TW201604745A - 模組和操作模組的方法 - Google Patents

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Abstract

本發明提出一種用於提供人機介面的模組，其中該模組適於對處於定位區中的物件進行定位，其中該模組適於產生初級射束，其中該模組具有一掃描鏡構造，其中該掃描鏡構造係可以某種方式得到控制，使得該初級射束大體沿位於該定位區內之照射面實施一掃描運動，其中該模組係採用某種配置方案，使得當透過該初級射束與該處於照射面中之物件的相互作用產生一次級訊號時，對該次級訊號進行偵測，其中該模組適於根據該次級訊號產生一定位資訊，其中該模組具有一用於產生該初級射束的光源以及一用於對該次級訊號進行偵測的光學偵測機構，其中該光源、該掃描鏡構造及該光學偵測機構係整合在該模組中。

Description

模組和操作模組的方法
本發明之出發點為一種如申請專利範圍第1項之前言所述的模組。
用於提供人機介面的裝置已為吾人所知。
本發明之目的在於提出一種用於提供人機介面的模組，該模組具有相對緊密之結構形式並因而具有多種用途。
與先前技術相比，如並列項所述的本發明之模組及本發明之方法的優點在於，提供一相對緊密且構造簡單，但又能相對精確且可靠地對用戶指令進行確定的模組。此外能夠極塊地對物件，特別是對手指進行定位，從而實現一可非常靈活地應用且特別是藉由採集用戶手勢來識別用戶指令的模組。以某種方式將光源、掃描鏡構造及光學偵測機構整合在單獨一個本發明之模組中，以便將該模組靈活地裝入多種不同的設備類型。由於採用模組化結構，可遵循模組化理念根據不同的要求更為靈活地對各組件或對整個模組進行調整。由於採用特別是包括微電機械系統(MEMS)的掃描鏡構造，與先前技術相比，本發明之模組的優勢在於：其為微型化 程度相對較高的、用於提供人機介面的模組。人機介面在此亦稱作Human-Machine-Interface(HMI)，且該模組亦稱作HMI模組。
特定言之，人機介面係指一用戶介面，人可透過該用戶介面以某種方式與資訊電器及/或模組進行交互作用或輸入指令，從而對此資訊電器及/或模組進行控制及/或操作。該模組特別是用作針對資訊電器的指令發送器。該物件較佳為手指、筆或另一由用戶在定位區中予以放置及/或移動的物體。特定言之，定位在此係指對該物件相對該模組的位置座標進行確定，其中特別是根據該位置座標對該物件與該模組的距離及/或該物件相對該模組的速度進行偵測。特定言之，該初級射束與該物件的相互作用係指：該初級射束在該物件上被反射，使得該次級訊號為經反射之初級射束的能夠透過光學偵測機構偵測的部分。該光源較佳適於產生該射入定位區的初級射束，其中該初級射束例如包括可見光及/或紅外光。特定言之，該初級射束之(大致體沿照射面的)掃描運動係指該初級射束在該定位區之兩個定位極限間的柵格狀或行狀週期運動，其中特定言之，該初級射束為連續式或脈衝式光束。該光學偵測機構較佳適於對該次級訊號進行偵測，其中當該物件處於該照射面中時，特別是藉由該初級射束與該物件之相互作用來產生該次級訊號，從而可對該次級訊號進行偵測。
本發明之有利設計方案及改進方案參閱附屬項及結合附圖所作的描述。
根據一種較佳改進方案，該掃描鏡構造係可被調節至一位於兩個最大偏轉位置間的位置，其中該掃描鏡構造係採用某種配置方案，使得該初級射束在該掃描運動期間在位於該定位區之兩個定位極限間的定位 平面內進行運動。
如此便能以較高之精度對該物件進行定位。特定言之，大體沿該照射面進行的掃描運動在此係指大致為單行式的掃描運動。
根據另一較佳改進方案，該掃描鏡構造為微電機械系統(MEMS)，其中該掃描鏡構造具有一微電機械掃描鏡元件，其中該掃描鏡元件具有一特別是可圍繞第一軸線及/或圍繞大體垂直於該第一軸線的第二軸線進行偏移的鏡構件，其中特定言之，該鏡構件可圍繞該第一及第二軸線進行偏移或僅可圍繞該第一軸線進行偏移。
如此便能提供一相對緊密，但又能相對精確及快速地對物件進行定位的模組。
根據另一較佳改進方案，該模組具有一廣角光學系統，其中該廣角光學系統或該擴展光學系統具有一凸面狀鏡面光學系統、一凹面狀鏡面光學系統、一DOE(Diffractive Optical Element，繞射光學元件)以及/或者一透鏡或透鏡系統。
如此便能藉由該廣角光學系統，透過該可動掃描鏡元件之偏轉位置的相對較小的偏轉或改變來產生相對較大之張角。藉此便能藉由單獨一個可動鏡構造精確並快速地對該物件進行定位。特定言之，該廣角光學系統係固定地整合在該模組中。
根據另一較佳改進方案，該模組具有另一整合在模組中的光源，其中該另一光源適於產生另一初級射束，其中該掃描鏡構造係採用某種配置方案，從而大體沿該定位區內的另一照射面實施另一掃描運動，其中該模組係採用某種配置方案，使得當透過該另一初級射束與該處於另一 照射面中之物件的相互作用產生另一次級訊號時，對該另一次級訊號進行偵測，其中該模組適於根據該另一次級訊號產生另一定位資訊。
如此便能既在該照射面中，亦在該另一照射面中將該物件之定位精度進一步提高。
根據另一較佳改進方案，- 該掃描鏡元件適於產生該掃描運動以及適於產生該另一掃描運動，或者- 該掃描鏡構造具有另一掃描鏡元件，其中，該掃描鏡元件適於產生該掃描運動，以及，該另一掃描鏡元件適於產生該另一掃描運動。
如此便能以不同的方式實現兩個照射面，並從而根據不同的要求對該模組進行調整，藉此提高定位精度。
根據另一較佳改進方案，該照射面與該另一照射面係以相互平行之方式佈置，其中該照射面與該另一照射面沿一大體垂直於該照射面的投影方向重疊，其中特定言之，該照射面與該另一照射面完全重疊。此外根據另一較佳改進方案，該照射面與該另一照射面沿該投影方向間隔一照射距離，其中該照射距離較佳為0至50毫米，尤佳為1至5毫米，最佳為3毫米。
如此便能進一步提高定位精度。此外特定言之，當使得該物件按時序接連穿過該照射面及該另一照射面時，可沿垂直於該照射面之投影方向對該物件之物件運動進行偵測。特定言之，如此便能對該物件之點擊或觸碰運動進行偵測。
根據另一較佳改進方案，該廣角光學系統與該照射面係沿大 體垂直於該照射面之投影方向佈置在不同的平面中。
藉此便能進一步增大該模組之結構形式的緊密度，因為該光源及該掃描鏡構造係以與該廣角光學系統重疊的方式佈置。
根據另一較佳改進方案，該模組適於藉由飛行時間法及/或藉由強度測量來進行定位。
如此便能以精度及解析度相對較高的方式對該物體進行定位。
根據另一較佳改進方案，該光學偵測機構包括一光學偵測元件，其中- 該光學偵測元件與該光源係整合在同一半導體雷射元件中，其中特定言之，該半導體元件為包含垂直腔的面射型雷射器(VCSEL)或包含外部垂直腔的面射型雷射器(VeCSEL)，或者- 該光學偵測元件與該光源係以彼此分離之方式佈置，其中該光學偵測元件與該掃描鏡構造間隔一偏移距離，其中該偏移距離小於5厘米，較佳小於2厘米，最佳小於1厘米。
如此便能實現該模組的一種更為緊密且更小的實施方式。
根據另一較佳改進方案，該資訊電器係可根據該定位資訊及/或該另一定位資訊而得到控制。
如此便能藉由一資訊電器使用該模組，從而在該資訊電器上提供人機介面。特定言之，該資訊電器為便攜型資訊電器、通信終端、膝上型電腦、筆記型電腦、個人電腦、電視或另一用於進行電子資料處理的設備。
根據本發明之方法的一種較佳改進方案，在該第二操作步驟中，使得該朝向掃描鏡構造的初級射束以某種方式發生偏轉並朝向該廣角光學系統，從而透過該廣角光學系統使得該初級射束偏轉至該照射面。根據本發明，藉由該廣角光學系統便能將該初級射束所經過的角度選取得比該鏡構件之掃描角更大。該光源之射束整形光學系統較佳以某種方式與該廣角光學系統匹配，使得在該廣角光學系統後對該初級射束進行的射束整形的直徑不超過5毫米，較佳不超過3毫米，尤佳不超過1毫米，最佳不超過0.5毫米。
如此便能透過該掃描鏡構造之偏轉位置的相對較小的偏轉或改變來產生相對較大之張角。藉此便能藉由單獨一個可動鏡構造精確並快速地對該物件進行定位。
本發明之實施例參閱附圖，下文將對此等實施例作進一步說明。
1‧‧‧資訊電器
2‧‧‧模組
2'‧‧‧模組底面
3‧‧‧初級射束
3'‧‧‧初級射束
3"‧‧‧初級射束
4‧‧‧物件
5‧‧‧次級訊號
5'‧‧‧另一次級訊號
6‧‧‧光源
6'‧‧‧另一光源
7‧‧‧掃描鏡構造，掃描鏡元件
7'‧‧‧另一掃描鏡元件
8‧‧‧廣角光學系統
8'‧‧‧鏡面元件
8"‧‧‧另一鏡面元件
9‧‧‧光學偵測機構，光學偵測元件
9'‧‧‧光學偵測機構
10‧‧‧底座，支承面
11‧‧‧照射距離
12‧‧‧偏移距離
13‧‧‧照射距離
21‧‧‧第一子模組，光模組
22‧‧‧第二子模組，掃描模組
23‧‧‧第三子模組，第一控制及/或偵測模組
24‧‧‧第四子模組，分析模組
25‧‧‧第五子模組，第二控制及/或偵測模組
26‧‧‧第六子模組，控制模組
27‧‧‧第七子模組，相機模組
28‧‧‧第八子模組，通信模組
30‧‧‧照射面，定位區
30'‧‧‧另一照射面
71‧‧‧鏡構件
100‧‧‧主延伸平面
101‧‧‧照射方向
101'‧‧‧第一照射方向，第一定位極限
101"‧‧‧第二照射方向，第二定位極限
103‧‧‧投影方向
701‧‧‧第一軸線
702‧‧‧第二軸線
圖1至7顯示本發明之不同實施方式中的模組，其中圖1為本發明之一種實施方式中的用於提供人機介面的模組2的示意圖。
圖2顯示本發明之一種實施方式中的模組2。模組2具有用於產生初級射束3的光源6。
圖3顯示本發明之一種實施方式中的模組2。
圖4顯示本發明之一種實施方式中的模組2。
圖5顯示本發明之一種實施方式中的模組2。
圖6顯示本發明之一種實施方式中的模組2。
圖7顯示本發明之一種實施方式中的模組2。
在各附圖中相同的部件總是用相同的元件符號表示，故此等部件通常僅被命名或述及一次。
圖1為本發明之一種實施方式中的用於提供人機介面的模組2的示意圖。根據該實施方式，模組2適於對佈置在照射面30中的物件4進行定位。模組2係採用某種配置方案，使得初級射束3大體沿照射面30實施掃描運動，其中，當初級射束3以產生次級訊號5的方式與處於照射面30中的物件4發生相互作用時，對次級訊號5進行偵測。舉例而言，當沿照射方向101將初級射束3射出並使其入射至物件4，以及當自模組2視之該物件係沿照射方向101處於照射面30中時，透過初級射束3在物件4上的反射產生次級訊號5。
模組2適於透過偵測次級訊號5來對物件4進行定位，其中根據距離偵測及/或強度偵測來對物件4進行定位，其中特別是透過飛行時間法來進行距離偵測以及/或者透過強度測量來進行強度偵測，其中該強度偵測包括對測得的次級訊號5之強度與參考強度進行強度比較。例如在參考測量中對該參考強度進行測量，並將該參考強度保存在模組2中。
物件4之定位在此係指：對整個物件或僅對一物件部分(例如由初級射束3在物件4之物件表面上產生的投影點)進行位置確定，其中該位置確定係基於對模組2與物件4(或物件部分)之距離或間距的確定，以及/或者基於對該(與該物件部分關聯之)投影點相對另一(與另一物件 部分關聯之)投影點的位置的確定，其中特定言之，在掃描運動期間的不同時間點上產生該投影點及另一投影點。
模組2較佳具有第一子模組21、第二子模組22、第三子模組23、第四子模組24、第五子模組25、第六子模組26、第七子模組27、第八子模組28及/或其他子模組。如此便能提供具模組化結構的模組2，其可根據模組化理念以與多個不同資訊電器1及/或應用實例匹配的方式得到調整。
根據模組2的一種示範性實施方式，第一子模組21為適於產生初級射束3及/或另一初級射束3'的光模組21，以及/或者，第二子模組22為適於產生該初級射束3之掃描運動及/或該另一初級射束3'之另一掃描運動的掃描模組22，以及/或者，第三子模組23為適於產生關於次級訊號5及/或另一次級訊號5'之偵測訊號的第一控制及/或偵測模組23，以及/或者，第四子模組24為用於產生定位資訊的分析模組24，以及/或者，第五子模組25為第二控制及/或偵測模組25，以及/或者，第六子模組26為用於對電源進行控制的控制模組26，以及/或者，第七子模組27為相機模組，以及/或者，第八子模組28為適於與資訊電器1進行通信及/或對資訊電器1進行資料傳輸的通信模組28。
圖2顯示本發明之一種實施方式中的模組2。模組2具有用於產生初級射束3的光源6。該光源較佳為雷射二極體，例如為面射型雷射器。特定言之，光源6所產生的初級射束3為可見光束3(即波長為380奈米(nm)至780奈米的光)或紅外(IR)光束3。
根據該實施方式，模組2具有包含微電機械掃描鏡元件7 的掃描鏡構造7。特定言之，模組2係採用以下配置方案：透過掃描鏡構造7使得初級射束3以某種方式發生偏轉，從而使得初級射束3大體沿(平坦的)照射面30延伸。微機械掃描鏡元件7係可被調節至位於(掃描鏡元件7或另一掃描鏡元件7'的)兩個最大偏轉位置間的多個偏轉位置。在該二最大偏轉位置中的第一最大偏轉位置中，透過掃描鏡構造7沿第一照射方向101'將初級射束3沿照射面30射出。在該二最大偏轉位置中的第二最大偏轉位置中，透過掃描鏡構造7沿第二照射方向101'將初級射束3沿照射面30射出。在此，用第一照射方向101'及第二照射方向101"來定義定位區30的定位極限101'、101"。特定言之，在本實施方式中，“定位區30”與“照射面30”的含義相同。特定言之，微機械掃描鏡元件7係採用某種配置方案，使得當對該掃描鏡元件7施加控制訊號時，掃描鏡元件7在該二最大偏轉位置間實施偏轉運動。特定言之，初級射束3為雷射束3，例如連續式雷射束3或脈衝式雷射束3。
特定言之，在該掃描運動期間藉由一掃描頻率使得初級射束3進行運動，其中該掃描頻率與該掃描運動之掃描週期關聯。特定言之，在該掃描週期內，初級射束3以自第一定位極限101'(藉由元件符號為3'的初級射束示出)到達第二定位極限101"(藉由元件符號為3"的初級射束示出)再重回第一定位極限101'的方式進行掃描或偏移。該掃描頻率較佳為1至2000赫(Hz)，尤佳為5至500赫，最佳為10至200赫。
在位於掃描鏡元件7之最大偏轉位置之間的偏轉位置中，沿照射方向101將初級射束3射出。當物件4(例如用戶之手指4)以某種方式佈置在或處於照射面30中，使得物件4與照射面30接觸或相交時，透過 初級射束3與物件4的相互作用(例如反射)來產生次級訊號5。舉例而言，透過物件4之物件運動，物件4沿垂直於照射面30的投影方向103移入照射面30，使得物件4佈置在或處於照射面30中。在此情形下，當(在該掃描運動期間)沿照射方向101將初級射束3射出時，產生次級訊號5。
模組2包括適於對次級訊號5進行偵測的光學偵測機構9、9'，其包含例如為光電二極體9的光學偵測元件9。根據一種替代性實施方式，特別是當該光源為VCSEL時，包含光源9之光學偵測元件9為單塊式整合。模組2較佳適於根據光學偵測元件9所偵測的次級訊號5產生一偵測訊號。特定言之，模組2適於根據該偵測訊號產生一定位資訊。較佳地，模組2適於在對次級訊號5進行偵測的過程中，產生關於掃描鏡元件7之一偏轉位置及/或關於該另一掃描鏡元件7'之另一偏轉位置的位置偵測訊號，從而根據該偵測訊號及該位置偵測訊號以經時間解析的方式產生該定位資訊。特定言之，該定位資訊包括關於物件4與模組2之距離的距離資訊，及/或關於物件4相對模組2之定向方向的定向資訊，及/或關於投影點在物件4之物件表面上的座標的位置座標。特定言之，模組2適於透過飛行時間法(英語：Time-of-Flight，TOF，Detection)及/或透過強度比較藉由經時間解析的分析對該物件進行定位。
圖3顯示本發明之一種實施方式中的模組2。該圖示出一包含模組2及底座10的系統，其中模組2具有模組底面2'，該模組底面貼靠在例如為工作台的底座10(支承面)上。在本實施方式中，支承面10主要沿平面100延伸。特定言之，模組2採用某種配置方案，使得在模組2藉由模組底面2'貼靠在支承面10上的情況下，照射面30與主延伸平面100大體 相互平行，並且在支承面10與照射面30之間存在一(沿與照射面30垂直的投影方向103的)照射距離11。照射距離11較佳為0.1至10毫米(mm)，尤佳為0.5至5毫米，最佳為約1毫米。
在圖3所示實施方式中，光源6、掃描鏡元件7及光學偵測元件9係大體佈置在第一模組平面中，以及，廣角光學系統8係佈置在第二模組平面中，其中該第一與第二模組平面係大體平面平行且彼此間隔一定距離。如此便能提供構造極為緊密的模組2。作為替代方案，根據本發明，光源6、掃描鏡元件7、光學偵測元件9及廣角光學系統8可佈置在共同一個模組平面中。
圖4顯示本發明之一種實施方式中的模組2。該圖示出偏移距離12，其中該偏移距離自模組2之第一位置(模組2在該第一位置上將初級射束3射出)延伸至模組2之第二位置(模組2在該第二位置上對次級訊號5進行偵測)。第一位置例如與模組2之射束輸出區域對應，且第二位置例如與模組2之偵測區域對應，其中在該偵測區域內佈置有光學偵測元件9。在本發明中，偏移距離12小於5厘米，較佳小於2厘米，最佳小於1厘米。
圖5顯示本發明之一種實施方式中的模組2。在本實施方式中，模組2包括一光源6及另一光源6'。該另一光源6'適於產生另一初級射束3'。在此，掃描鏡構造7適於產生該另一初級射束3'之大體沿另一照射面30'的另一掃描運動。在此透過照射面30及另一照射面30'構成定位區30、30'。特定言之，可藉由相同或不同的掃描頻率，以及/或者採用同步或異步的方式來實施該另一初級射束3'之另一掃描運動及該初級射束3之掃描運 動。廣角光學系統8在此具有一鏡面元件8'及另一鏡面元件8"。透過掃描鏡元件7使得初級射束3朝向鏡面元件8'，以及使得另一初級射束3'朝向另一鏡面元件8"。在此，鏡面元件8'及另一鏡面元件8"係採用某種配置方案，從而在該掃描運動中沿照射面30將初級射束3射出，以及在該另一掃描運動中沿另一照射面30'將另一初級射束3'射出。在此，照射面30與另一照射面30'間隔一沿投影方向103的照射距離13。
當物件4係佈置在照射面30中，且初級射束3與物件4發生相互作用時，產生次級訊號5並透過光學偵測元件9對該次級訊號進行偵測。當物件4係佈置在另一照射面30'中，且該另一初級射束3'與物件4發生相互作用時，產生另一次級訊號5'並透過光學偵測元件9對該另一次級訊號進行偵測。根據一種(未繪示的)替代性實施方式，特別是當光源6及另一光源6'為VCSEL時，透過光源6對次級訊號5進行偵測，以及，透過另一光源6'對另一次級訊號5'進行偵測。透過採用兩個(平坦且相互平行的)照射面30、30'，可使得物件4具有相對較高之定位精度。
圖6顯示本發明之一種實施方式中的模組2。該圖所示實施方式與圖5所示實施方式的區別在於，光源6及另一光源6'採用以下佈局或佈置方案：以某種方式對初級射束3及另一初級射束3'進行導引，從而大體沿照射面30將初級射束3射出，以及大體沿另一照射面30'將另一初級射束3'射出，其中初級射束3與另一初級射束3'自光源6或另一光源6'出發在大致相同的點上入射至掃描鏡構造7。廣角光學系統8例如採用自由形體。
圖7顯示本發明之一種實施方式中的模組2。在本實施方式中，模組2具有掃描鏡構造7、7'，其包含微電機械掃描鏡元件7、另一微 電機械掃描鏡元件7'及廣角光學系統8。在此，照射面30與另一照射面30'係佈置在相同的平面30、30'中，其中，透過掃描鏡元件7使得初級射束3大體沿照射面30進行掃描運動，以及，透過另一掃描鏡元件7'使得另一初級射束3'大體沿另一照射面30'進行掃描運動。如此便能在對物件4進行定位時實現相對較高之角解析度。
作為替代方案，光源6例如為VCSEL雙感測器，其中該VCSEL雙感測器適於產生初級射束3以及對次級訊號5進行偵測。
2‧‧‧模組
3‧‧‧初級射束
3'‧‧‧初級射束
3"‧‧‧初級射束
4‧‧‧物件
5‧‧‧次級訊號
6‧‧‧光源
7‧‧‧掃描鏡構造，掃描鏡元件
8‧‧‧廣角光學系統
9‧‧‧光學偵測機構，光學偵測元件
101‧‧‧照射方向
101'‧‧‧第一照射方向，第一定位極限
101"‧‧‧第二照射方向，第二定位極限
103‧‧‧投影方向

Claims (13)

  1. 一種用於提供人機介面的模組(2)，其中該模組(2)適於對處於定位區(30，30')中的物件(4)進行定位，其中該模組(2)適於產生初級射束(3)，其中該模組(2)具有一掃描鏡構造(7，7')，其中該掃描鏡構造(7，7')係可以某種方式得到控制，使得該初級射束(3)大體沿該位於定位區(30，30')內之照射面(30)實施一掃描運動，其中該模組(2)係採用某種配置方案，使得當透過該初級射束(3)與該處於照射面(30)中之物件(4)的相互作用產生一次級訊號(5)時，對該次級訊號(5)進行偵測，其中該模組(2)適於根據該次級訊號(5)產生一定位資訊，其特徵在於，該模組(2)具有一用於產生該初級射束(3)的光源(6)以及一用於對該次級訊號(5)進行偵測的光學偵測機構(9，9')，其中該光源(6)、該掃描鏡構造(7，7')及該光學偵測機構(9，9')係整合在該模組(2)中。
  2. 如申請專利範圍第1項之模組(2)，其特徵在於，該掃描鏡構造(7，7')係可被調節至一位於兩個最大偏轉位置間的偏轉位置，其中該掃描鏡構造(7，7')係採用某種配置方案，使得該初級射束(3)在該掃描運動期間在位於該定位區(30，30')之兩個定位極限(101'，101")間的定位平面(30)內進行運動。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之模組(2)，其特徵在於，該掃描鏡構造(7，7')為微電機械系統(MEMS)，其中該掃描鏡構造(7，7')具有一微電機械掃描鏡元件(7)，其中該掃描鏡元件(7)具有一特別是可圍繞第一軸線(701)及/或圍繞大體垂直於該第一軸線(701)的第二 軸線(702)進行偏移的鏡構件(71)，其中特定言之，該鏡構件(71)可圍繞該第一及第二軸線(701，702)進行偏移或僅可圍繞該第一軸線(701)進行偏移。
  4. 如前述申請專利範圍中任一項之模組(2)，其特徵在於，該模組(2)具有一廣角光學系統(8)，其中該廣角光學系統(8)具有一凸面狀鏡面光學系統、一凹面狀鏡面光學系統、一DOE(Diffractive Optical Element，繞射光學元件)及/或一透鏡，其中該廣角光學系統(8)較佳以某種方式與該光源之射束整形光學系統匹配，使得在該廣角光學系統(8)後對該初級射束(3)進行的射束整形的直徑不超過5毫米，較佳不超過3毫米，尤佳不超過1毫米，最佳不超過0.5毫米。
  5. 如申請專利範圍第1或2項之模組(2)，其特徵在於，該模組(2)具有另一整合在模組(2)中的光源(6')，其中該另一光源(6')適於產生另一初級射束(3')，其中該掃描鏡構造(7，7')係採用某種配置方案，使得該另一初級射束(3')大體沿位於該定位區(30，30')內的另一照射面(30')實施另一掃描運動，其中該模組(2)係採用某種配置方案，使得當透過該另一初級射束(3')與該處於另一照射面(30')中之物件(4)的相互作用產生另一次級訊號(5')時，對該另一次級訊號(5')進行偵測，其中該模組(2)適於根據該另一次級訊號(5')產生另一定位資訊。
  6. 如前述申請專利範圍中任一項之模組(2)，其特徵在於該掃描鏡元件(7)適於產生該掃描運動以及適於產生該另一掃描運動，或者 該掃描鏡構造(7，7')具有另一掃描鏡元件(7')，其中，該掃描鏡元件(7)適於產生該掃描運動，以及，該另一掃描鏡元件(7')適於產生該另一掃描運動。
  7. 如申請專利範圍第1或2項之模組(2)，其特徵在於，該照射面(30)與該另一照射面(30')係以相互平行之方式佈置，其中該照射面(30)與該另一照射面(30')沿一大體垂直於該照射面(30)的投影方向(103)重疊，其中特定言之，該照射面(30)與該另一照射面(30')完全重疊。
  8. 如申請專利範圍第7項之模組(2)，其特徵在於，該照射面(30)與該另一照射面(30')沿該投影方向(103)間隔一照射距離(13)，其中該照射距離(13)較佳為0至50毫米，尤佳為1至5毫米，最佳為3毫米。
  9. 如申請專利範圍第1或2項之模組(2)，其特徵在於，該模組2適於透過飛行時間法及/或透過強度測量來進行定位。
  10. 如申請專利範圍第1或2項之模組(2)，其特徵在於，該光學偵測機構(9，9')包括一光學偵測元件(9)，其中該光學偵測元件(9)與該光源(6)係整合在同一半導體雷射元件中，其中特定言之，該半導體元件為包含垂直腔的面射型雷射器(VCSEL)或包含外部垂直腔的面射型雷射器(VeCSEL)，或者該光學偵測元件(9)與該光源(6)係以彼此分離之方式佈置，其中該光學偵測元件(9)與該掃描鏡構造(7，7')間隔一偏移距離(12)，其中該偏移距離(12)小於5厘米，較佳小於2厘米，最佳小於1厘米。
  11. 一種包含如前述申請專利範圍中任一項所述之模組(2)的資訊電器(1)，其特徵在於，該資訊電器(1)係可根據該定位資訊及/或該另一定位資訊而得到控制。
  12. 一種對如前述申請專利範圍中任一項所述之模組(2)進行操作的方法，其中當物件位於定位區(30，30')中時，藉由該模組(2)對該物件(4)進行定位，其特徵在於，在第一操作步驟中透過該光源(6)產生一初級射束(3)，其中使得該初級射束(3)朝向該掃描鏡構造(7，7')，其中在第二操作步驟中以某種方式對該掃描鏡構造(7，7')進行控制，使得該初級射束(3)在該定位區(30，30')之照射面(30)中實施一掃描運動，其中在第三操作步驟中，當該初級射束(3)與該物件(4)在該掃描鏡構造(7，7')之偏轉位置中發生相互作用時，在該掃描鏡構造(7，7')之該偏轉位置中透過該光學偵測機構(9，9')對次級訊號(5)進行偵測，其中在第四操作步驟中根據所偵測的次級訊號(5)產生一定位資訊。
  13. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於，在該第二操作步驟中，使得該朝向掃描鏡構造(7，7')的初級射束(3)以某種方式發生偏轉並朝向該廣角光學系統(8)，從而透過該廣角光學系統(8)使得該初級射束(3)偏轉至該照射面(30)。
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