裝置，係用以向被照射體供給藥劑；及藥劑供給管，係用以將藥劑從藥劑供給裝置引導至配置於照射室內之被照射體。藥劑供給裝置，係具有控制藥劑的供給量之控制部，並且配置於照射室的室外。

該中子捕獲治療法系統，是從中子射線照射部對被照射體照射中子射線。此時，被照射體是被配置於照射室中，並且從藥劑供給裝置接受藥劑的供給。並且，由於藥劑供給裝置具有控制部，因此能夠對被照射體供給所希望之量的藥劑。另外，藥劑供給裝置，是配置於被屏蔽壁所包圍之照射室的室外。如此一來，與配置於照射室內時相比，由於照射到藥劑供給裝置之輻射線的劑量較少，因此能夠抑制誤動作的發生。因此，於照射過程中能夠可靠地供給所希望之量的藥劑而提高治療效率。

並且，於屏蔽門關閉出入口之狀態下，於屏蔽門的端面或被端面所覆蓋之區域，係形成有槽狀的管配置部，該槽狀的管配置部，是用以將藥劑供給管從照射室的室內向室外拉出。依據如此的管配置部，能夠從槽的開口部輕易地配置藥劑供給管。並且，當打開屏蔽門時，能夠肉眼確認配置於管配置部之藥劑供給管的狀態。

並且，於屏蔽壁或屏蔽門，係形成有用以將藥劑供給管從照射室的室內向室外拉出之孔狀的管配置部。依據如此的管配置部，管配置部不會配置於被照射體所通過之出入口。因此，於出入口的表面不存在凹凸，所以能夠使被照射體安全地移動。

並且，管配置部，具有：第1部分，其係沿第1方向延伸；及第2部分，其係沿與第1方向交叉之第2方向延伸，並連接於第1部分。依據如此的管配置部，於管配置部中之第1部分與第2部分之間的連接部，管配置部的延伸方向不同。如此一來，當直線狀飛行之中子射線進入管配置部時，於第1部分與第2部分的連接部處會碰撞於壁。因此，能夠抑制中子射線從照射室內向室外的輻射。

依據本發明之中子捕獲治療法系統，能夠使治療效率提高。

1、1A、1B、1C‧‧‧中子捕獲治療法系統

2‧‧‧中子射線產生部

3‧‧‧照射室

3b‧‧‧出入口

4‧‧‧準備室

6‧‧‧管理室

8‧‧‧中子射線照射部

12‧‧‧射束傳輸路徑

14‧‧‧聯絡室

17‧‧‧藥劑供給泵(藥劑供給裝置)

17a‧‧‧控制部

18‧‧‧藥劑供給管

22、22A、22B、22C、22D、22E、22F、23‧‧‧管配置槽(管配置部)

27、27A、29‧‧‧管配置孔(管配置部)

D1‧‧‧屏蔽門

N‧‧‧中子射線

P‧‧‧帶電粒子射線

S‧‧‧患者

T‧‧‧靶

W、W1、W2、W3、W4、W6‧‧‧屏蔽壁

第1圖係模式表示中子捕獲治療法系統之平面圖。

第2圖係放大第1圖所示之照射室、聯絡室及準備室之平面圖。

第3圖係表示第1實施形態之管配置部之立體圖。

第4圖係表示第2實施形態之管配置部之立體圖。

第5圖係表示第3實施形態之管配置部之平面圖。

第6圖係表示第4實施形態之管配置部之側視圖。

第7圖係表示變形例之管配置部之圖。

第8圖係表示另一變形例之管配置部之圖。

<第1實施形態>

以下，參閱附圖對本發明之實施形態進行詳細說明。另外，於以下說明中，對相同或相應要素標註相同元件符號，並省略重複之說明。各附圖中，設定XYZ座標系，並於說明各構成要素的位置關係時使用X、Y、Z。其中，X軸為從中子射線照射部8所射出之中子射線N的射出方向，Z軸為相對於地面垂直之方向。並且，Y軸為與中子射線N的射出方向(X軸方向)和相對於地面垂直之方向(Z軸方向)各別正交之方向。

中子捕獲治療法系統，為利用硼中子捕獲治療法(BNCT：Boron Neutron Capture Therapy)來進行癌症治療之裝置。中子捕獲治療法中，藉由對施用了硼(¹⁰B)之患者(被照射體)照射中子射線來進行癌症治療。

如第1圖所示，中子捕獲治療法系統1，是具備：中子射線產生部2，係用以產生治療用中子射線N並進行照射；照射室3，係用以向患者S照射中子射線N；準備室4，係用以進行照射準備；及管理室6，係用以管理作業程序。

中子射線產生部2，是構成為於照射室3的室內產使中子射線N產生並能夠向患者S照射中子射線N。中子射線產生部2，是具備：所謂迴旋加速器的加速器7；中子射線照射部8，係從帶電粒子射線P生成中子射線N；及射束傳輸路徑12，係向中子射線照射部8傳輸帶電粒子射線P。加速器7及射束傳輸路徑12是配置於帶電粒子射線生成室11的室內。帶電粒子射線生成室11是被混凝土製之屏蔽壁W所屏蔽之封閉空間。

加速器7，是將作為質子之帶電粒子加速而形成作為質子射線之帶電粒子射線P並射出。加速器7，例如具有生成射束半徑40mm、60kW(=30MeV×2mA)的帶電粒子射線P之能力。

射束傳輸路徑12，是向中子射線照射部8射出帶電粒子射線P。射束傳輸路徑12的一端側連接於加速器7，另一端側連接於中子射線照射部8。另外，依據需要，於射束傳輸路徑12，亦可以設置：射束調整部、電流監視器、帶電粒子掃描部等射束控制裝置。射束調整部，是控制帶電粒子射線P的行進方向及射束直徑。電流監視器，是以即時方式測定帶電粒子射線P的電流值(亦即，電荷、照射劑量率)。帶電粒子射線掃描部，是掃描帶電粒子射線P並控制帶電粒子射線P對靶T之照射位置。

中子射線照射部8，是包括：靶T，係用於生成中子射線N；減速材料8a，係用於使中子射線N減速；及屏蔽體8b。另外，減速材料8a及屏蔽體8b構成減速體(moderator)。

在此，於中子射線照射部8中生成之中子射線N，是包含：快中子射線、超熱中子射線、熱中子射線及伽馬射線。其中，主要是熱中子射線與進入到患者S體內的腫瘤之硼進行核反應而發揮有效的治療效果。另外，中子射線N的射束中所包含之超熱中子射線的一部分也會於患者S體內被減速而成為發揮上述治療效果之熱中子射線。熱中子射線，是0.5eV以下的能量的中子射線。

靶T，係受到帶電粒子射線P的照射而產使中子射線N產生者。靶T，例如由鈹(Be)形成，並呈直徑160mm的圓板狀。

減速材料8a，係使從靶T射出之中子射線N減速者。藉由減速材料8a減速而降低為既定能量之中子射線N亦被稱作治療用中子射線。減速材料8a，例如為由不同的多種材料所構成之層疊結構。減速材料8a的材料，是可以依據帶電粒子射線P的能量等各種條件適當選擇。

例如，當來自加速器7的輸出為30MeV的質子射線，並使用鈹靶作為靶T時，減速材料8a的材料可為鉛、鐵、鋁、或氟化鈣。並且，當來自加速器7的輸出為11MeV的質子射線，並使用鈹靶作為靶T時，減速材料8a的材料可為重水(D2O)或氟化鉛。並且，當來自加速器7的輸出為2.8MeV的質子射線，並使用鋰靶作為靶T時，減速材料8a的材料可為Fluental(商品名；鋁、氟化鋁、氟化鋰的混合物)。並且，當來自加速器7的輸出為50MeV的質子射線並使用鎢靶作為靶T時，減速材料8a的材料可為鐵或Fluental。

屏蔽體8b，係進行屏蔽以免中子射線N及伴隨該中子射線N的產生而產生之伽馬射線等輻射線向外部釋放者，其至少一部分被嵌入到隔開帶電粒子射線生成室11與照射室3之屏蔽壁W1。

於中子捕獲治療法系統1中，照射室3與準備室4經由聯絡室14相連。

照射室3，係為了向患者S照射中子射線N而將患者S配置於室內之房間。照射室3，是配置於射束傳輸路徑12所延伸之方向的延長線上。照射室3的大小，作為一例為寬3.5m×深5m×高3m。照射室3是由如下構成：由屏蔽壁W2所包圍之屏蔽空間3a；患者S進出之出入口3b；及打開和封閉出入口3b之屏蔽門D1。

屏蔽壁W2是用以形成屏蔽空間3a。在該屏蔽空間3a中，可抑制輻射線從照射室3的室外向室內進入及輻射線從室內向室外釋放。亦即，屏蔽壁W2，是用以阻斷中子射線N從照射室3的室內向室外的輻射。該屏蔽壁W2，是與劃分成帶電粒子射線生成室11之屏蔽壁W形成為一體。並且，屏蔽壁W2係厚度為2m以上的混凝土製的壁。於帶電粒子射線生成室11與照射室3之間設有隔開帶電粒子射線生成室11與照射室3之屏蔽壁W1。該屏蔽壁W1成為屏蔽壁W的一部分。

於屏蔽壁W2的一部分設有出入口3b。並且，於該出入口3b配置有屏蔽門D1。屏蔽門D1，係用以抑制屏蔽空間3a中之輻射線輻射到聯絡室14者。屏蔽門D1是由鉛等輻射線屏蔽構件構成。屏蔽門D1，是藉由馬達等被賦予驅動力而在設置於照射室3的室內之導軌上移動。屏蔽門D1為重量物，因此用以驅動屏蔽門D1之機構中使用高轉矩馬達或減速器等。

另外，屏蔽門D1亦可以具有告知工作人員進出照射室3之功能。例如，亦可以於照射室3的室內已配置有治療台15之狀態下，藉由關閉屏蔽門D1來確認工作人員從照射室3退避者。

準備室4，是用以實施為了向患者S照射中子射線N所需之準備工作之房間。作為準備工作，係例如有：將患者S拘束於治療台15上、準直器與患者S的位置對準等。準備室4是以沿著Y軸方向與照射室3分開之方式所配置。於準備室4與照射室3之間，設有隔開準備室4與照射室3之屏蔽壁W3。屏蔽壁W3的厚度例如為3.2m。亦即，準備室4與照射室3是沿著Y軸方向分開3.2m。

另外，準備室4，可以是如照射室3那樣被屏蔽壁W所包圍之屏蔽空間，亦可以是未被屏蔽壁W所包圍之非屏蔽空間。

於屏蔽壁W3，設有從準備室4連通至照射室3之聯絡室14。聯絡室14，是用以使拘束有患者S之治療台15於準備室4與照射室3之間移動之房間。聯絡室14的大小，作為一例為寬1.5m×深3.2m×高2.0m。於準備室4與聯絡室14之間，配置有門扇D2。

中子捕獲治療法系統1，具備管理室6。管理室6，是用以管理使用中子捕獲治療法系統1實施整體程序之房間。管理人員進入管理室6，使用用於操作配置於管理室6的室內之監視機器及中子射線產生部2之控制裝置來管理整體程序。例如，進入管理室6之管理人員，從管理室6的室內由肉眼確認準備室4中之準備作業的狀況。並且，管理人員操作控制裝置來控制中子射線N之照射之開始和停止。

如第2圖所示，中子捕獲治療法系統1，具備：藥劑供給泵(藥劑供給裝置)17，係向患者S供給保持於輸液袋16中之藥劑；及藥劑供給管18，係將藥劑從藥劑供給泵17引導至患者S。藉由具備該等藥劑供給泵17和藥劑供給管18，能夠於中子射線N的照射過程中對配置於照射室3內之患者S供給藥劑。

例如，當對一位患者S進行1次治療時，施用500mL的藥劑。於該藥劑的量中，於照射中子射線N之前施用80%(400mL)，於照射過程中施用20%(100mL)。並且，於進行照射2小時之前從藥劑供給泵17開始對患者S施用藥劑，照射結束之同時停止施用。因此，該藥劑供給泵17，具有控制每單位時間的供給量之功能，控制功能，是由內置於藥劑供給泵17且作為半導體組件之微電腦等控制部17a所實現。並且，藥劑供給泵17，除了供給量的控制功能以外，亦可以具有檢測各種異常狀態並發出警報之功能。

藥劑供給管18，是具有2.0mm~4.0mm的外徑之軟管。藥劑供給管18的一端連接於藥劑供給泵17，於另一端連接有蝴蝶針或留置針等注射針。並且，藥劑經由注射針供給至患者S。在此，藥劑供給泵17配置於準備室4，患者S配置於照射室3。換言之，藥劑供給泵17是配置於照射室3的室外。因此，連接藥劑供給泵17和患者S之藥劑供給管18，是從準備室4經由聯絡室14延伸至照射室3。

如第3圖所示，中子捕獲治療法系統1，係具有形成於照射室3的地板19及聯絡室14的地板21上之迷宮狀的管配置槽(管配置部)22。管配置槽22係於封閉屏蔽門D1之狀態(第3圖的虛線所示之屏蔽門D1a)下，從照射室3向聯絡室14拉出藥劑供給管18，以免其被屏蔽門D1擠壓而使藥劑的流路被堵塞者。

管配置槽22，是具有上方開口之剖面矩形的槽形狀。管配置槽22具有大致等於或稍微小於藥劑供給管18的外徑之槽寬。依據如此之槽寬，能夠不堵塞藥劑的流路且由槽側面夾持並保持藥劑供給管18。並且，管配置槽22，是具有大致等於藥劑供給管18的外徑或大於藥劑供給管18的外徑之槽深。依據如此之槽深，藥劑供給管18不會從管配置槽22突出，因此能夠抑制將屏蔽門D1設為封閉狀態時藥劑供給管18被擠壓而使藥劑的流路堵塞之情況。

並且，管配置槽22，是於俯視觀察時呈曲柄狀的平面形狀，具有第1部分22a、第2部分22b及第3部分22c。第1部分22a，於將屏蔽門D1設為封閉狀態時，是從未被屏蔽門D1所覆蓋之地板區域19a至被屏蔽門D1的端面所覆蓋之地板區域19b為止沿屏蔽門D1的厚度方向亦即Y軸方向(第1方向)延伸。第2部分22b，是連續於第1部分22a，並沿與屏蔽門D1的厚度方向正交之方向亦即X軸方向(第2方向)延伸。亦即，相對於第1部分22a，第2部分22b是以管配置槽22的延伸方向呈彎曲之方式所連接。第3部分22c，是連續於第2部分22b，於將屏蔽門D1設為封閉狀態時，是從地板區域19b至未被屏蔽門D1覆蓋之聯絡室14的地板21為止沿屏蔽門D1的厚度方向延伸。亦即，相對於第2部分22b，第3部分22c是以管配置槽22的延伸方向呈彎曲之方式所連接。

該中子捕獲治療法系統1，從中子射線照射部8向患者S照射中子射線N。此時，患者S配置於照射室3，並且從藥劑供給泵17接受藥劑的供給。並且，藥劑供給泵17由於具有控制部17a，因此能夠對患者S供給所希望之量的藥劑。另外，藥劑供給泵17，是配置於被屏蔽壁W2所包圍之照射室3的室外。在此，若對微電腦等半導體組件照射輻射線，則有發生電離總劑量輻射效應、排擠損傷效果、單粒子效應等現象之虞，有可能成為發生控制部17a的誤動作之原因。對此，藥劑供給泵17，由於是配置於被屏蔽壁W2所包圍之照射室3的室外，因此與配置於照射室3的室內時相比，照射到藥劑供給泵17之輻射線之劑量減少。因此，能夠抑制由輻射線的照射所導致之控制部17a的誤動作的發生，能夠於照射過程中可靠地供給所希望之量的藥劑來提高治療效率。

另外，與其他輻射線治療系統相比，於中子捕獲治療法系統1中照射室3內容易被輻射化。但是，中子捕獲治療法系統1中，藉由於容易被輻射化之照射室3的室外配置藥劑供給泵17，與配置於照射室3的室內時相比，照射到藥劑供給泵17之輻射線的劑量減少。因此，中子捕獲治療法系統1能夠於照射過程中可靠地供給所希望之量的藥劑來提高治療效率。

並且，於關閉出入口3b之狀態的屏蔽門D1與屏蔽壁W2之間，形成有：用以將藥劑供給管18從照射室3的室內向室外拉出之管配置槽22，。依據如此之管配置槽22，能夠從槽的開口部輕易地配置藥劑供給管18。並且，當打開屏蔽門D1時，能夠肉眼確認配置於管配置槽22之藥劑供給管18。

並且，迷宮狀的管配置槽22，是具有：第1部分22a，其係沿Y軸方向延伸；及第2部分22b，其係沿X軸方向延伸，並連接於第1部分22a。依據如此之管配置槽22，於管配置槽22中之第1部分22a與第2部分22b之間的連接部，管配置槽22的延伸方向不同。如此一來，當通過了第1部分22a之中子射線N進入到管配置槽22時，於第1部分22a與第2部分22b的連接部，會與壁碰撞而大幅衰減。因此，能夠抑制中子射線N從照射室3的室內向室外的輻射。

並且，即使於照射中子射線N的過程中，人亦可以進入準備室4中。因此，藉由將藥劑供給泵17配置於準備室4，能夠於照射中子射線N的過程中監視藥劑供給泵17的狀態，並進行藥劑供給泵17的操作。因此，於照射中子射線N的過程中，能夠將從藥劑供給泵17供給之藥劑的供給量維持在最佳狀態，因此能夠進一步提高治療效率。

<第2實施形態>

以下對第2實施形態之中子捕獲治療法系統1A進行說明。如第4圖所示，中子捕獲治療法系統1A中，管配置槽(管配置部)23形成於照射室3的側壁24及聯絡室14的側壁26此點，是與中子捕獲治療法系統1不同。其他構成則與中子捕獲治療法系統1相同，因此以下對管配置槽23進行詳細說明。

管配置槽23，是具有與第1實施形態之管配置槽22相同的槽寬及槽深。管配置槽23，是於俯視觀察時呈曲柄狀的形狀，並具有：照射室3側的第1部分23a、第2部分23b及聯絡室14側的第3部分23c。第1部分23a，是從照射室3的側壁24中之區域24a至區域24b為止沿屏蔽門D1的厚度方向亦即Y軸方向(第1方向)延伸。在此，區域24a，是當將屏蔽門D1設為封閉狀態(第4圖的雙點鏈線所圖示之屏蔽門D1a)時，於照射室3的側壁24未被屏蔽門D1覆蓋之區域。並且，區域24b，是當將屏蔽門D1設為封閉狀態時，被屏蔽門D1的端面所覆蓋之區域。第2部分23b，是連續於第1部分23a，並沿著與屏蔽門D1的厚度方向正交之方向亦即相對於地板19交叉之Z軸方向(第2方向)延伸。第3部分23c，是連續於第2部分23b，並從區域24b至聯絡室14的側壁26為止沿著屏蔽門D1的厚度方向延伸。在此，聯絡室14的側壁26，是當將屏蔽門D1設為封閉狀態時未被屏蔽門D1覆蓋之區域。

如此，依據形成於照射室3的側壁24及聯絡室14的側壁26之管配置槽23，不會於照射室3的地板19及聯絡室14的地板21產生凹凸，因此能夠使患者S安全地移動。

<第3實施形態>

以下對第3實施形態之中子捕獲治療法系統1B進行說明。如第5圖所示，中子捕獲治療法系統1B中，與中子捕獲治療法系統1不同點，係在於：未配置聯絡室14且於照射室3相鄰有準備室4此點；以及管配置孔(管配置部)27為設置於隔開照射室3與準備室4之屏蔽壁W4之貫穿孔此點。其他構成與中子捕獲治療法系統1相同，因此以下對管配置孔27進行詳細說明。

管配置孔27，是具有等於或稍微大於藥劑供給管18的外徑之孔徑。依據如此之孔徑，能夠輕易地實施將藥劑供給管18從照射室3的室內插穿至室外之作業。

管配置孔27，是於俯視觀察時呈曲柄狀的形狀，並具有：第1部分27a、第2部分27b及第3部分27c。第1部分23a，是沿屏蔽門D1的厚度方向亦即Y軸方向(第1方向)延伸。第2部分23b，是連續於第1部分23a，並沿與屏蔽門D1的厚度方向正交之方向亦即X軸方向(第2方向)延伸。另外，第2方向亦可以是與地板19交叉之方向(亦即Z軸方向)。第3部分27c，是連續於第2部分27b，並沿屏蔽門D1的厚度方向延伸。

依據如此形成於屏蔽壁W4之管配置孔27，不會於照射室3的地板19及準備室4的地板產生凹凸，因此能夠使患者S安全地移動。並且，管配置孔27，由於能夠設置於屏蔽壁W4的任意場所，因此能夠提高配置管配置孔27時之自由度。

<第4實施形態>

以下對第4實施形態之中子捕獲治療法系統1C進行說明。如第6圖所示，中子捕獲治療法系統1C中，與中子捕獲治療法系統1不同點，係在於：於照射室3的上方具有被屏蔽壁W6所包圍之屏蔽室28此點；以及管配置孔(管配置部)29為設置於隔開照射室3與屏蔽室28之屏蔽壁W6之貫穿孔此點。其他構成與中子捕獲治療法系統1相同，因此以下對管配置孔29進行詳細說明。

管配置孔29，是具有等於或稍微大於藥劑供給管18的外徑之孔徑。依據如此之孔徑，能夠輕易地實施將藥劑供給管18從照射室3的室內插穿至室外之作業。

管配置孔29，是於俯視觀察時呈曲柄狀的形狀，並具有：第1部分29a、第2部分29b及第3部分29c。第1部分29a，是沿著與地板19正交之方向亦即Z軸方向(第1方向)延伸。第2部分29b，是連續於第1部分29a，並且沿著與床19平行之方向亦即X軸方向(第2方向)延伸。另外，第2方向亦可以是Y軸方向。第3部分29c，是連續於第2部分29b，並沿著與地板19正交之方向延伸。

依據如此形成於側壁之管配置孔29，不會於照射室3的地板19產生凹凸，因此能夠使患者S安全地移動。

本發明並不限定於前述之實施形態，於不脫離本發明之實質宗旨的範圍內可進行如下所述之各種變形。

管配置槽22並不限定於曲柄狀，只要具有第1部分和沿與第1部分的延伸方向不同之方向延伸之第2部分即可。例如，如第7圖(a)~第7圖(d)所示，亦可以是於俯視觀察時為S字狀的管配置槽22A、V字狀的管配置槽22B、圓弧狀的管配置槽22C、鋸齒狀的管配置槽22D。

並且，關於第1方向及第2方向，只要彼此延伸方向不同即可，第1方向並不限定於屏蔽門D1的厚度方向，第2方向並不限定於與屏蔽門D1的厚度方向正交之方向。例如，如第7圖(b)所示，第1方向亦可以是相對於屏蔽門D1的厚度方向傾斜之方向，第2方向亦可以是相對於第1方向交叉並且相對於屏蔽門D1的厚度方向傾斜之方向。

並且，管配置槽22的剖面形狀並不限定於矩形，如第8圖(a)、第8圖(b)所示，亦可以是剖面V字狀的管配置槽22E、剖面U字狀的管配置槽22F。並且，管配置孔27的剖面形狀並不限定於矩形，如第8圖(c)所示，亦可以係剖面圓形的管配置孔27A。

本申請案主張依據2015年8月25日所申請之日本發明專利申請案第2015-166004號的優先權，並參考援用該申請案的全部內容於本說明書中。

1‧‧‧中子捕獲治療法系統

3‧‧‧照射室

3b‧‧‧出入口

4‧‧‧準備室

14‧‧‧聯絡室

15‧‧‧治療台

16‧‧‧輸液袋

17‧‧‧藥劑供給泵

17a‧‧‧控制部

18‧‧‧藥劑供給管

D1‧‧‧屏蔽門

D2‧‧‧門扇

S‧‧‧患者

W3‧‧‧屏蔽壁

Claims

一種中子捕獲治療法系統，是向被照射體照射中子射線的中子捕獲治療法系統，其具備：照射室，係被將從室內向室外輻射之中子射線予以阻斷的屏蔽壁所包圍，用以將前述被照射體配置於室內並照射前述中子射線；中子射線照射部，係用以向前述照射室的室內照射前述中子射線；屏蔽門，係用以關閉設置於前述屏蔽壁之出入口；藥劑供給裝置，係用以向前述被照射體供給藥劑；及藥劑供給管，係用以將前述藥劑從前述藥劑供給裝置引導至配置於前述照射室內之前述被照射體，前述藥劑供給裝置，係具有控制前述藥劑的供給量之控制部，並且配置於前述照射室的室外。
如申請專利範圍第1項所述之中子捕獲治療法系統，其中，於前述屏蔽門關閉前述出入口之狀態下，於前述屏蔽門的端面或被前述端面所覆蓋之區域，係形成有槽狀的管配置部，該槽狀的管配置部，是用以將前述藥劑供給管從前述照射室的室內向室外拉出。
如申請專利範圍第1項所述之中子捕獲治療法系統，其中，於前述屏蔽壁或前述屏蔽門，係形成有孔狀的管配置部，該孔狀的管配置部，是用以將前述藥劑供給管從前述照射室的室內向前述室外拉出。
如申請專利範圍第2或3項所述之中子捕獲治療法系統，其中，前述管配置部，具有：第1部分，係沿第1方向延伸；及第2部分，係沿與前述第1方向交叉之第2方向延伸，並連接於前述第1部分。