TW200945483A - Methods and apparatus for an integral local substrate center finder for I/O and chamber slit valves - Google Patents

Description

200945483 六、發明說明： 【交互參照之相關申請案】 本發明係與美國專利申請序號第11/561,118號為相 關，其申請曰為2006年11月17曰，專利名稱為「用於 基板製造設備之高溫光學感測器裝置（HIGH TEMPERATURE OPTICAL SENSOR DEVICE FOR SUBSTRATE FABRICATION EQUIPMENT)」，而此申請 φ 案主張美國暫時申請案申請序號第60/738,077號之優先 權，其申請曰為2005年11月17曰，專利名稱為「用於 晶圓製造設備之高溫光學感測器裝置（HIGH TEMPERATURE OPTICAL SENSOR DEVICE FOR WAFER FABRICATION EQUIPMENT )」。在此將上述二者 之整體併入以做為參考。 【發明所屬之技術領域】 e 本發明一般而言係有關於電子元件及/或基板處理系 統，並且更明確地說’係有關於在一處理腔室内定位取 放（pick up and drop off) —基板晶圓的理想位置。 【先前技術】 用於電子元件中之基板（例如半導體、玻璃等）的處理 通常是在一處理工具之一或多個處理腔室内完成。基板 可透過一中央傳送腔室而在處理腔室之間移動。一狹缝 3 200945483 閥係連接該中央傳送腔室至一處理腔室。機械臂旋轉並 延伸以從處理腔室裝載及卸載基板晶圓。基板必須精準 定位在該機械臂（或葉片）上的理想取放位置。從該等理 想位置偏移會對於隨後的基板處理上造成負面效應。例 如’若在拾取基板時，基板並未恰當地定位及坐落在機 械臂上’則基板可能在從處理腔室移出期間從機械臂上 滑落。這可能導致基板部分留在處理吸座（chuck)上， Φ 並且部分在該狹缝閥内。因此需要排氣並打開傳送腔室 以手動移除基板。此外’基板可能因為與腔室部件的接 觸或狹缝閥之移動而污染、損壞或甚至破裂，特別是若 狹縫閥過早關閉。這些負面效應會導致較長且較昂貴的 處理時間’而這是不樂見的。 用來精準定位基板的習知系統包含使用特製的配置工 具（setup tool )和測量晶圓（例如「晶圓上攝影機（camera 〇n wafer)」）’以在從處理腔室裝載或卸載基板時，對機 φ 械臂的旋轉和延伸進行程式化。但是，這些系統的一些 問題是若非必須開啟腔室方可使用該等工具，就是該等 工具本身相當昂貴’因此使用上相當受限。 此外，機械裝置（r〇b〇t)會經歷正常耗損，特別是在 軸承處，並且也會經歷溫度上的改變，這因而會造成機 械装置。P件的膨脹和收縮。因此，腔室内基板之「理想 的j取放位置會隨時間改變。但是，若將機械臂的延伸 旋轉°又疋在特定度量’如習知系統所述般’則該等設 定度量無法顧及工具中的這些改變。 200945483 外’基板在運送過程t中時，基板本身可能會在 1上移動’或在其下降至處理吸座和其他設備上或從 理硬座上和其他設備升起時，會在腔室内移動。擁右 特別經過校準的延伸和旋轉移動之機械裝置無法針對某 板在機械臂上的該等錯位做出調整。據此，存有辦於一 種容許改善的基板中心搜尋之系統的需要。 【發明内容】 在本發明之某些實施態樣中，應用一帛設備來定位― 基板的真實中心。該設備包含：一框架，裝設在基板處 理设備之一狹縫閥組件和一傳送腔室壁之間；至少一發 射器，容設在該框架内，並適於發射一訊號；至少—减 測器，容設在該框架内，並適於接收發射的該訊號；以 及一控制器，適於基於該感測器所接收到的訊號來判定 一基板之中心。 在本發明之另一實施態樣中’提供一種用來定位一基 板之真實中心的設備。該設備包含：一 1/〇狹縫閥組件， 包含一狹縫閥門’該狹缝閥門係適於選擇性地開啟及關 閉該I/O狹缝閥，其中該I/O狹缝閥組件係設置在一半 導體處理S史備的闕座框架内；至少·一發射.器，传一體地 裝設至該狹缝閥門’並適於發射一訊號；至少一感測器， 係一體地裝設至該狹縫閥樞架，並適於接收發射的該訊 號，其中該至少一發射器和該至少一感測器係相對的光 200945483 學元件；以及一控制器，適於基於該感測器所接收到的 訊號來判定一基板之中心。 本發明之另一實施態樣係提供一種系統，該系統包 含：一傳送腔室’包含一狹縫閥；一框架，裝設在基板 處理設備中之該狹缝閥組件和一傳送腔室壁之間；至少 一發射器，容設在該框架内，並適於發射一訊號；至少 一感測器’容設在該框架内，並適於接收發射的該訊號； 以及一控制器’適於基於該感測器所接收到的訊號來判 定一基板之中心。 本發明之其他特徵結構及實施態樣可由下方詳細說 明、附圖及伴隨的申請專利範圍而變得更加明顯。 【實施方式】 本發明係針對用來在運用高溫條件的基板傳送腔室内 改善基板中心搜尋（例如，定位一基板之中心）的方法及 Φ 設備。明確地說，本發明可容許在每一個處理腔室或群 集式工具（cluster tool )的入口處測量基板並判定基板 中心。 本發明提供在基板通過狹缝閥時用於光學定位基板的 真實中心之系統、方法及設備。可在機械臂延伸而將基 板置入腔室内及機械臂縮回而將基板從腔室退出的兩個 期間定位該真實中心。換句話說，可在每一次傳送基板 進入或移出處理腔室時判定基板的真實中心。此方法可 200945483 補償熱效應和機械裝置部件的磨損。該真實基板中心可 用來更準確且可靠地將基板定位在處理腔室承座或吸座 上。 此外’本發明也使得對於習知系統所述之配置工具的 需求最小化或消除之。一旦在基板處理腔室内建立理想 的取/故位置，則可使用計算出的基板之真實中心來自 動調整機械裝置的移動’以將基板放置在理想位置上， 或從理想位置上拾取基板。 擊 也可用基板的真實中心將抽出的基板更準確地定位在 儲存升降機（storage elevator)或其他保持裝置内，這 可在該儲存裝置於稍後卸載時輔助降低基板傳送誤差。 此外’將基板裝載至一定向（〇rientati〇n )腔室時，可 利用基板的真實中心將基板準確地定位在旋轉吸座上， 以輔助該腔室的快速操作。 為了進一步最佳化該腔室的操作速度，可增加機械裝 〇 置的速度’並且甚至可以自動化。可利用狹縫閥中心搜 尋器來增加機械裝置的速度，其可用來在該腔室的入口 或出口處確認基板存在於該機械裝置葉片上及適當地定 位。若該狹縫閥事實上被阻塞住，也可使用該中心搜尋 器來判定狹縫閥的阻塞並避免閥關閉。雖然習知設備也 可以受限的方式提供此功能’但實際上總是不可能安裝 習知設備’因為習知設備之安裝通常會需要大幅度調整 該設備，以提供對於傳送中之基板的光學存取（access)。 反之’本發明需要極少或不需要此種實體上的調整。此 200945483 外’由於本發明之實體定位，本發明之操作無論是在基 板置入或自腔室退出時皆可同樣良好地執行。

❹ 再者’藉由使用既有的演算法和介面硬體，可使該中 心搜尋器操作能夠透通（transparent)機械裝置的移動 (「即時處理（onthefly)」操作）。也就是說，機械裝置 控制器會隨時知道機械臂和基板吸座的精確位置。因 此，可在移動期間，於一成對（pair)感測器之光學過渡 點處記錄機械臂和吸座的位置資訊。現代的機械裝置控 制器能夠執行必要的算術運算以判定基板中心，並且同 時控制機械臂和吸座的移動在最大操作速度下。因為機 械臂和吸座的移動在算術運算期間能夠不受影響，故可 將該中心判定稱為「即時處理」操作。 在部分實施例中，該設備可包含一支撐框架，其可定 位、對準、光學遮蔽、及/或熱遮蔽容設在該框架内的 部件（例如光發射器、域測器、線路等等）。受遮蔽的 部件，例如光發射器和光感測器，可用於基板定位操作， 例如中心及/或邊緣搜尋。該支撐框架可讓受遮蔽的部 件精確對準，並改#定位準確性和基板中心判^。用來 進行光學訊號比較、尺寸例行程序、校準功能、部件控 制及/或其他適當功能的控制電路（例如電子邏輯板 晶片微控制器、微處理器等）可鄰接該支推框架、與 接、或與其相隔遠距離設置。在部分實施財，該控 電路可設置在該支撑框架的末端，以避免控制電路：散 發熱量的熱基板接近，其會傷害該控制電路。在部分實 200945483 施例中’該支撐框架可利用導熱托架而固定在一基板傳 送腔室上，其可有效輔助從一感測器框架傳遞熱能至周 圍結構以幫助散熱’藉以在該支撐框架主體和該感測器 電路内保持相對低的溫度。 第1圖示出本發明設備之一實施例的前方立體視圖， 其通常係以元件符號100標示。如第i圖所示，在一範 例實施例中’該設備100可包含一支撐框架1〇2，而支 Q 撐框架1〇2具有切除區104,以讓基板（未示出）可通過其 間。如第1圖進一步示出者’該支撐框架1〇2可擁有一 或多個孔106，以容設及/或暴露光學部件ι〇8，例如光 感測器及/或光發射器。該設備更可包含一控制器n〇, 其可固定而鄰近該支撐框架丨〇2的末端。該控制器u〇 可設置在任何其他適當位置。 該支撐框架102可由任何適當材料構成，例如鋁、不 銹鋼、鈦、及/或陶瓷。也可使用其他適合材料。也可 ® 電鍵及/或塗覆該支撐框架1〇2，以至少改善該支撐框 架102的熱反射率。示範性的電鍍層及/或塗層可包含 金屬電鍍層’例如24K金電鑛層、陶竟塗層、反射式電 鍛層 '陽極電鑛 '及/或噴漆。可使用其它適合的電鍍 層/塗層。在部分實施例中，該支撐框架102的形狀可 實質與内部傳送腔室壁之輪廊相符。在部分實施例 中該框木102可以是大約長度9”乘以高度1¾”，且其 切除區104為約長度8y4”乘以高度％，，。此種尺寸可適用 於200毫米基板。也可使用其他適合尺寸。明確地說， 200945483 例如，可使用適用於300毫米基板的尺寸（例如，具有切 除區1 04為約1 2¾”乘以高度I//，之框架i 〇2)。 操作時，當基板進出一傳送腔室或其他腔室時，基板 可通過該設備100(例如，通過該支撐框架1〇2内的切除 區104)。當該支撐框架1〇2設置在—傳送腔室内時，該 切除區104可與該傳送腔室的狹縫閥符合或對準。據 此，該支撐框架102可具有適當尺寸和形狀，以適配相 e 鄰於一傳送腔室的内部腔室壁，而不會延伸入保留給基 板升降機及/或機械裝置、及/或基板留置，移動區的 空間内或基於任何其他適合原因保留的空間内。 在部分實施例中，可在該支撐框架102的上部設置有 呈一直線或其他間隔圖案的多個孔（例如7個），並且可 在該支撐框架102的下部設置額外的對應孔1〇6。雖然 在第1圖的設備1〇〇上示出7個孔1〇6，但可提供任何 適用數量的孔（例如’卜2、3等）。在部分實施例中，一 β 對的孔（一個孔在上部，而對應的孔在下部）僅能提供基 板存在的感測’而兩對的孔則可提供基板存在感測和令 心搜尋功能。在部分實施例中，可含有三對的孔以負責 基板邊緣的平坦部分及凹口部分。#基板通過該切除區 104時，可用該等孔106來容設負責搜尋基板的前緣及 /或後緣正切點的光學部件108。在部分實施例中，外 側成對的孔106可用來容設負責定位基板外緣的光學部 件108例如，最内部的成對孔（例如，纟中心孔兩侧最 靠近中心孔的上方及下方孔）可用來搜尋五英吋基板的 200945483 邊緣》在部分實施例中，最外側的成對孔可用來搜尋八 英吋基板的邊緣。在部分實施例中，最内側的成對孔和 最外側的成對孔之間的成對孔可用來搜尋六英对基板的 邊緣。可使用任何其他適當的間距（例如，成對孔的位置） 來判定任何尺寸或類型的基板之邊緣。本發明可與任何 類型的基板並用（例如’半導體晶圓、平面顯示器的玻璃 平板等），其係藉由使用適當的光學部件1〇8裝置和波長。 Φ 該光學部件108可包含串聯使用的光發射器和光感測 器’以判定傳送之光學訊號存在與否，其可指示基板的 存在（例如’經由透射或反射）。另外或此外，可使用高 溫光纖（例如’塑膠、玻璃、或光纖束）及/或影像管。 當基板通過該支撐框架102時，可使用任何其他適當的 光學或其他部件來偵測基板的存在及/或不存在^可藉 由將光學部件108置放在該支撐框架102之孔1〇6内而 精確對準及/或定位。另外或此外，該支撐框架102可 ❹ 圍繞光學部件108鑄造及/或光學部件108可整合在該 支樓框架102的構造中。 如上所述’在部分實施例中，該控制器110可固定而 鄰接該支撐框架102的末端。另外或此外，該控制器110 可設在基板傳送腔室内的另一個位置、設在鄰近該支撐 框架102的另—個位置、及/或設在該基板傳送腔室外 部。在一範例實施例中，該控制器110與可能含有基板 的區域分隔開約1英吋或更遠。該控制器110可以是電 子邏輯板、例如為單晶片微控制器的微控制器、微處理 200945483 器、或諸如此類。該控制器11〇可適於提供本發明設備 100之自動校準及/或尺寸選擇，及/或促進基板中心 位置的偵測和計算。 轉而參見第2圖，示出本發明設借1〇〇之一實施例的 後方立體視圖。該光學部件⑽（第【圖）可透過線路通道 112而電氣連接至該控制器11〇,該通道112可以例如是 利用不透明封裝材料及/或其他熱及/或光耗材料而 ❿ 封住。容設在該等孔106内的光學及/或電氣部件1〇8 可透過容設在該支撐框架102内的線路而連接至該控制 器110。該等線路通道112可設置在該支撐框架1〇2内， 並且可從該支撐框架1〇2後端進入，如第2圖所示。例 如線路電氣部件、及/或光學部件可利用一封裝材 料而封在該支撐框架102内（或以其它方式固定在該支撐 框架102内）。所使用的特定封裝材料較佳地能夠承受高 幅射熱溫度，並且能夠遮蔽容設在該封裝材料内的部件 ❹ 不受到熱的損害效應。示範性封裝材料可包含能由市面 購得的產品，例如加州Palo Alt〇的varian公司製造之

Torr-Sea卜加州 Dublin 的 Tap Plastics 製造的 Marine

Grade Epoxy、紐澤西州 Hackensack 的 Master Bond 公司 製造的HT Epoxy等。也可使用其他適合的封裝材料。 第3圖示出本發明設備ι〇〇之一實施例安裝在—基板 傳送腔室3 00内時的前方立體視圖。該支撐框架1〇2可 利用托架114而固定至一基板傳送腔室。該等托架n4 可由任何適合材料構成，以促進熱從該支撐框架丨〇2逸 12 200945483 散至該基板傳送腔室壁。此種材料可以是不銹鋼、其他 導熱金屬、或諸如此類。也可使用其他材料 …可用來從該支撐框架1〇2傳熱，因此降低該支撐框 架的溫度’ i進一步保護該光學料1〇8和該控制 器no不受到熱暴露及傷害。在部分實施例中，該控制 器no可與粍架114連接，或者與托架114分離。當與 托架114連接時，該控制器11〇可利用絕緣材料（例如， Φ 尼龍球、塑膠間隔件等）而與其絕緣。 第4圖示出本發明之範例方法4〇〇，其包含該設備 在傳送腔室内的安裝及使用。在步称402，將感測器 陣列（例如光學部件108，包含光感測器及/或發射器） 安裝在該支撐框架丨02中的孔内。可使用適於偵測基板 的任何適用類型之感測器。舉例來說，在感測器和控制 器Π 0之間的連接線（或成對的連接線）可穿過並封閉 在該線路通道112内。該等感測器可經過對準，以便能 ❿ 偵測通過該設備100的切除區1 04之基板。 在步驟404，可將該設備100安裝在一傳送腔室内， 使得該切除區1 04與該傳送腔室的狹縫閥對準。可用導 熱托架114來將該設備100固定在該傳送腔室3〇〇内 部。與將該等托架裝設在該腔室底壁上相比較，其可能 需要對其做出調整，而將該設備固定在該傳送腔室300 内部是有利的。 在步驟406，一熱基板通過該切除區104 ’同時遮蔽在 該支撐框架102内的感測器係偵測該基板。該支撐框架 13 200945483 102的材料可將該基板的熱（及/或來自任何其他來源的 熱’例如處理腔室）反射離開該等感測器。另外或此外， 該支撐框架102和該等托架114可使該基板（及/或任何 其他熱源）所輻射的熱傳導離開該等感測器而例如至該 傳送腔室的側壁。 在步驟408 ’該控制器丨丨〇例如可比較感測器偵測該 基板通過的相對時間來判斷關於該基板的資訊（例如，該 基板的尺寸、該基板的相對位置、該基板的中心等）。舉 參 例來說，若對稱設置在該支撐框架丨02兩端的兩個感測 器指示出一基板同時通過兩個感測器（例如，兩個感測器 同時偵測到該基板的前緣及/或後緣），該控制器1 i 〇可 判定該基板的中心（例如’相對於該基板的寬度尺寸）係 洛在兩個感測之間的等距離之直線上。此外，在部分 實施例中，讀邊緣價測訊號的時間可指示與該基板的移 動平形之維度上的中心位置或線。在另一範例中，若對 Φ 稱設置在該支撐框架102的兩端之兩個感測器指示出一 基板的邊緣在不同時間通過該等感測器，則該控制器i 10 可判定’例如，該基板係移動而較為靠近其中一個感測 器’而此移動量可基於已知的基板形狀計算出（例如，一 特定直徑之圓形基板的邊緣之已知曲率 在步驟410 ’可基於該控制器11〇所判定的資訊來調 整該基板的位置（例如’將該基板置中）。例如可用一端 效器來移動該基板的位置，而此移動量係等於且相反於 步驟408所判定之移動量。 14 200945483 轉而參見第5圖’其示出本發明之一範例實施例的前 方立體視圖。在此圖所示之實施例中，—設備5〇〇係襞 設在一狹缝閥組件5〇2上。該設備5〇〇可設置在該狹縫 閥組件502和該傳送腔室壁（未示出）之間。該設備5〇〇 可包含該切除區504,以容許基板通過其間。與上方參 照第1-3圖所述之感測器類似的數個感測器（未示出）可 裝設在該設備500的框架内，並且設置在該切除區5〇4 φ 上方，而在標示為506的區域中。一移動發射器陣列5〇8 可連接至該狹缝閥組件502的門5 1 0。 相應於感測器數量之數個光發射器（未示出）可裝設在 該移動發射器陣列508内。相對於該等發射器的該等感 測器較佳地裝設在該切除區5〇4上方，因為該等感測器 比該等發射器更易受到微粒或其他污染的阻塞所影響。 也可使用其他定位。 在此位置，該等感測器也可受該設備5〇〇的框架（如上 ® 述）遮蔽而不受輻射熱影響。該設備500的框架也可含有 光學通道或孔，其可限制該等感測器的視野，因此增強 準確度並減少傷害該等感測器的可能性（無論該等發射 器/感測器的位置為何）。在部分實施例中，該等感測器 對於高溫及光線可能比該等發射器更敏感。在這些實施 例中，限制該等感測器的視野可對於準確性增強提供最 高程度的益處。 該等光發射器和感測器可裝設在該設備5〇〇上的部分 位置内’因而可獲得通過的基板之準確測量，如上所述 15 200945483 般。另外，如上所述般’可基於所獲得的測量而使用標 準化的中心搜尋器軟體演算法來判定基板中心。例如， 可感測基板的邊緣以產生跨越基板直彳m線（eh〇rd) 的數學表示。然、後可檢查弦線的垂直線以判定弦線的跨 越點，並且從該等跨越點，而可計算出基板的真實中心。 因此，可在每一個處理腔室或群集式工具的入口處測量 基板並判定基板中心。在其他實施例中，可使用直徑上 . 相對的樣本點之中心點來判定中心，如上所述般。在又 其他實施例中，可組合兩種方法來判定基板中心。如上 所述，該移動發射器陣列508可連接至該狹縫閥組件5〇2 的門510上。因此，當該致動器（未示出）移動（例如，開 啟或關閉）該狹缝閥門510時，該移動發射器陣列5〇8可 連同該門510移動。或者’該發射器陣列5〇8可連接至 靜止的致動器（未示出），該致動器係適於控制該狹縫閥 組件502,因此使發射器陣列508靜止不動。該設備5〇〇 ® 可設置在該狹縫閥組件502和該傳送腔室之間，因此當 該狹縫閥門510(「移動部分」）處於關閉位置時，該狹縫 閥門510可遮蔽該等光發射器和感測器不受製程化學物 質和其他危害物的影響。當該狭縫閥門51〇處於開啟位 置時’因此容許基板通過該切除區504，該等發射器可 與該等感測器對準，以判定基板的中心》 該移動發射器陣列508之實施例是有益的，因為該移 動發射器陣列508的安裝可以相當簡單，並且每一個光 發射器的軸可與每一個對應之感測器的軸較佳的對準， 16 200945483 例如，與該門510的平面大約平行。另一方面靜止的 發射器陣列508之優勢會是在該門510的操作期間，線 路不會移動。 該等光發射器和感測器可包含連接線512，其可被覆 蓋或封裝，而使該連接線512固定在預設位置内，且不 會受到機械、化學或電氣有害物的傷害。此外，該設備 500可包含保護視窗（未示出），以覆蓋該等光發射器和感 消]器’以進-步避免製程化學物質的傷害。該保護視窗 可以例如是惰性（inert)視窗、鏡片、光管、或由與製 程化學物質相容的材料製成之其他部件。例如，該保護 視窗可一直覆蓋該等光發射器和感測器。在此範例中， 該保護視窗可由仍可容許基板測量執行的材料製成。 為了進一步避免對於該等光發射器和感測器的可能傷 害可使用連線或邏輯（wire-or logic)功能來限制用來連 接多個感測器至該機械裝置或系統控制邏輯所需的線路 φ 數量。或者，若可運用資料I/O通道，則每一個感測器 組（感測器和發射器）可個別連接。此外，可將電路設計 為與已存在的中心搜尋器感測器陣列平行（「連線或邏 輯」腔室狹縫閥位置之間的操作選擇可藉由控制該陣 列内多個中心搜尋器上的光放射器來達到。 可在例行維修停機時間將第5圖所述之「附加（add_in)」 實施例安裝在已存在的基板處理系統上，此對生產具有 最小的衝擊。此外，也可在此時執行機械裝置或系統控 制器軟體更新以適用於本發明。 17 200945483 轉而參見第6圖，其示出本發明之範例實施例的 則方立體視I在圖中所示之實施例中，可將—光發射 器陣列602配置而與一 1/〇狹縫闕門6〇4為一體，而相 對的光感測器裝置（未示出）可一體裝設在位於該組件的 切除區上方之狹縫閥框架6〇6的靜止部分上（在第5圖示 出）。或者，該光發射器陣列6〇2本身可一體形成在一狹 縫閥致動器608的下主體内。當該狹縫閥門6〇4處於開 φ 啟位置時，容許一基板通過其間，該等光學部件可以對 準’因此能夠獲得基板測量，如上所述般4此所述實 施例也可包含上面關於第5圖所述之特徵結構。 上面描述僅揭示本發明之範例實施例。上面揭示的設 備及方法之落入本發明範圍内的調整對於熟知技藝者而 δ會疋顯而易見的。例如，在此所述的設備和方法可用 於其他感測應用，例如邊緣搜尋，並且也可用於其他處 理環境，例如基板裝載及/或處理腔室。本發明也可利 〇 用設計來提供不會阻礙基板並且可耐受反射的輻射熱之 中心搜尋器的其他材料或配置而實現。 據此，雖然本發明已關於其範例實施例做出揭示，但 應了解其他實施例會落在本發明之精神及範圍内，如下 面申請專利範圍所界定者。 【圖式簡單說明】 第1圖係本發明設備之一範例實施例的前方立體視 18 200945483 圖。 第2圖係本發明設備之一範例實施例的後方立體視 圖。 第3圖係本發明設備之一範例實施例安裝在一基板傳 送腔室内時的前方立體視圖。 第4圖係示出使用根據本發明之範例設備實施例之範 例方法的流程圖》 第5圖係本發明設備之一範例實施例的前方立體視

第6圖係本發明設備之一範例實施例的前方立體視 圖。 【主要元件符號說明】 100、500、600 設備 102 支撐框架 ❹ 104、504 切除區 106 孔 108 光學部件 110 控制器 112 線路通道 114 托架 300 基板傳送腔室 400 方法 19 200945483 步驟 402 、 404 、 406 、 408 、 410 502 狹縫閥組件 506 區域 508 發射器陣列 510 η 512 連接線 602 光發射器陣列 604 狹縫閥門 606 狹縫閥框架 608 狹縫閥致動器

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Claims (1)

1. 200945483 七、申請專利範圍： 1. 一種用來定位一基板的一中心之設備，包含： 一框架，裝設在一基板處理設備之一狹縫閥組件和 一傳送腔室壁之間； 至少一發射器’容設在該框架内，並適於發射一訊 號； 至少一感測器，容設在該框架内，並適於接收發射 的該訊號；以及 一控制器’適於基於由該感測器所接收到的該訊號 來判定一基板之一中心。 2·如申請專利範圍第1項所述之設備，其中該至少一感 測器和該至少一發射器係適於指示出該基板的存在。 3. 如申請專利範圍第2項所述之設備，其中該框架係適 於保護該至少一發射器和該至少一感測器免受熱危害。 4. 如申請專利範圍第2 + # #，甘+ _ 禾z項所速之設備，其中該至少一感 測器和該至少一發站取 Α 赞射15 一起形成一相應成對（pair )。 5. 如申請專利節圊贫< 固第4項所述之設備’其中該至少一 應成對係被覆蓋和封丨# 至夕相 的至少其中之一種。 21 200945483 6. 如申請專利範圍第5項所述之設備， 和封裝的至少直中夕—任μ 上攻之覆蓋 種係適於在基板處理期間保譫綠 至)、-成對的感測器和發射器不受熱、機械、化學”广 氣或其他有害物之至少一種的傷害。 、電 7. 如申請專利範圍第4項所述之設備’更包含至小 對料接線’且該至少—成對的連接線係適於連i該至 少一成對的感測器和發射器至該控制器。 8. 如申請專利範圍帛7項所述之設備，纟中該至少一成 對的連接線係被覆蓋和封裝的至少其中之—種。 ❹ 9. 如申請專利範圍帛4項戶斤述之設備，其中該設備更包 含一門，該門係適於在基板處理期間選擇性地遮蔽該至 少一成對的感測器和發射器不受機械、熱、化學、=氣 或其他有害物的影響。 10.如申請專利範圍第9項所述之設備，其中當該門處於 一關閉位置時，該門係適於遮蔽該至少一成對的感測器 和發射器。 η·如申請專利範圍第1項所述之設備，其中該控制器係 適於使用標準化軟體演算法來判定該基板的該中心之位 置。 22 200945483 12·如申請專利範圍第1項所述之設備’其中發射的該訊 號係一光學訊號。 13. —種用來定位一基板的一中心之設備’包含： 一 I/O狹缝閥組件，包含一狹缝閥門，該狹缝閥門 係適於選擇性地開啟及關閉該I/O狹缝閥，其中該I/O 狹缝閥組件係設置在一半導體處理設備的一閥座框架 至少一發射器，係一體地（integrally )裝設至該狹 縫閥門’並適於發射一訊號； 至少一感測器’係一體地裝設至該狹縫閥框架，並 適於接收發射的該訊號，其中該至少一發射器和該至少 一感測器係相對的光學元件；以及 一控制器，適於基於該感測器所接收到的該訊號來 〇 判定一基板之一中心。 14.如申請專利範圍第13項所述之設備，其中該狹縫閥 門和該狹縫閥框架係適於選擇性地對準該至少一發射器

   係一起形成一成對。 15.如申請專利範圍第14 成對的連接線，該至少一 14項所述之設備，更包含至少一 一成對的連接線係適於連接該至 23 200945483 少一成對的發射器和感測器至該控制器。 16. 如申請專利範圍第14項所述之設備，其中該至少一 成對的連接線係被覆蓋和封襞的至少其中之一種。 17. 如申請專利範圍第14項所述之設備，其中當該狹縫 閥門為開啟時，該至少-成對的發射器和感測器係經對 準。 18·如申請專利範圍第14項所述之設備，其中該至少一 成對的感測器和發射器係被覆蓋和封裝的至少其中之一 種，以在基板處理期間保護該至少一成對的感測器和發 射器不受熱、機械、化學、電氣或其他有害物的傷害。 19.如申請專利範圍第13項所述之設備，其中發射的該 訊號係一光學訊號。 20· —種系統，包含： 一傳送腔室，包含一狹縫閥； 一框架’裝設在一基板處理設備之該狹縫閥組件和 一傳送腔室壁之間； 至少一發射器，容設在該框架内，並適於發射一訊 •5·^ · 呢， 至少一感測器’容設在該框架内’並適於接收發射 24 200945483 的該訊號；以及 一控制器，適於基於該感測器所接收到的該訊號來 判定一基板之一中心。 21.如申請專利範圍第2〇項所述之系統，其中該至少一 感測器和該至少一發射器一起形成一成對；並且其中該 至少一成對的感測器和發射器係被覆蓋和封裝的至少其 中之一種，以在基板處理其月間保護該至卜成對的感測 Φ 器和發射器不受熱、機械、化學、電氣或其他有害物的 傷害。 22.如申請專利範圍第20項所述之系統，更包 至 2的連接線’該至少—成對的連接線係適於連接該 乂發射器和該至少一感測器至該控制器。 ’其中該至少一 中之一種。 23.如申請專科範圍第22項所述之系統 成對的連接線係被覆蓋或封裝的至少其 25