TW201401133A - 光學式觸控面板及其製造方法以及光學式觸控顯示面板 - Google Patents

Abstract

一種光學式觸控面板，包括下列構件。紅外光濾光層配置於基板的內表面上。第一圖案化導電層包括位於基板的內表面上的閘極及掃描線。第一介電層覆蓋閘極、掃描線。通道層配置於第一介電層上，且位於閘極上方。第二圖案化導電層包括源極與汲極，分別位於通道層的兩側。透明電極配置於紅外光濾光層上，電性連接源極與汲極其中之一。第二介電層覆蓋第二圖案化導電層以及部分透明電極。紅外光感測層配置於透明電極上。圖案化遮光導電層包括感測電極與遮光電極，感測電極配置於紅外光感測層上，遮光電極配置於第二介電層上，且對準通道層。

Description

光學式觸控面板及其製造方法以及光學式觸控顯示面板

本發明是有關於一種觸控面板，且特別是有關於一種光學式觸控面板及光學式觸控顯示面板。

將觸控面板(touch panel)整合於液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)不但可讓使用者進行便利、快速的輸入，且可提供互動的存取功能，因此已逐漸應用於一些攜帶型電子裝置中，例如行動電話、個人數位助理(PDA)或筆記型電腦。

目前，有技術藉由在液晶顯示器之畫素陣列(pixel array)中嵌入光感測元件來實現觸控與顯示功能之整合。具體而言，觸控感應方式為背光模組提供的感應光源(諸如紅外光)會穿過顯示器，再經由反射物(諸如手指)反射至光感測元件。如此，藉由光感測元件在照光下因產生光電流所造成的壓降來判定是否有觸碰事件的發生。

然而，由於光感測元件與讀取電路是位於液晶顯示器之畫素陣列側，因此會壓縮畫素陣列側的透光區面積，導致顯示器的穿透率降低。在此狀況下，背光模組必須提供更高的功率才可以達到相同的感應訊號，導致需耗費更多的電力，此外，由於光感測元件的解析力(resolution)受限於顯示器的解析力，故難以將光感測元件的解析力提升成大於顯示器的解析力。

本發明提供一種光學式觸控面板，具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。

本發明另提供一種光學式觸控面板的製造方法，以製作上述光學式觸控面板。

本發明又提供一種光學式觸控顯示面板，具有較高的開口率，且其中感測元件具有較佳的解析度。

本發明再提供一種光學式觸控顯示面板的製造方法，以製作上述光學式觸控面板。

本發明提出一種光學式觸控面板，其包括第一基板、紅外光濾光層、第一圖案化導電層、第一介電層、通道層、第二圖案化導電層、透明電極、第二介電層、紅外光感測層以及圖案化遮光導電層。第一基板具有內表面。紅外光濾光層配置於基板的內表面上。第一圖案化導電層包括至少一閘極以及至少一條與閘極連接之掃描線，其中閘極與掃描線位於基板的內表面上。第一介電層配置於基板上，以覆蓋閘極、掃描線。通道層配置於第一介電層上，且位於閘極上方。第二圖案化導電層包括至少一源極與至少一汲極，分別位於通道層的兩側，且電性連接通道層。透明電極配置於紅外光濾光層上，電性連接源極與汲極其中之一。第二介電層覆蓋第二圖案化導電層以及部分透明電極。紅外光感測層配置於透明電極上。圖案化遮光導電層包括感測電極與遮光電極，感測電極配置於紅外光感測層 上，遮光電極配置於第二介電層上，且對準通道層。

本發明另提出一種光學式觸控面板的製造方法。於基板的內表面上形成紅外光濾光層。於基板上形成第一圖案化導電層，包括至少一閘極以及至少一條與閘極連接之掃描線，其中閘極與掃描線位於基板的內表面上。於基板上形成第一介電層，以覆蓋閘極、掃描線。於第一介電層上形成通道層，其中通道層位於閘極上方。於基板上形成第二圖案化導電層，第二圖案化導電層包括至少一源極與至少一汲極，分別位於通道層的兩側，且電性連接通道層。於紅外光濾光層上形成透明電極，電性連接源極與汲極其中之一。於基板上形成第二介電層，覆蓋第二圖案化導電層以及部分透明電極。於透明電極上形成紅外光感測層。於基板上形成圖案化遮光導電層，包括感測電極與遮光電極，感測電極配置於紅外光感測層上，遮光電極配置於第二介電層上，且對準通道層。

本發明又提出一種光學式觸控顯示面板，其包括第一基板、紅外光濾光層、第一圖案化導電層、第一介電層、通道層、第二圖案化導電層、透明電極、第二介電層、紅外光感測層、圖案化遮光導電層、第二基板以及顯示介質層。第一基板具有內表面。紅外光濾光層配置於基板的內表面上。第一圖案化導電層包括至少一閘極以及至少一條與閘極連接之掃描線，其中閘極與掃描線位於基板的內表面上。第一介電層配置於基板上，以覆蓋閘極、掃描線。通道層配置於第一介電層上，且位於閘極上方。第二圖案 化導電層包括至少一源極與至少一汲極，分別位於通道層的兩側，且電性連接通道層。透明電極配置於紅外光濾光層上，電性連接源極與汲極其中之一。第二介電層覆蓋第二圖案化導電層以及部分透明電極。紅外光感測層配置於透明電極上。圖案化遮光導電層包括感測電極與遮光電極，感測電極配置於紅外光感測層上，遮光電極配置於第二介電層上，且對準通道層。第二基板跟第一基板相對設置，且第二基板面向第一基板的內表面。顯示介質層設置在第一基板與第二基板之間。

本發明再提出一種光學式觸控顯示面板的製造方法。提供基板，基板具有內表面。於基板的內表面上形成紅外光濾光層。於基板上形成第一圖案化導電層，包括至少一閘極以及至少一條與閘極連接之掃描線，其中閘極與掃描線位於基板的內表面上。於基板上形成第一介電層，以覆蓋閘極、掃描線。於第一介電層上形成通道層，其中通道層位於閘極上方。於基板上形成第二圖案化導電層，第二圖案化導電層包括至少一源極與至少一汲極，分別位於通道層的兩側，且電性連接通道層。於紅外光濾光層上形成透明電極，電性連接源極與汲極其中之一。於基板上形成第二介電層，覆蓋第二圖案化導電層以及部分透明電極。於透明電極上形成紅外光感測層。於基板上形成圖案化遮光導電層，包括感測電極與遮光電極，感測電極配置於紅外光感測層上，遮光電極配置於第二介電層上，且對準通道層。提供第二基板，使第二基板與第一基板相對設 置，且第二基板面向第一基板的內表面。於第一基板與第二基板之間形成顯示介質層。

基於上述，本發明之光學式觸控面板與光學式觸控顯示面板具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。其中，於光學式觸控面板與光學式觸控顯示面板的製造方法中，遮光電極是與感測電極一起製作，因此可具有較簡易的製程與較低的製作成本。此外，由於遮光電極對準通道層，因此能避免通道層受到光照射等影響，以提升通道層的穩定性。故，光學式觸控面板與光學式觸控顯示面板具有較佳的元件特性。

為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

【第一實施例】

圖1A至圖1I為本發明第一實施例之光學式觸控面板的製造方法之剖面示意圖。請參照圖1A，首先，提供基板110，其中基板110具有內表面110a與外表面110b，其中外表面110b面向使用者。接著，於基板110的內表面110a上形成紅外光濾光層IRF。在本實施例中，紅外光濾光層IRF的材質例如是包括鍺化合物或鍺矽化合物。

請參照圖1B，然後，於基板110上形成第一圖案化導電層120，第一圖案化導電層120包括至少一閘極GE以及至少一條與閘極GE連接之掃描線(未標示)，其中閘極 GE與掃描線位於基板110的內表面110a上。第一圖案化導電層120的材質例如是導電良好的金屬或金屬疊層。

請參照圖1C，接著，於基板110上形成第一介電層GI，以覆蓋閘極GE與掃描線SL。在本實施例中，第一介電層GI例如是更覆蓋紅外光濾光層IRF。第一介電層GI的材質可以是高介電係數之氧化矽或氮化矽等絕緣材質。然後，於紅外光濾光層IRF上形成透明電極TE。透明電極TE的材質可以是金屬氧化物，如銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。

請參照圖1D，接著，於第一介電層GI上形成通道層CH，其中通道層CH位於閘極GE上方。在本實施例中，於通道層CH形成後，可進一步形成歐姆接觸層OC於對應的通道層CH上，以降低通道層CH與後續膜層(源極以及汲極)之間的阻值。

請參照圖1E，接著，於基板110上形成第二圖案化導電層130，第二圖案化導電層130包括至少一源極SE與至少一汲極DE，分別位於通道層CH的兩側，且電性連接通道層CH，其中透明電極TE電性連接源極SE與汲極DE其中之一。在本實施例中，第二圖案化導電層130的形成方法例如是形成一金屬層或金屬疊層，再圖案化此金屬層或金屬疊層，以形成源極SE與汲極DE，同時，以源極SE與汲極DE為罩幕移除部分的歐姆接觸層OC以形成歐姆接觸圖案OCP。此處，閘極GE、通道層CH、源極SE 與汲極DE構成多個訊號讀出電晶體T1。

請參照圖1F，而後，於基板110上形成第二介電層PV1，覆蓋第二圖案化導電層130以及部分透明電極TE。此外，第二介電層PV1例如是覆蓋源極SE與汲極DE。在本實施例中，更包括圖案化第二介電層PV1以於其中形成一開口W1，暴露出透明電極TE。第二介電層PV1的材質例如是無機材料(例如：氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、矽鋁氧化物或上述至少二種材料的堆疊層)、有機材料或上述之組合。當然，本實施例不以此為限，凡是可以提供絕緣特性的材料都可以選擇性地應用於本實施例。

請參照圖1G，接著，於透明電極TE上形成紅外光感測層IRS，紅外光感測層IRS經由開口W1與透明電極TE接觸。紅外光感測層IRS的材質例如包括富鍺化合物、富矽化合物或是富鍺矽化合物，可以有較佳的感測效果。其中，富鍺化合物例如包括富鍺氧化鍺、富鍺氮化鍺、富鍺碳化鍺、富鍺氮氧化鍺、富鍺碳氧化鍺、富鍺氫氧化鍺、富鍺氫氮化鍺、富鍺氫碳化鍺。富矽化合物例如包括富矽氧化矽、富矽氮化矽、富矽碳化矽、富矽氮氧化矽、富矽碳氧化矽、富矽氫氧化矽、富矽氫氮化矽、富矽氫碳化矽。富鍺矽化合物例如包括富鍺矽氧化鍺矽、富鍺矽氮化鍺矽、富鍺矽碳化鍺矽、富鍺矽氮氧化鍺矽、富鍺矽碳氧化鍺矽、富鍺矽氫氧化鍺矽、富鍺矽氫氮化鍺矽、富鍺矽氫碳化鍺矽。以上僅用於舉例說明，並不限制紅外光感測層IRS的材質。

請參照圖1H，然後，於基板110上形成圖案化遮光導電層140，包括感測電極E1與遮光電極142，感測電極E1配置於紅外光感測層IRS上，遮光電極142配置於第二介電層PV1上，且對準通道層CH。此處，透明電極TE、紅外光感測層IRS與感測電極E1構成多個光感測元件S，且各訊號讀出電晶體T1分別與對應之光感測元件S電性連接。再者，遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾。如此一來，可降低訊號讀出電晶體T1因照光所產生的光漏電流，進而提升訊號讀出電晶體T1的光電特性。

請參照圖1I，本實施例之光學式觸控面板100可進一步包括一背光源BLU，例如是紅外光背光源，用於增進觸控感測的效果，其中圖案化遮光導電層140位於背光源BLU與通道層CH之間。具體而言，在本實施例之光學式觸控面板100中，上述各膜層位於基板110與背光源BLU之間。是以，本實施例之光學式觸控面板100可以在不用額外配置其他保護裝置下，避免訊號讀出電晶體T1以及光感測元件S受到外在環境以及人為因素的影響而造成其損傷。其中，遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾，此外，由於遮光電極142是與感測電極E1一起形成，因此，本實施例之光學式觸控面板100可具有較簡易的製程以及較低的製程成本。

在此種架構下，當使用者未觸碰光學式觸控面板100時，電流由訊號讀出(未繪示)傳輸至源極SE後再傳輸至汲 極DE。而當使用者以手指F或是任何可反光之元件觸碰觸控面板100的外表面時，背光源BLU所發出之光線L會被手指F反射，反射的光線L’會被光感測層IRS所吸收而產生光電流，進而使感測電極E1產生壓降(即感測電極E1與共用線(未繪示)之間有壓差)。此壓降會藉由訊號讀出線(未繪示)而被晶片讀取，以判定出使用者觸碰的位置。當然，本申請案之觸控面板的架構(光源以及膜層的配置)不限於此。至於詳細的訊號讀出電路設計架構以及其平面走線佈局，均為本領域通常知識者所熟知，因此不再贅述。

在本實施例中，光學式觸控面板100包括基板110、紅外光濾光層IRF、第一圖案化導電層120、第一介電層GI、通道層CH、第二圖案化導電層130、透明電極TE、第二介電層PV1、紅外光感測層IRS以及圖案化遮光導電層140。基板110具有內表面110a。紅外光濾光層IRF配置於基板110的內表面110a上。第一圖案化導電層120包括至少一閘極GE以及至少一條與閘極GE連接之掃描線(未繪示)，其中閘極GE與掃描線位於基板110的內表面110a上。

第一介電層GI配置於基板110上，以覆蓋閘極GE與掃描線。通道層CH配置於第一介電層GI上，且位於閘極GE上方。第二圖案化導電層130包括至少一源極SE與至少一汲極DE，分別位於通道層CH的兩側，且電性連接通道層CH。透明電極TE配置於紅外光濾光層IRF上，電性連接源極SE與汲極DE其中之一。第二介電層PV1 覆蓋第二圖案化導電層130以及部分透明電極TE。紅外光感測層IRS配置於透明電極TE上。圖案化遮光導電層140包括感測電極E1與遮光電極142，感測電極E1配置於紅外光感測層IRS上，遮光電極142配置於第二介電層PV1上，且對準通道層CH。

在本實施例中，由於遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾。如此一來，可降低訊號讀出電晶體T1因照光所產生的光漏電流，進而提升訊號讀出電晶體T1的光電特性。此外，由於遮光電極142是與感測電極E1一起形成，因此，本實施例之光學式觸控面板100可具有較簡易的製程以及較低的製程成本。

【第二實施例】

圖2A至圖2I為本發明第二實施例之光學式觸控面板的製造方法之剖面示意圖。由於第二實施例之光學式觸控面板的構件與第一實施例中所述者相同，因此以下針對步驟流程與不同處進行說明，其餘部分可參照第一實施例，於此不贅述。請參照圖2A，首先，提供基板110，其中基板110具有內表面110a。接著，於基板110的內表面110a上形成第一圖案化導電層120，第一圖案化導電層120包括至少一閘極GE以及至少一條與閘極GE連接之掃描線(未標示)。

請參照圖2B，然後，於基板110上形成第一介電層GI，以覆蓋閘極GE與掃描線SL。接著，於基板110的內表面110a上形成紅外光濾光層IRF。在本實施例中，紅外 光濾光層IRF例如是形成於第一介電層GI上。

請參照圖2C，而後，於紅外光濾光層IRF上形成透明電極TE。

請參照圖2D，接著，於第一介電層GI上形成通道層CH，其中通道層CH位於閘極GE上方。在本實施例中，於通道層CH形成後，可進一步形成歐姆接觸圖案OCP於對應的通道層CH上。

請參照圖2E，然後，於基板110上形成第二圖案化導電層130，第二圖案化導電層130包括至少一源極SE與至少一汲極DE，分別位於通道層CH的兩側，且電性連接通道層CH，其中透明電極TE電性連接源極SE與汲極DE其中之一。此處，閘極GE、通道層CH、源極SE與汲極DE構成多個訊號讀出電晶體T1。

請參照圖2F，而後，於基板110上形成第二介電層PV1，覆蓋第二圖案化導電層130以及部分透明電極TE。其中，第二介電層PV1例如是覆蓋源極SE與汲極DE。在本實施例中，更包括圖案化第二介電層PV1以於其中形成一開口W1，暴露出透明電極TE。

請參照圖2G，接著，於透明電極TE上形成紅外光感測層IRS，紅外光感測層IRS經由開口W1與透明電極TE接觸。

請參照圖2H，然後，於基板110上形成圖案化遮光導電層140，包括感測電極E1與遮光電極142，感測電極E1配置於紅外光感測層IRS上，遮光電極142配置於第二 介電層PV1上，且對準通道層CH。此處，透明電極TE、紅外光感測層IRS與感測電極E1構成多個光感測元件S，且各訊號讀出電晶體T1分別與對應之光感測元件S電性連接。

相較於第一實施例，本實施例是先製作第一圖案化導電層120，再製作紅外光濾光層IRF，也就是說，使用者可以根據需求交換第一圖案化導電層120與紅外光濾光層IRF的製作順序，如此所製作出的光學式觸控面板100仍具有第一實施例中所述的相同特性。

【第三實施例】

圖3A與圖3D是本發明第三實施例之光學式觸控顯示面板的製造方法之剖面示意圖。請參照圖3A，首先，提供第一基板110，其中第一基板110的內表面110a上已形成有如圖1H所示的結構。其中，如圖1H所示的結構可以藉由第一實施例或第二實施例中所述的方法製作。

請參照圖3B，接著，於第一基板110的內表面110a上可先形成黑色矩陣BM。然後，可於第一基板110的內表面110a上形成彩色濾光層CF。繼之，可在第一基板110的內表面110a上形成保護層PV2以及透明導電層TCL，其中保護層PV2覆蓋黑色矩陣BM與彩色濾光層CF。在本實施例中，彩色濾光層CF例如是包括紅色濾光層、綠光濾光層以及藍光濾光層。黑色矩陣BM例如是配置於彩色濾光層CF之間。

請參照圖3C，而後，提供第二基板200，使第二基板 200與第一基板110相對設置，且第二基板200面向第一基板110的內表面110a。提供第二基板200的步驟包括組立第一基板110與第二基板200。在本實施例中，第二基板200例如是畫素陣列基板，其包括多個主動元件T2。第一基板110上的訊號讀出電晶體T1例如是與其中一個主動元件T2對應設置，以及第一基板110上的光感測元件S例如是與其中一個主動元件T2對應設置。如此一來，可以避免訊號讀出電晶體T1與光感測元件S的設置壓縮第二基板200側的透光區面積。接著，於第一基板110與第二基板200之間形成顯示介質層300。顯示介質層300例如是液晶層，顯示介質層300亦可以是有機發光材料層，此皆為本領域通常知識者所熟知，因此不再贅述。

請參照圖3D，提供背光源BLU，其中第二基板200位於背光源BLU與第一基板110之間。若顯示介質層300使用有機發光材料層時，亦可部分使用紅外光有機發光材料層，作為背光源BLU。在此種架構下，當使用者未觸碰光學式觸控顯示面板10時，電流由訊號讀出(未繪示)傳輸至源極SE後再傳輸至汲極DE。而當使用者以手指F或是任何可反光之元件觸碰光學式觸控顯示面板10的外表面時，背光源BLU所發出之光線L會被手指F反射，反射的光線L’會被光感測層IRS所吸收而產生光電流，進而使感測電極E1產生壓降(即感測電極E1與共用線(未繪示)之間有壓差)。此壓降會藉由訊號讀出線(未繪示)而被晶片讀取，以判定出使用者觸碰的位置。當然，本申請案之光 學式觸控顯示面板的架構(光源以及膜層的配置)不限於此。

在一變化實施例中(未繪示)，紅外光濾光層IRF亦可以包括藍光濾光層、綠光濾光層與紅光濾光層的疊層替代，如此，紅外光濾光層IRF例如是可以與彩色濾光層CF一起製作，以簡化光學式觸控顯示面板的製程。此外，在一實施例中(未繪示)，彩色濾光層CF與黑色矩陣BM也可以是製作在第二基板200上，以將彩色濾光層CF直接整合於畫素陣列基板上(Color Filter on Array,COA)，或是將彩色濾光層CF直接整合於畫素陣列基板下(Array on Color Filter,AOC)。

在本實施例中，由於遮光電極142可遮蔽背光對通道層CH造成的干擾。如此一來，可降低訊號讀出電晶體T1因照光所產生的光漏電流，進而提升訊號讀出電晶體T1的光電特性。此外，由於遮光電極142是與感測電極E1一起形成，因此，本實施例之光學式觸控顯示面板10可具有較簡易的製程以及較低的製程成本。

綜上所述，本發明之光學式觸控面板與光學式觸控顯示面板具有較佳的穿透率與觸控靈敏度。其中，於光學式觸控面板與光學式觸控顯示面板的製造方法中，遮光電極是與感測電極一起製作，因此可具有較簡易的製程與較低的製作成本。此外，由於遮光電極對準通道層，因此能避免通道層受到光照射等影響，以提升通道層的穩定性。故，光學式觸控面板與光學式觸控顯示面板具有較佳的元件特 性。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧光學式觸控顯示面板

100‧‧‧光學式觸控面板

110、200‧‧‧基板

110a‧‧‧內表面

110b‧‧‧外表面

120‧‧‧第一圖案化導電層

130‧‧‧第二圖案化導電層

140‧‧‧圖案化遮光導電層

142‧‧‧遮光電極

300‧‧‧顯示介質層

BLU‧‧‧背光源

CH‧‧‧通道層

DE‧‧‧汲極

E1‧‧‧感測電極

F‧‧‧手指

GE‧‧‧閘極

GI‧‧‧第一介電層

IRF‧‧‧紅外光濾光層

IRS‧‧‧紅外光感測層

L、L’‧‧‧光線

OC‧‧‧歐姆接觸層

OCP‧‧‧歐姆接觸圖案

PV1‧‧‧第二介電層

PV2‧‧‧保護層

S‧‧‧光感測元件

SE‧‧‧源極

T1‧‧‧訊號讀出電晶體

T2‧‧‧主動元件

TE‧‧‧透明電極

W1‧‧‧開口

圖1A至圖1I為本發明第一實施例之光學式觸控面板的製造方法之剖面示意圖。

圖2A至圖2I為本發明第二實施例之光學式觸控面板的製造方法之剖面示意圖。

圖3A與圖3D是本發明第三實施例之光學式觸控顯示面板的製造方法之剖面示意圖。

100‧‧‧光學式觸控面板

110‧‧‧基板

110a‧‧‧內表面

110b‧‧‧外表面

130‧‧‧第二圖案化導電層

140‧‧‧圖案化遮光導電層

142‧‧‧遮光電極

BLU‧‧‧背光源

CH‧‧‧通道層

DE‧‧‧汲極

E1‧‧‧感測電極

F‧‧‧手指

GE‧‧‧閘極

GI‧‧‧第一介電層

IRF‧‧‧紅外光濾光層

IRS‧‧‧紅外光感測層

L、L’‧‧‧光線

OCP‧‧‧歐姆接觸圖案

PV1‧‧‧第二介電層

S‧‧‧光感測元件

SE‧‧‧源極

T1‧‧‧訊號讀出電晶體

TE‧‧‧透明電極

W1‧‧‧開口

Claims (19)

1. 一種光學式觸控面板，包括：一第一基板，具有一內表面；一紅外光濾光層，配置於該基板的該內表面上；一第一圖案化導電層，包括至少一閘極以及至少一條與該閘極連接之掃描線，其中該閘極與該掃描線位於該基板的該內表面上；一第一介電層，配置於該基板上，以覆蓋該閘極、該掃描線；一通道層，配置於該第一介電層上，且位於該閘極上方；一第二圖案化導電層，包括至少一源極與至少一汲極，分別位於該通道層的兩側，且電性連接該通道層；一透明電極，配置於該紅外光濾光層上，電性連接該源極與該汲極其中之一；一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導電層以及部分該透明電極；一紅外光感測層，配置於該透明電極上；以及一圖案化遮光導電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置於該紅外光感測層上，該遮光電極配置於該第二介電層上，且對準該通道層。
2. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，其中該紅外光濾光層的材質包括鍺化合物或鍺矽化合物。
3. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，其中該紅外光濾光層包括一藍光濾光層、一綠光濾光層與一 紅光濾光層的疊層。
4. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，其中更包括一彩色濾光層，設置於該第一基板的該內表面上。
5. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，其中更包括一黑色矩陣，設置於該第一基板的該內表面上。
6. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，其中該紅外光感測層的材質包括富鍺化合物、富矽化合物或是富鍺矽化合物。
7. 如申請專利範圍第6項所述之光學式觸控面板，其中該些富鍺化合物包括富鍺氧化鍺、富鍺氮化鍺、富鍺碳化鍺、富鍺氮氧化鍺、富鍺碳氧化鍺、富鍺氫氧化鍺、富鍺氫氮化鍺、富鍺氫碳化鍺。
8. 如申請專利範圍第6項所述之光學式觸控面板，其中該些富矽化合物包括富矽氧化矽、富矽氮化矽、富矽碳化矽、富矽氮氧化矽、富矽碳氧化矽、富矽氫氧化矽、富矽氫氮化矽、富矽氫碳化矽。
9. 如申請專利範圍第6項所述之光學式觸控面板，其中該些富鍺矽化合物包括富鍺矽氧化鍺矽、富鍺矽氮化鍺矽、富鍺矽碳化鍺矽、富鍺矽氮氧化鍺矽、富鍺矽碳氧化鍺矽、富鍺矽氫氧化鍺矽、富鍺矽氫氮化鍺矽、富鍺矽氫碳化鍺矽。
10. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，其中該第二介電層具有一開口，暴露出該透明電極，該紅外光感測層經由該開口與該透明電極接觸。
11. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控面板，更包括一背光源，其中該圖案化遮光導電層位於該背光源與該些通道層之間。
12. 一種光學式觸控面板的製造方法，包括：提供一基板，該基板具有一內表面；於該基板的該內表面上形成一紅外光濾光層；於該基板上形成一第一圖案化導電層，包括至少一閘極以及至少一條與該閘極連接之掃描線，其中該閘極與該掃描線位於該基板的該內表面上；於該基板上形成一第一介電層，以覆蓋該閘極、該掃描線；於該第一介電層上形成一通道層，其中該通道層位於該閘極上方；於該基板上形成一第二圖案化導電層，該第二圖案化導電層包括至少一源極與至少一汲極，分別位於該通道層的兩側，且電性連接該通道層；於該紅外光濾光層上形成一透明電極，電性連接該源極與該汲極其中之一；於該基板上形成一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導電層以及部分該透明電極；於該透明電極上形成一紅外光感測層；以及於該基板上形成一圖案化遮光導電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置於該紅外光感測層上，該遮光電極配置於該第二介電層上，且對準該通道層。
13. 如申請專利範圍第12項所述之光學式觸控面板的製造方法，其中該紅外光濾光層的材質包括鍺化合物或鍺矽化合物。
14. 如申請專利範圍第12項所述之光學式觸控面板的製造方法，其中該紅外光濾光層包括一藍光濾光層、一綠光濾光層與一紅光濾光層的疊層。
15. 如申請專利範圍第12項所述之光學式觸控面板的製造方法，更包括於該第一基板的該內表面上形成一彩色濾光層。
16. 如申請專利範圍第12項所述之光學式觸控面板的製造方法，更包括於該第一基板的該內表面上形成一黑色矩陣。
17. 如申請專利範圍第12項所述之光學式觸控面板的製造方法，其中該第二介電層具有一開口，暴露出該透明電極，該紅外光感測層經由該開口與該透明電極接觸。
18. 一種光學式觸控顯示面板，包括：一第一基板，具有一內表面；一紅外光濾光層，配置於該基板的該內表面上：一第一圖案化導電層，包括至少一閘極以及至少一條與該閘極連接之掃描線，其中該閘極與該掃描線位於該基板的該內表面上；一第一介電層，配置於該基板上，以覆蓋該閘極、該掃描線；一通道層，配置於該第一介電層上，且位於該閘極上方； 一第二圖案化導電層，包括至少一源極與至少一汲極，分別位於該通道層的兩側，且電性連接該通道層；一透明電極，配置於該紅外光濾光層上，電性連接該源極與該汲極其中之一；一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導電層以及部分該透明電極；一紅外光感測層，配置於該透明電極上；一圖案化遮光導電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置於該紅外光感測層上，該遮光電極配置於該第二介電層上，且對準該通道層；一第二基板，跟該第一基板相對設置，且該第二基板面向該第一基板的該內表面；以及一顯示介質層，設置在該第一基板與該第二基板之間。
19. 一種光學式觸控面板的製造方法，包括：於一第一基板的一內表面上形成一紅外光濾光層；於該第一基板上形成一第一圖案化導電層，包括至少一閘極以及至少一條與該閘極連接之掃描線，其中該閘極與該掃描線位於該第一基板的該內表面上；於該第一基板上形成一第一介電層，以覆蓋該閘極、該掃描線；於該第一介電層上形成一通道層，其中該通道層位於該閘極上方；於該第一基板上形成一第二圖案化導電層，該第二圖案化導電層包括至少一源極與至少一汲極，分別位於該通 道層的兩側，且電性連接該通道層；於該紅外光濾光層上形成一透明電極，電性連接該源極與該汲極其中之一；於該第一基板上形成一第二介電層，覆蓋該第二圖案化導電層以及部分該透明電極；於該透明電極上形成一紅外光感測層；於該第一基板上形成一圖案化遮光導電層，包括一感測電極與一遮光電極，該感測電極配置於該紅外光感測層上，該遮光電極配置於該第二介電層上，且對準該通道層；提供一第二基板，使該第二基板與該第一基板相對設置，且該第二基板面向該第一基板的該內表面；以及於該第一基板與該第二基板之間形成一顯示介質層。