TW201248208A - Polarizer protective film - Google Patents

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TW201248208A TW101108525A TW101108525A TW201248208A TW 201248208 A TW201248208 A TW 201248208A TW 101108525 A TW101108525 A TW 101108525A TW 101108525 A TW101108525 A TW 101108525A TW 201248208 A TW201248208 A TW 201248208A
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Tomohiro Fukuura
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Sumitomo Chemical Co
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Description

201248208 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種具有光擴散層之偏光元件保護膜。 【先前技術】 於液晶顯示器或電漿顯示面板、布朗管(陰極射線管: CRT(Cathode Ray Tube))顯示器、有機電激發光(EL, organic electroluminescence)顯示器等圖像顯示裝置之顯示 面上’為了防止表面之刮痕(scratch),而通常設置有具有 高硬度性能之保護膜。 具有高硬度性能之保護膜通常係於基材膜上設置硬塗層 而製成(例如’參照曰本專利特開平8-197670號公報(專利 文獻1))。作為基材膜,就機械強度、对久性、成本方面優 異而言,例如較佳使用包含聚酯系樹脂之膜。 【發明内容】 於如上所述之保護膜中’由於硬塗層為薄層,故而有因 硬塗層與空氣之界面中之反射光、及硬塗層與基材膜之界 面中之反射光進行干涉而產生虹不均之情況,有圖像顯示 裝置之顯示品質及外觀品質降低之問題。尤其是,於使用 包含聚醋系樹脂之膜作為基材膜之保護膜之類的基材膜與 更塗層之折射率差較大之保護膜中,由於硬塗層與基材膜 之界面中之反射光之強度較大,故而有易於產生因反射光 所引起之虹不均之問題。 於專利文獻U,記載有藉由將基材膜之形成有硬㈣ 之面之表面平均粗糙度設為⑽心⑽,使硬塗層與基材 162612.doc 201248208 膜之界面中之反射光之前進方向產生偏差,而對硬塗層與 空氣之界面中之反射光進行干涉。然而,由於對基材膜之 表面賦予凹凸形狀通常係利用生產線外加工故而有成本提 高之情況。 本發明之目的在於提供一種具有無需繁雜之製成步驟之 構成且抑制因反射光所產生之虹不均從而使視認性良好之 偏光元件保護膜。 本發明係發現因反射光之虹不均之產生亦與反射圖像清 晰度相關而成者。本發明包含下述内容。 [1 ] 一種偏光元件保護膜,其係具有光擴散層者,且 反射圖像清晰度測定試驗中之反射圖像清晰度cn(%)之 總和值Rc滿足以下之式(1)之關係,並且總霧度值Η滿足以 下之式(2)之關係, 上述反射圖像清晰度測定試驗係使源自試驗片之反射光 之光量通過與反射光之光線軸正交、且以10 mm/min之速 度移動之寬度n(mm)之光頻梳(optical frequency comb)而進 行測定者, 上述反射圖像清蜥度Cn(%)係於上述反射圖像清晰度測 定試驗中,於將光線軸上有上述光頻梳之穿透部分時之反 射光量之最高值設為Mn、將光線軸上有上述光頻梳之遮光 部分時之反射光量之最小值設為叫之情形時,由下述之式 (3)算出, 上述總和值R。係上述光頻梳之寬度n(mm)分別為0.5、 1、2之情形時之反射圖像清晰度C〇.5、Ci、C2的總和值。 I62612.doc 201248208 〇^Rc^ 170 式(1) 0SHS6 式(2)
Cn={(Mn— m„)/(Mn+ mn)}xl〇〇 式(3) [2] 如上述[1]之偏光元件保護臈,其積層有基材膜、及 . 上述光擴散層,且 上述基材膜與上述光擴散層之折射率差為〇.03以上。 [3] 如上述[2]之偏光元件保護膜,其中上述基材膜之折 射率為1.59以上。 [4] 如上述[2]或[3]之偏光元件保護膜,其中上述基材 膜以聚醋系樹脂為主成分。 [5] 如上述[2]至[4]中任一項之偏光元件保護膜,其中 上述基材臈之厚度為50 μπι以下。 [6] 如上述[1]至[5]中任一項之偏光元件保護膜,其中 上述光擴散層包含透光性樹脂及透光性微粒子。 [7] 如上述[6]之偏光元件保護膜,其中上述透光性微粒 子包含不定形微粒子。 利用本發明之偏光元件保護膜,可構成抑制因反射光而 產生之虹不均,且外觀品質、顯示品質良好之圖像顯示裝 • 置。 - 【實施方式】 [偏光元件保護膜] 本發明之偏光元件保護膜具有光擴散層。光擴散層例如 係積層於基材膜上。偏光元件保護膜亦可具有除上述之光 擴散層及基材膜以外之其他層。 162612.doc 201248208 圖1係表示本發明之保護膜之較佳之例的概略剖面圖。 本發明之圖1中所示之偏光元件保護膜100包括基材獏 101、及積層於基材膜101上之光擴散層102。光擴散層102 係以透光性樹脂1 03為基材之層,且於透光性樹脂1 〇3中分 散有透光性微粒子1 04而成。以下,針對本發明之偏光元 件保護膜進一步詳細說明。 <偏光元件保護膜之光學特性> 本發明之偏光元件保護膜於反射圖像清晰度測定試驗中 之反射圖像清晰度Cn(°/〇)之總和值1^(%)滿足以下之式(1)之 關係:
Rc^ 170 式(1) 並且總霧度值滿足以下之式(2)之關係: 0SHS6 式(2)。 上述反射圖像清晰度測定試驗係使試驗片(偏光元件保 護膜)之反射光之光量通過與反射光之光線軸正交、且以 10 mm/min之速度移動之寬度n(mm)之光頻梳而進行測定 者。具體而言,使用圖像清晰度(image clarity)測定器 (Suga試驗機(股)製造)進行測定。圖像清晰度測定器包含 將穿透狭縫之光設為平行光線而使其垂直入射於試驗片、 並通過於其反射光中移動之光頻梳而進行檢測之光學裝 置,及將所檢測之光量之變動記錄為波形之測量系裝置。 光頻梳之明部與暗部之寬度之比為1:1,該寬度n(mm)係設 為0.5、1、2之3種’移動速度係設為1〇 mm/min。 反射圖像清晰度Cn(%)係於反射圖像清晰度測定試驗 162612.doc 201248208 中,於將光線軸上有光頻梳之穿透部分(明部)時之反射光 量之最鬲值设為Mn、將光線轴上有光頻梳之遮光部分(暗 部)時之反射光量之最小值設為叫之情形時,由下述之式 (3)算出:
Cn={(Mn-mn)/(Mn+mn)}xl〇〇 式(3)。 總和值Rc(%)係光頻梳之寬度n(mm)分別為〇 5、1、2之 情形時之3個反射圖像清晰度C〇 5(%)、Cl(%)、c2(%)的總 和值,因此可取之最大值為3〇〇〇/0。 藉由總和值Rc(%)滿足上述式(1)之關係、其總霧度值 H(%)滿足上述式(2)之關係,而可提供一種因反射光之虹 不均之產生得到抑制、進而無泛白之偏光元件保護膜。 此處’所謂「總霧度值」’係由表示對偏光元件保護膜 照射光而穿透之光線之總量的總光線穿透率Tt、與因偏光 元件保護膜而擴散並穿透的擴散光線穿透率Td之比,並藉 由以下之式(4)而求出: 總霧度(%)=(丁(1/1^)>< 100 式(4)。 總光線穿透率Tt係在與入射光同轴之狀態下穿透之平行 光線穿透率Tp與擴散光線穿透率Td之和。總光線穿透率Tt 及擴散光線穿透率Td係依據JIS K 7361所測定之值。 偏光元件保護膜之總霧度值具體而言係以下述方式測 定。即’首先為防止膜之翹曲而使用光學透明之黏著劑, 對偏光元件保護膜以光擴散層102成為表面之方式將基材 膜101側貼合於玻璃基板上而製成試驗片,並針對該試驗 片測定總霧度值》總霧度值係使用依據Jis K 71 36之霧度 162612.doc 201248208 穿透率計(例如,村上色彩技術研究所(股)製造之Haze Meter「HM-150」),測定總光線穿透率Tt及擴散光線穿透 率(Td),並藉由上述式(4)算出。 <光擴散層> 圖1中所示之偏光元件保護膜100包括積層於基材膜1〇1 上之光擴散層102❶光擴散層102係以透光性樹脂1〇3為基 材之層,且於透光性樹脂103中分散有透光性微粒子1 〇4而 成°再者’亦可於基材膜101與光擴散層102之間具有其他 層(包括接著劑層)。 作為透光性樹脂103,若為具有透光性者則無特別限 定’例如可使用:紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂 專電離韓射硬化型樹脂或熱硬化型樹脂之硬化物,熱塑性 樹脂、金屬烷氧化物之硬化物等。於使用電離輻射硬化型 樹脂、熱硬化型樹脂或金屬烷氧化物之情形時,藉由電離 輻射之照射或加熱使該樹脂硬化而形成透光性樹脂103。 其中,於用作具有較高之硬度、且設置於液晶顯示裝置表 面之偏光元件保護膜之情形時,就可賦予較高之耐磨性方 面而言’較佳為電離輻射硬化型樹脂。 作為電離輻射硬化型樹脂,可列舉:多元醇之丙烯酸或 甲基丙稀酸酿之類的多官能性之丙烯酸醋;由二異氰酸酷 與夕π醇及丙稀酸或甲基丙㈣之經基§|等所合成之多官 能之丙稀酸胺基甲酸酿等。χ,除該等以外,亦可使用· 具有丙烯酸醋系之官能基之聚晴脂、聚酷樹脂、環氧樹 脂、醇酸樹脂、螺縮酿樹脂、聚丁二稀樹脂、多硫醇多稀 162612.doc 201248208 樹脂等。 作為熱硬化型樹脂,可列舉:包含丙烯酸多元醇及異氰 酸醋預聚物(isocyanate prepolymer)之熱硬化型胺基甲酸醋 樹脂,及酴樹脂、尿素三聚氰胺樹脂、環氧樹脂、不飽和 聚酯樹脂、聚矽氧樹脂。 作為熱塑性樹脂,可列舉:乙醯纖維素、硝化纖維素、 乙酿丁基纖維素、乙基纖維素、甲基纖維素等纖維素衍生 物;乙酸乙烯酯及其共聚物、氣乙烯及其共聚物、偏二氯 乙烯及其共聚物等乙烯系樹脂;聚乙烯曱醛、聚乙烤丁醛 等縮搭系樹脂;丙烯酸系樹脂及其共聚物、曱基丙烯酸樹 脂及其共聚物等丙烯酸系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;聚醯胺 系樹脂;聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂等。 作為金屬烷氧化物,可使用以矽烷氧化物系之材料為原 料之氧化矽系基質等。具體而言,為四甲氧基矽烷、四乙 氧基矽烷等’可藉由水解或脫水縮合而製成無機系或有機 無機複合系基質(透光性樹脂)。 又’作為本發明中所使用之透光性微粒子1〇4,可使用 具有透光性之有機微粒子或無機微粒子《例如,可列舉: 包含丙烯酸系樹脂、三聚氰胺樹脂、聚乙烯、聚苯乙稀、 有機聚矽氧樹脂、丙烯酸-苯乙烯共聚物等之有機微粒 子’或包含碳酸鈣、二氧化矽、氧化鋁、碳酸鋇、硫酸 鋇、氧化鈦、玻璃等之無機微粒子等。又,亦可使用有機 聚合物之氣球或玻璃中空珠。透光性微粒子104可包含!種 微粒子,或亦可含有2種以上之微粒子。透光性微粒子1〇4 162612.doc 201248208 之形狀雖然亦可為球狀、扁平狀、板狀、針狀、不定形狀 等任一者’但藉由使用不定形狀之透光性微粒子104 ,對 透光性樹脂103與透光性微粒子1〇4之界面賦予微細之差 異’而容易製成反射圖像清晰度之總和值Rc滿足上述式(1) 之關係之偏光元件保護膜。作為不定形狀之透光性微粒 子,例如可列舉不定形二氧化矽。 此處’關於透光性微粒子1〇4之重量平均粒徑,於為球 狀之情形時,較佳為〇.5 μηι〜15 μηι ’更佳為3 μηι〜9 μηι, 於為不定形狀之情形時,較佳為〇_5 μΓη〜15 μϊη ,更佳為〇 5 μηι〜5 μιη。若透光性微粒子1〇4之重量平均粒徑未達〇 5 Mm,則有時基本無助於可見光之内部散射。又,於重量 平均粒徑超過15 μπι之情形時,有時以總霧度值Η滿足上述 式(2)之關係之方式製成偏光元件保護膜變得困難,進而, 光擴散層102整體之厚度變厚,有時妨礙顯示器之薄型 化。再者,透光性微粒子1 〇4之重量平均粒徑係使用利用 庫爾特原理(空隙電阻法)之庫爾特粒子計數器(Beckman Coulter公司製造)進行測定。透光性微粒子1〇4亦可含有重 量平均粒子徑不同之2種以上。 透光性微粒子1 04之折射率較佳為大於透光性樹脂丨〇3之 折射率,兩者之差較佳為於〇.〇4至〇15之範圍。藉由將透 光性微粒子104與透光性樹脂1〇3之折射率差設為上述範圍 内,而產生因透光性微粒子104與透光性樹脂1〇3之折射率 差之適度之内部散射,變得易於以偏光元件保護膜之反射 圖像清晰度的總和值Re滿足上述式(1)之關係之方式進行控 1626I2.doc -10· 201248208 制。 又,光擴散層102之表面(與基材膜101為相反側之表面) 亦可為利用透光性微粒子104形成有凹凸者。藉由凹凸形 狀,而於光擴散層102之表面中之反射光之前進方向產生 偏差’可以偏光元件保護膜之反射圖像清晰度的總和值Rc 滿足上述式(1)之關係之方式進行控制。 光擴散層102之層厚較佳為4 μπι以上且20 μηι以下。於未 達4 μπι之情形時,光擴散層1〇2之表面之凹凸形狀之表面 粗糙度過大’有時難以以霧度值Η滿足上述式(2)之關係之 方式進行控制。另一方面’若超過20 μηι則偏光元件保護 膜整體變厚,變得易於捲曲、或變得易於破裂,故而於操 作方面不佳。 再者’本發明之偏光元件保護膜亦可包括積層於圖1中 所不之光擴散層102上(與基材膜ι〇1為相反側之面)之抗反 射層。抗反射層係用以使反射率無限低而設置者,藉由抗 反射層之形成可防止於顯示晝面中之映入。作為抗反射 層,可列舉:包含折射率低於光擴散層1〇2之材料之低折 射率層;包含折射率高於光擴散層1〇2之材料之高折射率 層與包含折射率低於該高折射率層之材料之低折射率層的 積層構造等。 <基材膜> 基材膜1GI之材料並無限^,但較佳為包含折射率較高 材料具體而5,基材臈1〇1之折射率較佳為[Μ以 上又,基材臈101與光賤層1〇2之界面之折射率差為 I626I2.doc 201248208 0.03以上的基材膜ι〇1較佳。 基材膜101之材料無特別限定,可使用公知之材質。例 如可列舉·包含聚對苯二甲酸乙二酯之類的聚酯系樹 脂'聚乙烯或聚丙烯之類的聚烯烴系樹脂、乙烯_乙酸乙 烯酯系樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯之類的丙烯酸系樹脂、降 褚烯系樹脂之類的環烯系樹脂等之合成高分子,又包含二 乙酸纖維素或三乙酸纖維素之類的纖維素系樹脂等之天然 同刀子。基材膜101較佳為無色透明,為進行面之識別等 於不妨礙缺陷檢測性之範圍内’可為有色亦可為半透明。 使用上述之材料製造基材膜1〇1之方法無特別限定,可 利用/合劑澆鑄法、擠壓法等公知之方法進行製造。又,可 使用於膜成形後經實施單軸延伸或雙軸延伸等延伸處理之 基材膜101 〇作為折射率為上述之範圍内之基材膜1〇1,較 佳為使用經實施延伸處理之包含聚酯系樹脂之基材膜 01例如,可列舉包含經實施延伸處理之聚對苯二曱酸 乙二酯之基材膜101。 延伸通常係一面捲出膜輥一面連續地進行,利用加熱爐 向輥之前進方向、與該前進方向垂直之方向 '或向該兩個 方向進行延伸。加熱爐之溫度通常為自構成基材膜101之 樹知之玻璃轉移溫度附近至玻璃轉移溫度+ 1 之範 圍。 用作基材膜101之聚酯膜係以聚酯為主成分之膜,可為 以聚酷為主成分之單層冑,或亦可為具有以聚酷為主成分 之層之多層膜。又,亦可為於該等單層膜或多層膜之兩面 162612.doc -12- 201248208 或單面實施有表面處 理、“處理表面處理可為利用電晕處 面改質,4亦可為;;=紫外線照射、電子束照射等之表 薄膜升…二w分子或金屬等之塗佈或蒸鍍等之 、、 自0占聚酯膜整體之重量比例通常為50重量% 以上,較佳為7〇重量%以上,更佳為9()重量%以上。 作為聚醋’例如可而|班. _ 列舉.聚對苯二曱酸乙二酯、聚間苯 甲酸乙一S曰、聚乙烯_2,6_萘二甲酸酯、聚對苯二曱酸丁 二酯、對苯二曱酸昏 馱〗,4-環己二曱酯,視需要亦可使用該等 2種以上。其中較佳為使用聚對苯二甲酸乙二酯。 聚對苯二曱酸乙二酯係具有源自對苯二曱酸之構成單元 作為二甲酸成分、及具有源自乙二醇之構成單元作為二醇 成分的聚酯,較佳為總重複單元之8〇莫耳%以上為對苯二 曱酸乙二酯,亦可含有源自其他共聚成分之構成單元。作 為其他共聚成分,可列舉:間苯二曱酸、對β_氧基乙氧基 苯曱酸、4,4'-二羧基二苯、4,4,-二羧基二苯曱酮、雙(4_二 羧基苯基)乙烷、己二酸、癸二酸、間苯二甲酸_5_磺酸 納、1,4-二叛基環己院等二曱酸成分,或丙二醇、丁二 醇、新戊二醇、二乙二醇、環己二醇、雙酚Α之環氧乙院 加成物、聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇等二醇成分。 該等二甲酸成分或二醇成分可依據需要而組合2種以上 使用。又,亦可與上述缓酸成分或二醇成分一同併用對經 基苯曱酸等氧基羧酸。作為其他共聚成分’亦可使用含有 少量之醯胺鍵、胺基曱酸酯鍵、醚鍵、碳酸酯鍵等之二甲 酸成分及/或二醇成分。作為聚對苯二甲酸乙二酯之製造 162612.doc • 13- 201248208 方法,可使用如下任意之製造方法:使對苯二甲酸與乙二 醇、以及視需要其他二甲酸及/或其他二醇直接進行反應 之所謂直接聚合法’使對苯二甲酸之二甲酯與乙二醇、以 及視需要其他二甲酸之二甲酯及/或其他二醇進行酯交換 反應之所謂酯交換反應法等。 視需要亦可於聚s旨中調配公知之添加劑,作為該例可列 舉.淵滑劑、抗結塊劑、熱穩定劑、抗氧化劑、抗靜電 劑、耐光劑、耐衝擊性改良劑。其中,於使用聚酯膜作為 防眩膜之基材膜之情形時,通常透明性為必需,故而添加 劑之添加量較佳為控制於最小限度内。 聚酯膜較佳為進行單軸延伸或雙軸延伸(以下亦將如此 經單轴延伸或雙軸延伸之聚酯膜簡記為「延伸聚酯 膜」)。延伸聚酯膜係機械性質、耐溶劑性、耐刮痕性、 成本等優異之膜’使用此種聚醋膜之光學膜可謀求機械強 度等優異、及厚度之減少。 將聚醋成形為膜狀,並實施單轴延伸處理或雙轴延伸肩 理’藉此可製成經延伸之聚s旨膜。藉由進行延伸處理可指 得機械強度較高之聚醋膜。經延伸之聚酯膜之製成方法為 任意’並無特別限定’例如作為單軸延伸㈣膜,可列摩 Γ在玻璃轉移溫度以上之溫度下利用拉幅機,將使聚_ 融、並擠出為片狀所成形之無定向料行橫向延伸後, 施…、固疋處理之方法。又,於雙軸延伸聚酯膜令,可列兴 Γ在玻璃轉移溫度以上之溫度下利用拉幅機,將使聚_ 融、並擠出為片狀所成形之無定向膜進行縱向延伸後,實 1626l2.doc 201248208 施熱固疋處理’繼而於橫向延伸後實施熱固定處理之方 法。於該情形時,延伸溫度通常為8〇〜l3(rc,較佳為 90 120 C ’延伸倍率通常為2 5〜6倍較佳為3〜$ 5倍。若 I伸倍率較低,則有聚酯膜不會顯示充分之透明性之傾 向0 :’為減少定向主軸之變形,較理想為於延伸後進行熱 固疋處理之别,對聚酯膜進行鬆弛處理。鬆弛處理時之溫 度通常為90〜20〇t,較佳為12〇〜18(Γ(:。鬆他量依據延伸 條件而不同,較佳為以鬆弛處理後之聚酯膜之於1 下 的熱收縮率成為2%以下之方式而設定鬆他量及鬆弛處理 時之溫度。 熱固定處理溫度可設為18〇〜25〇〇c,較佳為2〇〇〜245它。 於熱固疋處理中,於首先以定長進行熱固定處理之後,為 減少定向主軸之變形、並提昇耐熱性等之強度,較佳為進 而進行寬度方向之鬆他處理β該情形時之鬆弛量較佳為以 鬆弛處理後之聚醋臈之於150t下的熱收縮率成為卜⑺% 之方式進行調整,更佳為2〜5%。本發明中所使用之延伸 聚酯膜之定向主軸之變形的最大值通常為〗〇度以下,較佳 為8度以下,進而較佳為5度以下。若定向主軸之最大值大 於10度,則有於貼合於液晶顯示畫面時著色不良變大之傾 向。再者,延伸聚酯膜之「定向主軸之變形之最大值」例 如可利用大塚電子股份有限公司製造之相位差膜檢查裝置 RETS System進行測定。 基材膜101之厚度較佳為設為2〇〜1 〇〇 μπι,更佳為設為 162612.doc 15 201248208 30〜50 μιη。若基材膜ιοί之厚度未達2〇 μπι則有難以處理之 傾向,若厚度超過100 μιη則有薄壁化之優點減弱之傾向。 <偏光元件保護膜之製造方法> 繼而,針對用以製造圖1中所示之偏光元件保護膜之方 法進行說明。偏光元件保護膜1〇〇較佳為以包含如下之步 驟(Α)及(Β)之方法進行製造。 (Α)基材膜ιοί上塗佈含有分散有透光性微粒子ι〇4之透 光性樹脂之塗佈液,而形成塗佈層之塗佈步驟,及 (Β)上述塗佈層硬化之硬化步驟。 上述步驟(Α)中所使用之塗佈液包含:透光性微粒子 104、構成光擴散層102之透光性樹脂1〇3或形成其之樹脂 (例如’電離輻射硬化型樹脂、熱硬化型樹脂或金屬烷氧 化物)' 及視需要溶劑等其他成分。於使用紫外線硬化型 樹脂作為形成透光性樹脂103樹脂之情形時,上述塗佈液 包含光聚合起始劑(自由基聚合起始劑作為光聚合起始 劑’例如可使用:苯乙酮系光聚合起始劑、安息香系光聚 合起始劑、二苯甲酮系光聚合起始劑、9-氧硫咄〇星系光聚 合起始劑、三畊系光聚合起始劑、呤二唑系光聚合起始劑 等。又’作為光聚合起始劑,例如亦可使用:2,4,6-三曱 基笨曱醯基二苯基氧化膦、2,2,-雙(鄰氣苯基)-4,4,,5,5,-四 本基-1,2’-聯°米°坐、10-丁基-2-氣。丫 n定鲷(chloroacridone)、 2-乙基蒽醌' 二苯乙二酮、9,1 〇·菲醌、樟腦醌、苯基乙醛 酸曱自旨、二茂鈦等。光聚合起始劑之使用量通常相對於塗 佈液中所含有之樹脂1〇〇重量份為〇.5〜2〇重量份,較佳為 162612.doc •16· 201248208 1〜5重量份。再者,為將光擴散膜之光學特性及表面形狀 设為均質’塗佈液中之透光性微粒子1〇4之分散較佳為各 向同性。 上述塗佈液之於基材膜上之塗佈例如可藉由如下方法進 行·凹版印刷塗佈法、微凹版印刷塗佈法、棒式塗佈法、 刮塗法、氣刀塗佈法、接觸式塗佈法、模塗法等。於塗佈 液之塗佈時’較佳為如上所述以硬化後之光擴散層1〇2之 層厚成為10 μηι以上且20 μπι以下之方式調整塗佈層厚。 為改良塗佈液之塗佈性或改良與光擴散層1〇2之接著 性’亦可對基材膜i 〇 1之表面(光擴散層側表面)實施各種表 面處理。作為表面處理,可列舉··電暈放電處理、輝光放 電處理、酸表面處理、鹼表面處理、紫外線照射處理等。 又’亦可於基材膜上例如形成底塗層等其他層’並於該其 他層之上塗佈塗佈液。 又’為提昇本發明之偏光元件保護臈與偏光元件之接著 性,較佳為藉由各種表面處理對基材膜101之表面(與光擴 散層為相反側之表面)進行親水化。 於上述步驟(B)中使塗佈層硬化,於使用電離輻射硬化 型樹脂、熱硬化型樹脂或金屬烷氧化物作為形成透光性樹 脂103之樹脂之情形時,形成上述塗佈層、並依據需要而 進行乾燥(溶劑之去除),進而利用電離輻射之照射(使用電 離輻射硬化型樹脂之情形時)或加熱(使用熱硬化型樹脂或 金屬烧氧化物之情形時)使塗佈層硬化。作為電離轄射, 可依據塗佈液中所含之樹脂之種類而自紫外線、電子束、 162612.doc 17 201248208 近i外線、可見光、近紅外線' 紅外線' χ射線等中進行 適當選擇’於該等尹較佳為紫外線、電子纟,就操作簡便 且可獲得高能量方面而言,特佳為紫外線。 作為务外線之光源,例如可使用:低壓水銀燈' 中壓水 銀燈、高壓水錢、超高壓水銀燈、碳弧燈、金屬函素 燈、氤氣燈等。X,亦可使用:—準分子雷射、Μ準分 子雷射、準分子燈或同步加速器軌道輻射等。於該等之 中,可較佳使用I超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀 燈、氣弧、金屬函素燈β 又,作為電子束,可列舉自C〇ckcr〇ft 丨t〇n型凡德 格拉夫(Van de Graaff)型、共振變壓型、絕緣心變壓型、 直線型、高頻高壓加速器型、高周波型等各種電子束加速 器放出之具有50〜1000 keV '較佳為1〇〇〜300 keV之能量的 電子束。 偏光το件保護膜之1及H可利用例如下述所示之方法調 整為本發明中規定之範圍。首先,利用上述之材料及方法 製造偏光元件保護臈,並測定Re&H。其結果,於Κ之值 過咼之情形時,進行使表面粗糙度較大之具體而言操作光 擴散層之層厚或透光性微粒子之粒徑而使粒子於層表面露 出、或者形成凹凸等處置,於H之值過高之情形時,進行 減少透光性微粒子之添加份數、使透光性微粒子之形狀為 球狀等任一處理,或者組合該等處置,再次製造偏光元件 保護膜並測定其Rc及Η。重複上述偏光元件保護膜之製造 及其Re及Η之測定,直至成為目標尺。之值及Η之值。 162612.doc -18- 201248208 [偏光板] 本發明之偏光元件保護膜係貼合於偏光元件之表面,構 成包含偏光元件及偏光元件保護獏之偏光板。依據本發明 之偏光元件保護膜,泛白之產生得到抑制、進而因反射光 之虹不均之產生亦得到抑制、且機械強度亦優異,故而使 用其之偏光板與其同樣地成為泛白之產生得到抑制、進而 虹不均之產生得到抑制、且機械強度亦優異之偏光板。作 為偏光元件可使用公知之偏光元件。偏光元件通常包含定 向吸附有碘或二色性染料之聚乙烯醇系樹脂膜。對偏光元 件之至少一個面貼附本發明之偏光元件保護膜,構成偏光 板。可構成配置於圖像顯示元件之視認侧而使用之偏光板 及配置於责面側而使用之偏光板之任一者。例如,自視言次 側依序積層光擴散層102、基材膜101、偏光元件而配置偏 光元件保護膜及偏光元件’可構成視認側之偏光板。例 如’自視認側依序積層偏光元件、基材膜1〇1、光擴散層 1 02而配置偏光元件保護膜及偏光元件,可構成背面側之 偏光板。亦可於一個偏光元件之兩面貼合本發明之偏光元 件保護膜而構成偏光板。 [圖像顯示裝置] 使用本發明之偏光元件保護膜之偏光板與圖像顯示元件 一同構成所使用之圖像顯示裝置。此處,圖像顯示元件具 有於上下基板間填充有液晶之液晶單元,藉由施加電麼使 液晶之定向狀態變化而進行圖像之顯示之液晶面板為代表 性者。如此’具有本發明之偏光元件保護膜之圖像顯示裝 162612.doc -19· 201248208 置成為顯示畫面中之泛白、因反射光之虹不均之產生得到 抑制’且機械強度優異者。 實施例 以下,列舉實施例進而詳細說明本發明,但本發明並不 限定於該等實施例。再者,以下之例中之偏光元件保護膜 之光學特性、及透光性微粒子之重量平均粒徑之測定方法 係如下文所述。 (a) 光圖像清晰度cn之總和值1^ 使用圖像清晰度測定器(Suga試驗機(股)製造)進行上述 之尽射圖像清晰度測定試驗,並基於式(3)算出光頻梳之寬 度分別為0.5 mm、1 mm、2 mm之情形時之反射圖像清晰 度C0.5、(:丨、C2。並且’算出C0.5、C!、C2之總和值rc。 (b) 霧度值Η 使用依據JIS Κ 7136之霧度穿透率計(村上色彩技術研究 所股份有限公司製造之Haze Meter「ΗΜ-1 50」),測定總 光線穿透率Tt、及因偏光元件保護膜而擴散並穿透之擴散 光線穿透率Td,並基於式(4)算出總霧度值Η» (c) 光性微粒子之重量平均粒徑 使用利用庫爾特原理(空隙電阻法)之庫爾特粒子計數器 (Beckman Coulter公司製造)進行測定。 <實施例1> 作為實施例1之偏光元件保護膜,係使用如下光學膜, 其包含:於雙軸延伸聚對苯二曱酸乙二龍(ρΕτ,
Polyethylene terephthalate)膜(基材膜 Κ商品名:T〇ray I62612.doc -20. 201248208
Lumirror(股)製造)上具有主要包含季戊四醇四丙烯酸酯 (PETA,Pentaerythritol tetraacrylate)、異氰尿酸三烤丙酉旨 (商品名:TAIC(註冊商標))及異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI, isophorone diisocyanate)之硬塗層,且於硬塗層中含有全 氟聚醚(防污劑)、及重量平均粒徑為6 μηι之透光性微粒子 (苯乙烯、與乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA,Ethylene glycol dimethacrylate)、與曱基丙烯酸曱酯(MMA,Methyl methacrylate)之共聚物)。 <實施例2 > 作為實施例2之偏光元件保護膜,係使用如下光學膜, 其包含··於雙軸延伸聚對苯二曱酸乙二酯(PET)膜(基材 膜)(商品名:Toray Lumirror(股)製造)上具有主要包含季戊 四醇四丙烯酸酯(PETA)、及異佛爾酮二異氰酸酯(ipdi)之 硬塗層’且於硬塗層中含有重量平均粒徑為6.5 μιη之透光 性微粒子(苯乙烯、與乙二醇二甲基丙烯酸酯(EDMA)、與 曱基丙烯酸甲酯(ΜΜΑ)之共聚物)、重量平均粒徑為1 〇〇 nm之Α1粒子、及Mg凝集物。 <實施例3 > 利用分散機’混合丙稀酸系紫外線硬化型樹脂92重量份 (固形物成分100%,商品名:Light acrylate DPE-6A,共榮 社化學(股)製造)及平均粒子徑1.3 μιη(庫爾特原理)之不定 形二氧化矽8重量份(商品名:ΑΖ-204,Tosoh Silica(股)製 造)、分散劑0.24重量份(商品名:DISPERBYK1〇2,bYK_ Chemie Japan(股)製造)、沈澱防止劑〇16重量份(商品名: 162612.doc •21· 201248208 BYK411,BYK-Chemie Japan(股)製造),而獲得分散體 (A)。利用分散機於上述調配之分散體47 6重量份中混 合、搜拌光起始劑2·4重量份(商品名:IRGACURE184, Ciba Specialty Chemicals(股)製造)、甲苯25 重量份 '異丁 醇25重量份,而獲得塗佈液(B)。利用#1〇棒式塗佈機於38 μηι之聚對苯二曱酸乙二酯(pET)膜(商品名:T〇ray Lumirror(股)製造,折射率為ι.61)上塗佈塗佈液(B),並利 用300 mJ/cm2之紫外線使其硬化而形成光擴散層,獲得偏 光元件保護膜。 <比較例1> 作為比較例1之偏光元件保護膜,係使用於雙轴延伸聚 對苯二曱酸乙二酯(PET)膜(基材膜)(商品名:T〇ray Lumirror(股)製造)上具有主要包含季戊四醇四丙烯酸醋 (PETA)及三羥f基己基内酯(HDI ,Trimethyl()1 Hexyllactone)之防眩層、且於防眩層中不含透光性微粒子 之光學膜。 <比較例2 > 作為比較例2之偏光元件保護膜,係使用於雙軸延伸聚 對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(基材膜)(商品名:Toray Lumirror公司製造)上具有主要包含季戊四醇四丙稀酸醋 (PETA)及異佛爾酮二異氰酸酯(IPDI)之硬塗層、且於硬塗 層中含有重量平均粒徑為3 μηι之透光性微粒子(苯乙稀、 與乙二醇二甲基丙烯酸酯之共聚物)之光學膜。 <比較例3 > 162612.doc -22- 201248208 作為比較例3之偏光元件保護膜’係使用於雙軸延伸聚 對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(基材膜)(商品名:T〇ray Lumirror公司製造)上具有主要包含季戊四醇四丙埽酸醋 (PETA)之硬塗層、且於硬塗層中含有不定形狀之二氧化石夕 微粒子之光學膜。 (液晶顯示裝置之製成) 又,使用所獲得之實施例1〜3之偏光元件保護臈、比較 例1〜3之偏光元件保護膜製成液晶顯示裝置 > 並依照下述 之方法評價因反射光而產生之虹不均及泛白。首先,自夏 普(股)製造之液晶顯示裝置「AQUOS(註冊商標)LC-20AX5」將視認側偏光板之視認侧偏光板剝離,進而將代 替該視認側偏光板而分別貼合有實施例1〜3、比較例1〜3之 偏光元件保護膜作為視認側保護膜的偏光板與原始之偏光 板於同軸方向進行貼附,製成液晶顯示裝置。 (虹不均之評價) 使所獲得之液晶顯示裝置顯示黑色,並使螢光燈於顯示 裝置表面上反射而依照以下之基準以目視評價因反射光之 虹不均之產生·· A :虹不均幾乎看不到 B :虹不均稍微可見 C :虹不均清晰可見。 將結果示於表1中。 (泛白之評價) 使所獲得之液晶顯示裝置顯示黑色,於點亮螢光燈之室 162612.doc •23- 201248208 内依照以下之基準以目視評價顯示黑色之圖像之泛白: A :黑色密實、泛白較少 B :黑色稍微泛白 C :黑色泛白。 將結果示於表1中。 [表1]
Η (%) Rc (%) C〇.5 (%) C,(%) C2(%) 虹不均 泛白 實施例1 2.5 167 54.5 56 56.8 B B 實施例2 3.9 56 9.5 16.2 30.3 A A 實施例3 2.7 18 3.1 3.1 11.7 A A 比較例1 0.7 291 95.5 97.2 98.3 C A 比較例2 10.4 79 14.7 23.9 40.3 A C 比較例3 18.4 23 7.1 6.5 9.6 A C 如由表1可知’於反射圖像清晰度之總和值Rc滿足式 之關係、進而總霧度值Η滿足式(2)之關係之實施例1〜3之 偏光元件保護膜中,因反射光之虹不均之產生得到抑制, 並且泛白之產生得到抑制。 (試驗結果之分析) 圖2係表示描繪表1之實施例丨〜3、比較例1〜3之偏光元件 保護膜之總霧度值Η與反射圖像清晰度之總和值Rc的關係 之圖。 如圖2中所示,由比較例i〜3之偏光元件保護膜(通常之 光學膜)之總霧度值Η與反射圖像清晰度之總和值Rc的關係 之描繪點,可導出直線200之關係。另一方面,實施例1〜3 之描繪點較大地偏離了直線2〇〇。可預測若為在與直線200 之關係中’總霧度值Η與反射圖像清晰度之總和值Rc之關 162612.doc •24- 201248208 係的描繪點位於實施例1〜3之周邊區域20 1的光學膜,則可 與實施例1〜3同樣地構成因反射光之虹不均之產生得到抑 制、並且泛白之產生得到抑制之圖像顯示裝置,並導出式 (1)及式(2)之關係。 【圖式簡單說明】 圖1係表示本發明之偏光元件保護膜之較佳之例的概略 剖面圖。 圖2係表示描繪實施例1〜3及比較例1〜3之偏光元件保護 膜之總霧度值Η與反射圖像清晰度之總和值Rc的關係之 圖。 【主要元件符號說明】 100 101 102 103 104 偏光元件保護膜 基材膜 光擴散層 透光性樹脂 透光性微粒子 I62612.doc •25-

Claims (1)

  1. 201248208 七、申請專利範圍: 1. 一種偏光元件保護膜,其係具有光擴散層者,且 反射圖像清晰度測定試驗中之反射圖像清晰度cn(°/〇) 之總和值Rc滿足以下之式(1)之關係,並且總霧度值Η滿 足以下之式(2)之關係, 1 上述反射圖像清晰度測定試驗係使源自試驗片之反射 « 光之光量通過與反射光之光線轴正交、且以10 mm/min 之速度移動之寬度n(mm)之光頻梳而進行測定者, 上述反射圖像清晰度Cn(%)係於上述反射圖像清晰度 測定試驗中’於將光線軸上有上述光頻梳之穿透部分時 之反射光量之最高值設為Mn、將光線軸上有上述光頻梳 之遮光部分時之反射光量之最小值設為叫之情形時,由 下述之式(3)算出, 上述總和值Re係上述光頻梳之寬度n(mm)分別為〇 5、 I、2之情形時之反射圖像清晰度5、c丨、C2的總和 值, 〇SRcSl70 式⑴ 6 式(2) , Cn-{(Mn — mn)/(Mn + mn)} χ l 〇〇 式(3)。 • 2.如請求項l之偏光元件保護臈’其積層有基材膜、及上 述光擴散層,且 上述基材膜與上述光擴散層之折射率差為〇 〇3以上。 3.如請求項2之偏光元件保護膜,其中上述基材臈之折射 率為I · 5 9以上。 162612.doc 201248208 4.如請求項2之偏光元件保護膜,其中上述基材膜係以聚 酯系樹脂為主成分。 5_如請求項2之偏光元件保護膜,其中上述基材膜之厚度 為50 μηι以下。 6.如請求項1之偏光元件保護膜,其中上述光擴散層包含 透光性樹脂及透光性微粒子。 7·如請求項6之偏光元件保護膜,其中上述透光性微粒子 包含不定形微粒子。 162612.doc
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