TW201522953A - X射線裝置 - Google Patents

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TW201522953A TW103142337A TW103142337A TW201522953A TW 201522953 A TW201522953 A TW 201522953A TW 103142337 A TW103142337 A TW 103142337A TW 103142337 A TW103142337 A TW 103142337A TW 201522953 A TW201522953 A TW 201522953A
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Abstract

本發明之X射線裝置,具備對裝載於裝載台之被測定物照射X射線的X射線源、搭載X射線源的架台、使施加至架台之振動衰減的除振機構、以及使架台與除振機構一體移動的移動機構。

Description

X射線裝置
本發明係關於X射線裝置。
習知有一種以檢查為目的,至少具有安裝了X射線管之框架(架台)的X射線檢查裝置(例如專利文獻1)。
先行技術文獻
【專利文獻】美國公開公報第5493594號
然而,上述專利文獻1之X射線檢查裝置,為進行X射線源之保養維修,必須要有將X射線源從箱體拉出之機構。然而,由於框架與防振座之間設有移動機構,因此有無法使振動充分衰減,導致無法獲得正確之X射線測量結果的問題。
本發明第1態樣係一種X射線裝置,具備:對被測定物照射X射線的X射線源、搭載X射線源的架台、使施加至架台之振動衰減的除振機構、以及使架台與除振機構一體移動的移動機構。
本發明第2態樣,係第1態樣之X射線裝置中,較佳的是架台進一步搭載有:搭載被測定物的搭載台、以及檢測從X射線源照射穿透過被 測定物之X射線的X射線檢測器。
本發明第3態樣,係第2態樣之X射線裝置中,較佳的是進一步具備支承移動機構之基盤,移動機構係構成為透過除振機構支承架台。
本發明第4態樣,係第3態樣之X射線裝置中,較佳的是移動機構具有導軌、與沿導軌相對移動之複數個移動構件,移動機構位在除振機構之鉛直下方。
本發明第5態樣,係第4態樣之X射線裝置中,較佳的是移動機構在移動構件之下方,具有可安裝用以支承架台之腳部的構造。
本發明第6態樣,係第5態樣之X射線裝置中,較佳的是移動機構具有在安裝腳部時,在架台之全可移動量中之既定移動量之位置暫時限制架台之移動的限制構件。
本發明第7態樣,係第4態樣之X射線裝置中,較佳的是其具備收納架台之箱體,基盤構成箱體之一部分,在既定移動量之位置架台之至少一部分從箱體露出。
本發明第8態樣,係第1至第7態樣之任一態樣之X射線裝置中,除振機構較架台之下面外緣部設在架台之下面內側。
本發明第9態樣,係第2至第8態樣之任一態樣之X射線裝置中,較佳的是其具備一邊改變X射線檢測器與被測定物之相對位置、一邊根據X射線從複數個不同方向穿透被測定物時被測定物之投影影像,算出被測定物之內部構造的再構成部。
本發明第1態樣係一種X射線裝置,具備對被測定物照射X射線的X射線源、搭載該X射線源的架台、使架台移動的移動機構、以及設在 架台與移動機構之間以支承架台使施加至架台之振動衰減的除振機構。
根據本發明,由於移動機構可使搭載X射線源之架台與可使施加至架台之振動衰減之除振機構一體移動,因此能使來自外部透過移動機構施加至架台之振動良好的衰減,獲得不易受振動影響之X射線裝置。
1‧‧‧箱體
2‧‧‧架台
3‧‧‧X射線源控制裝置
4‧‧‧載台控制裝置
5‧‧‧X射線源
6‧‧‧裝載部
7‧‧‧X射線檢測器
8‧‧‧X射線檢測器驅動單元
9‧‧‧腳部
11、12、13‧‧‧外壁面
14‧‧‧上部壁面
15‧‧‧第1底面
16、16a、16b‧‧‧第2底面
17a、17b‧‧‧內壁面
18‧‧‧門扇
22‧‧‧基礎底盤
23‧‧‧支柱
24‧‧‧安裝構件
25(25a~25d)‧‧‧除振座
26‧‧‧移動機構
41‧‧‧影像處理裝置
42‧‧‧再建構處理裝置
61‧‧‧裝載台
62‧‧‧X軸移動機構
63‧‧‧Y軸移動機構
64‧‧‧Z軸移動機構
80‧‧‧限制構件
80a‧‧‧限制構件之面
81‧‧‧旋轉機構
82‧‧‧圓弧狀載台
91‧‧‧車輪
92‧‧‧安裝底座
93、94‧‧‧螺釘
100‧‧‧X射線裝置
231‧‧‧輔助支柱
232‧‧‧補強構件
261‧‧‧上部安裝板
262(262a~262c)‧‧‧滾輪單元
263‧‧‧下部導軌
264(264a~264c)‧‧‧移動限制機構
264as‧‧‧移動限制機構之面
811‧‧‧安裝板
812‧‧‧馬達
813‧‧‧第1齒輪
814‧‧‧第2齒輪
815‧‧‧旋轉軸
816‧‧‧對準機構
L‧‧‧基準軸
M、MM‧‧‧旋轉軌道
P‧‧‧射出點
S‧‧‧被測定物
SP1、SP2、SP3‧‧‧空間
V‧‧‧視野
圖1係本發明實施形態之X射線裝置的內部前視圖。
圖2係本發明實施形態之X射線裝置的內部側視圖。
圖3係本發明實施形態之X射線裝置的內部俯視圖。
圖4係從箱體將收容在內部之架台以既定移動量拉出時的側視圖。
圖5係從箱體將收容在內部之架台以最大移動限度拉出時的側視圖。
圖6係從下方觀察架台的立體圖。
圖7係說明移動線置機構之外觀的立體圖。
本發明態樣之X射線裝置,係在箱體內具備使搭載有裝載被測定物之裝載台與X射線源與X射線檢測器的架台、與使施加至架台之振動衰減的除振機構一體移動的移動機構。亦即,X射線裝置係構成為能在搭載於架台之各部位之維修保養時,將架台拉出至箱體之外部。於本發明之態樣,係將X射線裝置做成可降低來自箱體外部之振動、及來自箱體外部之振動作用於為進行架台之拉出而搭載之移動機構所產生之振動傳至架台,而對以X射線測定被測定物之測定結果造成之不良影響,據以達成 易於維修保養及提升X射線測定精度之雙方。接著,詳細說明之。
-實施形態-
接著,一邊參照圖、一邊說明本發一實施形態之X射線裝置。X射線裝置,係藉由對被測定物照射X射線並檢測穿透被測定物之X射線,以非破壞方式取得被測定物之內部資訊(例如內部構造)的X射線CT檢查裝置。當被測定物係機械零件或電子零件等產業用零件之情形時,X射線裝置被稱為產業用X射線CT檢查裝置。
又,本實施形態係為易於理解發明宗旨而具體的加以說明者,若未特別指定X射線,則非用以限定本發明。
圖1~圖5係顯示本實施形態之X射線裝置100之一內部構造例的圖。圖1係X射線裝置100的內部前視圖、圖2係X射線裝置100的內部側視圖、圖3係X射線裝置100的內部俯視圖、圖4係將收容在箱體內部之架台以既定移動量拉出至箱體外時的側視圖、圖5則係將收容在箱體內部之架台以最大移動限度拉出至箱體外時的側視圖。又,為便於說明,將由X軸、Y軸及沿鉛直方向之Z軸構成之坐標系設定為如圖所示。
X射線裝置100,具備箱體1、架台2、X射線源控制裝置3、以及載台控制裝置4。箱體1係在工廠等之地面上配置成與XY平面實質平行(水平),於內部收容架台2、X射線源控制裝置3、以及載台控制裝置4。箱體1,具有以和XZ平面實質平行之外壁面11、12、和YZ平面實質平行之外壁面13(參照圖2)、上部壁面14、第1底面15、門扇18(參照圖2)構成之中空的箱狀構造。門扇18,係安裝在外壁面11~12、上部壁面14 及第1底面15各個之X軸一側端部之任一方,設置成可開關。於箱體1之內部,分別設有與XY平面實質平行之第2底面16a、16b(總稱時,則賦予元件符號16),於第1底面15安裝有分別支承第2底面16a、16b之內壁面17a、17b(總稱時,則賦予元件符號17)。
架台2,係以能從圖所示之空間SP1沿X軸方向移動至箱體1外部之方式搭載。架台2以可於第2底面16上移動之方式搭載。於第2底面16a下部之空間SP2內收容載台控制裝置4,於第2底面16b下部之空間SP3內收容X射線源控制裝置3。X射線源控制裝置3及載台控制裝置4係以纜線與後述X射線源5及裝載部6分別電氣連接。構成箱體1之各部分,為避免X射線洩漏至箱體1之外部,其材料包含鉛。又,亦可以是構成箱體1之各部分中,至少圍繞空間SP1之部分之材料包含鉛。
於架台2,搭載有架台2、X射線源5、X射線檢測器7、及X射線檢測器驅動單元8。架台2係由矩形之基礎底盤22、分別設在基礎底盤22上之四角並沿Z軸方向延伸之4隻支柱23、從支柱23上部伸出之輔助支柱231、與設在輔助支柱231上部用以安裝X射線檢測器驅動單元8之安裝構件24構成。此外,不具有輔助支柱231而將安裝構件24固定在支柱23上部者,亦包含於本發明之一態樣。又,圖4~圖6中,顯示了藉由設置連結相鄰支柱23之補強構件232以確保強度之狀態。關於架台2之詳細構造,留待後敘。
X射線源5安裝在架台2之基礎底盤22、從基礎底盤22之中央部近旁垂下。X射線源5受X射線源控制裝置3控制,以圖1所示之點P為射出點,照射出擴張成視野V-V範圍之圓錐狀的廣角X射線。此射 出點與本X射線源5之焦點(focal spot)一致。X射線源5中從基礎底盤22垂下之部分,被收容在彼此對向之內壁面17a與17b間之空間。又,以下之說明中,將通過點P之與Z軸方向平行之軸稱為基準軸L。本實施形態中,係以基準軸L通過架台2中心之方式設置X射線源5。
X射線源5,係照射例如約50eV之超軟X射線、約1~2keV之軟X射線、約2~20keV之X射線及約20~100keV之硬X射線中之至少一種X射線。又,X射線源5可以穿透型X射線源構成、亦可以反射型X射線源構成。
裝載部6,較X射線源5之射出點設置在Z軸+側,具備裝載被測定物S之裝載台61、用以使裝載台61移動之X軸移動機構62、Y軸移動機構63及Z軸移動機構64(參照圖3)。X軸移動機構62及Y軸移動機構63分別以馬達、軌道、滑件等構成,依據載台控制裝置4之控制,使裝載台61沿X軸方向及Y軸方向移動。Z軸移動機構63以馬達、軌道、滑件等構成,依據載台控制裝置4之控制,使裝載台61往ZX軸方向移動。
X射線檢測器7,由包含公知閃爍(scintillation)物質之閃爍部、光電倍增管、受光部等構成,接收包含從X射線源5射出、穿透過裝載於裝載台61上之被測定物S之穿透X射線的X射線。X射線檢測器7將所接收之X射線轉換為光能,並將該光能轉換為電能後,作為電氣訊號加以輸出。當然,X射線檢測器7,亦可不將射入之X射線換微光能而直接轉換為電氣訊號加以輸出。又,X射線檢測器7具有複數個像素,該等像素以2維配置。據此,能一次取得從X射線源5射出、於被測定物S全體通過被測定物S之X射線之強度分布。因此,能以一次攝影取得被測定物 S全體之投影像。
X射線檢測器驅動單元8,係使X射線檢測器7在以基準軸L為中心之旋轉軌道M上移動。X射線檢測器驅動單元8,具備安裝在架台2之安裝構件24的旋轉機構81、與藉由旋轉機構81旋轉的圓弧狀載台82。旋轉機構81,具有安裝板811、安裝在安裝板811之馬達812、藉由馬達812旋轉之第1齒輪813、與第1齒輪813咬合之第2齒輪814、以及中空之旋轉軸815。旋轉軸812藉由第2齒輪814以基準軸L為中心旋轉,據以使固定在旋轉軸815下部之圓弧狀載台82旋轉,在圓弧狀載台82上以可移動之方式設置之X射線檢測器7即沿著以基準軸L為中心之旋轉軌道MM旋轉。由於旋轉軸815具有中空構造,因此可使X射線檢測器7之纜線類(未圖示)通過旋轉軸815之內側。
對準機構816以螺釘等構成,於調整作業時,將調整用治具之直線棒狀構件貫通於旋轉軸815內側,並使治具下端與點P成一致狀態。如此,進行安裝構件24之傾斜(tilt)、位移(shift)及高度之微調整,以使旋轉軸815之旋轉軸與基準軸L一致。藉由此對準機構816,能藉由可將X射線源5與X射線檢測器7間之距離保持於既定設計值的簡單構成,進行被測定物S之測量精度之管理。
圓弧狀載台82,係一以X射線之射出點即P點為中心之圓弧狀而具有一定長度形成之板片。於圓弧狀載台82設有導軌及滑件等,上述X射線檢測器7被安裝成可沿圓弧狀載台82之弧形藉由馬達等移動。X射線檢測器7可沿以X射線之射出點P為中心之圓弧狀軌道M移動。據此,藉由旋轉機構81使圓弧狀載台82旋轉,即能使X射線檢測器7之軌道調 整成沿著以點P為頂點之圓錐底面外圍,於所欲之相同高度(Z側+測之同一面上)進行圓運動。又,X射線檢測器7能在與圓弧狀載台82平行的與圓弧狀載台形成為同心圓弧之板片、與圓弧狀載台82之間移動之構成,亦包含於本發明之一態樣。
由於具備上構成,藉由以基準軸L為中心之旋轉軌道MM與以X射線之射出點P為中心之圓弧狀軌道M,能移動至X射線檢測器7之以X射線之射出點P為中心之球面上的任意位置,因此使用者能在所欲之攝影位置、以所欲之攝影角度拍攝被測定物S。此外,可藉由使裝載台61移動於Z軸方向,以所欲之放大率拍設被測定物S。
接著,進一步參照圖6、圖7,詳細說明架台2。圖6係從底面側觀察架台2的立體圖、圖7係說明在使架台2移動時用以暫時限制移動之機構的圖。又,針對圖6、圖7亦係與圖1~圖5之情形同樣的,如圖所示的設定一遊X軸、Y軸、Z軸構成之座標系。此外,圖6中,為便於圖示,省略了X射線檢測器7及X射線檢測器驅動單元8。
於架台2之基礎底盤22上部(Z側+側),如上所述,設有裝載部6、與透過支柱23及安裝構件24被支承之X射線檢測器7及X射線檢測器驅動單元8(如上所述,圖6中省略)。X射線源5,從基礎底盤22之中央部近旁之開口懸垂安裝。於基礎底盤22之下部(Z側-側)安裝有用以使從箱體1之外部透過第2底面16傳遞至架台之振動衰減的除振座25。除振座25,例如係由公知之空氣彈簧或螺旋彈簧等單獨或組合構成。
於本實施形態,係顯示安裝有4個除振座25a、25b、25c、25d(總稱時使用符號25)之例。各除振座25係配置在較架台2之基礎底 盤22之外周端部靠內側處。X射線源5位在連結4個除振座25a、25b、25c、25d安裝於基礎底盤22之安裝中心之直線所圍成之矩形範圍內。又,本實施形態中,雖係顯示安裝有4個除振座25之例,但除振座25之數量不限於4個,較佳的是視架台2之大小及重量等設置最適當的數量。此外,除振座25為能衰減往全方位變位振震動,由可向全方位變位之可動機構與衰減可動機構所生之運動的阻尼部構成。
除振座25係直接或間接的固定在配至於其下側(Z軸-側)、構成移動機構26之上部安裝板261(亦即移動側)。構成移動機構26之下部導軌26固定在箱體1之第2底面16(亦即固定側),移動機構26使架台2與除振座26相對作為底盤之第2底面16一體移動。
本實施形態中設有2個移動機構26,一移動機構26安裝在除振座25a、25c之下部,另一移動機構26則安裝在除振座25b、25d之下部。一移動機構26配置在第2底面16a上,另一移動機構26則配置在第2底面16b上。
移動機構26,具備上部安裝板261、滾輪單元262(參照圖4、圖5)、下部導軌263、以及移動限制機構264。一移動機構26之上部安裝板261安裝在除振座25a、25c之下部,另一移動機構26之上部安裝板261則安裝在除振座25b、25d之下部,2個上部安裝板261分別沿X軸方向延伸。複數個滾輪單元262安裝在上部安裝板261之下面。本實施形態中,顯示了安裝有3個滾輪單元262a、262b、262c之例。滾輪單元262a、262c被設置成除振座25a、25c之鉛直方向(Z軸方向)之中心軸分別通過滾輪單元262a、262c之中心。亦即,最好是緊挨著滾輪單元262a、262c之上方分 別配置除振座25a、25c。又,並不限於除振座25a、25c之中心軸分別通過滾輪單元262a、262c之中心。移動機構26具有之滾輪單元262之數量亦不限於3個,最好是視架台2之大小及重量等設置最佳數量。
下部導軌263係於箱體1之第2底面16沿X軸方向安裝,與YZ平面平行之面的剖面具有中央部凹陷之形狀。亦即,分別構成2個移動機構26之2個下部導軌263,係安裝成與X軸平行。滾輪單元262,藉由在形成於下部導軌263之凹部上移動,能相對固定有除振座25之架台2沿X軸方向移動。
下部導軌263,為將第2底部16之撓曲抑制得較小,係安裝在第2底面16中、接近內壁面17之位置。亦即,2個下部導軌263在與架台2之移動方向(X軸方向)正交之方向(Y軸方向)之間隔,較沿Y軸方向之架台2之寬度方向之長度短。如前所述,在下部導軌263上移動之滾輪單元262之中心與除振座25之中心係設置成一致。因此,支承架台2之除振座25之Y軸方向安裝中心間之距離較架台2之Y軸方向長度短,因此能將產生於架台2之基礎底盤22之撓曲及振動抑制得較小。內壁面17與下部導軌263與Z軸方向中心軸之距離越短,越無需為使第2底面16具有強度而過厚,因此較佳。
如圖6所示,本實施形態中,從X軸-側起依序於上部安裝板261安裝有3個移動限制機構264a、264b、264c。移動限制機構264a係以可裝拆之方式安裝於上部安裝板261,如後述般在將架台2沿X軸方向以既定移動量拉出至箱體1外部時,具有暫時限制架台2沿X軸方向移動之擋止器(stopper)的功能。移動限制機構264a係設置在對應將架台2拉 出至箱體1外部時之全移動量中之既定移動量的位置。本實施形態中,上述既定移動量相當於架台2之X軸方向長度之例如約25%。亦即,當架台2開始往X軸-側之移動,並移動相當於架台2之X軸方向長度之25%之距離而架台2之一部分露出至箱體1之外部時,即被移動限制機構264a限制架台2之移動(參照圖4)。於此位置,在滾輪單元262a之下部安裝後述腳部9,進一步再往X軸-方向移動時藉由腳部9保持架台2之重量。
移動限制機構264b,具有在架台2沿X軸方向移動至箱體1外部時之全移動量、亦即移動至移動最大限度時,使架台2沿X軸方向之移動停止擋止器的功能。本實施形態中,相當於上述移動限制機構264a之設置位置之架台2之全移動量,係相當於架台2之X軸方向長度之例如75%。(參照圖5)
又,架台2之移動受移動限制機構264a限制之既定移動量,並不限於架台2之X軸方向長度之25%。既定移動量,只要是將架台2從箱體1露出一部份之狀態下能安全地安裝腳部9之露出量即可,可容許至架台2之X軸方向長度之1/2程度。此外,全移動量亦不限於架台2之X軸方向長度之例如75%,只要是架台2從箱體1露出之移動量不會妨礙搭載於架台2之各部之檢查、維修、保養等之程度即可。
接著,使用圖7說明以移動限制機構264a暫時限制架台2之移動的機構。圖7係將圖1中以一點鍊線圍繞之區域R予以放大顯示之移動機構26之X軸-側前端的立體圖。移動限制機構264a係以螺釘93、94可裝拆的安裝於上部安裝板261。於移動機構26之下部導軌263之X軸-側端部,以螺釘81、82安裝有限制構件80。當架台2往X軸-方向移動 時,與架台2一體設置之移動機構26之上部安裝板261一起,移動限制機構264a亦往X軸-方向移動。當架台2之移動量達上述既定移動量時,移動限制機構264a之X軸-側之面264as即抵接於限制構件80之X軸+側之面80s。其結果,架台2往X軸-側之移動受到限制。於此狀態下安裝腳部9並進一步使架台2移動時,可藉由拆除螺釘93、94將移動限制機構264a從上部安裝板261拆下,上部安裝板261可移動至移動限制機構264b與限制構件80抵接為止。
又,移動限制機構264a具有在Z方向亦有限制,防止架台2之意外傾斜及從第2底面16之分離的機構。亦可以迅速進行傾斜或分離停止為目的而於移動限制機構264a安裝橡膠等之制動構件。
其次,使用圖6說明在將架台2拉出至箱體1外部時用以保持架台2之腳部9。腳部9,係在滾輪單元262a之近旁、以可裝拆之方式安裝於上部安裝板261之下面(Z軸-側)。於腳部9之Z側+側端部設有用以安裝底座92,此安裝底座設有92用以螺固於上部安裝板261之螺孔。於腳部9之Z軸-側端部,為了能在配置箱體1之配置面移動,安裝有例如車輪91。腳部9,為能保持架台2,係形成為Z軸方向之長度與從箱體1之配置面到上部安裝板261之下面的高度實質相等。其結果,即能在保持架台2之同時、與架台2一起在配置架台2之配置面上沿X軸方向移動。
根據上述實施形態之X射線裝置,能獲得如下作用。
(1)移動機構26,能使搭載X射線源5之架台2、與使施加至架台2之振動衰減之除振座25一體移動。具體而言,第2底面16係支承移動機構26之方式構成,移動機構26係構成為透過除振座25支承架台2。因此,能 抑制來自箱體1外部之振動、以及來自箱體1外部之振動作用於架台2之移動機構26而產生之振動傳遞至架台2,據以降低X射線對被測定物S之測定結果造成之不良影響,故能提升X射線之測定精度。尤其是,搭載重量非常重之X射線源之架台2產生振動時會產生大的慣性力矩,欲使產生之振動衰減是有困難的。為此,於本實施形態,即使是產生以除振座25無法完全除去之振動時,亦能防止因移動機構26而助長振動進而傳遞至重的X射線源。此外,在X射線源5之絲極(filament)更換等之維修保養時,有從箱體1拉出X射線源5之必要,移動機構26即具有能與架台2一起拉出除振座25之構造。除振座25,即使是在將架台2從箱體1拉出時亦是恆承載相同重量,因此能防止對除振座25之載重變化而導致除振座25因載重變化之浮起,使維修保養更為容易。
(2)構成移動機構26之複數個滾輪單元262,係較下部導軌263設置的靠近架台2側,複數個除振座25個個之鉛直方向之中心軸與滾輪單元262之中心實質一致。因此,能使因移動機構26之構造等產生之振動,藉由緊挨著移動機構26設在上方之除振座25加以衰減,故能提升除振效果進而提升被測定物S之測量精度。再者,由於架台2之重量係透過緊挨著除振座25設在下方之滾輪單元262作用於下部導軌263及第2底面16,因此與沒有緊挨著除振座25下方設置滾輪單元262之情形相較,能抑制對上部安裝板261產生歪斜,順暢地進行架台2之移動。
(3)X射線源5,係搭載在連結複數個除振座25安裝於架台2之位置 所形成之範圍內,且除振台25係安裝在較架台25之基礎底盤22之下面外緣部之內側。其結果,由於係支承具有高共振頻率且大重量之X射線源5,因此能藉由除振座25除去大範圍之振動,抑制對以X射線進行之被測定物S之測定結果造成不良影響的情形。
(4)下部導軌263,係與架台2之移動方向即X軸方向平行的設置2條,2條下部導軌263於Y軸方向之距離(間隔)較與架台2在與移動方向正交之方方向之Y軸方向的尺寸短。如前所述,在下部導軌263上移動之滾輪單元262之中心與除振座25之中心係設置成一致。因此,支承架台2之除振座25於Y軸方向之安裝中心間之距離較架台2之Y軸方向長度短。從而,能將產生於架台2之基礎底盤22之撓曲或振動抑制得較小。
(5)於除振座25下方,具有能安裝用以支承架台2之腳部9的構造。特別是本實施形態中,可在設於除振座25下方之滾輪單元262之下方安裝腳部9。因此,在將架台2從箱體1拉出時,能將架台2之重量透過除振座25及滾輪單元262以腳部9加以支承,因此即使是在架台2從箱體1露出既定量以上之情形時,亦能抑制對上部安裝板261及下部導軌263之歪斜,順暢地進行架台2之移動。再者,由於腳部9係以可裝拆之方式安裝,因此在同一工廠內使用複數台X射線裝置之情形時,能在複數台X射線裝置之間共用腳部9。
(6)移動機構26,具有在安裝腳部9時,在架台2之全移動可能量中 之既定移動量之位置,暫時限制架台2之移動的移動限制機構264。因此,在腳部9之安裝作業時,能防止因來自外部之振動等造成架台2自行沿X軸方向移動的情形,對提升作業之安全有所助益。
(7)於搭載了X射線源5、裝載部6及X射線檢測器7之架台2,具有大重量之X射線源5機體的大部分係垂下至基礎底盤22之下面。架台2之重心位置,於Z軸方向在基礎底盤22之近旁。除振座25從Z軸-側支承此架台2,因此於Z軸方向,架台2之重心位置與除振座25之位置接近,可提昇來自箱體1外部之振動之衰減效果,進而能提升被測定物S之測量精度。再者,能在使架台2沿X軸方向移動時,使架台2之姿勢安定。
(8)X射線源5、裝載部6、X射線檢測器7及X射線檢測器驅動單元8係沿Z軸方向搭載於架台2。特別是X射線源5從架台2之基礎底盤22垂下。因此,於架台2之下面(Z軸-側)會產生空間SP2、SP3。由於能在此空間SP2、SP3配置過去是配置在箱體外部之X射線源控制裝置3、載台控制裝置4,因此與習知裝置相較,能縮小箱體1對設置面之設置面積。
又,於配置有載台控制裝置4之空間SP2,亦能設置連接於X射線檢測器7之影像處理裝置41、以及連接於影像處理裝置41及載台控制裝置4之再建構處理裝置42(參照圖2、圖4、圖5),因此能進一步的作成CT裝置化,亦無需大幅增加設置面積。
又,下述變形亦在本發明之範圍內,可將變形例之一種、或複數種與上述實施形態加以組合。
(1)可將導軌安裝於除振座25側,將安裝板安裝於第2底面16,將滾輪單元262安裝於安裝板。此場合,只要在架台2之整體收容在箱體1之狀態下以除振座25之鉛直方向(Z軸方向)之中心軸通過滾輪單元262之方式,將滾輪單元262安裝於安裝板即可。
(2)可取代能裝拆之腳部9,使腳部9為可折疊之構造,作成可收容在基礎底盤22之下面之構成。
(3)X軸移動機構62、Y軸移動機構63、Z軸移動機構64、旋轉機構81、及可在圓弧狀載台82上移送X射線檢測器7之X射線檢測器移送機構,可分別具備編碼器以取得裝載部6及X射線檢測器7之位置資訊。又,亦可藉由在取得各個之位置資訊之同時、取得以X射線檢測器7攝影之X射線穿透像即投影影像資料,再建構被測定物S之剖面構造。此場合,一邊以載台控制裝置4控制旋轉軸815、一邊以未圖示之影像處理部進行X射線檢測器7與X射線檢測器驅動單元8之協調控制。而在如上述之CT裝置化之場合,再建構處理裝置42透過影像處理裝置41取得以X射線檢測器7攝影之從複數個不同方向之被測定物S之投影影像資料。又,再建構處理裝置42透過載台控制裝置4亦取得來自各編碼器之輸出。再建構處理裝置42,亦可根據投影影像資料與各編碼器之輸出,以公知之費耳德坎普(Feldkamp)倒投影法算出被測定物S之內部構造。
在不損及發明特徵之範圍,本發明不限定於上述實施形態,在本發明之技術思想範圍內可思及之其他實施形態,亦包含在本發明之範 圍內。
1‧‧‧箱體
2‧‧‧架台
3‧‧‧X射線源控制裝置
4‧‧‧載台控制裝置
5‧‧‧X射線源
6‧‧‧裝載部
7‧‧‧X射線檢測器
8‧‧‧X射線檢測器驅動單元
11、12‧‧‧外壁面
14‧‧‧上部壁面
15‧‧‧第1底面
16a、16b‧‧‧第2底面
17a、17b‧‧‧內壁面
22‧‧‧基礎底盤
23‧‧‧支柱
24‧‧‧安裝構件
25(25a、25b)‧‧‧除振座
26‧‧‧移動機構
61‧‧‧裝載台
64‧‧‧Z軸移動機構
81‧‧‧旋轉機構
82‧‧‧圓弧狀載台
100‧‧‧X射線裝置
261‧‧‧上部安裝板
262‧‧‧滾輪單元
263‧‧‧下部導軌
264‧‧‧移動限制機構
811‧‧‧安裝板
812‧‧‧馬達
813‧‧‧第1齒輪
814‧‧‧第2齒輪
815‧‧‧旋轉軸
816‧‧‧對準機構
L‧‧‧基準軸
M、MM‧‧‧旋轉軌道
P‧‧‧射出點
S‧‧‧被測定物
SP1、SP2、SP3‧‧‧空間
V‧‧‧視野

Claims (10)

  1. 一種X射線裝置,具備:X射線源,對被測定物照射X射線;架台,搭載該X射線源;除振機構,使施加至該架台之振動衰減;以及移動機構,使該架台與該除振機構一體移動。
  2. 如申請專利範圍第1項之X射線裝置,其中,該架台進一步搭載:搭載該被測定物之搭載台;以及檢測從該X射線源照射、穿透過該被測定物之該X射線之X射線檢測器。
  3. 如申請專利範圍第2項之X射線裝置,其進一步具備支承該移動機構之基盤;該移動機構係構成為透過該除振機構支承該架台。
  4. 如申請專利範圍第3項之X射線裝置,其中,該移動機構具有導軌、與沿該導軌相對移動之複數個移動構件;該移動機構位在該除振機構之鉛直下方。
  5. 如申請專利範圍第4項之X射線裝置,其中,該移動機構在該移動構件之下方,具有可安裝用以支承該架台之腳部的構造。
  6. 如申請專利範圍第5之X射線裝置,其中,該移動機構具有在安裝該腳部時,在該架台之全可移動量中之既定移動量之位置暫時限制該架台之移動的限制構件。
  7. 如申請專利範圍第4項之X射線裝置,其具備收納該架台之箱體; 該基盤構成該箱體之一部分;在既定移動量之位置,該架台之至少一部分從該箱體露出。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之X射線裝置,其中,該除振機構較該架台之下面外緣部設在該架台之下面內側。
  9. 如申請專利範圍第2至8項中任一項之X射線裝置,其具備一邊改變該X射線檢測器與該被測定物之相對位置、一邊根據該X射線從複數個不同方向穿透該被測定物時該被測定物之投影影像,算出該被測定物之內部構造的再構成部。
  10. 一種X射線裝置,具備:X射線源,對被測定物照射X射線;架台,搭載該X射線源;移動機構,使該架台移動;以及除振機構,設在該架台與該移動機構之間,支承該架台,使施加至該架台之振動衰減。
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