TW200927563A - A leg for a processing device, and a method for measuring the position of a leg - Google Patents

Description

200927563 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 發明領域 0 #處 根據所㈣請專利範圍第1項的前文，本發明# 斧 5 © 10 15 〇 理裝置之㈣相關。根據所附巾請專利範圍第一 0 5 ’本發明也與-種用於測量用於處理裝置之聊择供 方法有關。 L :¾ 冬好】 發明背景 礦物質材料的處理裝置通常被用於供應、輸送Ί赛 篩選或清洗礦物質材料。典型的這樣一處理裝蓼払食進 構和至少-個適於處_物質材料的處理單元，挪妒=， 料器、-帶式輸送機、—壓碎機、—篩選機⑼於榑兩御 精煉或分類礦物質材料的一相對應裝置。通常情沐卞 或更多的處理單元被整合在同一架構中，因此實瘃〆 於從多方面處理礦物質材料的裝置。 這些處理裝置通常被設計以使其可在不同的> 紂 之間或至少在一個工作地點中被運送。因此，〆#物質質 料處理裝置的架構通常被提供滑槽、轉輪或軌道。礦物 材料處理裝置通常也被提供一個獨立的電源，例如被連接 到架構下面的轉輪或轨道的一柴油引擎，從而實現了一種 能夠獨立運動的可轉移裝置。 芬蘭專利公開案FI 109662(相對應於美國公開案 7,004,411)揭露了一移動礦物質材料處理裝置，其中處理單 20 200927563 元包括一振動進料器、一顎式壓碎機、兩個帶式輸送機以 及磁分離器。該装置包含它自己的電源，以及被連接到 該裝置的架構的軌道，該單元可在該等軌道上在一工作地 點中的不同目的地之間移動。 5 Ο 10 15 ❹ 在一工作地點中移動一軌道式礦物質材料處理裝置是 困難的。處理裝置不能向側面移動’而是使其向側面轉移 需要整個處理裝置甸前及向後移動若干。同樣地，即使是 架構的前端或後端的位置中的微小改變都需要向前和向後 移動整個處理襄置。 此外，轨道式礙物質材料處理裝置的地形適應性是很 差的，因為其必須繞過不同的障礙，因此其在工作地點中 緩慢地運動。因此，從一個位置到另一個位置轉移處理裝 置要花費很長的時間。 此外，解決方案是幕所周知的，即礦物質材料處理裝 置在一工作地點中被用不同的類似腳架的轉移裝置轉移。 在美國公開案4,324,302中，-個腳架被安裝在了、支樓壓碎 機的架構下，朗架包含-個被垂直安裝的第—液壓虹 (hydraulic cylinder)。此彳，兩個其他的液壓虹被連接到該 聊架’料液壓缸相雜架翻前向側面移動該第: 液壓缸。當轉移壓碎機時，其架構透過腳架沿基底滑動

、減國公開案3,446,3G1中，用於移動壓碎機的1架 也被女裝在了讀諸如—壓碎機或—輸送機的—笨重裝 的架構上。該腳架包含五個被垂直安裝的第-液壓飯，該 等液驗被用於將架構舉離地面。此外，四對垂直動作的X 20 200927563 液壓缸被連接到該腳架，該等液壓缸相對於架構向前後及 向侧面移動該腳架。透過將裝置的架構舉離地面以及透過 使其在空中在所期望的方向中移動由該腳架所定義的一段 轉移距離以及透過使架構降低返回到地面，裝置一欠被移 5 動一步。 德、國公開案讓257揭露了-種適於移動壓碎機的解 決方案’其中基於液壓缸的—腳架被安裝到壓碎機的架 ❹ 構。在另一被揭露的實施例中有三個腳架。透過使架構在 所期望的方向中-次轉移一小段距離，移動壓碎機—次前 1〇進一步。在每一步中，架構被舉離地面然後被降低再次返 回到地面。 15

透過-腳架來轉移笨重的裝置是斷斷續續的，其使逮 度減慢並且使運動㈣複雜。在各步W，裝£必須被降 落到地面上，以及架構必須沿地面滑動。裝置不適應地形， 但是地形的坑洞和突起纽止裝置完整性地移動。 英國公開案13< _50顯示-種料移動㈣的步 機制。該機制包含若干個具有_液麻的腳架。第1 屢缸被垂直地安裝。此外，三個液麻被連接到該液屢紅， -第二液Μ缸以及在該第—㈣缸相對兩側的兩個支 塵缸。該三赠心㈣於架構向前後及向㈣移動該第 -㈣缸。料切綠㈣活塞桿的末端财著_滑= 表面女置’匕們在該表面上順著腳架的運動而滑動。這樣 的Γ個腳架的結構是非常複雜的，因為對於侧面的液壓缸 的β動表面而。’一個獨立的輔助套筒必須被安裝在架構 20 200927563 上。此外，該腳架不適於在採石場條件下使用。在採石場 及其他戶外環境中飛揚的塵土和灰塵污染 了滑動表面，而 這阻止了腳架的移動。 除了上述解決方案以外，用於移動笨重作業機及負載 5 &其他裝置是熟知的’這些裝置包含若干液壓作用腳架。 腳架的垂直延長和縮短以及其向側面的移動被液壓缸實 施。廷些種類的裝置在，例如，專利公開案us 3,638,747、 〇 GB 20176〇5以及DE 2129197中被揭露。透過使其在地面上 滑動或步進式地移動裂置前進，其中架構被舉離地面，然 10後被轉移|又短的距離，而後架構被降低返回到地面上。 这使用了不必要的能量。這些解決方案的另外—個問題 是’轉移裝置是緩慢和複雜的。 t發明内容；j 發明概要 15 &供·'種新型的詩處理裝置_架是本發明的-個 〇 •目的’其避免了上述問題以及其位置實質上可被連續地測 4。提供-種用於測量用於處理裝置的腳架的位置的方法 也是本發明的一個目的。 為了達到這個目的，根據本發明的腳架的主要特徵將 20在申請專利範圍之獨立項i的特徵描述部分中被介紹。 接下來’根據本發明的方法的主要特徵將在申請專利 範圍之獨立項12的特徵描述部分中被介紹。 申請專利範圍的其他附屬項將介紹本發明的一些較佳 實施例。 200927563 5

本發明基於运樣的概令. 的腳架包含至少-個^種用於—可移動處理裝置 播玷 ;測量該處理裝置的腳架相對於_ 構的位置的測量裝置。若不伽加 祁聰架 ^ 干腳架以活節方式被連接到處理 的架構’並且處理袈置藉由它們移動。腳架包含一第—傳送構件〇刪^職㈣其被垂直 地以活節方式連接到處 廿B甘含 架的長度及其垂直運動： 其整腳 、 運動。此外，該等腳架包含用於改變該 第傳送構件的位置的—第二及一第三傳送構件。 10 15

測！裝置被佈置在每一腳架中，用於測量第一傳送構 件”處理衷置的架構之間的角度。此外，在每—腳架中佈 置用於測量腳架的切板接觸地面 的位置的測量裝置。支 撲板，位置可基於該等量值被決定，以及腳架的運動可透 過該等量值被控制。此外，支揮板對基底產生的壓力實質 上被連續地測量。腳架的步進高度，即當前進一步時，腳 架被舉高了多少，也可以被調整。 當處理裝置被移動時，腳架承載裝置的整體重量並且 同時移動裝置。控制腳架以使裝置的運動類似於步進。至 少四個腳架被附接到處理裝置的架構；有六個或更多腳架 是較佳地。腳架被相對於架構的周邊放置，以在各步之間 的運動中不使架構降落到地面上的情況下，使裝置在平穩 連續地運動是可能的^如果處理裝置在一工作位置中是支 撲在基底上的架構上’則該裝置的架構連同被連接到該架 構的裝置在移動該架構之前透過腳架被舉離地面。因此， 第一傳送構件將處理裝置舉離地面 20 200927563 根據本發明的腳架的結構是簡單的。此外，根據本發 明的聊架非常適於移動笨重的負載’諸如礦物質材料處理 褒置的不同的作業機。透過腳架移動處理裝置步行前進使 移動處理裝置變得更快。步行處理裝置較根據先前技術的 5移動叢置可被明顯更快地轉移。架構沒有在各步之間沒有 被下降，但運動卻在繼續。因此，這種運動是平穩的並且 節省了能量。步行處理裝置的地形適應性也較於例如軌道 式處理裝置的地形適應性好。透過被佈置在腳架中的感測 器’腳架的長度及其與地面的接觸可被監控，在這種情況 1〇 丁 卜’地形的坑洞和崎嶇不平可透過調整腳架的長度來補 償’於是裝置可保持平衡。處理裝置可透過調整腳架的長 度保持平衡，即，即使架構上下坡移動時其實質上也是水 平的。 15 本發明的一個優點是，當腳架相對於架構的位置被連 續地測量時，從測量結果決定腳架在每一時刻的位置是可 能的。基於這一點，腳架可被連續地控制進入一個新的位 置。該量值也能夠精確控制腳架的運動，在這種情況下， 精確定位處理裝置進入某一位置是可能的。 透過至少一第二或一第三傳送構件，在所有方向中移 20動腳架是可能的。這樣，處理裝置也可在所有方向中、向 側面以及對角地轉移。此外，裝置可被環繞任意點旋轉。 該點可在裝置的中點、在裝置的裝材料或卸材料端，或者 甚至是在裝置外。 圖式簡單說明 200927563 以下本發明將參考所附圖式進行更加詳細的插述，其 中在該等圖式中， 第1圖顯示包含用於移動裝置之腳架的一礦物質材料 處理裝置的一概要側視圖； 5 ❹ 10 15 ❹ 第2圖從下面顯示第1圖的處理装置； 第3圖在一正視圖中概要地顯示一液壓腳架； 第4圖在一俯視圖中顯示第3圖的腳架；以及 第5圖在一概要圖中顯示一控制單元。 【實施方式；J 較佳實施例之詳細說明 你成傾、甲，趣狂十〜八叫喝⑺、恳理不同材料的任何 處理單元，諸如一進料器、一帶式輪送機、一壓碎機、二 篩選機或用於傳送、精煉或分類材料的—相對應裝置。 再利用材料中使用的諸如研磨機和金屬分離器的處理單^ 也屬於該組。被處理的材料可以是礦物f材料。確物質材 料可以是礦石、破碎的岩石或碟石，諸如混凝土、碑或湿 青的各種類型的可再利用的建築廢料。被處理的材料也可 以是家庭污水，以及木材、玻璃或金屬。 第1圖顯示-確物質材料處理裝^，其包含用 屋=3提供㈣的一崎器2及用於輪送觀碎的產品進 步遠離裝置的一帶式輪送機4。在 俜在本圖中的壓碎機是一顎 i置…旦是也可放置其他類型的壓碎機作為部分處理 ==回胸機、錐形壓碎機或離心壓碎機。此外， 裝置還包含諸如柴油引擎的—電源5,其產生處理單元使用 20 200927563 的能量。 該進料器、壓碎機、電源及輸送機被附接到一架構6。 用於移動裝置的腳架7也被以一活節式方式附接到該架構 6 °在該實施例中有6個腳架7，亦如在第2圖中所示。第2圖 5在輸送機沒有輸送帶的情況下從以下顯示該處理裝置。腳 架7相對於該重心被附接到該架構，因此當裝置被移動時， 架構6實質上是水平的。腳架相對於處理裝置丨被放在架構6 〇 中’因此一腳架在裝置的前端A(即在進料器2的下面），_ 腳架在裝置的後端B(即在輸送機4的下面）。餘下的四個腳 1〇架被成對地放在該架構的兩側，因此在架構的相對兩側的 腳架相對於該架構的長度是在同一點上。如在第丨圖和第2 圖我們可以看出，被附接到架構的較長邊6&及仙的腳架7也 被附接到架構的外側。在第1圖的實施例中，處理裝置“皮 顯示處於一工作位置，其中架構被降落到一基底的上面（即 15在地面上），以及腳架7的支撐板12也被帶到地面上以支撐 © 該裝置。此外’該裝置包含一控制單元3〇，該操作單元3〇 的操作以下將更加詳細地描述。 當轉移處理裝置時，腳架的一部分通常是在一支撐階 段中’即與地面接觸，而一部分在一轉移階段中，即脫離 20地面並S向-個新的位置移動。定義有多少腳架在支撐及 轉移階段的預定義方案被稱為步行模式。例如，包含六個 腳架的處理裝置的可能步進式模式是一5/6模式、一4/6模式 及-3/6模式。第-個數字是指處在切階段的腳架的數 目，第二個數字是指腳架的總數目。因此，在5/6模式中， 12 200927563 3 架’其中的五個處在支伽段巾，即每次 5 ❿ 10 15 20 個腳架脫離地面且向一個新的位置移動。在4/6模式 四個腳架處在支律階段，兩個腳架處在轉移階段。因 鐘孩^模式中’三個腳架處在讀階段，三個腳架處在 。透過該步行模式實現了最大的移動速度。如果 個腳架處在轉移階段，則腳架可在不同時刻彼此 .-生運動，或者運動可同時發生1如，腳架可同 時成對地運動。然而，通常必财至少三個腳 階段。支律和轉移階段在各個腳架緊接在彼此之後。處在 支推階段的腳架不僅使裝置保持平衡，而且也使裝置的架 °所期望的方向移動。處在轉移階段的腳架根據為其定 的運動路控及方向在空氣中運動直到其再次被降落到地 =’然後其轉換到支撐階段。在運動期間，腳架根據所 疋的步行模式被移動。被安裝在裝置上的腳架的數目以 及所期望的運動速聽響步行模式的選擇。 第3圖顯示-腳架7。這種類型的腳架也被佈置在如在 、、1圖和第2圖中所示的處理裝置中。該腳架包含一第一傳 =構件1G’其被以-活節式方式，實f上是垂直地連接在 处理裝置的架構中。其相對於其縱軸是不易彎曲的，並且 腳架的長度可Μ其被難。#處理裝置被㈣時或當使 用裝置時腳架作為-支撐腳架時，其也承載裝置的垂直力 以及處縣置的重量。在該實施例中，傳送構件是一液壓 虹’但是其他縱向可調整傳送構件也可以被使用。縱向運 動可例如用—螺桿及—電動馬達產生。這種配置也被稱為 13 200927563 電動缸。 在該圖中，第一液壓缸被顯示處在這樣一位置，即液 壓缸的傳送臂lla的一部分在缸腔丨丨的外部。一支撐板12被 附接到第一液壓缸丨〇的傳送臂的較低端，當腳架7處於支撐 5階段時，該支撐板12的下表面（即支撐面13)與地面接觸。支 撐面13可具有’例如具有邊長350mmx350mm的一類似正方 形的形狀。支撐面13的面積根據工作地點的基底的類型來 定尺寸。處理裴置的重量也在定尺寸中被考慮。支撐板12 被用一緊固裝置12a附接到該第一液壓缸的傳送臂的末 10端’這使支撐板能夠相對於傳送臂傾斜。例如，一球活接 頭可被用作緊固裝置。該第一液壓缸透過被佈置在缸腔η 的上端中的一第一和一第二活接頭2〇及21以活節方式被連 接到處理裝置的架構6。 此外，腳架包含兩個傳送構件14及15，在該實施例中 15 是兩個用於移動該第一液壓缸10的液壓缸。該等傳送構件 14及15也可以是其他類型的縱向可調整的傳送構件，諸如 上述的電動缸。該第二及第三液壓知：14及15實質上被水平 地以活節方式連接到該第一液壓缸1〇且彼此在同一高度。 它們以如下方式一端被以活節方式連接到該第一液壓缸， 20 以及另一端被以活節方式連接到處理裝置的架構6，即：該 第二液壓缸14及該第三液壓缸15的傳送臂16及17透過一第 三活接頭22及一第五活接頭23被附接到該第一液壓缸的缸 腔11的較低一部分’组離缸腔11的底端有一段距離。它們 在缸腔18及19側的末端透過一第四活接頭24及一第六活接 14 200927563 頭25被順次以活節方式連接到處理裝置的架構6。該第二及 第二液壓缸14及15使腳架7向侧面產生運動。腳架7由該第 二和第三液壓缸14及15所產生的運純含_水平及一垂直 分量兩部分，這兩個分量的大小根據所期望的運動路徑改 5變。換言之，支撐板的運動路徑可類似弧形，或者僅在水 平面上發生。該第一液壓缸1〇的大小及其腔容量大於該第 二及第三液壓缸14及15的大小及腔容量。 Ο 第4圖顯示從上方所看到的在一基本位置中的第3圖的 腳架7。如在本圖中我們可看出，該第二和第三液壓缸14及 10 15被附接到該第—液壓缸1()，因此在它們之間形成一角度 α。角度α的大小取決於若干因素，例如取決於：液壓缸14 及15到架構6的緊固點；處理裝置的大小；液壓缸“及丨亏的 長度；以及其缸腔直徑；以及所需要的水平動力。一旦這 些因素被選定，所期望的步框即被產生。 測量裝置（即感測器）被佈置在腳架7中，以實質上持續 © ^義腳架的位置，即第-液屬缸以及支撑板相對於架構 .位置。在一第一活接頭2〇及一第二活接頭21的内部佈置 第—測量裝置，即兩個角度感測器26及27，支撐板12相對 ;架構的角度位置用該第一測量裝置被測量。此外，在該 20 第—>. 夜壓缸10的缸腔中佈置一第二測量裝置28，諸如用於 支樓板12相對於架構的垂直位置的一線性感測器。因 該線性感測器測量該第一液壓缸1 〇的垂直運動的大 y、。例如，一磁致伸縮感測器可被用作一線性感測器。該 第二測量裴置也可以是一光學測量裝置，諸如—基於雷射 15 200927563 5 10 15 ❹ 20 或影像處理的測量裝置。此外，基於聲音方法及磁場測量 的測量裝置可被使用，諸如一超聲波感測器或一渦流感測 器。透過該等感測器26、27及28，支撐板12及腳架7相對於 架構的位置可被定義。該第一測量裝置26及27以及該第二 測量裝置28被用虛線顯示在第3圖中。 被佈置在液壓缸14及15中的測量裝置38及39作用也可 如同第一測量裝置，其可具有與上述測量裝置28相同的操 作原理。液壓缸14和/或15中的至少一個的長度透過該等測 量裝置被測量，從該長度決定液壓缸10相對於架構的角度 位置以及此外支撐板12相對於架構的位置是可能的。 此外，在第一液壓缸10的缸腔中的主要壓力被測量。 透過一壓力感測器29執行該測量。該壓力感測器被直接佈 置在該缸腔中或被佈置在向缸腔中輸送壓力媒介的一導管 中。基於該等壓力量值，可以決定支撐板12對基底產生的 壓力以及保證支撐板12觸及地面的力是足夠的。感測器實 質上連續地執行測量，以及透過支樓板12在轉移和支樓階 段的位置的測量可被連續地決定。此外，架構相對於基底 的位置被用一傾斜感測器32(如在第1圖中所示）測量。該傾 斜感測器可以是，例如一磁傾計。被該等感測器測量的量 值信號被發送到被放在處理裝置中的一控制單元3〇。該控 制單元30根據由該處理裝置的使用者所提供的命令控制處 理裝置的運動，該等命令被用連接到其的一使用者介面31 發送到該控制單元3〇。該使用者介面可以是，例如一基於 無線信號傳送的操縱桿類型的介面，或者是一鍵盤。因此， 16 200927563 一發射機被佈置在該使用者介面中用於發送控制命令到該 控制單元，以及一接收器被佈置在該控制單元中用於接收 該等控制命令。在本圖中，無線資料傳送透過虛線被說明。 5 ❹ 10 15 ❹ 20 此外，該使用者介面31可透過一電纜被連接到該控制單元 30 ° 被角度感測器26及27、線性感測器28、壓力感測器29 以及磁傾計32等測量裝置測量的量值信號可藉由電纜或被 無線地指向控制單元30。如果該等量值被無線地傳送到控 制單元，則測量裝置被提供一用於發射測量結果的發射 機，以及控制單元被提供一用於接收量值信號的接收器。 控制單元根據該等量值信號形成控制命令到腳架及其中的 液壓缸。由控制單元所產生的控制命令也可以藉由電纜或 被無線地傳送到腳架。如果控制命令藉由諸如無線電波或 紅外線輻射被無線地傳送到腳架，則控制單元被提供一用 於發射控制命令的發射機，以及腳架被提供一用於接收控 制命令的接收器。 控制單元30包含用於執行根據本發明之方法的操作的 裝置。第5圖更加嚴密地顯示一控制單元3〇，其包括用於計 算及決疋移動處理裝置以及決定控制信號所必要的參數的 裝置33到35 °上述方法之步驟可透過—程式’例如透過一 微處理器被決定。該等裝置可包含_個或更多微處理器及 被包含在該等微處理II中的應隸式軟體4該例子中有 右干裝置，但是方法的不同步驟也可以在一個單一的裝置 中被執行。 17 200927563 控制單元30包含計算裝置33，其接收被處理農置的使 用者發送的有關所期望的處理裝置的步行模式及運動的方 向及速度的資料。該計算裝置33也接收被測量裝置26、27、 28、29及32測量的量值信號，以及根據該等信號及所選定 5的步行模式為每一腳架7計算一步進程式，以及根據該步進 程式決定接下來的運動路徑及方向。決定腳架的運動路徑 及方向也考慮所謂的步框，即在四方空間中的立體容量， 〇 其中支撐板12可在由液壓缸所設定的限制範圍中運動。 計算裝置33所決定的每一腳架的運動路徑及方向被傳 1〇送給控制單元中的控制信號形成裝置35，該等裝置形成用 於每一腳架7的各個液壓缸10、14及15的控制命令。 正如上文所述，控制單元30包含用於控制腳架的運動 的裝置。該控制單元也可包含用於控制諸如壓碎機、輸送 機或諸如此類裝置之操作的自身處理的裝置。 15 當前進一步時，處於轉移階段的腳架的液壓缸以如下 ❹ 丨式操作：首先’腳架的支揮板12透過第—液壓缸且透 過將該第-液壓紅的傳送臂拉到第—缸腔u中被舉離地 面腳架的支撐板12能被舉多高取決於該步所期望的高 度之後，第二和/或第三液壓缸14及15透過從缸腔18及19 拉該等液壓缸的傳送臂16及17#〇/或向該料腔推該等液 壓虹的傳送臂16及17而將每一液壓虹10移動到所期望的方 向，直到該步所期望的方向被實現。最後，該每—液壓缸 透過從該第—缸腔向外推該第—液壓缸的傳送臂lla將腳 架的支揮板12降低回到地面。當然，該每一液壓紅以及該 18 200927563 第二和/或第三液壓缸的操作也可以同時發生。處於支撐階 段的腳架向所期望的方向持續地移動該處理裝置的架構； 其在各步之間沒有被降落到地面。步幅的長度以及裝置的 轉移速度同時用控制系統而被控制。 5 本發明並不打算受限於以上作為例子被呈現的實施 例，但是本發明意欲被廣泛地應用在所附申請專利範圍所 定義的發明思想的範圍中。 I：圖式簡單說明3 第1圖顯示包含用於移動裝置之腳架的一礦物質材料 10 處理裝置的一概要側視圖； 第2圖從下面顯示第1圖的處理裝置； 第3圖在一正視圖中概要地顯示一液壓腳架； 第4圖在一俯視圖中顯示第3圖的腳架；以及 第5圖在一概要圖中顯示一控制單元。 15 【主要元件符號說明】 l···處理裝置 7…腳架 2…進料器 10…液壓缸 3…壓碎機 ll·.·缸腔 小..帶式輸送機 11a…傳送臂 5…電源 12…支撐板 6…架構 12a···緊固裝置 6a…架構長邊 13…支撐面 6b…架構長邊 14…液壓Μ傳送構件) 19 200927563 15…液壓Μ傳送構件） 26…角度感測器 16…傳送臂 27…角度感測器 17…傳送臂 28…測量裝置 18…缸腔 29…壓力感測器 19…缸腔 30···控制單元 20…活接頭 31…使用者介面 ❹ 2l··.活接頭 32…傾斜感測器 22…活接頭 33···計算裝置 23…活接頭 35···控制信號形成裝置 24…活接頭 38…測量裝置 25…活接頭 39···測量裝置 ❹ 20

Claims (1)

1. 200927563 十、申請專利範圍： i.-種用於移動—處理裝置的—處理裝置的腳架，該處理 裝置包含一架構，以及該腳架包含： 第傳送構件，以活節方式被連接到該處理裝置 的該架構’以及 一第二傳送構件，用於改變該腳架的位置， 其特徵在於該腳架進一步包含至少一個用於測量 〇 該腳架相對於該處理裝置的該架構的位置的測量裝置。 2·如申請專利範圍第1項所述之腳架，其特徵在於該腳架 包含至少一個測量裝置，其被安排測量該第一傳送構件 相對於該處理裝置的該架構的位置。 3·如申請專利範圍第2項所述之腳架，其特徵在於該第— 測量裝置是一角度感測器，其被安排測量該第一傳送構 件與該架構之間的角度。 4·如申請專利範圍第1項所述之腳架，其特徵在於該第— ® 傳送構件被提供可相對於一基底放置的一支撐板，以及 該腳架包含用於測量該支撐板相對於該處理裝置的該 架構的位置的一第二測量裝置。 5. 如申請專利範圍第1項所述之腳架，其特徵在於該第— 傳送構件實質上垂直地以活節方式被連接到該處理裝 置的該架構。 6. 如申請專利範圍第1項所述之腳架，其特徵在於該腳架 包含一第三傳送構件，以及該第二及第三傳送構件的一 端被附接到該第一傳送構件，以及另一端被附接到該處 21 200927563 理裝置的該架構。 7_如申請專利範圍第2項所述之腳架，其特徵在於該第一 測置裝置是—線性感測器，其被安排測量該第二和/或 第二傳送構件的長度^ 8.如申请專利範圍第6項所述之腳架，其特徵在於該第二 傳送構件及該第三傳送構件實質上水平地以活節方式 被連接到該第—液壓缸且彼此處於同一高度。 © 9.如申凊專利範圍第1項所述之腳架，其特徵在於該第一 傳送構件包含—缸腔及一傳送臂，以及 -該腳架包含一第一活接頭以及一第二活接頭，以 及該第一傳送構件透過該第一及該第二活接頭以活節 方式被從在該第-傳送構件之該紅腔一側上的末端連 接到該架構，以及 -該支撐板被安置在該第一傳送構件的該傳送臂一 侧上的末端中。 © 1G.M請專利範圍第6項或第7項所述之轉移腳架，其特徵 在於該第二傳送構件包含—缸腔及―傳送臂，以及該第 三傳送構件包含-缸腔及-傳送臂，以及該腳架包含一 第三活接頭、—第四活接頭、—第五活接頭以及一第六 活接頭，以及 -該第二傳送構件在該第二傳送構件的該傳送臂一 側上的末端透過該第三活接頭以活節方式被連接到該 第一虹腔的較低端，以及在該第二傳送構件的該缸腔一 側上的末端透過該第四活接頭以活節方式被連接到該 22 200927563 架構，以及 -該第三傳送構件在該第三傳送構件_傳送臂一 第及方式被連接到該 ^較低端’以及在該第三傳送構件的該缸腔一 =的末料㈣第六活接如㈣方式 11·如 裝

   申請專利範㈣1項所述之腳架，其特徵在於該處理 ，是以下裝置中的至少-個：―進料器、一麼碎機、 篩選機、一研磨機或一分離器。 種用於測量用於一處理裝置之一腳架的位置的方法， 其特徵在於該處理裝置包含一架構，以及該腳架包含: -一第-傳送構件，以活節方式被連制該處理裝 置的該架構，以及 一第二傳送構件，用於改變該腳架的位置，

   以及在該方法中，該腳架相對於該處理裝置的該架構的 位置用至少一個第一測量裝置來測量。 13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其特徵在於該第一 傳送構件相對於該處理裝置的該架構的位置用至少一 個第一測量裝置來測量。 14. 如申請專利範圍第13項所述之方法，其特徵在於該第一 傳送構件與該架構之間的角度被測量。 15. 如申請專利範圍第12項或第13項所述之方法，其特徵在 於該腳架被提供一第三傳送構件，以及該第二及該第三 傳送構件的長度被測量。 23 200927563

   ❹ 16. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其特徵在於該第一 傳送構件被提供可相對於一基底放置的一支撐板，以及 該支撐板相對於該處理裝置的架構的位置被測量。 17. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其特徵在於該處理 裝置是以下裝置中的至少一個：一進料器、一壓碎機、 一篩選機、一研磨機或一分離器。 24