TW201606363A - 狹縫加工裝置及狹縫加工方法 - Google Patents

狹縫加工裝置及狹縫加工方法 Download PDF

Info

Publication number
TW201606363A
TW201606363A TW104120919A TW104120919A TW201606363A TW 201606363 A TW201606363 A TW 201606363A TW 104120919 A TW104120919 A TW 104120919A TW 104120919 A TW104120919 A TW 104120919A TW 201606363 A TW201606363 A TW 201606363A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
optical film
meandering
supporting
film
detecting
Prior art date
Application number
TW104120919A
Other languages
English (en)
Inventor
陳廷槐
西原伸彦
Original Assignee
住友化學股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友化學股份有限公司 filed Critical 住友化學股份有限公司
Publication of TW201606363A publication Critical patent/TW201606363A/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

本發明之狹縫加工裝置100係一面使用第一檢測裝置106而進行蛇行控制一面進行光學薄膜F1之狹縫加工。第一檢測裝置106係包括：第一支撐體111，係支撐光學薄膜F1的第一面；第一光源部112a，係朝向位於第一反射面RS上之光學薄膜F1從光學薄膜F1的第二面側照射光；第一偏光板112c，係設於從第一光源112a部朝向光學薄膜F1之光的光路上；第一攝影部112b，係從光學薄膜F1的第二面側攝影位於第一反射面RS上之光學薄膜F1的反射光像；以及第一圖案檢測部114，依據由第一攝影部112b所攝影之光學薄膜F1的反射光像，檢測位於第一反射面RS上之複數個偏光圖案行F14a、F14b。

Description

狹縫加工裝置及狹縫加工方法
本發明係關於狹縫加工裝置及狹縫加工方法。
本申請案係依據103年6月30日於日本申請之特願2014-134629號主張優先權，並於此援用該內容。
就顯示立體圖像之方式而言，已知有稱為FPR(Film Patterned Retarder，薄膜式偏光)方式之方式。在FPR方式之3D液晶顯示器中，為了分離右眼用圖像及左眼用圖像，係在液晶面板的表面配置稱為FPR薄膜之圖案化相位差薄膜(請參閱專利文獻1)。
FPR薄膜係包含有右眼用偏光圖案行及左眼用偏光圖案行。右眼用偏光圖案行與左眼用偏光圖案行係與液晶面板的右眼用畫素行與左眼用畫素行對應而交互配置。右眼用偏光圖案行與左眼用偏光圖案行，其慢軸的方向為互相正交。在配置有右眼用偏光圖案行與左眼用偏光圖案行之主動區域的外側，亦有配置定位用的偏光圖案行之情形。
(先前技術文獻) (專利文獻)
專利文獻1：日本特開2012-32445號公報
於FPR薄膜係以細微的寬度形成有多數個偏光圖案行。因此，在將FPR薄膜切斷成預定的寬度或形狀，或在將FPR薄膜貼合於液晶面板時，必須正確地檢測偏光圖案行的位置，並依據該位置將FPR薄膜予以定位。
例如，於專利文獻1中，記載有從FPR薄膜的下面側照射光，並從FPR薄膜的上面側以攝影機進行攝影之裝置，作為偏光圖案行的檢測裝置。
在FPR薄膜與光源之間配置有偏光板，於FPR薄膜與攝影機之間係自FPR薄膜側開始依序配置相位差板(1/4波長板)與偏光板。右眼用偏光圖案行與左眼用偏光圖案行係沿著薄膜的長邊方向延伸。該等偏光圖案行係隨著FPR薄膜的拉出及搬運而連續地被檢測。
然而，就專利文獻1的構成而言，由於在FPR薄膜的下面側設置光源，故在FPR薄膜的下面側無法配置支撐體。因此，FPR薄膜必須在未由支撐體支撐之不穩定的位置進行偏光圖案行的檢測。雖亦考量在支撐體設置貫穿孔，惟僅靠通過貫穿孔之光，並無法充分的照亮FPR薄膜。
再者，在FPR薄膜的最表面係設有防護膜或分隔膜等保護膜。保護膜具有雙折射性，會產生未預期之相位差。若保護膜不存在，則右眼用偏光圖案行與左眼用偏光圖案行會作為亮圖案與暗圖案而被顯示，惟在保護膜存在時，則亮圖案與暗圖案的對比會降低，而無法明確地區別兩圖案。因此，在進行光學測量前，必須進行剝離保護膜之作業。
再者，FPR薄膜雖貼合於液晶顯示面板的顯示面側之偏光板的表面，惟在最近亦研討將偏光板與FPR薄膜一體成形之偏光板一體型FPR薄膜貼合於液晶顯示面板的表面。在該構成中，會由於偏光板面內的光學軸的偏差，導致上述亮圖案與暗圖案的對比更加降低，而更加難以區別兩圖案。
本發明之目的在於提供一種狹縫加工裝置及狹縫加工方法，係可精確度良好地檢測偏光圖案行而進行狹縫加工。
本發明之第一形態之狹縫加工裝置係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、偏光片層、及包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層，該狹縫加工裝置係包括：薄膜供應部，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測裝置，係檢測由前述薄膜供應部所送出之前述光學薄膜的前述複數個 偏光圖案行；第一蛇行控制部，係依據由前述第一檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷部，係在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜之搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測裝置係包括：第一支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一光源部，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第一偏光板，係設於從前述第一光源部朝向前述光學薄膜之前述光的光路上；第一攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測部，係依據由前述第一攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明之第一形態之狹縫加工裝置中，前述第一檢測裝置可包括：第一調整部，係調整前述第一偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
於本發明之第一形態之狹縫加工裝置中，更包括：第二檢測裝置，係在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇 行控制部，係依據由前述第二檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；其中，前述第二檢測裝置可包括：第二支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二光源部，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第二偏光板，係設於從前述第二光源部朝向前述光學薄膜之前述光的光路上；第二攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測部，係依據前述第二攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明之第一形態之狹縫加工裝置中，前述第二檢測裝置可包括：第二調整部，係調整前述第二偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
於本發明之第一形態之狹縫加工裝置中，前述第一蛇行控制部係使由前述薄膜供應部送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制部係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
本發明第二形態之狹縫加工裝置係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層、及偏光片層，該狹縫加工裝置係包括：薄膜供應部，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測裝置，係檢測由前述薄膜供應部所送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；第一蛇行控制部，係依據由前述第一檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷部，係在比前述第一蛇行控制部更靠前述光學薄膜的搬運方向之下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜的搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測裝置係包括：第一支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一光源部，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第一攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測部，係依據由前述第一攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明第二形態之狹縫加工裝置中，更 包括：第二檢測裝置，係在比由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制部，係依據由前述第二檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行；其中，前述第二檢測裝置可包括：第二支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二光源部，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第二攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測部，係依據由前述第二攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明之第二形態之狹縫加工裝置中，前述第一蛇行控制部係使由前述薄膜供應部送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制部係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
本發明之第一形態之狹縫加工方法係對長 條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、偏光片層、及包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層，該狹縫加工方法係包括：薄膜供應步驟，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測步驟，係檢測藉由前述薄膜供應步驟所送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；第一蛇行控制步驟，係依據由前述第一檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜的搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測步驟係包括：第一支撐步驟，係藉由第一支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第一支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一照射步驟，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側隔著第一偏光板照射光；第一攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測步驟，係依據藉由前述第一攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明之第一形態之狹縫加工方法中，前述第一檢測步驟可包括：第一調整步驟，係調整前述第一偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
於本發明之第一形態之狹縫加工方法中，更包括：第二檢測步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制步驟，係依據藉由前述第二檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；其中，前述第二檢測步驟可包括：第二支撐步驟，係藉由第二支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第二支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二照射步驟，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側隔著第二偏光板照射光；第二攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測步驟，係依據藉由前述第二攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明之第一形態之狹縫加工方法中， 前述第二檢測步驟可包括：第二調整步驟，係調整前述第二偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
於本發明之第一形態之狹縫加工方法中，前述第一蛇行控制步驟係使由前述薄膜供應步驟送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制步驟係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
本發明第二形態之狹縫加工方法係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層、及偏光片層，該狹縫加工方法係包括：薄膜供應步驟，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測步驟，係檢測藉由前述薄膜供應步驟所送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；第一蛇行控制步驟，係依據藉由前述第一檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜的搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測步驟係包括：第一支撐步驟，係藉由第一支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第一支撐體係具有 支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一照射步驟，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第一攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測步驟，係依據藉由前述第一攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明第二形態之狹縫加工方法中，更包括：第二檢測步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制步驟，係依據藉由前述第二檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行；其中，前述第二檢測步驟可包括：第二支撐步驟，係藉由第二支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第二支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二照射步驟，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從 前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第二攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測步驟，係依據藉由前述第二攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
於本發明之第二形態之狹縫加工方法中，前述第一蛇行控制步驟係使由前述薄膜供應步驟送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制步驟係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
依據本發明，可提供一種狹縫加工裝置及狹縫加工方法，係可精確度良好地檢測偏光圖案行而進行狹縫加工。
100‧‧‧狹縫加工裝置
101‧‧‧薄膜供應部
102、103‧‧‧薄膜捲繞部
104‧‧‧廢料捲繞部
105‧‧‧第一蛇行控制部
106‧‧‧第一檢測裝置
107‧‧‧第二蛇行控制部
108‧‧‧第二檢測裝置
109‧‧‧切斷部
110‧‧‧控制裝置
111‧‧‧第一支撐體
111a‧‧‧第一支撐面
112‧‧‧第一攝影單元
112a‧‧‧第一光源部
112b‧‧‧第一攝影部
112c‧‧‧第一偏光板
113‧‧‧第一調整部
114‧‧‧第一圖案檢測部
115‧‧‧第一導引輥
116‧‧‧第二導引輥
117‧‧‧第二支撐體
117a‧‧‧第二支撐面
118‧‧‧第二攝影單元
118a‧‧‧第二光源部
118b‧‧‧第二攝影部
118c‧‧‧第二偏光板
119‧‧‧第二調整部
120‧‧‧第二圖案檢測部
130‧‧‧第一檢測裝置
131‧‧‧第一攝影單元
AC‧‧‧主動區域
APAa、APAb‧‧‧偏光圖案行
DPAa、DPAb‧‧‧偏光圖案行
F1、F2‧‧‧光學薄膜
F11‧‧‧第一相位差層(相位差層)
F11a‧‧‧(未於說明書中說明)
F12‧‧‧基材層
F13‧‧‧光定向層
F14‧‧‧圖案化相位差層
F14a、F14b‧‧‧偏光圖案行
F15‧‧‧第一接著層
F16‧‧‧偏光片層
F17‧‧‧第二接著層
F18‧‧‧偏光片保護層
F19‧‧‧黏接層
F20‧‧‧第二相位差層(相位差層)
F20a‧‧‧(未於說明書中說明)
F21‧‧‧光學薄膜本體部
FCL‧‧‧搬運路徑
PLAX1‧‧‧偏光軸
PLAX2‧‧‧偏光軸
R1‧‧‧原生組構輥
RS‧‧‧反射面
RTAX‧‧‧慢軸
SL1、SL2、SL3‧‧‧狹縫線
SR‧‧‧周邊區域
第1圖係本發明第一實施形態之狹縫加工裝置之概略圖。
第2圖係狹縫加工裝置所具備之第一檢測裝置之概略圖。
第3圖係第一檢測裝置之概念圖。
第4圖係顯示光學薄膜的一例之剖面圖。
第5圖係顯示光學薄膜的一例之俯視圖。
第6圖係顯示光學薄膜的反射光像之光量分布及顏色分布之圖。
第7圖係本發明第二實施形態之應用於狹縫加工裝置之第一檢測裝置之概念圖。
[第一實施形態]
第1圖係本發明第一實施形態之狹縫加工裝置100之概略圖。
第2圖係狹縫加工裝置100所具備之第一檢測裝置106之概略圖。
第3圖係第一檢測裝置106之概念圖。
第4圖係顯示光學薄膜F1的一例之剖面圖。
第5圖係顯示光學薄膜F1的一例之俯視圖。
如第1圖所示，本實施形態之狹縫加工裝置100係包括薄膜供應部101、薄膜捲繞部102、103、廢材捲繞部104、第一蛇行控制部105、第一檢測裝置106、第二蛇行控制部107、地二檢測裝置108、切斷部109及控制裝置110。
薄膜供應部101係保持捲繞光學薄膜F1之原生組構輥R1，並將光學薄膜F1往該光學薄膜F1的長邊方向送出。於從薄膜供應部101送出之光學薄膜F1的搬運路徑FCL係從搬運方向上游側依序配置第一蛇行控制部 105、第一檢測裝置106、第二蛇行控制部107、第二檢測裝置108、以及切斷部109。
狹縫加工裝置100係一面藉由第一蛇行控制部105及第二蛇行控制部107控制光學薄膜F1的蛇行，並一面沿著狹縫線SL1、SL2、SL3(參閱第5圖)對光學薄膜F1進行狹縫加工。
如第5圖所示，光學薄膜F1係於與長邊方向正交之寬度方向交互地包含有主動區域AC及周邊區域SR之長條狀之薄膜。主動區域AC係例如為與液晶面板的顯示區域相對向之部分，周邊區域SR為與位於液晶顯示面板的顯示區域的周邊部之周邊區域相對向之部分。
於主動區域AC係對應於液晶面板之複數個畫素行而設有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行DPAa、DPAb。於液晶面板的顯示區域係交互地配置有顯示右眼用圖像之右眼用畫素行、及顯示左眼用圖像之左眼用畫素行。因此，於主動區域AC係交互地配置有與右眼用畫素行對應之右眼用偏光圖案行DPAa、及與左眼用畫素行對應之左眼用偏光圖案行DPAb。
周邊區域SR係交互地配置有慢軸的方向與右眼用偏光圖案行DPa平行之第一偏光圖案行APAa、及慢軸的方向與左眼用偏光圖案行DPAb平行之第二偏光圖案行APAb。設於周偏區域SR之偏光圖案行APAa、APAb係可單獨地，或與設於主動區域AC之偏光圖案行DPAa、DPAb一併地使用作為檢測光學薄膜F1的行走位置之基 準。為了容易檢測偏光圖案行APAa、APAb，例如可使設於周偏區域SR之偏光圖案行APAa、APAb之中之至少一個偏光圖案行的寬度設成比設於主動區域AC之偏光圖案行DPAa、DPAb的寬度更寬。
光學薄膜F1係具有與複數個(第5圖中例如為2個)液晶面板相當之寬度。使用狹縫加工裝置100而沿著狹縫線SL1、SL2、SL3將光學薄膜F1切斷。狹縫線SL1、SL2、SL3係設定於周邊區域SR內。藉此，光學薄膜F1係被分割成具有與一個液晶面板相當之寬度之複數個長條薄膜。狹縫線SL1、SL2、SL3係例如設定於設於周邊區域SR之偏光圖案行APAa、APAb的邊界線的位置。另外，藉由本實施形態之狹縫加工所切斷之狹縫線的位置只要是沒有加工上(生產上)的問題，則以細線予以切斷。
回到第1圖，在由薄膜供應部101所送出之光學薄膜F1的送出瞬間後的行走位置，係使用第一檢測裝置106予以檢測。第一檢測裝置106係檢測設於光學薄膜F1之複數個偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb(參閱第5圖)。控制裝置110係依據由第一檢測裝置106所檢測出之複數個偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb的位置(例如偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb的邊界線的位置)，而檢測光學薄膜F1的行走位置之偏移，並控制第一蛇行控制部105來控制光學薄膜F1的寬度方向之蛇行。
由第一蛇行控制部105控制蛇行之後之光學薄膜F1的行走位置係使用第二檢測裝置108予以檢測。 第二檢測裝置108係檢測設於光學薄膜F1之複數個偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb(參閱第5圖)。控制裝置110係依據由第二檢測裝置108所檢測出之複數個偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb的位置(例如偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb的邊界線的位置)，而檢測光學薄膜F1的行走位置之偏移，並控制第二蛇行控制部107來控制光學薄膜F1的寬度方向之蛇行。
第一蛇行控制部105係例如依據第一檢測裝置106及控制裝置110所檢測出之光學薄膜F1的行走位置的偏移，使由薄膜供應部101送出光學薄膜F1之位置(原生組構輥R1的位置)往光學薄膜F1的寬度方向移動。藉由第一蛇行控制部105，光學薄膜F1的行走位置的偏移會被大略控制。
第二蛇行控制部107係例如第二檢測裝置108及控制裝置110所檢測出之光學薄膜F1的行走位置的偏移，使支撐第一光學薄膜F1之第一導引輥115及第二導引輥116相對於光學薄膜F1的搬運方向傾斜。第一導引輥115及第二導引輥116係使旋轉軸互相平行而配置。第二蛇行控制部107係使第一導引輥105及第二導引輥106的旋轉軸的方向相對於光學薄膜F1的行走方向一體地傾斜。藉此，光學薄膜F1的行走位置會往寬度方向被微調整，使光學薄膜F1會行走於預先設定之行走位置。
另外，第二蛇行控制部107係亦可為使支撐光學薄膜F1之一支導引輥相對於光學薄膜F1的搬運方向 將旋轉軸的方向傾斜之構成。
被往切斷部109搬運之光學薄膜F1的行走位置係由第一蛇行控制部105及第二蛇行控制部107精密地控制。第一蛇行控制部105及第二蛇行控制部107之構成並不限定於上述者。就第一蛇行控制部105而言，較佳為可比第二蛇行控制部107更大幅度地調整光學薄膜F1的行走位置者。就第二蛇行控制部107而言，較佳為可比第一蛇行控制部105更精密地調整光學薄膜F1的行走位置者。
再者，第一蛇行控制部105、第一檢測裝置106、第二蛇行控制部107及第二檢測裝置108之配置並不限定於上述者。第一檢測裝置106可在第一蛇行控制部105的上游側亦可在下游側。第二檢測裝置108可在第二蛇行控制部107的上游側亦可在下游側。第二檢測裝置108只要是在比由第一蛇行控制部105控制光學薄膜F1的寬度方向的蛇行之位置更下游側，且在比由切斷部109切斷光學薄膜F1之位置更上游側，來檢測光學薄膜F1的複數個偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb者即可。
第二蛇行控制部107係只要是在比由第一蛇行控制部105控制光學薄膜F1的寬度方向的蛇行之位置更下游側，且在比由切斷部109切斷光學薄膜F1之位置更上游側，來檢測光學薄膜F1的寬度方向的蛇行者即可。
切斷部109係沿著第5圖中所示之狹縫線SL1、SL2、SL3切斷光學薄膜F1。切斷部109係可例如由 切斷刀或雷射裁剪機等所構成。切斷部109係以與狹縫線SL1、SL2、SL3的配置間隔相同之間隔，往光學薄膜F1的寬度方向配置複數個。控制裝置110係以狹縫線SL1、SL2、SL3會配置於切斷部109的正下方之方式，藉由第一蛇行控制部105及第二蛇行控制部107控制光學薄膜F1的行走位置。切斷部109係在比由第一蛇行控制部105及第二蛇行控制部107對光學薄膜F1的寬度方向之蛇行進行控制之位置更下游側，將光學薄膜F1沿著與該光學薄膜F1的搬運方向平行之狹縫線SL1、SL2、SL3予以切斷。
由切斷部109沿寬度方向分割出之光學薄膜F1中，包含主動區域AC之部分係被薄膜捲繞部102、103捲繞，而被供應作為具有相當於一個液晶面板的寬度之長條狀薄膜之原生組構輥R2、R3。由切斷部109分割出之光學薄膜F1中，不包含主動區域AC之部分係被廢材捲繞部104捲繞並被廢棄。
以下使用第2圖及第3圖說明第一檢測裝置106及第二檢測裝置108之構成。第一檢測裝置106與第二檢測裝置108的構成為相同。因此，在以下之說明中，係以第一檢測裝置106的構成為中心進行說明。
如第2圖及第3圖所示，本實施形態之第一檢測裝置106係包括第一支撐體111、第一攝影單元112、第一圖案檢測部114、以及第一調整部113。第一檢測裝置106係檢測包含於光學薄膜F1之偏光圖案行APAa、APAb、DPAa、DPAb(參閱第5圖)。
光學薄膜F1係至少包含相位差層F20、偏光片層F16、以及圖案化相位差層F14。從光學薄膜F1的第一面(由支撐體111所支撐之側之面)側往第二面(與由第一支撐體111所支撐之側為相反側之面)側，依序設置相位差層F20、偏光片層F16、圖案化相位差層F14。光學薄膜F1中，相位差層F11以外之部分為光學薄膜本體部F21。
圖案化位相位差層F14係包含有慢軸RTAX的方向彼此不同之複數個偏光圖案行F14a、F14b。圖案化相位差層F14係包含例如慢軸RTAX的方向互相正交之第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b。從光學薄膜F1的法線方向觀看，第一偏光圖案行F14a的慢軸RTAX係例如相對於偏光片層F16的偏光軸(穿透軸)PLAX1呈現向右轉45°之角度。從光學薄膜F1的法線方向觀看，第二偏光圖案行F14b的慢軸RTAX係例如相對於偏光片層F16的偏光軸PLAX1呈現向左轉45°之角度。第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b係朝與其長邊方向正交之方向交互地配置。第一偏光圖案行F14a係對應於第5圖之偏光圖案行APAa及偏光圖案行DPAa，第二偏光圖案行F14b係對應於第5圖之偏光圖案行APAb及偏光圖案行DPAb。
相位差層F20係以對於光學薄膜本體部F21可剝離之方式設置，以作為光學薄膜本體部F21的保護膜(分隔膜)。保護膜通常是藉由二軸延伸而製造，並具有雙折射性。保護膜相較於圖案化相位差層F14及偏光片層F16等，其相位差並未被充分地控制。因此，保護膜會對穿透 圖案化相位差層F14之光賦予未預期之相位差。如此之相位差由於會使光學測量的精確度降低，故必須加以排除，惟在本實施形態中係積極地利用如此之相位差，來進行偏光圖案行F14a、F14b的檢測。針對此點係於後述。
光學薄膜F1亦可包含有相位差層F20、偏光片層F16及圖案化相位差層F14以外之層。在本實施形態中，例如，可使用第4圖所示之光學薄膜F2的一部分或全部作為光學薄膜F1。
第4圖之光學薄膜F2係往厚度方向依序包含有第一相位差層(防護膜)F11、基材層F12、光定向層F13、圖案化相位差層F14、第一接著層F15、偏光片層F16、第二接著層F17、偏光片保護層F18、黏接層F19及第二相位差層(分隔膜)F20。光學薄膜F2中，第一相位差層F11與第二相位差層F20以外之部分，為光學薄膜本體部F21。
以下，具體說明光學薄膜F2之具體構成。
<偏光片層>
偏光片層F16係使射入之光之中具有某個方向之振盪面之光穿透，並吸收具有與該某個方向正交之振盪面之光。經過偏光片層F16而射出之光會成為線偏振光。
就偏光片層OP37而言，可利用經由例如下述步驟而製造之偏光膜，亦即，將聚乙烯醇(polyvinyl alcohol)系樹脂膜予以一軸延伸之步驟、以二色性色素將聚乙烯醇系樹脂膜予以染色而吸附二色性色素之步驟、以硼酸水溶液處理吸附了二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步 驟、以及於硼酸水溶液之處理後進行水洗之步驟。
聚乙烯醇系樹脂可藉由將聚乙烯乙酯(polyvinyl acetate)系樹脂予以皂化而製得。聚乙烯乙酯系樹脂可為乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙烯乙酯，亦可為乙酸乙烯酯與可與其共聚合之其他單體之共聚物。就可與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體而言，可舉例如不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類、具有銨基之丙烯醯胺類等。
就二色性色素而言，可使用碘或二色性有機染料。在使用碘作為二色性色素時，可採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘或碘化鉀之水溶液中而進行染色之方法。
聚乙烯醇系樹脂膜的一軸延伸可在以二色性色素進行染色之前進行，亦可與以二色性色素進行染色時同時進行，亦可在以二色性色素進行染色之後，例如在硼酸處理中進行。
偏光片層F16的厚度，例如可設成平均厚度為5μm以上40μm以下。
<圖案化相位差層>
圖案化相位差層F14係將射入之線偏振光作為二種偏光狀態之光而射出。圖案化相位差層F14係形成於光定向層F13上。
光定向層F13係對於具有液晶性之材料(以下稱為液晶材料)具有定向限制力。光定向層F13係使用聚 合性的光定向材料而形成。就光定向材料而言，係使用藉由被偏振光曝光而顯現出定向限制力者。藉由在對光定向材料曝光偏振光，而顯現出定向限制力之狀態下使其聚合，而形成維持了定向限制力之光定向層F13。就如此之光定向材料而言，可採用一般習知之材料。
光定向層F13例如包含定向限制力的方向互相正交之第一定向區域及第二定向區域。第一定向區域及第二定向區域係分別朝與光學薄膜F2的一邊平行之方向呈帶狀延伸。第一定向區域及第二定向區域係朝與本身延伸之方向正交之方向交互地設置。
圖案化相位差層F14係包含與光定向層F13的第一定向區域對應之第一偏光圖案行F14a、以及與第二定向區域對應之第二偏光圖案行F14b。第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b係慢軸互相正交。第一偏光圖案行F14a係使線偏振光變化成第一圓偏光。第二偏光圖案行F14b係使線偏振光變化成旋轉方向與第一圓偏光不同之第二圓偏光。
圖案化相位差層F14係使用具有聚合性之官能基之液晶材料而形成。圖案化相位差層F14係藉由因應於光定向層F13所具有之第一定向區域及第二定向區域的定向限制力而將液晶材料朝二方向排列，並且，使液晶材料所具有之聚合性的官能基產生反應，而維持所用之液晶材料的液晶相並使其硬化而製得。就該種聚合性的液晶材料而言，可採用一般所習知之材料。
<基材層>
基材層F12係被用作為支撐光定向層F13及圖案化相位差層F14之基材。光定向層F13及圖案化相位差層F14係藉由在基材層F12的表面塗覆光定向材料及液晶材料而形成。
就基材層F12的形成材料而言，可舉例如三醋酸纖維(TAC)系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚乙烯酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸酯系樹脂、包含環狀聚烯烴系樹脂或聚丙烯系樹脂之聚烯烴系樹脂、聚芳基酸酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂等。
基材層F12的厚度可設成例如平均厚度為40μm以上100μm以下。
<偏光片保護層>
就偏光片保護層F18的形成材料而言，可利用與上述之基材層F12同樣的材料。就這類材料而言，可舉例如三醋酸纖維(TAC)系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚乙烯酯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、(甲基)丙烯酸酯系樹脂、包含環狀聚烯烴系樹脂或聚丙烯系樹脂之聚烯烴系樹脂、聚芳基酸酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醯胺系樹脂等。
偏光片保護層F18的厚度可設成例如平均厚度為5μm以上80μm以下。
<接著層>
第一接著層F15及第二接著層F17的形成材料可舉例如使用以聚乙烯酯系樹脂或胺甲酸乙酯樹脂之組成物為主 要成分而溶解於水之材料或於水中分散之水系接著劑，包含有光硬化性樹脂及光陽離子聚合起始劑等之無溶劑之光硬化性接著劑。就第一接著層F15及第二接著層F17的形成材料而言，就製造時的體積收縮較少、厚度控制容易之觀點而言，使用光硬化性接著劑較佳，使用紫外線硬化型接著劑更佳。
就紫外線硬化型接著劑而言，只要是以液狀之可塗覆之狀態下供應，則可利用在以往偏光板的製造中所使用之各種接著劑。紫外線硬化型接著劑係就耐候性及聚合性之觀點而言，係使用包含有陽離子聚合性之化合物作為紫外線硬化性成分之一者為佳，該陽離子聚合性之化合物例如為環氧化合物，更具體而言，為日本特開2004-245925號公報所記載之在分子內不具有芳香環之環氧化合物。
就此類環氧化合物而言，可舉例如將以雙酚A之二氧化丙烯醚為代表例之芳香族環氧化合物原料之芳香族多羥基化合物予以核氫化，並再予以環氧丙基醚化而製得之氫化環氧化合物、於分子內至少具有一個結合於脂環式環之環氧基之脂環式環氧化合物、以脂肪族多羥基化合物之環氧丙基醚為代表例之脂肪族環氧化合物等。
紫外線硬化型接著劑係除了以環氧化合物為代表例之陽離子聚合性化合物以外，亦調配有聚合起始劑，尤其是藉由紫外線的照射而產生陽離子種或路易士酸而用以使陽離子聚合性化合物的聚合開始之光陽離子聚合 起始劑。再者，紫外線硬化型接著劑亦可調配有藉由加熱而使聚合開始之熱陽離子聚合開始劑、以及其他如光敏化劑等各種添加劑。
第一接著層F15及第二接著層F17的形成材料雖可為相同亦可為不同者，惟就生產性之觀點而言，在可得到適度的接著力之前提下，以使用相同接著劑形成第一接著層F15及第二接著層F17為佳。
第一接著層F15及第二接著層F17的厚度可設成例如平均厚度為0.5μm以上5μm以下。
<黏接層>
黏接層F19係例如用以將光學薄膜本體部F21貼合於液晶面板的顯示面。就形成黏接層F19之黏接劑而言，可舉例如以丙烯酸系樹脂、聚矽氧系樹脂、聚酯、聚氨酯、聚醚等作為基礎樹脂之黏接劑。其中，以丙烯酸系樹脂作為基礎樹脂之丙烯酸系黏接劑由於光學性透明性優良，並保持適度的濕性及凝聚力，並且耐候性及耐熱性等優異，而在加熱及加濕之條件下不易產生浮起或剝落等剝離問題，故適於利用。
於構成丙烯酸系黏接劑之丙烯酸系樹脂，醚部分適合利用具有如甲基、乙基、丁基、或2-乙基己基之碳數20以下之烷基之丙烯酸烷基醚、與具有如(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯之官能基之(甲基)丙烯酸系單體之丙烯酸系共聚合物。
包含有該種丙烯酸系共聚合物之黏接層 F19係在貼合於液晶面板後若發生不良狀況而必須加以剝離時，不會在玻璃基板產生殘膠，而可比較容易地加以剝離。丙烯酸系聚合物其玻璃轉化溫度較佳為25℃以下，更佳為0℃以下。再者，該丙烯酸系聚合物一般具有10萬以上之重量平均分子量。
黏接層F19的厚度可設成例如平均厚度為1μm以上40μm以下。
<第一相位差層>
第一相位差層(防護膜)F11係與基材層F12一起保護圖案化相位差層F14。第一相位差層F11係設成為可對於基材層F12自由地剝離。
第一相位差層F11係使用於透明樹脂膜形成黏接、剝離性之樹脂層或附著性之樹脂層，而賦予弱黏接性者。就透明樹脂膜而言，可舉例如聚乙烯對苯二甲酸酯、聚乙烯萘甲醛、聚乙烯、以及聚丙烯等熱可塑性樹脂的壓出膜、將上述加以組合後的共壓出膜、將上述予以一軸或二軸延伸後的膜等。就透明樹脂膜而言，較佳係利用透明性及均勻性優良，且廉價之聚乙烯對苯二甲酸酯或聚乙烯的一軸或二軸延伸膜。
就黏接、剝離性之樹脂層而言，可舉例如丙烯酸系黏接劑、天然橡膠系黏接劑、苯乙烯-丁二烯共聚合樹脂系黏接劑、聚異丁烯系黏接劑、乙烯基醚系樹脂黏接劑、聚矽氧系樹脂黏接劑等。再者，就附著性的樹脂層而言，可舉例如苯乙烯-醋酸乙烯共聚合樹脂等。就黏接、 剝離性之樹脂層而言，使用透明性優異之丙烯酸系黏接劑較佳。
第一相位差層F11的厚度可設成例如平均厚度為15μm以上75μm以下。
<第二相位差層>
第二相位差層(分隔層)F20係覆蓋黏接層F19而保護黏接層F19。第二相位差層F20係設置成可對於黏接層F19自由剝離。就第二相位差層F20而言，可用與第一相位差層F11同樣的透明樹脂膜。
第二相位差層F20的厚度可設成例如平均厚度為15μm以上75μm以下。
在本實施形態中，例如使用光學薄膜F2作為光學薄膜F1。不過，亦可使用從光學薄膜F2剝離例如第一相位差層F11者作為光學薄膜F1。
回到第2圖及第3圖，第一支撐體111係具有與光學薄膜F1的寬度方向平行之圓柱狀的第一支撐面111a。第一支撐體111係例如為構成光學薄膜F1的搬運路徑FCL(參閱第1圖)之複數個搬運輥中的一個。第一支撐體111係支撐光學薄膜F1的第一面(在本實施形態中，例如為第4圖之第二相位差層F20的上面)，並隨著光學薄膜F1的搬運而旋轉。
第一支撐體111係於第一支撐面111a內的至少一部分具有反射面RS，該反射面RS(第一反射面)係將從第二面側朝第一面側穿透光學薄膜F1之光予以反射。在 本實施形態中，第一支撐體111係例如被施加鏡面加工之金屬製的輥，而第一支撐面111a整體成為反射面RS，惟第一支撐面111的構成並不限於此。反射面RS的材料及構成並未特別限定。反射面RS可藉由對第一支撐體111的表面進行鏡面加工而形成，亦可藉由在第一支撐體111的表面配置金屬反射膜或反射型偏光板等反射構件而形成。再者，可為第一支撐面111a整體成為反射面RS，亦可為僅第一支撐面111a的一部分區域成為反射面RS。
第一攝影單元112包含有第一光源部112a、第一攝影部112b、以及第一偏光板112c。第一攝影單元112係以例如穿透一個偏光圖案行而在反射面RS被反射之光會穿透同一個偏光圖案行並射入第一攝影部112b之方式，使第一光源部112a與第一攝影部112b接近且一體地加以保持。
第一光源部112a係向位於反射面上之光學薄膜F1從光學薄膜F1的第二面(第4圖之第一相位差層F11的下面)側照射光。第一偏光板112c係設於從第一光源部112a朝向光學薄膜F1之光的光路上。從第一光源部112a照射之光會穿透第一偏光板112c而轉換成線偏振光。就第一光源部112a而言，可利用LED等周知的光源。第一光源部112a雖例如朝光學薄膜F1照射白色光，惟第一光源部112a所照射之光並不限定於此。例如，可因應於光學薄膜F1所包含之相位差層F20、圖案化相位差層F14及偏光片層F16、第一偏光板112c之相位差及波長分散特性等， 而從第一光源部112a照射適當波長的光。
第一攝影部112b係從光學薄膜F1的第二面側攝影位於反射面RS上之光學薄膜F1的反射光像。就第一攝影部112b而言，可使用CCD攝影機等周知的攝影手段。
第一圖案檢測部114係依據光學薄膜F1的反射光像，檢測位於反射面RS上之第一偏光圖案行F14a(APAa、DPAa)及第二偏光圖案行F14b(APAb、DPAb)，並抽出偏光圖案行F14a、F14b的邊界線之位置資訊。就第一圖案檢測部114而言，可利用周知的圖像處理手段。由第一攝影部112b所攝影之反射光像的圖像訊號，係由第一圖案檢測部114轉換成數位資料化之圖像資料，並施加色抽出處理或二值化處理等周知的圖像處理。
第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b其對於第一偏光板12c的偏光軸(穿透軸)PLAX2之慢軸RTAX所呈之方向彼此不同。因此，穿透第一偏光板112c、圖案化相位差層F14、偏光片層F16及相位差層F20,並由反射面RS反射，而再度穿透相位差層F20、偏光片層F16及圖案化相位差層F14後之光的亮度及顏色，會因是穿透第一偏光圖案行F14a後的光還是穿透第二偏光圖案行F14b後的光而不同。因此，第一圖案檢測部114係依據第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b的反射光像的亮度或顏色之差異，來檢測第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b。
例如第6圖中的(a)及(b)所示，當從第一光源部112a照射白色光時，會產生穿透第一偏光圖案行F14a並射入第一攝影部112b之光為紅色R且光量較大，而穿透第二偏光圖案行F14b並射入第一攝影部112b之光為綠色G且光量較小之現象。第一圖案檢測部114藉由對於反射光像的圖像資料施加色抽出處理或二值化處理等周知的圖像處理，而檢測第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b。色抽出處理及二值化處理雖可選擇其中之一來使用，惟亦可併用兩者。例如，第一圖案檢測部114可抽出在反射光像的圖像資料中具有顯示得較明亮的顏色(在第6圖中例如為紅色R)之部分，並進一步對所抽出之圖像資料進行二值化處理，而藉此將第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b作為亮圖案及暗圖案來進行檢測。色抽出處理及二值化處理的演算法已習知有多數種，並不限定於特定之檢測方法。
為了調整複數個偏光圖案行F14a、F14b的反射光像的對比(反射光像的亮度的比)，第一光源部112a係亦可照射紅色、綠色等色光。例如在從第一光源部112a照射紅色R之光時，幾乎不包含紅色R之第二偏光圖案行F14b的反射光像會成為黑色。藉此，第一偏光圖案行F14a的反射光像的亮度與第二偏光圖案行F14b的反射光像的亮度的比(以下稱為「第一偏光圖案行與第二偏光圖案行的反射光像之對比」)變大，第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b的檢測會變得容易。
第一光源部112a亦可照射綠色G之光。然而，就提高第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b的反射光像的對比而言，利用照射顯示得更加明亮之顏色(在第6圖中例如為紅色R)之第一光源部112a則更為有利。
如上述，第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b的反射光像的對比會由於射入光學薄膜F1之光的波長而不同。從第一光源部112a照射之光的波長，可設定成第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b的反射光像的對比會比照射白色光之情形相對地較大之波長。
第一調整部113係調整第一偏光板112c的偏光軸PLAX2與偏光圖案行F14a、F14b的慢軸RTAX之相對角度。藉由第一調整部113將相對於第一偏光板112c的偏光軸PLAX2之第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b的慢軸RTAX所呈之角度予以調整，藉此可使第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b的反射光像的非對稱性(顏色及亮度等之差異)變大。藉此，第一圖案檢測部114可精確度良好地檢測位於反射面上之偏光圖案行F14a、F14b。
另外，上述第一偏光板112c的偏光軸PLAX2與偏光圖案行F14a、F14b的慢軸RTAX之相對角度的調整，係例如藉由第一調整部113，在將第一偏光板112c貼合於可旋轉之治具後，操作員可一面確認光學薄膜F1的反射光像，一面使貼合於可旋轉之治具之第一偏光板112c跟治具一併旋轉。此時，在操作員一面確認光學薄膜F1的反射光像 一面使治具旋轉，而在判斷為第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b的非對稱性變得最大之位置，可進行停止治具旋轉之步驟。另一方面，上述相對角度之調整，亦可藉由第一調整部113以省略圖示之馬達等使治具旋轉而自動地進行。再者，上述相對角度之調整，雖可在每一次步驟都實施，惟亦可在原生組構輥(請參閱第1圖中的元件符號R1)的更換時確認光學薄膜F1的反射光像，而在該反射光像之非對稱性較大時不進行相對角度之調整，僅在非對稱性較小且圖案辨識不佳時進行調整。
控制裝置110係取得第一圖案檢測部114所抽出之偏光圖案行F14a、F14b的邊界線的位置資訊。控制裝置110係依據偏光圖案行F14a、F14b的邊界線的位置資訊，確認相對於第一支撐體111之光學薄膜F1之配置位置。控制裝置110係依據偏光圖案行F14a、F14b的位置(例如，偏光圖案行F14a、F14b的邊界線的位置)，檢測相對於預先設定之行走位置，實際的光學薄膜F2的行走位置有何種程度的偏移。控制裝置110係以減低光學薄膜F1的行走位置的偏移之方式，藉由第1圖所示之第一蛇行控制部105使薄膜供應部101往與光學薄膜F1的搬運方向正交之寬度方向移動。
控制裝置110係包含有電腦系統而構成。電腦系統包含有CPU等演算處理部、及記憶體或硬碟等記憶部。第一圖案檢測部114的功能係藉由演算處理部而實現。控制裝置110係包含可執行與電腦系統之外部裝置通 訊之介面，而統括地控制薄膜供應部101、薄膜捲繞部102、103、廢材捲繞部104、第一蛇行控制部105、第一檢測裝置106、第二蛇行控制部107、第二檢測裝置108及切斷部109等外部裝置的動作。
第二檢測裝置108之構成係與第一檢測裝置106相同。地二檢測裝置108係包括第二支撐體117、第二攝影單元118、第二圖案檢測部120、以及第二調整部119。第二支撐體117係與第一支撐體111為相同之構成，第二攝影單元118係與第一攝影單元112為相同之構成，第二圖案檢測部120係與第一圖案檢測部114為相同之構成，第二調整部119係與第一調整部113為相同之構成。
第二檢測裝置108係與第一檢測裝置106同樣地，藉由第二攝影單元118攝影由第二支撐體117的反射面RS(第二反射面)反射之光學薄膜F1之反射光像，並依據該攝影結果，檢測位於反射面RS上之第一偏光圖案行F14a(APAa、DPAa)及第二偏光圖案行F14b(APAb、DPAb)，並抽出第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b的邊界線的位置資訊。
如以上所述，在本實施形態之狹縫加工裝置100中，係使用上述構成者作為第一檢測裝置106及第二檢測裝置108。在第一檢測裝置106及第二檢測裝置108中，係使穿透圖案化相位差層F14及偏光片層F16之光經由相位差層F20而射入反射面RS，並使由反射面RS所反射之光再度經由相位差層F20而射入偏光片層F16及圖案 化相位差層F14。因此，藉由攝影部112b、118b所攝影之反射光像會與第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b對應地顯示出顏色及亮度不同之複數個圖案行。藉此，只要對該反射光像的圖案資料施加色抽出處理或二值化處理等圖像處理，即可精確度良好地檢測第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b。
在未將相位差層F20設於圖案化相位差層F14與反射面RS之間時，由攝影部112b、118b所攝影之反射光像會成為整面黑之圖像。因此，會無法檢測第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b。藉由將相位差層F20設於圖案化相位差層F14與反射面RS之間，產生從偏光片層F16漏出之光，該光的顏色及亮度亦會因是穿透第一偏光圖案行F14a後之光還是穿透第二偏光圖案行F14b後之光而不同。
相位差層F20相較於圖案化相位差層F14及偏光片層F16等，因其相位差並未被充分地控制，故在光學測量中常會發生不良之情形。因此，在光學測量前必須要進行如預先剝離相位差層等作業，惟在本實施形態中，是積極地利用相位差層F20的相位差，而不剝離相位差層F20來對偏光圖案行F14a、F14b進行檢測。藉此，可提供能夠精確度良好且有效率地檢測偏光圖案行F14a、F14b之檢送裝置及檢出方法。
再者，在本實施形態中，藉由調整部113、119，可加大第一偏光圖案行F14a與第二偏光圖案行F14b 的反射光像的非對稱性。藉此，偏光圖案行F14a、F14b的檢測精確度會提高。
本實施形態之縫隙加工裝置100係依據第一檢測裝置106及第二檢測裝置108所檢測出之偏光圖案行F14a、F14b的位置(例如，偏光圖案行F14a、F14b的邊界線的位置)，而控制光學薄膜F1的行走位置。因此，可精確度良好地進行行走位置的控制。再者，由於使用第一蛇行控制部105及第二蛇行控制部107以二階段進行行走位置的控制，故可幾乎消除光學薄膜F1的行走位置的偏移。因此，可降低因行走位置的偏移而導致之出錯切斷主動區域AC之虞，而提高良率。再者，由於可使考量了行走位置的偏差之剩餘部分(周邊區域)的寬度縮小，故光學薄膜F1的無謂的區域變少，從而減低製造成本。
[第二實施形態]
第7圖係本發明實施形態之應用於狹縫加工裝置之第一檢測裝置130之概念圖。
在本實施形態中，針對於與第一實施形態共通之構成要素係附加相同符號並省略詳細的說明。
於本實施形態中，由第一支撐體111支撐之光學薄膜F1的姿勢係與第一實施形態不同。再者，依據該姿勢的不同，第一檢測裝置130的構成亦與第一實施形態之第一檢測裝置106不同。
本實施形態之第一檢測裝置130係包括第一支撐體111、第一攝影單元131、以及第一圖案檢測部 114。第一支撐體111係以光學薄膜F1的圖案化相位差層F21被配置於比偏光片層F16更靠下側之姿勢來支撐光學薄膜F1。光學薄膜F1係在以由第一支撐體111所支撐之側之面作為第一面，並以與由第一支撐體111所支撐之側為相反側之面作為第二面時，由第一面側往第二面側依序包含有第一相位差層F11、圖案化相位差層F14以及偏光片層F16。
第一攝影單元131係包含第一光源部112a、及第一攝影部112b。
在本實施形態中，由於將偏光片層F16配置於圖案化相位差層F14與第一光源部112a之間，故在第一光源部112a與光學薄膜F1之間無須另行設置偏光板。因此，省略第一實施形態所示之第一偏光板112c及第一調整部113。
第一圖案檢測部114係依據光學薄膜F1的反射光像，檢測位於反射面RS上之偏光圖案行F14a、F14b，並抽出偏光圖案行F14a、F14b的邊界線的位置資訊。由第一攝影部112b所攝影之反射光像的圖像訊號係被第一圖案檢測部114轉換成數位資料化之圖像資料，並施加色抽出處理或二值化處理等周知的圖像處理。
第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b係相對於偏光片層F16的偏光軸PLAX之慢軸RTAX所呈的方向彼此不同。因此，穿透偏光片層F16、圖案化相位差層F14及相位差層F11，並由反射面RS反射，而再 度穿透相位差層F11、圖案化相位差層F14及偏光片層F16後之光的亮度及顏色，會因是穿透第一偏光圖案行F14a後的光還是穿透第二偏光圖案行F14b後的光而不同。因此，第一圖案檢測部114係依據第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b的反射光像的亮度或顏色之差異，來檢測第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b。
雖省略圖示，但第二檢測裝置的構成亦與第一檢測裝置130相同。於第二檢測裝置中，亦省略第一實施形態所示之偏光板118c及第二調整部119。於第二檢測裝置中，亦因被第二支撐體117支撐之光學薄膜F1的姿勢係與第一實施形態不同，故可依據第二攝影部118b所攝影之第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b的反射光像的亮度或顏色之差異，來檢測第一偏光圖案行F14a及第二偏光圖案行F14b。
於本實施形態中，亦積極地利用相位差層F11的相位差，而不剝離相位差層F11來對偏光圖案行F14a、F14b進行檢測。藉此，可提供能夠精確度良好且有效率地檢測偏光圖案行F14a、F14b之檢測裝置及檢測方法。並且，藉由使用這種檢測裝置及檢測方法來控制光學薄膜F1的行走位置，而可提供能夠精確度良好地進行行走位置之控制之狹縫加工裝置及狹縫加工方法。
以上，雖一面參閱隨附圖式一面針對本發明之較佳實施形態例進行了說明，惟本發明並不限定於該例。在上述例所示之各構成構件之各種形狀及組合僅為一 例，在未脫離本發明主旨之範圍內可依據設計要求等而進行各種變更。
再者，在上述之實施形態中，係說明了二種類之偏光圖案行作為圖案化相位差層所包含之偏光圖案行。然而，圖案化相位差層所包含之偏光圖案行並不限定於二種類，亦可設為三種類以上。此時，複數個偏光圖案行的反射光像亦會成為亮度及顏色彼此不同者。因此，圖案檢測部可依據複數個偏光圖案行的反射光像的亮度或顏色的差異，來檢測複數個偏光圖案行。
(產業上之可利用性)
依據本發明之狹縫加工裝置及狹縫加工方法，可提供能夠精確度良好地檢測偏光圖案行而進行狹縫加工之狹縫加工裝置及狹縫加工方法。
106‧‧‧第一檢測裝置
108‧‧‧第二檢測裝置
111‧‧‧第一支撐體
111a‧‧‧第一支撐面
112‧‧‧第一攝影單元
112a‧‧‧第一光源部
112b‧‧‧第一攝影部
112c‧‧‧第一偏光板
113‧‧‧第一調整部
114‧‧‧第一圖案檢測部
117‧‧‧第二支撐體
117a‧‧‧第二支撐面
118‧‧‧第二攝影單元
118a‧‧‧第二光源部
118b‧‧‧第二攝影部
118c‧‧‧第二偏光板
119‧‧‧第二調整部
120‧‧‧第二圖案檢測部
APAa、APAb‧‧‧偏光圖案行
DPAa、DPAb‧‧‧偏光圖案行
F1‧‧‧光學薄膜
F14‧‧‧圖案化相位差層
F14a、F14b‧‧‧偏光圖案行
F16‧‧‧偏光片層
F20‧‧‧第二相位差層(相位差層)
F21‧‧‧光學薄膜本體部
PLAX1‧‧‧偏光軸
PLAX2‧‧‧偏光軸
RS‧‧‧反射面
RTAX‧‧‧慢軸

Claims (16)

  1. 一種狹縫加工裝置，係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、偏光片層、及包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層，該狹縫加工裝置係包括：薄膜供應部，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測裝置，係檢測由前述薄膜供應部所送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；第一蛇行控制部，係依據由前述第一檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷部，係在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜之搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測裝置係包括：第一支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一光源部，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射 光；第一偏光板，係設於從前述第一光源部朝向前述光學薄膜之前述光的光路上；第一攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測部，依據由前述第一攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之狹縫加工裝置，其中，前述第一檢測裝置更包括：第一調整部，係調整前述第一偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述之狹縫加工裝置，更包括：第二檢測裝置，係在比由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制部，係依據由前述第二檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行； 其中，前述第二檢測裝置包括：第二支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二光源部，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第二偏光板，係設於從前述第二光源部朝向前述光學薄膜之前述光的光路上；第二攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測部，係依據前述第二攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之狹縫加工裝置，其中，前述第二檢測裝置更包括：第二調整部，係調整前述第二偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
  5. 如申請專利範圍第3項或第4項所述之狹縫加工裝置，其中，前述第一蛇行控制部係使由前述薄膜供應部送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移 動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制部係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
  6. 一種狹縫加工裝置，係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層、及偏光片層，該狹縫加工裝置係包括：薄膜供應部，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測裝置，係檢測由前述薄膜供應部所送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；第一蛇行控制部，係依據由前述第一檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷部，係在比前述第一蛇行控制部更靠前述光學薄膜的搬運方向之下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜的搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測裝置係包括：第一支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面； 第一光源部，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第一攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測部，依據由前述第一攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之狹縫加工裝置，更包括：第二檢測裝置，係在比由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制部，係依據由前述第二檢測裝置所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制部控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行；其中，前述第二檢測裝置包括：第二支撐體，係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二光源部，係朝向位於前述第二反射面上之前 述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第二攝影部，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測部，係依據由前述第二攝影部所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之狹縫加工裝置，其中，前述第一蛇行控制部係使由前述薄膜供應部送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制部係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
  9. 一種狹縫加工方法，係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、偏光片層、及包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層，該狹縫加工方法係包括：薄膜供應步驟，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測步驟，係檢測藉由前述薄膜供應步驟所送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行； 第一蛇行控制步驟，係依據由前述第一檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜的搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測步驟係包括：第一支撐步驟，係藉由第一支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第一支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一照射步驟，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側隔著第一偏光板照射光；第一攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測步驟，係依據藉由前述第一攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之狹縫加工方法，其中，前述第一檢測步驟更包括： 第一調整步驟，係調整前述第一偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
  11. 如申請專利範圍第9項或第10項所述之狹縫加工方法，更包括：第二檢測步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制步驟，係依據藉由前述第二檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；其中，前述第二檢測步驟包括：第二支撐步驟，係藉由第二支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第二支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二照射步驟，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側隔著第二偏光板照射光；第二攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射 光像；以及第二圖案檢測步驟，係依據藉由前述第二攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之狹縫加工方法，其中，前述第二檢測步驟更包括：第二調整步驟，係調整前述第二偏光板的偏光軸與前述偏光圖案行的慢軸之相對角度。
  13. 如申請專利範圍第11項或第12項所述之狹縫加工方法，其中，前述第一蛇行控制步驟係使由前述薄膜供應步驟送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制步驟係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
  14. 一種狹縫加工方法，係對長條狀之光學薄膜進行狹縫加工者，該光學薄膜係自第一面側朝向第二面側依序設有相位差層、包含有慢軸的方向彼此不同之複數個偏光圖案行之圖案化相位差層、及偏光片層，該狹縫加工方法係包括：薄膜供應步驟，係將前述光學薄膜朝該光學薄膜之長邊方向送出；第一檢測步驟，係檢測藉由前述薄膜供應步驟所 送出之前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；第一蛇行控制步驟，係依據藉由前述第一檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，來控制前述光學薄膜的寬度方向的蛇行；以及切斷步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，將前述光學薄膜沿著與該光學薄膜的搬運方向平行之狹縫線予以切斷；其中，前述第一檢測步驟係包括：第一支撐步驟，係藉由第一支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第一支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第一支撐面，並於前述第一支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第一反射面；第一照射步驟，係朝向位於前述第一反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第一攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第一反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第一圖案檢測步驟，係依據藉由前述第一攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第一反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之狹縫加工方法，更包括： 第二檢測步驟，係在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，檢測前述光學薄膜的前述複數個偏光圖案行；以及第二蛇行控制步驟，係依據藉由前述第二檢測步驟所檢測出之前述複數個偏光圖案行的位置，在比藉由前述第一蛇行控制步驟控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行之位置更靠下游側，控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行；其中，前述第二檢測步驟包括：第二支撐步驟，係藉由第二支撐體支撐前述光學薄膜的前述第一面，該第二支撐體係具有支撐前述光學薄膜的前述第一面之第二支撐面，並於前述第二支撐面內的至少一部分具有將從前述第二面側往前述第一面側穿透前述光學薄膜之光反射之第二反射面；第二照射步驟，係朝向位於前述第二反射面上之前述光學薄膜而從前述光學薄膜的前述第二面側照射光；第二攝影步驟，係從前述光學薄膜的前述第二面側攝影位於前述第二反射面上之前述光學薄膜的反射光像；以及第二圖案檢測步驟，係依據藉由前述第二攝影步驟所攝影之前述光學薄膜的前述反射光像，檢測位於前述第二反射面上之前述複數個偏光圖案行。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之狹縫加工方法，其中，前述第一蛇行控制步驟係使由前述薄膜供應步驟送出前述光學薄膜之位置朝前述光學薄膜的寬度方向移動，從而控制前述光學薄膜的蛇行；前述第二蛇行控制步驟係使支撐前述光學薄膜之導引輥相對於前述光學薄膜的搬運方向將旋轉軸的方向傾斜，從而控制前述光學薄膜的寬度方向之蛇行。
TW104120919A 2014-06-30 2015-06-29 狹縫加工裝置及狹縫加工方法 TW201606363A (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014134629 2014-06-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW201606363A true TW201606363A (zh) 2016-02-16

Family

ID=55019159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104120919A TW201606363A (zh) 2014-06-30 2015-06-29 狹縫加工裝置及狹縫加工方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2016002618A1 (zh)
CN (1) CN106662533A (zh)
TW (1) TW201606363A (zh)
WO (1) WO2016002618A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111928792B (zh) * 2020-07-15 2022-04-29 大族激光科技产业集团股份有限公司 一种lcd面板表面偏光片内切切割精度的检测方法及系统

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003344301A (ja) * 2002-05-31 2003-12-03 Sumitomo Chem Co Ltd 偏光フィルムの検査方法および検査装置
JP5474869B2 (ja) * 2010-09-03 2014-04-16 日東電工株式会社 偏光膜を有する積層体ストリップロールの製造方法
JP2012242679A (ja) * 2011-05-20 2012-12-10 Sony Corp 光学装置、位置検出方法、および表示装置の製造方法
JP2013015563A (ja) * 2011-06-30 2013-01-24 Nippon Zeon Co Ltd パターン位相差フィルムの評価方法
JP5815492B2 (ja) * 2011-11-01 2015-11-17 富士フイルム株式会社 光学フィルム、偏光板、画像表示装置及び３ｄ画像表示システム
JP2015163999A (ja) * 2012-06-18 2015-09-10 富士フイルム株式会社 繰返模様画像の解析システム及び方法、繰返構造図の解析システム及び方法
JP6089532B2 (ja) * 2012-09-21 2017-03-08 大日本印刷株式会社 パターン検出装置、パターン検出方法
JP2014095617A (ja) * 2012-11-09 2014-05-22 Dainippon Printing Co Ltd パターン測定装置およびパターン測定方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2016002618A1 (ja) 2016-01-07
JPWO2016002618A1 (ja) 2017-04-27
CN106662533A (zh) 2017-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4503689B1 (ja) 液晶表示素子の連続製造方法及び装置
JP4503693B1 (ja) 連続ウェブ形態の切込線入り光学フィルム積層体の連続ロール並びにその製造方法及び製造装置
JP4503692B1 (ja) 液晶表示素子を連続製造する装置において用いられる情報格納読出演算システム及び情報格納読出演算システムの製造方法
CN101925846B (zh) 光学薄膜层积体卷筒及其制造方法与系统
KR102222973B1 (ko) 결함 검사 장치, 광학 부재의 제조 시스템 및 광학 표시 장치의 생산 시스템
TW201113599A (en) Information storage/readout device for use in continuously manufacturing system for liquid-crystal display elements, and method and system for producing the same
JP2011085630A (ja) 液層表示素子の連続製造方法及び装置
CN101835595B (zh) 连结片制品的制造方法、连结片制品及光学显示单元的制造方法
TW201211633A (en) Fabrication method of laminate, phase shift layer fabrication method and phase shift layer
US20170348957A1 (en) System and method for continuously manufacturing optical display device
TWI574082B (zh) 光學組件貼合體之製造裝置
WO2016002624A1 (ja) 検出装置、検出方法、処理装置および処理方法
TWI630115B (zh) 光學顯示設備之生產系統及光學顯示設備之生產方法
TW201435447A (zh) 光學顯示設備之生產系統及生產方法
TW201606279A (zh) 檢測裝置、檢測方法、處理裝置及處理方法
TW201606363A (zh) 狹縫加工裝置及狹縫加工方法
CN105008989B (zh) 光学显示设备的生产系统
WO2015029998A1 (ja) フィルム貼合装置、光学表示デバイスの生産システム及び光学表示デバイスの生産方法
TW201510511A (zh) 缺陷檢查裝置及光學顯示設備之生產系統
TW201817542A (zh) 翻轉裝置及應用其之光學膜的製造方法
JP7288989B1 (ja) 長尺光学フィルムの検査方法
KR20230058613A (ko) 광학 적층체의 검사 방법
TW201506491A (zh) 光學顯示設備之生產系統