TW201704783A - 覆模塑過濾器 - Google Patents

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Abstract

於此處提供之實施例中，一裝置具有含一過濾表面的一光學透明區塊。該裝置也具有二或多個過濾器，於該處該等過濾器中之各者具有製造於一光學透明基體上的薄膜，及進一步其中該等過濾器之薄膜係耦合至該過濾表面。此外，該裝置具有一光學透明覆模塑材料罩住該等二或多個過濾器，於該處該覆模塑材料填充該等二或多個過濾器中之相鄰者間之及上方之一體積。

Description

覆模塑過濾器
本發明係有關於覆模塑過濾器。
發明背景
電子電路板可以硬質熱固材料覆模塑用以提供耐用性及對震動及擺動的機械耐性。此外，將該電路板覆模塑係對該電路板以氣密式密封環境形式提供防水性。
依據本發明之一實施例，係特地提出一種裝置，其包含：具有一過濾表面的一光學透明區塊；二或多個過濾器，其中該等過濾器中之各者包含製造於一光學透明基體上的薄膜，及進一步其中該等過濾器之該等薄膜係，直接地或間接地，耦合至該過濾表面；及一光學透明覆模塑材料罩住該等二或多個過濾器，其中該覆模塑材料填充該等二或多個過濾器中之相鄰者間之及上方之一體積。
100A、100B‧‧‧裝置
102‧‧‧光學透明區塊
103‧‧‧過濾表面
104、503‧‧‧覆模塑材料
105-1~4‧‧‧薄膜過濾器
106-1~4‧‧‧薄膜
108-1~4、220、320‧‧‧基體
110‧‧‧光學透明蓋
200‧‧‧解多工器系統
201-1~3‧‧‧反射性聚焦器
203‧‧‧透鏡
204‧‧‧第一表面
209‧‧‧出射表面
210‧‧‧抗反射被覆層
212-1~4‧‧‧檢測器
250-1~4‧‧‧路徑
251-1~4‧‧‧虛線路徑
290‧‧‧多波長光束
300‧‧‧多工器系統
312-1~4‧‧‧光源
395‧‧‧多工化光束
400、500‧‧‧系統
410、411‧‧‧機械對齊特性件
420、421‧‧‧間隙器/針銷
425、426‧‧‧孔口
505、506‧‧‧匹配特性件
600、700、800、900、1000‧‧‧方法
605-615、705-730、805-810、905-930、1005-1030‧‧‧方塊
附圖例示下述原理的各種實例。該等實例及附圖為例示性而非限制性。
圖1A描繪具有薄膜過濾器耦合至一光學透明區 塊的一裝置實例之剖面圖，於該處該等過濾器係罩在一光學透明覆模塑材料內。
圖1B描繪具有薄膜過濾器耦合至一光學透明區塊的一裝置實例之剖面圖，於該處該等過濾器係罩在一光學透明覆模塑材料內，及該覆模塑材料係在一光學透明玻璃蓋內部。
圖2描繪包括覆模塑薄膜過濾器的解多工器系統之一實例的剖面圖。
圖3描繪包括覆模塑薄膜過濾器的多工器系統之一實例的剖面圖。
圖4描繪具有模塑機械對齊特性件及間隙器的系統之一實例的剖面圖。
圖5描繪具有覆模塑特性件用以匹配至一光學連接器之互補特性件的系統之一實例的剖面圖。
圖6描繪一流程圖例示製造覆模塑薄膜過濾器的一方法實例。
圖7描繪一流程圖例示在具有覆模塑薄膜過濾器的一多工或解多工系統上執行晶圓層級測試的一方法實例。
圖8描繪一流程圖例示使用光學透明蓋以產生用於多工或解多工系統的覆模塑薄膜過濾器之方法實例。
圖9描繪一流程圖例示使用光學透明蓋以製造用於多工或解多工系統的覆模塑薄膜過濾器及在該系統上執行晶圓層級測試之方法實例。
圖10描繪一流程圖例示使用光學透明蓋以製造用於多工或解多工系統的覆模塑薄膜過濾器及在該系統上執行晶圓層級測試之方法實例。
較佳實施例之詳細說明
一裝置實例呈現如下，其包括具有一表面稱作過濾表面的一光學透明區塊，及耦合至該過濾表面之二或多個過濾器。該等過濾器中之各者包含製造於一光學透明基體上的薄膜，及該等過濾器之該等薄膜係，直接地或間接地，耦合至該過濾表面。此外，一光學透明覆模塑材料罩住該等二或多個過濾器且填充該等二或多個過濾器中之相鄰者間之及上方之一體積。於若干實施例中，該覆模塑材料具有一第一表面及一第二表面，於該處該第一表面可接觸該區塊之該過濾表面，及該第二表面可遠離該過濾表面且經模塑用以於一特定角度導引光入射或出射該覆模塑材料。進一步，該裝置可包含該第二表面上的一抗反射被覆層。
於若干實施例中，該裝置可包括耦合至該覆模塑材料的對齊特性件用以將該等二或多個過濾器定位於垂直該過濾表面之一第一方向及定位於垂直該第一方向之一第二方向。該等對齊特性件可以是延伸超出該第二表面的該覆模塑材料之部件，或可藉光刻術或於該覆模塑材料上電鍍製造。
於若干實施例中，該裝置可包括耦合至該區塊之 該過濾表面的一光學透明蓋使得一空腔係形成於該蓋與該區塊間，於該處該覆模塑材料填充該空腔，及該等二或多個過濾器係由該空腔內部的該覆模塑材料罩住。該蓋的遠離該區塊之一表面可包括對齊特性件用以將該等二或多個過濾器定位於垂直該過濾表面之一第一方向及定位於垂直該第一方向之一第二方向。
圖1A描繪裝置100A之一實例其可具有光學透明區塊102。光學透明區塊102可具有一過濾表面103。耦合至該過濾表面103者可以是薄膜過濾器105，於該處各個薄膜過濾器105可包括製作於一基體108上的介電薄膜106。雖然於圖1A之實例中薄膜106係顯示為耦合至基體108的較接近區塊102該側，但薄膜106也可耦合至基體108的較遠離區塊102的該對側。各個薄膜過濾器105可透過介電薄膜106而耦合至過濾表面103。區塊102及基體108可由對欲透射通過區塊102及基體108的光波長為透明的任何類型的玻璃製成，例如，熔凝石英或硼矽酸鹽玻璃。
於圖1A之實例中，顯示四個薄膜過濾器105，但可使用任何數目的薄膜過濾器。薄膜過濾器105中之各者可以是，但非限制性，對中於不同波長的帶通濾波器，及薄膜過濾器105中之各者可以製作在與其它基體108具有不同厚度的一基體108上。如此，基體108之厚度可各自不同。此外，因各個薄膜過濾器105的帶通濾波器之中心波長為不同，及一帶通濾波器的介電薄膜之總厚度隨中心波長而定標，故用於不同薄膜過濾器105各自的薄膜過濾器106之厚 度為不同。結果，薄膜過濾器105的總厚度可以不同。
光學透明覆模塑材料104可用以包覆薄膜過濾器105，使得鄰近薄膜過濾器，例如105-1與105-2，間之體積由覆模塑材料104填充。合宜覆模塑材料104之實例包括瑞翁尼(Zeonex)-由瑞翁化學公司(Zeon Chemicals L.P.)製造的環烯烴聚合物，及烏騰(Ultem)-由沙烏地基本工業公司(Saudi Basic Industries Corporation(SABIC))製造的聚醚醯亞胺。
於若干實施例中，光學透明蓋110可用以包封覆模塑材料，如於圖1B之裝置100B之實例中顯示。蓋110可耦合至光學透明區塊102的過濾表面103，使得在蓋110與區塊102形成一空腔，而薄膜過濾器105係在該空腔內部。然後覆模塑材料104趁於熔融態可用來填充該空腔。當熔融覆模塑材料104冷卻時，薄膜過濾器105可被包覆於該空腔內部的覆模塑材料104中。蓋110可由透射於關注波長的光之任何類型的材料製成，諸如熔凝石英或半導體諸如矽。於若干實施例中，蓋110可由透射於關注波長的光且可耐受熔融覆模塑材料104之溫度的塑膠製成。於若干實施例中，蓋110可包括對齊特性件用以與一基體(於圖中未顯示)諸如印刷電路板上的互補特性件(容後詳述)，或耦合至基體上的一光學插座上的互補特性件配對。
圖2描繪包括覆模塑薄膜過濾器105的解多工器系統200之一實例的剖面圖。多波長光束290可通過，但非限制性，耦合至區塊102的第一表面204的一透鏡203而進入 解多工器系統200的光學透明區塊102。透鏡203準直化了光束290。多波長光束290可由系統200予以解多工，及解多工射束可由耦合至一基體220，諸如印刷電路板，的檢測器212檢測，於該處該等檢測器可覆晶於基體220上。該等檢測器可以是能夠感測系統操作波長的任何類型的感測器，諸如光二極體。圖2之實例顯示多波長光束被解多工成四個光束及由四個檢測器檢測；然而，多波長光束可被解多工成任何數目的光束及由任何數目的檢測器檢測。
於圖2之系統實例中，進入系統200的多波長光束290可撞擊耦合至區塊102的過濾表面103的薄膜過濾器106-4上。薄膜過濾器106-4可透射於或接近於第一波長λ1的光，及反射全部其它波長朝向耦合至區塊102的第一表面204之一反射性聚焦器201-3。當光束鋸齒狀通過區塊102時，反射性聚焦器201再度準直化該光束。於或接近於第一波長λ1的光繼續前進通過光學透明基體108-4，及然後，在遭遇覆模塑材料104的一出射表面209上的一抗反射被覆層210之前，進入覆模塑材料104。射出的光係由檢測器212-4感測。
當覆模塑材料104的折射率係匹配基體108-4的折射率時，或係落入於薄膜過濾器105-4的基體108-4的折射率之一預定範圍以內時，射出基體108-4的光遵循該路徑或接近該路徑250-4而到達檢測器212-4。但若不存在有覆模塑材料104，使得基體108-4與空間之折射率差係大於該預定範圍，則射出基體108-4的光可遵循該虛線路徑251-4，於該 處光束當射出基體108-4時折射且偏離，使得光錯過了檢測器212-4的作用區而不被檢測。
回頭參考由反射性聚焦器201-3所反射的光，反射光聚焦在薄膜過濾器106-3上。薄膜過濾器106-3可透射於或接近於第二波長λ2的光，及反射全部其它波長朝向耦合至區塊102的第一表面204之一反射性聚焦器201-2。於或接近於第二波長λ2的光繼續前進通過光學透明基體108-3，及然後，在遭遇覆模塑材料104的出射表面209上的抗反射被覆層210之前，進入覆模塑材料104。射出的光係由檢測器212-3感測。
當覆模塑材料104的折射率係匹配基體108-3的折射率時，或係落入於薄膜過濾器105-3的基體108-3的折射率之一預定範圍以內時，射出基體108-3的光遵循該路徑或接近該路徑250-3而到達檢測器212-3。但若不存在有覆模塑材料104，則射出基體108-3的光遵循該虛線路徑251-3，於該處光束當射出基體108-3時折射且偏離，使得光錯過了檢測器212-3的作用區而不被檢測。此外，光射出基體108-3的側壁可能粗糙，結果導致非期望的散射及反射損耗。
回頭參考由反射性聚焦器201-2所反射的光，反射光聚焦在薄膜過濾器106-2上。薄膜過濾器106-2可透射於或接近於第三波長λ3的光，及反射全部其它波長朝向耦合至區塊102的第一表面204之一反射性聚焦器201-1。於或接近於第三波長λ3的光繼續前進通過光學透明基體108-2，及然後，在遭遇覆模塑材料104的出射表面209上的抗反射被 覆層210之前，進入覆模塑材料104。射出的光係由檢測器212-2感測。
由反射性聚焦器201-1所反射的光係聚焦在薄膜過濾器106-1上。薄膜過濾器106-1可透射於或接近於第四波長λ4的光。於若干實施例中，薄膜過濾器106-1可透射全部波長，但接近波長λ1、λ2、及λ3者除外。由薄膜過濾器106-1透射的光繼續前進通過光學透明基體108-1，及在遭遇覆模塑材料104的出射表面209上的抗反射被覆層210之前，進入覆模塑材料104。射出的光係由檢測器212-1感測。
當覆模塑材料104的折射率係匹配基體108-2及108-1的折射率時，或係落入於薄膜過濾器105-2及105-1的基體108-2及108-1的折射率之一預定範圍以內時，射出基體108-2及108-1的光分別地遵循該路徑或接近該路徑250-2及250-1。若不存在有覆模塑材料104，則射出基體108-2及108-1的光被折射而分別地遵循虛線路徑251-2及251-1。基體108-2及108-1的厚度係落入於系統的規格範圍以內，及導致光係分別地由檢測器212-2及212-1檢測。
圖3描繪包括覆模塑薄膜過濾器的多工器系統300之一實例的剖面圖。耦合至表面204上的區塊102者為反射性聚焦器201其係以類似解多工器系統200之方式操作，反射且聚焦撞擊於反射性聚焦器201上的光。耦合至表面204的透鏡202聚焦出射多工器系統300的該多工化光束395。薄膜過濾器105以前述類似方式操作，各自透射於或接近於一不同波長的光而反射其它波長。
光源312係耦合至一基體320，諸如印刷電路板。光源312各自發射於不同波長的光且可以是例如，垂直腔表面發射雷射。來自光源312的光通過在覆模塑材料104之表面209上的抗反射被覆層210進入覆模塑材料104。當覆模塑材料104之折射率係匹配薄膜過濾器105的基體108之折射率時，或係落入於基體108之折射率的一預定範圍以內時，該光遵循所示路徑及呈多工化光束395射出。然而，但若覆模塑材料104為不存在，使得基體108-4與空間之折射率差係大於該預定範圍，則由薄膜106-3及106-4所透射的該光將分別地錯過了反射性聚焦器201-3及透鏡203。結果，對多工化光束395中之此等光束將有大型損耗。
圖4描繪具有間隙器/針銷420、421及機械對齊特性件410、411的系統400之一實例的剖面圖。印刷電路板220可具有孔口425、426以接納間隙器/針銷420、421。間隙器/針銷420、421及孔口425、426可用來在平行於過濾表面103的一平面，相對於耦合至印刷電路板220的光電子裝置212，被動地對齊光學區塊102及耦合覆模塑過濾器105。用於一多工系統，光電子裝置212可以是檢測器，而用於解多工系統，光電子裝置212可以是光源。於光源諸如VCSEL之情況下，光電子裝置可結合整合式透鏡而準直化光，或聚焦進入光檢測器的光。若覆模塑過濾器105並非對齊光電子裝置212，則多工或解多工系統並不執行多工或解多工功能，或系統操作帶有比較針對過濾器105並非未對齊的情況更高的損耗。
於若干實施例中，間隙器/針銷420、421可被製作為包圍過濾器105的覆模塑材料104部分，於該處用於定位覆模塑材料104的模具包括間隙器/針銷特性件。於若干實施例中，間隙器/針銷420、421可在用於包圍過濾器105的一初始定位的覆模塑材料104頂上使用分開的覆模製程而形成。
對齊特性件410、411可以是方塊或任何其它合宜形狀用來對齊用於定位覆模塑材料104的模具及/或用於間隙器/針銷420、421的一分開模具。對齊特性件410、411可由例如金、或其它材料製成，或蝕刻入區塊102。
於若干實施例中，對齊特性件410、411及/或間隙器420、421可由微機電(MEMS)製造技術製造，諸如光刻術、電鍍、或蝕刻。
此外，間隙器/針銷420、421可用以固定光電子裝置212與過濾器105間之距離，原因在於有個特定距離於其上該光係藉反射性聚焦器201及透鏡203加以準直化。若薄膜106太過遠離光電子裝置212，則以解多工系統為例在撞擊檢測器之前光可能過度繞射；或以多工系統為例，在撞擊反射性聚焦器201及透鏡203之前光可能過度繞射，結果導致過多損耗。
於圖2-5中描繪的系統設計中，光分別地以相對於光電子裝置的入射表面或出射表面的一角度入射或出射光電子裝置(檢測器212或光源312)。然而，於若干實施例中，光可分別地以垂直入射表面或出射表面而入射或出射 光電子裝置。然後一機構可用以傾斜出射或入射覆模塑材料104的光束。舉例言之，於若干實施例中，在覆模塑材料104的表面210上遠離區塊102的間隙器可經模塑用以相對於基體220而傾斜覆模塑材料104。於其它實施例中，表面210可相較於最接近於區塊102的覆模塑材料104之表面103而以一角度模塑。於其它實施例中，小型稜鏡可模塑於覆模塑材料104之表面210上。
圖5描繪具有匹配特性件505、506用以匹配一光學連接器(於圖中未顯示)的互補特性件之系統500的一實例之剖面圖。當系統500操作為多工系統時光學連接器可接收一多工化光束，或當操作為解多工系統時可提供多波長光束給系統500。
於若干實施例中，匹配特性件505、506可以是在耦合至區塊102之與過濾表面103相對的一表面204的覆模塑材料503中的孔口。另外，匹配特性件505、506可使用MEMS製造技術製成，諸如光刻術、電鍍、或蝕刻。
圖6描繪一流程圖例示製造覆模塑薄膜過濾器的一方法600實例。該方法始於方塊605，於該處具有多個空腔的一模具可置於玻璃晶圓的一過濾表面上方。多組薄膜過濾器可耦合至過濾表面，及該等多組薄膜過濾器中之各組可由多個空腔中之不同一者罩住。耦合至玻璃晶圓的與該過濾表面相對的一表面者可以是多組反射聚焦器及透鏡，於該處該等多組反射聚焦器及透鏡中之各者對應於該等多組薄膜過濾器中之一者，使得於該晶圓層級製造多個 多工或解多工系統。
於方塊610，光學透明覆模塑材料可被插入多個空腔內。舉例言之，熔融覆模塑材料可經注入用以填充多個空腔。
於熔融覆模塑材料已經冷卻後，於方塊615，模具可自玻璃晶圓移開，留下已固化的覆模塑材料罩住該等多組薄膜過濾器。
圖7描繪一流程圖例示在具有覆模塑薄膜過濾器的一多工或解多工系統上執行晶圓層級測試的一方法700實例。
該方法始於方塊705，其可類似就圖6之方法600描述的方塊605。方塊710及715也可分別類似圖6之方塊610及615。
於方塊720，抗反射被覆層可施用至覆模塑材料遠離玻璃晶圓之該表面。抗反射被覆層須於多工或解多工系統欲被使用的該波長範圍為有效。
於方塊725，該等多組薄膜過濾器中之各者的晶圓層級測試可結合耦合至玻璃晶圓的光學裝置執行。舉例言之，一組薄膜過濾器可以是多工系統的部件，及可測試各個多工系統的多工功能。另外，一組薄膜過濾器可以是解多工系統的部件，及可測試各個解多工系統的解多工功能。多工或解多工系統的晶圓層級測試可被自動化。
於方塊730，玻璃晶圓可被切晶粒成晶粒區段。各個晶粒區段包括其可以是多工或解多工系統的部件的一 組薄膜過濾器。
圖8描繪一流程圖例示使用光學透明蓋以產生用於多工或解多工系統的覆模塑薄膜過濾器之方法800實例。
該方法始於方塊805，於該處多組薄膜過濾器可耦合至一玻璃晶圓的一過濾表面上。各組薄膜過濾器可以是多工或解多工系統的部件，其包括反射性聚焦器及透鏡耦合至該玻璃晶圓之與該過濾表面相對的一表面。
於方塊810，具有多個凹部的光學透明空腔晶圓可耦合至玻璃晶圓的一過濾表面，使得藉各個凹部在該空腔晶圓與該玻璃晶圓間形成一分開空腔，及罩住多組薄膜過濾器中之一者。
圖9描繪一流程圖例示使用光學透明蓋以產生用於多工或解多工系統的覆模塑薄膜過濾器及在該系統上執行晶圓層級測試之方法900實例。
該方法始於方塊905，其可類似就圖8之方法800描述的方塊805。方塊910也可類似圖8之方塊810。
於方塊915，熔融的光學透明覆模塑材料可注入到該空腔晶圓與該玻璃晶圓間所形成的該等空腔內。方塊920也可類似圖7之方塊725。
於方塊925，抗反射被覆層可施用至該空腔晶圓遠離玻璃晶圓之一表面。抗反射被覆層須於多工或解多工系統欲被使用的該波長範圍為有效。
於方塊930，已耦合的空腔晶圓及玻璃晶圓可被切晶粒成晶粒區段，於該處各個晶粒區段包括一組薄膜過 濾器，及各組薄膜過濾器可以是多工或解多工系統的部件。
圖10描繪一流程圖例示使用光學透明蓋以產生用於多工或解多工系統的覆模塑薄膜過濾器及在該系統上執行晶圓層級測試之方法1000實例。
該方法始於方塊1005，其可類似就圖8之方法800描述的方塊805。
於方塊1010，光學透明材料可旋塗至玻璃晶圓之過濾表面及薄膜過濾器上，用以塗覆該過濾表面及該等薄膜過濾器。
於方塊1015，具有多個凹部的一空腔晶圓置於經旋塗的光學透明材料上方。
於方塊1020，該空腔晶圓可耦合至玻璃晶圓之過濾表面使得藉各個凹部在該空腔晶圓與該玻璃晶圓間形成一分開空腔，及罩住多組薄膜過濾器中之一者。各組薄膜過濾器可以是多工或解多工系統之部件，該系統包括反射性聚焦器及透鏡耦合至該玻璃晶圓之與該過濾表面相對的一表面。方塊1022可類似圖7之方塊720。方塊1025可類似圖7之方塊725。
於方塊1030，已耦合的空腔晶圓及玻璃晶圓可被切晶粒成晶粒區段，於該處各個晶粒區段包括一組薄膜過濾器，及各組薄膜過濾器可以是多工或解多工系統的部件。
如上呈現之步驟及/或特性件並非全部皆用於所呈現技術的各個實施例。
如於此處說明書及申請專利範圍各項中使用，除 非另行明白陳述否則單數形「一(a)」、「一(an)」、及「該」包括複數形。
100A‧‧‧裝置
102‧‧‧光學透明區塊
103‧‧‧過濾表面
104‧‧‧覆模塑材料
105-1~4‧‧‧薄膜過濾器
106-1~4‧‧‧介電薄膜
108-1~4‧‧‧基體

Claims (15)

  1. 一種裝置，其包含：具有一過濾表面的一光學透明區塊；二或多個過濾器，其中該等過濾器中之各者包含製造於一光學透明基體上的薄膜，及進一步其中該等過濾器之該等薄膜係，直接地或間接地，耦合至該過濾表面；及一光學透明覆模塑材料罩住該等二或多個過濾器，其中該覆模塑材料填充該等二或多個過濾器中之相鄰者間之及上方之一體積。
  2. 如請求項1之裝置，其中該覆模塑材料之一折射率係落入於該等二或多個過濾器之該等基體的一折射率之一預定範圍以內。
  3. 如請求項1之裝置，其中該覆模塑材料具有一第一表面及一第二表面，其中該第一表面接觸該區塊之該過濾表面，及該第二表面係遠離該過濾表面，其中該第二表面係經模塑用以於一特定角度導引光入射或出射該覆模塑材料，及進一步其中該裝置進一步包含於該第二表面上的一抗反射被覆層。
  4. 如請求項1之裝置，其進一步包含耦合至該覆模塑材料的對齊特性件用以將該等二或多個過濾器定位於垂直該過濾表面之一第一方向及定位於垂直該第一方向之一第二方向。
  5. 如請求項4之裝置，其中該等對齊特性件為延伸超出該第二表面的該覆模塑材料之部件，或係藉光刻術、於該覆模塑材料上電鍍、或該覆模塑材料之蝕刻製造。
  6. 如請求項1之裝置，其進一步包含耦合至該區塊之該過濾表面的一光學透明蓋使得一空腔係形成於該蓋與該區塊間，其中該覆模塑材料填充該空腔及該等二或多個過濾器係由該空腔內部的該覆模塑材料罩住。
  7. 如請求項6之裝置，其中該蓋的遠離該區塊之一表面包括對齊特性件用以匹配至於一基體或耦合至該基體的一元件上的對應互補特性件用以將該等二或多個過濾器定位於垂直該過濾表面之一第一方向及定位於垂直該第一方向之一第二方向。
  8. 如請求項1之裝置，其中匹配特性件係耦合至該區塊之與該過濾表面相對之一表面用以匹配至在一光學連接器上的對應互補特性件。
  9. 一種方法，其包含：將具有多個空腔之一模具置於一玻璃晶圓的一過濾表面上方，其中多組薄膜過濾器係耦合至該過濾表面，及進一步其中該等多組薄膜過濾器中之各組係由該等多個空腔中之一不同者所包封；將一光學透明覆模塑材料插入該等多個空腔內；及自該玻璃晶圓移除該模具。
  10. 如請求項9之方法，其進一步包含：施用一抗反射被覆層至該覆模塑材料之遠離該玻 璃晶圓的一表面。
  11. 如請求項10之方法，其進一步包含：執行該等多組薄膜過濾器中之各者結合耦合至該玻璃晶圓之光學裝置的晶圓層級測試；及將該玻璃晶圓切晶粒成晶粒區段，其中各個晶粒區段包括一組薄膜過濾器。
  12. 一種方法，其包含：將多組薄膜過濾器耦合至一玻璃晶圓之一過濾表面上；及將具有多個凹部的一空腔晶圓耦合至該玻璃晶圓的一過濾表面，使得藉各個凹部在該空腔晶圓與該玻璃晶圓間形成一分開空腔，及包封該等多組薄膜過濾器中之一者。
  13. 如請求項12之方法，其進一步包含：將一光學透明覆模塑材料注入該等空腔內部；施用一抗反射被覆層至該空腔晶圓之遠離該玻璃晶圓的一表面；及執行該等多組薄膜過濾器中之各者結合耦合至該玻璃晶圓之光學裝置的晶圓層級測試。
  14. 如請求項13之方法，其進一步包含：將該已耦合之空腔晶圓及玻璃晶圓切晶粒成晶粒區段，其中各個晶粒區段包括一組薄膜過濾器。
  15. 如請求項12之方法，其進一步包含：於將該空腔晶圓耦合至該玻璃晶圓之該過濾表面 之前，於將該空腔晶圓耦合至該玻璃晶圓之該過濾表面之前將一光學透明材料旋塗至該玻璃晶圓之該過濾表面及該等薄膜過濾器上；於將該空腔晶圓耦合至該玻璃晶圓之該過濾表面之前將該空腔晶圓置於該光學透明材料上方；施用一抗反射被覆層至該空腔晶圓之遠離該玻璃晶圓的一表面；執行該等多組薄膜過濾器中之各者結合耦合至該玻璃晶圓之光學裝置的晶圓層級測試；及將該已耦合之空腔晶圓及玻璃晶圓切晶粒成晶粒區段，其中各個晶粒區段包括一組薄膜過濾器。
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