TW201204535A - Non-planar stretching apparatus for producing large dimension thin films - Google Patents

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TW201204535A TW099124172A TW99124172A TW201204535A TW 201204535 A TW201204535 A TW 201204535A TW 099124172 A TW099124172 A TW 099124172A TW 99124172 A TW99124172 A TW 99124172A TW 201204535 A TW201204535 A TW 201204535A
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Shia-Chung Chen
Ping-Shun Hsu
Chia-Yen Tseng
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Univ Chung Yuan Christian
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Description

201204535 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種微孔薄膜延伸設備之技術領域, 尤指一種製程少且延伸後面積大且孔洞分佈均勻的大尺寸 薄膜非平面延伸設備。 【先前技術】 微孔薄膜是在社會需求下迅速發展的高科技產物,其 • 中氟系樹脂薄膜因其結構非常穩定且有特殊之化學性質, 在產品加工應用上已被廣泛的使用,其中就以聚四氟乙烯 (Polytertrafluoroethylene ; pTFE)薄膜應用最廣,性能最出 色。 聚四氟乙烯薄膜具有良好的抗化學特性與過濾能力, 已被廣泛地運用於環保、生物工程以及醫學領域,隨著環 保、生物以及醫學工程的發展,聚四氟乙烯薄膜的應用範 圍勢必愈來愈廣泛,多功能薄膜需求愈來愈高的情況下, 開發薄膜技術的能力更需要進—步地提升。 &般而s ’高分子薄膜材料具有易加工但結構難控制 f /_ .1 丄一 * «V忖澤5 ,
異膜性能的關鍵。 對聚四氟λ衫 般高分子薄臈加工方式成膜,因此高 操作因子控制是獲得穩定膜結構和優 四氟乙烯薄膜而言 孔的孔徑控制得愈小, 物擇性愈高,相料I山 相對地也增加了薄 而言,若在薄膜製程可將薄膜之微 孔徑分布率愈大,則可過濾的標的 了薄膜的使用性與價值。 201204535 在目刖的薄膜製程技術上’單向延伸膜的製程可使微 孔之孔徑降低至0.1±0.02um,但在製膜設備的發展上,各 種薄膜製程的設備發展各有其限制,經過數十年的發展, 目前單向延伸薄膜之寬度只約3〇〇 mm,超過3〇〇麵以上的 寬度只能以雙向延伸膜之製程來製作。 如我國專利公告第1247665號「雙軸延伸飽和聚酯系 薄膜及其製造方法,積層體及其製造方法」發明專利,以 及我國專利公開第200736312號「雙軸定向之微孔薄膜」 發明專利申請案,於前揭之各專利中均已揭露有關雙向延 伸薄膜之技術。 雙向延伸薄膜雖然具有較大的寬度,但其膜厚度太薄 使其支樓性不足,不利於後續過濾設備之製程運用,因此 雙向延伸薄臈通常是與較厚的多孔性支撐膜熱壓結合 對稱性薄膜來作運用。 非對稱性薄膜常見的製法是先製造多孔性支樓膜,再 將雙向延伸薄膜與多孔性支擇膜利用加熱加壓之滾輪壓製 成非對稱性薄膜,使其在表面形成一層非常薄的密緻皮 層。非對稱性薄膜的製造技術在製膜後需再二次加工塗 佈,因此在製程上需考濾塗佈層的接著與成型性,而在1 備的設計上’也需額外增加塗佈與檢測設備,其所消耗^ 成本與時間是非常可觀的,因此非對稱性薄臈的 士 也相對較《。 化攻本 而雙向延伸薄膜仍是目前大面積薄臈市場之使用 流,但雙向延伸製程中之橫向延伸會使得薄膜之平 與孔隙均增大,其孔洞大小不易降低,且受限於橫向 201204535 膜孔分佈不易均勻,若運用於更微小標的物 之過慮將遭遇瓶頸。 佑;= =雙向延伸核之製造成本高、孔徑較大且孔洞分 佈不均勻的問題仍有再加以改進的必要。 =’如何保留單向延伸膜所具有孔徑小之優點,並 孔祠分佈均勻性以及膜之面積便成為本
【發明内容】 有鑑於此,本發明之主要目的在於解決上述的問題而 ^種面積大、製程少且孔洞分佈均勻之大尺寸薄膜的 早向延伸設備。 為達前述目的’本發明之大尺寸薄膜非平面延伸設備 係由輸送機構與—抵壓機構所組成,該輸送機構用 以夾持著薄膜的兩側’且將薄膜展開地沿預定路徑輸送, 而該㈣機構至少具有—非平面形式之抵壓面,且該抵壓 機構係設置於錄送機構之輸送路針,俾㈣抵壓面麼 抵由該輸送機構所輸送之薄膜,使該薄膜被非平面形式之 抵壓面抵壓而延伸。 藉由非平面之曲面形式的抵壓面來抵壓薄膜,使得被 輸送機構輸送通過的薄膜能均勻地受力而被雙向延伸,讓 薄膜上的孔洞分佈均勻,並且使薄膜的寬度增加,而能大 幅地提高製成薄膜的過濾面積來增加過濾效益。 於一較佳實施例中,該抵壓面係為一曲面。 於一較佳實施例中,該抵壓面係形成於一抵壓件的表 201204535 面 離,佳實施例中,該㈣件係為-輪狀物之結構形 I,或者為一塊狀物之結構形態。 々 離,例中’該抵壓件係為一可位移之結構形 〜該抵壓面與該薄膜之接觸面積。 抿壓件均Γ= 抵壓機構具有複個抵壓件,各 抵壓面’各抵壓件之外徑尺寸不相同,且各抵 輸送:尺寸由小至大順序排列,俾使該輸送機構所 相曲繞經過各抵壓件,而被各抵壓件之抵壓面逐 穿^一 ί佳實施例中,該輸送機構具有兩排間隔排列之 滾:二if▲组分別由兩個對合的滾輪組成,而可由各 排使該薄__〗被- 二:,實施例中’該抵壓機構具有加熱之功能,俾 ’ 面加熱’而可藉由該抵壓面加熱薄膜使其軟 化,以利於延伸。 嫵μ,車交佳實施例中,進一步設置有一加熱箱,該抵壓 ,,置於該加熱箱中,且該輸送機構係穿越該加熱 相,使薄膜在加熱箱中被加熱軟化,再由該抵麗面抵壓而 延伸。 - 以下,實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優 办〔、内谷足以使任何熟習相關技藝者了解本發明之技術 内谷並據以實施,且根據本說明書所揭露之内容、申請專 201204535 ==優:何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明 【實施方式】 兹配合圖式將本發明較佳實施例詳細說明如下。 請參考第!圖至第4圖,第旧 示意圖;第2圖係本發明之““ 土 體…構 叫* '九+面結構示意圖;第3圖本發 明之^用狀態示意圖i第4圖係本發明之薄膜延伸示意圖。 發狀大尺寸相料面延伸設備主要係由 機構1與一抵壓機構2所组 外w、r紅 将丨泛 所組成。該輸送機構1是用以夾持 /、…胃"且料膜展開地 而該抵壓機構2具有一非平铷圮別進 & 十面升/式之抵壓面,且該抵壓機 構2係設置於該輸送機構丨 微 m , 再1之輸达路徑中,俾以該抵壓面 壓抵由該輸送機構1所一 面形式之抵壓面抵壓而膜3,使該薄膜3被非平
輪^^本\該輪送機構1具有兩排間隔排列之滾 輪、,且10 ’各滾輪組1 〇分为丨士二μ μ A 1Λ ^ W由兩個對合的滚輪11組成,而 了由各滾輪組10的兩個滾^ ^ , VI?, .. U 农輪11夾持者該薄膜3,使該薄 膜3兩側力別被-顧如1() 布該抵壓機構2具有t $ 0 91 ^ i 輪狀物結構形態的抵壓件21, 且5亥抵壓件21的表面形屮 壓件21係設置㈣輪送^7面形式之抵壓面22,該抵 面22突出於該薄膜3之^二之輸送路徑中,且使該抵壓 加熱的功能,俾以對叫’並且該抵壓機構2具有 加熱功能係可將該抵壓面^22加熱。於本實施例中,該 叫々加熱至約150〜2501,使接觸 201204535 該抵壓面22之薄膜3被加熱而軟化,而可利於薄膜3的延 伸0 請參閱第3圖’當該輸送機構1夾持著薄膜3輸送前 進時會通過突出於該薄膜3輸送路徑上的抵壓件21之抵壓 面22 ’而可由曲面狀之抵壓面22抵撐薄膜3,使薄膜3被 抵壓而延伸成具有較大寬度之薄膜3A。 請配合參閱第4圖,由於本發明之抵壓面22係為非平 面之曲面形式,因此該抵壓面22抵壓薄膜3時會產生均勻 的壓力P而將薄膜3之寬度擴延,由於該抵壓面22抵壓薄 膜3之壓力均勻分佈,而且曲面形式之抵壓面可以對薄膜 3同時作雙向的擴延,因此所延伸成型之薄膜3A上的孔洞 分佈均勻。 經實測’以本發明之設備對聚四氟乙烯薄膜作延伸, 約可將薄膜的寬度延伸至500麵,與習知單向延伸膜3〇〇 麵之寬度相較’寬度明顯提升了許多,可以製備500 mmx500 麵以上過濾面積的薄膜,而可大幅提過濾面積來增加過滤 效益。 並且使用本發明之設備只需單一的延伸製程即可完 成,如此可有效地降低製造成本。 請再參閱第5圖’其係本發明第二實施例之平面結構 示意圖。其中該抵壓件41係為一可位移之結構形態,俾藉 由位移而變化該抵壓面42突出該薄膜輸送路徑之高度,進 而改變與薄膜之接觸面積。此一結構形態可供調整對薄膜 延伸之程度’並且達到與前述第一實施例相同之功效。 再請參閱第6圖’其係本發明第三實施例之平面結構 201204535 。5中°亥抵壓機構5具有三個抵壓件51、53、55, 5卜53、55之外狀物之結構形態,各抵壓件 孫π寸不相同,且各抵壓件51、53、55 送:‘3依序1、至大順序排列’俾使該輪送機構1所輸 度的薄膜3B。此可將薄膜3逐步擴柄伸成具有較大寬
、青^閱,7圖與第8圖’第7圖係本發明第四實施例 圖;第8圖係本發明第四實施例之俯視結 ,抵=。6;、Γ該抵壓件61係為一塊狀物之結構形態, :二, 之功效。 之結構亦可相與前述第—實施例相同 構干第9圖’其係本發明第五實施例之平面結 :不意圖’其中進-步設置有-加熱箱7,該抵壓機構2 再二壓機 =被加熱至15°〜贼而軟化, 冉由孩抵[機構2之抵壓面22 前述第-實施例相同之功效。 11達到與 技二亡所Γ乃僅記載本發明為呈現解決問題所採用的 技術手段之較佳實施方式或實施例 :饰用的 發明專利實施之範圍。即凡與本發明專利限定本 二所做的均等變化與二,= 201204535 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明之立體結構示意圖; 第2圖係本發明之平面結構示意圖; 第3圖本發明之使用狀態示意圖; 第4圖係本發明之薄膜延伸示意圖; 第5圖係本發明第二實施例之平面結構示意圖; 第6圖係本發明第三實施例之平面結構示意圖; 第7圖係本發明第四實施例之平面結構示意圖; 第8圖係本發明第四實施例之俯視結構示意圖;及 第9圖係本發明第五實施例之平面結構示意圖。 【主要元件符號說明】 滾輪組10 抵壓機構2 抵壓面22 薄膜3A 抵壓件41 抵壓機構5 抵壓面52、54、56 抵壓件61 加熱箱7 輸送機構1 滾輪11 抵壓件21 薄膜3 壓力P 抵壓面42 抵壓件51、53、55 薄膜3B 抵壓面62

Claims (1)

  1. 201204535 七、申請專利範圍: 1、 一種大尺寸薄膜非平面延伸設備,其包括: 一輸送機構,用以夾持著薄膜的兩側且將薄膜展開 地沿預定路徑輸送;及
    一抵壓機構,其至少具有一非平面形式之抵壓面, 且該抵壓機構係設置於該輸送機構之輸送路徑中,俾以 該抵壓面壓抵由該輪送機構所輸送之薄膜,使該薄膜被 非平面形式之抵壓面抵壓而延伸。 2、 依申請專利範圍第1項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備’其中該抵壓面係為一曲面。 3、 依申請專利範圍第1項或第2項所述之大尺寸薄膜非平 面延伸設備’其中該抵壓面係形成於一抵壓件的表面。 依申明專利範圍第3項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備’其中該抵壓件係為一輪狀物之結構形態。 5、 依申請專利範圍第3項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備,其中該抵壓件係為一塊狀物之結構形態。 6、 依申請專利範圍第3項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備,其中該抵壓件係為一可位移之結構形態,俾藉由位 移而變化該抵壓面與該薄膜之接觸面積。 7、 依申請專利範圍第1項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備,其中該抵壓機構具有複個抵壓件,各抵壓件均為一 輪狀物之結_態,而於各抵齡之外表面分別形成一 $壓面’各抵麗件之外徑尺寸不相同,且各抵壓件係依 ,徑尺寸由小至大順序排列,俾使該輸送機構所輸送之 薄膜曲繞於經過各抵壓件。 201204535 8、 依申請專利範圍第1項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備,其中該輸送機構具有兩排間隔排列之滾輪組,各滾 輪組分別由兩個對合的滾輪組成,而可由各滾輪組的兩 個滚輪夾持著該薄膜,使該薄膜兩側分別被一排滾輪組 夾持著輸送前進。 9、 依申請專利範圍第1項所述之大尺寸薄膜非平面延伸設 備,其中該抵壓機構具有加熱之功能,用以加熱該抵壓 面,使接觸該抵壓面之薄膜被加熱軟化。 10、 依申請專利範圍第1項所述之大尺寸薄膜非平面延伸 設備,其中進一步設置有一加熱箱,該抵壓機構係設置 於該加熱箱中,且該輸送機構係穿越該加熱箱,使薄膜 在該加熱箱中被加熱軟化。 12
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