TW201622687A

TW201622687A - 新穎組合物

Info

Publication number: TW201622687A
Application number: TW104108194A
Authority: TW
Inventors: 勞伯特安東尼路卡斯
Original assignee: 葛蘭素集團有限公司
Priority date: 2014-03-17
Filing date: 2015-03-13
Publication date: 2016-07-01
Also published as: GB201404700D0; AR099759A1; WO2015140060A1

Abstract

本發明係關於一種潔齒劑(dentifrice)組合物，其包括低含量球形熔融氧化矽粒子作為研磨劑及經口可接受之載劑。此等組合物可從牙齒或假牙表面有效清潔、拋光及移除污斑而不會高度磨蝕，由此降低對牙齒或假牙表面之刮傷及損害。此等組合物由此提供優良之牙齒表面或假牙之清潔、拋光、溫和污斑移除及增白。

Description

新穎組合物

本發明係關於一種包括低含量作為研磨劑之球形熔融氧化矽粒子及經口可接受載劑的潔齒劑組合物。此等組合物可從牙齒或假牙表面有效清潔、拋光及移除污斑而不會高度磨蝕，由此降低對牙齒或假牙表面之刮傷及損害。此等組合物由此提供優良清潔、拋光、溫和污斑移除及牙齒表面或假牙增白。

口腔護理組合物，特定而言潔齒劑，被用來每天清潔牙齒。除從牙齒移除牙菌斑及其他軟性物質之外，潔齒劑亦可有助於移除食物粒子及由諸如煙草、茶、或酒之物質引起之牙齒變色。清潔及拋光牙齒表面係藉由化學過程(諸如與牙菌斑內元素結合的材料)或藉由機械方式(諸如研磨物質)達成。

潔齒劑通常併入藉由磨除沉積物用來機械清潔及拋光牙齒之研磨材料。該研磨材料主要係用來達成從牙齒表面機械移除沉積物，例如藉由移除黏附於牙齒表面之表層膜及牙菌斑。該牙菌斑及表層膜易於例如因諸如茶及咖啡之食物及因煙草而變色及染色，從而產生不雅牙齒外觀。儘管此機械移除應能達成清潔作用，但所使用之研磨劑不應過度粗糙以最小化對牙齒表面之損害。除清潔及拋光牙齒之外，潔白的牙齒長期以來被認為是妝容所需。

US 6,517,815(Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien)揭示呈水性糊膏或液體分散液形式之潔齒劑，其包括以重量計10%至30%之氧化矽拋光劑與鋁氧化物(氧化鋁)以10：0.2至10：2重量比例之組合、以重量計20%至50%之保濕劑及以重量計2%至12%之縮合磷酸鹽。該縮合磷酸鹽係呈鹼金屬或銨鹽之形式。該鋁氧化物較佳係各種γ-鋁氧化物中具有以重量計至少10%之α-鋁氧化物含量的輕度煅燒氧化鋁。經建議該拋光劑之特殊組合(即該氧化矽與氧化鋁之組合)應能提供具有良好拋光及清潔作用同時僅有中度牙質及牙釉質磨蝕之潔齒劑，儘管存在堅硬的氧化鋁拋光組分。

US 4,632,826(Henkel Kommanditgesellschaft auf Aktien)揭示一種包括100重量份之氧化矽拋光劑及2至15重量份之弱度煅燒氧化鋁拋光劑之牙齒乳膏。該氧化矽拋光劑基本上由氧化矽水凝膠及沉澱氧化矽組成及該弱度煅燒氧化鋁基本上由以重量計10至50%之γ-鋁氧化物及以重量計50至90%之α-鋁氧化物組成。該牙齒乳膏適於每日用來移除污斑、拋光及清潔牙齒表面而不會產生任何深度劃傷或損害。

Klüppel等人J.Soc.Cosmet.Chem.，37，211-223(1986年7月/8月)「用於評定牙膏清潔能力之參數(Parameters for assessing the cleaning power of toothpastes)」比較多種潔齒劑調配物的拋光及劃傷效應。試驗調配物經描述含有拋光氧化鋁或水合氧化矽或水合氧化矽與拋光氧化鋁之混合物作為唯一的研磨材料。結果顯示可開發具有高清潔能力及低牙質磨蝕之潔齒劑產品。雖然具有增加量之拋光氧化鋁作為唯一研磨劑之試驗調配物可提供良好清潔能力，但此會伴隨不可接受之牙釉質磨蝕增加。最佳的試驗調配物含有氧化矽研磨劑與氧化鋁研磨劑之混合物，其呈現高清潔值及出乎意料之低牙釉質磨蝕值。

WO2011/120943(Glaxo Group Limited)揭示一種包括煅燒鋁氧化物拋光劑及縮合磷酸鹽(諸如水溶性鹼金屬多磷酸鹽)之潔齒劑組合物，其在不存在任何氧化矽研磨材料下可有效地增白及拋光牙齒之牙釉質及假牙表面，而不會高度磨蝕及劃傷牙釉質表面。該煅燒鋁氧化物拋光劑適宜地以該組合物重量計0.1%至3.0%之量存在。

US 6,083,489(Ultradent Products Inc)揭示經調配成包括用於加強牙菌斑移除能力之大體上球形清潔粒子的牙膏及其他潔齒劑。較佳清潔粒子尤其包括具有在約10微米至約200微米範圍內之粒子尺寸的空心鋁氧化物球。該更大、更接近球形之清潔粒子據說極不具研磨性，但與用於牙膏之習知研磨劑及拋光劑相比具有大大增強之牙菌斑移除能力。US 6,083,489之組合物據說可有效移除牙菌斑及其他軟性牙齒沉積物，但在移除黏附於牙齒表面之頑固污斑方面不一定有效。

全部主張美國臨時申請案61/117,856(Procter and Gamble)之優先權之WO2010/068433、WO 2010/068471、US2012/0219606及相關專利申請案描述一種包括以重量計約1%至約70%之熔融氧化矽粒子(其可係球形，例如至少25%或至少95%該等粒子可係球形)之口腔護理組合物。在一些實施例中，可使用少量熔融氧化矽，例如約1%至約10%，或約2%至約5%。

此等文件指出取決於製造方法之類型，熔融氧化矽粒子之形狀可係角形或球形，其形狀可影響該熔融氧化矽之磨蝕度。例如，對於相同粒子尺寸，球形熔融氧化矽與角形熔融氧化矽相比可具有較低的放射性牙質磨蝕(RDA)。因此，其能優化清潔能力而不會增加磨蝕度。此等文件中進一步闡明包括此種球形熔融氧化矽之組合物具有特定優點：由於渾圓的邊緣，該球形熔融氧化矽可較不具研磨性。此意謂可提高PCR對RDA之比例同時仍提供良好清潔。亦可以較高含量使用球形熔融氧化矽而不會過度磨蝕。該球形熔融氧化矽亦可與該角形熔融氧化矽或其中至少約25%該等粒子係角形之氧化矽結合使用，以有助於降低成本，同時仍提供具有可接受磨蝕度之良好清潔作用。

本發明係基於發現可使用與上述Procter and Gamble專利申請案中描述者相比顯著更低量之球形熔融氧化矽，同時仍可維持有效的清潔、拋光、污斑移除及增白作用。

此外，不似在Procter and Gamble專利申請案中描述之含高達以重量計70%球形或角形熔融氧化矽的口腔護理組合物，本文主張之調配物不具有原本將使此等組合物不適宜用作意欲每天使用之消費者保健產品之不可接受的高牙釉質或牙質磨蝕。

因此，在第一態樣中，本發明提供一種包括以全體組合物之重量計0.01至0.9%之作為研磨劑之球形熔融氧化矽粒子及經口可接受載劑之潔齒劑組合物。

適宜地，該球形熔融氧化矽粒子可以全體組合物之重量計0.02%至0.8%，諸如0.05%至0.7%或0.1%至0.5%或0.2%至0.6%之量存在。

該等熔融氧化矽粒子之形狀係球形或大體上球形。為避免疑慮，球形熔融氧化矽粒子包括其中全部粒子之形狀大致為圓形或橢圓形之任何粒子。

適宜地，至少90%之該等球形熔融氧化矽粒子大體上為球形，更適宜地，95%之該等球形熔融氧化矽粒子大體上為球形，甚至更適宜地，99%之該等球形熔融氧化矽粒子大體上為球形。

球形熔融氧化矽可根據在上述Procter and Gamble專利申請案中描述之方法製備，其亦描述此等氧化矽之各種商業來源。

球形熔融氧化矽之其他來源包括Denka Chemical GmbH、c/o Denka(Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha)、Japan-Omuta、Fukuoka-1、Shinkai-machi Omuta、Fukuota 836-8510(Japan)；及Micoron Co-Japan-Himeji-city、Hyogo-pref.-1、Fuji-Cho、Himeji-City 67101123(Japan)。

適宜地，該球形熔融氧化矽粒子具有(如由雷射繞射所測定)在約0.5至約15微米之範圍內與約2.5之最大跨距，更適宜地約1至10微米與約2.0或更小之最大跨距的中值粒子尺寸。

此球形熔融氧化矽之一實例係獲自Denka Chemical GmbH.之FB-3SDC，其具有約1.0微米之D(0.1)、約3.4微米之D(0.5)及約6.7微米之D(0.9)。

D(0.1)值係其中10%該等粒子低於此值，D(0.5)值係中值直徑，其中50%該分佈高於此值及50%低於此值，及D(0.9)值係其中90%該等粒子低於此值。跨距描述基於該等0.1、0.5及0.9分位數之分佈寬度，及表示為(D(0.9)-D(0.1)/D(0.5))。

適宜地，該粒子分佈係單峰。單峰係意謂具有單一模式之粒子尺寸分佈，由此離散分佈模式係根據其尺寸之粒子量(通常由體積或質量來測量)呈現其最大值的值。

根據本發明之潔齒劑組合物可進一步包括輔助研磨劑，其限制條件為該等研磨劑不會顯著不利影響牙質磨蝕。

用於本發明之輔助研磨劑之適宜實例包括氧化矽、氧化鋁、水合氧化鋁、煅燒氧化鋁、碳酸鈣、無水磷酸二鈣、二水合磷酸二鈣、水不溶性偏磷酸鈉、氧化鋯、珍珠岩、金剛石、稻殼氧化矽、氧化矽凝膠、矽酸鋁、焦磷酸鹽、浮石、聚合物粒子、以磷酸鈣為主之礦物質(例如磷酸三鈣(TCP)、水合HA及混合相(HA：TCP)磷酸鈣礦物質)及其混合物。

輔助研磨劑一般可以基於全體潔齒劑組合物之重量計範圍由約0.1%w/w至約50%w/w或約0.1%w/w至約20%w/w之量使用。

在一態樣中，該球形熔融氧化矽係在不存在沉澱氧化矽的情況下存在。

在本發明之一態樣中，球形熔融氧化矽係唯一的研磨劑。

放射性牙質磨蝕(RDA)係潔齒劑磨蝕性之量度。用於測定潔齒劑調配物磨蝕度之既存方法係藉由測量相對牙質磨蝕度(RDA)(Hefferen,JJ.，用於測量潔齒劑磨蝕度之實驗室方法，J.Dent.Res.55 563- 573，1976)。此檢驗測量由於長期用25：40 w/w試驗材料(例如牙膏)之漿液刷洗所造成從人類牙質之製備樣品的牙質損失。該等牙質樣品經照射以在該礦物質中產生³²P。該檢驗測量刷洗後在上清液中之放射性，與利用焦磷酸鈣之標準漿液刷洗所釋放之放射性相比。

適宜地，本發明組合物包括在約10至約100範圍內之低RDA值，例如在約20至約80或約20至約70之範圍內。

潔齒劑之清潔能力可藉由使用表層清潔比例(PCR)試驗(一種經認可適用於表徵含研磨劑之潔齒劑之污斑清潔(增白)作用之實驗室方法)來證明。PCR值係相對於得到100之經驗值之標準材料(Ca₂P₂O₇，Odontex Inc.)來計算。

適宜地，根據本發明之潔齒劑包括在約45至約130範圍內之PCR值，適宜地在約50至約110之範圍內。

根據本發明之潔齒劑展現牙齒表面之優良的清潔及污斑去除，同時具有最小牙質磨蝕。根據本發明潔齒劑之高清潔/低磨蝕度性質亦可反映在潔齒劑之清潔效率指數值上。該清潔效率指數值可輕易地由熟悉此項技術者測定。參見Schemehorn BR、Ball TL、Henry GM、Stookey GK，「針對磨蝕及清潔比較潔齒劑研磨系統(Comparing dentifrice abrasive systems with regard to abrasion and cleaning)」J.Dent Res 1992，71：559。

適宜地，根據本發明之潔齒劑包括在約1.15至約2.5範圍內之CEI值，適宜地在約1.2至約2.4或約1.7至約2.2之範圍內。

放射性牙釉質磨蝕(REA)係潔齒劑研磨性之另一量度。用於測定潔齒劑調配物磨蝕度之既存方法係藉由測量相對牙釉質磨蝕度(REA)(Hefferen,JJ，用於測量潔齒劑磨蝕度之實驗室方法，J.Dent.Res.55 563-573，1976)。此檢驗測量由於長期經25：40 w/w試驗材料(例如牙膏)之漿液刷洗所造成之從人類牙釉質之製備樣品的牙釉質損失。該等牙釉質樣品經照射以在該礦物質中產生³²P。該檢驗測量刷洗後在上清液中之放射性，與經焦磷酸鈣之標準漿液刷洗所釋放之放射性相比。

適宜地，根據本發明之潔齒劑包括約15或更低之REA值，較佳地約10或更低之REA值，其中最大安全及容許REA值係40。

本發明之潔齒劑組合物提供良好清潔與低磨蝕度，從而產生更清潔、更白及高度拋光之牙齒表面，具有較少或無污斑，減少牙菌斑及齒垢，從而導致口腔健康改良。

本發明之潔齒劑組合物可進一步包括水溶性縮合磷酸鹽，諸如鹼金屬焦磷酸鹽、三聚磷酸鹽或更高聚磷酸鹽，特定而言水溶性鹼金屬三聚磷酸鹽。適宜地，此鹽之鈉形式係較佳，儘管亦可使用鉀或混合鈉及鉀鹽作為較佳實施例。可使用所有物理形式，例如水合物或脫水形式。

最適宜地，該水溶性鹼金屬三聚磷酸鹽係三聚磷酸鈉。

適宜地，該水溶性縮合磷酸鹽(諸如鹼金屬三聚磷酸鹽)係以基於全體組合物之重量計1.0%至20.0%之量存在，例如2.0%至15.0%或1.0%至10%或5.0%至10.0%。

本發明之潔齒劑組合物可包括一或數種習知用於潔齒劑組合物之活性劑，例如，氟源、去敏感劑、抗菌劑、抗牙菌斑劑、抗結石劑、口腔異味劑、抗炎劑、抗氧化劑、抗黴菌劑、創傷癒合劑或其至少二者之混合物。此等試劑可以提供期望治療效果的含量包含。

去敏感劑之實例包括細管阻斷劑或神經去敏感劑及其混合物，例如在WO02/15809(Block)中描述。去敏感劑之實例包括鍶鹽，諸如氯化鍶、乙酸鍶或硝酸鍶，或鉀鹽，諸如檸檬酸鉀、氯化鉀、碳酸氫鉀、葡萄糖酸鉀及尤其硝酸鉀。

諸如鉀鹽之去敏感劑一般係以基於全體組合物之重量計2%至8% 間存在，例如可使用以重量計5%之硝酸鉀。

在一實施例中，該去敏感劑包括生物活性玻璃。適宜地，該生物活性玻璃係由以重量計約45%二氧化矽、以重量計約24.5%氧化鈉、以重量計約6%氧化磷、及以重量計約24.5%氧化鈣組成。一此種生物活性玻璃可以商品名NovaMin®商業獲得，亦稱為45S5 Bioglass®。

適宜地，該生物活性玻璃係以基於該潔齒劑重量計約1%至約20%之量存在，諸如以該潔齒劑組合物重量計約1%至約15%，或諸如約1%至約10%，或諸如約2%至約8%。

在另一實施例中，該去敏感劑包括精胺酸碳酸鈣鹽。適宜地，該精胺酸鹽係以該潔齒劑之約0.5%w/w至30%w/w範圍內之量存在，諸如該潔齒劑組合物之約1%至10%w/w、或諸如約1%至約10%w/w、或諸如約2%至約8%w/w。

在另一實施例中，該去敏感劑包括細管阻斷劑，諸如氧化矽、膠態氧化矽、奈米氧化鋅、次微米氧化鋁及次微米聚合物珠粒，其係呈包括在約1nm至約5微米範圍內之平均粒子尺寸的細粒形式。

用於本發明組合物之適宜氟離子源包括鹼金屬氟化物諸如氟化鈉、鹼金屬單氟磷酸鹽諸如單氟磷酸鈉、氟化亞錫、或氟化胺，其量係可提供25至3500ppm氟離子，較佳地100至1500ppm。常用氟源係氟化鈉，例如該組合物可含有以重量計0.1至0.5%之氟化鈉，例如，以重量計0.204%(等於923ppm氟離子)、以重量計0.2542%(等於1150ppm氟離子)或以重量計0.315%(等於1426ppm氟離子)。

此等氟離子有助於促進牙齒補充礦質且可增加牙齒硬組織之耐酸性以抵抗齲齒、牙侵蝕症(即酸磨損)及/或牙齒磨損。

本發明之組合物可含有額外調配劑，諸如表面活性劑、保濕劑、非研磨性(增稠)氧化矽、矯味劑、甘味劑、乳白或染色劑、防腐劑及水，選自彼等習知用於此等目的之口腔衛生組合物技術者。

用於本發明之適宜表面活性劑包括陰離子表面活性劑，諸如C_10-18烷基硫酸鈉，例如月桂基硫酸鈉。月桂基硫酸鈉一般被認為係陰離子性及強帶電性，若刷牙時期望高度起泡時適用。

除陰離子表面活性劑外，亦可使用兩性離子、兩性、陽離子性及非或低離子性表面活性劑來促進起泡特性。當陰離子及兩性表面活性劑一起使用時，獲得優化起泡系統，將提供改良口感及良好清潔。兩性表面活性劑之實例包括長鏈烷基(例如C₁₀至C₁₈烷基)甜菜鹼，諸如Albright & Wilson以商品名「Empigen BB」銷售之產品，及長鏈烷基醯胺基烷基甜菜鹼，諸如椰油醯胺丙基甜菜鹼。

用於本發明之陰離子/兩性表面活性劑組合之一個特佳實例係月桂基硫酸鈉/椰油醯胺丙基甜菜鹼。

適宜地，該表面活性劑係以全體組合物重量計約0.1至約15%，例如約0.5至約10%或約1.0至約5%之範圍存在。

用於本發明組合物之適宜保濕劑包括甘油、木糖醇、山梨醇、丙二醇或聚乙二醇、或其至少二者之混合物；該保濕劑可以全體組合物重量計約10至約80%，例如約20至約70%或約30至約60%之範圍存在。

應瞭解，本發明之組合物亦可用於口腔外，用於清潔假牙等。

本發明之潔齒劑組合物通常係經調配為牙膏、即溶粉末、錠劑及凝膠之形式。本發明之較佳組合物係牙膏及凝膠。

本發明之潔齒劑通常係經調配為適宜含於如技術中習知使用之層壓管或唧筒中及從其中分配之糊膏形式。額外實例可包括使用諸如戊烷或異戊烷之發泡劑的囊罐(bag-in-can)或囊閥(bag-on-valve)傳送系統。

製備本發明組合物之典型方法包括適宜地在真空中混合該等成分，直至獲得均相混合物，及若需要調節pH。

本發明由下文實例進一步闡明。

針對表1列舉之調配物獲得試驗數據。該等調配物係藉由按如下順序混合上文列舉之成分來製備。

1.混合甘油與山梨醇

2.添加研磨劑

3.添加KNO₃、TiO₂、糖精、蔗糖素、氟化鈉及氫氧化鈉

4.添加增稠氧化矽

5.添加表面活性劑

6.添加樹膠

7.添加香料油。

實例10 RDA方法 試樣製備

用於此研究之程序係由ADA及ISO 11609推薦用於測定潔齒劑對牙質之相對磨蝕性之Hefferren磨蝕度試驗。

使八(8)個人類牙質試樣經受中子轟擊，導致在由ADA概述之受控條件下在該等試樣內形成放射性磷(³²P)。隨後將該等試樣安置於甲基丙烯酸甲酯中，以使其配合V-8橫向刷毛機。該等試樣藉由使用由在50ml之0.5% CMC甘油溶液中之10g ADA參考材料組成之漿液刷洗5000個衝程(軟性Oral B-40；150g牙刷張力)來進行預處理。

程序

在該預處理過程後，使用「三明治設計」進行試驗(150g及1500個衝程)。在利用潔齒劑漿液(25g/40ml水)刷洗前後，利用ADA參考材料(10g Ca₂P₂O₇/50ml 0.5% CMC)刷洗各個牙齒組。將該程序重複數次以在各牙齒組上檢驗各產品。該處理設計係改良之拉丁方陣設計(Latin Square design)，以致沒有處理一致地跟隨另一處理。

計算

採用1ml樣品，稱重(~1g)，及添加至4.5ml「Ultima Gold」閃爍混合液。將該等樣品充分混合及隨即放置在用於輻射計數之閃爍計數器上。計數後，將每分鐘的凈計數(CPM)值除以該樣品之重量以計算每個漿液的凈CPM/克。隨後計算各個試驗漿液之ADA參考材料前後之凈CPM/g並將其平均以用於計算試驗材料之RDA(相對牙質磨蝕)。對該ADA參考材料指定100之值及計算其與試驗材料之比。

圖1中繪示之結果顯示在低濃度之球形熔融氧化矽下提供低度的牙質磨蝕度。

實例11 PCR方法 試樣製備

切下牛之永久中心門牙以獲得約10 X 10mm之唇部牙釉質試樣。隨後將該牙釉質試樣嵌入自聚合甲基丙烯酸酯樹脂中，使得僅該等牙釉質表面暴露。隨後在寶石雕刻輪上將該等牙釉質表面弄平滑及拋光，及輕度蝕刻以加速污斑積累及黏附。將其放置在轉動桿上(在37℃保溫箱中)，使其交替暴露於空氣及由胰酪酶大豆肉湯、茶、咖啡、黏蛋白、FeCl₃、及藤黃微球菌(Micrococcus luteus)BA13組成之溶液。每天更換該染色肉湯及沖洗該試樣持續七天。七天後，在該等牙釉質表面上出現深色染色表層膜。試樣隨後經沖洗，空氣乾燥，及冷凍直至使用。所有產品係使用同時製備之試樣進行試驗。

計分及配置

使用分光光度計(Minolta CM2600d)僅使用L*a*b*標度的L值來以光度方式對試管中之污斑量定級。經計分之試樣區域係在該10x10mm牙釉質中央之1/4英呎直徑圓。使用分數在30與42間之試樣(30係更深色染色)。基於此等分數，將該等試樣分為各16個試樣之群組，其中各群組具有相同的平均基線分數。

試驗程序

隨後將該等試樣安置在配有軟性耐綸細絲(Oral-B 40)牙刷之機械V-8橫向刷毛機上。將牙釉質表面上之刷力調整至150g。以藉由混合 25克潔齒劑與40ml去離子水所製備之漿液使用潔齒劑。ADA磨蝕參考材料(Ca₂P₂O₇)係藉由在50ml之0.5% CMC溶液中混合10g來製備。將該等試樣刷洗800個衝程(4 1/2分鐘)。為最小化機械變數，使每群組的一個試樣在八個刷洗頭之各者上刷洗。在用於刷洗四個試樣後製備新鮮漿液。刷洗後，將試樣沖洗、吸乾、及如先前描述再次針對污斑計分。

計算

測定刷洗前後污斑分數間之差異及針對參考群組計算平均及標準誤差。對參考材料群組之清潔比例指定100之值。將該參考群組之平均減量除以100以獲得用來乘以在該研究中各個別試驗減量之倍數的常數值。隨後計算各試樣之個別清潔比例(減量X常數)。隨後使用個別清潔比例計算各個群組(N=16)之平均及SEM。清潔比例值越大，在此試驗中移除之染色表層量便越大。

圖2中繪示之結果顯示在低濃度球形熔融氧化矽下提供良好的清潔程度。

實例12 REA方法 試樣製備

使八(8)個人類牙釉質試樣經受中子轟擊，導致在由ADA概述之受控條件下在該等試樣內形成放射性磷(³²P)。將該等試樣安置在甲基丙烯酸甲酯中，以使其配合V-8橫向刷毛機。使用由在50ml之0.5% CMC甘油溶液中之10g ADA參考材料組成之漿液使該等試樣刷洗15000個衝程的預處理過程。使用之牙刷係由ADA所指定具有150g牙刷張力之彼等。

程序

在該預處理過程後，使用以上參數(150g及5000個衝程)以「三明治設計」進行試驗。在利用試驗產品(25g產品/40ml水)刷洗前後，利用ADA參考材料(10g Ca₂P₂O₇/50ml 0.5% CMC)刷洗各個牙齒組。重複該程序數次以在各牙齒組上檢驗各產品。該處理設計係改良之拉丁方陣設計，以致沒有處理一致地跟隨另一處理。

計算

採用1ml樣品，稱重(~1g)，及添加至4.5ml「Ultima Gold」閃爍混合液中。將該等樣品充分混合及隨即放置在用於輻射偵測之液體閃爍計數器上。計數後，將每分鐘的凈計數(CPM)值除以該樣品之重量以計算凈CPM/克漿液。計算各個試驗漿液之ADA參考材料前後之凈CPM/g並將其平均以用於計算試驗材料之REA(相對牙釉質磨蝕)。對該ADA材料指定10之值並計算其與該試驗材料之比例。

圖3中繪示之結果顯示在低濃度球形熔融氧化矽下提供低牙釉質磨蝕度。

實例13 CEI數據

隨後將在上文PCR及RDA實驗中獲得之值用來獲得以下之清潔效率指數(CEI)，其值係(PCR-50+RDA)/RDA。

圖4中繪示之結果顯示在低濃度球形熔融氧化矽下提供有效清潔。

圖1顯示低濃度球形熔融氧化矽提供低度的牙質磨蝕度。

圖2顯示低濃度球形熔融氧化矽提供良好的清洗程度。

圖3顯示低濃度球形熔融氧化矽提供低牙釉質磨蝕度。

圖4顯示低濃度球形熔融氧化矽提供有效清潔。

Claims

一種潔齒劑(dentifrice)組合物，其包括以全體組合物之重量計0.01%至0.9%之球形熔融氧化矽粒子作為研磨劑及經口可接受之載劑。
如請求項1之組合物，其中至少90%該等球形熔融氧化矽係球形。
如請求項1或2之組合物，其中該球形熔融氧化矽研磨劑之中值粒子尺寸係在約0.5至約15微米之範圍內具有約2.5之最大跨距。
如請求項1或2之組合物，其包括輔助研磨劑。
如請求項1或2之組合物，其中該球形熔融氧化矽係該潔齒劑中之唯一研磨劑。
如請求項1或2之組合物，其包括水溶性縮合磷酸鹽。
如請求項6之組合物，其中該縮合磷酸鹽係水溶性鹼金屬三聚磷酸鹽。
如請求項1或2之組合物，其包括去敏感劑(desensitizing agent)。
如請求項1或2之組合物，其包括氟離子源。