TW201317680A - 發光模組 - Google Patents

Abstract

本發明揭露一種發光模組，包含一光源及一導光板。導光板包含入光面、出光面及反射面。光源朝入光面發光。出光面上平行且間隔地配置有多個線性立體單元。反射面包含多個第一微結構網點群及一第二微結構網點群。此些第一微結構網點群分別對準此些線性立體單元。各第一微結構網點群係由多個第一網點所組成，第一網點之亮度影響變數例如密度分佈、深度及口徑，係隨著第一網點與第一入光面之距離大小成正比。第二微結構網點群係由多個第二網點所組成。此些第二網點不同於第一網點，其亮度影響變數係隨著第二網點與第一入光面之距離大小成正比。

Description

發光模組

本發明有關於一種發光模組，特別是有關一種用以改善導光板出光面之線性亮紋之發光模組。

現階段之發光模組中，含有線性凹溝或凸條之微結構圖案之導光板系統中，其一面間隔地配置有多個線性凹溝或凸條之微結構圖案(如V或U型)。由於導光板發光時，出光面對應各線性凹溝或凸條之位置，會顯示出多條對應之線性亮紋，導致出光面整體之出光不均勻，必須使用更多的光學覆蓋片來彌補，相當耗費材料成本，有待加以進一步改良。

為此，若能提供一種發光模組的設計，可滿足上述之需求，或至少為具有此缺陷提供一種解決之道，即成為亟待解決之一重要課題。

本發明為揭露一種發光模組，用以改善導光板出光面非預期之線性亮紋，均勻化導光板出光面之出光亮度。

本發明所提供之一種發光模組，包含一第一光源及一導光板。導光板包含一第一入光面、一出光面、一反射面、多個第一微結構網點群及一第二微結構網點群。出光面包含多個線性立體單元平行且間隔地配置於出光面上。反射面與出光面相互對立。第一入光面介於出光面及反射面之間，且第一光源朝第一入光面發光。第一微結構網點群分別充分地位於線性立體單元對應於反射面之一垂直投影位置內。各第一微結構網點群係由多個第一網點所組成，第一網點包含多種第一亮度影響變數，第一亮度影響變數至少其中之一係隨著第一網點與第一入光面之距離大小成正比。第二微結構網點群位於反射面上除了第一微結構網點群之其他區域。第二微結構網點群係由多個第二網點所組成，第二網點包含多種第二亮度影響變數，第二亮度影響變數至少其中之一係隨著第二網點與第一入光面之距離大小成正比。第一微結構網點群之第一網點不同於第二微結構網點群之第二網點。

以下將以圖示及詳細說明清楚說明本發明之精神，如熟悉此技術之人員在瞭解本發明之實施例後，當可由本發明所教示之技術，加以改變及修飾，其並不脫離本發明之精神與範圍。

請參照第1A圖至第1C圖所示，第1A圖繪示本發明發光模組100於一實施例下之側視圖；第1B圖繪示第1A圖之發光模組100之俯視圖；以及第1C圖繪示第1A圖之發光模組100之仰視圖。

本發明之一實施例中，發光模組100包含一第一光源200及一導光板300。第一光源200例如是發光二極體燈條(LED light bar)，包含多個發光二極體元件(圖中未示)。導光板300包含相互對立之一出光面320及一反射面330(第1A圖)，以及環繞其出光面320與反射面330之多個側邊，其中任一側邊的面積小於出光面320或反射面330之面積，且介於出光面320及反射面330之間。其中一側邊可當作一第一入光面310，以使第一光源200配置於第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310發光。出光面320上平行且間隔地配置有多個線性立體單元321。線性立體單元321於此實施例中係呈凹溝，然而，本發明於此實施例中並不限線性立體單元為凸條或凹溝。

線性立體單元321具有一垂直落差V，即凸條之垂直最高高度或凹溝之垂直最深深度。此些線性立體單元321共同之一長軸走向(X軸方向)與該第一入光面310之長軸走向(Y軸方向)成正交，且各線性立體單元321之一垂直落差V皆一致。

導光板300更包含多個第一微結構網點群400及一第二微結構網點群500(第1C圖)。此些第一微結構網點群400分別充分地遍布於此些線性立體單元321對應於反射面330之一垂直投影位置330P內。各第一微結構網點群400係由多個第一網點410所組成。此些第一網點410具有多種第一亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。此些第一亮度影響變數其中之一係隨著第一網點410與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第一網點410與第一入光面310之距離越大，此第一亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大。第一亮度影響變數之種類例如包含此些第一網點410於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

請參照第2A圖所示，第2A圖係繪示第1C圖沿2-2剖面線於一變化下之剖面圖。

此些第一網點410於反射面330上所呈現出之分布密度係隨著第一網點410與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第一網點410與第一入光面310之距離越大，此分布密度之值越大。

例如第2A圖中，較接近第一入光面310之其中二個第一網點410之間距D1大於較遠離第一入光面310之其中二個第一網點410之間距D2，而此間距D2大於更遠離第一入光面310之其中二個第一網點410之間距D3。

請參照第2B圖，第2B圖係繪示第1C圖沿2-2剖面線於另一變化下之剖面圖。

此些第一網點410於反射面330上所呈現出之深度係隨著第一網點410與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第一網點410與第一入光面310之距離越大，此深度之值越大。

例如第2B圖中，較接近第一入光面310之一個第一網點410之深度H1小於較遠離第一入光面310之其中一個第一網點410之深度H2，而此深度H2小於更遠離第一入光面310之其中一個第一網點410之深度H3。

請參照第2C圖所示，第2C圖係繪示第1C圖沿2-2剖面線於又一變化下之剖面圖。

此些第一網點410於反射面330上所呈現出之口徑係隨著第一網點410與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第一網點410與第一入光面310之距離越大，此口徑之值越大。

例如第2C圖中，較接近第一入光面310之一個第一網點410之寬度W1小於較遠離第一入光面310之其中一個第一網點410之寬度W2，而此寬度W2小於更遠離第一入光面310之其中一個第一網點410之寬度W3。

復請參照第1A圖至第1C圖所示，第二微結構網點群500位於反射面330上除了此些第一微結構網點群400之其他區域。第二微結構網點群500係由多個第二網點510所組成。此些第二網點510具有多種第二亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。此些第二亮度影響變數其中之一係隨著第二網點510與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第二網點510與第一入光面310之距離越大，此第二亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大。第二亮度影響變數之種類例如包含此些第二網點510於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

請參照第3A圖所示，第3A圖係繪示第1C圖沿3-3剖面線於一變化下之剖面圖。

此些第二網點510於反射面330上所呈現出之分布密度係隨著第二網點510與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第二網點510與第一入光面310之距離越大，此分布密度之值越大。

例如第3A圖中，較接近第一入光面310之其中二個第二網點510之間距D4大於較遠離第一入光面310之其中二個第二網點510之間距D5，而此間距D5大於更遠離第一入光面310之其中二個第二網點510之間距D6。

請參照第3B圖所示，第3B圖係繪示第1C圖沿3-3剖面線於另一變化下之剖面圖。

此些第二網點510於反射面330上所呈現出之深度係隨著第二網點510與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第二網點510與第一入光面310之距離越大，此深度之值越大。(第3B圖)。

例如第3B圖中，較接近第一入光面310之一個第二網點510之深度H4小於較遠離第一入光面310之其中一個第二網點510之深度H5，而此深度H5小於更遠離第一入光面310之其中一個第二網點510之深度H6。

請參照第3C圖所示，第3C圖係繪示第1C圖沿3-3剖面線於又一變化下之剖面圖。

此些第二網點510於反射面330上所呈現出之口徑係隨著第二網點510與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第二網點510與第一入光面310之距離越大，此口徑之值越大。

例如第3C圖中，較接近第一入光面310之一個第二網點510之寬度W4小於較遠離第一入光面310之其中一個第二網點510之寬度W5，而此寬度W5小於更遠離第一入光面310之其中一個第二網點510之寬度W6。

此外，第一微結構網點群400之第一網點410不同於第二微結構網點群500之第二網點510，意即，第一微結構網點群400之第一網點410之第一亮度影響變數不同於第二微結構網點群500之第二網點510之對應之第二亮度影響變數。

具體來說，此些第一網點410於反射面330上所呈現出之分布密度、深度及口徑至少其中之一與此些第二網點510於反射面330上所呈現出之分布密度、深度及口徑至少其中之一不同，如以下組合：

(1)第一微結構網點群400之此些第一網點410之分布密度不同於第二微結構網點群500之此些第二網點510之分布密度(比較第2A圖與第3A圖)；以及/或者

(2)第一微結構網點群400之此些第一網點410之深度不同於第二微結構網點群500之此些第二網點510之深度(比較第2B圖與第3B圖)，以及/或者

(3)第一微結構網點群400之此些第一網點410之口徑不同於第二微結構網點群500之此些第二網點510之口徑(比較第2C圖與第3C圖)。

如此，本發明便可改善導光板300出光面320非預期之線性亮紋，均勻化導光板300出光面320之出光亮度。

復請參照第1B圖以及第4A圖至第4C圖所示，第4A圖係繪示第1C圖沿4-4剖面線於一變化下之剖面圖；第4B圖係繪示第1C圖沿4-4剖面線於另一變化下之剖面圖；以及第4C圖係繪示第1C圖沿4-4剖面線於又一變化下之剖面圖。

(1)反射面330上與第一入光面310具有相同距離之所有第一網點410及第二網點510中，此些第一網點410之分布密度小於此些第二網點510之分布密度(第4A圖)，例如第4A圖中，其中二個第一網點410之間距D7大於其中二個第二網點510之間距D8；以及/或者

(2)反射面330上與第一入光面310具有相同距離之所有第一網點410及第二網點510中，此些第一網點410之深度小於此些第二網點510之深度(第1A圖、第4B圖)，例如第4B圖中，其中一個第一網點410之深度H7小於其中一個第二網點510之深度H8；以及/或者

(3)反射面330上與第一入光面310具有相同距離之所有第一網點410及第二網點510中，此些第一網點410之口徑小於此些第二網點510之口徑(第4C圖)，例如第4C圖中，其中一個第一網點410之寬度W7小於其中一個第二網點510之寬度W8。

請參照第5A圖至第5C圖所示，第5A圖繪示本發明發光模組101於另一實施例下之側視圖；第5B圖繪示第5A圖之發光模組101之俯視圖；以及第5C圖繪示第5A圖之發光模組101之仰視圖。

另一實施例中，發光模組101包含一第一光源200及一導光板300。第一光源200例如是發光二極體燈條(LED light bar)，包含多個發光二極體元件(圖中未示)。導光板300包含相互對立之一出光面320及一反射面330，以及環繞其出光面320與反射面330之多個側邊，其中任一側邊的面積小於出光面320或反射面330之面積，且介於出光面320及反射面330之間。其中一側邊可當作一第一入光面310，以使第一光源200配置於第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面310發光。出光面320上平行且間隔地配置有多個線性立體單元322。線性立體單元322不限或凹溝。線性立體單元322於此實施例中係呈凸條，然而，本發明於此實施例中並不限線性立體單元322為凸條或凹溝。

線性立體單元322具有一垂直落差V，即凸條之垂直最高高度或凹溝之垂直最深深度。此些線性立體單元322共同之一長軸走向(Y軸方向)與該第一入光面310之長軸走向(Y軸方向)相平行，且各線性立體單元322之一垂直落差V不需僅限一致，其變化也可以隨著其與第一入光面310之距離大小成正比，意即越遠離第一入光面310之線性立體單元322，其垂直落差V越大。

導光板300更包含多個第一微結構網點群400及一第二微結構網點群500。此些第一微結構網點群400分別充分地遍布於此些線性立體單元322對應於反射面330之一垂直投影位置330P內。各第一微結構網點群400係由多個第一網點410所組成。此些第一網點410具有多種第一亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。此些第一亮度影響變數其中之一係隨著第一網點410與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第一網點410與第一入光面310之距離越大，此第一亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大。

第一亮度影響變數之種類例如包含此些第一網點410於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

第二微結構網點群500位於反射面330上除了此些第一微結構網點群400之其他區域。第二微結構網點群500係由多個第二網點510所組成。此些第二網點510具有多種第二亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。此些第二亮度影響變數其中之一係隨著第二網點510與第一入光面310之距離大小成正比，意即，第二網點510與第一入光面310之距離越大，此第二亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大。第二亮度影響變數之種類例如包含此些第二網點510於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

請參照第6A圖至第6C圖所示，第6A圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於一變化下之剖面圖；第6B圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於另一變化下之剖面圖；以及第6C圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖。

此另一實施例中，當此些線性立體單元322共同之一長軸走向(Y軸方向)與第一入光面310之長軸走向(Y軸方向)相互平行，且各線性立體單元322之一垂直落差V皆一致時，具有以下變化：

(1)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度彼此一致，且任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度小於此第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之分布密度(第6A圖)，例如第6A圖中，各線性立體單元322之一垂直落差V皆一致，且其中二個第一網點410之間距D9大於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中二個第二網點510之間距D10；以及/或者

(2)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之深度彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之深度小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之深度(第6B圖)。例如第6B圖中，各線性立體單元322之一垂直落差V皆一致，且其中一個第一網點410之深度H9小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之深度H10；以及/或者

(3)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之口徑彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之口徑小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之口徑(第6C圖)。例如第6C圖中，各線性立體單元322之一垂直落差V皆一致，且其中一個第一網點410之寬度W9小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之寬度W10。

請參照第6D圖至第6F圖所示，第6D圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖；第6E圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖；以及第6F圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖。

此另一實施例中，當此些線性立體單元322共同之一長軸走向(Y軸方向)與第一入光面310之長軸走向(Y軸方向)相互平行，且各線性立體單元322之垂直落差V之變化隨著其與第一入光面310之距離大小成正比時，具有以下變化：

(1)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度彼此一致，且任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度小於此第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之分布密度(第6D圖)，例如第6D圖中，各線性立體單元322之垂直落差V1-V3隨著遠離第一入光面310，其值越大(即V1<V2<V3)，且其中二個第一網點410之間距D11小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中二個第二網點510之間距D12；以及/或者

(2)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之深度彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之深度小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之深度(第6E圖)，例如第6E圖中，各線性立體單元322之垂直落差V1-V3隨著遠離第一入光面310，其值越大(即V1<V2<V3)，且其中一個第一網點410之深度H11小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之深度H12；以及/或者

(3)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之口徑彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之口徑小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之口徑(第6F圖)。例如第6F圖中，各線性立體單元322之垂直落差V1-V3隨著遠離第一入光面310，其值越大(即V1<V2<V3)，且其中一個第一網點410之寬度W11小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之寬度W12。

請參照第7A圖至第7C圖所示，第7A圖繪示本發明發光模組102於又一實施例下之側視圖；第7B圖繪示第7A圖之發光模組102之俯視圖；以及第7C圖繪示第7A圖之發光模組102之仰視圖。

又一實施例中，發光模組102包含一導光板300、一第一光源210及一第二光源220。第一光源210與第二光源220例如是發光二極體燈條(LED light bar)，包含多個發光二極體元件(圖中未示)。導光板300包含相互對立之一出光面320及一反射面330，以及環繞其出光面320與反射面330之多個側邊，其中任一側邊的面積小於出光面320或反射面330之面積，且介於出光面320及反射面330之間(第7A圖)。其中兩相對側邊可當作一第一入光面311以及第二入光面312。第一光源210配置於第一入光面310之一旁，而可供朝第一入光面311發光。第二光源220配置於第二入光面312之一旁，而可供朝第二入光面312發光。出光面320上平行且間隔地配置有多個線性立體單元321。線性立體單元321於此實施例中係呈凹溝，然而，本發明於此實施例中並不限線性立體單元為凸條或凹溝。

線性立體單元321具有一垂直落差V，即凸條之垂直最高高度或凹溝之垂直最深深度。此些線性立體單元321共同之一長軸走向(Y軸方向)與第一入光面311、第二入光面312之長軸走向(Y軸方向)相平行，且各線性立體單元321之一垂直落差V不需僅限一致，其變化也可由出光面320之一中央位置C分別朝第一入光面311與第二入光面312之方向逐漸遞減，意即越接近第一入光面311與第二入光面312之線性立體單元321，其垂直落差V越小。

導光板300更包含多個第一微結構網點群400及一第二微結構網點群500(第5C圖)。此些第一微結構網點群400分別充分地遍布於此些線性立體單元321對應於反射面330之一垂直投影位置330P內。各第一微結構網點群400係由多個第一網點410所組成。此些第一網點410具有多種第一亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。隨著越遠離第一入光面311以及第二入光面312之第一網點410，其第一亮度影響變數至少其中之一之值越大，意即，越接近反射面330上介於第一入光面311與第二入光面312之間的中心點P之第一網點410，其第一亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大，反之，越接近第一入光面311或第二入光面312之第一網點410，其第一亮度影響變數之值越小，可供反射光線之亮度越小。第一亮度影響變數之種類例如包含此些第一網點410於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

第二微結構網點群500位於反射面330上除了此些第一微結構網點群400之其他區域。第二微結構網點群500係由多個第二網點510所組成。此些第二網點510具有多種第二亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。越遠離第一入光面311以及第二入光面312之第二網點510，其第二亮度影響變數至少其中之一之值越大，意即，越接近反射面330上介於第一入光面311與第二入光面312之間的中心點P之第二網點510，其第二亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大，反之，越接近第一入光面311或第二入光面312之第二網點510，其第二亮度影響變數之值越小，可供反射光線之亮度越小。第二亮度影響變數之種類例如包含此些第二網點510於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

請參照第8A圖至第8C圖所示，第8A圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於一變化下之剖面圖；第8B圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於另一變化下之剖面圖；以及第8C圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於又一變化下之剖面圖。

此變化中，當此些線性立體單元321共同之一長軸走向(Y軸方向)與第一入光面311之長軸走向(Y軸方向)相互平行，且各線性立體單元321之垂直落差V皆一致時，具有以下變化：

(1)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度彼此一致，且任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度小於此第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之分布密度(第8A圖)。例如第8A圖中，各線性立體單元321之一垂直落差V皆一致，且其中二個第一網點410之間距D13大於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中二個第二網點510之間距D14；以及/或者

(2)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之深度彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之深度小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之深度(第8B圖)。例如第8B圖中，各線性立體單元321之一垂直落差V皆一致，且其中一個第一網點410之深度H13小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之深度H14；以及/或者

(3)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之口徑彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之口徑小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之口徑(第8C圖)。

例如第8C圖中，各線性立體單元321之一垂直落差V皆一致，且其中一個第一網點410之寬度W13小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之寬度W14。

請參照第8D圖至第8F圖所示，第8D圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於一變化下之剖面圖；第8E圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於另一變化下之剖面圖；以及第8F圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於又一變化下之剖面圖。

此變化中，當此些線性立體單元321共同之一長軸走向(Y軸方向)與第一入光面311之長軸走向(Y軸方向)相互平行，且各線性立體單元321之垂直落差V之變化由出光面320之中央位置C分別朝第一入光面311與第二入光面312之方向逐漸遞減時，具有以下變化：

(1)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度彼此一致，且任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之分布密度小於此第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之分布密度(第8D圖)；例如第8D圖中，中間之線性立體單元321之垂直落差V1最大，此線性立體單元321兩側線性立體單元321之垂直落差V2小於中間之線性立體單元321之垂直落差V1，且其中二個第一網點410之間距D15大於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中二個第二網點510之間距D16；以及/或者

(2)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之深度彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之深度小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之深度(第8E圖)；例如第8E圖中，中間之線性立體單元321之垂直落差V1最大，此線性立體單元321兩側線性立體單元321之垂直落差V2小於中間之線性立體單元321之垂直落差V1，且其中一個第一網點410之深度H15小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之深度H16；以及/或者

(3)任一第一微結構網點群400內之所有第一網點410之口徑彼此一致，且任一第一微結構網點群400之此些第一網點410之口徑小於第一微結構網點群400之兩相對側位置之第二微結構網點群500之此些第二網點510之口徑(第8F圖)。例如第8F圖中，中間之線性立體單元321之垂直落差V1最大，此線性立體單元321兩側線性立體單元321之垂直落差V2小於中間之線性立體單元321之垂直落差V1，且其中一個第一網點410之寬度W15小於此第一微結構網點群400之鄰近側之第二微結構網點群500之其中一個第二網點510之寬度W16。

請參照第9圖所示，第9圖繪示本發明發光模組103於再一實施例下之仰視圖。

又一實施例中，發光模組103包含一導光板300、一第一光源211、一第二光源221、一第三光源231及第四光源241。第一光源211、一第二光源221、一第三光源231及第四光源241例如是發光二極體燈條(LED light bar)，包含多個發光二極體元件(圖中未示)。

導光板300包含相互對立之一出光面320及一反射面330，以及環繞其出光面320與反射面330之四個側邊，稱為第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313及第四入光面314。其中任一側邊的面積小於出光面320或反射面330之面積，且介於出光面320及反射面330之間。其中第一光源211配置於第一入光面311之一旁，以便第一入光面311接受第一光源211之發光、第二光源221配置於第二入光面312之一旁，以便第二入光面312接受第二光源221之發光、第三光源231配置於第三入光面313之一旁，以便第三入光面313接受第三光源231之發光，以及第四光源241配置於第四入光面314之一旁，以便第四入光面314接受第四光源241之發光。

出光面320上平行且間隔地配置有多個線性立體單元321(參考第7C圖)。線性立體單元321於此實施例中係呈凹溝，然而，本發明於此實施例中並不限線性立體單元為凸條或凹溝。此些線性立體單元321共同之一長軸走向(Y軸方向)與第一入光面311、第二入光面312之長軸走向(X軸方向)成正交，與第三入光面313、第四入光面314之一長軸走向(Y軸方向)平行。

導光板300更包含多個第一微結構網點群400及一第二微結構網點群500。此些第一微結構網點群400分別充分地遍布於此些線性立體單元321對應於反射面330之一垂直投影位置330P(參考第7A圖)內。各第一微結構網點群400係由多個第一網點410所組成。此些第一網點410具有多種第一亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。越接近反射面330上的中心點P之第一網點410，其第一亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大，反之，越接近第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313或第四入光面314之第一網點410，其第一亮度影響變數之值越小，可供反射光線之亮度越小。

第一網點410同時越遠離第一入光面311及第二入光面312，此第一亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大。第一亮度影響變數之種類例如包含此些第一網點410於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

第二微結構網點群500位於反射面330上除了此些第一微結構網點群400之其他區域。第二微結構網點群500係由多個第二網點510所組成。此些第二網點510具有多種第二亮度影響變數，亮度影響變數意指可影響反射光線於反射面330之亮度的因子。

第二微結構網點群500中位於該反射面330上之一中心位置之該些第二網點510之第二亮度影響變數係大於第二微結構網點群500中鄰近第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313或第四入光面314之該些第二網點510之第二亮度影響變數。意即，越接近反射面330上的中心點P之第二網點510，其第一亮度影響變數之值越大，可供反射光線之亮度越大，反之，越接近第一入光面311、第二入光面312、第三入光面313或第四入光面314之第二網點510，此第二亮度影響變數之值越小，可供反射光線之亮度越小。第二亮度影響變數之種類例如包含此些第二網點510於反射面330上之分布密度、深度及口徑。

復請參閱第4A圖、第5A圖及第10A圖-第10D圖所示，第10A圖-第10D圖繪示本發明發光模組100、101、102或103之線性立體單元之多種外型變化示意圖。

此些線性立體單元322區分為凸出線性立體單元322(第5A圖)與凹陷之線性立體單元321(第4A圖)。凸出線性立體單元例如可為一V型凸條322(第5A圖)或U型凸條323C(第10C圖)，然而，本發明不限於此。凹陷之線性立體單元例如可一V型凹溝321(第4A圖)或U型凹溝323D(第10D圖)，然而，本發明不限於此。

此外，復請參閱第10A圖所示，V型凹溝323A之兩相對內壁呈凸弧狀，或著，復請參閱第10B圖所示，本發明線性立體單元323A之另一種外型，例如V型凸條323B之兩相對側壁呈凹弧狀。

需定義的是：

(1)此些第一網點(或第二網點)於反射面上所呈現出之分布密度，係指單位面積下所具有相同數量之網點彼此之疏密程度，當此些第一網點(或第二網點)於反射面上之分布密度越大，此些第一網點(或第二網點)彼此之間越擁擠，彼此間之距離越小；反之，當此些第一網點(或第二網點)於反射面上之分布密度越小，此些第一網點(或第二網點)彼此之間越疏遠，彼此間之距離越大。

(2)此些第一網點(或第二網點)於反射面上所呈現出之深度，係指此些第一網點(或第二網點)自反射面表面朝其最遠凹/凸點之垂直距離。

(3)此些第一網點(或第二網點)於反射面上所呈現出之口徑，係指此些第一網點(或第二網點)於反射面表面之直徑大小。

(4)此外，上述第一網點或第二網點可為凹入狀或凸出狀。

(5)上述出光面之中央位置係指出光面上與長軸方向垂直之一中心線，且此中心線分別至第一入光面與第二入光面之距離一致。

(6)上述出光面之中心點係指出光面上可形成一最大圓形面積的中心點，大約為此導光板之一重心。

本發明所揭露如上之各實施例中，並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100、101、102、103．．．發光模組

200、210、211．．．第一光源

220、221．．．第二光源

231．．．第三光源

241．．．第四光源

300．．．導光板

310、311．．．第一入光面

312．．．第二入光面

313．．．第三入光面

314．．．第四入光面

320．．．出光面

321、322、323A-323D．．．線性立體單元

V、V1-V3．．．垂直落差

330．．．反射面

330P．．．垂直投影位置

400．．．第一微結構網點群

410．．．第一網點

500．．．第二微結構網點群

510．．．第二網點

D1-D16．．．間距

W1-W16．．．寬度

H1-H16．．．高度

C．．．中央位置

P．．．中心點

X、Y、Z．．．軸向

2-2、3-3、4-4、6-6、8-8．．．剖面線

為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之詳細說明如下：

第1A圖繪示本發明發光模組於一實施例下之側視圖。

第1B圖繪示第1A圖之發光模組之俯視圖。

第1C圖繪示第1A圖之發光模組之仰視圖。

第2A圖係繪示第1C圖沿2-2剖面線於一變化下之剖面圖。

第2B圖係繪示第1C圖沿2-2剖面線於另一變化下之剖面圖。

第2C圖係繪示第1C圖沿2-2剖面線於又一變化下之剖面圖。

第3A圖係繪示第1C圖沿3-3剖面線於一變化下之剖面圖。

第3B圖係繪示第1C圖沿3-3剖面線於另一變化下之剖面圖。

第3C圖係繪示第1C圖沿3-3剖面線於又一變化下之剖面圖。

第4A圖係繪示第1C圖沿4-4剖面線於一變化下之剖面圖。

第4B圖係繪示第1C圖沿4-4剖面線於另一變化下之剖面圖。

第4C圖係繪示第1C圖沿4-4剖面線於又一變化下之剖面圖。

第5A圖繪示本發明發光模組於另一實施例下之側視圖。

第5B圖繪示第5A圖之發光模組之俯視圖。

第5C圖繪示第5A圖之發光模組之仰視圖。

第6A圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於一變化下之剖面圖。

第6B圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於另一變化下之剖面圖。

第6C圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖。

第6D圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖。

第6E圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖。

第6F圖係繪示第5C圖沿6-6剖面線於又一變化下之剖面圖。

第7A圖繪示本發明發光模組於又一實施例下之側視圖。

第7B圖繪示第7A圖之發光模組之俯視圖。

第7C圖繪示第7A圖之發光模組之仰視圖。

第8A圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於一變化下之剖面圖。

第8B圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於另一變化下之剖面圖。

第8C圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於又一變化下之剖面圖。

第8D圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於又一變化下之剖面圖。

第8E圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於又一變化下之剖面圖。

第8F圖係繪示第7C圖沿8-8剖面線於又一變化下之剖面圖。

第9圖繪示本發明發光模組於再一實施例下之仰視圖。

第10A圖-第10D圖繪示本發明發光模組之線性立體單元之多種外型變化示意圖。

100．．．發光模組

200．．．第一光源

300．．．導光板

310．．．第一入光面

330．．．反射面

400．．．第一微結構網點群

410．．．第一網點

500．．．第二微結構網點群

510．．．第二網點

X、Y、Z．．．軸向

2-2、3-3、4-4．．．剖面線

Claims (24)

1. 一種發光模組，包含：一第一光源；以及一導光板，包含：一出光面，包含多個線性立體單元平行且間隔地配置於該出光面上；一反射面，與該出光面相互對立；一第一入光面，介於該出光面及該反射面之間，且該第一光源朝該第一入光面發光；多個第一微結構網點群，分別充分地位於該些線性立體單元對應於該反射面之一垂直投影位置內，每一該些第一微結構網點群係由多個第一網點所組成，該些第一網點包含多種第一亮度影響變數，該些第一亮度影響變數至少其中之一係隨著該些第一網點與該第一入光面之距離大小成正比；以及一第二微結構網點群，位於該反射面上除了該些第一微結構網點群之其他區域，該第二微結構網點群係由多個第二網點所組成，該些第二網點包含多種第二亮度影響變數，該些第二亮度影響變數至少其中之一係隨著該些第二網點與該第一入光面之距離大小成正比，其中該第一微結構網點群之該些第一網點不同於該第二微結構網點群之該些第二網點。
2. 如請求項1所述之發光模組，其中每一該些線性立體單元具有一垂直落差，該些第一亮度影響變數包含該些第一網點於該反射面上之分布密度、深度及口徑，該些第二亮度影響變數包含該些第二網點於該反射面上之分布密度、深度及口徑，其中該第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度不同於該第二微結構網點群之該些第二網點之分布密度、該第一微結構網點群之該些第一網點之深度不同於該第二微結構網點群之該些第二網點之深度，或者，該第一微結構網點群之該些第一網點之口徑不同於該第二微結構網點群之該些第二網點之口徑。
3. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向成正交，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，其中與該第一入光面具有相同距離之該些第一網點及該些第二網點中，該些第一網點之分布密度小於該些第二網點之分布密度。
4. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向成正交，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，其中與該第一入光面具有相同距離之該些第一網點及該些第二網點中，該些第一網點之深度小於該些第二網點之深度。
5. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向成正交，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，其中與該第一入光面具有相同距離之該些第一網點及該些第二網點中，該些第一網點之口徑小於該些第二網點之口徑。
6. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向相平行，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之分布密度。
7. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向相平行，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之深度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之深度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之深度。
8. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向相平行，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之口徑彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之口徑小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之口徑。
9. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向相平行，且該些線性立體單元之垂直落差之變化係隨著其與該第一入光面之距離大小成正比，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之分布密度。
10. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向相平行，且該些線性立體單元之垂直落差之變化係隨著其與該第一入光面之距離大小成正比，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之深度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之深度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之深度。
11. 如請求項2所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之長軸走向相平行，且該些線性立體單元之垂直落差之變化係隨著其與該第一入光面之距離大小成正比，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之口徑彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之口徑小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之口徑。
12. 如請求項2所述之發光模組，更包含一第二光源，且該導光板更包含一第二入光面，其中該第二入光面相對該第一入光面，且該第二光源朝該第二入光面發光。
13. 如請求項12所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面及該第二入光面之長軸走向相互平行，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之分布密度。
14. 如請求項12所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面及該第二入光面之長軸走向相互平行，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之深度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之深度。
15. 如請求項12所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面及該第二入光面之長軸走向相互平行，且每一該些線性立體單元之該垂直落差皆一致，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之口徑小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之口徑。
16. 如請求項12所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面與該第二入光面之長軸走向相平行，且該些線性立體單元之垂直落差之變化係由該出光面之中央位置分別朝該第一入光面與該第二入光面之方向逐漸遞減，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之分布密度。
17. 如請求項12所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面與該第二入光面之長軸走向相平行，且該些線性立體單元之垂直落差之變化係由該出光面之中央位置分別朝該第一入光面與該第二入光面之方向逐漸遞減，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之分布密度彼此一致，且任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之深度小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之深度。
18. 如請求項12所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面與該第二入光面之長軸走向相平行，且該些線性立體單元之垂直落差之變化係由該出光面之中央位置分別朝該第一入光面與該第二入光面之方向逐漸遞減，任一該些第一微結構網點群之該些第一網點之口徑小於該第一微結構網點群之兩相對側位置之該些第二網點之口徑。
19. 如請求項12所述之發光模組，更包含一第三光源及第四光源，且該導光板更包含相對之一第三入光面及一第四入光面，其中該第一入光面、該第二入光面、該第三入光面及該第四入光面分別位於該導光板之四周，且該第三光源朝該第三入光面發光、該第四光源朝該第四入光面發光。
20. 如請求項19所述之發光模組，其中該些線性立體單元共同之一長軸走向與該第一入光面之一長軸走向成正交、與該第三入光面之一長軸走向相平行，該第二微結構網點群中位於該反射面上之一中心位置之該些第二網點之分布密度、深度或口徑係大於該第二微結構網點群中鄰近該第一入光面、該第二入光面、該第三入光面或該第四入光面之該些第二網點之分布密度、深度或口徑。
21. 如請求項2所述之發光模組，其中每一該些線性立體單元為一V型凹溝或U型凹溝。
22. 如請求項21所述之發光模組，其中該V型凹溝之兩相對內壁呈凸弧狀。
23. 如請求項2所述之發光模組，其中每一該些線性立體單元為一V型凸條或U型凸條。
24. 如請求項23所述之發光模組，其中該V型凸條之兩相對側壁呈凹弧狀。