TW201443722A - 觸控面板 - Google Patents

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TW201443722A
TW201443722A TW102116561A TW102116561A TW201443722A TW 201443722 A TW201443722 A TW 201443722A TW 102116561 A TW102116561 A TW 102116561A TW 102116561 A TW102116561 A TW 102116561A TW 201443722 A TW201443722 A TW 201443722A
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Au Optronics Corp
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Abstract

一種觸控面板,包含基板、遮光層、圖案化透光層、反射層、至少一第一感測串列以及至少一第二感測串列。基板具有觸控區以及週邊區。遮光層配置於基板之週邊區,遮光層具有圖案化開口以及與圖案化開口相鄰之一側壁。圖案化開口用以提供人眼可識別的符號。圖案化透光層配置於基板之週邊區,圖案化透光層覆蓋部分圖案化開口,且圖案化透光層具有傾斜側壁位於圖案化開口中。反射層覆蓋傾斜側壁以及圖案化開口。第一感測串列及第二感測串列配置於基板之觸控區,用以偵測觸點的位置。

Description

觸控面板
本發明是有關於一種觸控面板。
近年來,觸控裝置大量地應用在各種電子產品中,例如行動電話(Mobile Phone)、個人數位助理(Personal Digital Assistant)、筆記型電腦(Notebook)及平板型電腦(Planet Computer)。這些電子產品的顯示面板和觸控裝置結合,形成觸控面板(touch panel),並成為有效率的人機溝通介面。觸控面板已有取代鍵盤或滑鼠等傳統輸入裝置的趨勢。
在諸多電子產品中,觸控面板通常設置在顯示面板上或內嵌在顯示面板中,以方便使用者輸入資訊。觸控面板的外觀設計會直接被使用者觀察到,並影響這些電子產品的整體外觀。因此,許多研究者致力於改善觸控面板的外型美感。
除了觸控面板的美感設計之外,因為消費者可以直接觀察到觸控面板的外觀,所以許多商標或足以表彰特定意義的符號被設計在觸控面板上。如果能在觸控面板上設置一種具有立體視覺效果的商標或表徵符號,則更能夠彰 顯品牌的價值。因此,目前亟需一種改良的觸控面板,俾能提供立體視覺效果的商標或符號。
本發明之一目的係提供一種觸控面板,俾能呈現立體視覺效果的識別符號,並且可以在不增加製程複雜性的前提下,實現的上述具有立體視覺效果之識別符號的觸控面板。
此觸控面板包含一基板、一遮光層、一圖案化透光層、一反射層、至少一第一感測串列以及至少一第二感測串列。基板具有一觸控區以及一週邊區,週邊區圍繞觸控區。遮光層配置於基板之週邊區,遮光層具有一圖案化開口及與圖案化開口相鄰之一側壁,圖案化開口用以提供人眼可識別的一符號。圖案化透光層配置於基板之週邊區,圖案化透光層覆蓋部分圖案化開口,且圖案化透光層具有一傾斜側壁位於圖案化開口中。反射層配置於基板之週邊區,並覆蓋圖案化透光層以及圖案化開口。第一感測串列配置於基板之觸控區,第一感測串列沿一第一方向延伸。第一感測串列包含多個第一感測墊以及多個第一橋接線,各個第一橋接線串接兩個相鄰的第一感測墊。第二感測串列配置於基板之觸控區,第二感測串列沿一第二方向延伸。第二方向不同於第一方向。第二感測串列包含多個第二感測墊以及多個第二橋接線,各個第二橋接線串接兩個相鄰的第二感測墊。
根據本發明一實施方式,此圖案化透光層係同時覆蓋至少部分遮光層之側壁,以形成一第一開口,並暴露出部分之基板。
根據本發明一實施方式,傾斜側壁圍繞第一開口。
根據本發明一實施方式,圖案化透光層係位於圖案化開口中且不與遮光層之側壁接觸,以形成一第二開口,並暴露出部分之基板。
根據本發明一實施方式,其中第二開口位於遮光層之側壁與傾斜側壁之間。
根據本發明一實施方式,觸控面板可更包含一圖案化絕緣層設置於第一橋接線與第二橋接線之間,且第二橋接線跨越第一橋接線。
根據本發明一實施方式,圖案化絕緣層與圖案化透光層為同一膜層。
根據本發明一實施方式,圖案化絕緣層與圖案化透光層為相同材料所製成。
根據本發明一實施方式,觸控面板可更包含至少一接觸墊以及至少一訊號傳遞線,訊號傳遞線由接觸墊延伸出,並電性連接第一感測串列或第二感測串列。
根據本發明一實施方式,反射層、接觸墊及訊號傳遞線為同一膜層。
根據本發明一實施方式,反射層、接觸墊及訊號傳遞線為相同材料所製成。
根據本發明一實施方式,傾斜側壁與基板形成一夾 角為約100度至約150度。
根據本發明一實施方式,圖案化透光層之折射率為約1.4至約2.0。
根據本發明一實施方式,圖案化透光層之一厚度為約2微米(μm)至約50μm。
根據本發明一實施方式,遮光層之厚度為約2μm至約40μm。
根據本發明一實施方式,圖案化透光層包含有機材料或無機材料。
根據本發明一實施方式,反射層包含金屬或含金屬具導電性的有機材料。
根據本發明一實施方式,圖案化透光層係完全覆蓋圖案化開口,圖案化透光層具有一凸出部以及一環繞部,環繞部圍繞凸出部,且傾斜側壁位於凸出部與環繞部之間。
根據本發明一實施方式,圖案化透光層之凸出部之厚度實質上大於環繞部之厚度,且環繞部之厚度實質上小於遮光層之厚度。
100‧‧‧觸控面板
102‧‧‧基板
102a‧‧‧觸控區
102b‧‧‧週邊區
110‧‧‧遮光層
112‧‧‧圖案化開口
114‧‧‧側壁
120‧‧‧圖案化透光層
122‧‧‧傾斜側壁
126‧‧‧第一開口
128‧‧‧第二開口
130‧‧‧反射層
140‧‧‧第一感測串列
142‧‧‧第一感測墊
144‧‧‧第一橋接線
150‧‧‧第二感測串列
152‧‧‧第二感測墊
154‧‧‧第二橋接線
160‧‧‧圖案化絕緣層
170‧‧‧接觸墊
180‧‧‧訊號傳遞線
320‧‧‧圖案化透光層
322‧‧‧傾斜側壁
420‧‧‧圖案化透光層
420a‧‧‧凸出部
420b‧‧‧環繞部
422‧‧‧傾斜側壁
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
θ‧‧‧夾角
d‧‧‧厚度
h、H1、H2‧‧‧厚度
第1圖繪示本發明一實施方式之觸控面板的俯視示意圖。
第2A圖繪示第1圖中沿線段AA’的剖面示意圖。
第2B圖繪示第1圖中沿線段BB’的剖面示意圖。
第2C圖繪示從基材一側觀察本發明一實施方式之圖案化開口的俯視示意圖。
第3A及3B圖繪示本發明另一實施方式之觸控面板的剖面示意圖。
第3C圖繪示繪示從基材一側觀察本發明另一實施方式之圖案化開口的俯視示意圖。
第4圖繪示本發明再一實施方式之觸控面板的圖案化開口的剖面示意圖。
第5至8圖繪示本發明一實施方式之製造方法在各製程階段的剖面示意圖。
為了使本揭示內容的敘述更加詳盡與完備,下文針對了本發明的實施態樣與具體實施例提出了說明性的描述;但這並非實施或運用本發明具體實施例的唯一形式。以下所揭露的各實施例,在有益的情形下可相互組合或取代,也可在一實施例中附加其他的實施例,而無須進一步的記載或說明。
在以下描述中,將詳細敘述許多特定細節以使讀者能夠充分理解以下的實施例。然而,可在無此等特定細節之情況下實踐本發明之實施例。在其他情況下,為簡化圖式,熟知的結構與裝置僅示意性地繪示於圖中。
第一實施方式
第1圖繪示本發明第一實施方式之觸控面板100的俯視示意圖,第2A圖繪示第1圖中沿線段AA’的剖面示意圖,第2B圖繪示第1圖中沿線段BB’的剖面示意圖。觸控面板100包含基板102、遮光層110、圖案化透光層120、反射層130、至少一個第一感測串列140以及至少一個第二感測串列150。
如第1圖所示,基板102具有觸控區102a以及週邊區102b。觸控區102a中設置有第一感測串列140及第二感測串列150,呈垂直交錯配置,用以偵測觸點位置。第一感測串列140與第二感測串列150的數量可為一或多個,端視產品的實際情況而定。週邊區102b位在基板102的周邊,並且圍繞觸控區102a。基板102的材質可例如為玻璃或塑膠等有機或無機透明材質。
請同時參照第1圖及第2A圖,遮光層110配置在基板102的週邊區102b。遮光層110具有圖案化開口112以及側壁114(繪示於第2A圖)。圖案化開口112用以提供人眼可識別的符號,例如商標符號、文字或其他圖案。遮光層110的側壁114毗鄰圖案化開口112,並且圍繞圖案化開口112。換言之,側壁114大致是圖案化開口112的邊界。在一實例中,遮光層110的材質可例如為黑色樹脂等不透光的材料。遮光層110之厚度h可例如為約2μm至約40μm。
圖案化透光層120配置於基板102的週邊區102b,並且一部分的圖案化透光層120覆蓋圖案化開口112。在 此,「覆蓋」之意義包含完全覆蓋及僅部分覆蓋兩種意義。在第2A圖繪示的實施方式中,圖案化透光層120僅覆蓋一部分的圖案化開口112,並未覆蓋全部的圖案化開口112,而形成較小的第一開口126暴露出一部分的基板102。第一開口126位在圖案化開口112中。在其他實施方式中,圖案化透光層120也可以完全覆蓋圖案化開口112。圖案化透光層120有許多種配置方式,下文的第二實施方式及第三實施方式將更詳細敘述。圖案化透光層120具有傾斜側壁122,並且傾斜側壁122位於圖案化開口112中。在一實例中,傾斜側壁122與基板102形成夾角θ為約100度至約150度。
在本實施方式中,圖案化透光層120亦覆蓋遮光層110的側壁114,圖案化透光層120的傾斜側壁122圍繞第一開口126。圖案化透光層120的材料可例如為氧化矽、氮化矽等無機材料或是高分子有機材料。在一實例中,圖案化透光層120之折射率為約1.4至約2.0。在另一實例中,圖案化透光層120的厚度d為約2微米(μm)至約50μm。在第2A圖繪示的實施方式中,厚度d為傾斜側壁122的底部至傾斜側壁122的頂部之間的距離。於其他變化實例中,依據圖案化開口112所愈呈現的文字或圖案不同,圖案化透光層120可以僅覆蓋遮光層110的部分側壁114,因此傾斜側壁122並非圍繞第一開口126,而是僅在部分側壁114上形成圖案化透光層120的傾斜側壁122。
反射層130配置在基板102的週邊區102b,並且 覆蓋圖案化透光層120的傾斜側壁122以及圖案化開口112。反射層130用以反射從基材102一側入射的光線。反射層130與傾斜側壁122的交界處形成反射斜面,反射層130與基板102的交界處形成另一反射面,因此當使用者由基材102的一側觀察圖案化開口112時,會產生浮凸的立體視覺效果。更具體的說,反射斜面襯托反射面,而讓圖案化開口112的中間部分(即反射面的部分)產生浮凸的立體視覺效果。第2C圖繪示從基材102的一側觀察圖案化開口112的俯視示意圖,反射層130在第一開口126的區域產生浮凸的立體視覺效果。如上所述,圖案化開口112是用以提供人眼可識別的商標符號、文字或其他圖案,因此根據本發明之實施方式,能夠產生具有立體視覺效果的商標符號、文字或圖案。反射層130的材質並無特殊限制,只要能夠反射光線即可。舉例而言,反射層130可包含銀、銅、鋁等金屬材料。或者,反射層130可以是含有金屬的有機材料。
反射斜面與反射面的形狀特徵實質上是取決圖案化透光層120的形狀特徵。例如,反射斜面與反射面之間的夾角實質上等於圖案化透光層120的傾斜側壁122與基板102之間的夾角θ。因此,本發明前文揭露的圖案化透光層120的許多特徵具有特殊的技術意義。例如,夾角θ為約100度至約150度,圖案化透光層120之折射率為約1.4至約2.0,以及圖案化透光層120的厚度d為約2μm至約50μm。上述這些特徵或數值範圍會影響觀察者觀看 圖案化開口112的立體視覺效果。
請再參照第1圖,基板102的觸控區102a設置有至少一個第一感測串列140,並且第一感測串列140沿第一方向D1延伸。第一感測串列140包含多個第一感測墊142以及多個第一橋接線144。各個第一橋接線144串接兩個相鄰的第一感測墊142,而構成第一感測串列140。
觸控區102a還設置有至少一個第二感測串列150,並且第二感測串列150沿第二方向D2延伸。第二方向D2與第一方向D1不同,例如第一方向D1可以是水平方向,第二方向D2可以是垂直方向。在其他實施例中,第一方向D1可以不垂直於第二方向D2。第二感測串列150包含多個第二感測墊152以及多個第二橋接線154,各個第二橋接線154串接兩個相鄰的第二感測墊152,而構成第二感測串列150。
在一實施例中,觸控面板100更包含圖案化絕緣層160設置在第一橋接線144與第二橋接線154之間。請參照第2B圖,圖案化絕緣層160位於第一橋接線144上,並且一部分的第一橋接線144未被圖案化絕緣層160覆蓋。例如,第一橋接線144的相對兩端沒有被圖案化絕緣層160覆蓋。第二橋接線154從圖案化絕緣層160上方跨越第一橋接線144。圖案化絕緣層160與周邊區102b的圖案化透光層120可以是同一膜層。換言之,圖案化絕緣層160與圖案化透光層120可以藉由同一道微影製程而形成。因此,圖案化絕緣層160與圖案化透光層120可以是相同的材料 所製成,但本發明不限於此。例如,可以使用不同的製程方式及材料分別形成圖案化絕緣層160與圖案化透光層120。
在一實施例中,觸控面板100更包含一或多個接觸墊170以及一或多條訊號傳遞線180,如第1圖所示。訊號傳遞線180由各自對應的接觸墊170延伸出,並且連接第一感測串列140或第二感測串列150。接觸墊170及訊號傳遞線180可與週邊區102b的反射層130為同一膜層,亦即能夠藉由同一道微影蝕刻製程來形成接觸墊170、訊號傳遞線180及反射層130,因此反射層130、接觸墊170及訊號傳遞線180為相同材料所製成。當然也可以使用不同的製程方式及材料分別形成反射層130、接觸墊170及訊號傳遞線180。
由上述說明可知,根據本發明之一實施方式,能夠在形成圖案化絕緣層160時,同時形成圖案化透光層120,並且在形成接觸墊170及訊號傳遞線180時,一併形成反射層130。因此,能夠在不增加製程複雜度的前提下,提供具有立體視覺效果的商標或表徵符號。
第二實施方式
第3A圖及第3B圖繪示本發明第二實施方式之觸控面板的剖面示意圖。本實施方式與第一實施方式的差異在於圖案化透光層320的形狀及位置。在本實施方式中,如第3A圖所示,圖案化透光層320為島狀圖案,且位於圖 案化開口112內。島狀的圖案化透光層320不接觸遮光層110的側壁114,因此在圖案化透光層320與遮光層110之間形成一第二開口128。第二開口128暴露出一部分的基板102,並且第二開口128位於遮光層110的側壁114與傾斜側壁322之間,圍繞圖案化透光層320的傾斜側壁322。第3B圖繪示本實施方式之觸控面板在感測區的剖面示意圖。本實施方式的第一感測串列及第二感測串列的配置方式、結構及其他細節可與第一實施方式相同。
請再參照第3A圖,反射層130同樣覆蓋圖案化透光層320的傾斜側壁322以及圖案化開口112。反射層130與傾斜側壁322的介面處形成反射斜面,反射層130與圖案化透光層320頂部的介面形成另一反射面,因此當使用者由基材102的一側觀察圖案化開口112時,藉由反射斜面與另一反射面產生內凹的立體視覺效果。第3C圖繪示從基材102的一側觀察圖案化開口112的俯視示意圖,在圖案化透光層320的區域產生內凹的立體視覺效果。
至於其他相關的結構與細節,均與第一實施方式相同,因此不再重複贅述之。
第三實施方式
本實施方式與第一實施方式的差異在於圖案化透光層420的形狀及位置。第4圖繪示本實施方式之觸控面板的圖案化開口112的剖面示意圖。在本實施方式中,具有不同厚度的圖案化透光層420位於圖案化開口112內, 並且完全覆蓋圖案化開口112。圖案化透光層420具有凸出部420a以及環繞部420b,環繞部420b圍繞凸出部420a,凸出部420a的厚度H1大於環繞部420b的厚度H2。在一實例中,凸出部420a的厚度H1大於遮光層110的厚度h,並且環繞部420b的厚度H2小於遮光層110的厚度h。舉例而言,圖案化透光層420的中間區域(凸出部420a)具有較大厚度,例如大於遮光層110的厚度h,而圖案化透光層420鄰近遮光層110的區域(環繞部420b)具有較小的厚度,例如不大於遮光層110的厚度h,如此,圖案化透光層420亦具有傾斜側壁422,傾斜側壁422形成在凸出部420a與環繞部420b之間,且環繞部接觸遮光層110的側壁114。反射層130覆蓋圖案化透光層420的傾斜側壁422以及圖案化開口112。反射層130與傾斜側壁422的介面處形成反射斜面,反射層130與圖案化透光層420頂部的介面形成另一反射面,因此當使用者由基材102的一側觀察圖案化開口112時,反射斜面與另一反射面會產生內凹的立體視覺效果。
以下介紹本發明一實施方式之觸控面板的製造方法。請參照第5圖至第8圖,其繪示一實施方式之製造方法在各製程階段的剖面示意圖。第5A、6A、7A及8A圖是繪示第1圖中沿線段AA’在各製程階段中的剖面圖,第5B、6B、7B及8B圖是繪示第1圖中沿線段BB’在各製程階段中的剖面圖。
首先,如第5A及5B圖所示,在基板102的周邊區102b中形成遮光層110。遮光層具有圖案化開口112以及側壁114。側壁114與圖案化開口112毗鄰,並且圍繞圖案化開口112的周邊。圖案化開口112用以提供人眼可識別的符號、文字、商標或其他圖案。遮光層的材料可例如為黑色樹脂材料。可以使用諸如網印或微影製程來形成具有圖案化開口112的遮光層110。
接著,如第6A及6B圖所示,在基板102的觸控區102a中形成多個第一橋接線144。第一橋接線144的材質可例如為氧化銦錫等透明導電材料或是不透光的金屬材料。可以使用一般的微影蝕刻製程來形成第一橋接線144。
然後,如第7A及7B圖所示,在觸控區102a中形成圖案化絕緣層160,以及在週邊區102b中形成圖案化透光層120。圖案化絕緣層160以及圖案化透光層120可以在同一道微影蝕刻製程中形成。詳細而言,圖案化絕緣層160位於第一橋接線144上,並且一部分的第一橋接線144未被圖案化絕緣層160覆蓋。例如,第一橋接線144的相對兩端沒有被圖案化絕緣層160覆蓋。另一方面,圖案化透光層120覆蓋圖案化開口112的至少一部分。圖案化透光層120具有傾斜側壁122位於圖案化開口112中。傾斜側壁122與基板102的上表面形成夾角θ,夾角θ可例如為約100度至約150度。在第7A圖繪示的實施例中,圖案化透光層120覆蓋遮光層110的側壁114,並且圖案化透光層120具有第一開口126暴露出基板102的一部分。圖案化透 光層120的形狀及位置可有多種變化。舉例而言,如前文第二實施方式所述及第3圖所示,圖案化透光層320可為島狀圖案,並位在圖案化開口112內,圖案化透光層320不接觸遮光層110的側壁114。或者,如前文第三實施方式所述及第4圖所示,具有不同厚度的圖案化透光層420位於圖案化開口112內,並且完全覆蓋圖案化開口112。
之後,請同時參照第1圖、第8A圖及第8B圖,在觸控區102a中形成多個第二橋接線154、多個第一感測墊142及多個第二感測墊152。每一個第二橋接線154從圖案化絕緣層160上方跨越其中一個第一橋接線144。各個第二橋接線154串接兩個相鄰的第二感測墊152,並且這些串接的第二橋接線154與第二感測墊152構成第二感測串列150。此外,如第8B圖所示,兩個相鄰的第一感測墊142接觸第一橋接線144的相對兩端(未被圖案化絕緣層160覆蓋的部分),因此各個第一橋接線144能夠串接兩個相鄰的第一感測墊142,而構成第一感測串列140。
然後,在週邊區102b形成反射層130、多個接觸墊170以及多個訊號傳遞線180,而得到第1圖、第2A圖及第2B圖繪示的觸控面板。反射層130、接觸墊170以及訊號傳遞線180能夠在同一道微影蝕刻製程中形成。參照第2A圖,反射層130覆蓋圖案化透光層120以及圖案化開口112。反射層130與傾斜側壁122的介面處形成反射斜面,反射層130與基板102的介面處形成另一反射面。此外,如第1圖所示,各個訊號傳遞線180由各自對應的接 觸墊170延伸出,並且連接其中一條的第一感測串列140或第二感測串列150。反射層130、接觸墊170及訊號傳遞線180可包含諸如鋁、銀、銅、鉻等金屬材料,或含金屬具導電性的有機材料
雖然本發明已以實施方式揭露如上,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在不脫離本發明之精神和範圍內,當可作各種之更動與潤飾,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧觸控面板
102‧‧‧基板
102a‧‧‧觸控區
102b‧‧‧週邊區
110‧‧‧遮光層
120‧‧‧圖案化透光層
126‧‧‧第一開口
130‧‧‧反射層
140‧‧‧第一感測串列
142‧‧‧第一感測墊
144‧‧‧第一橋接線
150‧‧‧第二感測串列
152‧‧‧第二感測墊
154‧‧‧第二橋接線
160‧‧‧圖案化絕緣層
170‧‧‧接觸墊
180‧‧‧訊號傳遞線
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向

Claims (19)

  1. 一種觸控面板,包含:一基板,該基板具有一觸控區以及一週邊區,其中該週邊區圍繞該觸控區;一遮光層,配置於該基板之該週邊區,該遮光層具有一圖案化開口及與該圖案化開口相鄰之一側壁,該圖案化開口用以提供人眼可識別的一符號;一圖案化透光層,配置於該基板之該週邊區,其中圖案化透光層覆蓋部分該圖案化開口,且該圖案化透光層具有一傾斜側壁位於該圖案化開口中;一反射層,配置於該基板之該週邊區,覆蓋該圖案化透光層以及該圖案化開口;至少一第一感測串列,配置於該基板之該觸控區,該第一感測串列沿一第一方向延伸,且包含多個第一感測墊以及多個第一橋接線,其中各該第一橋接線串接兩相鄰的各該第一感測墊;以及至少一第二感測串列,配置於該基板之該觸控區,該第二感測串列沿一第二方向延伸,該第二方向不同於該第一方向,其中該第二感測串列包含多個第二感測墊以及多個第二橋接線,各該第二橋接線串接兩相鄰的各該第二感測墊。
  2. 如請求項1所述之觸控面板,其中該圖案化透光層係同時覆蓋至少部分該遮光層之該側壁,以形成一第一開口,並暴露出部分之該基板。
  3. 如請求項2所述之觸控面板,其中該傾斜側壁圍繞該第一開口。
  4. 如請求項1所述之觸控面板,其中該圖案化透光層係位於該圖案化開口中且不與該遮光層之該側壁接觸,以形成一第二開口,並暴露出部分之該基板。
  5. 如請求項4所述之觸控面板,其中該第二開口位於該遮光層之該側壁與該傾斜側壁之間。
  6. 如請求項1所述之觸控面板,更包含一圖案化絕緣層設置於該第一橋接線與該第二橋接線之間,且該第二橋接線跨越該第一橋接線。
  7. 如請求項6所述之觸控面板,其中該圖案化絕緣層與該圖案化透光層為同一膜層。
  8. 如請求項6所述之觸控面板,其中該圖案化絕緣層與該圖案化透光層為相同材料所製成。
  9. 如請求項1所述之觸控面板,更包含至少一接觸墊以及至少一訊號傳遞線,該訊號傳遞線由該接觸墊延伸出,並電性連接該第一感測串列或該第二感測串列。
  10. 如請求項9所述之觸控面板,其中該反射層、該接 觸墊及該訊號傳遞線為同一膜層。
  11. 如請求項9所述之觸控面板,其中該反射層、該接觸墊及該訊號傳遞線為相同材料所製成。
  12. 如請求項1所述之觸控面板,其中該傾斜側壁與該基板形成一夾角為約100度至約150度。
  13. 如請求項1所述之觸控面板,其中該圖案化透光層之折射率為約1.4至約2.0。
  14. 如請求項1所述之觸控面板,其中該圖案化透光層之一厚度為約2微米(μm)至約50μm。
  15. 如請求項1所述之觸控面板,其中該遮光層之厚度為約2μm至約40μm。
  16. 如請求項1所述之觸控面板,其中該圖案化透光層包含有機材料或無機材料。
  17. 如請求項1所述之觸控面板,其中該反射層包含金屬或含金屬的有機材料。
  18. 如請求項1所述之觸控面板,其中該圖案化透光層係完全覆蓋該圖案化開口,該圖案化透光層具有一凸出部以 及一環繞部圍繞該凸出部,且該傾斜側壁位於該凸出部與該環繞部之間。
  19. 如請求項18所述之觸控面板,其中該凸出部之厚度實質上大於該環繞部之厚度,且該環繞部之厚度實質上小於該遮光層之厚度。
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