TW201142266A - Aerosol particle sampling device - Google Patents

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201142266 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明有關於霧劑粒子抽樣裝置。 【先前技術】 測定霧劑粒子之粒徑分布之際，需要從霧劑粒子流動 之管中抽樣霧劑粒子送到粒經測定襄置。 已往之霧劑粒子抽樣裝置，已周知者例如日本專利特 開2003-28765號公報（專利文獻1)、特開平8〜43275號公 報（引用文獻2)、特開昭63-298133號公報（專利文獻3) 等所記載者。 日本專利特開2GG3-28765號公報之霧子抽 置中，來自發動機（23)之排氣管（24)之出σ係導入至稀釋 用空氣（Α)流動之稀釋用管道（25)之中心。然後，在稀釋 管道（25)處，藉由稀釋用空氣（Α)稀釋之來自排氣管 之排氣氣體（G)’在稀釋用管路（25)中，經由插入在較排1 管（24)之出口為下游之中心處之抽樣路徑（29)進行抽樣礼 又，日本專利特開平8_43275號公報之霧劑粒子抽樣 裝置中，在稀釋空氣所流動之稀釋通道（5)之中心，導入來 自排氣管（20)之抽氣管⑷之出口。然後，在稀釋通道⑸ 中’較抽氣管（4)之出口為下游之中心，設置排氣氣體抽 管（43)之入口。 ’ 日本專利特開昭63—2圆號公報之霧劑粒子抽樣裝 置中，含有粒子之稀釋空氣所流動之稀釋通道之中心， 導入有排氣氣體導人管⑵之出口。然後，在稀釋通道⑴ 322992 4 201142266 中’較之排氣氣體導入管（2)之出口為下游之中心’設置稀 釋排氣氣體導管（4)之入口，更加之’在稀釋通道（1)之出 口處δ又置疋谷量抽樣裝置（⑺的^以v〇iume sampier)(g)。 [先前技術文獻] [專利文獻] 專利文獻1 :日本特開2003-28765號公報 專利文獻2 :日本特開平8-43275號公報 專利文獻3 :日本特開昭63-298133號公報 【發明内容】 (發明擬解決之課題） ^如同上述構造之日本專利特開號公報中 所記載之霧劑粒子抽樣裝置中，從排㈣⑽之出口排出 =稀釋用空巧）流動之稀釋用管道（25)之中心之排氣氣 在稀釋用s道（25)中，藉插入於較排氣管（24)之出口 為下游之中"之抽樣路徑⑽抽樣為止之間，經流動於稀 釋用管道（25)之稀釋Μ氣⑴所_。 ^ 、如二μ^工造之日本專利特開平8-43275號公報中所 °己載之二it链抽樣裴置中，藉由抽取管⑷從排氣管(20) ^㈣在鋪釋空氣所流動之稀釋通道⑸之中心之排 :::游之中心:道中，藉由插入於較抽氣管⑷之出 於稀釋、:、f排氣氣體純管(43)所抽樣為止之間， 經流動於_通道（5)<_空 如阊上述構造>R + * 記載之獅子插樣;tt利特開昭63,8133號公報所 衮置中，從排氣氣體導入管（2)之出口 322992 5 201142266 =^"動之稀釋通道⑴之中心之排氣氣體，在 稀釋通道(1)之出口之定容量抽樣農置⑻ 間’經流動於稀釋通道⑴之稀触氣所稀釋。· 已往之三種霧劑粒子抽樣裝置之各個構造中，排 ^體中之霧劑粒子，其粒_大、f量越大，越不會順 者^氣之㈣在抽樣路彳t⑽之[字處或職氣體抽 樣官（43)之L字處損失（滯留）粒子。這是由於對於氣流之 粒子之移動速度及移動方向之差距變大所造成。另外，粒 子也朝向稀釋用管道（25)(參照特開2003-28765號公報） 或稀釋通道（5)(參照特開平8-43275號公報）或稀釋通道 (1)(參照特開昭63-298133號公報）之内周面擠壓而跟内 周面之間產生摩擦力之影響以致移動速度降低所造成。 因此，特開2003-28765號公報中所記載之霧劑粒子抽 樣裝置中，在豨釋用管道（25)中，從插入於較排氣管（24) 之出口為下游之中心之抽樣路徑（29)所抽樣而得之排氣氣 體之霧劑粒子之粒徑分布，異於從排氣管（24)排出於稀釋 用空氣（A)流動之稀釋用管道（25)之中心即刻之排氣氣體 申之霧劑粒子之粒徑分布。 又，特開爭8-43275號公報中所記載之霧劑粒子抽樣 裝置中，在稀釋通道（5)中插入較抽氣管（4)之出口為下游 之中心之排氣氣體抽樣管（43)所抽樣而得之排氣氣體中之 霧劑粒子之粒徑分布，也異於從排氣管（20)經由抽氣管 排出到稀釋空氣流動之稀釋通道（5)之中心即刻之排氣氣 體中之霧劑粒子之粒徑分布。 322992 6 201142266 加之，特開昭63-298133號公報中所記載之霧劑粒子 抽樣裝置中，從稀釋通道（1)之出口之定容量抽樣裝置（幻 所抽樣而得之排氣氣體中之霧劑粒子之粒徑分布，是異於 從排氣氣體導人管⑵之出口排出到稀釋空氣流動之稀釋 通道（1)之中^即刻之排氣氣體中之霧劑粒子之粒役分布。 本發明乃在上述課題存在下進行，本發明之目的在提 供備有排出滅氣體之抽樣管；包含容納從抽樣管排出之 插樣氣體之抽樣氣體容納㈣之裝置主體；供應補充氣體 於裳置主财之抽樣氣體容納空間，在該柚樣氣體容納空 間混合補充氣體於域氣體之補錢體供應器；以及之後 將裝置主體之抽樣氣體容納空間中之至少含有抽樣氣體之 測定氣體排出至抽樣㈣容納空間外部之測定氣體排出管 =裝置中，提供能使經由抽樣管導入至抽樣 布I::Β之抽樣氣體中之各種粒徑之霧劑粒子之分 霧劑粒==樣即刻前之柚樣氣體中之各種粒徑之 』祖于77布為相同之霧練子抽樣裝 (解決課題之途徑） 置備=2:明之上述目的’本發明之霧劑粒子抽樣裝 樣==::Γ包含容納從抽樣管排出抽 裴置主體之拙Μ 裝置主體；供應補充氣體至 :置主體之抽樣氣體容納空間，並 至 中混合補充氣體於乜梯广蝴 僳虱體各納空間 將農置主體之插樣氣補充氣體供應器；以及之後 至抽樣乳體谷納空間外部之測定氣體排出 322992 7 201142266 管。 據此，該霧劑粒子抽樣裝置之特徵為： 上述抽樣管係具有一端部及另一端部，以及分別開口 於一端部之端及另一端部之端而從一端部之端延伸到另一 端部之端為止之貫通路徑，經由一端部之端之開口，含有 各種粒徑之霧劑粒子之抽樣氣體導入至貫通路徑中，再經 由另一端部之端之開口從貫通路徑排出抽樣氣體； 上述裝置主體中之上述抽樣氣體容納空間係具有抽樣 管之另一端部所連接之第1端部以及抽樣管之另一端部之 延伸方向中位於較抽樣管之另一端部之端為遠離之位置之 第2端部，將抽樣管之另一端部之端之開口所排出之抽樣 氣體予以容納，在規範抽樣氣體容納空間之内表面中，對 應於第1端部之第1端部對應領域係在抽樣管之另一端部 之外周面之間，經由所定間隙包圍上述另一端部之外周面； 上述補充氣體供應器係連接在裝置主體之抽樣氣體容 納空間之第1端部，經由抽樣管之另一端部之外周面和裝 置主體中之抽樣氣體容納空間之内表面之第1端部對應領 域之間之上述間隙，選擇性地供應補充氣體至抽樣氣體容 納空間，在抽樣氣體容納空間中，於第1端部及第2端部 之間，選擇性地混合補充氣體在抽樣氣體中； 上述測定氣體排出管係具有一端部，另一端部以及分 別在一端部之端和另一端部之端設有開口且從一端部之端 延伸至另一端部之端之貫通路徑，一端部連接在裝置主體 之抽樣氣體容納空間之第2端部，另一端部從裝置主體之 8 322992 201142266 抽樣氣體容納空間之第2端部 端之開口，將裝置主體之 面’經由—端部之 抽樣氣體之測定氣體導人貫通路徑=納^中之至少含有 之開口，從貫通路徑將測定氣體；出5,由另一端部之端 之外部’-端部之外周面係在財括樣氣體容納空間 表面，以對應於第2端部之第2 ，虱體容納空間之内 間隙包圍而成； 。卩對應領域經由所定之 $饮牡衷罝主 第2端部，經由;収氣 樣㈣容納空間之 主趙中之抽樣氣體容納空間之二m周面及裝置 之間之上，將抽樣㈣容=部對應領域 排出之氣體選擇性排出管。 間中之軋體選擇性地 (發明之效果） 在構造為其特徵之本發日月之霧練子抽樣裝置， 在抽樣S之另一端部之端，經由抽 有各種粒徑之霧劑粒子之抽樣氣體導入裝置之= :空間。在抽樣管之貫通路徑移動中之抽= 之各種粒徑之_粒子，由於粒徑之不⑽產生慣性力之 差異’粒子之移動速度及移動方向對於空氣的移動速度及 移動方向也產生差異’抽樣即刻前之抽樣氣體跟抽樣氣體 中所含有各種粒徑之霧劑粒子之分布有所不同。然而，藉 由導入其内杈大於抽樣管之内徑之抽樣氣體容納空間，抽 樣氣體中之各種粒徑之霧劑粒子對於空氣流動之移動速度 或移動方向之差異實質上消失，而各種粒徑之霧劑粒子之 9 322992 201142266 分布，和抽樣即刻前之抽樣氣體中之粒子分布實質上相同。 繼之，裝置主體中之抽樣氣體容納空間中之抽樣氣體， 在抽樣氣體容納空間之第2端部，經由測定氣體排出管之 一端部之端之開口，作為測定氣體而導入測定氣體排出管 之貫通路徑中，再經由測定氣體排出管之另一端部之端之 開口，從上述貫通路徑排出。 抽樣氣體容納空間之第2端部之對測定氣體排出管之 一端部之作為測定氣體之抽樣氣體之導入量相比較而言， 在抽樣氣體容納空間之第1端部之從抽樣管之另一端部之 抽樣氣體之排出量較少時，可由補充氣體供應器經由抽樣 管之另一端部之外周面及裝置主體中之抽樣氣體容納空間 之内表面之第1端部對應領域之間之間隙，選擇性地供應 補充氣體到抽樣氣體容納空間，混合補充氣體於抽樣氣體， 在抽樣氣體容納空間之第2端部，經由測定氣體排出管之 一端部之端之開口，提供跟導入測定氣體排出管之貫通路 徑中相同量之測定氣體。 抽樣氣體容納空間之第2端部之對測定氣體排出管之 一端部之作為測定氣體之抽樣氣體之導入量相比較而言， 在抽樣氣體容納空間之第1端部之從抽樣管之另一端部之 抽樣氣體之排出量較多時，經由測定氣體排出管之一端部 之外周面及裝置主體中之抽樣氣體容納空間之内周面之第 2端部對應領域之間之間隙，選擇性地藉氣體選擇性排出 管排出抽樣氣體容納空間中之氣體，而在抽樣氣體容納空 間之第2端部，提供經由測定氣體排出管之一端部之端之 10 322992 201142266 開口導入測定氣體排出管之貫通路徑中相同量之測定氣 體。 • 從補充氣體補充器供應補充氣體到抽樣氣體容納空間 中時，或從抽樣氣體容納空間中藉由氣體選擇性排出管排 出氣體時，在抽樣氣體容納空間之第1端部，於包圍抽樣 管之外周面之間隙，或在抽樣氣體容納空間之第2端部， 於包圍測疋氣體排出管之一端部之間隙，進行供應上述補 充氣體，或排出插樣氣體容納空間中之上述氣體，所以在 抽樣氣體容納空間’第1端部及第2端部之間之抽樣氣體 之粒子分布不會產生很大變化，在抽樣氣體容納空間之第 2端部’經由測定氣體排出管之一端部之端之開口，導入 測定氣體排出管之貫通路徑中之測定氣體中之抽樣氣體之 粒子布分也穩定。 因此，依據本發明之霧劑粒子抽樣裝置，經由抽樣管 導入抽，氣體容納空間中之抽樣氣體中的各種粒徑之霧劑 粒子之刀布’可使其與經由抽樣管抽樣即刻前之抽樣氣體 中之各種粒徑之霧劑粒子之分布相同。 【實施方式】 (實施發明之途徑） 以下就本發明之實施形態之一之霧劑粒子抽樣裝置 (10)參照第1圖所示說明之。 霧劑粒子抽樣裝置（10)係備有抽樣管（⑵，該抽樣管 (12)具備-端部（12a)，另一端部⑽），以及在—端部⑽ 之端和另1部U2b)之端分別開口，且從一端部（i2a)之 322992 11 201142266 端至另一端部（12b)之端延伸之貫通路徑（12c)。 抽樣管（12)之一端部（12a)之端之開口係連接在含有 各種粒徑之霧劑粒子之抽樣氣體（SK)之供應源（即抽樣氣 體供應源）（14)。 該抽樣氣體供應源（14)可由所欲空間之所欲位置以所 欲時間，經由抽樣管（12)之一端部（12a)之端之開口導入所 欲量之抽樣氣體（SK)於貫通路徑（12c)中。該抽樣氣體供應 源（14)係為周知。 抽樣管（12)由不致於使導入貫通路徑（丨2c)中之抽樣 氣體（SK)變質或被吸收之材料，例如黃銅或不銹鋼 (Stainless)或紹合金（aluminum alloy)所構成。 導入抽樣管（12)之貫通路徑（12c)中之抽樣氣體（SK)， 經由抽樣管〇2)之貫通路徑（12c)經由抽樣管（12)之另一 端部（12b)之端之開口而排出。 霧劑粒子抽樣装置（10)又備有裝置主體（18)，該裝置 主體（18)含有抽樣氣體容納 空間（16)，該抽樣氣體容納空 間（16)具有抽樣管（12)之另一端部（12b)經由氣密構造所 連接之第1端部（16a)及抽樣管（12)之另一端部（12b)之延 伸方向中位置在較抽樣管（12)之另一端部（12b)之端為遠 f之第2端部（16b)。該抽樣氣體容納空間（16)係在第1 端部（16a)及第2端部（16b)之間備有中間部（16c)，容納從 抽樣管（12)之另一端部（12b)之端之開口所排出之抽樣 體(SK)。 在裝置主體（18)中，規範抽樣氣體容納空間（16)之内 12 322992 201142266 - 表面，其對應於抽樣氣體容納空間（16)之第1端部（16a) . 之第1端部對應領域係在抽樣管（12)之另一端部（12b)之 . 外周面之間，經由所定間隙（G1)包圍上述另一端部（1 gb)之 外周面而成。 該實施形態中，上述氣密構造係含有抽樣管（12)之一 端部（12a)和另一端部（12b)之間所形成之外法蘭（〇uter flange)(12d)，同時也包含由具有插通抽樣管（丨2)之一端 部（12a)之中央開口之冠狀之第1法蘭固定構件（丨北）。 上述氣密構造進一步包含’於裝置主體（18)中，包圍 抽樣氣體容納空間（16)之第1端部（16a)之第！端構件（18a) 中’抽樣管（12)之另一端部（12b)在抽樣氣體容納空間（16) 之第1端部（16a)形成有連接性開口之外端面，以包圍上述 開口而配置之例如0-環（Ο-ring)之周知之密封構件（sm)。 第1法蘭固定構件（18b)係在裝置主體（18)之第i端構 件（18a)之外周面，安襞於鄰接上述外端面之位置而藉由 擠壓在抽樣管（12)之外法蘭（12d)在裝置主體（18)之第\ 端部（18a)之外端面之密封構件（SM)，其結果在抽樣管（12) 之另-端部⑽)和裳置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16) 之第1端部（16a)之間，提供連續之氣密狀態。 另外，霧劑粒子抽樣裝置⑽也備有連接於裝置主體 (18)之抽樣氣體容納空間（16)之第i端部（1⑻之補充氣 體供應管（20)。補充氣體供應管（2〇)之外端，連接在補充 氣體之供應源（即補充氣體供應源），本實施形態中指清淨 空氣之供應源（22)。該補充氣體供應源（22)亦為周知。例 322992 13 201142266 如在氣動泵（pneumatic pump)之出口連接質流調控器 (mass fl〇w controlier) ’在質流調控器之出口安裝高效 率空氣粒子（HEPA)過濾器（high efficiency particilate air-filter)，就能提供補充氣體供應源（22)。補充氣體供 應管（20)將由補充氣體供應源（22)所供應之補充氣體（HK) 經由在抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面和裝置主體 (18 )之抽樣氣體谷納空間（16 )之内表面之第1端部對應領 域之間之上述間隙（G1)，供應到抽樣氣體容納空間（16)。 補充氣體供應管（20)係由不使補充氣體（HK)變質或被 吸收之材料，例如黃銅、不銹鋼或鈒合金所形成。 裝置主體（18)也由不使導入抽樣氣體容納空間（丨6)中 之抽樣氣體（SK)及補充氣體（HK)變質或被吸收之材料，例 如黃鋼或不銹鋼或鋁合金所形成。 供應到抽樣氣體容納空間（16)之補充氣體（HK) ，可以 在抽樣氣體容納空間（16)之第i端部（16a)，將經由抽樣管 (12)之貫通路徑（12c)供應到另一端部（12b)之端之開口之 抽樣氣體（sk)，於抽樣氣體容納空間（16)之第i端部（16a) 和第2端部（12b)之間之中間部分（16c)加以稀釋之。 霧劑粒子抽樣裝置（10)又備有測定氣體排出管（24)， 該測定氣體排出管（24)具有-端部⑽），另一端部⑽）， 以及分別開口於—端部（24a)之端及另—端部（24b)，而從 一端部（24a)之端延伸到另一端部（24b)之端之貫通路徑 (24c)。測定氣體排出管⑽之一端部（24&)經由氣密構造 連接在裝置主體（16)之抽樣氣體容納空間（16)之第2端部 322992 14 201142266 (16b)，另一端部（24b)係從裝置主體（18)之抽樣氣體容納 空間（16)之第2端部（16b)向外突出。 測定氣體排出管（24)係將裝置主體（18)之抽樣氣體容 納空間（16)之第1端部（16a)和第2端部（12b)之間之中間 部分（16c)之抽樣氣體（SK)或補充氣體（HK)稀釋成為所欲 密度之至少含有抽樣氣體（SK)之測定氣體（MK)，經由一端 部（24a)之端之開口導入貫通路徑（24c)中，經由另一端部 (24b)之端之開口，從貫通路徑（24c)排出到抽樣氣體容納 空間（16)之外部。 測定氣體排出管（24)之另一端部（24b)係連接於可測 定來自抽樣氣體容納空間（16)之中間部（16c)之測定氣體 (Μ K )中所含各種粒徑之霧劑粒子之粒徑或個數用之周知之 粒徑測定器（26)。 裝置主體（18)中，規範抽樣氣體容納空間（16)之内表 面係經由對應於抽樣氣體容納空間（16)之第2端部（⑽ 之第2端部對應領域’與測定氣體排出管⑽之一端部 (24a)之外周面之間’經由所定間隙㈣包圍上述一端部 (24a)之外周面。 該貫施形態中 ^ — ’"乳在、構造係含有在測定氣體排出 二) = 和另一端部⑽)之間形成之外法蘭 測定氣體排出管⑽之另-端部⑽ 具有央開口之冠狀之第2法_定構件（18d)。 提二Γ 進一步包含’在裝置主體(18)之包圍抽 心間⑽之中間部（W)及第2端部⑽)之第 322992 15 201142266 2端構件（18c)中，測定氣體排出管⑽之一端部（24a)為 連接抽樣氣體容納空間（16)之第2端部（16c)而形成有開 口之外端面’配置有包圍上述開口之例如〇一環之周知之密 封構件（SM)。 第2法蘭固定構件（18d)係在裂置主體（⑻之第2端構 件（18c)之外周面’藉由安裝於鄰接上述外端面之位置，擠 壓在測定氣體排出管（24)之外法蘭（24d)於裝置主體（⑻ 之第2端部⑽）之外端面之料構件⑽，其結果在測定 氣體排出管（24)之另-端部⑽）和裝置主體（⑻之抽樣 氣體容納”⑽之第2端部（⑽）之間提供連續之氣密 狀態。 另外，霧劑粒子抽樣裝置（1〇)還備有連接於裝置主體 之抽樣氣體容納空間（16)之第2端部（16b)之氣體選擇性 j出管（28)。氣體選擇性排出管（28)係經由測定氣體排出 官（24)之一端部（24a)之外周面及裝置主體（18)之抽樣氣 體容納空間⑽之内周面之第2端部對應領域之間之上述 間隙（G2)，而可將抽樣氣體容納空間（16)中之氣體排出。 氣體選擇性排出管（28)之外端連接在周知之氣體選擇性回 收器（30)。該周知之氣體選擇性回收器（3〇)在氣體選擇性 排出管（28)之外端，經由HEPA濾器及質流調控器，連接於 氣動泵之入口而提供，該氣動泵可與上述補充氣體供應源 頭（22)所述氣動泵共通。 氣體選擇性排出管（28)由不致於使經過之氣體變質或 被吸收之材料，例如黃鋼或不銹鋼或鋁合金而形成。 322992 16 201142266 - 此實施形態中，抽樣管（12)之另一端部（〗 a 、 U2b)之端（12e)， '可使抽樣管（12)之另—端部⑽）之外周面和 . 之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第丨 間之所定間隙（G1)中，以層狀流動到上迷另貝域之 之端的補充氣體（HK)，能沿著抽樣氣體容納空 表面以層狀流動到抽樣氣體容納空間（16) 之 而形成。 ）之弟2端部⑽) 因此’此實施形態中，如同第1圖中斛一 ”不’抽樣管（12) 之另-端部(12b)之端(12e)之近旁之貫通路徑 分，隨著接近端（12e)慢慢擴大其口徑而在端（12e)成跟 另一端部（12b)之外周面一致之錐形狀。其結果，在=== (12)之另一端部（12b)之端（12e)，從貫通路徑（12)導=二 樣氣體容納空間（16)中之抽樣氣體（Sk)不在端（12幻^生 旋渦。 此實施形態中，測定氣體排出管（24)之—端部（24&) 之端（24e)，以不致於使裝置主體（18)之抽樣氣體容納=間 (16)中之氣體產生旋渦，而能導入稀釋抽樣氣體排出管（24) 之一端部（24a)之外周面和裝置主體（18)之抽樣氣體容納 空間（16)之内表面之第2端部對應領域之間之間隙狀 而形成。 因此’此實施形態中，如同第1圖中所示，測定氣體 排出營（24)之一端部（24a)之端（24e)之近旁之貫通路秤 (24c)之部分，隨著接近端（24e)慢慢擴大其口徑而在端 (12e)成為跟一端部（24a)之外周面一致之錐形狀。 322992 17 201142266 其結果’從第1端部（16a)沿著抽樣氣體容納空間（16) 之内表面’朝向抽樣氣體容納空間（16)之第2端部（16b) 以層狀流動之補充氡體（HK)，能在測定氣體排出管（24)之 一端部（24a)之端（24e)之貫通路徑（24c)不產生旋渦，而導 入到稀釋抽樣氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周面和 裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第2端 部對應領域之間之間隙（G2)。 此實施形態中’裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16) 之第1端部（16a)，第2端部（16b)，以及中間部分（16c) 分別具有互相相同之内徑（D1)，跟抽樣管（12)之另一端部 (12b)及測定氣體排出管（24)之一端部（24a)相互成為同心 狀而配置之。 又，此實施形態中，抽樣管（12)之另一端部（12b)之外 徑（D2)及内徑（D3)，以及測定氣體排出管（24)之一端部（24&) 之外徑（D2)及内徑（D3)為相同，因此，抽樣管〇2)之另一端 部（12b)和測定氣體排出管（24)之一端部（24a)，在裝置主 體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之第1端部（iga)及第2 端部（16b)，互相成為同心狀配置而成。 然後，抽樣氣體容納空間（16)之内徑（D1)及抽樣管（12) 和測定氣體排出管（24)之各個外徑（D2)及内徑（D3)，分別 在抽樣氣體容納空間（16)之剖面面積（S1)及抽樣管（12)及 測定乳體排出管（24)，分別以外周面所圍成之剖面面積 (S2)，以及分別在抽樣管（12)及測定氣體排出管（24)，分 另J以貫通路徑（丨2C)或（24c)之内周面所圍成之剖面面積 322992 18 201142266 (S3)之間’能成為si-S2=Ql/Q3 . S3之相關關係而規範之。 上述中，Q1表示抽樣氣體（SK)之流量，Q3表示補充氣 體（HK)之流量，di，D2，D3之各單位以cm表示時，qi，Q3 之各單位為cc/min。因此，Q1=Q3時，S1-S2=S3。 裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第 1端部對應領域和抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面之 間之所定之間隙（G1)，設置有從補充氣體供應器（22)供應 之補充氣體（HK)能在抽樣氣體容納空間（16)之内表面整體 以相同密度而層狀流動之協助用補充氣體密度均等構造。 此實施形態中，補充氣體密度均等構造係在裝置主體 (18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第1端部對應領 域處’包含補充氣體供應管（2〇)之連接位置之抽樣管（12) 之另一端部（12b)之外周面之周面方向，以環狀延伸出去之 環狀部位（l8e)，由較之第丨端部對應領域之其他部位朝向 上述另一端部（12b)之徑方向，從上述外周面遠離之環狀凹 處而提供。 該環狀凹處，當補充氣體（HK)從補充氣體供應管（2〇) 供應到間隙（G1)中時，在間隙（G1)之整體中協助補充氣體 (HK)成為相同密度。換言之，從間隙（Gl)以層狀流動到抽 樣氣體容納空間（16)之中間部（16c)中之補充氣體（HK)，在 中間部（16c)之整體中獲得以相同密度而層狀流動之協助。 同樣地，在裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之 内周面之第2端部對應領域和測定氣體排出管（24)之一端 部（24a)之外周面之間之所定間隙（G2)，設置有從抽樣氣體 322992 19 201142266 容納空間（16)流入到所定之間隙（G2)之抽樣氣體容納空間 (16)中之氣體，能在抽樣氣體容納空間（16)之内表面整體 以相同密度而層狀流動之追加之協助用氣體密度均等構 造。 此實施形態中，該追加之氣體密度均等構造，在裝置 主體（18)之抽樣氣體谷納空間（16)之内表面之第2端部對 應領域，由包含氣體選擇性排出管（28)之連接位置之測定 氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周面之周面方向以環 狀延伸而出之環狀部位（18f)，以較之第2端部對應領域之 其他部分更在上述一端部（24a)之徑方向，從上述外周面遠 離之環狀凹處所提供。 該環狀凹處’當補充氣體（HK)從補充氣體供應管（2〇) 供應到間隙（G1)中’跟藉由測氣體排出管（24)將補充氣體 (HK)和測定氣體（SK)之一部分同時排出時，能協助補充氣 體（HK)及測定氣體（SK)之一部分從抽樣氣體容納空間（16) 之中間部（16c)到間隙（G2)中，可分別在中間部（16c)及間 隙（G2)之整體中以相同密度層狀流動。 加之，此實施形態中，抽樣氣體供應源（14)、補充氣 體供應器（22)、氣體選擇性回收器（3〇)、以及粒徑測定器 (26)係連接在調控其動作之綜合調控裝置（32)。 依據本發明之實施形態之一之上述構造之霧劑粒子抽 樣裝置（10) ’藉由綜合調控裝置（32)調控其開始操作之抽 樣氣體供應源頭（14)，從抽樣管（12)之一端部（12a)之端朝 向抽樣管（12)之貫通路徑（12c)中供應含有各種粒徑之霧 20 322992 201142266 ， 劑粒子之抽樣氣體（SK),該抽樣氣體（SK)在抽樣管（12)之 - 另一端部（12b)之端’經由抽樣管（12)之貫通路徑（12c)導 . 入至裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之中間部分 (16c)中。 在抽樣管（12)之貫通路徑（i2c)經過中之抽樣氣體（SK) 中之各種粒役之霧劑粒子之粒徑分布，以粒徑之不同而其 慣性力不同所產生對於空氣流之粒子之移動速度及移動方 向之兩種差異為原因’從抽樣管（12)之一端部（i2a)之端之 開口抽樣即刻前之抽樣氣體（SK)中之各種粒徑之霧劑粒子 之粒徑分布乃不相同的。然而’從抽樣管(12)之另一端部 (12b)之端之開口為抽樣氣體容納空間（16)所容納之抽樣 氣體（SK)，在抽樣官（12)之貫通路徑（i2c)所產生之上述移 動速度及移動方向之差異所產生粒徑分布之差異實質上消 失0 欲稀釋抽樣氣體容納空間（i 6)中之抽樣氣體（s κ )時， 綜合調控裝置（32)開始起動補充氣體供應器（22)，從連接 在裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之第丨端部（1⑻ 之補充氣體供應管⑽，經由抽樣管（12)之另-端部⑽） 之外周面和裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（⑻之内表 面之第1端4對應領域之間之間隙（⑴，供應補充氣體⑽) 於祕氣體容納空間⑽之中間部⑽）中。據此供應之補 充氣體（）之大。P分係在抽樣氣體容納空間（⑻之中間部 (16c)中，沿著抽樣氣體容納空間（16)之中間部⑽)之内 表面以層狀流動到第2端部（16b)。 21 322992 201142266 導入抽樣氣體容納空間（16)之中間部（i6c)中之抽樣 氣體（SK)，在抽樣氣體容納空間（16)之中間部（16c)處，被 從第1端部（16a)至第2端部（16b)沿著内表面層狀流動之 補充氣體（HK)之大部分阻礙其接近抽樣氣體容納空間（16) 之中間部（16c)之内表面。其間，由離開上述内表面之殘餘 之補充氣體（HK)稀釋上述導入即刻後之抽樣氣體（SK)。 抽樣氣體（SK)在抽樣氣體容納空間（16)之中間部（丨6c) 之稀釋率，可藉由綜合調控裝置（32)從抽樣管（1幻導入抽 樣氣體（sk)到抽樣氣體容納空間（16)之中間部（16c)之量， 從補充氣體供應管（20)供應補充氣體（HK)到抽樣氣體容納 空間（16)之中間部（16c)之量，以及藉由氣體選擇性回收器 (30)從抽樣氣體容納空間（16)之中間部（16c)所回收抽樣 氣體容納空間⑽中之氣體之量，經由任意調控而任音嗖 定之。 抽樣氣體容納空間（16)中之抽樣氣體（SK)或依據上述 稀釋之抽樣氣體（sk)，繼而作為測定氣體（MK)，在裝置主 = (18)之抽樣氣體容納空間（16)之第2端部（16b)，經由測 :氣體排出管(24)之—端部⑽)之端之開口，導入測定 氣體排出管（24)之貫if路徑（24g)巾。導人到貫通路徑（24c) 中之測疋氣體（MK) ’經由測定氣體排出管（24)之另一端部 (24b)之舄之開口 ’從貫通路徑（24c)排出。經由綜合調控 巢置（32)调控其開始操作之粒徑測定器（26)就測定稀釋抽 樣氣體（K S K)中所含有各種粒徑之霧劑粒子之粒徑或個數 (即，粒徑分布）。 22 322992 201142266 ‘ (實施例l) 以下’本發明之發明者依據本發明之實施形態之霧劑 粒子抽樣裝置（10)，實際作成之例舉說明之。 該實施例中，裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16) 之内徑（D1)設定為7. 822mm ’抽樣管（12)及測定氣體排出 管（24)之各個外徑（D2)及内徑（D3)分別設定為6 35111111及 4. 57mm。然後，在抽樣氣體容納空間（16)中，從抽樣氣體 容納空間（16)之第1端部（16a)之抽樣管（12)之另一端部 (12b)之端至抽樣氣體容納空間（16)之第2端部（16b)之測 定氣體排出管（24)之一端部（24a)之端為止之中間部（16c) 之長度（L)設定為1〇丽。 該時，供應到抽樣管（12)之貫通路徑（12c)中之抽樣氣 體（SK)之流量為35〇〇cc/min時，其雷諾數（Reynold，s number，Re)為1077，上述抽樣氣體（SK)在貫通路徑（12c) 中為層狀流。此時，抽樣氣體（SK)中所含各種粒徑之霧劑 粒子中’粒役為5以〇1時，其斯托克斯數（31;〇1^’5 111111^61') 之平方根（stk°_5)為0.36，粒徑為7/zm時之斯托克斯數之 平方根（stk )為〇. 5〇，而粒徑為m時之斯托克斯數 之平方根（stk°.5)為0.71 ^由此可知粒徑為7/zm以上之霧 劑粒子時’粒子本身之慣性力（丨师acti〇n 變大，較 之粒控為7em以下之霧劑粒子，對於空氣流之粒子之移動 速度及移動方向之差異變大。 因此’對抽樣管（12)之一端部（12a)之端供應到貫通路 彳&(12(〇中之抽樣即刻前之抽樣氣體（SK)中之各種粒徑之 23 322992 201142266 霧劑粒子之分布而言，從抽樣管（12)之另一端部（12b)之 端，由貫通路徑（12 c )導入抽樣氣體容納空間（16)之中間部 (16c)中即刻後之抽樣氣體（SK)中之各種粒徑之霧劑粒子 之分布不同。 又’供應到抽樣管（12)之貫通路徑（12c)中之抽樣氣體 (SK)之流量提高到35〇〇cc/min以上時，除了將抽樣管（12) 之貫通路徑（12c)中之抽樣氣體（SK)之雷諾數（Re)為保障 貫通路徑（12c)中之抽樣氣體（SK)成為層流狀之2000以下 之外’同時需要選擇抽樣管（12)之内徑（D3)，而使抽樣氣 體（SK)所含各種粒徑之霧劑粒子之斯托克斯數之平方根 (stk°·5)成為0.47以下。然後，如上述為配合3個剖面面 積（Sl，S2及S3)成為上述S1-S2=S3之關係，或 -S2=Q1/Q3 . S3之關係，將抽樣氣體容納空間（16)之内 徑（D1)及抽樣管（12)和測定氣體排出管（24)之各個外徑 (D2)及（D3)加以設定之。 根據抽樣氣體供應源（14)經由抽樣管（12)供應到裝置 主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之抽樣氣體（sk)之量， 以及粒徑測定器（26)所能測定之測定氣體（mk)之量，而調 控補充氣體供應器（22)經由補充氣體供應管（2〇)供應到裝 置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之補充氣體（HK)之 量’以及氣體選擇性回收器（30)經由氣體選擇性排出管（28) 從裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)回收之補充氣體 (HK)之量，就能將抽樣氣體供應源（14)經由抽樣管（12)供 應到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之抽樣氣體 24 322992 201142266 (SK)以任思之稀釋率稀釋之後，供應到粒徑測定器（26)處。 例如由粒徑測定器可能測定之測定氣體（MK)之量為 1000cc/min ’而抽樣氣體供應源（14)經由抽樣管（12)供應 到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之抽樣氣體（SK) 之量在1000cc/min時’補充氣體供應器（22)經由補充氣體 供應管（20)供應到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16) 之補充氣體（HK)之量調控為〇cc/min，同時，氣體選擇性 回收器（30)經由氣體選擇性回收管（28)，回收抽樣氣體容 納空間（16)中之氣體量也調控為〇cc/min。 在此情形下’補充氣體供應器（22)經由補充氣體供應 管（20)供應到裝置主體（is)之抽樣氣體容納空間（丨6)之補 充氣體（HK)之量成為l〇〇〇cc/min，抽樣氣體供應源（14)經 由抽樣管（12)供應到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間 (16)之抽樣氣體（SK)之量就成為〇cc/min。 又’補充氣體供應器（22)經由補充氣體供應管（2〇)供 應到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之補充氣體 (HK)之量為500cc/min時，抽樣氣體供應源（14)經由抽樣 管（12)由供應到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之 抽樣氣體（SK)之篁成為5〇〇cc/min，在抽樣氣體容納空間 (16)中，抽樣氣體（SK)為由補充氣體（JJK)稀釋成為1/2。 更加之，抽樣氣體供應源（14)經由抽樣管（12)供應到 裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之抽樣氣體（SK)之 量為2000cc/min時’經補充氣體供應器（22)由補充氣體供 應管（20)供應到裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之 322992 25 201142266 補，氣體（HK)之量s周控為Qcc/min，同時，氣體選擇性回 "(30)經由氣體選擇性排出管（28)從裝置主體（⑻之抽 樣氣體容納空間（16)中回收之氣體量調控為10G()cc/min， 就能從抽樣氣體容納空間（16)將抽樣氣體⑻做為測定用 氣體’而經由測定用氣體排出管（24)以l〇〇〇cx/min之量供 應到粒徑測定器（26)處。 之後本發明之發明者按照下述進行性能評估試驗。 该性能評估使用周知之喷霧乾燥式粒子產生器及粉末 吸引式粒子產生器做為抽樣氣體供應源（14)，該喷霧乾燥 式粒子產生器可以產生粒徑為m以下之合成樹脂之周 知之標準懸濁液粒子，而粉末吸引式粒子產生器可以產生 粒徑為2" m以上之合成樹脂之周知之標準乾燥粉末粒子。 由這些粒子產生器所產生之標準粒子，一旦導入霧劑 粒子室（aerosol particle chamber)，在此使用周知之粒 徑測定器測定粒子濃度（個/cc)，以含有粒子濃度（N1)為標 準粒子之空氣做為抽樣即刻前之抽樣氣體（SK)，經由抽樣 管（12)供應到裝置主體（18)之抽樣氣體空納空間〇6)中。 在此’分別考慮供應到抽樣管（12)之抽樣氣體（SK)之 流量（Q1)，與從抽樣氣體容納空間（16)經由測定氣體排出 管（24)排出之測定氣體（MK)之流量（Q2)相同之第1種情形 (即’Q1=Q2)’以及供應到抽樣管（12)之抽樣氣體（SK)之流 量（Q1)多於從抽樣氣體容納空間（16)經由測定氣體排出管 (24)排出之測定用氣體（MK)之流量（Q2)時（Q1>Q2)，從流量 (Q1)減去流量（Q2)之剩餘之抽樣氣體（SK)，藉由氣體選擇 26 322992 201142266 性回收器（3 0 )從抽樣氣體容納空間（16 )經由氣體選擇性排 '出管（28)排出之第2種情形。分別在各個第丨情形及第2 • 情形中’從測定氣體排出管（24)之另一端部（241))之端之開 口排出’而在粒徑測定器（26)處所測定之測定氣體（MK)i 之粒子濃度（N2,個/cc)和抽樣即刻前之抽樣氣體之粒 子濃度（N1)進行比較。其結果’ N1=N2時，從抽樣管〇2) 之一端部（12a)之端之開口到測定氣體排出管（24)之另一 端部（24b)之端之開口之間’在抽樣管（12)之貫通路徑 (12c) ’裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)，還有測 定氣體排出管（24)之貫通路徑（24c)之各個内表面，意指並 無因為抽樣氣體（SK)中之標準粒子之沈殿而造成損失。加 之’連接在測定氣體排出管（24)之另一端部（24b)之端之開 口之粒徑測定器（2 6)係相當於測定抽樣即刻前之抽樣氣體 (SK)之粒徑分布。 又’供應到抽樣管（12)之抽樣氣體（SK)之流量（Q1)少 於從抽樣氣體容納空間（16)經由測定氣體排出管（24)所排 出之測定氣體（MK)之流量（Q2) (Q1 <Q2)時，從流量（Q2)減去 流量（Q1)之不足部分之流量係由補充氣體供應器（22)藉由 補充氣體補充之第3種情形下，如果沒有上述標準粒子之 沈澱之損失時，N2=N1 . Q1/Q2。 該性能評估試驗之結果示於以下之表1及表2中。 27 322992 201142266 試驗2 I 1000 _:_ 1592 1 648 1944 0.648 0.43±0.003 0.45±0.003 0.47±0.01 0.36±0.02 0.4±0.04 1296 1296 1.00 0.89+0.01 0.91±0.01 0·97±0.02 0.76±0.01 0.91±0.10 2592 〇 1.00 0.99 ±0.004 0.99±0.01 1.07±0.02 0.85±0.01 0.82 ±0.08 試驗1 1000 650 ;413 1237 0.413 0·34±0·004 0.37±0.004 -1 0.39±0.01 ί _1 0·33±0·01 0.4±0.04 1 825 ΙΛ ca 00 0.825 0·76±0·01 0.77±0.01 0.83±0.03 0.69±0.01 0_71±0.07 1650 ο 1.00 0.96±0.01 0.99±0.01 1.06±0·03 0·87±0·01 0.92±0.10 測定氣體排出管（24)出口之流量 i Q2(cc/min) ㈣ G ·目 趣1 4 Ή g 呢寸 趄σ 眯 饀 抽樣管（12)入口之流量 Ql(cc/min) 補充氣體供應管（20)之流量 Q3(cc/min) 各流量Q1下之理想之 濃度比率（N2/N1) 實驗濃度比率(Ν2/Ν1) 粒徑 (/xm) 〇 t—t CV3 卜 28 322992 201142266 CNJ 銦 % Ο τΉ CM σ> in τ-Η 00 外 to 寸 寸 CD τ-Η 卜 o CO ο ① ΙΟ ο CM CO ο CO σ> CSJ C£) σ> CQ τ-Η t—1 05 o 0¾ ο to ο σ> ο CO σ> in eg ο σ> °ϊ ο τ-Η ΙΛ 00 Ο CS3 00 ο τ-^ Μ % Ο ▼Ή g CO CO r-H 寸 卜 CO CN r —i cn ο ς〇 σ\ ο 00 c> σί ο in oa oo UD ca oo CO σ\ o τ-Η CO 00 ο C£> 00 ο o LQ ① t—H o OJ c5 g r"H C— 00 ο CM ο Μ D •33 ^ §| si cvi σ 饀 莨 /^Ν 00 珈.白 Η > OiL·. Ο 趄σ tdUL 鄉 0QB； ΦΙ 痗 ^p· 51 '-H r-H ϊί σ «.1^ 糖 φ<| i ^ 躪3 雄s 鹅u «? m /—V 夼A «4 « ^ sg > u 錦4田 趄 卜 d C<J 卜 m 29 322992 201142266 表1中之實驗濃度比率（N2/N1)之值乃係平均值土標準 偏差值。 然後’試驗1乃係經由測定氣體排出管（24)所排出測 定氣體（MK)之流量（q2)為i〇〇〇cc/min，從氣體排出管（28) 所排出氣體之流量（Q4)為650cc/min，供應到抽樣管（12) 之抽樣氣體（sk)之流量（Q1)之最大值為165〇cc/min下之 情形。 X ’試驗2乃係經由调j定氣體排出管（24)排出之測定 氣體㈤之流量（Q2)為1000cc/min，從氣體排出管（28)所 排出氣體流量（Q4)為l592cc/min，供應到抽樣管⑽之抽 樣氣體（SK)之流量之最大值為2592cc/min之情形。 試驗1及試驗2之任一情形下，粒徑在0. 7 _及1.5 _之間’供應至抽樣管（12)之抽樣氣體（SK)之流量（Q1) 加以變化’由於實驗濃度比/理想濃度比之值在1附近，所 Μ如同前述實質上沒有粒子沈殿之損失。換言之，供應到 抽樣管（12)之抽樣氣體（SK)巾之粒徑分布與由測定氣體排 出管⑽所排出測定氣體⑽中之粒經分布在實質 致的。 疋 [第一變形例舉] 其次’參照第2圖下，就第！圖之霧劑粒子抽樣裝 (10)之第1種變形例舉說明其概略。 該變形例舉之霧劑粒子抽樣裝置（10,）之構成構件之 大部分和第1圖所示之霧劑粒子抽樣裝置⑽之構成構株 之大部分是相同的。變形例舉之霧劑粒子抽樣裝置二:牛 322992 30 201142266 中’使用跟第1 ®之霧聽子祕裝置（⑻之構成構 大部分是㈣的。變形例舉之霧劑粒子減裝置⑽ ， 使用跟第1 S1H好抽樣裝置（1G)之構成構件相 成構件時，記載以第i圖之霧劑粒子抽樣裝置⑽之 構成構件所使用參照符號’對於該相同構成構件之說明就 該變形例舉中，霧劑粒子抽樣裝置（10，）不同於第1 圖所示霧劑粒子抽樣裝置（10)之處如下： 抽樣管（12，）之另一端部（12，b)之端（12’e)與測 體排出管（24，）之-端部（24，a)之端（24，e)連接；而抽樣管 (12’）之貫通路徑（12’c)及測定氣體排出管⑵，）之貫通^ 徑（24, c)之至少任意—方，係在抽樣管（12，）之另一端部 (12’b)及測定氣體排出管（24’）之一端部（24,幻之至少任 意一方，與裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)和抽樣 氣體容納空間（16)之一端部（16a)及第2端部（16b)之間連 通。 上述方式之連通可經由抽樣管（12，）之另一端部（i2，b) 之端（12’e)之附近及測定氣體排出管（24,）之一端部（24，幻 之端（24’e)之附近之至少一方所形成之貫通孔（〇p)而達成。 該等貫通孔（0P)之形狀或其配置，貫通孔（〇p)只要與第ι 圖之霧劑粒子抽樣裝置（1〇)中之抽樣管（12)之另一端部 (12b)之(12e)和測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之 端（24e)之間所設定長度為L之間隙，能達成相同機能，就 可以任意設定之。 322992 31 201142266 上述實施形態及第i種變形例舉中，抽樣氣體供應源 ⑽係由綜合調控裝置（32)調控其操作。然而，藉周知之 法、’不σ調控裴置（32)檢測抽樣氣體供應源（14)已 開始㈣’或藉由手動方式使綜合調控裝置⑶）開始上述 各種調控操作而構成亦可行。 另外，抽樣氣體供應源（14)也可為霧劑粒跟氣體 流動之管路。 [第2種、第3種、第4種及第5種變形例舉] 其次’參照第3圖、第4圖、第5圖及第6圖下，就 第1圖所示霧·子抽樣裝置⑽）之第2種、f 3種、第 4種及第5種變形例舉說明其概略。 乂些變形例舉之各個霧劑粒子抽樣裝置⑽u， ^構成構件之大部分和第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置 )之大部分之構成構件相同。該變形例舉之分別之霧劑 樣裝置（50, 52, 54, 56)中，使用跟第⑼所示霧 抽樣裝置⑽㈣之構成構件時，其構成構件記載 圖所轉·子祕裝置⑽在·成構件所賦盘 考，相同之參考符號，同時省略其構成構件之說明。 二^形例舉之各個霧劑粒子抽樣裝置（50，52，54, ，不同於第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置（1G)之處，乃 配置於裝ϋ體⑽之減氣體容納 =之:(;，2)之另-端部(1—二;定氣 Β (24)之一端部（24a)之端（24e)之各個形狀。 參考第1圖之本發明之實施形態之一之霧劑粒子抽樣 322992 32 201142266 . 裝置（10)之構成之說明中，抽樣管（12)之为 •之端（12e)及測定氣體排出管（24)之一端郄（24a) 端部 (12b) (24^) 之形狀分別記载如下„ I·亦即，抽樣管（12)之另一端部（12b)之細=(18)之 抽樣官（12)之另一端部（i2b)之外周面和裝窠炙項威之間 抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第1端邡對^為止之層 之所定間隙（G1)中，流到上述另一端部（12b)之細6彡之内表 狀流之補充氣體（HK),沿著抽樣氣體容納突間^l6b)而 面以層狀流到抽樣氣體容納空間（16)之第2嫌部 構成其形狀。 乃# 而第1圖中，抽樣管（12)之另 端部(i2bC其 附近之貫通路徑（12c)之部分，隨接近端（l2e)k陳符合〆 口徑，在端（12e)成形為跟另一端部（12b)之外肩面彳 端 致之錐形狀。其結果，在抽樣管（12)之另/端部（12 (12e)，從貫通路徑（12)導入抽樣氣體容納空間（16)中之抽 樣氣體（SK)在端（12e)不產生渦流。 II.又，測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之端（24e)’ 也成形為不致於使裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16) 中之氣體產生渦流，而導入稀釋抽樣氣體排出管（24)之一 端部（24a)之外周面和裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間 (16)之内表面之第2端部對應領域之間之間隙（G2)而構 成0 其結果’從第1端部（16a)沿著抽樣氣 之内表面朝向抽樣氣體容納空間（16)之第 體容納空間（16) 2端部（16b)以 322992 33 201142266 層狀流動的補充氣體（ΗΚ)，也不產生渦流而導入稀釋抽樣 氣體排出管（24)之—端部（24a)之外周面和裝置主體（18) 之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第2端部對應領域之 間之間隙（G2)。 第1圖中’消ij定氣體排出管（24)之一端部（24a)之端 (24e)附近之貫通路徑（24c)部位，隨接近端（24e)而慢慢擴 大其口徑’而在蠕（24e)成形為與一端部（24a)之外周面符 合一致之錐形狀。 依據本發明者之見解，當抽樣管（12)及測定氣體排出 管（24)之各個外徑（D2)及内徑（D3)為D2-D3=0. 5mm或小於 〇. 5mni時，在抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面及内周 面之端（12e)附近部位，以及測定氣體排出管（24)之一端部 (24a)之外周面及内周面之端（24e)附近部位，隨接近端 (12e)或端（24e) ’不要形成傾斜狀之錐形面，也已知能達 成上述機能。 然而，當抽樣管（12)及測定氣體排出管（24)之各個外 徑⑽及内徑⑽為D2_D3>0. 5mm時，為了期待在抽樣管 (12)之另-端部（12b)之端（12e)及測定氣體排出f⑽之 -端部（24a)之端（24e)能發揮上述機能，在抽樣管⑽之 另一端部（12b)之外周面及内周面之至少任意之一方之端 (12e)附近部位，以及測定氣體排出管（24):一端部 之外周面及内周面之至少任意之—方之蠕me)附。近部:， 隨接近端⑽）或端（24e)，有必要形_斜狀之錐形 可以採用第3圖、第4圖1 5圖及第6圖中所示在第2 322992 34 201142266 •種、第3種、第4種及第5種變形例舉之霧劑粒子抽樣裝 - 置（50，52，54，56)同樣之錐形面之組合。 • 帛3圖中所示第2種變形例舉之霧劑粒子抽樣裝置（5〇) 中： 在抽樣管（12)之另-端部⑽）之端（12e)附近之 路徑（12c)(即，内周面）部位’隨接近端（…清慢擴大其 口徑，而在端（12e)成形為和另一端部（l2b)之外周=二 一致之錐形狀；以及 ° ^ ° 而在測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周 端（24e)附近部位’隨接近端（24e)慢慢縮小其口你°面之 端（24e)成形為和一端部（24a)之内周面（即，貫二^而在 (24c))符合一致之錐形狀。 貝 ^ 第4圖中所示第3種變形例舉之霧劑粒子抽樣裝置π。 中. 在抽樣管（12)之另-端部⑽）之外周面之端（ 近部位，隨接近端（12e)慢慢縮小其口經，而在* 、 形為和另一端部（12b)之内周面（即，貫通路獲= 一致之錐形面；以及 c)符合 而在測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周 端（24e)附近部位，隨接近端（24e)慢慢縮小其口押°，面之 端（24e)成形為和一端部（24a)之内周面（即，貫 卜而在 (24c))符合一致之錐形狀。 ^ 第5圖中所示之第4種變形例舉之霧劑粒子抽樣裝置 322992 35 201142266 在抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面之端（12e)附 近部位’隨接近端（12e)慢慢縮小其口彳至，而在端（126)成 形為和另一端部（12b)之内周面（即，貫通路徑（i2c))符入 一致之錐形狀；以及 而在測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之端（24e)附 近之貫通路徑（24c)(即，内周面）部位，隨接近端（24e)， 慢慢擴大其口徑，而在端（24e)成形為和一端部（24a)之外 周面符合一致之錐形狀。 又，第6圖中所示之第5種變形例舉之霧劑粒子抽樣 裝置（56)中： ) 在抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面及内周面之 各端（12e)附近部位，隨接近端（12e)慢慢分別縮小其口徑 及擴大其口徑’而在端（12e)之抽樣管（12)之半徑方向成形 為和上述外周面及内周面之間之中間位置符合一致之錐形 狀；以及 而測疋氣體排出管（24)之一端部（24a)之端（24e)之外 周面及内周面之各端（24e)附近部位，隨接近端（24e)慢慢 分別縮小其口徑及擴大其口徑，在端（24e)之測定氣體排出 管（24)之半徑方向成形為和上述外周 面及内周面之間之中 間位置符合一致之錐形狀。 [第6種、第7種、第8種及第9種變形例舉] 其次’參照第7圖、第8圖、第9圖及第10圖，就第 1圖所示之霧劑粒子括樣裝置（1G)之第6種、第7種、第8 種及第9種變形例舉說明其概略。 36 322992 201142266 d變形例舉之各個霧劑粒子抽樣褒置（58,⑼，队 HI構η成構件之大部分皆和第1圖所示之霧劑粒子抽 樣裝置⑽之大部分之構成構件相同。這些變形例舉之各 個霧劑粒子抽樣裝置⑽，6G，62, 64)巾，跟第丨圖所示 之霧劑粒子抽樣裝置⑽之構成構件❹相同構成構件 時在該構成構件上賦與第1圖所示之霧劑粒子抽樣裝置 (10)中相同構成構件所使用相同之參考符號，並省略其相 同構成構件有關說明。 這些變形例舉之各個霧劑粒子抽樣裝置（58, 6〇, 62, 64)中’不同於第丨圖所示之霧劑粒子抽樣裝置（1〇)處如下 述： 设置於裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表 面之第1端部對應領域及抽樣管（12)之另一端部（12b)之 外周面之間之所定間隙（G1)處，而藉由從補充氣體供應器 (22)供應之補充氣體（HK)成為在抽樣氣體容納空間（16)之 内表面整體以相同密度協助其層狀流動之補充氣體密度均 等構造；以及 而设置於裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内 周面之第2端部對應領域及測定氣體排出管（24)之一端部 (24a)之外周面之間之所定間隔（G2)，而從抽樣氣體容納空 間（16)流入所定間隙（G2)之抽樣氣體容納空間（16)中之氣 體，成為在抽樣氣體容納空間（16)之内表面整體協助以相 同密度層狀流動之追加氣體密度均等構造。 第1圖之霧劑粒子抽樣裝置（1〇)中，如同前述，該補 37 322992 201142266 充氣體密度均等構造係經由下述方法提供： 在裝置主體（18)之抽樣氟體容納空間（16)之内表面之 第1端部對應領域處，包括補充氣體供應管（20)之連接位 置之抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面之周面方向以 環狀延伸之環狀部位（18e)，較之第1端部對應領域之其他 部分’在上述另一端部（12b)之徑方向遠離上述外周面之環 狀凹處而構成。 加之，在第1圖之霧劑粒子抽樣装置（10)中，如同上 述’其追加氣體密度均等構造也是經由下述方法提供： 在裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之 第2端部對應領域中，包括氣體選擇排出管（28)之連接位 置之測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周面之周面 方向以環狀延伸之環狀部位（18f)，較之第2端部對應領域 之其他部分’在上述一端部（24a)之徑方向遠離上述外周面 之環狀凹處而構成。 補充軋體被度均等構造，只要在裝置主體（18)之抽樣 氣體容納空間（16)之内周面之第丨端部對應領域和抽樣管 (12)之另一端部（12b)之外周面之間之所定間隙（G1)中，從 補充氣體供應管（20)流人之補充氣體（HK)在沒有補充氣體 密度均等構造下，也能在純氣體容納空間⑽之内表面 整體以相同密度做層狀流動，當然就不需要該補充氣體密 度均等構造。 同樣地，追加氣體密度均等構造，也是只要在裝置主 體⑽之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第2端部對應 322992 38 201142266 . 領域和測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周面之間 • 之所定間隙（G2)中’從抽樣氣體容納空間（16)流入之抽樣 « 氣體容納空間（16)中之氣體，在沒有追加之氣體密度均等 構造之下，也能在抽樣氣體容納空間（16)之内表面整體以 相同密度做層狀流動，當然也不需要該追加氣體密度均等 構造。 然而，必需補充氣體密度均等構造及追加氣體密度均 等構造時，除上述之環狀凹處之外，加上如第7圖、第8 圖、第9圖及第1〇圖中所示之第6種、第7種、第8種及 第9圖變形例舉之補充氣體密度均等構造及追加氣體密度 均等構造可供使用。 第7圖中所示第6種變形例舉之補充氣體密度均等構 造如下： 除裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之 第1端部對應領域之環狀部位（1 ge)所對應部位之環狀凹 處之外，包括在抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面，形 成對應於裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面 ，第1端部對應領域之環狀部位（18e)之部位，而朝向抽樣 營（12)之另-端部（12b)之外周面之周面方“環狀延伸 之環狀凹處（120’或在上述周面方向以所定間距環狀配置 之複數個環狀配置凹處。 第7圖中所示第6種變形例舉之追加氣體密度均等構 造如下·· 除裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面之 322992 39 201142266 第2端部對 、 處之外，包7員域之環狀部位（18f)所對應部位之環狀凹 面，形成括在測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周 内周面< +應於裴置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之 向消彳足氣 ^。卩對應領域之環狀部位（18 f )之部位，而朝 缳狀四處體排出管（24)之外周面之周面方向以環狀延伸之 數個壤^』4f)或上述周面方向以所定間距環狀配置之複 造如下·圖中所不第7種變形例舉之補充氣體密度均等煬 第1 =置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面之 處部對應領域之環狀部位〇8e)所對應部位之環狀凹 <對應’包括在抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周面，較 <第】"^置域⑽之純氣體容納空間（16)之内表面 鳴卩對應領域之環狀部位（18e)之部位，形成於靠近 之位置，朝向抽樣管（12)之另一端部（12b)之外周 周面方向以環狀延伸之環狀突端（％)，或在上述周面 以所定間距而環狀配置之複數個環狀配置突端。 造如^ 8圖中所示第7種變形例舉之追加氣體密度均等構 V · 除裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面之 端部職領域之雜部分（18f)所對應部位之環狀凹 命^卜’包括在㈣氣體排出管⑽之1部⑽)之外周 敎之對應於裝置主體⑽之抽樣氣體⑽之 面之第2端部對應領域之環狀部位（⑻）之部位，形成 322992 40 201142266 於靠近端（24e)位置，朝向測定氣 周面方向以環狀延伸之環狀突^4排出管（24)之外周面之 所定間距雜配置之魏舞㈣面方向以 造如=圖中所示第8種變形例舉之ς充氣體密度均等構 第體(18)之峨體容納空間⑽之内表面之 處環狀凹 =主體⑽之抽樣氣體容:空間=:形之成 二域之環狀部分（18e)之部分，朝向抽樣管 产狀㈣（12b)之外周面之周面方向以環狀延伸之 ^數Γ2ί)，或在上述周面方向以所定間距環狀配置之 银數個環狀配置凹處，以及 义 在抽樣管（12)之另-端部（12b)之外 氣體容納空間⑽之内表面之第r= ㈣，/狀雜（_之對應部位，形成於靠近端之 ’朝向抽樣管⑽之另_端部（l2b)之外周面之周面方 之環狀突端(i2g)，或在上述周面方向以所定 狀配置之複數個環狀配置突端。 第9圖中所示第8種變形例舉之追加氣體密度均等構 造如下： 除裝·置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面之 2端部對應領域之環狀部位（18f)所對應部位之環狀凹 處之外， 322992 41 201142266 包括在測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周面， 形成對應於裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間〇6)之内表 面之第2端部對應領域之環狀部位（18f)之部位，朝向測定 軋體排出管（24)之外周面之周面方向以環狀延伸之環狀凹 處（2 4 f )，或在上述周面方向以所定間距環狀配置之複數個 環狀配置凹處，以及 在測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之外周面，較之 對應於裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面之 第2端部對應領域之環狀部位（I8f)之部位’形成於靠近端 (24e)之位置’朝向測定氣體排出管（24)之外周面之周面方 向以環狀延伸之環狀突端（24g)，或在上述周面方向以所定 間距環狀配置之複數個環狀配置突端。 第10圖中所示第9種變形例舉之補充氣體密度均等構 造如下： 除裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之 第1端部對應領域之環狀部位（18e)所對應部位之環狀凹 處之外，加之， 包括在裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表 面之第1端部對應領域處’較之上述環狀部位（18e)之上述 環狀凹處形成於接近抽樣管（12)之另一端部（12b)之端 (12e)之位置’朝向上述内表面之周面方向以環狀延伸之環 狀突端（18S)，或在上述周面方向以所定間距環狀配置之複 數個環狀配置突端。 第10圖中所示第9種變形例舉之追加氣體密度均等構 42 322992 201142266 - 造如下 除裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之 第2端部對應領域之環狀部位（l8f)所對應部位之環狀凹 處之外， 包括在裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表 面之第2端部對應領域，形成於較之上述環狀部位（1訂） 之上述環狀凹處，靠近測定氣體排出管（24)之—端部（2乜） 之端（24e)，朝向在上述内表面之周面方向以環狀延伸之^ 狀突端（18h)，或在上述周面方向以所定間距環狀 數個環狀配置突端。 锻 产均Ϊ構8種變形例舉之補充氣體密 度均等構突端（12g)，或複數個環㈣置 可使用第10圖中所示第9種變形例舉之補 構造之環狀突端（18g)或複數個環狀配置突端 圖中所示之第8種變形例舉之追加氣體密度均等構^9 狀突知（24g)或複數個環狀配置突端，改用第， 第9㈣_舉之追加氣體密度均等 或複數個環狀配置突端料行。 该心（_ 【圖式簡單說明】 第1圖為按照本發明之實施形態之 裝置之概略縱剖面圖。 L子插樣 第2®為第i圖所示霧劑粒子抽樣裝置 例舉之概略縱剖面圖。 種k形 第3圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第2種變形 322992 43 201142266 例舉之概略縱剖面圖。 第4圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第3種變形 例舉之概略縱剖面圖。 第5圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第4種變形 例舉之概略縱剖面圖。 第6圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第5種變形 例舉之概略縱剖面圖。 第7圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第6種變形 例舉之概略縱剖面圖。 第8圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第7種變形 例舉之概略縱剖面圖。 第9圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第8種變形 例舉之概略縱剖面圖。 第10圖為第1圖所示霧劑粒子抽樣裝置之第9種變形 例舉之概略縱剖面圖。 【主要元件符號說明】 10、10’ 霧劑粒子抽樣裝置（aerosol particle sampling device) 12、12’ 抽樣管（sampling tube) 12a、12’ a、24a、24’ a —端部 12b、12’b、24b、24’b 另一端部 12c、12’ c、24c、24’ c 貫通路徑 12d、12’d、24d、24’d 外法蘭（outer flange) 12e、12’ e、24e、24’ e 端 44 322992 201142266 - 12f 環狀凹處（補充氣體密度均等構造） -12g、18g 環狀突端（補充氣體密度均等構造） 14 抽樣氣體供應源 16 抽樣氣體容納空間 16a 第1端部 16b 第2端部 16c 中間部 18 裝置主體 18a 第1端構件 18b 第1法蘭固定構件 18c 第2端構件 18d 第2法蘭固定構件 18e 環狀部位（補充氣體密度均等構造） 18f 環狀部位（追加氣體密度均等構造） 18h 環狀突端（追加氣體密度均等構造） 20 補充氣體供應管 22 補充氣體供應器 24、24’ 測定氣體排出管 24f 環狀凹處（追加氣體密度均等構造） 24g 環狀突端（追加氣體密度均等構造） 26 粒徑測定器 28 氣體選擇性排出管 30 氣體選擇性回收器 32 綜合調控裝置 G1 所定間隙 50、 52 、 54 、 56 、 58 、 60 、 62、64 霧劑粒子抽樣裝置 G2 所定間隙 HK 補充氣體 MK 測定氣體 OP 開口 SK 抽樣氣體 SM 密封構件 45 322992

Claims (1)

1. 201142266 七、申請專利範圍： 1. -種霧劑粒子㈣褒置，錢備有排^抽樣氣體⑽） 之抽樣管（12, 12’），包含容納柚樣管所排出抽樣氣體之 抽樣氣體容納空間（16)之裝置主體（⑻，供應補充氣體 (HK)至裝置主體中之抽樣氣體容納空間而在該抽樣氣 體容納空間混合補充氣體於抽樣氣體之補充氣體供應管 (22)’以及將裝置主體之抽樣氣體容納空間中至少含有 抽樣氣體之測定氣體（MK)排出到抽樣氣體容納空間外 部之測定氣體排出管（24, 24,）之霧劑粒子抽樣裝置 (10, 10’，50, 52, 54, 56, 58, 60, 62, 64)， 其特徵為上述抽樣管（12,12,）係備有一端部 (12a，12a’），另一端部（12b，12b，）以及分別開口於一端 部之端和另一端部之端（12e)而由一端部之端延伸到另 一端部之端之貫通路徑（12, 12c，），經由一端部之端之 開口’導入含有各種粒徑之霧劑粒子之抽樣氣體（SK：) 於貫通路徑中，經由另一端部之開口，從貫通路徑排出 抽樣氣體， 上述裝置主體（18)之上述抽樣氣體容納空間（16)係 備有抽樣管（12, 12’）之另一端部（i2b，12b’）所連接之第 1端部（16a)，以及抽樣管之另一端部之延伸方向較之抽 樣管之另一端部之^^為遠離的位置之第2端部（16b)，容 納從抽樣管之另一端部之開口所排出之抽樣氣體，在規 範抽樣氣體容納空間之内表面，對應於第1端部之第1 端部對應領域係經由抽樣管之另一端部之外周面之間 1 322992 201142266 ' 之所疋間隙（Gl)包圍上述另-端部之外周面； - 上述補务5 尽 礼體供應器（22)係連接在裝置主體（18) • 之抽樣孔體各蜂空間（16)之第1端部（16a)，經由抽樣 管（12，12，）之其 银 <方〜端部（12b，12b’）之外周面及裝置主 體之抽樣氣體宏β 納空間之内表面之第1端部對應領域 &PSKi陳（G1)’選擇性供應補充氣體（ΗΚ)至抽樣 氣體合Ί間’在抽樣氣體容納空間中，第1端部及第 2端部之間，撰蚀:l · 、 雙擇性混合補充氣體於抽樣氣體（SK); 上述'則定氣體排出管（24, 24,）係備有一端部 (24a，24a’），另 乃〜端部（24b，24b’）以及分別開口於一端 部之端和另一地 〜部之端，而從一端部之端延伸至另一端 二„之貫通袼徑(24c，24c，)，-端部係連接在裝置主 體之抽樣氣體容納空間(16)之第2端部⑽)，另 -端部係從主體之抽樣氣體容納空間之第2端部 向外突出，經士 β 、—a田一端部之端之開口，將至少含有抽樣氣 _ 5、〗疋氣體（MK)之裝置主體之抽樣氣體容納空間中 "丨、導入貝通路徑中，再經由另—端部之端之開口， 從f通—路，將測定氣體排出至於抽樣氣體容納空間之 h P之外周面係在規範抽樣氣體容納空間 之内 藉由對應於第2端部之第2端部對應領域，以所 定間隙（G2)包圍； 再備有連接於震置主體⑽之抽樣氣體容納空間 16之第2端部（i6b)，經由測定氣艘排出管（24,24，） 之一端部（24a，24〇之外周面和震置主體之抽樣氣體 322992 2 201142266 容納空間之内表面之第2端部對應領域之間之上述間 隙，選擇性排出抽樣氣體容納空間之氣體用途之氣體選 擇性排出管（28)。 2. 如申請專利範圍第1項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中，抽樣管（12)之另一端部（12b)之端（12e)係將從抽樣 管之另一端部之外周面和裝置主體（18)之抽樣氣體容 納空間（16)之内表面之第1端部對應領域之間之間隙 (G1)以層狀流動到上述另一端部之端之補充氣體（HK)， 以沿著抽樣氣體容納空間之内表面流到抽樣氣體容納 空間之第2端部（16b)而形成； 測定氣體排出管（24)之一端部（24a)之端（24e)係 將裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)中之氣體不 產生渦流而導入測定氣體排出管之一端部之外周面和 裝置主體之抽樣氣體容納空間之内表面之第2端部對 應領域之間之間隙（G2)而形成。 3. 如申請專利範圍第2項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中，抽樣管（12)之另一端部（12b)之内徑及外徑，與測 定氣體排出管（24)之一端部（24a)之内徑及外徑係相 同； 抽樣管（12)之另一端部（12b)和測定氣體排出管 (24)之一端部（24a)係在裝置主體（18)之抽樣氣體容納 空間（16)之第1端部（16a)及第2端部（16b)處，相互以 同心狀配置。 4. 如申請專利範圍第1項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 3 322992 201142266 - 卜抽樣管（12)之另—端部⑽）之内徑及外徑，與測 ' 定氣體排出管（24)之—端部（24a)之内徑及外徑係相 . 同； 抽樣管（12)之另一端部⑽)和測定氣體排出管 (24)之-端部（24a)係在裝置主體（18)之抽樣氣體容納 空間（16)之第1端部（i6a)及第2端部（l6b)處，相互以 同心狀配置。 5.如申請專利範圍第以至第4項中任—項所述之霧劑粒 子抽樣裝置，其中，裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間 (16)之内表面之第1端部對應領域和抽樣管（a)之另 -端部（12b)之外周面之間之所定間隙（G1)，設置有從 補充氣體供應器（22)所供應之補充氣體⑽）在抽樣氣 體容納空間⑽之内表面整體協助以相同密度層狀流 動之補充氣體密度均等構造。 6·如申請專利範@第5項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中，上述補充氣體密度均等構造係包含在裝置^體^幻 之抽樣氣體容納空間⑽之内表面之第丄端部對應領 域’包括補充氣體供應器（22)之連接位置之設^ ⑽之另一端部⑽)之外周面之周面方向以環 2狀部位（18e)，設置較之第丨端部對應領域之其他 在上述另-端部⑽）之徑方向之從上述外周面遠 雕之環狀凹處。 •如申請專利範圍第5項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中’襞置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面之 322992 4 7 201142266 第2端部對應領域和測定氣體排出管（24)之一端部 (24a)之外周面之間之所定間隙（G2),設置協助從抽樣 氣體容納空間（16 )流入該所定間隙（G 2 )之抽樣氣體容 納空間中之氣體，在抽樣氣體容納空間之内表面整體以 相同密度層狀流動用途之追加氣體密度均等構造。 8. 如申請專利範圍第7項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中，上述氣體密度均等構造係包含在裝置主體（18)之抽 樣氣體容納空間（16)之内表面之第2端部對應領域中， 在包括氣體選擇性排出管（28)之連接位置之測定氣體 排出管（24)之一端部（24a)之外周面之周面方向以環狀 延伸之環狀部位（18f)，設置較之第2端部對應領域之 其他部位，在上述一端部（24a)之徑方向之遠離上述外 周面之環狀凹處。 9. 如申請專利範圍第1項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中，抽樣管（12,）之另一端部（12b，）之端（12e，）與測定 氣體排出管（24’）之一端部（24a，）之端（24e，）連接， 抽樣管之貫通路徑（12c’）及測定氣體排出管之貫 通路徑（24c，）之至少任意一方，在抽樣管之另一端部及 /貝J疋氣體排出管之一端部之至少任意一方，與裝置主體 (18)之抽樣氣體容納空間（16)及抽樣氣體容納空間之 第1端部（16a)和第2端部（i6b)之間連通。 10. 如申請專利範圍第9項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中’裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之 第1端部對應領域和抽樣管（12,）之另一端部（i2b，）之 322992 5 201142266 外周面之間之所定間隙（G1)中，設置協助由補充氣體供 應器（22)供應之補充氣（HK)在抽樣氣體容納空間之内 表面整體以相同密度層狀流動之補充氣體密度均等構 造。 11·如申請專利範圍第1〇項所述之霧劑粒子抽樣裝置，其 中，上述補充氣體密度均等構造包含在裝置主體（18) 之抽樣氣體容納空間（16)之内表面之第1端部對應領 域中，在包含補充氣體供應器（22)之連接位置之抽樣管 d2’）之另一端部（丨2b’）之外周面之周面方向以環狀延 伸之環狀部位（18e)，設置較之第1端部對應領域之其 他部分’在上述另一端部（12b’）之徑方向之遠離上述外 周面之環狀凹處。 12.如申請專利範圍第10項所述之霧劑粒子抽樣襄置，其 中，在裝置主體（18)之抽樣氣體容納空間（16)之内周面 之第2端部對應領域及測定氣體排出管（24,）之一端部 (24a’）之外周面之間之所定間隙（G2)，設置協助從抽樣 氣體容納空間流入所定間隙（G2)之抽樣氣體容納空間 中之氣體在抽樣氣體容納空間之内表面整體以相同密 度層狀流動之追加氣體密度均等構造。 13·如申請專利範圍第12項所述之霧劑粒子抽樣裴置， 中，上述氣體密度均等構造包括在裝置主體（18)之柚^ 氣體容納空間（16)之内表面之第2端部對應領域中$ = 包括氣體選擇排出管（28)之連接位置之於測定氣體排 出管（24’）之一端部（24a,)之外周面之周面方向以環狀 6 322992 201142266 延伸之環狀部位（18f)，設置較之第2端部對應領域之 其他部分，在上述一端部之徑方向之遠離上述外周面之 環狀凹處。 7 322992