TW201527416A - 包含一基材及一光聚合物膜之組配 - Google Patents

Abstract

本發明有關於一種包含一基材及一光聚合物膜之組配，其可分開地至少以區段彼此接合，該基材包含聚對苯二甲酸乙酯，及該光聚合物膜包含三維上交聯的聚胺甲酸酯母質聚合物、寫入單體及光起始劑，其特徵在於該基材，在23℃下於式(I)染料之0.5體積%乙酸丁酯溶液中培養7日之後 □ 具有L值L1及在該培養之前L值L0，該L值係藉CieLAB測量法測定的，及該L值L1與L0之間的差值滿足式(II)L1-L0<-0.25 (式II)。

Description

包含一基材及一光聚合物膜之組配

本發明有關於一種包含一基材及一光聚合物膜之組配，其可分開地(partably)至少以區段(section)彼此接合，該基材包含聚對苯二甲酸乙酯，及該光聚合物膜包含三維上交聯的聚胺甲酸酯母質(matrix)聚合物、寫入單體(writing monomer)及光起始劑(photoinitiator)。本發明之另外標的為一種用於製造本發明組配之方法，一種用於製造分離的(isolated)光聚合物膜之方法，一種可藉該方法獲得的分離的光聚合物膜，及一種用於積層(integrating)光聚合物膜之方法。

例如，上述特定類型的組配係已知於WO 2011/067057。於其中述及包含三維上交聯的聚胺甲酸酯母質聚合物、寫入單體及光起始劑之光聚合物調配物之限制。這調配物之後被施用至一基材與被固化，而形成光聚合物膜。所提出的基材包括聚對苯二甲酸乙酯箔片。

然而，該已知的組配的缺點為在基材與光聚合物膜之間有非常強的黏著性。因此從該基材分開(parting)該光聚合物膜只能使用高剝離力(peel force)，於其情況下經常對該光聚合物膜會有破壞性。然而，從該基材之非破壞性拆離(Non-destructive detachment)該曝露的光聚合物膜，對它積層至裝置(諸如安全文件(security document)或顯示安裝(display installation))內係重要的。

因為此種薄膜會具有對承受高剝離力之高能力，對這問題之一個理論解決方式就是增加該光聚合物膜的厚度。然而，對於大多數的光聚合物膜應用，需要或希望是盡可能最低的層厚度，及因此在大多數狀況下這不是一可行途徑。

替代地，會嘗試減少在基材與光聚合物膜之間的黏合性。彼使用具低表面張力之基材能夠完成。然而，於彼情況下，因為製造一具充分的表面一致性之光聚合物膜只有藉將相當量的高度降低表面張力之添加劑添加至該光聚合物調配物才可行，故出現新的問題。然而，當使用諸如此量的這類型添加劑時，於多種情況下的結果是調配物呈混濁。於最壞的情況下，甚至，有組件分離作用。另一方面，使用較少量的添加劑，達到只有部分的基材以該光聚合物調配物潤濕。結果則是，替代的，光聚合物膜不完全地覆蓋該基材。然而，取決於該基材之表面張力，即使當使用大量的表面添加劑時，不再可能達到以所希望塗層厚度之不間斷的塗層。因此，這些類型的調配物不能用以獲得可用的光聚合物膜。

因此，本發明目的係欲提供一種組配，包含一基材及一光聚合物膜，其中該基材及該光聚合物膜係彼此可易於分開的且特別是不會破壞該光聚合物膜。同時，為了避免在該光聚合物膜之光學品質上的任何負面影響，於用於製造該光聚合物膜之光聚合物調配物中的表面添加劑之用量不應該高於1.5wt%，較佳地不高於1.0wt%。

這目的係已藉使用在23℃下於該式(I)染料之0.5體積%乙酸丁酯溶液中培養(incubation)7日後之基材達成的 其具有L值L1及，在培養之前L值L0，該L值係藉CieLAB測量測定的， 及於此該L值L1與L0之間的差值滿足該式(II)L1-L0<-0.25 (式II)。

因而已發現，令人驚訝的是，由該光聚合物膜與由聚對苯二甲酸乙酯基材所構成的組配，具滿足該式(II)之L值，提供該用於製造該光聚合物膜之調配物之容易脫離能力(detachability)，而不需要任何化學改質作用、使用表面添加劑。

該式(I)之染料，Basic Blue 3雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯，可藉使以硝酸鹽形式存在之Basic Blue 3，例如，與雙(2-乙基己基)磺基丁二酸Na酯之反應製備。於這反應中有陰離子之交換，及Basic Blue 3雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯可被單離。這反應可(例如)於水中或於醇類(諸如甲醇)中、或其混合物中實施。然而，有利的是，於一水與乙酸丁酯之二相混合物中進行。於彼情況下所希望的染料，Basic Blue 3雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯，通入該有機相內，及若希望的話可自彼相中單離出。然而，更有利的是直接使用該Basic Blue 3雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯於乙酸丁酯之溶液，接著移除溶解的水。

對製造方法，使用示於圖1之箔片塗布單元，具有如下述標號指出的獨立組件：

1‧‧‧第一貯存容器

1‘‧‧‧第二貯存容器

2‧‧‧計量裝置

3‧‧‧真空脫氣裝置

4‧‧‧過濾器

5‧‧‧靜態混合器

6‧‧‧塗布裝置

7‧‧‧空氣施力的乾燥器

8‧‧‧基材箔片

9‧‧‧內襯層

圖1示意性顯示用於該光聚合物膜製造之箔片塗布生產線(coating line)之構造。

圖2顯示用於白化(bleaching)之UV燈光譜(製造商數據)。

按照本發明之第一較佳實施態樣，於該L值L1與L0之間的差值滿足該式(III)L1-L0≦-0.30 (式III)。

同樣較佳的是若該基材為聚對苯二甲酸乙酯箔片時，及更特別的是具有厚度為10μm至375μm之箔片，較佳為19μm 至175μm及更佳為30μm至100μm。

該光聚合物膜更特別的是可具有厚度為1μm至100μm，較佳為5μm至50μm及更佳為10μm至28μm。

於本發明之研發結果中，該光聚合物膜可脫離自該具剝離力為0.05至0.75N/10mm之基材，較佳為0.08至0.5N/10mm及更佳為0.1至0.25N/10mm，該剝離力係按照DIN Standard EN ISO 11339測得的。

於本發明之另外較佳實施態樣，該基材可具有表面張力為>27mN/m，較佳為28mN/m與42.5mN/m，及更佳為30mN/m與40mN/m。此處該表面張力係按照敘述於該實驗段落之方法測得的。

還有利的是若該基材具有表面粗度為Rz600nm，較佳為Rz400nm及更佳為Rz300nm。該表面粗度係按照敘述於該實驗段落之方法測得的。

還較佳的是若該基材為光學上透明設計。

於該光聚合物膜中特別是可以用於已藉曝光併入之全像圖(hologram)。這較佳地可為體積全像圖。這全像圖可為反射全像圖、透射全像圖或邊源光(edgelit)全像圖。藉曝光之合併作用可使用單色激光實施，於其情況下干涉場係藉由光束分離器(beam splitter)與激光束(laser beam)變寬之方式產生。這激光可產生各種顏色(光頻率)，及較佳可使用藍色、紅色、綠色或黃色發射波長。同時使用、或依序使用不同色的激光同樣可行。於這方式特別地可以產生雙色(two-colour)或多色反射全像圖。

對一或多種全像圖還可以在相同位置或彼此鄰近處藉曝光被併入該光聚合物膜內。若在相同位置進行曝光時，則可合併不同影像(images)。藉曝光，還可以合併一種具稍微變化重建角度(reconstruction angle)的物體之不同視圖(views)，以使形成立體圖(stereogram)。藉曝光合併隱藏的全像圖及微縮影(microtext)同樣可行。於透射全像圖之情況下，相同地可以藉曝光合併複數種導光功能 (light-guiding function)及/或用於不同光譜範圍的導光功能。

該三維上交聯的聚胺甲酸酯母質聚合物特別地可藉使至少一種聚異氰酸酯成分a)與至少一種異氰酸酯-反應性成分b)之反應獲得。

該聚異氰酸酯成分a)包含至少一種具有至少二種NCO基團之有機化合物。這些有機化合物更特別的是可為單體性二-及三異氰酸酯類、聚異氰酸酯類及/或NCO-官能性預聚合物。該聚異氰酸酯成分a)還可包含或由單體性二-及三異氰酸酯類、聚異氰酸酯類及/或NCO-官能性預聚合物之混合物所構成。

所用的單體性二-及三異氰酸酯類可為本身是此項技術領域熟悉者熟知的所有化合物，或這些化合物之混合物。這些化合物可具有芳香族、芳脂族、脂族或環脂族結構。該單體性二-及三異氰酸酯類還可包含以微量的單異氰酸酯類，亦即，具有一個NCO基團之有機化合物。

適合的單體性二-及三異氰酸酯類之實例為1,4-丁烷二異氰酸酯、1,5-戊烷二異氰酸酯、1,6-己烷二異氰酸酯(六亞甲基二異氰酸酯，HDI)、2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯及/或2,4,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯(TMDI)、異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)、1,8-二異氰酸酯基-4-(異氰酸酯基甲基)辛烷、雙(4,4’-異氰酸酯基環己基)甲烷及/或雙(2’,4-異氰酸酯基環己基)甲烷及/或其具有任何所希望的異構物含量之混合物、1,4-環己烷二異氰酸酯、該異構性雙(異氰酸酯基甲基)環己烷類，2,4-及/或2,6-二異氰酸酯基-1-甲基環己烷(六氫-2,4及/或2,6-伸甲苯基二異氰酸酯、H₆-TDI)、1,4-伸苯基二異氰酸酯,2,4-及/或2,6-伸甲苯基二異氰酸酯(TDI)、1,5-伸萘基二異氰酸酯(NDI)、2,4’-及/或4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、1,3-雙(異氰酸酯基甲基)苯(XDI)及/或同系1,4-異構物，或前述化合物之任何所希望的混合物。

適合的聚異氰酸酯類為具有胺甲酸酯、脲、碳二醯亞胺、醯基脲、醯胺、異氰脲酸酯、脲甲酸酯、縮二脲、氧雜二嗪三酮、脲二酮及/或亞胺氧雜二嗪二酮結構之化合物，其可獲自前述二- 或三異氰酸酯類。

特別適宜者該聚異氰酸酯類為寡聚化的脂族及/或環脂族二-或三異氰酸酯類，及特別是可使用上述脂族及/或環脂族二-或三異氰酸酯類。

尤佳者係為具有異氰脲酸酯、脲二酮及/或亞胺氧雜二嗪二酮結構之聚異氰酸酯類，還有以HDI為基底之縮二脲類，或其混合物。

適合的預聚合物含有胺甲酸酯基團及/或脲基團還有，視需要地，如上特定的另外結構，係藉NCO基團之改質作用而形成的。這些類型的預聚合物可，例如，藉使上述單體性二-及三異氰酸酯類及/或聚異氰酸酯類a1)與異氰酸酯-反應性化合物b1)之反應獲得。

所用的異氰酸酯-反應性化合物b1)可為醇類、胺基化合物或巰基化合物，較佳為醇類。更特別的是它們可為多醇類。非常特別適宜者，所用的異氰酸酯-反應性化合物b1)可包含聚酯多醇類、聚醚多醇類、聚碳酸酯多醇類、聚(甲基)丙烯酸酯多醇類及/或聚胺甲酸酯多醇類。

適合的聚酯多醇類為，例如，線性聚酯二醇類或分支的聚酯多醇類，其可以藉使脂族、環脂族或芳香族二-及/或多羧酸類及/或它們的酸酐類與具有一OH官能度2之多元醇類的反應之方式獲得。適合的二羧酸及多羧酸實例為多元羧酸(polybasic carboxylic acid)諸如丁二酸、己二酸、辛二酸、癸二酸、癸烷二羧酸、鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、間苯二甲酸、四氫鄰苯二甲酸或偏苯三酸(trimellitic acid)，還有酸酐類諸如鄰苯二甲酸酐、偏苯三酸酐或丁二酸酸酐類，或其與彼此之所希望的混合物。該聚酯多醇類還可以諸如蓖麻油之天然原料為基底。用於欲以內酯類之均聚物或共聚物為基底的聚酯多醇類係同樣可行的，其較佳地可藉使內酯類及/或內酯類混合物(諸如丁內酯、ε-己內酯及/或甲基-ε-己內酯與例如下述特定類型的羥基-官能性化合物(諸如具OH官能度2之多元醇類)之加成反應獲得。

適合的醇類實例為所有的多元醇類諸如，例如，該C₂-C₁₂二醇類、該異構性環己烷二醇類、丙三醇或其與彼此之任何所希望的混合物。

適合的聚碳酸酯多醇類為可以本身已知之方式藉使有機碳酸酯或光氣與二醇類或二醇混合物之反應獲得。

適合的有機碳酸酯類為二甲基、二乙基及二苯基碳酸酯。

適合的二醇類及混合物包含該確定於該聚酯段之內文中的多元醇類，這些具有OH官能度2之醇類，適宜為予以丁烷-1,4-二醇、己烷-1,6-二醇及/或3-甲基戊烷二醇。聚酯多醇類也可被再加工(reworked)以得到聚碳酸酯多醇類。

適合的聚醚多醇類，視需要地為嵌段式架構、具OH-或NH-官能性起始分子之環狀醚類之聚加合物。

適合的環狀醚實例為氧化苯乙烯、環氧乙烷、環氧丙烷、四氫呋喃、環氧丁烷、環氧氯丙烷、及這些化合物之任何所希望的混合物。

可使用本身特定於該聚酯多醇類內文之多元醇類、這些具有OH官能度2之醇類、還有一級或二級胺類及胺基醇類作為啟動劑(starter)。

較佳的聚醚多醇類為彼等前述只以環氧丙烷為基底的類型，或以環氧丙烷與另一種環氧烷類為基底的無規或嵌段共聚物。特佳的是環氧丙烷均聚物還有具有伸氧乙基、伸氧丙基及/或伸氧丁基單元之無規或嵌段共聚物，該伸氧丙基單元的分率為至少20wt%，較佳地至少45wt%，以全部的伸氧乙基、伸氧丙基及伸氧丁基單元之總量為基準。此處伸氧丙基及伸氧丁基涵蓋全部各個線性及分支的C₃及C₄異構物。

除了這些作為多醇成分b1)之組成分外，適合作為多官能性、異氰酸酯-反應性化合物，還有脂族、芳脂族或環脂族醇類，其具有二、三或以上的官能度及為低分子量，換言之具有分子量500 g/mol，及其為短鏈，換言之含有2至20個碳原子。

這些可為，例如，除了上述提及化合物之外，新戊二醇、2-乙基-2-丁基丙烷二醇、三甲基戊烷二醇、定位上(positionally)異構性二乙基辛烷二醇類，環己烷二醇、1,4-環己烷二甲醇、1,6-己烷二醇、1,2-及1,4-環己烷二醇、氫化雙酚A、2,2-雙(4-羥基環己基)丙烷或2,2-二甲基-3-羥基丙基2,2-二甲基-3-羥基丙酸酯。適合的三醇類實例為三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷或丙三醇。適合的高級多官能性醇類為二(三羥甲基丙烷)、季戊四醇、二季戊四醇或山梨糖醇。

特佳的是用於該多醇成分為二官能性聚醚、聚酯或聚醚-聚酯嵌段共聚酯或具一級OH官能的聚醚-聚酯嵌段共聚物。

同樣可以使用胺類作為異氰酸酯-反應性化合物b1)。適合的胺實例為乙二胺、丙二胺、二胺基環己烷、4,4'-二環己基甲烷二胺、異佛爾酮二胺(IPDA)、二官能性多胺類諸如，例如，該Jeff胺類^®、胺-終端的聚合物，尤其是具有數目-平均莫耳質量10 000g/mole。同樣可使用前述胺類之混合物。

同樣可使用胺基醇類作為異氰酸酯-反應性化合物b1)。適合的胺基醇類實例為該異構性胺基乙醇類、該異構性胺基丙醇類、該異構性胺基丁醇類及該異構性胺基己醇類，或其任何所希望的混合物。

全部的前述異氰酸酯-反應性化合物b1)可彼此任意地混合。

對該異氰酸酯-反應性化合物b1)還適宜的是具有數目-平均莫耳質量為200與10 000g/mole，更佳地500與8000g/mole及最佳地800與5000g/mole。該多醇類之OH官能度較佳為1.5至6.0，更佳為1.8至4.0。

該聚異氰酸酯成分a)之預聚合物特別是可具有殘留的游離單體性二-及三異氰酸酯含量<1wt%，更佳地<0.5wt%及最佳地<0.3wt%。

對該聚異氰酸酯成分a)視需要地還可以包含，全部 地或按比例上，它的NCO基團係已全部地或部分地與已知自塗布技術之嵌段劑反應之有機化合物。嵌段劑實例為醇類、內醯胺類、肟類、丙二酸酯類、吡唑類，還有胺類，諸如，例如，丁酮肟、二異丙基胺、二乙基丙二酸酯、乙醯乙酸乙酯、3,5-二甲基吡唑、ε-己內醯胺，或其混合物。

對該聚異氰酸酯成分a)還特佳的是包含具有脂族性連接的NCO基團之化合物，而脂族性連接的NCO基團意指彼等連接至一級C原子之基團。該異氰酸酯-反應性成分b)較佳包含至少一種具有平均上至少1.5及較佳地2至3個異氰酸酯-反應性基團之有機化合物。對本發明之目的，被慮及的異氰酸酯-反應性基團較佳為羥基、胺基或巰基基團。

該異氰酸酯-反應性成分特別地可包含具有數目平均上至少1.5及較佳地2至3個異氰酸酯-反應性基團之化合物。

成分b)之適合的多官能性、異氰酸酯-反應性化合物為例如上述的化合物b1)。

特佳的是成分a)及b)之組合於聚胺甲酸酯母質聚合物之製備中，該聚胺甲酸酯母質聚合物係由丁內酯、e-己內酯及/或甲基-ε-己內酯，與具官能度為1.8至3.1及具數目-平均莫耳質量為200至4000g/mol之聚醚多醇類並結合以HDI為基底之異氰脲酸酯類、脲二酮類、亞胺氧雜二嗪二酮類及/或其它寡聚物之加成物(adduct)所組成。尤佳的是e-己內酯，與具有官能度為1.9至2.2及具有數目-平均莫耳質量為500至2000g/mol(更特別的是600至1400g/mol)，它們的數目-平均總體莫耳質量為800至4500g/mole，更特別的是1000至3000g/mole之聚(四氫呋喃)類，並結合以HDI為基底之寡聚物、異氰脲酸酯類及/或亞胺氧雜二嗪二酮類之加成物。

於另外較佳的實施態樣，該寫入單體包含或由至少一種單-及/或一種多官能性寫入單體組成。另適宜者該寫入單體可包含或由至少一種單-及/或一種多官能性(甲基)丙烯酸酯寫入單體組成。非常特別適宜者該寫入單體可包含或由至少一種單-及/或一種多 官能性胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯組成。

適合的丙烯酸酯寫入單體更特別的是該一般式(V)之化合物 其中q為1且q為4及R⁴為線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，其為未取代的或者視需要地以雜原子取代的，及/或R⁵為氫或線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，其為未取代的或者視需要地以雜原子取代的。特別適宜者R⁵為氫或甲基及/或R⁴為線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，其為未取代的或者視需要地以雜原子取代的。

丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類係分別用於本發明目的之丙烯酸及甲基丙烯酸之酯類。可適宜使用的丙烯酸酯類及甲基丙烯酸酯類的實例為丙烯酸苯基酯、甲基丙烯酸苯基酯、丙烯酸苯氧乙基酯、甲基丙烯酸苯氧乙基酯、丙烯酸苯氧乙氧乙基酯、甲基丙烯酸苯氧乙氧乙基酯、丙烯酸苯硫乙基酯、甲基丙烯酸苯硫乙基酯、丙烯酸2-萘基酯、甲基丙烯酸2-萘基酯、丙烯酸1,4-雙(2-硫萘基)-2-丁基酯、甲基丙烯酸1,4-雙(2-硫萘基)-2-丁基酯、二丙烯酸雙酚A酯、二甲基丙烯酸雙酚A酯，還有它們的乙氧化同系物(ethoxylated analogues)、N-咔唑基丙烯酸酯類。

用於本發明目的之胺甲酸酯丙烯酸酯類為具有至少一種丙烯酸酯基團與至少一種胺甲酸酯鍵之化合物。此類化合物可(例如)藉使羥基-官能性丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯與異氰酸酯-官能性化合物之反應獲得。

可用於這目的之異氰酸酯-官能性化合物實例為單 異氰酸酯類還有該單體性二異氰酸酯類、三異氰酸酯類及/或於a)下確定的聚異氰酸酯類。適合的單異氰酸酯類實例為異氰酸苯基酯、該異構性異氰酸甲硫苯基酯類。二-、三-或聚異氰酸酯類述於上述，還有三苯基甲烷4,4‘,4“-三異氰酸酯及參(p-異氰酸酯基苯基)硫代磷酸酯或其與胺甲酸酯、脲、碳二醯亞胺、醯基脲、異氰脲酸酯、脲甲酸酯、縮二脲、氧雜二嗪三酮、脲二酮、亞胺氧雜二嗪二酮結構之衍生物，及其混合物。此處適宜為予以芳香族二、三或聚異氰酸酯類。

用於製備胺甲酸酯丙烯酸酯類之適合的羥基-官能性丙烯酸酯類或甲基丙烯酸酯類包括，例如，化合物諸如(甲基)丙烯酸2-羥基乙基酯、聚氧乙烯單(甲基)丙烯酸酯類、聚氧丙烯單(甲基)丙烯酸酯類、聚氧伸烷基單(甲基)丙烯酸酯類、聚(ε-己內酯)單(甲基)丙烯酸酯類，諸如Tone^® M100(Dow,Schwalbach,DE)、(甲基)丙烯酸2-羥基丙基酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁基酯、(甲基)丙烯酸3-羥基-2,2-二甲基丙基酯、(甲基)丙烯酸羥基丙基酯、丙烯酸2-羥基-3-苯氧丙基酯，該多元醇類之羥基-官能性單-、二-或四丙烯酸酯類，諸如三羥甲基丙烷、丙三醇、季戊四醇、二季戊四醇，乙氧化、丙氧化或烷氧化三羥甲基丙烷、丙三醇、季戊四醇、二季戊四醇或其技術級混合物。較佳為丙烯酸2-羥基乙基酯、丙烯酸羥基丙基酯、丙烯酸4-羥基丁基酯及聚(ε-己內酯)單(甲基)丙烯酸酯。

同樣使用可取得的是常用的具有OH含量為20至300mg KOH/g之含有羥基的環氧(甲基)丙烯酸酯類或具有OH含量為20至300mg KOH/g之含有羥基的聚胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯類或具有OH含量為20至300mg KOH/g之丙烯酸酯化聚丙烯酸酯類，還有其與彼此之混合物，及與含有羥基的不飽和聚酯類之混合物，還有與聚酯(甲基)丙烯酸酯類之混合物，或含有羥基的不飽和聚酯類與聚酯(甲基)丙烯酸酯類之混合物。

更佳的是為胺甲酸酯丙烯酸酯類，係獲自參(p-異氰酸酯基苯基)硫代磷酸酯及/或異氰酸m-甲硫苯基酯與醇-官能性丙烯酸酯類(諸如(甲基)丙烯酸羥基乙基酯、(甲基)丙烯酸羥基丙基酯及/或 (甲基)丙烯酸羥基丁基酯)之反應。

對該寫入單體還可以包含或由另外的不飽和化合物組成，諸如α,β-不飽和羧酸衍生物諸如(例如)順丁烯二酸酯類、反丁烯二酸酯類、馬來醯亞胺類、丙烯醯胺類，還有乙烯基醚類、丙烯基醚類、烯丙基醚類及含有二環戊二烯單元之化合物，還有烯烴性不飽和化合物諸如，例如，苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯及/或烯烴類。

於另外較佳的實施態樣該光聚合物膜另外地包含胺甲酸酯類作為添加劑，對該胺甲酸酯類特別地以至少一個氟原子取代的係可行的。

這些胺甲酸酯類較佳為該一般式(IV)之胺甲酸酯類， 其中m為1且m為8及R₁為線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，其為未取代的或者視需要地以雜原子取代的，及/或R₂及R₃彼此獨立地為氫，及較佳地該基團R₁、R₂及R₃之至少一者係以至少一個氟原子取代的，及更佳地R₁為具有至少一個氟原子之有機基團，及最佳地R₃為線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，其係為未取代的或者視需要地以雜原子(諸如氟)取代的，例如。

成分d)之光起始劑為慣用化合物，其可藉光化輻射被活化的及其能夠起始該寫入單體之聚合反應。該光起始劑之中，於單分子(類型I)與雙分子(類型II)起始劑之間作出區分。此外，根據它們變成用於基團、陰離子、陽離子或混合模式的聚合反應之光起始劑之化學本質(chemical nature)，區分它們。

類型I光起始劑(Norrish類型I)，用於來自經照射的基團之基團光聚合反應，結果是單分子鍵切斷(scission)。類型I光起始劑的實例為三嗪類、肟類、苯偶因醚類、苄基縮酮類、雙咪唑類、芳膦 氧化物、鋶鹽及錪鹽。

類型II光起始劑(Norrish類型II)，用於由作為敏化劑之染料與由共起始劑所組成的基團聚合反應，及在以該染料採用的光照射下進行雙分子反應。首先，該染料吸收光子(photon)及，來自激發態，轉移能量至該共起始劑。這共起始劑釋放該聚合反應-起始的基團，結果是電子轉移或質子轉移或直接氫摘取(abstraction)。

對本發明之目的，適宜者使用類型II光起始劑。

此類光起始劑系統原則上敘述於EP 0 223 587 A及較佳由一或多種染料與烷基芳基硼酸銨(類)之混合物組成。

與烷基芳基硼酸銨一起形成類型II光起始劑之適合染料為敘述於WO 2012062655之陽離子性染料，於其中含敘述與陰離子之組合。

陽離子性染料較佳為彼等下述種類之染料：吖啶染料、呫噸染料、硫呫噸染料、吩嗪染料、吩噁嗪染料、吩噻嗪染料、三(雜)芳基甲烷染料-尤其是二胺基及三胺基(雜)芳基甲烷染料、單-、二-、三-及五次甲基花青染料、半花青染料、外部陽離子性部花青染料、外部陽離子性中性花青(neutrocyanine)染料、非次甲基(nullmethine)染料-尤其是萘內醯胺染料、鏈黴素花青(streptocyanine)染料。此類染料敘述於例如H.Berneth in Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,Azine Dyes,Wiley-VCH Verlag,2008，H.Berneth in Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,Methine Dyes and Pigments,Wiley-VCH Verlag,2008，T.Gessner,U.Mayer in Ullmann’s Encyclopedia of Industrial Chemistry,Triarylmethane and Diarylmethane Dyes,Wiley-VCH Verlag,2000。

特佳的是吩嗪染料、吩噁嗪染料、吩噻嗪染料、三(雜)芳基甲烷染料-尤其是二胺基及三胺基(雜)芳基甲烷染料、單-、二-、三-及五次甲基花青染料、半花青染料、非次甲基染料-尤其是萘內醯胺染料、鏈黴素花青染料。

陽離子性染料的實例為Astrazone Orange G、Basic Blue 3、Basic Orange 22、Basic Red 13、Basic Violet 7、Methylene Blue、New Methylene Blue、Azure A、2,4-二苯基-6-(4-甲氧基苯基)吡喃鎓(pyrylium)、Safranin O、Astraphloxin、Brilliant Green、Crystal Violet、Ethyle Violet and Thionine。

較佳的陰離子為，特別是，C₈至C₂₅烷磺酸酯，較佳地C₁₃至C₂₅烷磺酸酯、C₃至C₁₈全氟烷磺酸酯、於該烷基鏈中帶有至少3個氫原子之C₄至C₁₈全氟烷磺酸酯，C₉至C₂₅烷酸酯，C₉至C₂₅烯酸酯，C₈至C₂₅烷基硫酸酯，較佳地C₁₃至C₂₅烷基硫酸酯，C₈至C₂₅烯基硫酸酯，較佳地C₁₃至C₂₅烯基硫酸酯，C₃至C₁₈全氟烷基硫酸酯、於該烷基鏈中帶有至少3個氫原子之C₄至C₁₈全氟烷基硫酸酯，以至少4當量的環氧乙烷及/或4當量的環氧丙烷為基底的聚醚硫酸酯類，雙-C₄至C₂₅烷基、C₅至C₇環烷基、C₃至C₈烯基或C₇至C₁₁芳烷基磺基丁二酸酯，以至少8個氟原子取代的雙-C₂至C₁₀烷基-磺基丁二酸酯，C₈至C₂₅烷基-磺基乙酸酯類，以選自包括鹵素、C₄至C₂₅烷基、全氟-C₁至C₈烷基及/或C₁至C₁₂烷氧羰基之至少一個基團取代的苯磺酸酯，視需要地以硝基、氰基、羥基、C₁至C₂₅烷基、C₁至C₁₂烷氧基、胺基、C₁至C₁₂烷氧羰基或氯-取代的萘磺酸酯或聯苯基磺酸酯，視需要地以硝基、氰基、羥基、C₁至C₂₅烷基、C₁至C₁₂烷氧基、C₁至C₁₂烷氧羰基或氯取代的苯-、萘-或聯苯基二磺酸酯，以二硝基、C₆至C₂₅烷基、C₄至C₁₂烷氧羰基、苯甲醯基、氯苯甲醯基或甲苯醯基取代的苯甲酸酯，該萘二羧酸之陰離子，二苯基醚二磺酸酯，脂族C₁至C₈醇類或丙三醇之磺酸化或硫酸化、視需要地至少單不飽和的C₈至C₂₅脂肪族酯類，雙(磺基-C₂至C₆烷基)-C₃至C₁₂烷二羧酸酯類，雙-(磺基-C₂至C₆烷基)依康酸酯類，(磺基-C₂至C₆烷基)-C₆至C₁₈烷羧酸酯類，(磺基-C₂至C₆烷基)-丙烯系或甲基丙烯系酯類，視需要地以至多12個鹵素基團取代的參兒茶酚磷酸酯(triscatechol phosphate)，該群組四苯基硼酸酯、氰基三苯基硼酸酯、四苯氧基硼酸酯、C₄至C₁₂烷基-三苯基硼酸酯之陰離子，其苯基或苯氧基基團可以鹵素、以C₁至C₄烷基及/或以C₁至C₄烷氧基取代，C₄至C₁₂烷基-三萘基硼酸酯，四-C₁至C₂₀烷氧基硼酸酯，7,8-或7,9-二碳代 (dicarba)-巢(nido)-十一硼酸酯(1-)或(2-)，視需要地在該B及/或C原子上以一或二個C₁至C₁₂烷基或苯基取代，十二氫-二碳代十二硼酸酯(2-)或B-C₁至C₁₂烷基-C-苯基-十二氫-二碳代十二硼酸酯(1-)，於此在多價陰離子(諸如萘二磺酸酯)之情況下的A^-代表一當量的這陰離子，及於此該烷及烷基可為分支的及/或可以鹵素、氰基、甲氧基、乙氧基、甲氧羰基或乙氧羰基取代。

對該染料之陰離子A^-還適宜的是具有於1至30範圍之AClogP，更佳地於1至12範圍及尤佳地於1至6.5範圍。該AClogP係如敘述於J.Comput.Aid.Mol.Des.2005,19,453；Virtual Computational Chemistry Laboratory,http：//www.vcclab.org計算得。

適合的烷基芳基硼酸銨類實例為(Cunningham et al.,RadTech'98 North America UV/EB Conference Proceedings,Chicago,Apr.19-22,1998)：三苯基己基硼酸四丁基銨、三苯基丁基硼酸酯四丁基銨、三萘基己基硼酸四丁基銨、參(4-tert-丁基)苯基丁基硼酸四丁基銨、參(3-氟苯基)己基硼酸四丁基銨([191726-69-9],CGI 7460，BASF SE,Basel,Switzerland之產品)、二戊基二苯基硼酸1-甲基-3-辛基咪唑鎓酯及參(3-氯-4-甲基苯基)己基硼酸四丁基銨([1147315-11-4],CGI 909，BASF SE,Basel,Switzerland之產品)。

可有利地使用這些光起始劑之混合物。取決於所使用的輻射源，需要的是採用依熟悉者已知的方式之光起始劑的類型及濃度。進一步詳細內容敘述於，例如，P.K.T.Oldring(Ed.),Chemistry & Technology of UV & EB Formulations For Coatings,Inks & Paints,Vol.3,1991,SITA Technology,London,pp.61-328。

對該光起始劑尤佳的是包含吸收光譜係至少部分地涵蓋400至800nm之光譜範圍之染料與至少一種與該染料搭配的共起始劑之組合。

還適宜的是若至少一種適用於選自藍、綠及紅之激光顏色之光起始劑係存在於該光聚合物調配物中。

還另外適宜的是若該光聚合物調配物包含一種各對 選自藍、綠及紅的至少二種激光顏色之適合的光起始劑。

最後，尤其是適宜的是若該光聚合物調配物於各情況下包含各對激光顏色藍、綠及紅之適合的光起始劑。

本發明進一步提供一種用於製造本發明之組配之方法，其中包含聚異氰酸酯成分、異氰酸酯-反應性成分、寫入單體及光起始劑之光聚合物調配物被施用至該基材及被固化，以形成該光聚合物膜。

由本發明同樣提供一種用於製造分離的光聚合物膜之方法，其中該光聚合物膜及本發明組配之基材係彼此完全分離的。

由本發明又進一步提供一種可藉上述方法獲得的分離的光聚合物膜。

由本發明還提供一種積層光聚合物膜之方法，其中本發明之分離的光聚合物膜被積層至一裝置內。

按照上述方法之較佳實施態樣，該裝置可為顯示器或安全文件。

本發明，藉由實施例之方式更詳細說明如下。

實施例

測量方法：

測量該光聚合物膜之乾膜厚度

該物理性層厚度，使用商用白光干涉儀，諸如來自Ingenieursbüro Fuchs之FTM-Lite NIR層厚度測量儀器，測定。

該層厚度原則上以在薄層的干涉現象為基礎測定。反射自具不同光密度的二個界面之光波彼此重疊。該反射成分光束之未失真的重疊作用(undistorted superimposition)導致在白色連續性發射體(e.g.鹵素燈)之光譜中的周期性增亮及消光(extinction)。這重疊作用為熟悉者所稱的干涉。該干涉光譜係被數學上測量及評估。

固體含量

將約1g的各個樣品施用於未塗布的罐蓋及藉由紙夾(paperclip)之方式有效地被擴展開。預先秤重罐蓋及紙夾。該樣品 連同紙夾與罐蓋一起之後於烘箱中125℃下乾燥一小時。如下述得到該固體含量：(最後的容器質量(final tare mass))*100/(最初的容器質量)。

黏度

該黏度，按照DIN EN ISO 3219/A.3在23℃下以40s^-1之剪切速率測定。

異氰酸酯含量(NCO含量)

該NCO值(異氰酸酯含量)，按照DIN EN ISO 11909測定。

用於LAB測量的測試樣品之製造：

將受研究的各基材之二個箔片樣品切成一大約2cm x 3cm的大小。之後將一個箔片樣品於以該雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯形式之C.I.Basic Blue 3之0.5體積%乙酸丁酯溶液中在23℃下培養7日。其後將該樣品從該溶液中取出，以紙布輕觸擦乾及在空氣中乾燥。

根據CIELAB系統測量L值

該測量係在得自from Hunter Lab,FMS Jansen GmbH & Co.KG,Murnau am Staffelsee,Germany之Hunter Ultrascan Pro類型的球形光譜儀上進行，其以用於L*a*b*之標準ASTM E 308為基礎。該測量使用D65光源在10°之觀察角下進行。該測量範圍從350nm至1100nm，用於比色測定(colorimetric determination)之測量只至多850nm。對校準之目的，於空氣中進行測量，及這測量之透射率設定在100%。

對受研究之各基材，均作未培養的箔片樣品之L0值、及培養的箔片樣品之L1值之測定。

之後在該L1與L0數值之間形成該差值。若這差值小於或等於-0.25時，按照本發明該基材被歸類為適合的。

在基材上之表面張力σ之測量

該測量係使用得自DataPhysics Instruments GmbH,Filderstadt,Germany之類型OCA 20之儀器進行的。該表面張力係計算 自藉Owens-Wendt使用SCA21軟體得到的接觸角。對該接觸角之測量，將3μl的測量液體施用至各個受研究的基材。使用USB CCIR照相機以每秒20張影像之頻率拍攝液滴(droplet)之照片。施用該液滴4秒後，自動評估該接觸角。為了獲得足夠統計基礎，每一基材進行至少5個單獨測量及測量液體。所用的測量液體為二次蒸餾水(double-distilled water)、新鮮的二碘甲烷(diiodmethane)及乙二醇。

用於該接觸角之儀器-特定測量精確度，根據製造商數據為±0.1°。

剝離力之測量

該測量使用拉伸試驗機器按照DIN EN ISO 527 1進行。操作拉伸力(tensile force)及拉伸導線行程之測量。該拉伸力被定義為剝離力或黏合力(bonding force)，及該導線行程(traverse travel)被定義為剝離行程(peel travel)，以拉伸力/剝離行程圖形之形式圖解表示。該黏合力為該拉伸力之平均值介於20至100mm剝離行程。按照DIN EN ISO 11339(180°剝離試驗，T-剝離試驗)，該剝離強度被定義為相關於總體樣品寬度之剝離力。該樣品為至少80mm長，具在拉伸(tensioning)夾具之夾持長度(clamped length)為20mm。該剝離行程為60mm，對應該拉伸導線之行程為120mm。該拉伸速率為100mm/min。該拉伸力以50N力轉換器(force transducer)測得。

使用的材料：

所用的基材之概述：

基材箔片1為Hostaphan GN 50 CT01B(σ=37.9mN/m)及獲自Mitsubishi Polyester Film GmbH,Wiesbaden,Germany。

基材箔片2為Excell XG 532(σ=38.5mN/m)及獲自Toray International Europe GmbH,Neu-Isenburg,Germany。

基材箔片3為Excell XG6SF2(σ=36.9mN/m)及獲自Toray International Europe GmbH,Neu-Isenburg,Germany。

基材箔片4為Lumirror U32(σ=36.4mN/m)及獲自Toray International Europe GmbH,Neu-Isenburg,Germany。

基材箔片5為Lumirror U40(σ=37.3mN/m)及獲自Toray International Europe GmbH,Neu-Isenburg,Germany。

基材箔片C1為Hostaphan RNK 36(σ=48.3mN/m)及獲自Mitsubishi Polyester Film GmbH,Wiesbaden,Germany。

使用於該光聚合物膜之物質：

成分A：Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之實驗性產品；它的製備敘述如下。

成分B1 (磷基硫醯基參(氧基-4,1-苯亞胺羰氧基乙烷-2,1-二基)三丙烯酸酯)(phosphorothioyltris(oxy-4,1-phenyl eniminocarbonyloxyethane-2,1-diyl)triacrylate)：Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之實驗性產品；它的製備敘述如下。

成分B2 (2-({[3-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)乙基丙-2-烯酸酯)：Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之實驗性產品；它的製備敘述如下。

成分C (雙(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚基)(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙胺甲酸酯)：Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之實驗性產品；它的製備敘述如下。

成分D：Fascat 4102 0.07%，胺甲酸酯化觸媒，參(2-乙基己酸酯)丁基錫，Arkema GmbH,Düsseldorf,Germany之產品。

BYK® 310：得自BYK-Chemie GmbH,Wesel之矽系表面添加劑，於二甲苯之25%強度溶液。

成分E：C.I.Basic Blue 3(轉換成雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯鹽)0.26%，Safranin O(轉換成雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯鹽)0.13%及Astrazone Orange G(轉換成雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯鹽)0.13%與CGI 909，BASF SE,Basel,Switzerland之實驗性產品，1.5%，為於5.8%乙酸乙酯之溶液。百分率係以該介質之總體調配物為基準。

成分F：乙酸乙酯(CAS No.141-78-6)。

成分G：Desmodur^® N 3900，Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之商品，己烷二異氰酸酯系聚異氰酸酯，亞胺氧雜二嗪二酮分率至少30%，NCO含量：23.5%。

用於所使用物質之製備方案：

成分A之製備：

於1L燒瓶進料有0.18g的辛酸錫、374.8g的ε-己內酯及374.8g的二官能性聚四氫呋喃聚醚多醇(當量重500g/mole OH)，及將這初始進料加熱至120℃及保持在彼溫度下直到該固體含量(該非揮發性組成之分率)為99.5wt%或以上。隨後將它冷卻及獲得呈蠟狀固體之產物。

成分B1 (磷基硫醯基參(氧基-4,1-苯亞胺羰基-氧基乙烷-2,1-二基)三丙烯酸酯)之製備：

於500mL圓底燒瓶進料有0.1g的2,6-二-tert-丁基-4-甲基酚、0.05g的二月桂酸二丁基錫(Desmorapid^® Z,Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany)及進料有213.07g的參(p-異氰酸酯基苯基)硫代磷酸酯於乙酸乙酯之27%強度溶液(Desmodur^® RFE，Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany之產品)及將這初始進料加熱至60℃。之後將42.37g的丙烯酸2-羥基乙基酯逐滴加入及另保持該混合物在60℃下直到該異氰酸酯含量已下降到0.1%以下。其後將它冷卻及於完全真空下將該乙酸乙酯移除。獲得呈部分結晶固體之產物。

成分B2 (2-({[3-(甲基硫烷基)苯基]胺甲醯基}氧基)乙基丙-2-烯酸酯)之製備：

於100mL圓底燒瓶進料有0.02g的2,6-二-tert-丁基-4-甲基酚、0.01g的Desmorapid^® Z、11.7g的3-(甲硫基)異氰酸苯基酯及初期導入，及將這初始進料加熱至60℃。之後將8.2g的丙烯酸2-羥基乙基酯逐滴加入及另保持該混合物在60℃下直到該異氰酸酯含量已下降到0.1%以下。其後將它冷卻。獲得呈淡黃色液體之產物。

添加劑C (雙(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚基)(2,2,4-三甲基己烷-1,6-二基)雙胺甲酸酯)之製備：

於2000mL圓底燒瓶進料有0.02g的Desmorapid^® Z及3.60g的2,4,4-三甲基己烷1,6-二異氰酸酯(TMDI)及初期導入，及將這初始進料加熱至70℃。之後將11.39g的2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚-1-醇逐滴加入及另保持該混合物在70℃下直到該異氰酸酯含量已下降至0.1%以下。其後將它冷卻。獲得呈無色油之產物。

Basic Blue 3雙(2-乙基己基)磺基丁二酸酯之製備

在50℃下將15.0g的雙(2-乙基己基)磺基丁二酸鈉酯溶解於350ml的水。添加24.5g的下式之染料 (Basic Blue 3)，其為53wt%產物，及添加220ml的乙酸丁酯，及將該混合物在50℃下攪拌4小時。移除該含水相及將該有機相在50℃下以50ml的新鮮水攪拌3次。最後每次將該含水相移除，最終相係處於室溫下。深藍色有機相初期以無水硫酸鎂乾燥，之後過濾及藉共沸蒸餾在150mbar下從殘留水中被釋出。最後，添加無水乙酸丁酯，得到250g的深藍色溶液，含有9.68wt%的下式染料 (理論值96.4%)。

λ_max於甲醇中：643nm。

在適當稀釋之後，這溶液直接被用於按照本發明之測試。

在箔片塗層單元上製造基材及光聚合物之組配

欲製造光聚合物調配物，於攪拌容器中將304.3g的成分A按步驟摻混有138g的成分B1及138g的成分B2之寫入單體混合物，與191g的添加劑C，0.60g的成分D，2.55g的BYK^® 310及101g 的成分F，及將這些成分混合。之後於黑暗中將66.5g的成分E加至該混合物中及混合該組成物，而使得到澄清溶液。若需要的話，為了將組成分更快速引入溶液中，將該調配物在60℃下加熱短時間。

這混合物隨後被導入該塗布單元之第一貯存容器1內。導入該第二貯存容器1‘內為成分G(聚異氰酸酯)。之後將二成分輸送至該真空脫氣裝置3，於各情況下藉計量裝置2，以942.2(成分A to F)對57.8(成分G)之比例，及進行脫氣。自那裡，它們之後各自通過過濾器4至靜態混合器5內，於此混合該成分以形成該光聚合物調配物。獲得的液體材料之後在黑暗中被供給至塗布裝置6。

於本發明之塗布裝置6為狹縫模具(slot die)，其為熟知者所熟悉的。然而，或者是，還可使用刮刀系統(doctor blade system)。使用該塗布裝置6，在加工溫度20℃下將該光聚合物調配物施用至個別的基材箔片8，及於空氣施力的(forced-air)乾燥器7中在交聯溫度80℃下乾燥5.8分鐘。這得到以薄膜形式之組配，其之後配設有40μm厚聚乙烯箔片內襯層(liner layer)9，及被捲繞。

對該薄膜所得的層厚度為18μm±1μm。

製造用於測量該曝光的及未曝光的光聚合物的剝離力之試樣

若於基材箔片與光聚合物膜之間的黏著性係比於內襯層與光聚合物膜之間者低時，該組配可被測得，而不需要有任何欲被事先移除的內襯層。對這目的，區段測量(section measuring)10cm x 20cm切自該組配及被放置在UV源之輸送帶上，及以帶速度為2.5m/min被曝光兩次。所用的UV源為一具總體功率密度為80W/cm²之類型Fusion UV“D Bulb”No.558434 KR 85之鐵-摻雜的Hg燈。所用的燈之光譜示於圖2(製造商數據)。該參數對應2 x 2.0J/cm²劑量，以ILT 490 light bug測得。藉“劑量”，一般，為意指於各情況下實際上作用在該光聚合物膜上之光量。之後從該曝光的組配切出具寬度為10mm及長度為大約12cm之條體，及之後將這些條體用於測量(藉上述已知方法)剝離該基材箔片所需要的力。

若於內襯層與光聚合物膜之間的黏著性比於基材箔片與光聚合物膜之間者低時，該內襯層首先被手動移除。之後從該由光聚合物膜及基材箔片組成的組配切出一區段測量10cm x 20cm，及被層壓至玻璃板及之後以UV源曝光兩次，如上述。其後該組配之區段，使用輥層壓器在100℃下與該光聚合物膜面，被黏附至類型Makrofol DE 1-4之聚碳酸酯箔片(Bayer MaterialScience AG,Leverkusen,Germany的產品)之平滑面，係使用以熱塑性聚胺甲酸酯為基底之得自Epurex Films GmbH & Co.KG,Walsrode,Germany的類型Platilon HU2熱熔黏著性箔片。之後從該組配切出寬度為10mm及長度大約12cm之條體，及之後使用這些條體，按照上述方法，測量剝去該基材箔片所需的力。

依DIN EN ISO 11339剝離力之測量結果：

數值以N/10mm，*在15mm樣品寬的樣品上測量。

如由上述表顯而易見，測得該光聚合物膜對基材箔片1-8之脫離作用所需要的剝離力，及定位於該區域係低於0.25N/mm。這顯示包含這些基材箔片之一者的組配，從光聚合物膜分離基材箔片係容易進行的且特別地對該光聚合物膜沒有任何破壞。

再者，對各個基材箔片1-8測量該L1與L0數值之間的差值。它們全部低於-0.25。這證明了於該L數值之差值及該式(II)值之標準適用於鑑定可易於脫離的基材箔片。

反觀比較例C1顯示，當於L1與L0之間的差值高於-0.25時，用於從該基材箔片將光聚合物膜脫離所需要的剝離力亦相當高。這些力如此的高而使該光聚合物膜會在操作期間發生破壞。因此，該基材箔片C1不適用於解決本發明所探討的問題，如已由考慮該 L數值之間的差值顯而易知。

1‧‧‧第一貯存容器

1‘‧‧‧第二貯存容器

2‧‧‧計量裝置

3‧‧‧真空脫氣裝置

4‧‧‧過濾器

5‧‧‧靜態混合器

6‧‧‧塗布裝置

7‧‧‧空氣施力的乾燥器

8‧‧‧基材箔片

9‧‧‧內襯層

Claims (15)

1. 一種包含一基材及一光聚合物膜之組配，其可分開地至少以區段彼此接合，該基材包含聚對苯二甲酸乙酯，及該光聚合物膜包含三維上交聯的聚胺甲酸酯母質聚合物、寫入單體及光起始劑，其特徵在於該基材，在23℃下於式(I)之染料於0.5體積%乙酸丁酯溶液中培養7日後 具有L值L1及在該培養之前L值L0的，該L值係由CieLAB測量測定的，及於L值L1與L0之間的差值滿足式(II)L1-L0<-0.25 (式II)。
2. 根據申請專利範圍第1項之組配，其特徵在於該於L值L1與L0之間的差值滿足式(III)L1-L0≦-0.30 (式III)。
3. 根據申請專利範圍第1及2項中任一項之組配，其特徵在於該基材為箔片，及更特別的是具有厚度為10μm至375μm之箔片，較佳為19μm至175μm及更佳為30μm至100μm。
4. 根據申請專利範圍第1至3項中任一項之組配，其特徵在於該光聚合物膜具有厚度為5μm至100μm，較佳為5μm至50μm及更佳為10μm至28μm。
5. 根據申請專利範圍1至4項中任一項之組配，其特徵在於該光聚合物膜可脫離自該基材，其剝離力為0.05至0.75N/10mm、較佳為 0.08至0.5N/10mm及更佳為0.1至0.25N/10mm，該剝離力係按照DIN Standard EN ISO 11339測得。
6. 根據申請專利範圍第1至5項中任一項之組配，其特徵在於該基材具有表面張力為>27mN/m，較佳為28mN/m且42.5mN/m及更佳為30mN/m且40mN/m。
7. 根據申請專利範圍第1至6項中任一項之組配，其特徵在於該基材具有表面粗度為Rz600nm，較佳為Rz400nm及更佳為Rz300nm。
8. 根據申請專利範圍第1至7項中任一項之組配，其特徵在於該寫入單體包含或由至少一種單-及/或一種多官能性寫入單體組成，較佳地至少一種單-及/或多官能性丙烯酸酯寫入單體及更佳地至少一種單官能性及/或一種多官能性胺甲酸酯(甲基)丙烯酸酯。
9. 根據申請專利範圍第1至8項中任一項之組配，其特徵在於該光聚合物膜包含一般式(IV)之胺甲酸酯類 其中m為1且m為8及R₁為線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，未取代的或者視需要地以雜原子取代的，及/或R₂及R₃彼此獨立地為氫，較佳地基團R₁、R₂及R₃之至少一者為以至少一個氟原子取代，及更佳地R₁為具有至少一個氟原子之有機基團及最佳地R₃為線性、分支的、環狀的或雜環狀的有機基團，其為未取代的或者視需要地以雜原子取代，諸如氟取代的有機基團，例如。
10. 根據申請專利範圍第1至9項中任一項之組配，其特徵在於全像圖係已被曝光至該光聚合物膜內。
11. 一種用於製造根據申請專利範圍第1至10項中任一項之組配之方法，其特徵在於包含聚異氰酸酯成分、異氰酸酯-反應性成分、寫入單體及光起始劑之光聚合物調配物被施用至該基材及被固化，以形成該光聚合物膜。
12. 一種用於製造分離的光聚合物膜之方法，其中根據申請專利範圍第1至10項中任一項之組配的光聚合物膜及基材係彼此完全分開。
13. 一種可藉根據申請專利範圍第12項之方法獲得的分離的光聚合物膜。
14. 一種用於積層光聚合物膜之方法，其中根據申請專利範圍第13項之分離的光聚合物膜係被積層至一裝置內。
15. 根據申請專利範圍第14項之方法，其特徵在於該裝置為顯示器或安全文件。