TW201525603A - 雷射投影設備 - Google Patents

雷射投影設備 Download PDF

Info

Publication number
TW201525603A
TW201525603A TW102148481A TW102148481A TW201525603A TW 201525603 A TW201525603 A TW 201525603A TW 102148481 A TW102148481 A TW 102148481A TW 102148481 A TW102148481 A TW 102148481A TW 201525603 A TW201525603 A TW 201525603A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
laser
light
polarized light
sources
light sources
Prior art date
Application number
TW102148481A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI503617B (zh
Inventor
Chia-Ming Chang
Ching-Shuai Huang
Original Assignee
Qisda Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Qisda Corp filed Critical Qisda Corp
Priority to TW102148481A priority Critical patent/TWI503617B/zh
Priority to US14/580,226 priority patent/US20150185597A1/en
Publication of TW201525603A publication Critical patent/TW201525603A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI503617B publication Critical patent/TWI503617B/zh

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
    • G03B21/2033—LED or laser light sources
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2006—Lamp housings characterised by the light source
    • G03B21/2013—Plural light sources
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2066—Reflectors in illumination beam
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14—Details
    • G03B21/20—Lamp housings
    • G03B21/2073—Polarisers in the lamp house
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B33/00—Colour photography, other than mere exposure or projection of a colour film
    • G03B33/06—Colour photography, other than mere exposure or projection of a colour film by additive-colour projection apparatus

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Projection Apparatus (AREA)

Abstract

一種雷射投影設備包含第一合光模組及分光模組。第一合光模組包含複數個第一雷射光源與複數個第二雷射光源及第一分光鏡。複數個第一雷射光源分別用來發射第一偏振光。複數個第二雷射光源分別用來發射與第一偏振光具有相異偏振性之第二偏振光。第一分光鏡設置於第一雷射光源及第二雷射光源之間且包含相對每一第一雷射光源之第一面及相對第二雷射光源之第二面，第一面反射第一偏振光，第二偏振光穿透第二面及第一面以與第一偏振光合光而形成第一雷射光束。分光模組用來接收第一雷射光束以將第一雷射光束分光為複數個色光。

Description

雷射投影設備
本發明係關於一種雷射投影設備，尤指一種使用分光鏡反射第一偏振光、但允許與第一偏振光具有相異偏振性之第二偏振光通過以合光形成雷射光束的雷射投影設備。
一般來說，常見之雷射投影設備係採用合光模組與分光模組之配置以產生可供後續投影成像所需之複數個色光，其相關配置係可參照第1圖，其為先前技術之一雷射投影設備10之簡示圖。如第1圖所示，雷射投影設備10包含一合光模組12、一導光模組14，以及一分光模組16，合光模組12包含複數個反射鏡18、複數個第一雷射光源20，以及複數個第二雷射光源22，導光模組14包含一凸透鏡24、一反射鏡26，以及一凹透鏡28。
由第1圖可知，複數個反射鏡18係間隔設置且相對於複數個第一雷射光源20以及複數個第二雷射光源22傾斜，複數個第一雷射光源20係分別對準複數個反射鏡18，而複數個第二雷射光源22則是分別與複數個反射鏡18交錯排列。藉此，複數個第一雷射光源20所射出之光線係可分別被複數個反射鏡18所反射，而複數個第二雷射光源22所射出之光線則是可分別通過複數個反射鏡18(從相鄰反射鏡18之間隙或是從反射鏡18之外側通過)以與複數個第一雷射光源20所射出之光線合光成雷射光束而入射至凸透鏡24。如此一來，在穿透凸透鏡24、被反射鏡26反射且穿透凹透鏡28後，第一雷射光源20以及第二雷射光源22所形成之雷射光束即可被導光模組14縮小至可被分光模組16所接收。
最後，雷射光束即可被分光模組16分光為可供雷射投影設備10進行後續投影成像所需之複數個色光(如紅光、藍光，以及綠光等)，簡言之，以第一雷射光源20與第二雷射光源22均為一藍光雷射光源以經過合光模組12以及導光模組14而形成藍光雷射光束為例，如第1圖所示，分光模組16包含一分光鏡30、一螢光色輪32，以及複數個反射鏡34，藉此，當上述雷射光束進入分光模組16中而入射至分光鏡30時，分光鏡30會允許藍光雷射光束穿透以入射至螢光色輪32，此時，螢光色輪32上之螢光粉粒就會被藍光雷射光束所激發而產生異於藍光之色光(如紅光以及綠光等)並反射回分光鏡30，此外，穿透螢光色輪32之部分藍光雷射光束也會依序被複數個反射鏡34所反射而再次入射至分光鏡30。如此一來，在藍光雷射光束再次穿透分光鏡30且上述異於藍光之色光被分光鏡30反射後，分光模組16即可將藍光雷射光束分光為後續投影成像所需之複數個色光。
然而，由上述可知，由於受到複數個反射鏡18必須採用彼此之間具有間隙之間隔擺設方式以及複數個第一雷射光源20必須分別對準複數個反射鏡18且複數個第二雷射光源22必須分別與複數個反射鏡18交錯排列的限制，因此，反射鏡18與相鄰反射鏡18之間隙、第一雷射光源20與相鄰第一雷射光源20之間隙，以及第二雷射光源22與相鄰第二雷射光源22之間隙係無法縮減或消除，從而導致合光模組12出現整體尺寸無法進一步縮小之問題，而不利於雷射投影設備10之微型化設計。
本發明之目的之一在於提供一種使用分光鏡反射第一偏振光、但允許與第一偏振光具有相異偏振性之第二偏振光通過以合光形成雷射光束的雷射投影設備，以解決上述之問題。
根據本發明之一實施例，本發明之雷射投影設備包含一第一合光模組以及一分光模組。該第一合光模組包含複數個第一雷射光源、複數個第二雷射光源，以及一第一分光鏡。該複數個第一雷射光源分別用來發射一第一偏振光。該複數個第二雷射光源分別用來發射一第二偏振光，該第一偏振光及該第二偏振光具有相異偏振性。該第一分光鏡設置於該複數個第一雷射光源以及該複數個第二雷射光源之間，該第一分光鏡包含一第一面以及一第二面。該第一面相對每一第一雷射光源。該第二面相對每一第二雷射光源，該第一面反射該第一偏振光，該第二偏振光穿透該第二面以及該第一面以與該第一偏振光合光而形成一第一雷射光束。該分光模組用來接收該第一雷射光束以將該第一雷射光束分光為複數個色光。
綜上所述，相較於先前技術採用反射鏡彼此之間必須具有間隙之間隔擺設方式，本發明係使用分光鏡反射第一偏振光、但允許與第一偏振光具有相異偏振性之第二偏振光通過之設計，以使第一偏振光與第二偏振光可合光形成雷射光束而進入分光模組中進行分光。如此一來，由於不須受到先前技術中所提及之反射鏡與相鄰反射鏡之間隙以及雷射光源與相鄰雷射光源之間隙無法縮減或消除的限制，因此，本發明即可最大程度地縮減雷射光源與相鄰雷射光源之間隙以及分光鏡之體積，以有效地縮小合光模組之整體體積以及簡化其內部光學元件之配置，從而有利於雷射投影設備之微型化設計。
關於本發明之優點與精神可以藉由以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的瞭解。
10、100、200‧‧‧雷射投影設備
12、102‧‧‧合光模組
14‧‧‧導光模組
16、104‧‧‧分光模組
20、106‧‧‧第一雷射光源
22、108‧‧‧第二雷射光源
24‧‧‧凸透鏡
28‧‧‧凹透鏡
30、110、210‧‧‧分光鏡
32‧‧‧螢光色輪
112‧‧‧第一面
114‧‧‧第二面
201‧‧‧第一合光模組
202‧‧‧第二合光模組
206‧‧‧第三雷射光源
208‧‧‧第四雷射光源
212‧‧‧第三面
214‧‧‧第四面
P1‧‧‧第一偏振光
P2‧‧‧第二偏振光
N、N1‧‧‧法線方向
θ、θ1‧‧‧夾角
L、L1‧‧‧雷射光束
P3‧‧‧第三偏振光
P4‧‧‧第四偏振光
18、26、34、204‧‧‧反射鏡
第1圖為先前技術之雷射投影設備之簡示圖。
第2圖為根據本發明之第一實施例所提出之雷射投影設備之簡示圖。
第3圖為根據本發明之第二實施例所提出之雷射投影設備之簡示圖。
請參閱第2圖，其為根據本發明之一第一實施例所提出之一雷射投影設備100之簡示圖，如第2圖所示，雷射投影設備100包含一合光模組102以及一分光模組104，分光模組104係連接於合光模組102以用來接收合光模組102所產生之雷射光束並將其分光為可供雷射投影設備100進行後續投影成像複數個色光(如紅光、藍光，以及綠光等)，其中分光模組104之元件配置係可採用常見於先前技術中之分光設計，例如前述分光鏡與螢光色輪以及反射鏡之配置等，故於此不再贅述。合光模組102包含複數個第一雷射光源106、複數個第二雷射光源108，以及一分光鏡110。至於雷射投影設備100之其他元件(如成像模組、投影模組，或導光模組等)，其相關描述係常見於先前技術中，為求簡化說明，於此不再贅述。
複數個第一雷射光源106係間隔排列以分別用來發射一第一偏振光P1，複數個第二雷射光源108係間隔排列以分別用來發射一第二偏振光P2且相鄰複數個第一雷射光源106，其中每一第一雷射光源106以及每一第二雷射光源108較佳地為一藍光雷射二極體(但不受此限，其發光二極體類型係可根據雷射投影設備100之實際應用而有所變化)，且第一偏振光P1與第二偏振光P2具有相異偏振性而可為常見之偏振光，舉例來說，第一偏振光P1係可為S偏振光，而第二偏振光P2係可相對應地為P偏振光，但不受此限。需注意的是，雷射投影設備100所採用之第一雷射光源106與第二雷射光源108之配置係可不限於如第2圖所示之四個第一雷射光源106與四個第二雷射光源108以一對一之方式對應設置的設計，也就是說，第一雷射光源106與第二雷射光源108之數量及其對應關係可隨著雷射投影設備100之實際應用需求而有所變化，舉例來說，雷射投影設備100亦可改採用具有相異數量之第一雷射光源106與第二雷射光源108分別設置於分光鏡110之兩側的設 計。
分光鏡110係相對傾斜地設置於複數個第一雷射光源106以及複數個第二雷射光源108之間，分光鏡110係為可反射第一偏振光P1、但允許與第一偏振光P1具有相異偏振性之光線(即第二偏振光P2)通過的光學元件且包含一第一面112以及一第二面114。第一面112係與每一第一雷射光源106相對，第二面114係與每一第二雷射光源108相對。此外，第一面112係可用來反射每一第一雷射光源106之第一偏振光P1，每一第二雷射光源108之第二偏振光P2係可穿透第二面114以及第一面112以與第一雷射光源106之第一偏振光P1合光而共同形成一雷射光束L，其中分光鏡110之一法線方向N與雷射光束L所形成之一夾角θ係較佳地介於40°至50°之間，但不受此限。
以下係以第一偏振光P1為S偏振光、第二偏振光P2為P偏振光，以及分光鏡110相對應地採用可反射S偏振光、但允許P偏振光穿透之分光設計為例，針對雷射投影設備100之雷射光束產生過程進行詳細之描述，但不受此限，舉例來說，在另一實施例中，第一偏振光P1可改為P偏振光，第二偏振光P2可改為S偏振光，以及分光鏡110相對應地改採用可反射P偏振光、但允許S偏振光穿透之分光設計，其相關說明係可參照此實施例類推，於此不再贅述。
如第2圖所示，透過上述配置，在第一偏振光P1以及第二偏振光P2分別入射至分光鏡110後，第一偏振光P1即可分別被分光鏡110所反射，而第二偏振光P2則是可直接穿透分光鏡110，藉此，穿透分光鏡110之第二偏振光P2即可與被分光鏡110所反射之第一偏振光P1合光而共同形成雷射光束L(即藍光雷射光束)。接下來，分光模組104即可接收到雷射光束L並接 著將雷射光束L分光為可供雷射投影設備100進行後續投影成像所需之複數個色光(如紅光、藍光，以及綠光等)，至於針對分光模組104之分光機制的相關描述，其係可參照前述先前技術類推，故於此不再贅述。
值得一提的是，本發明係可採用增設合光模組之設計以進一步地提升雷射投影設備之合光模組所產生之雷射光束的整體亮度，其相關配置請參閱第3圖，其為根據本發明之一第二實施例所提出之一雷射投影設備200之簡示圖，在此實施例中所述的元件與上述實施例中所述的元件編號相同者，表示其具有相似的功能或結構，於此不再贅述。如第3圖所示，雷射投影設備200包含分光模組104、一第一合光模組201、一第二合光模組202，以及複數個反射鏡204。第一合光模組201係可與上述合光模組102具有相同之設計，也就是說，第一合光模組201可包含複數個第一雷射光源106、複數個第二雷射光源108，以及分光鏡110，其相關說明已詳見於上述實施例中，於此不再贅述。
第二合光模組202係相鄰第一合光模組201，第二合光模組202包含複數個第三雷射光源206、複數個第四雷射光源208，以及一分光鏡210。複數個第三雷射光源206係間隔排列以分別用來發射一第三偏振光P3，複數個第四雷射光源208係間隔排列以分別用來發射一第四偏振光P4且相鄰複數個第三雷射光源206，其中每一第三雷射光源206以及每一第四雷射光源208較佳地為一藍光雷射二極體(但不受此限，其發光二極體類型係可根據雷射投影設備200之實際應用而有所變化)，且第三偏振光P3與第四偏振光P4具有相異偏振性而可為常見之偏振光，舉例來說，第三偏振光P3係可為S偏振光，而第四偏振光P4係可相對應地為P偏振光，但不受此限。需注意的是，雷射投影設備200所採用之第三雷射光源206與第四雷射光源208之配置係可不限於如第3圖所示之四個第三雷射光源206與四個第四雷射光源208以 一對一之方式對應設置的設計，也就是說，第三雷射光源206與第四雷射光源208之數量及其對應關係可隨著雷射投影設備200之實際應用需求而有所變化，舉例來說，雷射投影設備200亦可改採用具有相異數量之第三雷射光源206與第四雷射光源208分別設置於分光鏡210之兩側的設計。
分光鏡210係相對傾斜地設置於複數個第三雷射光源206以及複數個第四雷射光源208之間，分光鏡210係為可反射第三偏振光P3、但允許與第三偏振光P3具有相異偏振性之光線(即第四偏振光P4)通過的光學元件且包含一第三面212以及一第四面214。第三面212係與每一第三雷射光源206相對，且第四面214係與每一第四雷射光源208相對。此外，第三面212係可用來反射每一第三雷射光源206之第三偏振光P3，每一第四雷射光源208之第四偏振光P4係可穿透第四面214以及第三面212以與第三雷射光源206之第三偏振光P3合光而共同形成一雷射光束L1，其中分光鏡210之一法線方向N1與雷射光束L1所形成之一夾角θ1係較佳地介於40°至50°之間且複數個反射鏡204係較佳地平行於分光鏡210，但不受此限。
此外，由第3圖可知，複數個反射鏡204係間隔排列且相對傾斜地設置於第一合光模組201以及第二合光模組202之間。複數個反射鏡204係分別對準複數個第二雷射光源108以用來反射每一第一雷射光源106之第一偏振光P1與每一第二雷射光源108之第二偏振光P2所合光形成之雷射光束L進入分光模組104。複數個第四雷射光源208係與複數個反射鏡204分別交錯排列，以使每一第四雷射光源208之第四偏振光P4與每一第三雷射光源206之第三偏振光P3所合光形成之雷射光束L1進入分光模組104。
以下係以第一偏振光P1以及第三偏振光P3為S偏振光、第二偏振光P2以及第四偏振光P4為P偏振光，以及分光鏡110、210相對應地採用 可反射S偏振光、但允許P偏振光穿透之分光設計為例，針對雷射投影設備200之雷射光束產生過程進行詳細之描述，但不受此限。舉例來說，在另一實施例中，第一偏振光P1以及第三偏振光P3可為P偏振光，第二偏振光P2以及第四偏振光P4可為S偏振光，且分光鏡110、210相對應地採用可反射P偏振光、但允許S偏振光穿透之分光設計；或者是，第一偏振光P1以及第四偏振光P4可為P偏振光，第二偏振光P2以及第三偏振光P3可為S偏振光，且分光鏡110相對應地採用可反射P偏振光、但允許S偏振光穿透之分光設計以及分光鏡210相對應地採用可反射S偏振光、但允許P偏振光穿透之分光設計，其相關說明與其他衍生變化係可參照此實施例類推，於此不再贅述。
透過上述配置，在第一偏振光P1以及第二偏振光P2分別入射至分光鏡110後，第一偏振光P1被分光鏡110反射、第二偏振光P2穿透分光鏡110。穿透分光鏡110之第二偏振光P2與被分光鏡110反射之第一偏振光P1合光而共同形成雷射光束L(即藍光雷射光束)。同樣地，在第三偏振光P3以及第四偏振光P4分別入射至分光鏡210後，第三偏振光P3被分光鏡210反射、而第四偏振光P4穿透分光鏡210。穿透分光鏡210之第四偏振光P4與被分光鏡210反射之第三偏振光P3合光而共同形成雷射光束L1(即藍光雷射光束)。
接下來，如第3圖所示，複數個反射鏡204係可反射雷射光束L進入分光模組104且無礙雷射光束L1以進入分光模組104(雷射光束L1從反射鏡204與相鄰反射鏡204之間隙或是從反射鏡204之外側通過)。最後，在接收到第一合光模組201所產生之雷射光束L以及第二合光模組202所產生之雷射光束L1後，分光模組104將雷射光束L以及雷射光束L1分光為可供雷射投影設備200進行後續投影成像所需之複數個色光(如紅光、藍光，以及綠光等)，從而達到使用二個合光模組以進一步地提升雷射光束的整體亮度 之目的。至於針對分光模組104之分光機制的相關描述，其係可參照前述先前技術類推，故於此不再贅述。
相較於先前技術採用反射鏡彼此之間必須具有間隙之間隔擺設方式，本發明係使用分光鏡反射第一偏振光、但允許與第一偏振光具有相異偏振性之第二偏振光通過之設計，以使第一偏振光與第二偏振光可合光形成雷射光束而進入分光模組中進行分光。如此一來，由於不須受到先前技術中所提及之反射鏡與相鄰反射鏡之間隙以及雷射光源與相鄰雷射光源之間隙無法縮減或消除的限制，因此，本發明即可最大程度地縮減雷射光源與相鄰雷射光源之間隙以及分光鏡之體積，以有效地縮小合光模組之整體體積以及簡化其內部光學元件之配置，從而有利於雷射投影設備之微型化設計。
以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。
100‧‧‧雷射投影設備
102‧‧‧合光模組
104‧‧‧分光模組
106‧‧‧第一雷射光源
108‧‧‧第二雷射光源
110‧‧‧分光鏡
112‧‧‧第一面
114‧‧‧第二面
P1‧‧‧第一偏振光
P2‧‧‧第二偏振光
N‧‧‧法線方向
θ‧‧‧夾角
L‧‧‧雷射光束

Claims (10)

  1. 一種雷射投影設備，其包含：一第一合光模組，其包含：複數個第一雷射光源，分別用來發射一第一偏振光；複數個第二雷射光源，分別用來發射一第二偏振光，該第一偏振光及該第二偏振光具有相異偏振性；以及一第一分光鏡，設置於該複數個第一雷射光源以及該複數個第二雷射光源之間，包含：一第一面，相對每一第一雷射光源；以及一第二面，相對每一第二雷射光源，該第一面反射該第一偏振光，該第二偏振光穿透該第二面以及該第一面以與該第一偏振光合光而形成一第一雷射光束；以及一分光模組，用來接收該第一雷射光束以將該第一雷射光束分光為複數個色光。
  2. 如請求項1所述之雷射投影設備，其中每一第一雷射光源以及每一第二雷射光源均為一藍光雷射二極體。
  3. 如請求項1所述之雷射投影設備，其中該第一偏振光係為P偏振光以及S偏振光之其中之一。
  4. 如請求項1所述之雷射投影設備，其中該第一分光鏡之一法線方向與該第一雷射光束所形成之一夾角係介於40°至50°之間。
  5. 如請求項1所述之雷射投影設備，其另包含：一第二合光模組，包含： 複數個第三雷射光源，分別用來發射一第三偏振光；複數個第四雷射光源，分別用來發射一第四偏振光，該第三偏振光及該第四偏振光具有相異偏振性；以及一第二分光鏡，設置於該複數個第三雷射光源以及該複數個第四雷射光源之間，包含：一第三面，相對每一第三雷射光源；以及一第四面，相對每一第四雷射光源，該第三面反射該第三偏振光，該第四偏振光穿透該第四面以及該第三面以與該第三偏振光合光而形成一第二雷射光束；以及複數個反射鏡，設置於該第一合光模組以及該第二合光模組之間，該複數個反射鏡分別對準該複數個第二雷射光源以用來反射該第一雷射光束進入該分光模組，該複數個第四雷射光源與該複數個反射鏡分別交錯排列，以使該第二雷射光束進入該分光模組；其中該分光模組另用來接收該第二雷射光束以將該第二雷射光束分光為該複數個色光。
  6. 如請求項5所述之雷射投影設備，其中每一第一雷射光源、每一第二雷射光源、每一第三雷射光源，以及每一第四雷射光源均為一藍光雷射二極體。
  7. 如請求項5所述之雷射投影設備，其中每一第一雷射光源之該第一偏振光係為P偏振光以及S偏振光之其中之一。
  8. 如請求項7所述之雷射投影設備，其中每一第三雷射光源之該第三偏振光係為P偏振光以及S偏振光之其中之一。
  9. 如請求項5所述之雷射投影設備，其中該第一分光鏡之一法線方向與該第 一雷射光束所形成之一夾角係介於40°至50°之間，該第二分光鏡之一法線方向與該第二雷射光束所形成之一夾角係介於40°至50°之間。
  10. 如請求項9所述之雷射投影設備，其中該複數個反射鏡係平行於該第二分光鏡。
TW102148481A 2013-12-26 2013-12-26 雷射投影設備 TWI503617B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW102148481A TWI503617B (zh) 2013-12-26 2013-12-26 雷射投影設備
US14/580,226 US20150185597A1 (en) 2013-12-26 2014-12-23 Laser projection apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW102148481A TWI503617B (zh) 2013-12-26 2013-12-26 雷射投影設備

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201525603A true TW201525603A (zh) 2015-07-01
TWI503617B TWI503617B (zh) 2015-10-11

Family

ID=53481541

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102148481A TWI503617B (zh) 2013-12-26 2013-12-26 雷射投影設備

Country Status (2)

Country Link
US (1) US20150185597A1 (zh)
TW (1) TWI503617B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI574098B (zh) * 2015-08-14 2017-03-11 台達電子工業股份有限公司 雷射投影光源

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160334695A1 (en) * 2014-02-27 2016-11-17 Mitsubishi Electric Corporation Light source device
JP6701751B2 (ja) * 2016-01-20 2020-05-27 セイコーエプソン株式会社 光源装置及びプロジェクター
CN108802986B (zh) 2017-05-02 2020-06-19 台达电子工业股份有限公司 激光投影光源
CN110275374A (zh) * 2018-03-16 2019-09-24 青岛海信激光显示股份有限公司 一种三色激光光源及激光投影装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4059066B2 (ja) * 2002-11-15 2008-03-12 セイコーエプソン株式会社 プロジェクタ
US7547114B2 (en) * 2007-07-30 2009-06-16 Ylx Corp. Multicolor illumination device using moving plate with wavelength conversion materials
TW201019032A (en) * 2008-11-05 2010-05-16 Young Optics Inc Laser projection system
WO2011037014A1 (ja) * 2009-09-28 2011-03-31 日本電気株式会社 色合成光学素子、それを用いた投射型表示装置およびその表示制御方法
GB201109208D0 (en) * 2011-06-01 2011-07-13 Barco Nv Apparatus and method for combining laser beams of different polarization
CN103207507B (zh) * 2012-01-11 2015-07-08 中强光电股份有限公司 光源模组与投影装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI574098B (zh) * 2015-08-14 2017-03-11 台達電子工業股份有限公司 雷射投影光源

Also Published As

Publication number Publication date
US20150185597A1 (en) 2015-07-02
TWI503617B (zh) 2015-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11947130B2 (en) Optical devices and systems with dichroic beamsplitter color combiner
US8485667B2 (en) Optical element and colored light combiner using same
US7325957B2 (en) Polarized light emitting diode (LED) color illumination system and method for providing same
TWI498662B (zh) 雷射投影設備
TWI503617B (zh) 雷射投影設備
US20090310042A1 (en) Illumination system and method with efficient polarization recovery
US20060164857A1 (en) LED polarizing optics for color illumination system and method of using same
US10416545B2 (en) Laser projector
TW200408284A (en) Color management system having a field lens
KR20110015010A (ko) 광학 요소 및 색상 조합기
WO2018209723A1 (zh) 一种投影照明光路及其投影装置
US9470963B2 (en) Lighting device and projection type video display apparatus
CN103747221B (zh) 激光投影设备
US9664988B2 (en) Light source system with light coupling module and display apparatus comprising the same
CN101546045A (zh) 偏振转换装置及使用其的投影系统
WO2022037196A1 (zh) 一种三色光源设备和投影显示设备
WO2021078103A1 (zh) 一种激光投影光源和激光投影设备
WO2012129788A1 (zh) 激光投影光源模块及投影机
US10310364B2 (en) Light source device and projection display apparatus
CN100354665C (zh) 双棱镜中偏振循环的照明装置
TWI630454B (zh) 雷射投影機
CN114200752B (zh) 合光模组及应用该合光模组的投影机
US20100103381A1 (en) Image Projection System for Reducing Spectral Interference
JP4610577B2 (ja) 投射型表示装置
JP2012137705A (ja) 光源装置