TW201033646A - Luminance enhancement structure with varying pitches - Google Patents

Description

201033646 六、發明說明. 發明領域 本發明係關於一種反射式顯示裝置之發光增強幹構。 該結構不但可增強顯示裝置之亮度，而且可減少莫氏（M〇ir6) 圖案效應。 發明背景 對於電泳顯示裝置’一個關注點通常為缺乏令人滿意 之亮度。由於電泳顯示裝置通常具有高折射率組件，因此 G 該類顯示裝置會發生全内反射。因為該組件之折射率（例 如約1.5)局於顯不面板周圍之空氣（其折射率為約1)，所 以來自顯示面板之一些散射光可藉由全内反射而反射回至 顯示裝置。此全内反射現象會導致損失約3〇_5〇%之散射 光，因而致使亮度降低。 發光增強結構可用來增強電泳顯示器之亮度。然而， 當將發光增強結構應用於電泳顯示器上時，可能會出現莫 氏效應’其會顯著影響所顯示之影像的品質。視顯示裝置 © 之顯示單元之大小及形狀而定，可藉由對不同顯示裝置設 計不同發光增強結構來避免莫氏效應。換言之，視各顯示 裝置之顯示單元之大小及形狀（或其他等效重複圖案，諸 如主動型矩陣底板）而定，各顯示裝置必須具有定製之發 • 光增強結構以避免莫氏效應。該類方法顯然不合乎需要， 因為其可能代價昂貴。 發明概述 本發明係關於一種發光增強結構，其不但可增強顯示 裝置之亮度，而且可減少莫氏效應，而與顯示裝置中之顯 3 201033646 不單兀之大小及形狀無關。此外，本發明之發光增強結構 具有其他優點：顯示裝置之亮度可以較—致之方式視光源 之角度而改變。 本發明之第-態樣係關於一種包含柱及槽之發光增強 …構其中該槽具有二角形橫截面且該結構之節距有變 動。本發明之此態樣有許多具體實例。在一個具艘實例中， 該三角形橫截面之頂角實質上㈣。在—個具體實例中， 該柱之頂面之寬度實質上相等。在―個具體實例中，該槽 之三角形橫截面之敞開側（openside)寬度有變動。在一個 具體實例中，该槽之表面在光學上為平坦的且視情況塗覆 有金屬層。在一個具體實例中，該增強結構之厚度在約1〇 Mm至約200 μΐη之範圍内。在—個具體實例中，該結構係 由折射率為約丨.4至約丨.7之材料形成。在一個具體實例 中，該結構具有一維構型。在另一具體實例中，該結構具 有二維構型。在一個具體實例中，節距變化具有固定型式。 在另一具體實例中，該同一固定型式對於至少2〇個槽不重 複。在一個具體實例中，節距變化為隨機或假隨機的。在 另一具體實例中，節距變化為隨機與固定型式之組合。 本發明之第二態樣係關於一種顯示裝置，其包含微杯 (miCrocup )陣列及在該顯示裝置之觀察側上包含發光增強 結構，其中該發光增強結構包含柱及槽，並且該槽具有三 角形橫截面且該結構之節距有變動。本發明之此態樣有許 多具體實例。在一個具體實例中，該三角形橫截面之頂角 實質上相等。在一個具體實例中’該柱之頂面之寬度實質 上相等。在一個具體實例中’該槽之三角形橫截面之敞開 201033646 側寬度有變動◎在一個具體實例中，該槽之表面在光學上 為平坦的且視情況塗覆有金屬層。在一個具體實例中，兮 • 微杯填充有電泳流體。在一個具體實例中，該顯示裝置進 一步包含兩個電極層。在一個具體實例中，該電極層之_ 包含薄膜電晶體像素電極。在一個具體實例中，該電極層 之一為圖案化分段電極層。 本發明之不規則性設計使每個柱以不同因子使光重定 向，使得每個柱具有不同視角分布，其隨後被組合形成發 ◎ 光增強結構之較一致的變化視角。 圖式簡單討論 圖1說明一顯示裝置。 圖2a展示本發明之發光增強結構。 - 圖2b顯示該發光增強結構之三維視圖。 圖3顯示一替代性「二維」設計。 圖4a-4c說明該發光增強結構之尺寸。 φ 圖5展示在觀察側上具有發光增強結構之顯示裝置。 圖6a-6g說明塗覆有金屬層之發光增強結構之形成。 發明詳述 I·定義 本申請案中所用之技術術語「全内反射」係指當光線 ， 以相對於表面之法線軸大於臨界角之角度照射介質邊界時 - 發生的光學現象。此僅可在光自折射率較高之介質向折射 率較低之介質行進時發生。 —般而言，當光線穿過具有不同折射率之材料之間的 邊界時，光將在邊界表面被部分折射，且被部分反射。然 5 201033646 而，若入射角大於5合Wife , 界角’則光將停止穿過邊界，而是& 全被反射回來。 & 臨界角係基於斯淫爾定律（Snell，s㈣之方程式士十 算：C = Shrl(n2/nl)，其Η及n2為兩種不同介質之折射 率，其中111為較高折射率且n2為較低折射率。 術語「莫氏圖案」為藉由將具有重複圖案之一個層堆 疊在亦具有重複圖案之另一層之頂部而產生的圖案。兩個 重複圖案可a不同1例而言，當將微杯層置於TFT (薄膜 電晶體）層頂部上時莫氏圖帛可能變得可見。 如本文中所用之術語「約」係指所列值之土 1 $ %。 II.顯示裝置 圖1說明一顯示裝置（100)。該裝置包含填充有顯示 流體（1〇2)之顯示單元（1〇1) p車列。各顯示單元由隔離 壁（103 )包圍。顯示單元陣列被夾在兩個電極層（1 及 105)之間。 對於電泳顯示面板，顯示單元填充有電泳流體，該電 泳流體包含分散於溶劑中之帶電顏料粒子。顯示流體可為 包含一類或兩類粒子之系統。 在僅包含一類粒子之系統中，帶電顏料粒子分散於具 對比色之溶劑中。視粒子之電荷及兩個電極層之電位差而 定，帶電粒子將被吸引至該電極層之一（1〇4或1〇5)，從 而使顯示面板在觀察側顯示粒子顏色或溶劑顏色。 在包含攜帶相反電荷且具有兩種對比色之粒子的系統 中’基於該粒子所攜帶之電荷及兩個電極層之電位差，其 將移至一個電極層或另一電極層，使顯示面板在觀察側顯 201033646 示兩種對比色。在此情形中’粒子可分散於澄清溶劑中。 顯示單元亦可經液晶組成物填充。此外，應瞭解， 發明適用於所有類型之反射式顯示裝置。 對於分段顯示裝置，兩個電極層（1〇4及1〇5)分別 一個共同電極（例如ITO)及—個圖案化分段電極層。對於 主動型矩陣顯示裝置，兩個電極層（1〇4及ι〇5)分別為二 個共同電極及-薄膜電晶體像素電極陣列。對於被動型矩 陣顯示裝置’兩個電極層（1〇4及1〇5)為兩個線條圖案化 電極層。 , 該電極層通常形成於基底層（106)(諸如聚對苯二甲 酸伸乙醋（PET))上。基底層（1〇6)之厚度通常在約5降 至約175 μιη之間，更佳在約5 μ〇ι至約5〇 ^^之間基底 層亦可為玻璃層。 顯示單元亦可為習知之有壁型或隔離型、微封裝型或 微杯型。 〇 對於美國專利第6,930,818號（其内容以全文引用之方 式併入本文中）中所揭示之基於微杯之顯示裝置，經填充 之顯示單元以聚合密封層密封。視所用材料之透明度及應 用而疋’可自密封層侧或密封層側之相對側觀察此類顯示 裝置。顯示單元亦可稱為「微杯」。 般而言’術語「顯示單元」意欲指個別填充有顯示 流體之微谷器。「顯示單元」之實例包括（但不限於）微杯、 微囊、微通道、其他隔離型顯示單元及其等效物。

Hi·發光增強結構 圖2a為本發明之發光增強結構（200)的橫截面視圖。 7 201033646 存在有多個橫穿該結構之柱（202)及槽（203 )。槽（203 ) 與柱（202 )呈交替順序。 該槽具有二角形橫截面（201)、頂角α及頂點a。槽之 表面（204 )在光學上為平坦的且可視情況塗覆有金屬層。 在本申明案之上下文中，術語「槽（groove )」係指表面未 經塗覆或經塗覆之一或多個槽。在本發明之一個具體實例 中，該槽之表面較佳未經塗覆。柱（2〇2)具有頂面（2〇5 )。 在本申請案之上下文中’術語「節距」（Γρ」）被定義 為在一個槽之三角形橫載面（2〇丨）之敞開側（2〇6 )之邊 緣上的一點（Ρ )與下一個槽之相應點（ρι )之間的距離。 換言之，術語「節距」為槽（2〇3)之三角形橫截面（2〇1 ) 之敞開側（ 206)之寬度（wl)與柱（ 202)之頂面（ 205 ) 之寬度（w2 )的總和。 在本發明之上下文中’當節距變動時，柱（2〇2)之頂 面（205 )之寬度（w2 )與槽之頂角^皆保持恆定。為達成 該類構型，槽（203)之三角形橫截面（2〇1 )之敞開侧（2〇6) 之寬度（wl)與槽（ 203 )之深度（rd」）在不同槽之間可 不同。 正如所述，在本發明之上下文中，要求柱（2〇2 )之頂 面（205 )之寬度（w2 )與槽之頂角α保持恆定。然而，視 所用之製造技術而定’發光結構中之此等兩個參數可具有 微小變化。因此，當關於頂角α或柱之頂面之寬度（w2) 時，術語「實質上恆定」或「實質上相等」意欲指該角度 或寬度之變化在製造公差範圍内。 單一槽沿其縱軸之深度「d」實質上保持恆定。在一個 201033646 具體實例十，單一槽沿其縱軸之深度Γ d」保持恆定。在另 一具體實例中’視所用之製造方法及發光增強結構之大小 而定，有可能的是單一槽之深度「d」可稍微變動，例如， 在10 cm至20 cm之内變動5%，或者，在10 cm至2〇 cm 之内變動3 %。 然而，發光增強結構之總厚度.（「t」）在整個結構中為 一致的。該厚度在約1 〇 至約200 μπι之範圍内。 圖2b為發光增強結構（200 )之三維視圖。 雖然圖2a及圖2b顯示一維構型，但本發明之發光增強 結構亦可呈如圖3中所示之二維構型形式。在二維構型中， 節距「p」可變，而柱之頂面之寬度保持恆定。注意到柱之 頂面在X方向上之寬度w(x)可能不同於柱之頂面在z方向 上之寬度w(Z)。因此，柱之頂面區域可能呈正方形（當w(x) =w(Z)時）或矩形（當w(x) 時）形狀。然而，該結 構中之所有柱具有相同大小之頂部區域。所有槽亦具有實 質上相同大小之頂角α。槽深度可能在χ&ζ方向上不同。 發光增強結構係由折射率為約丨4至約17之材料形 成。發光增強結構為透明的， 節距可能在約1%至約25%之間’較佳在約1%至約1〇% 之間變動。在一個具體實例中，節距在發光增強結構内變 化至> 1 μηι，換言之，在發光增強結構内最寬節距與最窄 節距之間的差異為至少i μιη。 、 對於某些連續槽，變動節距可具有固定型式。然而， 在-個具體實例中，同-型式對於至少2G個槽不重複。舉 例而言’槽！至25與槽26至5〇可具有相同變動節距型式。 9 201033646 在另一具體實例中，變動節距可能為完全隨機或假隨 機的。 在另一具體實例中，變動節距可能為固定型式與隨機 型式之組合。 當將發光增強結構置於顯示裝置之觀察側上時，本發 明之此發光增強結構將有助於減少莫氏圖案。 IV.發光增強結構之尺寸 圖4a-4c說明本發明之發光增強結構之槽的尺寸。 在圖4a中’顯不該設計目的在於確保在發光增強結構 ( 400)之頂面（4〇7)與空氣之間的邊界處，入射角i + 於臨界角Ci (圖中未示）。 在此情形中，根據發光增強結構之材料的折射率： 以及在發光增強結構之頂面周圍之空氣的折射率：丨，臨界 角Ci為約42°。 如圖4a中所示，自表面（406)散射之光（4〇2)(亦即 圖3a至3c中之3〇5)在槽（4〇1)之傾斜表面（4〇3)處被 反射，且到達發光增強結構（400)之頂面（4〇7)。為了使 在發光增強結構之頂面處的入射角（<?1)小於42。，槽（4〇1) 之頂角《較佳在5。至50。之範圍内，更佳在15。至％。之範 圍内。因此’入射角將小於角度7，此將減少頂面處全内 反射的機會’且增加總體光學效率。角度γ為光（則與 表面（ 406)之法線轴（標記為γ)的交會處之角度。 、來自光源之人射光（圖中未示）透射穿過發光增強結 構並照射顯示裝置’且接著以散射特徵被反射。冑乜中之 散射光402為此類反射光之實例。 201033646 圖4b顯示：槽（4〇1)之傾斜表面（4〇3)將藉由全内 反射來反射入射光。該設計目的在於確保照射槽（4〇1)之 • 傾斜表面（4〇3)之光將被反射，而不是透射穿過槽内之空 間。可根據發光增強結構之材料的折射率與槽（4〇1)之$ 間中所填充之物質的折射率來計算傾斜表面（4〇3)與槽= 空間之間的邊界處之臨界角（圖中未示）。若槽未經填充’ 則空氣之折射率為約1。在發光增強結構之材料的折射率為 約1,5時，臨界角C2將為約42。。當來自表面（407)之光 ( 408 )的入射角&大於42。時，照射傾斜表面（4〇3)之光 將朝向表面406被全内反射，此為此情形中所需，因為否 則光將透射穿過槽中之空間。 可藉由在槽表面上塗覆金屬層來獲得反射性傾斜表 • 面。然而，在本發明之一具體實例中，槽之表面未經塗覆。 圖4c顯示需要考慮之另一設計參數角度尽。角度尽為 兩條線交會處之角度，一條為連接第一槽之頂點（A)與相 φ 鄰槽之基線（base)邊緣（B)的線，且另一條線為顯示裝 置之表面（4〇6)之法線軸（標記為γ)。相鄰槽之基線邊緣 (B)最接近第一槽。 亦應注意在頂部觀察侧上具有發光增強結構之顯示裝 置中’顯示裝置之表面與發光增強結構之柱之頂面光學接 觸。因此’顯示裝置之表面之法線軸Y亦為發光增強結構 - 之柱之頂面的法線轴。 因為節距變動，所以可能使角度0大於發光增強結構 (400)之頂面（4〇7)與空氣之間的邊界處之臨界角(圖 中未不）。因此’該結構之發光增強效應可能會被降低。然 11 201033646 而，本發明之發光增強結構具有以下優點：增強效應將較 少取決於入射光之角度。 V·具有發光增強結構之顯示裝置 圖5展示顯示裝置之觀察側上的發光增強結構之橫截 面視圖。如圖所示，圖2a之發光增強結構已被旋轉18〇。， 且柱（ 202 )之頂面（ 205 )現與顯示裝置之基底層（1〇6) 光學接觸’此意謂在頂面（205 )與基底層（1〇6 )之間不 存在氣隙。此可用諸如Norland®光學黏著劑之光學黏著材 料達成。 槽（203 )内之空間通常填充空氣。該空間亦可能呈真 空狀態。或者，槽（203 )中之空間可填充低折射率材料， 其折射率低於形成發光增強結構之材料的折射率。 VI·發光增強結構之製造 發光增強結構可以許多不同方式製造。 在一個具體實例中’發光增強結構可單獨製造，且接 著層壓於顯示裝置之觀察侧上。舉例而言，可如圖6a中所 示藉由壓印來製造發光增強結構。可在高於基底層（6〇1) 上所塗覆之可壓印組成物（ 600)之玻璃轉移溫度的溫度下 進行壓印過程。通常用可呈滚筒、板或帶狀物形式之模具 完成壓印。可壓印組成物可包含熱塑性材料、熱固性材料 或其前驅物《更特定言之，可壓印組成物可包含多官能丙 烯酸酯或曱基丙烯酸酯、多官能乙烯醚、多官能環氧化物 或者其寡聚物或聚合物❶此類材料之玻璃轉移溫度（或Tg) 通常在約-70°C至約15(TC，較佳約-2(TC至約5(rc之範圍 内。壓印過程典型地在高於Tg之溫度下進行。經加熱之模 201033646 具或該模具所壓向之經加熱外殼基底可用於控制壓印溫声 及壓力。模具通常由諸如鎳之金屬形成。 ❹ ⑩ 模具較佳係用鑽石車肖彳（dlamGnd turning)技術製造。 舉例而言’模具可用鐵石車削技術在稱為滾筒之圓柱形胚 料上來製造。滾筒表面典型地具有硬銅，不過亦可使用其 他材料。模具（滾筒）i之圖案與預期之發光增強結構相 反。換言之，滾筒將顯示與發光增強結構之槽相對應之尖 銳突出的圖案。㈣上之圖案係以連續方式環繞滾筒圓周 形成。在-個具體實例中’滾筒表面上之刻痕係用一種稱 為螺紋切削（thread cutting)之技術來產生。在螺紋切削過 程中，當鑽石切削機沿旋轉滾筒之橫向方向移動時，在滾 筒上切削出單一連續刻痕。若欲製造之模具具有恆定節 距，則在模具製造期間，滾筒將以恆定速度移動。一典型 鑽石車削機將對切削機穿入滾筒之深度、切削機相對滾筒 之水平及垂直角度，以及切削機之橫向速度提供獨立控制。 如圖6a所示，模具形成槽（603 )，且在可壓印組成物 硬化期間或之後脫除。 可藉由冷卻、溶劑蒸發、輻射、熱或濕氣交聯來實現 可壓印組成物之硬化。 用於形成發光增強結構之材料的折射率較佳大於約 1 ·4 ’更佳介於約1.5與約1.7之間。 發光增強結構可按原樣使用或進一步塗覆有金屬層。 如圖6b所示’接著在槽（ 603 )之表面（6〇6)上沈積 金屬層（607 )。適用於此步驟之金屬可包括（但不限於） 銘、銅、鋅、錫、鉬、鎳、鉻、銀、金、鐵、銦、蛇、鈦、 13 201033646 鈕、鎢、铑、鈀、鉑及鈷。鋁一般較佳。金屬材料必須具 有反射性’且其可使用諸如濺鍍、蒸發、滾筒轉移塗覆、 無電極電鍵或其類似技術之各種技術沈積於槽之表面 (606)上。 為了便於僅在預定表面（亦即槽之表面6〇6)上形成金 屬層，在金屬沈積之前，可在不欲沈積金屬層之表面上塗 覆可剝離遮罩層。如圖6c所示，可剝離遮罩層（6〇4 )被塗 覆於各槽開口之間的表面（605 )上。可剝離遮罩層不被塗 覆於槽之表面（6 0 6 )上。 可藉由印刷技術，諸如柔性印刷（flexographic printing)、無水印刷（driographic printing)、電子照相印刷 (electrophotographic printing)、石版印刷（lith〇graphic printing )、凹版印刷、感熱式印刷、喷墨印刷或網版印刷， 實現可剝離遮罩層之塗覆。該塗覆亦可藉由涉及使用脫模 層之轉移塗覆技術來實現。可剝離遮罩層之厚度較佳在約 0.01 /m至約20 /xm，更佳在約i μιη至約1〇 μπι之範圍内。 為了便於剝離，該層較佳係由水溶性材料或水分散性 材料形成。亦可使用有機材料。舉例而言，可剝離遮罩層 "Τ由可再为散之微粒材料形成。可再分散之微粒材料之優 勢在於’無需使用增溶劑即可容易地移除塗覆層。術語「可 再分散之微粒」係來源於以下觀測結果：材料中大量粒子 之存在將不會降低乾燥塗層之剝離能力，且相反，其存在 實際上會提高塗覆層之剝離速度。 可再分散之微粒由經由陰離子性、陽離子性或非離子 性官能基表面處理成具有親水性之粒子組成。其尺寸以微 201033646 米汁較佳在約〇. 1 /m至約15 /πη之範圍内，且更佳在約 0·3 μηι 至約 β 、範圍内。已發現在此等尺寸範圍内之粒 ' 八 i5 之塗覆層上形成適當的表面粗糙度。可 微叔之表面積可在約50 m2/g至約500 m2/g之範圍 内A較佳在約2〇0 m2/g至約400 m2/g之範圍内。可再分散 之微粒之内部亦可經改質以具有在約0.3 ml/g至約3.〇 ml/g 之範圍内，較佳在約0.7ml/g至約2.0ml/g之範圍内的孔隙 體積。 ❾ f售之可再分散微粒可包括（但不限於）微粉化二氧 夕津子諸如 Grace Davison，Columbia，MD，USA 之

Sylojet系列或Syl〇id系列之微粉化二氧化矽粒子。 ' 奈米尺寸之無孔水再分散性膠態二氧化矽粒子（諸如 .LUD〇X ΑΜ)亦可與微来尺寸之粒子-起使用，以提高塗 覆層之表面硬度及剝離速率。 經表面處理成具有足夠親水性之其他有機及無機粒子 亦適合。可藉由無機及有機表面改質實現表面改質。表面 處理使粒子於水中具有可分配性，及在塗覆層中具有可再 濕潤性。 在圖6d中，顯示一金屬層（6〇7)沈積於整個表面上， 包括槽之表面（ 606)及各槽之間的表面（6〇5)。適合金屬 材料為上文所述之金屬材料。金屬材料必須具有反射性， 且可用先前所述之各種技術來沈積。 圖66顯示在移除上面塗覆有金屬層6〇7之可剝離遮罩 層（ 604)之後的結構。視可剝離遮罩層所用之材料而定， 此步驟可使用水性或非水性溶劑進行，該溶劑為諸如水、 15 201033646 ΜΕΚ、丙酮、乙醇或異丙醇，或其類似溶劑。可剝離遮罩 層亦可藉由機械方式移除，諸如刷洗、使用喷嘴，或使用 黏著層將其剝落。在移除可剝離遮罩層（604 )之同時，亦 移除沈積於可剝離遮罩層上之金屬層（6〇7)，僅在槽之表 面（606 )上留下金屬層（6〇7)。

圖6f及圖6g展示沈積金屬層之替代方法。在圖6f中， 首先在包括槽之表面（606 )及各槽之間的表面（6〇5)之 整個表面上沈積金屬層（6〇7)。圖6g顯示沈積有金屬層 ( 607 )的槽之膜層壓有塗覆一黏著層（616)之膜（617)。 备槽之膜自塗覆黏著層（616)之膜（617)分層（分離） 時，可便利地剝落表面（6〇5 )頂部之金屬層（6〇7 ^塗覆 黏著劑之膜上的黏著層（616)之厚度較佳在約i 至約 5〇/m之範圍内，且更佳在約2/m至約ι〇_之範圍内。 接著將包含槽（未經塗覆或塗覆有金屬層）之發光增 強結構層壓於如上文所述之一顯示單元層上。

如上所述之方法皆適用於一維發光增強結構與二維發 光增強結構。 對於二維形式，顯示單元可使用已形成之發 構作為光遮罩藉由自對準之方、^ # a 目對竿之方法來形成。該方法描述於 _年η月25日中請之美國第12/323，號中，其内容 以全文引用之方式併入本文中。 儘管已參考特定具體實例描述了本發明，但熟習此. 技術者應瞭解，可在不背離本發明之真實精神及範疇的, 況下作出各種改變且可用等效形式進行替代。此外，可< 出許多修改以使特定狀況、材料、組成物、方法、一或 16 201033646 個方法步驟適合於本發明之目標、精神及範疇。所有該等 修改意欲屬於隨附申請專利範圍之範疇内。 ❹

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Claims (1)

1. 201033646 七、申請專利範圍： 1· 一種發光增強結構，其包含柱及槽，其中該槽具有三 角形橫截面且該結構之節距有變動。 2. 如申請專利範圍第〗項之發光增強結構，其中該三角 形橫截面之頂角實質上相等。 3. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其中該柱之 頂面之寬度實質上相等。 4. 如申請專利範圍第丨項之發光增強結構，其中該槽之 三角形橫截面之敞開側的寬度有變動。 5. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其中該槽之 表面在光學上為平坦的且視情況塗覆有一金屬層。 6. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其係由折射 率為約1.4至約1.7之材料形成。 7. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其具有一維 構型。 8. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其具有二維 構型。 9. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其中該節距 變化具有固定型式。 10. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其中該節 距變化為隨機或假隨機的。 11. 如申請專利範圍第1項之發光增強結構，其中該節 距變化為隨機與固定型式之組合。 12. —種顯示裝置，其包含微杯（microcUp)陣列及在 該顯示裝置之觀察側上包含如申請專利範圍第1項之發光 201033646 增強結構。 13. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該三角形 橫截面之頂角實質上相等。 14. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該柱之頂 ' 面之寬度實質上相等。 15. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該槽之三 ^ 角形橫截面之敞開側的寬度有變動。 16. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該槽之表 〇 面在光學上為平坦的且視情況塗覆有一金屬層。 17. 如申請專利範圍第12項之顯示裝置，其中該微杯填 充有電泳流體。 ' 18.如申請專利範圍第17項之顯示裝置，其進一步包含 - 兩個電極層。 19. 如申請專利範圍第18項之顯示裝置，其中該電極層 之一包含薄膜電晶體像素電極。 20. 如申請專利範圍第18項之顯示裝置，其中該電極層 ® 之一為圖案化分段電極層。 八、圖式： (如次頁） 19