TW201141914A - Device for outdoor-installing, display for outdoor-installing, solar cell, antireflection laminate used by device for outdoor-installing - Google Patents

Description

201141914 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於在裝置的一部份上具有抗反射積層體的 屋外設置用顯示器。更詳細而言，係關於利用簡便的方法 可形成層，且即使在屋外使用時亦展現優良的耐候性的抗 反射積層體。 【先前技術】 在物品的表面上形成由低折射率材料所構成的抗反射 膜、或形成由低折射率層與高折射率層的多層結構構成的 抗反射膜’作爲用於提升物品的目視辨認性的一個手段， 已行之有年。又，藉由在太陽能電池的表面進行抗反射處 理’可使轉變效率提升。尤其，近年來一直在尋求利用低 成本且簡便的方法，即使對大型基材亦可形成抗反射膜的 技術。 就形成此等之抗反射膜的方法而言，已知有例如使用 有機系的紫外線•放射線硬化性的材料的方法或藉由蒸鍍 無機系的材料等而形成的方法（專利文獻1〜3)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開200^19^號公報 [專利文獻2]日本特開2007-25078號公報 [專利文獻3]日本專利2989923號 然而，如上述之有機系的材料，例如使用多官能（甲 201141914 基）丙烯酸酯結構作爲硬塗層，尤其是當使用於被要求耐 候性之設置於屋外的用途之時，長期可靠度乃是大問題。 又，由於無機系的材料係藉由蒸鍍等之真空製程來形成 層，上述之長期可靠度雖優良，但由於需要真空設備等， 生產成本高，且對大面積的基材有難於以高效率形成均勻 的抗反射膜的問題。就在屋外使用之非真空製程型的無機 系材料積層體而言，已知有以基材/中間層/頂層的構成被 提案之所謂的光觸媒積層體。然而，由於此等在頂層大量 地含有氧化鈦或氧化鋅等之高折射率的金屬氧化物類，其 與空氣的折射率差變大，雖可抗表面反射，反之亦有反射 率升高的傾向，故爲與抗反射用途不相容者。又，雖有想 到使用聚二甲基矽氧烷（聚矽氧）作爲耐久性高的聚合物 材料，但有必須將昂貴的鉑化合物使用於硬化觸媒，且塗 膜的硬度低、與基材的緊密性差，難於高折射率化、難於 設計積層體等之問題，難於作爲抗反射積層體使用。 【發明內容】 [發明欲解決之問題] 因此，在本發明中提供一種即使在屋外使用時亦展現 優良的耐候性，而且可利用簡便的方法對基材形成層之具 有抗反射能的抗反射積層體。 [用於解決問題的手段] 本發明者經專心硏究的結果’發現藉由於以下記述之 抗反射積層體可解決上述的問題而完成本發明。 201141914 根據本發明，可提供以下的抗反射積層體。 1. 一種抗反射積層體，其含有基材與含聚有機矽氧烷（A) 及金屬氧化物粒子（B)的層（I)以及含聚有機矽氧烷 (C)及數量平均粒徑1〜100nm的以二氧化矽作爲主成 分之中空或多孔質的粒子（D)的層（II)。 2·如上述1中記載之抗反射積層體，其特徵爲前述層（I) 係由含有選自由 以下列式（1 ) R'nSi ( OR2 ) 4-n ( 1 ) (式中，R1表示碳原子數1〜12的非水解性有機基，當 存在2個以上時，可互爲相同亦可互爲不同。R2各自獨 立地表示碳原子數1〜5的烷基或碳原子數1〜6的醯 基。η爲0〜3的整數。） 表示之至少1種的有機矽烷、該有機矽烷的水解物及該 有機矽烷的縮合物構成之群組中的至少1種矽烷化合物 (a 1 )及金屬氧化物粒子（Β )之組成物（I )的硬化物 製得， 前述層（II)係由含有選自由 以下列式（2 ) R3mSi ( OR4 ) 4.m ( 2 ) (式中’ R3表示碳原子數1〜12的非水解性有機基，當 存在2個以上時’可互爲相同亦可互爲不同。R4各自獨 201141914 立地表示碳原子數1〜5的院基或碳原子數1〜6的醯 基。m爲0〜3的整數。） * 表示之至少1種的有機矽烷、該有機矽烷的水解物及該 有機矽烷的縮合物構成之群組中的至少1種的矽烷化合 物（Cl)及數量平均粒徑1〜100nm的以二氧化矽作爲主 成分之中空或多孔質的粒子（D )之組成物（II )的硬化 物製得。 3. 如上述1或2中記載之抗反射積層體，其特徵爲在前述 組成物（I)的矽烷化合物（al)中，含有前述式（1) 中的R1的至少1個爲苯基之矽烷化合物。 4. 如上述1〜3中任一項記載之抗反射積層體，其特徵爲在 前述組成物（I)的矽烷化合物（al)中，相對於全部的 R1，前述式（1)中苯基爲5〜80莫耳％。 [發明的效果] 根據本發明，可藉由塗布等而簡便地形成層’可製得 即使在屋外使用時，亦展現優良的耐候性之抗反射積層體。 【實施方式】 [用於實施發明的形態] 以下具體地說明本發明的實施形態。 本發明的抗反射積層體的特徵爲含有基材、含聚有機 矽氧烷（A)及金屬氧化物粒子（B)的層（I)、以及含聚 有機矽氧烷（C)及數量平均粒徑1〜1 OOnm的以二氧化砂 作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)的層（Π) ° 201141914 另外，本發明中，所謂「聚有機矽氧烷」係指將Si-0 鍵作爲骨架之聚合物。 基材 使用於本發明的抗反射積層體之基材的種類並無特別 限制’例如金屬、陶瓷、玻璃、塑膠、木材、石板等，未 特別限制。 就塑膠而言，例如可列舉由聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸 甲酯'聚苯乙烯/聚甲基丙烯酸甲酯共聚物、聚苯乙烯'聚 酯、聚烯烴、三乙醯基纖維素樹脂（TAC )、二乙二醇之 二烯丙基碳酸酯（CR-39)、ABS樹脂、AS樹脂、聚醯胺、 環氧樹脂、三聚氰胺樹脂、環化聚嫌烴樹脂（例如降宿燦 系樹脂）等構成之基材。藉由製成含有此等之基材的抗反 射膜，可獲得優良的抗反射效果。 (2)層（I) 層（I)中含有聚有機砂氧垸（A)及金屬氧化物粒子 (B )。 層（Ϊ ) ’視其用途而使用折射率1 _ 5 0以上且未達丨8 5 者’膜厚則在O.OljUm〜lOjt/m的範圍內使用。 (2 -1 )組成物（I ) 此種層（I )，例如可由含有選自由以下列式（1 ) R^si ( OR2) 4.n ( 1 ) (式中’ R1表7F：碳原子數1〜12的非水解性有機基，掛存 在2個以上時’可互爲相同亦可互爲不同。rZ各自獨立地 201141914 表示碳原子數1〜5的烷基或碳原子數1〜6的醯基。η爲ο 〜3的整數。） 表示之至少1種的有機矽烷（以下亦稱爲「有機矽烷 (1)」）、有機矽烷（1)的水解物及有機矽烷（1)的縮 合物構成之群組中之至少1種的矽烷化合物（al)及金屬 氧化物粒子（B )之組成物（以下亦稱爲「組成物（I )」） 的硬化物製得。 (矽烷化合物（a 1 )) 使用於本發明之矽烷化合物（a 1 )係選自由以上列式 (1)表示之有機矽烷（1)、有機矽烷（1)的水解物及有 機矽烷（1 )的縮合物構成之群組中之至少1種的矽烷化合 物，此等3種矽烷化合物之中，可僅使用1種矽烷化合物， 亦可混合使用任2種的矽烷化合物、或亦可混合使用全部 3種的矽烷化合物。又，當使用有機矽烷（1)作爲矽烷化 合物（a 1 )時，有機矽烷（1 )可單獨使用1種，亦可倂用 2種以上。又’上述有機矽烷（1)的水解物及縮合物可爲 由1種有機矽烷（1)形成者，亦可爲倂用2種以上的有機 矽烷（1 )而形成者。 上述有機矽烷（1)的水解物可爲有機矽烷（1)中含 有之1〜4個的〇R2基之中的至少1個經水解者，例如可爲 1個OR2基經水解者、2個以上OR2基經水解者或此等之混 合物。 上述有機矽烷（1 )的縮合物係有機矽烷（1 )水解而 201141914 生成之水解物中的矽烷醇基經縮合而形成Si_ 〇-Si鍵者。 本發明中’矽烷醇基不需全部縮合，前述縮合物係包含僅 -音15份的矽烷醇基經縮合者、大部分（含全部）的矽烷醇 基經縮合者還有此等之混合物等。 在上列式（丨）中，R1係碳原子數1〜丨2個之非水解 性有機基’具體而言，可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、 戊基、己基、庚基、辛基、癸基、2-乙基己基等之烷基； 乙醯基、丙醯基、丁醯基、戊醯基、苯甲醯基、甲苯甲醯 基（toluoyl)、己醯基等之醯基； 乙稀基、烯丙基、環己基、苯基、環氧環烷基' 3,4_環氧 環己基乙基 '環氧丙基、3_環氧丙氧基丙基、（甲基）丙 燃醯氧基、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基、醯脲基、醯胺基、 氟乙醯胺、異氰酸酯基等。 此外’就R1而言，可列舉上述有機基之取代衍生物 等。就R 1之取代衍生物的取代基而言，例如可列舉鹵素原 子、經取代或未經取代的胺基、羥基、毓基、異氰酸酯基、 環氧丙氧基、3，4_環氧環己基、（甲基）丙烯醯氧基、醯 脲基、銨鹽基等。當式（1)中存在複數個…時，可各自 相同亦可各自不同。 就碳原子數爲1〜5個烷基之R2而言，例如可列舉甲 基、乙基、丙基、丁基、戊基等，就碳原子數1〜6的醯基 之R2而言’例如可列舉乙醯基、丙醯基、丁醯基、戊醯基、 己釀基等。當式（1)中存在複數個R2時，可各自相同亦 201141914 可各自不同。 就如此之以上列式（1 )表示之 體例子而言，可各自列舉 經4個水解性基取代的矽烷化 四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四 基矽烷、四-正丙氧基矽烷、四-異丨 經1個非水解性基與3個水解 之甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧 基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、乙基 乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷， 異丙基三甲氧基矽烷、異丙基三乙 氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、正 丁基三乙氧基矽烷、正戊基三甲氧 基砂院、正庚基三甲氧基砍院、正 癸基三甲氧基矽烷、正癸基三乙氧 基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙 環己基三甲氧基矽烷、環己基三乙 基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、3 -氯 氯丙基三乙氧基矽烷、3, 3,3-三氟丙 三氟丙基三乙氧基矽烷、3-胺基丙 基丙基三乙氧基矽烷、2-羥乙基三 三乙氧基矽烷、2-羥丙基三甲氧基 基矽烷、3 -羥丙基三甲氧基矽烷、3. 水解性矽烷化合物的具 合物之四甲氧基矽烷、 苯氧基矽烷、四苯甲氧 巧氧基矽烷等： 性基取代的矽烷化合物 基矽烷、甲基三異丙氧 三甲氧基矽烷、乙基三 •正丙基三乙氧基矽烷、 氧基矽烷、乙基三異丙 丁基三甲氧基矽烷、正 基矽烷、正己基三甲氧 辛基三甲氧基矽烷、正 基矽烷、乙烯基三甲氧 烯基三正丙氧基矽烷、 氧基矽烷、苯基三甲氧 丙基三甲氧基矽烷、3-基三甲氧基矽烷、3,3,3-基三甲氧基矽烷、3 -胺 甲氧基矽烷、2 -羥乙基 矽烷、2_羥丙基三乙氧 -羥丙基三乙氧基矽烷、 -10- 201141914 3 -疏基丙基三甲氧基砂院、3 -疏基丙基三乙氧基砂院、3· 異氣酸丙基三甲氧基砂院、3 -異氰酸丙基三乙氧基砂院、 3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙 氧基矽烷、2- (3,4 -環氧環己基）乙基三甲氧基矽烷、2-(3，4 -環氧環己基）乙基三乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯 氧基丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基三乙 氧基砂院、3 -醯脲基丙基三甲氧基砂院、3 -醯脲基丙基三 乙氧基矽烷、甲基三乙醯氧基矽烷等之三烷氧基矽烷等； 經2個非水解性基與2個水解性基取代的矽烷化合物 之二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二乙基二 甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、二正丙基二甲氧基矽 烷、二正丙基二乙氧基矽烷、二異丙基二甲氧基矽烷、二 異丙基二乙氧基矽烷、二正丁基二甲氧基矽烷、二正丁基 二乙氧基矽烷、二正戊基二甲氧基矽烷、二正戊基二乙氧 基砂烷、二正己基二甲氧基矽烷、二正己基二乙氧基矽烷、 二正庚基二甲氧基矽烷、二正庚基二乙氧基矽烷、二正辛 基二甲氧基矽烷、二正辛基二乙氧基矽烷、二正癸基二甲 氧基砂院、二正癸基二乙氧基矽烷、二正環己基二甲氧基 砂院、二正環己基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、 二苯基二乙氧基矽烷等之二烷氧基矽烷、二甲基二乙醯氧 基矽烷等； 經3個非水解性基與1個水解性基取代的矽烷化合物 之三丁基甲氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三甲基乙氧基 -11- 201141914 矽烷、三丁基乙氧基矽烷、三苯基甲氧基矽烷、三苯基乙 氧基矽烷等。 此等之中，含有式（1)中的R1中至少1個爲苯基之 矽烷化合物，又，式（1)中，相對於全部的R1而言，含 有苯基5〜80莫耳％。 此具有苯基的有機矽烷，由與本發明相關之組成物（1) 的儲存安定性與形成的層（I)的耐裂性之面來看，式（1) 中，相對全部的R1而言，具有苯基之有機矽烷的莫耳濃度 較佳係5〜80%，更佳係5〜60%。 若具有苯基的有機矽烷的含量比上述範圍多很多，組 成物（I )的硬化性有時會惡化，若具有苯基的有機矽烷的 含量比上述範圍少很多，組成物（I )的儲存安定性或形成 的層（I )的耐裂性有時會惡化。 在本發明中，可單獨使用1種有機矽烷（1)作爲矽烷 化合物（al)，亦可倂用2種以上有機矽烷（1)作爲矽烷 化合物（al)。當將作爲矽烷化合物（al)使用之2種以 上有機矽烷（1 )平均化而以上列式（1 )表示時，經平均 化之η (以下亦稱爲「η的平均値」）較佳係〇 · 5〜2.0，更 佳係0.6〜1.8’特佳係0.7〜1.6。若η的平均値未達上述 下限，組成物（I )的儲存安定性或層（I )的耐裂性有時 會惡化，若超過上述上限，組成物（I )的硬化性有時會惡 化。 η的平均値可藉由適當倂用1官能〜4官能的有機矽烷 -12- 201141914 (1 )並適當調整其調配比例，而調整至上述範圍。 另外’此與當使用有機砂院（丨）的水解物或縮合物作 爲矽烷化合物（a 1 )時亦相同.。 在本發明中’可直接使用有機矽烷（n作爲矽烷化合 物（al) ’亦可使用有機矽烷（1)的水解物及/或縮合物 作爲矽烷化合物（al)。當使用有機矽烷（1)作爲水解物 及/或縮合物時，可使用使有機矽烷（1)預先水解.縮合 而製造者’亦可當調製組成物（I)時，使有機砂垸（1) 水解.縮合而調製有機矽烷（1 )的水解物及/或縮合物。 (矽烷化合物（al)的製造方法） 使以上列式（1 )表示之矽烷化合物（a 1 )水解•縮合 的條件’只要是將以上列式（1 )表示之有機矽烷（1 )的 至少一部份水解而將水解性基轉變爲矽烷醇基或使縮合反 應發生者，並無特別限定，可如下實施而作爲一個例子。 (水） 使用於以上列式（1)表示之有機矽烷（1)的水解的 水’較·佳係使用藉由逆滲透膜處理、離子交換處理 '蒸飽 等之方法而純化的水。藉由使用此種純水’可抑制副反應 且提升水解的反應性。相對於以上列式（1 )表示之有機砂 烷（1 )的水解性基（-OR2 )的總量1莫耳’水的使用量較 佳係0 . 1〜3莫耳，更佳係0 · 3〜2莫耳，進一步更佳係0 · 5 〜1 · 5莫耳的量。藉由使用如此量的水，可將水解的反應速 度最佳化。 -13- 201141914 (有機溶劑） 就可使用於以上列式（ο表示之有機矽烷（1)的水 解.縮合的溶劑而言，並無特別限定，通常可使用與使用 於後述之聚合物（A 1 )的製造之溶劑相同者。就此種溶劑 的較佳的例子而言，可列舉丙醇、甲基乙基酮、甲基異丁 基酮、乙二醇單烷基醚乙酸酯、二乙二醇二烷基醚、丙二 醇單烷基醚、丙二醇單烷基醚乙酸酯、丙酸酯類。此等之 溶劑之中，較佳係丙醇 '甲基異丁基酮、二乙二醇二甲基 醚、二乙二醇乙基甲基醚 '丙二醇單甲基醚 '丙二醇單乙 基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯或3 -甲氧基丙酸甲酯。 (觸媒） 就可使用於以上列式（1 )表示之有機矽烷（1 )的水 解.縮合反應之觸媒而言，並無特別限定’通常可使用與 使用於後述之聚合物（A1)的製造之觸媒相同者。就此種 觸媒的較佳例子而言，在酸觸媒（例如鹽酸、硫酸、硝酸' 甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲磺酸、磷酸、酸性 離子交換樹脂、各種路易士酸）、鹼觸媒（例如氨、‘1級 胺類、2級胺類、3級胺類、吡啶等之含氮化合物；鹼性離 子交換樹脂；氫氧化鈉等之氫氧化物；碳酸鉀等之碳酸鹽； 乙酸鈉等之羧酸鹽；各種路易士鹼）或烷氧化物（例如锆 烷氧化物、鈦烷氧化物、鋁烷氧化物）等之觸媒的存在下 進行。例如就鋁烷氧化物而言’可使用四異丙氧基鋁。就 觸媒的使用量而言，由促進水解反應的觀點來看，相對於 -14- 201141914 水解性矽烷化合物的單體1莫耳，較佳係〇 _ 2莫耳以下， 更佳係0.00001〜0.1莫耳。 以上列式（1 )表示之有機矽烷（1 )的水解.縮合中 的反應溫度及反應時間係適當地設定。例如可採用下述之 條件。反應溫度較佳係4 0〜2 0 0。(：，更佳係5 0〜1 5 0 °c。反 應時間較佳係3 0分鐘〜2 4小時，更佳係1〜1 2小時。藉 由設定爲如此之反應溫度及反應時間，可最有效率地進行 水解反應。在此水解·縮合中，可在反應系統內一次添加 水解性矽烷化合物、水及觸媒進行一階段反應或藉由將水 解性矽烷化合物、水及觸媒分數次添加於反應系統內，進 行多階段水解及縮合反應。另外，可藉由在水解.縮合反 應後，添加脫水劑，接下來蒸發，而將水及生成的醇從反 應系統去除。 上述有機矽烷（1)的縮合物藉由凝膠滲透層析法（GPC 法）測定之聚苯乙烯換算的重量平均分子量（以下表示爲 「Μ\ν」）較佳係300〜100,000，更佳係500〜50,000。 當使用有機矽烷（1 )的縮合物作爲本發明中的矽烷化 合物（al)時，可由上述有機矽烷（1)調製，亦可使用市 售之有機矽烷的縮合物。就市售之有機矽烷的縮合物而 言，可列舉三菱化學（股）製的MKC矽酸鹽、COLCOAT 公司製的乙基矽酸鹽、Toray . Dow Corning · Silicones (股）製的聚矽氧樹脂或聚矽氧寡聚物、Momentive . Performance. Materials (股）製的聚砂氧樹脂或聚砂氧寡 -15- I：' 201141914 聚物'信越化學工業（股）製的聚矽氧樹脂或聚矽氧寡聚 物、Dow Corning. Asia (股）製的含經基之聚二甲基砂氧 烷等。此等市售之有機矽烷的縮合物可直接使用，亦可進 一步縮合而使用。 (聚合物A1 ) 本發明中，爲了基底基材的緊密性提升之目的，可使 用含有藉由使上述矽烷化合物（al)與含有特定的矽烷基 之乙烯系聚合物（a2)進行水解.縮合反應而調製之聚合 物（A1 )及金屬氧化物粒子（B )者作爲組成物（I )。更 具體而言，聚合物（A1)係在含有上述矽烷化合物（al) 與含矽烷基的乙烯系聚合物（a：2)的混合物中，添加促進 水解·縮合反應的觸媒與水而調製。 (含矽烷基之乙烯系聚合物（a2)) 使用於本發明之含特定的矽烷基之乙烯系聚合物（a2) (以下亦稱爲「含特定矽烷基之乙烯系聚合物（a2)」） 包含具有與水解性基及/或羥基鍵結之矽原子的矽烷基（以 下稱爲「特定矽烷基」）。 此含特定矽烷基之乙烯系聚合物（a2)較佳係在聚合 物分子鏈的末端及/或側鏈上具有特定矽烷基。 此特定矽烷基中的水解性基及/或羥基藉由與上述矽 院化合物（al)共縮合，而形成聚合物（A1)。藉由將含 有此聚合物（A1)及金屬氧化物粒子（b)的組成物塗布 於基材表面’作爲高折射率層而發生作用，並藉由將後述 -16 - 201141914 之層（II)進一步重疊塗布，可作爲抗反射積層體使用。 (特定矽烷基） 上述特定矽烷基，較佳係以下列式（3)表示之基。 (3) (R5)3-i

I -Si—Χι (式中，X表示鹵素原子、烷氧基、乙醯氧基、苯氧基、 硫烷氧基、胺基等之水解性基或羥基，R5表示氫原子、碳 原子數1〜10的烷基或碳原子數1〜10的芳烷基，i爲1〜 3的整數。） (含有特定矽烷基之乙烯系聚合物（a2)的製造方法） 此種含特定矽烷基之乙烯系聚合物（a2)例如可藉由 下述（I)或（II)的方法製造。 (I)使具有以上列式（3)表示之特定矽烷基的氫矽烷化 合物（以下亦僅稱爲「氫矽烷化合物（I)」），在具有碳 -碳雙鍵的乙烯系聚合物（以下稱爲「不飽和乙烯系聚合 物」）中的該碳-碳雙鍵上進行加成反應的方法。 (II )將以下列式（4 )表示之矽烷化合物（以下稱爲「不 飽和矽烷化合物（II)」）與乙烯系單體共聚的方法。 (R5)3-i (4) R6—Si—Xj (式中，X、R5、i各自與上列式（3)中的X、R5、i同義 R6表示具有聚合性雙鍵的有機基） 就使用於上述（I)的方法的氫矽烷化合物（I)而言， -17- 201141914 例如可列舉甲基二氯矽烷、三氯矽烷、苯基二氯矽烷等之 鹵化矽烷類；甲基二甲氧基矽烷、甲基二乙氧基矽烷、苯 基二甲氧基矽烷、三甲氧基矽烷、三乙氧基矽烷等之烷氧 基矽烷類；甲基二乙醯氧基矽烷、苯基二乙醯氧基矽烷、 三乙醯氧基矽烷等之醯氧基矽烷類；甲基二胺氧基矽烷、 三胺氧基矽烷、二甲基.胺氧基矽烷等之胺氧基矽烷類等。 此等之氫矽烷化合物（I)可單獨使用或混合2種以上使用。 又’使用於上述（I)的方法的不飽和乙烯系聚合物， 只要是具有羥基的聚合物以外者，並無特別限定，例如可 藉由下述（1-1 )或（1-2 )的方法或此等之組合等而製造。 (1-1)將具有官能基（以下稱爲「官能基（α)」）之乙 烯系單體（共）聚合之後，藉由對該（共）聚合物中的官 能基（α)使具有可與該官能基（α)反應之官能基（以 下稱爲「官能基（Θ)」）與碳•碳雙鍵之不飽和化合物 進行反應而製造在聚合物分子鏈的側鏈上具有碳—碳雙鍵 的不飽和乙烯系聚合物的方法。 (I - 2 )使用具有官能基（α )的自由基聚合起始劑（例如 4，4偶氮雙-4-氰基戊酸等）或使用自由基聚合起始劑與 連鎖移動劑的雙方皆具有官能基（α )的化合物（例如 4,4’ -偶氮雙-4-氰基戊酸與二硫甘醇酸等），將乙烯系單 體（共）聚合’合成在聚合物分子鏈的單末端或兩末端上 具有來自於自由基聚合起始劑或連鎖移動劑的官能基（《 ) 之（共）聚合物之後，藉由對該（共）聚合物中的官能基 -18 - 201141914 (α)使具有官能基（β)與碳.碳雙鍵之不飽和 進行反應’而製造在聚合物分子鏈的單末端或兩末 有碳-碳雙鍵的不飽和乙烯系聚合物的方法。 就（1-1)及（1-2)的方法中的官能基（α )與 (冷）的反應而言，例如可列舉羧基與羥基之酯化 羧酸酐基與羥基之開環酯化反應、羧基與環氧基之 化反應、羧基與胺基之醯胺化反應、羧酸酐基與胺 環醯胺化反應、環氧基與胺基之開環加成反應、羥 氰酸酯基之胺基甲酸酯化反應或此等之反應之組合 (乙烯系單體） (i)具有官能基（α)的乙烯系單體 就具有官能基（α )的乙烯系單體而言，例如 (甲基）丙烯酸、巴豆酸、順丁烯二酸、反丁烯二 甲基丁二酸等之不飽和羧酸； 順丁烯二酸酐、亞甲基丁二酸酐等之不飽和羧 2-羥乙基（甲基）丙烯酸酯、2-羥丙基（甲基 酸酯、3-羥丙基（甲基）丙烯酸酯、Ν-羥甲基（甲 烯醯胺基、2-羥乙基乙烯醚等之含羥基的乙烯系單 2 -胺基乙基（甲基）丙烯酸酯、2 -胺基丙基（ 丙烯酸酯、3 -胺基丙基（甲基）丙烯酸酯、2 -胺基 烯醚等之含胺基的乙烯系單體； 1，1,1-三甲基胺（甲基）丙烯醯亞胺、1-甲基 胺（甲基）丙烯醯亞胺、1,1-二甲基-1-(2-羥丙基） 化合物 端上具 官能基 反應、 開環酯 基之開 基與異 可列舉 酸、亞 駿酐； )丙烯 基）丙 i ; 甲基） 乙基乙 1-乙基 胺（甲 -19- 201141914 基）丙烯醯亞胺、1，1·二甲基-1-(2’ -苯基-2’ -羥乙基） 胺（甲基）丙烯醯亞胺、1,1-二甲基-1- ( 2’ -羥基-2’ -苯 氧基丙基）胺（甲基）丙烯醯亞胺等之含胺醯亞胺基的乙 烯系單體； 環氧丙基（甲基）丙烯酸酯、烯丙基環氧丙基醚等之 含環氧基的乙烯系單體等。此等之具有官能基（α )的乙 烯系單體可單獨使用或混合2種以上使用。 (ii )其他的乙烯系單體 就可與具有官能基（α )的乙烯系單體共聚之其他的 乙烯系單體而言，例如可列舉苯乙烯、α -甲基苯乙烯、4-甲基苯乙烯、2-甲基苯乙烯、3-甲基苯乙烯、4-甲氧基苯乙 烯、2-羥甲基苯乙烯、4-乙基苯乙烯、4-乙氧基苯乙烯、3,4-二甲基苯乙烯、3，4-二乙基苯乙烯、2-氯苯乙烯、3-氯苯乙 烯、4_氯-3-甲基苯乙烯、4-第三丁基苯乙烯、2,4-二氯苯 乙烯、2,6 -二氯苯乙烯、1-乙烯基萘等之芳香族乙烯基單體； (甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙 烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸正丁酯、（甲基）丙烯酸異丁 酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸異戊酯、（甲 基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸-2_乙基己酯、（甲基） 丙烯酸正辛酯、（甲基）丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸三環 [5·2.1.02·6]癸烷-8-基酯等之（甲基）丙烯酸烷酯化合物； 二乙烯基苯、乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二乙二醇二（甲 基）丙烯酸酯、三乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、四乙二醇 201141914 二（甲基）丙烯酸酯、丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、二丙 二醇二（甲基）丙烯酸酯、三丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、 四丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、丁二醇二（甲基）丙烯酸 酯、己二醇二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三（甲基） 丙烯酸酯、新戊四醇四（甲基）丙烯酸酯等之多官能性單 am · * (甲基）丙嫌醯胺、N-經甲基（甲基）丙嫌酿胺、N-甲氧基甲基（甲基）丙稀醯胺、N -丁氧基甲基（甲基）丙 烯醯胺、N，N’ -亞甲基雙丙烯醯胺、二丙酮丙烯醯胺、順 丁烯二酸醯胺、順丁烯二醯亞胺、苯基順丁烯二醯亞胺、 環己基順丁烯二醯亞胺等之酸醯胺化合物； 氯乙烯、偏二氯乙烯、脂肪酸乙烯酯等之乙烯化合物： 1,3-丁 二烯、2-甲基-1，3-丁 二烯、2,3-二甲基-1，3-丁 二烯、 2 -新戊基-1，3 -丁二烯、2 -氯-1，3 -丁 二烯、2 -氰基-1，3 -丁二 烯、異戊二烯、烷基、鹵素原子、氰基等之以取代基取代 之經取代直鏈共軛戊二烯類、直鏈狀及側鏈狀的共軛己二 烯等之脂肪族共軛二烯； 丙烯腈、甲基丙烯腈等之氰化乙烯化合物； 三氟乙基（甲基）丙烯酸酯、十五氟辛基（甲基）丙烯酸 酯等之含氟原子的單體； 4-(甲基）丙烯醯氧基- 2,2,6,6-四甲基哌啶、4-(甲基） 丙烯醯基胺基- 2,2,6,6-四甲基哌啶、4-(甲基）丙烯醯氧基 -1，2,2,6,6-五甲基哌啶等之哌啶系單體；- -21- 201141914 2-(2’ -羥基-5’ -甲基丙烯醯氧基乙基苯基）-2H-苯 并三唑、2-(2’ -羥基-3’ ·第三丁基-5，-甲基丙烯醯氧基 乙基苯基）-2Η-苯并三唑、2-羥基-4·(甲基丙烯醯氧基乙 氧基）二苯基酮、2-羥基- 4-(丙烯醯氧基乙氧基）二苯基 酮等之吸收紫外線單體； 二己內酯、烯丙基（甲基）丙烯酸酯等。此等可單獨1種 使用或倂用2種以上而使用。 就具有官能基（β )與碳•碳雙鍵的不飽和化合物而 言’例如可列舉與具有官能基（α )的乙烯系單體相同的 乙烯系單體或藉由使上述含羥基之乙烯系單體與二異氰酸 酯化合物在等莫耳下進行反應而製得之含異氰酸酯基的不 飽和化合物等。 (不飽和矽烷化合物） 又’就使用於上述（Π)的方法之不飽和矽烷化合物 (Π )而言，可列舉 CH2=CHSi (CH3) (OCH3) 2、CH2=CHSi (OCH3) 3、 CH2=CHSi (CH3) Cl2、CH2=CHSiCl3、 CH2 = CHCOO (CH2) 2Si (CH3) ( och3 ) 2、 CH2 = CHCOO (CH2) 2Si (OCH3) 3 ' CH2=CHCOO ( CH2 ) 3Si ( CH3) ( OCH3) 2、 CH2 = CHCOO (CH2) 3Si (OCH3) 3、 CH2 = CHCOO (CH2) 2Si (CH3) Cl2、CH3 CH2 = CHCOO (CH2) 2SiCl3 ' -22- 201141914 CH2 = CHCOO (CH2) 3Si (CH3) Cl2、 CH2 = CHCOO (CH2) 3S1CI3 ' ch2=c (ch3) COO (CH2) 2S1 (CH3) (OCH3) 2 ' CH2 = C (CH3) COO (CH2) 2Si (OCH3) 3 ' ch2=c (ch3) COO (CH2) 3Si (CH3) (OCH3) 2 ' CH2 = C (CH3) COO (CH2) 3S1 (OCH3) 3 ' CH2=C (CHs) COO (CH2) 2Si (CH3) Cl2 ' CH2 = C (CH3) COO (CH2) 2S1CI3 ' CH2 = C (CH3) COO (CH2) 3Si (CH3) Cl2、 ch2=c (ch3) COO (CH2) 3SiCl3 '

-23- 201141914 。此等可使用單獨1種或倂用2種以上而使用。 又，就與不飽和矽烷化合物進行共聚之其他的乙烯系 單體而言，例如可列舉在上述（1-1)的方法中例示之具有 官能基（α )的乙烯系單體或其他的乙烯系單體等。 就上述含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的製造方 法而言，例如可列舉將各單體一起添加而聚合的方法、將 單體的一部份聚合後’連續地或斷續地添加該剩餘者而聚 合的方法或在聚合開始時連續地添加單體的方法等。又， 亦可組合此等之聚合方法。 就較佳的聚合方法而言’可列舉溶液聚合。使用於溶 液聚合的溶劑’只要是可製造含特定矽烷基的乙稀系聚合 物（a2 )者，並無特別限制，例如可列舉醇類、—乙一醇 烷基醚類、乙二醇烷基醚乙酸酯類、丙二醇單院基酸類、 丙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚丙酸醋類、芳 香族烴類、醚類、酮類、酯類等。 就上述醇類而言’可列舉甲醇、乙醇、正丙醇異丙 醇、正丁醇、第二丁醇、第三丁醇、異丁醇、正己醇、正 辛醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、乙二醇單丁酸、二 丙酮醇等’就一乙一醇垸基醚類而言，例如可列舉—乙一 醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲酸、二乙二醇 二乙釀、二乙二醇乙基甲酸等’就乙二醇烷基醚乙酸醋類 而言’例如可列舉甲基溶纖素乙酸酯、乙基溶纖素乙酸醋1 乙二醇單丁酸乙酸醋、乙二醇單乙酸乙酸酯等， / -24 - 201141914 單烷基醚類而言’例如可列舉丙二醇單甲醚、丙二醇單乙 醚、丙二醇單丙醚、丙二醇單丁醚等，就丙二醇單烷基醚 乙酸酯類而言，例如可列舉丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇 單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯、丙二醇單丁醚乙酸 酯等，就丙二醇單烷基醚丙酸酯類而言，例如可列舉丙二 醇單甲醚丙酸酯、丙二醇單乙醚丙酸酯、丙二醇單丙醚丙 酸酯、丙二醇單丁醚丙酸酯等。 又，就芳香族烴類而言，可列舉苯、甲苯、二甲苯等， 就醚類而言，可列舉四氫呋喃、二噚烷等，就酮類而言’ 可列舉丙酮、環己酮、2 -庚酮、4_羥基-4-甲基-2-戊酮、甲 基乙基酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮等，就酯類而言’ 可列舉乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙 酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥 基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯' 羥基乙酸乙酯、羥基 乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯、乳酸異丙 酯、乳酸丁酯、3-羥基丙酸甲酯、3-羥基丙酸乙酯、3-羥基 丙酸丙酯、3-羥基丙酸丁酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲 氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧 基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基 乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙 酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸 甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁 酯、2 -甲氧基丙酸甲酯、2 -甲氧基丙酸乙酯、2 -甲氧基丙酸 -25- 201141914 丙酯、2 -甲氧基丙酸丁酯、2 -乙氧基丙酸甲酯、2 -乙氧基丙 酸乙酯、碳酸丙烯酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸 乙酯等。此等之有機溶劑可單獨使用1種，亦可混合2種 以上使用。 又，在上述聚合中可使用周知的聚合起始劑、分子量 調整劑、螯合劑、無機電解質。 本發明中，除了經如上述的聚合之含特定矽烷基的乙 烯系聚合物之外，亦可使用含特定矽烷基的環氧樹脂、含 特定矽烷基的聚酯樹脂等之其他的含特定矽烷基的乙烯系 聚合物作爲含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)。上述含 特定矽烷基的環氧樹脂例如可藉由對雙酚A型環氧樹脂、 雙酚F型環氧樹脂、氫化雙酚A型環氧樹脂、脂肪族聚環 氧丙基醚、脂肪族聚環氧丙基酯等之環氧樹脂中的環氧 基，使具有特定矽烷基的胺基矽烷類、乙烯基矽烷類、羧 基矽烷類、環氧丙基矽烷類等進行反應而製造。又，上述 含特定矽烷基的聚酯樹脂例如可藉由對聚酯樹脂中所含的 羧基或羥基，使具有特定矽烷基的胺基矽烷類、羧基矽烷 類、環氧丙基矽烷類等進行反應而製造。 藉由 GPC法而測定之含特定矽烷基的乙烯系聚合物 (a2)的聚苯乙烯換算的Mw較佳係2,000〜100,000，更 佳係3,000〜50,000。在本發明中，含特定矽烷基的乙烯系 聚合物（a2)可單獨使用或混合2種以上而使用。 在本發明中，矽烷化合物（al)與含有特定矽烷基之 -26- 201141914 乙稀系聚合物（a2)可進行共縮合。較佳係可藉由在矽烷 化合物（al)與含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的混 合物中添加水解•縮合反應用觸媒及水並進行共縮合而調 製。 此時’矽烷化合物（al)的含量（Wal)與含特定砂 烷基的乙烯系聚合物（a2)的含量（Wa2 )之重量比 (Wal/Wa2)，以 Wal+Wa2=l〇〇 計，係 5/95〜95/5，較 佳係1 5 / 8 5〜8 5 /1 5。另外，W a 1係矽烷化合物（a 1 )的完 全水解縮合物換算値，Wa2係含特定矽烷基的乙烯系聚合 物（a2)的固體成分換算値。若重量比（Wal/Wa2)在上 述範圍內，可獲得透明性或耐候性優良的層（I )。 另外’在本說明書中，所謂的完全水解縮合物，係稱 砂垸化合物的- OR基經100%水解成爲Si-OH基，然後經 完全縮合成爲矽氧烷結構者。 聚合物（A1)，具體而言較佳係藉由下述（1)〜（2) 的方法而調製。 (1) 在矽烷化合物（al)與含特定矽烷基的乙烯系聚合 物（a2 )與水解·縮合反應用觸媒之混合液中，將 水加入，以溫度4 〇〜8 0 °c、反應時間0.5〜1 2小時， 使矽烷化合物（al)與含特定矽烷基的乙烯系聚合 物（a2)進fj共縮合而調製聚合物（A1)。隨後可 視需要而添加安定性提升劑等之其他的添加劑。 (2 ) 將水加入矽烷化合物（a 1 )中，以溫度4 0〜8 〇 °c、 -27- 201141914 時間0.5〜1 2小時進行矽烷化合物（a丨）的水解. 縮合反應。接著’將含特定矽烷基的乙烯系聚合物 (a2 )及水解·縮合反應用觸媒加入並混合，然後 以溫度4 0〜8 0 °C、反應時間〇 . 5〜1 2小時進行縮合 反應而調製聚合物（A1)。隨後可視需要而添加安 定性提升劑等之其他的添加劑。當使用有機金屬化 合物作爲水解縮合觸媒時，較佳係在反應後添加上 述安定性提升劑。 藉由上述方法製得之聚合物（A1)的重量平均分子量， 以利用凝膠滲透層析儀測定之聚苯乙烯換算値計，通常係 2,500〜200,000’較佳係 3,000〜1$0,000，更佳係 3,500〜 100,000 〇 (觸媒） 在本發明中，當調製聚合物（A1)時，爲了促進上述 矽烷化合物（al)或含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2) 的水解•縮合反應，較佳係在上述矽烷化合物（al)與含 特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的混合物中添加觸媒。 藉由添加觸媒，可提升製得之聚合物（A1)的交聯度的同 時，藉由有機矽烷（1)的聚縮合反應而生成之聚矽氧烷的 分子量變大，就結果而言，可獲得強度、長期耐久性等優 良的層（I)。此外，觸媒的添加促進了上述矽烷化合物（al) 與含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的反應並在聚合物 (A1)上形成充分的反應部位（烷氧基）。就此種爲了促 -28- 201141914 進水解·縮合反應而使用的觸媒而言，例如可列 合物、酸性化合物、鹽化合物及有機金屬化合物 (鹼性化合物） 就上述鹼性化合物而言，可列舉氨（含氨水 有機胺化合物、氫氧化鈉、氫氧化鉀等之鹼金屬 金屬的氫氧化物、甲氧化鈉、乙氧化鈉等之鹼金 化物。此等之中，較佳係氨及有機胺化合物。 就有機胺而言，可列舉烷基胺、烷氧基胺、 芳香基胺等。 就烷基胺而言，可列舉甲胺、乙胺'丙胺、 胺、辛胺、N，N-二甲胺、N，N -二乙胺、Ν,Ν-二丙 二丁胺、三甲胺、三乙胺、三丙胺、三丁胺等之 子數1〜4烷基的烷基胺等》 就烷氧基胺而言，可列舉甲氧基甲胺、甲氧 甲氧基丙胺、甲氧基丁胺、乙氧基甲胺、乙氧基 氧基丙胺、乙氧基丁胺、丙氧基甲胺、丙氧基乙 基丙胺、丙氧基丁胺、丁氧基甲胺、丁氧基乙胺 丙胺、丁氧基丁胺等之具有碳原子數1〜4烷氧基 胺等。 就烷醇胺而言，可列舉甲醇胺、乙醇胺、丙 醇胺、Ν-甲基甲醇胺、Ν-乙基甲醇胺、Ν-乙基乙 丙基乙醇胺、Ν-丁基乙醇胺、Ν-甲基丙醇胺、Ν 胺、Ν-丙基丙醇胺、Ν-丁基丙醇胺、Ν-甲基丁醇 舉鹼性化 〇 溶液）、 或鹼土類 屬的烷氧 烷醇胺、 丁胺、己 胺、Ν，Ν-具有碳原 基乙胺、 乙胺、乙 胺、丙氧 、丁氧基 的烷氧基 醇胺、丁 醇胺、Ν · -乙基丙醇 :胺、Ν -乙 -29- 201141914 基丁醇胺、N-丙基丁醇胺、N-丁基丁醇胺、Ν,Ν-二甲基甲 醇胺、N，N-二乙基甲醇胺、Ν,Ν-二丙基甲醇胺、N，N-二丁 基甲醇胺、Ν，Ν·二甲基乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N， N-二丙基乙醇胺、N，N-二丁基乙醇胺、N，N-二甲基丙醇胺、 Ν,Ν-二乙基丙醇胺、Ν,Ν-二丙基丙醇胺、Ν,Ν-二丁基丙醇 胺、Ν，Ν-二甲基丁醇胺' Ν，Ν-二乙基丁醇胺、Ν，Ν-二丙基 丁醇胺、Ν,Ν-二丁基丁醇胺、Ν-甲基二甲醇胺、Ν-乙基二 甲醇胺、Ν-丙基二甲醇胺、Ν-丁基二甲醇胺、Ν-甲基二乙 醇胺、Ν-乙基二乙醇胺' Ν-丙基二乙醇胺、Ν-丁基二乙醇 胺、Ν-甲基二丙醇胺、Ν-乙基二丙醇胺、Ν-丙基二丙醇胺、 Ν-丁基二丙醇胺、Ν-甲基二丁醇胺、Ν-乙基二丁醇胺、Ν-丙基二丁醇胺、Ν-丁基二丁醇胺、Ν-(胺基甲基）甲醇胺、 Ν-(胺基甲基）乙醇胺、Ν-(胺基甲基）丙醇胺、Ν-(胺 基甲基）丁醇胺、Ν-(胺基乙基）甲醇胺、Ν-(胺基乙基） 乙醇胺、Ν-(胺基乙基）丙醇胺、Ν-(胺基乙基）丁醇胺、 Ν-(胺基丙基）甲醇胺、Ν-(胺基丙基）乙醇胺、Ν-(胺 基丙基）丙醇胺、Ν-(胺基丙基）丁醇胺、Ν-(胺基丁基） 甲醇胺、Ν-(胺基丁基）乙醇胺、Ν-(胺基丁基）丙醇胺、 Ν-(胺基丁基）丁醇胺等之具有碳原子數1〜4烷基的烷醇 胺。 就芳香基胺而言，可列舉苯胺、Ν-甲基苯胺等。 此外，就上述之外的有機胺而言，亦可列舉氫氧化四 甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫氧化四丙基銨、氫氧化四丁 -30- 201141914 基銨等之氫氧化四烷基銨；四甲基乙二胺、四乙基乙二胺、 四丙基乙二胺、四丁基乙二胺等之四烷基乙二胺；甲基胺 基甲基胺、甲基胺基乙基胺、甲基胺基丙基胺、甲基胺基 丁基胺、乙基胺基甲基胺、乙基胺基乙基胺、乙基胺基丙 基胺、乙基胺基丁基胺、丙基胺基甲基胺、丙基胺基乙基 胺、丙基胺基丙基胺、丙基胺基丁基胺、丁基胺基甲基胺、 丁基胺基乙基胺、丁基胺基丙基胺、丁基胺基丁基胺等之 烷基胺基烷基胺；乙二胺、六亞甲二胺、二伸乙三胺、三 伸乙四胺、四伸乙五胺、間伸苯基二胺、對伸苯基二胺等 之多胺；吡啶、吡咯、哌哄、吡咯啶、哌啶、甲基吡啶、 味啉、甲基味啉、二吖雙環辛烷、二吖雙環壬烷、二吖雙 環十一烯等。 此種鹼性化合物可單獨使用1種，亦可混合2種以上 使用。此等之中，較佳係三乙基胺、氫氧化四甲基銨、吡 Π定。 (酸性化合物） 就上述酸性化合物而言，可列舉有機酸及無機酸’。就 有機酸而言，例如可列舉乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己烷 酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、草酸、順丁烯二酸、順丁 烯二酸酐、甲基丙二酸、己二酸、癸二酸、五倍子酸、丁 酸、苯六甲酸、二十碳四烯酸、莽草酸、2 -乙基己烷酸、 油酸、硬脂酸、亞麻油酸、異亞麻油酸、柳酸、苯甲酸、 對胺基苯甲酸、對甲苯磺酸、苯磺酸、單氯乙酸、二氯乙

S -31 201141914 酸、三氯乙酸、三氟乙酸、甲酸、丙二酸、甲磺酸、鄰苯 二甲酸、反丁烯二酸、檸檬酸、酒石酸等。就上述無機酸 而言，例如可列舉鹽酸、硝酸、硫酸、氟酸、磷酸等。 此種酸性化合物可單獨使用1種，亦可混合2種以上 使用。此等之中，特佳係順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、甲 磺酸、乙酸。 (鹽化合物） 就上述鹽化合物而言，可列舉環烷酸、辛基酸、亞硝 酸、亞硫酸、鋁酸、碳酸等之鹼金屬鹽等。 (有機金屬化合物） 就上述有機金屬化合物而言，可列舉有機金屬化合物 及/或其部分水解物（以下將有機金屬化合物及/或其部分 水解物統稱爲「有機金屬化合物類」）》 就上述有機金屬化合物類而言，例如可列舉以下列式 (b) M (OR7) r (R8COCHCOR9) s (b) (式中，M表示選自由锆、鈦及鋁所構成群組中的至少1 種金屬原子，R7及R8各自獨立地表示甲基、乙基、正丙基、 異丙基、正丁基、第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、 環己基、苯基等之碳原子數1〜6個的1價烴基，R9表示 前述碳原子數1〜6個的1價烴基或甲氧基、乙氧基、正丙 氧基、異丙氧基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、 月桂氧基、硬脂醯氧基等之碳原子數1〜16個的烷氧基，r -32- 201141914 及S各自獨立地爲0〜4的整數，且滿足（r+s) = (Μ的 原子價）的關係）表示之化合物（以下稱爲「有機金屬化 合物（b)」）、在1個錫原子上經鍵結1〜2個碳原子數 1〜10個的烷基之4價錫的有機金屬化合物（以下稱爲「有 機錫化合物」）或此等之部分水解物等。 又，就有機金屬化合物類而言，可使用四甲氧基鈦、 四乙氧基鈦、四-異丙氧基鈦、四-正丁氧基鈦等之四烷氧 基鈦類；甲基三甲氧基鈦、乙基三乙氧基鈦、正丙基三甲 氧基鈦、異丙基三乙氧基鈦、正己基三甲氧基鈦、環己基 三乙氧基鈦、苯基三甲氧基鈦、3-氯丙基三乙氧基鈦、3-胺基丙基三甲氧基鈦、3-胺基丙基三乙氧基鈦、3-( 2-胺基 乙基）-胺基丙基三甲氧基鈦、3- ( 2-胺基乙基）-胺基丙基 三乙氧基鈦、3-(2-胺基乙基）-胺基丙基甲基二甲氧基鈦、 3-苯胺基丙基三甲氧基鈦、3-锍基丙基三乙氧基鈦、3-異氰 酸丙基三甲氧酯鈦、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基鈦、3-醯 脲基丙基三甲氧基鈦等之三烷氧基鈦類：二甲基二乙氧基 鈦、二乙基二乙氧基鈦、二正丙基二甲氧基鈦、二異丙基 二乙氧基鈦、二正戊基二甲氧基鈦、二正辛基二乙氧基鈦、 二正環己基二甲氧基鈦、二苯基二甲氧基鈦等之二烷氧基 鈦類等之鈦烷氧化物及其縮合物。 就有機金屬化合物（b)而言，例如可列舉四-正丁氧 基锆、三正丁氧基•乙基乙醢乙酸鉻、二正丁氧基.雙（乙 基乙醯乙酸）锆、正丁氧基.·參（乙基乙醯乙酸）銷、肆

S -33- 201141914 (正丙基乙醯乙酸）銷、肆（乙醯基乙醯乙酸）锆、肆（乙 基乙醯乙酸）锆、二正丁氧基·雙（乙醯丙酮）锆等之有 機锆化合物； 四-異丙氧基鈦、二異丙氧基·雙（乙基乙醯乙酸）鈦、 二異丙氧基•雙（乙醯基乙酸）鈦、二異丙氧基·雙（乙 醯基丙酮）鈦等之有機鈦化合物； 三異丙氧基鋁、二異丙氧基•乙基乙醯乙酸鋁、二異 丙氧基·乙醯丙酮鹽鋁、異丙氧基·雙（乙基乙醯乙酸） 鋁、異丙氧基·雙（乙醯丙酮）鋁、參（乙基乙醯乙酸） 鋁、參（乙醯丙酮）鋁、單乙醯丙酮鹽·雙（乙基乙醯乙 酸）鋁等之有機鋁化合物。 就有機錫化合物而言，例如可列舉 (C4H9)2Sn(OCOCuH23)2、 (C4H9) 2Sn (OCOCH=CHCOOCH3) 2 ' (C4H9) 2Sn (OCOCH=CHCOOC4H9) 2 ' (C8H17) 2Sn (OCOC8H,7) 2' (C8H17) 2Sn (OCOC"H23) 2、 (C8H17) 2Sn (OCOCH=CHCOOCH3) 2、 (C8H17) 2Sn (OCOCH=CHCOOC4H9) 2、 (C8H17) 2Sn (OCOCH=CHCOOC8H17) 2、 (C8H17) 2Sn (OCOCH=CHCOOCi6H33) 2、 (C8H17) 2Sn (〇COCH=CHCOOC17H35) 2、 (C8H17) 2Sn (OCOCH=CHCOOCi8H37) 2 ' -34- 201141914 (C8H17) 2Sn (OCOCH=CHCOOC20H41) 2、 (C4H9)2SnOCOCH3 0 1 (C4H9)2SnOCOCH3、 (C4H9) Sn (OCOCnH23) 3 ' (C4H9) Sn (OCONa) 3 等之羧酸型有機錫化合物； (C4H9) 2Sn (SCH2CO〇C8H17) 2、 (C4H9) 2Sn (SCH2CH2COOC8H17) 2、 (C8H17) 2Sn (SCH2COOC8H17) 2、 (C8H17) 2Sn (SCH2CH2COOC8H17) 2、 (C8H17) 2Sn (SCH2COOCI2H25) 2、 (C4H9) Sn (SCOCH=CHCOOC8H17) 3 ' (C8H17) Sn (SCOCH=CHCOOC8H17) 3、 (C4H9)2 S丨n(SCH2COOC8H17) 0 1 (C4H9)2 Sn(SCH2COOC8H17) 等之硫醇化合物型有機錫化合物； (C4H9)2Sn=S、（C8H17)2Sn = S、

:S (C4H9)S丨η: (C4H9)Sn=S 等之硫醚型有機錫化合物； -35- 201141914 (C4H9) SnCl3、（C4H9) 2SnCl2、 (C8H17) 2SnCl2、 (C4H9)2SnCl

S

I (C4H9)2SnCl 等之氯化物型有機錫化合物； (C4H9) 2SnO、（ C8H17 ) 2SnO 等之有機錫氧 此等之有機錫氧化物與矽酸鹽、順丁烯二酸二甲酯 烯二酸二乙酯、鄰苯二甲酸二辛酯等之酯化合物之 成物等。 此種有機金屬化合物可單獨使用1種，亦可混 以上使用。此等之中，較佳係二正丁氧基·雙（乙？ 錐、二辛基錫.順丁烯二酸二辛酯、二異丙氧基· 醯丙酮）鈦、二異丙氧基·乙基乙醯乙酸鋁、參（ 醯乙酸）鋁或此等之部分水解物。 又，上述觸媒亦可與其他的反應遲延劑混合而 當上述觸媒爲有機金屬化合物類以外之時，相 烷化合物（al) 100重量份（由有機矽烷（1)的完 縮合物來換算），上述觸媒的使用量通常爲0.001 -量份，較佳係〇 . 01〜8 0重量份，更佳係0 · 1〜5 0重 當上述觸媒爲有機金屬化合物類時，相對於矽烷 (al) 100重量份（由有機矽烷（1)的完全水解縮 換算），上述觸媒的使用量通常爲100重量份以下 化物或 、順丁 反應生 合2種 癖丙酮） 雙（乙 乙基乙 使用。 對於矽 全水解 -100 重 量份。 化合物 合物來 ，較佳 -36- 201141914 係0. 1〜80重量份，更佳係0.5〜50重量份。 上述觸媒的使用量若超過上述上限，由於聚合物（A1) 的儲存安定性降低，有時會發生凝膠化、層（1)的交聯度 變爲過高而發生龜裂。 (安定性提升劑） 在本發明中，爲了要提升聚合物（A1)的儲存安定性 等，較佳係在調製聚合物（A 1 )後，視需要而添加安定性 提升劑。使用於本發明之安定性提升劑選自由以下列式（6 ) R10COCH2COR" (6) (式中，R1Q表示甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、 第二丁基、第三丁基、正戊基、正己基、環己基、苯基等 之碳原子數1〜6個的1價烴基，R11表示前述碳原子數i 〜6個的1價烴基或甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧 基、正丁氧基、第二丁氧基、第三丁氧基、月桂氧基、硬 脂醯氧基等之碳原子數1〜16個的烷氧基。）表示之占. 二酮類、-嗣基酯類、羧酸化合物、二羥基化合物、胺化 合物及羥醛化合物構成之群組中之至少1種的化合物。 當使用有機金屬化合物類作爲上述觸媒時，較佳係添 加以上列式（6 )表示之安定性提升劑。茲認爲藉由使用安 定性提升劑，安定性提升劑會配位於有機金屬化合物類的 金屬原子，此配位可抑制矽烷化合物（a 1 )與含特定矽院 基的乙烯系聚合物（a2)的過剩共縮合反應，而進一步提 升製得之聚合物（A 1 )的儲存安定性。 -37- 201141914 就此種安定性提升劑而言，例如可列舉乙醯基丙酮、 乙醯乙.酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、乙醯乙酸正丙酯、乙醯乙 酸異丙酯、乙醯乙酸正丁酯、乙醯乙酸第二丁酯、乙醯乙 酸第三丁酯、己烷-2,4-二酮、庚烷-2,4_二酮、庚烷-3,5_二 酮、辛烷-2，4-二酮、壬烷-2,4-二酮、5 -甲基己烷- 2,4 -二酮、 丙二酸、草酸、鄰苯二甲酸 '二醇酸、柳酸、胺基乙酸、 亞胺基乙酸、乙二胺四乙酸、二醇、兒茶酚、乙二胺、2,2-聯吡啶、1，1 〇 -啡啉、二伸乙三胺、2 -乙醇胺、二甲基乙二 醛二肟、雙硫腙、甲硫胺酸、柳醛等。此等之中，較佳係 乙醯基丙酮及乙醯乙酸乙酯。 又，安定性提升劑可單獨使用1種，亦可混合2種以 上使用。 相對前述有機金屬化合物類的有機金屬化合物1莫 耳，使用於本發明之安定性提升劑的量通常係2莫耳以 上，較佳係3〜20莫耳爲宜。安定性提升劑的量若未達上 述下限，製得之組成物的儲存安定性的提升效果則會不充 分。 (水） 在本發明中，將水添加於上述矽烷化合物（al)與含 特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2 )的混合物中，可將矽烷 化合物（al)與含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)共縮 合而調製聚合物（A1)。 相對於矽烷化合物（al)中的全部〇R2基1莫耳，此 -38- 201141914 時添加之水量通常係0 · 1〜1 ·0莫耳，較佳係0 ·2〜0.8莫 耳，更佳係、0.25〜0.6莫耳。水的添加量若在上述範圍內’ 則會難以發生凝膠化，且展現組成物良好的儲存安定性。 又，水的添加量若在上述範圍內’可製得經充分交聯之聚 合物（A1)，藉由使用含有此種聚合物（A1)及金屬氧化 物粒子（B )的組成物’可獲得層（1 )。 (有機溶劑） 在本發明中，可使矽烷化合物（al)與含特定矽烷基 的乙烯系聚合物（a2)在有機溶劑中進行水解•縮合反應。 此時，亦可直接使用在前述含矽烷基的有乙烯系聚合物 (a2)的調製時使用之有機溶劑。又，爲了調整聚合物（A1) 調製時的固體成分濃度，亦可視需要而添加有機溶劑。此 外，可將在前述含矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的調製時 使用之有機溶劑去除並重新添加有機溶劑。 上述有機溶劑可添加使聚合物（A1)調製時的固體成 分濃度成爲較佳係10〜80重量％，更佳係15〜60重量％， 特佳係20〜50重量％的範圍之量。另外，當直接使用前述 含矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的調製時使用的有機溶劑， 且聚合物（A1)調製時的固體成分濃度在上述範圍內時， 可添加有機溶劑，亦可不添加。 藉由調整聚合物（A1)調製時的固體成分濃度，可控 制矽烷化合物（al)與含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2) 的反應性。 -39- 201141914 若聚合物（A1)調製時的固體成分濃度未達上述下限， 則矽烷化合物（al)與含特定矽烷基的乙烯系聚合物（a2) 的反應性有時會降低。若聚合物（A1)調製時的固體成分 濃度超過上述上限，則有時會發生凝膠化。另外，此處所 謂之固體成分濃度中的固體成分量係矽烷化合物（a 1 )的 完全水解縮合物換算之使用量（Wal)與含特定矽烷基的 乙烯系聚合物（a2)的固體成分換算之使用量（Wa2 )的 總量。 就上述有機溶劑而言，只要是可均勻地混合上述成分 者，並無特別限定’可列舉舉例說明作爲使用於上述含特 定矽烷基的乙烯系聚合物（a2)的製造之有機溶劑的醇類、 二乙二醇烷基醚類、乙二醇烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷 基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚丙酸 酯類、芳香族烴類、醚類、酮類、酯類等。又，此等之有 機溶劑可單獨使用1種，亦可混合2種以上使用。 (金屬氧化物粒子（B )) 本發明的組成物（I)進一步含有金屬氧化物粒子（B)。 上述金屬氧化物粒子只要是金屬元素氧化物的粒子， 則其種類並無特別限定，但例如可列舉氧化銻、氧化锆、 銳鈦礦型氧化鈦、金紅石型氧化鈦、板鈦礦型氧化鈦、氧 化鋅、氧化鉅、氧化銦、氧化給、氧化錫、氧化鈮、氧化 鋁、氧化铈、氧化航、氧化釔 '氧化鑭、氧化鐯 '氧化鈸、 氧化釤、氧化銪、氧化釓、氧化铽、氧化鏑、氧化鈥、氧 -40- 201141914 化銷、氧化錢、氧化鏡、氧化鍵、氧化耗、氧化鎵、氧化 鋰、氧化緦、氧化鎢、氧化鋇、氧化鎂及此等之複合體， 以及銦-錫複合氧化物等之上述金屬2種以上的複合體氧化 物等之金屬氧化物。又，亦可使用矽氧化物與金屬氧化物 的複合氧化物的粒子或以矽氧化物被覆金屬氧化物的表面 之氧化物的粒子作爲上述金屬氧化物粒子（B )。 在本發明中，金屬氧化物粒子（B)亦可單獨使用1 種或混合2種以上使用。金屬氧化物粒子（B )可視其賦予 之機能而適當選擇，在本發明宜使用銳鈦礦型氧化鈦、金 紅石型氧化鈦、氧化銷、氧化鋁、氧化鋅。 當調配金屬氧化物粒子（B )時，亦可在粉體或經分散 於異丙醇、丙二醇單甲基醚、甲基乙基酮、甲基異丁基酮 等之極性溶劑或甲苯等之非極性溶劑之溶劑系的溶膠或膠 體等之形態下使用。添加前的金屬氧化物粒子（B )亦可凝 集而形成二次粒子。又，爲了提升金屬氧化物粒子（B)的 分散性，可進行表面處理而使用。 此等金屬氧化物粒子（B )的1次粒徑通常係 0.000 1 〜ljUm，更佳係 0.001 〜0.5/im，特佳係 0.002 〜0.2j«m。 當金屬氧化物溶劑系係溶膠或膠體時，其固體成分濃度通 常超過0重量％且在50量％以下，較佳係〇.〇1重量％以 上且40重量％以下。在金屬氧化物粒子（B)中，當在溶 膠或膠體等之形態下使用時，可藉由攪拌葉片等，使其在 溶液中分散。另一方面，在金屬氧化物粒子（B)中，當使 -41 - 201141914 用粉體時的分散，可使用球磨、沙磨（珠磨，高剪力珠磨）、 均質機、超音波均質機、奈米化機、螺旋槳式混合器、高 剪力混合器、塗料搖擺器、行星式混合機、雙輥、三輥、 捏合輥等周知的分散機，尤其適合使用高分散的微粒子分 散體球磨、沙磨（珠磨，高剪力珠磨）、塗料搖擺器。 相對於組成物（I)中的全部固體成分重量，金屬氧化 物粒子（B )的使用量，以固體成分計，通常超過1 0重量 %且在90重量％以下，較佳係20重量％以上且80重量％ 以下。當金屬氧化物粒子（B )的使用量比上述重量還多時， 組成物（I )的儲存安定性有時會劣化，當使用量比上述重 量還少時，無法充分降低在層（I)上積層層（II)而製得之 抗反射積層體的反射率、視感反射率，又層（I )的耐裂性 有時會劣化。 (硬化觸媒） 在本發明中使用之組成物（I)中，亦可進一步添加硬 化觸媒。就此種硬化觸媒而言，例如可列舉當聚合物（A 1 ) 調製時使用之前述鹼性化合物、酸性化合物、氯化合物及 有機金屬化合物。鹼性化合物可使用單獨1種亦可混合使 用2種以上，特佳係三乙基胺、氫氧化四甲基銨、吡啶。 酸性化合物可使用單獨1種，亦可混合使用2種以上，特 佳係順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、甲磺酸、乙酸。有機金 屬化合物可使用單獨1種，亦可混合使用2種以上，較佳 係二正丁氧基·雙（乙醯丙酮）锆、二辛基錫.順丁烯二 -42- 201141914 酸二辛醋、二異丙氧基•雙（乙醯丙酮）欽、二異丙氧基.. 乙基乙醯乙酸鋁、參（乙基乙醯乙酸）鋁、或此等之部分 水解物。 (有機溶劑、水） 在本發明中使用之組成物（I)中，可進一步添加有機 溶劑或水而調整固體成分濃度。就有機溶劑而言，可使用 在前述聚合物（A1)調製之項目舉例說明者。 (任意添加成分） 在本發明所使用的組成物（I)中，可視需要添加調平 劑、濕潤性改良劑、界面活性劑、塑化劑、紫外線吸收劑、 抗氧化劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、（B )成分以外的無機塡 充劑。 (2-2)組成物（I)的調製方法 在本發明中使用之組成物（I)，可藉由在矽烷化合物 (al)及/或聚合物（A1)中添加金屬氧化物粒子（B)的 粉體並進行分散步驟或混合預先製作之金屬氧化物粒子 (B)的分散溶膠而製得。 分散步驟（i)當使用溶劑系的溶膠或膠體作爲金屬氧 化物粒子（B)時可使用攪拌葉片等之手法，（π)當使用 粉體粒子作爲金屬氧化物粒子（B)時，可使用球磨、珠磨、 塗料搖擺器等之手法。視需要而可在組成物（I)中添加前 述的有機溶劑、水、安定性提升劑、硬化觸媒、任意添加 成分’此等可在進行分散步驟前預先添加，亦可在進行分 -43- 201141914 散步驟後添加。 另外，關於上述硬化觸媒，由於金屬氧化物粒子（B ) 亦作爲組成物（I )的硬化觸媒而發生作用，故可視需要而 減少上述硬化觸媒的添加量。 (2-3 )組成物（I )的製膜方法 在基材上塗布在本發明中使用之組成物（I)並加熱乾 燥而使用。 塗布方法並無特別限制，可使用刷毛塗、筆塗、棒塗、 刀塗、刮刀塗布（doctor blade)、網版印刷、噴霧塗布、旋 轉塗布機、撒布機（applicator)、輥塗機、流動塗布機（fl〇w co at er)、離心塗布機、超音波塗布機、（微）凹板塗模、 浸塗（dip coat)、彈性印刷（flexo print)、嵌裝（potting)等之 手法，亦可於塗布在其他的基材（轉印基材）上後進行轉 印而使用。 加熱乾燥較佳係在5 0〜2 5 0 °C範圍內的溫度下加熱〇 . 5 〜1 8 0分鐘。在加熱乾燥係使用通常的烘箱，可使用熱風 式、對流式、紅外線式等。在藉由加熱而除去溶劑的同時， 在層內進行縮合反應，可獲得有更高強度的層。 加熱溫度高，加熱時間長，則殘留溶劑亦少，又更有 益於上述縮合反應進行。加熱步驟可經複數的階段而升 溫，以1階段進行加熱亦可。根據使用之溶劑的含量及沸 點與加熱條件而言，由於製得之層表面有時會粗糙，故宜 針對適切的加熱步驟進行預先檢討。 -44- 201141914 (3 )層（⑴ M (II)中含有聚有機矽氧烷（C)及數量平均粒徑1

1ΛΛ @以二氧化矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子 ~ 1 U U n m pJ (D )。 胃（Π)雖視其用途而不同，但係使用折射率1.25以 上且未達l50者，並在膜厚〇_〇ljUm〜l〇jL<m的範圍內使 用。 (3 -1 )組成物（11 ) 此種層（II ) ’例如可由含有選自由以下列式（2 ) R3mSi ( OR4 ) 4-m ( 2 ) (式中，R3表示碳原子數1〜12的1價有機基，當存在2 個以上時，可互爲相同亦可互爲不同° r4各自獨立地表示 碳原子數1〜5的院基或碳原子數1〜6的醯基° m爲0〜3 的整數。） 表示之至少1種的有機矽烷（以下亦稱爲「有機矽烷 (2)」）、有機矽烷（2)的水解物及有機矽烷（2)的縮 合物構成的群組中之至少1種的矽烷化合物（c 1 )的組成 物（以下稱爲「組成物（Π )」）的硬化物而製得。 (矽烷化合物（c 1 )) 使用於本發明之矽烷化合物（cl)係選自由上述有機 矽烷（2)、有機矽烷（2)的水解物及有機矽烷（2)的縮 合物構成的群組中之至少1種的矽烷化合物，在此等3種 的矽烷化合物之中，可僅使用1種矽烷化合物，亦可混合 -45- 201141914 使用任意的2種矽烷化合物或混合使用全部3種矽院化合 物。又，當使用有機矽烷（2)作爲矽烷化合物（cl)時， 有機矽烷（2)可使用單獨1種，亦可倂用2種以上。又， 上述有機砍院（2)的水解物及縮合物可爲由1種有機砂院 (2)而形成者，亦可爲倂用2種以上有機砂院（2)而形 成者。 有機矽烷（2)中含有之1〜4個OR2基之中的至少1 個可進行水解，上述有機矽烷（2 )的水解物，例如可爲1 個OR2基經水解者，2個以上OR2基經水解者或此等之混 合物。 上述有機矽烷（2)的縮合物係有機矽烷（2)水解而 生成之水解物中的矽烷醇基進行縮合而形成Si-0-Si鍵 者。在本發明中，矽烷醇基不需全部進行縮合，前述縮合 物亦包含僅一部份的矽烷醇基經縮合者、大部分（含全部） 的矽烷醇基經縮合者、還有此等之混合物等。 在上列式（2)中’ R3係碳原子數1〜12個之非水解 性有機基，具體而言’可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、 戊基、己基、庚基、辛基、癸基、2 -乙基己基等之院基； 乙醯基、丙醯基、丁醯基、戊醯基、苯甲醯基、甲苯 甲醯基、己醯基等之醯基； 乙烯基、烯丙基、環己基、苯基、環氧環烷基、環氧 丙基、（甲基）丙烯醯氧基、醯脲基、醯胺基、氟乙醯胺、 異氰酸酯基等。 -46 - 201141914 此外’就R3而言，可列舉上述有機基的取代衍生物 等。就R3的取代衍生物的取代基而言，例如可列舉經取代 或未經取代的胺基、羥基 '锍基、異氰酸酯基、環氧丙氧 基、3-環氧丙氧基丙基、3，4_環氧環己基、3，4_環氧環己基 乙基、（甲基）丙烯醯氧基、3_(甲基）丙烯醯氧基丙基、 醯脲基、銨鹽基等。當在式（2)中存在複數個R3時，可 各自相同亦可各自不同。 就碳原子數爲1〜5個的烷基之R4而言，例如可列舉 甲基、乙基、丙基、丁基、.戊基等，就碳原子數1〜6的醯 基之R2.而言’例如可列舉乙醯基、丙醯基、丁醯基、戊醯 基、己醯基等。當在式（2)中存在複數個R4時，可各自 相同亦可各自不同。 就此種以上列式（2 )表示之水解性矽烷化合物的具體 例子而言，可各自列舉： 四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四苯 氧基矽烷、四苯甲氧基矽烷、四-正丙氧基矽烷、四-異丙 氧基矽烷等作爲經4個水解性基取代之矽烷化合物； 甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、甲基三異丙 氧基矽烷、甲基三丁氧基矽烷、乙基三甲氧基矽烷、乙基 三乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽 烷、異丙基三甲氧基矽烷、異丙基三乙氧基矽烷、乙基三 異丙氧基矽烷、乙基三丁氧基矽烷、正丁基三甲氧基矽烷、 正丁基三乙氧基矽烷、正戊基三甲氧基矽烷、正己基三甲 -47- 201141914 氧基矽烷、正庚基三甲氧基矽烷、正辛基三甲氧基矽烷、 正癸基三甲氧基矽烷、正癸基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲 氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三正丙氧基矽烷、 環己基三甲氧基矽烷、環己基三乙氧基矽烷、苯基三甲氧 基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、3 -胺基丙基三甲氧基矽烷、 3·胺基丙基三乙氧基矽烷、2-羥乙基三甲氧基矽烷、2-羥乙 基三乙氧基矽烷、2-羥丙基三甲氧基矽烷、2-羥丙基三乙 氧基矽烷、3 -羥丙基三甲氧基矽烷、3 -羥丙基三乙氧基矽 烷、3-锍基丙基三甲氧基矽烷、3-毓基丙基三乙氧基矽烷、 3-異氰酸丙基三甲氧矽烷、3-異氰酸丙基三乙氧矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3·環氧丙氧基丙基三乙氧 基矽烷、2-( 3,4-環氧環己基）乙基三甲氧基矽烷、2-( 3,4-環氧環己基）乙基三乙氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基 丙基三甲氧基矽烷、3-(甲基）丙烯醯氧基丙基三乙氧基 矽烷、3 -醯脲基丙基三甲氧基矽烷、3_醯脲基丙基三乙氧 基砂烷、甲基三乙醯氧基矽烷等之三烷氧基矽烷等作爲經 1個非水解性基與3個水解性基取代之矽烷化合物； 二甲基二甲氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、二乙基 二甲氧基矽烷、二乙基二乙氧基矽烷、二正丙基二甲氧基 砂院、二正丙基二乙氧基矽烷、二異丙基二甲氧基矽烷、 二異丙基二乙氧基矽烷、二正丁基二甲氧基矽烷、二正丁 基二乙氧基矽烷、二正戊基二甲氧基矽烷、二正戊基二乙 氧基砂烷、二正己基二甲氧基矽烷、二正己基二乙氧基矽 -48- 201141914

烷、二正庚基二甲氧基矽烷、 正辛基一甲氧基矽烷、二正辛基二乙氧基矽烷二正癸基 一甲氧基矽烷、二正癸基二乙氧基矽烷、二正環己基二甲 氧基矽烷、二正環己基二乙氧基矽烷、二苯基二甲氧基矽 烷、一本基—乙氧基矽烷等之二烷氧基矽烷、二甲基二乙 醯氧基矽烷等作爲經2個非水解性基與2個水解性基取代 之矽烷化合物； 三丁基甲氧基矽烷、三甲基甲氧基矽烷、三甲基乙氧 基砂院、三丁基乙氧基矽烷、三苯基甲氧基矽烷、三苯基 乙氧基矽烷等作爲經3個非水解性基與1個水解性基取代 之矽烷化合物。 此等之中’在式（2)中的R3較佳係不含氟的有機基。 若由降低反射率之本發明的目的來就積層體而言之，在層 (II)中導入氟而降低折射率，使其與層（I)的折射率差 變大乃爲有利。然而’含氟的官能基通常會朝降低分子間 的相互作用之方向發生作用。因此，若在聚合物中導入氟， 則會有塗布膜變柔軟、硬度降低的問題。 在本發明中’可單獨使用1種有機矽烷（2)作爲矽烷 化合物（c 1 )’亦可倂用2種以上的有機矽烷（2 )作爲矽 烷化合物（c 1)。當將使用作爲矽烷化合物（c 1 )之2種 以上的有機矽烷（2 )平均化而以上列式（2 )表示時，經 平均化之η(以下亦稱爲「η的平均値」）較佳係0.5〜2.0, 更佳係0.6〜1.8，特佳係0.7〜1.6。若η的平均値未達上 -49- 201141914 述下限，則組成物（11 )的儲存安定性有時會劣化，若超 過上述上限，則層（11 )的硬化性有時會劣化。 η的平均値可藉由適當倂用1官能〜4官能的有機砂院 (2)，並適當調整其調配比例而調整至上述範圍。 另外’此係與使用有機矽烷（2 )的水解物或縮合物作 爲矽烷化合物（c 1 )的情形相同。 在本發明中，可直接使用有機矽烷（2 )作爲矽烷化合 物（c 1 ) ’但亦可使用有機矽烷（2 )的水解物及/或縮合 物。當使用有機矽烷（2)作爲水解物及/或縮合物時，可 使用使有機矽烷（2 )預先水解·縮合而製造者，但亦可在 當調製組成物（II )時，使有機矽烷（2 )水解.縮合而調 製有機矽烷（2 )的水解物及/或縮合物。 (矽烷化合物（cl)的製造方法） 使以上列式（2 )表示之矽烷化合物（c 1 )水解•縮合 的條件，只要是使以上列式（2 )表示之有機矽烷（2 )的 至少一部份水解而將水解性基轉變成矽烷醇基、或使縮合 反應發生者，並無特別限定，可如以下般地實施而作爲一 個例子。 (水） 使用於以上列式（2)表示之有機矽烷（2)的水解之 水，較佳係使用藉由逆滲透膜處理、離子交換處理、蒸耀 等之方法而純化之水。藉由使用此種純化水，可抑制副反 應、使水解的反應性提升。相對於以上列式（2 )表示之有 -50- 201141914 機矽烷（2 )的水解性基（-〇 R2 )的總量1莫耳，水 量較佳係0.1〜3莫耳，更佳係0.3〜2莫耳，進一步 0.5〜1.5莫耳之量。藉由使用此種水量，可將水解 速度最佳化。 (有機溶劑） 就可使用於以上列式（2)表示之有機矽烷（2 解·縮合的溶劑而言，並無特別限定，通常可使用 之使用於聚合物（A1)的製造之溶劑相同者。就此 的較佳例子而言，可列舉丙醇、甲基乙基酮、甲基 酮、乙二醇單烷基醚乙酸酯、二乙二醇二烷基醚、 單烷基醚、丙二醇單烷基醚乙酸酯、丙酸酯類。此 劑之中，較佳係丙醇、甲基異丁基酮、二乙二醇二甲 二乙二醇乙基甲基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙 丙二醇單甲基醚乙酸酯或3-甲氧基丙酸甲酯。 (觸媒） 就欲使以上列式（2)表示之有機矽烷（2)的 縮合反應可以進行的觸媒而言，並無特別限定，通 用與前述之使用於聚合物（A1)的製造之觸媒相同 此種觸媒的較佳例子而言，可在酸觸媒（例如鹽酸、 硝酸、甲酸、草酸、乙酸、三氟乙酸、三氟甲磺酸、 酸性離子交換樹脂、各種路易士酸）、鹼觸媒（例$ 級胺類、2級胺類、3級胺類、吡啶等之含氮化合物 離子交換樹脂；氫氧化鈉等之氫氧化物；碳酸鉀等 的使用 更佳係 的反應 )的水· 與前述 種溶劑 異丁基 丙二醇 等之溶 基醚、 基醚、 水解· 常可使 者。就 硫酸、 磷酸、 口氨、1 :鹼性 之碳酸 -51 · 201141914 鹽；乙酸鈉.等之羧酸鹽；各種路易士鹼）、或院氧化物（例 如锆烷氧化物、鈦烷氧化物、鋁烷氧化物）等之觸媒的存 在下進行。例如就鋁院氧化物而言，可使用四_異丙氧基 鋁。由促進水解反應的觀點來看，相對於水解性砂院化合 物的單體1莫耳，觸媒的使用量較佳係0.2莫耳以下，更 佳係0.00001〜0.1莫耳。 以上列式（2)表示之有機矽烷（2)的水解.縮合中 的反應溫度及反應時間係適當地設定。例如可採用下述之 條件。反應溫度較佳係4 0〜2 0 0 °C，更佳係5 0〜1 5 0 °C。反 應時間較佳係3 0分鐘〜2 4小時，更佳係1〜1 2小時。藉 由設定爲此種反應溫度及反應時間，可最有效率地進行水 解反應。在此水解.縮合中，可在反應系統內同時添加水 解性矽烷化合物、水及觸媒’進行一階段反應，或可藉由 將水解性矽烷化合物、水及觸媒分成數次添加至反應系統 內，而進行多階段水解及縮合反應。另外，藉由在水解· 縮合反應之後添加脫水劑，接著予以蒸發，而可從反應系 統除去水及生成之醇。 上述有機矽烷（2 )的縮合物經利用凝膠滲透層析儀法 (GPC法）而測定之聚苯乙烯換算的重量平均分子量（以 下表示爲「Mw」）較佳係 300〜100, 〇〇〇，更佳係 500〜 50,000 » 當使用有機矽烷（2)的縮合物作爲本發明中的矽烷化 合物（cl)時，可由上述有機矽烷（2)調製，亦可使用市 -52- 201141914 售之有機矽烷的縮合物。就市售之有機矽烷的縮合物而 言，可列舉三菱化學（股）製的MKC矽酸鹽、COLCOAT 公司製的乙基矽酸鹽、Toray. Dow Corning. Silicones(股） 製的聚矽氧樹脂或聚矽氧寡聚物、Momentive · Performance· Materials (股）製的聚砂氧樹脂或聚砂氧寡 聚物、信越化學工業（股）製的聚矽氧樹脂或聚矽氧寡聚 物、Dow Corning. Asia (股）製的含羥基的聚二甲基矽氧 烷等。此等市售之有機矽烷的縮合物可直接使用，亦可進 —步使其縮合而使用。 (數量平均粒徑1〜l〇〇nm的以二氧化矽作爲主成分之中 空或多孔質的粒子（D )) 本發明的組成物（II)中含有將數量平均粒徑1〜lOOnm 的二氧化矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)。利用 穿透型電子顯微鏡測定粒徑。藉由調配粒子（D)，可讓本 發明的組成物硬化而成之硬化物顯現低折射率、耐擦傷 性。就（D)粒子而言，可使用周知者，又，其形狀亦不限 於球狀，可爲不定形。較佳係固體成分爲5〜40重量％之 膠體二氧化矽。 又，分散媒較佳係水或有機溶劑。就有機溶劑而言， 可列舉甲醇、異丙醇、乙二醇、丁醇、乙二醇單丙基醚等 之醇類；甲基乙基酮 '甲基異丁基酮等之酮類；甲苯、二 甲苯等之芳香族烴類；二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮等之醯胺基類；乙酸乙酯、乙酸丁酯、r-丁 -53- 201141914 內酯等之酯類；四氫呋喃、I，4 -二噚烷等之醚類等之有機 溶劑’此等之中’較佳係醇類及酮類。此等有機溶劑可單 獨作爲分散媒而使用或混合2種以上作爲分散媒而使用。 就（D )粒子的市售品而言，例如可列舉觸媒化成工業股份 有限公司製 商品名：JX1008SIV、JX1009SIV、 JX1010SIV、 JX1012SIV 等。 相對於有機溶劑以外的組成物總量，（D )成分的調配 量通常調配10〜80重量％，較佳係20〜80重量％，更佳 係30〜80重量％。另外’粒子的量係意指固體成分，當粒 子在溶劑分散溶膠的形態下使用時，其調配量中不含溶劑 的量。當金屬氧化物粒子（D)的使用量比上述重量還少時， 製得之抗反射積層體的反射率、視感反射率、耐擦傷性有 時會劣化。 又，將二氧化砂作爲主成分的粒子（D)，可使用在粒 子表面經進行化學修飾等之表面處理者，例如可使含有在 分子中具有1個以上的烷基之水解性矽化合物或其水解物 者等進行反應。就此種水解性矽化合物而言，可列舉三φ 基甲氧基矽烷、三丁基甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基砂院、 二丁基二甲氧基矽烷、甲基三甲氧基矽烷、丁基三甲氧基 矽烷、辛基三甲氧基矽烷、十二烷基三甲氧基矽烷、l，l，b 三甲氧基-2,2，2-三甲基-二矽烷、六甲基-1，3-二矽氧院、 1,1，1-三甲氧基-3,3 ,3-三甲基-1，3-二矽氧烷、α-三甲基砂 烷基-ω-二甲基甲氧基矽烷基-聚二甲基矽氧烷、三甲基 -54- 201141914 矽烷基·ω-三甲氧基矽烷基-聚二甲基矽氧烷六甲基 二矽氮烷等。又，亦可使用在分子中具有1個以上的 性基之水解性矽化合物。在分子中具有1個以上的反 基之水解性矽化合物，例如就具有ΝΗ2基作爲反應性 而言，可列舉尿素丙基三甲氧基政烷、Ν- ( 2-胺基乙 -3-胺基丙基三甲氧基矽烷等，就具有ΟΗ基者而言， 舉雙（2 -羥乙基）-3胺基三丙基甲氧基矽烷等，就具 氰酸酯基者而言，可列舉3 -異氰酸丙基三甲氧酯矽烷 就具有硫氰酸酯基者而言，可列舉3 -硫氰酸酯丙基三 基矽烷等，就具有環氧基者而言，可列舉（3-環氧丙 丙基）三甲氧基矽烷、2-(3,4 -環氧環己基）乙基三甲 矽烷等，就具有硫醇基者而言，可列舉3-锍基丙基三 基矽烷等。可列舉3 _锍基丙基三甲氧基矽烷作爲較佳 合物。 亦可藉由含有丙烯醯基等聚合性不飽和基的有機 物’來進行將二氧化矽作爲主成分的粒子（D)的表面戾 藉由在預先形成之層（I)上積層組成物（II)並 硬化而成爲層（II )，可作爲低折射率層而發生作用 可作爲抗反射積層體使用。 (具有聚二甲基矽氧烷骨架的化合物（E)) 視需要而可在本發明中的組成物（11 )中調配具 二甲基矽氧烷骨架的化合物（E)。具有聚二甲基矽氧 架的化合物（E )具有改善表面潤滑性、提升硬化塗膜 -1,3- 反應 應性 基者 基） 可列 有異 等， 甲氧 氧基 氧基 甲氧 的化 化合 I理。 使其 ，且 有聚 烷骨 的耐 201141914 擦傷性的效果的同時，亦可賦予防污性。此等具有聚二甲 基矽氧烷的化合物（E)較佳係高分子量，進一步較佳係具 有（甲基）丙烯醯基或羥基、環氧基、羧基、胺基等反應 性基。就此等之具體事例而言，可列舉 SILAPLANE FM-441 1 、FM-442 1 、FM-4425、FM-77 1 1 、FM- 7 72 1 、 FM-7 72 5、FM-04 1 1、FM-042 1、FM-0425、FM-DA11 、 FM-DA21 、FM-DA26、FM0711 、FM 072 1 、FM-0 72 5、 ΤΜ-0701、ΤΜ·0701Τ( Chisso(股）製）、UV3500、UV3510、 UV3530( BYK-Chemie· Japan(股）製）、YF3800、XF3905、 YF3057、YF3807、YF3802、YF3897、XC96-723( Momentive. Performance . Materials . Japan 製)、BY 1 6-004、S F 8 4 2 8 (Toray. Dow Corning Silicones(股）製）、VPS-1001 (和 光純藥製）、Rad2500、260 0( TEGO 製）、KF-101、X-22-2046、 X-22-163C 、 X-22-164B 、 X-22-162C ， X-22-9002 (信越 SILICONE 製）等。特佳係 SILAPLANE FM-77H、FM-7721、 FM-7725、FM-041 卜 FM-0421、FM-0425、FM0711、FM0721、 FM-072 5 > XF3905、YF3807、VPS-1001、Rad2600。 相對於去除有機溶劑之組成物總量，（E )成分的添加 量通常係0.01〜20重量％。此理由爲若添加量未達0.01 重量％，則無法充分獲得潤滑性改善的效果，另一方面， 若添加量超過20重量％，則會由於過量的成分導致塗膜強 度的降低或發生塗布性惡化。 又’由於此種理由，更佳係使（E )成分的添加量成爲 -56- 201141914 0.1〜15重量％，更佳係使其成爲〇5〜ι〇重量％之範圍內 的値。 (硬化觸媒） 亦可在本發明中使用的組成物（Π)中進一步添加硬 化觸媒。就此種硬化觸媒而言，例如可列舉在聚合物（A 1 ) 調製時使用的前述鹼性化合物、酸性化合物、氯化合物及 有機金屬化合物。鹼性化合物可使用單獨丨種，亦可混合 使用2種以上’特佳係三乙基胺 '氫氧化四甲基銨、吡啶。 酸性化合物可使用單獨1種，亦可混合使用2種以上，特 佳係順丁烯二酸、順丁烯二酸酐、甲磺酸、乙酸。有機金 屬化合物可使用單獨1種，亦可混合使用2種以上，較佳 係二正丁氧基.雙（乙醯丙酮）锆、二辛基錫.順丁烯二 酸二辛酯、二異丙氧基.雙（乙醯丙酮）鈦、二異丙氧基· 乙基乙醯乙酸鋁、參（乙基乙醯乙酸）鋁、或此等之部分 水解物。 (有機溶劑、水） 可在本發明中使用的組成物（II )中進一步添加有機 溶劑或水而調整固體成分濃度。就有機溶劑而言’並無特 別限制，例如可列舉醇類、二乙二醇烷基醚類、乙二醇烷 基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸 酯類、丙二醇單烷基醚丙酸酯類、芳香族烴類、醚類、酮 類、酯類等。 就上述醇類而言，可列舉甲醇、乙醇、正丙醇、異丙 -57- 201141914 醇、正丁基醇、第二丁基醇、第三丁基醇、異丁基醇、正 己基醇、正辛基醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、乙二 醇單丁基醚、二丙酮醇等，就二乙二醇烷基醚類而言’例 如可列舉二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二 醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇乙基甲基醚等’ 就乙二醇烷基醚乙酸酯類而言，例如可列舉甲基溶纖素乙 酸酯、乙基溶纖素乙酸酯、乙二醇單丁基醚乙酸酯、乙二 醇單乙基醚乙酸酯等，就丙二醇單烷基醚類而言’例如可 列舉丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丙基醚' 丙二醇單丁基醚等，就丙二醇單烷基醚乙酸酯類而言’例 如可列舉丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸 酯、丙二醇單丙基醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯等’ 就丙二醇單烷基醚丙酸酯類而言，例如可列舉丙二醇單甲 基醚丙酸酯、丙二醇單乙基醚丙酸酯、丙二醇單丙基醆丙 酸酯、丙二醇單丁基醚丙酸酯等。 又，就芳香族烴類而言，可列舉苯、甲苯、二甲苯等’ 就醚類而言’可列舉四氫呋喃、二噚烷等’就酮類而言’ 可列舉丙酮、環己酮、2-庚酮、4-羥基_4_甲基-2-戊酮、甲 基乙基酮、甲基異丁基酮、二異丁基酮等，就酯類而言’ 可列舉乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸異丙酯、乙 酸丁酯、2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸甲酯、2-羥 基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸甲酯、羥基乙酸乙酯、羥基 乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丙酯 '乳酸異丙 -58- 201141914 酯、乳酸丁酯、3 -羥基丙酸甲酯、3 -羥基丙酸乙酯、3 -羥基 丙酸丙酯、3 -羥基丙酸丁酯、2 -羥基-3-甲基丁酸甲酯、甲 氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丙酯、甲氧 基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基 乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙 酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯 '丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸 甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁 酯、2 -甲氧基丙酸甲酯、2 -甲氧基丙酸乙酯、2 -甲氧基丙酸 丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙 酸乙酯、碳酸伸丙酯、3 -乙氧基丙酸甲酯、3 -乙氧基丙酸 乙酯等。此等之有機溶劑可單獨使用1種，亦可混合2種 以上使用。 (任意添加成分） 視需要而可在本發明中使用的組成物（II )中添加調 平劑、濕潤性改良劑、界面活性劑、塑化劑、紫外線吸收 劑、抗氧化劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑、無機塡充劑。 (3-2)組成物（II)的調製方法 本發明中使用的組成物（Π)可藉由在矽烷化合物 (cl )中添加二氧化矽數量平均粒徑1〜lOOnm的以二氧化 矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)並進行混合及/ 或分散步驟而製得。 當進行分散步驟時，（i)當使用溶劑系的溶膠或膠體 作爲數量平均粒徑1〜lOOnm的以二氧化矽作爲主成分之 -59- 201141914 中空或多孔質的粒子（D)時可使用攪拌葉片等之手法 當使用粉體粒子作爲數量平均粒徑1〜l〇〇nm的以二 矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)時，可使用装 珠磨、塗料搖擺器等之手法。視需要而可在組成物（ 中添加前述之有機溶劑、水、安定性提升劑、硬化觸 任意添加成分，此等可在進行分散步驟前預先添加， 在進行分散步驟後添加。 (3-3)組成物（II)的製膜方法 將本發明中使用的組成物（II)塗布於在基材上 膜之層（I)上，並加熱乾燥而使用。層（II)與層（： 較係低折射率，藉由形成此種積層體，可賦予抗反射 組成物（II )的塗布方法並無特別限制，可使用刷毛 筆塗、棒塗、刀塗、刮刀塗布、網版印刷、噴霧塗布 轉塗布機、撒布機、輥塗機、流動塗布機、離心塗布 超音波塗布機、（微）凹板塗模、浸塗、彈性印刷、 等之手法，亦可塗布於其他的基材（轉印基材）上後 轉印而使用。 加熱乾燥較佳係在50〜25 0°C範圍內的溫度下， 〇_5〜180分鐘。在加熱乾燥係使用通常的烘箱，可使 風式、對流式、紅外線式等。藉由加熱除去溶劑的同 在層內進行縮合反應，可獲得有更高強度的層。加熱 高，加熱時間長，則殘留溶劑亦少，又更有益於前述 反應進行。加熱步驟可經複數的階段而升溫，以1階 > (ϋ ) 氧化 长磨、 II) 媒、 亦可 經製 [)相 能。 塗、 、旋 機、 嵌裝 進行 加熱 用熱 時， 溫度 縮合 段進 -60- 201141914 行加熱亦可。根據使用之溶劑的含量及沸點與加熱條件而 言，由於製得之層表面有時會粗糙’故宜針對適切的加熱 步驟進行預先檢討。 (4)積層體的用途 本發明中製得之抗反射積層體係將矽氧烷結構作爲主 骨架，與通常的有機高分子相較，其耐熱性.耐光性.耐 候性優良。又，由於可藉由塗布而製造，故與真空蒸鍍等 之手法相較，其成本面或製程面優良。 本發明中製得之抗反射積層體可作爲抗反射膜使用。 亦可在屋內使用，但更常使用於在屋外使用之大畫面顯示 裝置、車用導航器或行動電話、·影像監視器等，可適合作 爲針對於陰極射線管顯示器、液晶顯示器、電漿顯示器、 有機EL顯示器、背投影顯示器等之各種顯示器或結晶矽 型、非晶質矽型、有機薄膜型、色素增感型、化合物半導 體型、高分子型、量子點型等之各種太陽能電池的抗反射 膜而使用。 尤其是屋外設置用裝置，其中數位電子看板等之屋外 設置用顯示器適合作爲本發明中製得之抗反射積層體之用 途。 (5 )抗反射積層體形成用組成物套件 爲了在基材上形成本發明的積層體，可使用上述組成 物（I )及組成物（11 )構成的套件。 [實施例] -61 - 201141914 以下，藉由實施例說明本發明，但本發明並非因此實 施例而受任何限定。另外，實施例及比較例中的「份」及 「％」，只要沒有特別註記，係表示「重量份」及「重量 %」。又，實施例及比較例中的各種測定係藉由下述之方 法進行。 (1 ) GPC測定 矽氧烷的重量平均分子a係藉由凝膠滲透層析儀以下 述條件進行測定，並以聚苯乙烯換算値表示。裝置： HLC-8 1 20C ( TOSOH 公司製）管柱：TSK-gel

MultiporeHxL-M( TOSOH 公司製）洗提液：THF、流量 0.5mL/min、負荷量 5.0%、100/iL、測定溫度：40°C (2 )儲存安定性 將製得之高折射率層用組成物·低折射率層用組成物 在常溫下密栓儲存於聚乙烯製容器內1個月，藉由目視來 判定凝膠化及粒子沈降的有無。針對未凝膠化者，利用東 京計器公司製的BM型黏度計在25 °C下進行黏度測定，並 以下述基準進行評價。 A :儲存前後的黏度變化率爲2〇%以下 B :儲存前後的黏度變化率超過20% (3 )折射率測定 藉由旋塗將製得之組成物塗布於矽晶圓上’以使塗布 膜厚成爲ljum，使用在烘箱中經燒結並乾燥者，用稜鏡耦 合（Prism Coupler)裝置（Metricon 公司製 2010)測定在 6 3 3 n m之折射率》 -62- 201141914 (4)固體成分濃度 在鋁盤上秤量製得之組成物溶液約2g，由在加熱板上 於2 00°C下加熱30分鐘後的重量變化求取。 (5 )視感反射率（Y値）測定 假設爲屋外顯示器用途而測定視感反射率（Y値）。 視感反射率（Y値）測定係使用分光光度計（日本分光製， V-670)來實施，在380-780nm的波長範圍內進行解析。 〇：Y値未達1 % △ : Y値爲1%以上且未達1.5% X : Y値爲1 . 5 %以上 (6 )反射率測定 假設爲結晶矽型的太陽能電池用途而測定反射率。積 層體的反射率測定係使用分光光度計（日本分光製，V-6 70 ) 來實施，在900- 1 200nm的波長範圍內進行解析。 〇：反射率未達2% △:反射率爲2%以上且未達4% - X :反射率爲4%以上 (7 )促進耐候性 針對製得之抗反射積層體，以JIS A 5 75 9爲準則 (溫度6 3 °C、濕度5 0 %、降雨1 8分鐘/1 2 0分鐘照射的條 件），使用陽光型碳弧（sunshine carbon arc)燈式耐候性試 驗機，實施促進耐候試驗。實施測定直至2000小時後，進 行硬化物的外觀觀察及測定視感反射率（Y値），用以下 -63- 201141914 的基準評價耐候性。 (針對於屋外顯示器之抗反射積層體的基準） ◎:至2000小時無外觀變化（龜裂、白化等），Y値未達 1% 〇：至1 000小時無外觀變化（龜裂、白化等），Y値未達 1% △:完全無外觀變化（龜裂、白化等），γ値爲〗％以上且 未達1 .5% X :可辨認外觀變化（龜裂、白化等），Y値爲1 · 5 %以上 (經假設爲結晶矽型的太陽能電池用途之抗反射積層體的 基準） ◎:至2000小時無外觀變化（龜裂、白化等），反射率未 達2% 〇：至1 〇 〇 0小時無外觀變化（龜裂、白化等），反射率未 達2% △:完全無外觀變化（龜裂、白化等）’ γ値爲2%以上且 未達4% X :可辨認外觀變化（龜裂、白化等）’ Y値爲4 %以上 (8)鉛筆硬度（表面硬度）試驗

針對製成之具有抗反射積層體的基板’利用JIS K - 5 4 0 0 - 1 9 9 0之8.4.1錯筆刮痕試驗來測定給筆硬度（表面 硬度）。 (9 )耐擦傷性試驗 -64 - 201141914 針對形成之具有抗反射積層體的基板，使用學振型磨 耗試驗機，在鋼絲絨# 〇 〇 〇 〇上掛載2 0 0 g的負重，進行1 〇 個往返。用以下的判定基準以肉眼評價在硬化膜表面的擦 傷的狀況。 ◎:在硬化膜上沒有損傷產生 〇 :硬化膜的剝離或損傷的產生幾乎無法辨認認或在硬化 膜上可辨認出輕微細小的損傷 △:在硬化膜全體上可辨認出筋狀的損傷 X :產生硬化膜的剝離 若爲◎、〇，則可謂具有良好的耐擦傷性。 (1 0 )耐裂性的效果 針對形成之具有抗反射積層體的基板，在23 °C下放置 24小時，使用雷射顯微鏡（KEYENCE製VK-8500)確認 該抗反射積層膜表面上是否有龜裂產生。用以下的判定基 準進行評價。 ◎:完全無龜裂 〇：僅在基板端部有輕微（1〜3個）龜裂 △:有3〜10個的龜裂 X :有10個以上的龜裂 若爲◎、〇，則可謂龜裂有無發生的確認結果爲良好。 <合成例1 > 在具備回流冷卻器及攪拌機的反應器中，混合甲基三 甲氧基矽烷72份、苯基三甲氧基矽烷28份、3-環氧丙氧 -65- 201141914 基丙基三甲氧基矽烷8份、作爲溶劑之丙二醇單甲基酸71 份、水1 9份、作爲觸媒之一異'內氧基•乙基乙醯乙酸錦的 異丙醇1 0 %稀釋液1份，在7 5 °C下進行水解縮合反應3小 時。冷卻至室溫’製得固體成分濃度爲30重量％，Mw爲 3000的聚合物（1)溶液。 <合成例2 > 在具備回流冷卻器及攪拌機的反應器中，添加甲基丙 烯酸甲酯70份、2 -乙基己基丙烯酸酯10份、環己基甲基 丙烯酸酯9份、丁基丙烯酸酯20份、γ -甲基丙烯醯氧基 丙基三甲氧基矽烷7份、4-(甲基）丙烯醯氧基_2,2，6,6-四甲基哌啶5份、異丁基醇75份、甲基乙基酮50份及甲 醇25份並混‘合後，一面攪拌一面加溫80°C至。對此混合 物花費3 0分鐘滴下將偶氮雙異丁腈3份溶解於乙酸丁酯8 份而成之溶液後，在8 0 °C下使其反應5小時。冷卻後，添 加40份甲基乙基酮，製得固體成分濃度爲40%、Mw爲 15000的聚合物（2)溶液。 <合成例3 > 在具備攪拌機及回流冷卻器的反應器中’添加甲基三 甲氧基矽烷17份與苯基三甲氧基矽烷25份、含有上述聚 合物（2)的溶液43份、作爲有機溶劑的甲基異丁基酮50 份及作爲水解.縮合反應觸媒的二異丙氧基.乙基乙酿乙 酸鋁的異丙醇10%稀釋液1份並混合’一面攪拌—面升溫 至50¾。對此花費30分鐘滴下水8份後’在60 °C下使其 201141914 反應4小時。其後’添加作爲安定性提升劑的乙醯基丙酮 4份並攪拌1小時後，冷卻至室溫，製得固體成分濃度爲 30重量％，Mw爲18000的聚合物溶液。 <合成例4 > 在具備回流冷卻器及攪拌機的反應器中，混合甲基三 甲氧基矽烷50份、苯基三甲氧基矽烷29份、二甲基二甲 氧基矽烷2 7份、作爲溶劑的丙二醇單甲基醚7 4份、水1 8 份、作爲觸媒的三乙基胺的異丙醇10%稀釋液2份，在75 °C 下進行水解縮合反應3小時。冷卻至室溫，製得固體成分 濃度爲30重量％，Mw爲25 00的聚合物（4)溶液。 <合成例5 > 在具備攪拌機及回流冷卻器的反應器中，添加甲基三 甲氧基矽烷24份與苯基三甲氧基矽烷14份、三甲基甲氧 基矽烷1 1份、含有上述聚合物（2 )的溶液43份、作爲有 機溶劑的甲基異丁基酮41份及作爲水解·縮合反應觸媒的 草酸10%稀釋液3份並混合，一面攪拌一面升溫至50 °C。 對此花費30分鐘滴下水8份後，在60 °C下使其反應4小 時。其後，添加作爲安定性提升劑的乙醯基丙酮4份並攪 拌1小時後，冷卻至室溫，製得固體成分濃度爲3 0重量％， Mw爲17000的聚合物（5)溶液。 <合成例6 > 在具備回流冷卻器及攪拌機的反應器中，混合甲基三 甲氧基矽烷108份、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷1〇 -67- 201141914 份、作爲溶劑的丙二醇單甲基醚5 8份、水2 3份 媒的三乙基胺的異丙醇10%稀釋液1份，在75 °C 解縮合反應3小時。冷卻至室溫，製得固體成分 重量％，Mw爲3500的聚合物（6)溶液。 <合成例7 > 在具備回流冷卻器及攪拌機的反應器中，混 甲氧基矽烷38份、苯基三甲氧基矽烷22份、三 甲氧基矽烷37份、作爲溶劑的丙二醇單甲基醚 1 5份、作爲觸媒的三乙基胺的異丙醇1 0 %稀釋浓 7 5 °C下進行水解縮合反應3小時。冷卻至室溫， 成分濃度爲30重量％、Mw爲2400的聚合物 <合成例8 > 在具備回流冷卻器及攪拌機的反應器中，混 基矽烷39份、甲基三甲氧基矽烷43份、苯基三 烷25份、作爲溶劑的丙二醇單甲基醚73份、水 爲觸媒的三乙基胺的異丙醇10%稀釋液1份，在 行水解縮合反應3小時。冷卻至室溫，製得固體 爲30重量％、Mw爲3500的聚合物（8)溶液。 〔組成物的調製〕 <調製例1 > 相對於本發明的聚合物（Ο溶液27份，添 次粒徑lOnrn的氧化鈦粉體及甲基異丁基酮18份 胺〇 · 〇 1份，用塗料搖擺器分散4小時’製得固體 、作爲觸 下進行水 濃度爲3 0 合甲基三 氟丙基三 87份、水 ί 1份，在 製得固體 ◦溶液。 合四甲氧 甲氧基矽 1 9份、作 75°C下進 成分濃度 加4份一 、二乙基 成分濃度 •68- 201141914 25重量％的組成物（X_l)。儲存安定性爲A。 <調製例2 > . 相對於本發明的聚合物（1 )溶液1 5份’添加8份一 次粒徑1 Onm的氧化锆粉體及甲基異丁基酮28份、三乙基 胺〇. 〇 1份，用塗料搖擺器分散4小時’製得固體成分濃度 25重量％的組成物（X-2 )。儲存安定性爲A。 <調製例3 > 相對於本發明的聚合物（1 )溶液1 5份’添加8份一 次粒徑10nm的氧化鋅粉體及甲基異丁基酮28份、三乙基 胺〇 · 〇 1份，用塗料搖擺器分散4小時’製得固體成分濃度 25重量％的組成物（X-3)。儲存安定性爲A。 <調製例4 > 相對於本發明的聚合物（3 )溶液3 〇份，添加4份一 次粒徑10nm的氧化鈦粉體及甲基異丁基酮17份、三乙基 胺〇.〇1份，用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 25重量％的組成物（X-4 )。儲存安定性爲A。 <調製例5 > 相對於本發明的聚合物（3 )溶液1 7份，添加8份一 次粒徑l〇nm的氧化錐粉體及甲基異丁基酮25份、三乙基 胺〇.〇1份’用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 2 5重量％的組成物（X - 5 )。儲存安定性爲A。 <調製例6 > 相對於本發明的聚合物（3 )溶液1 7份，添加8份一 -69- 201141914 次粒徑10nm的氧化鋅粉體及甲基異丁基酮25份、三乙基 胺0.01份，用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 25重量％的組成物（X-6 )。儲存安定性爲A。 <調製例7 > 相對於本發明的聚合物（4 )溶液1 5份，添加8份一 次粒徑10nm的氧化銷粉體及甲基異丁基酮28份、三乙基 胺0.0 1份，用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 25重量％的組成物（X-7 )。儲存安定性爲A。 <調製例8 > 相對於本發明的聚合物（5 )溶液1 5份，添加8份一 次粒徑1 Onm的氧化鈦粉體及甲基異丁基酮2 8份、三乙基 胺0.0 1份，用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 2 5重量％的組成物（X - 8 )。儲存安定性爲A。 <調製例9 > 相對於本發明的聚合物（6)溶液25份，添加5份— 次粒徑10nm的氧化鈦粉體及甲基異丁基酮2〇份、三乙基 胺〇 · 〇 1份’用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 2 5重量％的組成物（X - 9 )。儲存安定性爲A。 〈調製例1 〇 > 相對於本發明的聚合物（8 )溶液1 5份，添加8份~ 次粒徑1 Onm的氧化锆粉體及甲基異丁基酮28份、三乙基 胺0.0 1份，用塗料搖擺器分散4小時，製得固體成分濃度 25重量％的組成物（X-10)。儲存安定性爲A。 -70- 201141914 <調製例1 1 > 相對於本發明的聚合物（6)溶液4份，添加6份 化成工業股份有限公司製JX1012SIV及甲基異丁基酉 份，用波轉子攪拌30分鐘，製得固體成分濃度5重量 組成物（Y-1 )。儲存安定性爲A。 <調製例1 2 > 相對於本發明的聚合物（6 )溶液4份，添加6份 化成工業股份有限公司製JX1012SIV及0.1份和光純 VPS-1001、甲基異丁基酮42份，用波轉子攪拌30分 製得固體成分濃度5重量％的組成物（Y-2 )。儲存安 爲A。 <調製例1 3 > 相對於本發明的聚合物（7 )溶液4份，添加6份 化成工業股份有限公司製JX1012SIV、甲基異丁基酉 份，用波轉子（wave rotor)攪拌30分鐘，製得固體成 度5重量％的組成物（Y- 3 )。儲存安定性爲A。 〈調製例1 4 > 相對於本發明的聚合物（6 )溶液4份，添加6份 實粒子之日產化學股份有限公司製MEK-ST及甲基異 酮42份，用波轉子攪拌3 0分鐘，製得固體成分濃度 量％的組成物（Y-4 )。儲存安定性爲A。 <調製例1 5 > 相對於本發明的聚合物（1 )溶液4〇份，添加甲 觸媒 I 42 %的 觸媒 藥製 鐘， 定性 觸媒 II 42 分濃 爲密 丁基 5重 基異 -71- 201141914 丁基酮8份’用波轉子攪拌30分鐘，製得固體成分濃度 2 5重量％的組成物（Z-1 )。儲存安定性爲a. <調製例1 6 > 相對於本發明的聚合物（2 )溶液40份，添加甲基異 丁基酮8份，用波轉子攪拌30分鐘，製得固體成分濃度 25重量％的組成物（Z-2 )。儲存安定性爲A。 <調製例]7 > 相對於本發明的聚合物（6 )溶液6份，添加甲基異丁 基酮30份 '，用波轉子攪拌30分鐘，製得固體成分濃度5 重量％的組成物（a -1 )。儲存安定性爲A。 實施實施例1〜1 7、比較例1〜6作爲經假設爲屋外顯 示器用途之抗反射積層體的評價。將結果表示於表1、2» [表1] 資施例1 資施例2 實施例3 實施例4 實施例5 寅施例6 實施例7 實施例8 實施例9 綦材 玻璃 玻堪 玻琪 玻琪 玻瑪 玻堪 玻瑪 玻珥 玻堪 積層《第1層 種 X-1 X-2 X-3 X-1 X-2 X-3 X-4 X-5 X-6 折射率(633mn) 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 mmiM 種 Y-1 Y-1 Y-1 Y-2 Y-2 Y-2 Y-1 Y-1 Y-1 折射率(633nm) 133 1 33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 1,33 初始視感颇率（Υί® 〇 〇 0 〇 〇 〇 〇 0 〇 鉛辇硬度 4H 4H 4H 4H 4H 4H 3H 3H 3H 耐擦傷性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 耐裂性 © © @ ◎ © 耐候促進性（外瑕_?見®反射率(Υ®) @ ◎ ◎ © ◎ 〇 〇 0 實施例ίο 實施例Π 實施例12 實施例13 寊施例14 實施例15 實施例16 實施例17 基材 玻瑪 mm 玻堪 玻瑪 玻瑪 玻珉 玻瑪 坡珥 積層想第1疳 棰 X-4 X-5 X-6 X-7 X-7 X-8 X-9 X-10 折时率(633nm) 1.60 1 60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 进 種 Y-2 Y-2 Y-2 Y-1 Y-2 Y-1 Y-2 Y-1 折射率(633nm) 133 133 1 33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 初始視感挪率（Υί© 〇 〇 〇 Ο 〇 〇 〇 〇 鉛筆硬度 3H 3H 3H 3Η 3H 3H 4H 5H 耐擦傷性 〇 〇 〇 〇 0 〇 〇 〇 耐裂性 ◎ ◎ ◎ 〇 〇 耐候促道性（外覜·?見想反射荦(丫©) 〇 〇 〇 © 〇 -72- 201141914 [表2]

比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 基材 玻瑪 玻瑪 玻瑪 玻瑪 玻瑪 玻瑪 積m第1層 種 Z-1 X-1 Χ-4 Ζ-2 Χ-1 多官能丙 麵g 折射半(633n m) 1.44 1.60 1.60 1.55 1.60 1.53 種 Y-1 Y-3 α-1 Υ-2 Υ-4 Y-1 折射率(633nm) 1.33 1.33 1.40 1.33 1.40 1.33 初始視感反射I n (Yfi) X 〇 △ Δ Δ Δ 鉛筆硬度 4H Η 3Η 2Η 4Η 4H 耐撺傷性 〇 〇 △ X 〇 〇 耐裂性 X © @ © ◎ ◎ 促進性（外觀·視感反射率(γ値)） X @ △ X Δ X <實施例1〉 使用旋轉塗布機將組成物（X - 1 )塗布於玻璃基板上， 以使乾燥後的膜厚成爲1.5jL/ m，在200°C下乾燥30分鐘（第 1段乾燥）。使用旋轉塗布機自製得之（X-1 )層上塗布組 成物（Y-1 )，以使乾燥後的膜厚成爲l〇〇nm，在200¾下 乾燥30分鐘（第2段乾燥）。將製得之抗反射積層體製造 數枚’測定視感反射率、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐裂性作 爲初始評價。對製得之抗反射積層體中的1枚實施促進耐 候試驗，實施試驗後的外觀觀察·視感反射率測定。將結 果表示於表1。 <實施例2 > 除了使用組成物（X-2 )取代組成物（X- 1 )以外，與 -73- 201141914 實施例1相同地製作抗反射積曆體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例3 > 除了使用組成物（X-3 )取代組成物（X-1 )以外，與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例4 > 除了使用組成物（Y-2 )取代組成物（Y- 1 )以外’與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價°將 結果表示於表1。 <實施例5 > 除了使用組成物（X-2 )取代組成物（X· 1 )以外’與 實施例4相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價° @ 結果表示於表1。 <實施例6 > 除了使用組成物（X-3 )取代組成物（X-1 )以# ’ # 實施例4相同地製作抗反射積層體，實施相同的評Λ ° % 結果表示於表1。 <實施例7 > 除了使用組成物（Χ-4 )取代組成物（Χ_ 1 )以# ’胃 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評° Μ 結果表示於表1。 <實施例8 > -74- 201141914 除了使用組成物（X- 5 )取代組成物（X-1 )以外，與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例9 > 除了使用組成物（X-6 )取代組成物（X-1 )以外，與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 〇 > 除了使用組成物（γ·2 )取代組成物（Y-1 )以外，與 實施例.7相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 1 > 除了使用組成物（X-5 )取代組成物（X-4 )以外’與 實施例1 0相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 2 > 除了使用組成物（X-6 )取代組成物（X-4 )以外’與 實施例1 0相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 3 > 除了使用組成物（X-7 )取代組成物（X-1 )以外’與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 -75- 201141914 <實施例1 4 > 除了使用組成物（Y-2 )取代組成物（Y-l )以外，與 實施例1 3相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 5 > 除了使用組成物（X- 8 )取代組成物（X-1 )以外’與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 6 > 除了使用組成物（X-9 )取代組成物（X-1 )以外，與 實施例4相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <實施例1 7 > 除了使用組成物（X-1 0 )取代組成物（X-〗）以外，與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表1。 <比較例1 > 除了使用組成物（Z-1 )取代組成物（X- 1 )以外，與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表2。 <比較例2 > 除了使用組成物（Y-3 )取代組成物（Y-1 )以外，與 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 •76- 201141914 結果表示於表2。 <比較例3 > 除了使用組成物（Of -1 )取代組成物（Y-1 )以外’與 實施例7相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價°將 結果表示於表2。 <比較例4 > 除了使用組成物（Z-2 )取代組成物（X-1 )以外’與 實施例4相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價°將 結果表示於表2。 <比較例5 > 除了使用組成物（Y-4 )取代組成物（Y-1 )以外’與 〇 實施例1相同地製作抗反射積層體，實施相同的評價。將 結果表示於表2。 <比較例6 > 除了取代組成物（X-1)，塗布將25重量份的二新戊 四醇五/六丙烯酸酯（商品名：DPHA，日本化藥（股）製）、 25重量份的胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物（商品名： UV-6300B，日本合成化學工業（股）製）、2重量份的光 聚合起始劑（商品名：Irgacure-907，Ciba- Geigy公司製） 及0.5重量份的增感劑（商品名：KAYACURE DETX，曰本 化藥（股）製）溶解於50重量份的甲基乙基酮而成的塗布 液’對塗布膜照射紫外線而形成硬塗層（折射率：1 .5 3、 層厚：5 // m )以外’與實施例1相同地製作抗反射積層

S -77- 201141914 體 ，實 施 相同的 評價 。將 實 施 實施例 1 8〜 34 > 矽: 型的 太 陽能電 池用 途之 示: 於表 3 、4 0 [表 3] 結果表示於表2。 比較例6〜1 0作爲經假設爲結晶 抗反射積層體的評價。將結果表 資趣例18 箕胞例19 實施例20 實施例21 實施例22 寶施例23 實施例24 實施例25 黄施例26 基材 玻珥 坡理 玻瑪 坡瑪 玻瑪 坡現 玻瑪 玻堪 玻瑪 mMnmm 種 X-1 X-2 X-3 X-1 X-2 X-3 X-4 X-5 X-6 反射率（633nm) 1.60 1.60 1.60 1,60 1.60 1.60 1.60 1.60 1.60 m Y-1 Y-1 Y-1 Y-2 Y-2 Y-2 Y-1 Y-1 Y-1 反射率(633nm) 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 1.33 初始反射率 〇 〇 〇 〇 〇 〇 0 0 〇 鉛筆硬度 4H AH 4H 4H 4H 4H 3H 3H 3H 耐擦傷性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 0 〇 耐裂性 ◎ © ◎ @ ◎ © ◎ © © 酎候促進性（外取•反射率） ◎ ◎ © ◎ @ © 〇 〇 〇 實施例27 彳施例28 實施例29 賁施例30 賁施例31 實施例32 實施较!1 33 實施例34 基材 玻堪 •玻堪 玻堪 坡堪 玻瑪 坡堪 玻現 玻堪 横僧想第1庙 種 X-4 X-5 X-6 X-7 X-7 X-8 X-9 X-10 反射率（633nm) 1.60 1.60 1.60 1 60 1.60 1.60 1.60 1.60 種 Y-2 Y-2 Y-2 Y-1 Y-2 Y-1 Y-2 Y-1 反时率(633nm) 1.33 1.33 1.33 1 33 1.33 1.33 1.33 1.33 初始舰率 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 鉛筆硬度 3H 3H 3H 3H 3H 3H 4H 5H 跗擦傷性 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 耐裂性 ◎ © ◎ ◎ ◎ 〇 〇 耐候促進性（外觀•反射率） 〇 〇 〇 ◎ ◎ 〇 ◎ ◎ 表4]

比較例7 比較例8 比較例9 比較例10 比較例11 比較例1 2 基材 坡瑪 坡璃 玻瑪 玻瑪 玻璃 玻璃 積臟第1層 種 Z-1 X-1 Χ-4 Ζ-2 Χ-1 多官能丙晞 酸酯 折时率(633 nm) 1.44 1.60 1.60 1.55 1.60 1.53 積臟第2層 種 Y-1 Y-3 α-1 丫-2 Υ-4 Υ-1 折时率(633nm) 1.33 1.33 1.40 1.33 1.40 1.33 初始反射率 X 〇 Δ Δ Δ Δ 鉛筆δ更度 4H Η 3Η 2Η 4Η 4Η 耐擦傷性 〇 〇 Δ X 〇 〇 耐裂性 X ◎ ◎ ◎ ◎ ◎ 耐候促進性（外觀·反射率） X ◎ Δ X Δ X -78- 201141914 <實施例1 8 > 使用旋轉塗布機將組成物（Χ-Ο塗布於玻璃基板上， 以使乾燥後的膜厚成爲1.0" m，在200 °C下乾燥30分鐘（第 1段乾燥）。使用旋轉塗布機自製得之（X-1 )層上塗布組 成物（Y-1)，以使乾燥後的膜厚成爲2〇〇nm，在200°C下 乾燥30分鐘（第2段乾燥）。將製得之抗反射積層體製造 數枚’測定反射率、鉛筆硬度、耐擦傷性、耐裂性作爲初 始評價。對製得之抗反射積層體中的1枚實施促進耐候試 驗，實施試驗後的外觀觀察.反射率測定。將結果表示於 表3。 〈實施例19〜34> 使用表示於表3之組成物取代實施例1 8中的組成物 (X-1 )、（ γ - i )，相同地製作抗反射積層體，實施評價。 將結果表不於表3。 <比較例7〜1 2 > 使用表示於表4之組成物取代實施例1 8中的組成物 (X-1 )、（ Y-1 ) ’相同地製作抗反射積層體，實施評價。 將結果表示於表4。 【圖式簡單說明】 紐〇 /»\\ 【主要元件符號說明】 無。 -79-

Claims (1)

1. 201141914 七、申請專利範圍： 1. —種屋外設置用裝置’其特徵爲：具有抗反射層，該抗 反射層具有含聚有機矽氧烷（A)及金屬氧化物粒子（B) 的層（I)及含聚有機矽氧烷（C)及數量平均粒徑1〜lOOnm 的以二氧化矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)的 層（II )。 2. 如申請專利範圍第1項之屋外設置用裝置，其中該層（I) 係由組成物（I )的硬化物而製得，該組成物（I )含有選 自由以下列式（1 ) R'„Si ( OR2 ) 4-„ ( 1 ) (式中，R1表示碳原子數1〜12的非水解性有機基，當 存在2個以上時可互爲相同亦可互爲不同；R2各自獨立 地表示碳原子數1〜5的烷基或碳原子數1〜6的醯基；η 爲0〜3的整數） 表示之至少1種的有機矽烷、該有機矽烷的水解物及該 有機矽烷的縮合物構成之群組中的至少1種矽烷化合物 (a 1 )及金屬氧化物粒子（Β ); 該層（Π )係由組成物（II )的硬化物而製得，該組成物 (Π)含有選自由以下列式（2 ) R3mSi ( OR4 ) 4.m ( 2 ) (式中，R3表示碳原子數1〜12的非水解性有機基，當 存在2個以上時可互爲相同亦可互爲不同；R4各自獨立 地表示碳原子數1〜5的烷基或碳原子數1〜6的醯基；m -80- 201141914 爲0〜3的整數） 表示之至少1種的有機矽烷、該有機矽烷的水解物及該 有機矽烷的縮合物構成之群組中的至少1種的矽烷化合 物（cl)及數量平均粒徑1〜100nm的以二氧化矽作爲主 成分之中空或多孔質的粒子（D)。 3 .如申請專利範圍第2項之屋外設置用裝置，其中在該組 成物（I)的矽烷化合物（al)中含有該式（1)中的至少 1個R1爲苯基之矽烷化合物。 4 .如申請專利範圍第3項之屋外設置用裝置，其中於該組 成物（I)的矽烷化合物（al)中，在該式（1)中，相對 於全部的R1，苯基係5〜80莫耳％。 5. —種屋外設置用顯示器，其特徵爲：具有抗反射層，該 抗反射層具有含聚有機矽氧烷（A)及金屬氧化物粒子（B) 的層（I)及含聚有機矽氧烷（C)及數量平均粒徑1〜10〇nm 的以二氧化矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D )的 層（II )。 6. —種太陽能電池，其特徵爲：具有抗反射層，該抗反射 層具有含聚有機矽氧烷（A)及金屬氧化物粒子（B)的 層（I)及含聚有機矽氧烷（C)及數量平均粒徑1〜10〇nm 的以二氧化矽作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)的 層（⑴。 7. —種屋外設置用裝置用抗反射積層體，其具有含聚有機 矽氧烷（A)及金屬氧化物粒子（B)的層（D及含聚有 201141914 機矽氧烷（c )及將數量平均粒徑1〜l〇〇nm的二氧化矽 作爲主成分之中空或多孔質的粒子（D)的層（II)。 201141914 四、指定代表圖： (一） 本案指定代表圖為：無。 (二） 本代表圖之元件符號簡單說明: 〇 w 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： V \\\