200927333 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種冶金用衝擊墊。特別地，本發明 有關於一種用在一餵槽中之冶金用衝擊墊，但並非以此爲 限。 【先前技術】 衝擊墊係一抗腐蝕材料墊之槪括性用辭，其一般定位 於一餵槽之底板上，用於接收自一杓件傾注入該餵槽中之 © —熔態金屬輸入流。其有助於使該餵槽本身之磨耗最少 化，而亦可能改善通過該餵槽且進入一模具中之熔態金屬 的流動特徵。 美國專利案第5,169,591號揭露一種餵槽用之衝擊 墊，其用於連續之鋼的鑄造中。該衝擊墊包括一基底、一 環周頂表面、及延伸於該基底與該環周頂表面之間的一不 連續側壁，該側壁具有可由曲線組成之一切口內側表面。 美國專利案第5, 358,551號揭露一種衝擊墊’其包括~ ® 基底、圍繞該基底延伸之一側壁，該側壁具有一內側表面， 且該表面具有一部分，其朝內與朝上延伸及可呈凹面。 鑑於以上二種及其他者，衝擊墊型式之係設計成，可 降低餵槽中之擾流、使夾渣最少化、防止餵槽熔劑覆蓋崩 潰及熔態金屬再氧化、且確保餵槽內具有一適當之金屬流 動路徑，因此本發明之一目的係提供一種改良的衝擊墊。 【發明內容】 依據本發明之第一構想，提供一種衝擊墊’由可耐氣 200927333 時作 底朝 方表 一貯 具有 端較 -溝 一溝 一種 金屬 底。 側壁 ilicL 一封 該等 第二 垂直 施例 地爲 熔態金屬接觸之耐火材料形成，其包括一基底，使用 爲熔態金屬之一衝擊表面，及一側壁，大體上由該基 上延伸’該側壁終結於使用時位在該基底上方之一上 面處’使得該基底與側壁定義出一接收熔態金屬用之 器，其中該側壁中包含有至少一溝道，該至少一溝道 複數個第一及第二末端，該第一末端相對於該第二末 爲接近該基底、其中該基底與該側壁交叉處，該至少 道係於該第二末端處呈開放、或著呈錐形而使該至少 道在其第二末端處具有零深度。 此中使用之「貯器」一詞，在一般意義上，意指 構形’能夠包含有至少一部分在其中所接收到之熔態 者。明確地’該側壁並非必須連續、或完全包圍該基 請了解，其中所稱之至少一溝道，可藉由切入該 中之一溝槽構成，或可間接形成，譬如藉該側壁上之 相互間隔隆脊或其他凸起之間的間隔而間接形成者。 在第一系列的具體實施例中，該至少一個溝道之 第一與第二末端係在該側壁之平面中垂直地對正。在 系列的具體實施例中，該等末端係在該側壁之平面中 地偏移。 該側壁本身可相對於該基底傾斜。在某些具體實 中’該側壁與該基底之夾角係由7 5。至1 1 5 °，且最佳 大約85°至95°。 該側壁可具有一平面、凸面、或凹面內側表面。 該至少一個溝道之形狀並無特別限制，且可爲線形、 200927333 彎角或曲線、或其組合。較佳地，該溝道係呈線形，而在 這種情況下’所謂垂直溝道（末端垂直地對正）係關於其在 該側壁平面內之配置（即’倘若該側壁係相對於該基底傾 斜，則仍可將該側壁中之溝道描述爲垂直者）。相似地，在 一線形溝道之情況下，對傾斜（末端垂直偏移）之描述無關 於該側壁本身之傾斜。較佳地，該溝道係相對於該基底傾 斜85°至45°、且更佳地約70°角。 該至少一個溝道可在該側壁中具有一固定深度，而在 © 這種情況下，該溝道在該第二末端處將呈開放。另一選擇 爲，該至少一個溝道之深度可在其第一與第二末端之間增 加、減少、或呈其他變化。該深度可逐漸，或不連續地、 即步階式地變化。 該至少一個溝道可在其第一與第二末端之間以固定、 漸增、漸減、或其他變化之寬度。如上述者，該寬度可逐 漸，或不連續地、即步階式地變化。較優地，一不連續的 溝道寬度或深度變化，有助於建立一「失效（dead)區」， ® 非期望之夾雜物將容易在該區中沉積’因此得以防止其繼 續進入模具中。 該至少一個溝道可具有正方形、三角形、曲線、或其 他多邊形橫剖面。該至少一個溝道之剖面輪廓可固定、或 可沿其身長變化，譬如可由靠近第一末端之半圓形變爲靠 近第二末端之三角形。變化該至少一個溝道之剖面輪廓’ 可達成較優的邊界流條件改變° 該側壁可呈環狀（β卩’圍繞該基底周圍連續地延展）。 200927333 另一进擇爲’該側壁可圍繞該基底周圍之一部分延展。可 设置二個或更多側壁’每一個皆圍繞該基底周圍之一部分 延展’在這種情況下，每一該等側壁較佳地設有至少一個 溝道。 該或每一該等側壁可具由遠離或沿著該基底之一個或 更多筆直或曲線部的任何組合。在一具體實施例中，儘管 可理解到’該側壁之高度及/或外型可沿其身長變化，然該 或每一該等側壁仍皆具有一固定高度及一固定輪廓（即，厚 度）°在一非線形（或非均勻）側壁之情況下，「該側壁之平 面」係於該側壁上之關係點處決定（例如，對於一曲線側 壁’在該側壁上任意給定點處之側壁平面係於該點處與該 側壁相切者）。 該基底通常呈平面（儘管其可設有波紋、溝道、或凸 起）’且該衝擊墊將設計成，使該衝擊表面水平地座落於該 餵槽中並與金屬流垂直。然而，可有具體實施例，其中基 底呈凹面、凸面、波狀、尖塔狀、或其他形體輪廓。在這 些情況下’在該衝擊墊在使用中之位向時，所謂相對於該 基底之傾斜應理解爲，相對於水平平面者。並且，當該基 底包括位在相對於水平位置不同高度處的特徵時，所謂「基 底上方」係關於基底上之最高特徵者。 該基底周圍之外型並無限制，且可譬如爲多邊形（例 如，矩形、正方形、梯形等）、橢圓形、或圓形。 在一個具體實施例中，該衝擊墊實質上呈箱體外型， 具有矩形、附有一連續側壁之平坦基底，其中該側壁具有 200927333 四個線形側壁部，每一該等側壁部皆自該基底 朝上延伸，且以直角連接至每一鄰接側壁。 一大體上朝向內之唇部可設於該或每一該 上方表面處。該唇部可大致平行於該基底，或 內且朝上方向、或一朝內且朝下方向延伸。 除了該至少一個溝道以外，該或每一該等 外地包含貫穿其中之複數個槽縫或孔洞。 該至少一個溝道之第一末端可位於該基底 © 叉處。另一選擇爲，該至少一個溝道之第一末 底相間隔。在後者之情況下，該間隔可比在關 的側壁高度少5 0 %、少4 0 %、少2 5 %、或甚至 任意情況下，該溝道之第二末端可呈開放。另 該至少一個溝道可至少在朝向該第二末端之一 形’使得該至少一溝道之深度在該第二末端處 該至少一個溝道之第二末端可延伸至該側 面。另一選擇爲’該至少一個溝道之第二末端 ® 之上方表面相間隔。在後者之情況下，該間隔 位置點處的側壁高度少5 0 %、少4 0 %、少2 5 %、或 在某些具體實施例中，可設置複數個溝道 可與每一鄰接溝道等距離相間隔。在該等溝 可爲譬如該等溝道寬度之0.5至5倍、該等溝 至3倍、或甚至該等溝道寬度之大約1至2 爲’在該等鄰接溝道之間的間隔可變化。如 某一區間中提供較另一區間更集中之溝道， 周圍垂直地 等側壁部之 著可沿一朝 側壁部可額 與該側壁交 端可與該基 係位置點處 少 1 0 %。在 一選擇爲， 區域中呈錐 降爲零。 壁之上方表 可與該側壁 可比在關係 甚至少1 0 %。 。每一溝道 之間的間隔 .寬度之0_75 ;。另一選擇 ,，可藉由在 :左右流動。 200927333 當該等溝道呈線形時，其可爲平行、及垂直或傾斜。在一 具體實施例中，該等溝道可依一扇型配置，譬如其第—末 端係相互緊密地聚集，而其第二末端係更爲分離者。 在一特殊系列具體實施例中，該或每一該等側壁（或側 壁部）具有至少一對線形傾斜溝道，朝向其第二末端逐漸會 聚（但並非必須重合）。當有超過一對這種溝道時，每一對 皆可與次一者鄰接著配置，而在這種情況下，每一溝道將 與每一鄰接溝道朝一相反方向（即，依一曲折式）傾斜。另 〇 一選擇爲，該等溝道可朝向其第二末端逐漸分離。 在一相關系列具體實施例中，該等成對之溝道可相互 套疊，即每對中之溝道將變得逐漸分離。 本發明之第二構想提供一種用於容納一體積量熔態金 屬之餵槽，該餵槽具有一底板、及圏繞一衝擊及排洩區域 之複數個側壁，本發明之衝擊墊係設於在該餵槽之衝擊區 域中之底板上者。 該衝擊墊可與該餵槽整合成一體。 © 【實施方式】 請參考第1A圖及第1B圖，其圖示出稱爲「開口箱體」 之先前技藝餵槽衝擊墊1〇。其僅作爲比較之用而倂入在此 說明中。衝擊墊10包括一正方形平面基底12(即，衝擊表 面），且附有一連續側壁，該側壁係由圍繞著基底1 2周圍 佈置之四個垂直直立側壁部1 4構成。每一側壁部1 4皆呈 一平面型，且具有平行於基底12之一平坦上方表面16。 每一側壁部1 4之高度皆相等，且大致小於其長度。於是， -10- 200927333 衝擊墊10可構成一相對較淺之開頂式箱體。 範例1 第2A圖及第2B圖（範例1)係顯示依據本發明第一具 體實施例之衝擊墊20。衝擊墊20之形狀大體上與以上關 於第1A圖及第1B圖作描述之開口箱體衝擊墊10者相同’ 且因此相同元件將使用相同參考代碼。是以’衝擊墊20包 '括一正方形基底1 2且附有四個垂直側壁部1 4，如以上所 述者。然而，衝擊墊20額外地包含複數個線形、垂直溝道 Φ 22，形成於每一側壁部14之內表面中。每一溝道22各具 有第一末端24，鄰接著基底12設置，及第二末端26，設 置於側壁部14之上方表面16處。每一溝道22自其第一末 端24起至其第二末端26皆有一固定深度，且具有一矩形 剖面。於是，每一溝道22在其第二末端26處爲開放端、 即溝道22之矩形剖面將一直延伸至上方表面16。每一溝 道22與次一個相間隔約一溝道22之寬度。請了解到，已 藉由施加複數個立方體間隔物至內壁，而於其間定義出溝 ® 道22，來達成一相似構形。 範例2 依據本發明第二具體實施例之衝擊墊40係顯示於第 3A圖及第3B圖（範例2)中。衝擊墊40之構形大體上與以 上關於第2A圖及第2B圖作描述之衝擊墊20者相同，且因 此相同元件將使用相同參考代碼。在此第二具體實施例與 第一具體實施例之主要差異在於，每一複數個溝道42皆在 每一側壁部1 4之平面中傾斜（即，每一溝道4 2之第一末端 -11- 200927333 44與第二末端46係沿垂直地相對偏移）。在本特殊具體實 施例中，當由衝擊墊40中心上方觀看時，每一溝道42之 第二末端46皆在垂直地順時針地偏移。每一溝道42皆呈 線形，但具有一大體上U型橫剖面。關於第2A圖及第2B 圖之具體實施例，每一第一末端44皆鄰接著基底12設置’ 且每一第二末端46皆設置於側壁部14之上方表面16處。 範例3及4 依據本發明之衝擊墊50的第三具體實施例係顯示於 © 第4A圖及第4B圖（範例3)中。衝擊墊50之構形大體上與 以上關於第3A圖及第3B圖作描述之衝擊墊40者相同， 且因此相同元件將使用相同參考代碼。在此第三具體實施 例與第二具體實施例之差異在於，每一傾斜溝道42皆與基 底1 2相隔開（即，每一第一末端4 4皆設於自基底12起之 側壁部1 4 一部分以上）。於是，一切口 5 1係設於側壁部1 4 中’以在基底1 2與溝道42第一末端44之間建立一間隙 5 2。在本特殊具體實施例（範例3)中，間隙5 2將延伸約側 ® 壁部14高度之30%。在第四範例（未圖示出）中，依據第三 具體實施例之衝擊墊具有一間隙5 2，其爲範例3者之半 (即，側壁部1 4高度之1 5 %)。 範例5 依據本發明之衝擊墊60的第四具體實施例係顯示於 第5A圖及第5B圖（範例5)中。衝擊墊60之構形大體上與 以上關於第3A圖及第3B圖作描述之衝擊墊40者相同， 且因此相同元件將使用相同參考代碼。此第四具體實施例 -12- 200927333 與第二具體實施例之主要差異在於，側壁部14之內表面係 呈皺摺狀（即，具有一弦波剖面），使溝道62不再形成於一 平面側壁中，而由皺摺定義溝道62。如同第3A圖及第3B 圖之具體實施例，每一溝道62各具有第一末端64，鄰接 著基底12設置，及第二末端66，設置於側壁部14之上方 表面16處。進一步之差異在於，當由衝擊墊60中心上方 觀看時’每一溝道62之第二末端66皆在垂直方向上逆時 針地偏移。 © 範例6及7 第6A圖及第6B圖（範例6)係顯示依據本發明第五具 體實施例之一衝擊墊70 »衝擊墊70構形大體上與以上關 於第5A圖及第5B圖作描述之衝擊墊60者相同，且因此 相同元件將使用相同元件符號。此第五具體實施例與第四 具體實施例之差異在於’ 一切口 7 1係設於側壁部1 4中， 以在基底12與溝道62第一末端64之間建立一間隙72。 在本具體實施例（範例6)中，間隙52係延伸約側壁部14高 胃 度之3 0%，如範例3。在第七範例（未顯示出）中，依據第五 具體實施例之衝擊墊具有一間隙72，其爲範例6者之半 (即，1 5 %)。 範例8 依據本發明之衝擊墊80的第六具體實施例係顯示於 第7A圖及第7B圖（範例8)中。衝擊墊80之構形大體上與 以上關於第4A圖及第4B圖作描述之衝擊墊50者相似， 且因此相同元件將使用相同元件符號。此第六具體實施例 -13- 200927333 與第二具體實施例之主要差異在於，一基底82係呈圓形且 —側壁84係一圓形環。此外，基底82係呈尖塔狀，具有 一隆起中心部8 6且附有複數個斜坡側8 8 »在本具體實施 例中’複數個溝道90係相對於基底82傾斜80°角。約側 壁84高度40%之間隙52係設於溝道90與基底82之間。 該等溝道90相互間隔大約單一溝道90之寬度。本具體實 施例之~變型（未顯示）具有一平面基底82。 範例9及1 〇 依據本發明第七具體實施例之衝擊墊1〇〇係顯示於第 8A圖及第8B圖（範例9)中。衝擊墊100之構形大體上與以 上關於第1A圖及第1B圖作描述之衝擊墊10者相同，且 ®此相同元件將使用相同元件符號。至於上述第一至第六 具體實施例之衝擊墊，衝擊墊10〇額外地包含複數個線形 溝道102，形成於每一側壁部14之內表面中。然而，在本 具體實施例中，二對立側壁部1 4具有第一對傾斜溝道 0 1()2’自其位於基底12附近（但與該基底相間隔）之複數個 第一末端104朝向其位於上方表面16處之複數個第二末端 1 0 6逐漸分離。第二對傾斜漸分離溝道1 〇 8亦設於該等側 壁部14上。第二對溝道108係圍繞第一對溝道1〇2套疊， 以在每一該等側壁部1 4之一中心線二側上，皆建立自該中 心線逐漸分離之二平行溝道。在其餘的對立二側壁部i 4 上’各設有又一組的二套疊對溝道110及112。然而，在 本具體實施例，該等成對溝道110、112係配置成，朝向一 中心線逐漸會聚，使得每一側壁部1 4上之每一組溝道可交 -14- 200927333 替地自基底12朝向上方表面16逐漸會聚與分離。在一變 型（第八）具體實施例（未顯示）中，每一側壁部14可僅包含 複數對漸會聚溝道（範例1 〇)。在更一變型具體實施例（未顯 示）中，每一側壁部14僅包含複數對漸分離溝道。每一溝 道102、108、110、112皆具有自其第一末端104起以至其 第二末端106之一固定深度，且具有一大體上U型剖面。 如同第4A圖及第4B圖、第6A圖及第6B圖、以及第7A 圖及第7B圖之具體實施例，溝道102、108、110、112係 © 與基底1 2相間隔。在本特殊具體實施例（範例9)中，約側 壁部14高度30%之一間隙1 14係設於溝道102、108、1 10、 112與基底12之間。亦，在本具體實施例中，溝道102、 1 0 8、1 1 0、1 1 2係相對於基底1 2傾斜70°角。 範例1 1 依據本發明第九具體實施例之衝擊墊120係顯示於第 9A圖及第9B圖（範例11)中。衝擊墊12〇之構形大體上與 以上關於第2A圖及第2B圖作描述之衝擊墊20者相似， ® 且因此相同元件將使用相同元件符號。此第九具體實施例 與第一具體實施例之主要差異在於，溝道122之深度係自 基底12起漸增，即溝道122係呈錐形。 範例12 依據本發明第十具體實施例之衝擊墊13〇係顯示於第 10A圖及第10B圖（範例12)中。衝擊墊13〇之構形大體上 與以上關於第2A圖及第2B圖作描述之衝擊墊20者相似， 且因此相同元件將使用相同元件符號。此第十具體實施例 -15- 200927333 與第—具體實施例之主要差異在於，側壁部14之一內表面 1 3 2係朝向基底1 2之中心傾斜。溝道2 2具有沿其身長之 一固定深度，且與第2A圖及第2B圖中者大致相同，但其 係設於傾斜內表面丨3 2上。 範例13 依據本發明第十一具體實施例之衝擊墊14〇係顯示於 第11A圖及第11B圖（範例13)中。衝擊墊14〇之構形大體 上與以上關於第4A圖及第4B圖作描述之衝擊墊50者相 © 似’且因此相同元件將使用相同元件符號。此第十一具體 實施例與第三具體實施例之主要差異在於，複數個溝道142 之深度係自基底12起縮減。 範例1 4 依據本發明第十二具體實施例之衝擊墊150係顯示於 第12圖（範例14)中。衝擊墊丨50之構形大體上與以上關於 第4A圖及第4B圖作描述之衝擊墊50者相似，且因此相 同元件將使用相同元件符號。此第十二具體實施例與第三 具體實施例之主要差異在於，複數個溝道152之深度係自 基底1 2起增大。此外，本具體實施例具有—開放側端丨5 4， 即其包括三個、而非四個側壁部1 4。 範例1 5 依據本發明第十三具體實施例之衝擊墊160係顯示於 第13A圖及第13B圖（範例15)中。衝擊墊160之構形大體 上與以上關於第9A圖及第9B圖作描述之衝擊墊120者相 似，且因此相同元件將使用相同元件符號。此第十三具體 -16- 200927333 實施例與第九具體實施例之主要差異在於，如同複數個溝 道162之深度係自基底12起增大者一樣，其寬度亦增大。 於是’每一側壁部14上設有較少溝道162。 範例16 依據本發明第十四具體實施例之衝擊墊丨7〇係顯示於 第14A圖及第14B圖（範例16)中。衝擊墊170之構形大體 上與以上關於第13A圖及第13B圖作描述之衝擊墊丨6〇者 相似’且因此相同元件將使用相同元件符號。此第十四具 體實施例與第十三具體實施例之主要差異在於，約側壁部 1 4高度3 0 %之一間隙1 7 2係設於溝道1 6 2與基底1 2之間。 範例1 7 依據本發明第十五具體實施例之一衝擊墊18〇係顯示 於第15A圖及第15B圖（範例17)中。衝擊墊18〇之構形大 體上與以上關於第13A圖及第13B圖作描述之衝擊墊160 者相似，且因此相同元件將使用相同元件符號。此第十五 具體實施例與第十三具體實施例之主要差異在於，複數個 溝道182之深度及寬度係自基底12起縮減、而非增大。 範例1 8 依據本發明第十六具體實施例之衝擊墊1 9 0係顯示於 第16A圖及第1 6B圖（範例18)中。衝擊墊1 90之構形大體 上與以上關於第15A圖及第15B圖作描述之衝擊墊180者 相似’且因此相同元件將使用相同元件符號。此第十六具 體實施例與第十五具體實施例之主要差異在於，約側壁部 14高度30%之一間隙192係設於溝道182與基底12之間。 -17- 200927333 範例1 9 依據本發明第十七具體實施例之衝擊墊200係顯示於 第17圖（範例19)中。衝擊墊2〇〇之構形大體上與以上關於 第2A圖及第2B圖作描述之衝擊墊2〇者相似，且因此相 同元件將使用相同元件符號。此第十七具體實施例與第一 具體實施例之主要差異在於，二對立側端2〇2係呈開放， 即其包括二個、而非四個側壁部i 4。 在所有上述具體實施例中，該等溝道之第二末端皆終 結於’與側壁部14之上方表面16者相同之平面中。在變 型具體實施例（未顯示）中，該等溝道之第二末端可終結於 上方表面16之下方或上方。在溝道係藉連附一組間隔物至 一大致平面側壁部而建立之情況下，該等間隔物可定位 成，終結於上方表面16下方、或延伸超越上方表面16。 在又一具體實施例（未顯示）中，溝道之深度可漸減， 而至其第二末端處達到零。在這種情況下，該等溝道第二 末端可位在與側壁部14之上方表面16者大致相同之平面 中、或上方表面16下方一距離處。 使用時，任意上述具體實施例之一衝擊墊係置於一餵 槽（未顯示）內側、熔態金屬自一杓件流入該餵槽之區域 中。於是，首先將該熔態金屬接收於該衝擊墊內，且這有 助於降低對該餵槽本身之磨耗’而亦可經由與該衝擊墊基 底及側壁之衝擊，來消散輸入流之能量。當該流繼續流動 時，該熔態金屬將向上流動且超越該衝擊墊之側壁，並沿 著該餵槽流向通常設於遠離該衝擊墊位置一段距離外之一 -18- 200927333 排洩孔。這將容許非期望之夾雜物有時間浮至熔態金屬池 頂部’以改善流出該餵槽且進入一模具之金屬品質。 申請人已發現，本發明之各具體實施例皆有助於在使 用該衝擊墊時’於其區域中產生旋轉或擾流，而這可有助 於陷補夾雜物且促使其較正規者更快地浮至熔態金屬池表 面、及/或這可有助於在熔態金屬流沿該餵槽身長運行前， 消散該熔態金屬流中之動能，而因此亦降低夾雜物隨該金 屬流入該模具中之可能性。請注意到，超出該衝擊墊區域 © 以外’金屬將相對較不擾動。 以下之第1表係顯示申請人關於某些上述具體實施例 所執行之水模擬試驗結果。「失效（dead)」値係對餵槽中 之金屬停滯部的一度量。希望該數値以較低爲佳。「栓塞 流（P 1 u g )」値係沿餵槽運動、並未確實混合之金屬量的度 量。該數値最好較高。所有該等數値皆可使用標準技術獲 得，其細節可在相關教科書中尋得。 第1表 衝擊墊構形 範例（Example) 失效（DEAD) 栓塞流（PLUG) 開口箱體 3 1.6 14.5 具體實施例1 1 29.4 16.0 具體實施例4 5 27.2 23.3 具體實施例5 7 25.2 23.3 具體實施例3 4 15.4 26.7 具體實施例3 3 28.7 20.4 具體實施例7 9 12.6 30.1 具體實施例8 10 3.8 34.9 -19- 200927333 由第1表可看出’相較於先前技藝之開口箱體結構’ 本發明之所有具體實施例皆具有一改善（即’較低）之「失 效」値。此外，相較於先前技藝之開口箱體結構’所有該 等具體實施例皆具有一改善（即’較高）之「栓塞流」値。 如上所述者，範例3與4、5與7之差異在於’所考慮 之衝擊墊的溝道第一末端、與其基座及側壁交叉點之間的 一間隙延伸程度、或是否存有一間隙。由具體實施例3之 結果，可看出一較小間隙（範例4)將改善「失效」値及「栓 ® 塞流」値。此外’由範例5及7之結果，可看出相較於無 間隙者（範例5)，一小間隙（範例7)將改善「失效」値’且 對「栓塞流」値無影響。 亦可由第1表看出，提供垂直溝道者（具體實施例1) 較傾斜溝道者（具體實施例3、4、5 )具有較小影響。亦’提 供寬溝道者（具體實施例3)較窄溝道者（具體實施例4、5) 具有較大效果。更，相較於所有其他具體實施例，具體實 施例8之配置具有一顯著改良效能。 ® 申請人藉由觀察在水模擬期間引入流動中之染料的行 進方式，亦注意到，當運用依據本發明一具體實施例之一 衝擊墊時，該衝擊墊附近之染料，將較使用一先前技藝衝 擊墊者餘留更久時間。此外，亦注意到，當該染料開始沿 該餵槽身長行進時，其開始沿該餵槽接近池表面運行一段 較先前一般亦沿池底運行者更長的時間。這意味著較先前 設計者更朝上方趨迫該流動，而促使更多夾雜物浮至池頂。 可了解到，衝擊墊之深度及大小尺寸將根據其使用所 -20- 200927333 在之餵槽特定構形而定》 熟知此項技藝之人士將理解到，可對上述具體實施例 實施各種修飾’而不致脫離本發明之範疇。特別地，二個 或更多上述具體實施例之特點可結合成單一具體實施例， 且一個或更多上述具體實施例之特點可運用於先前技藝衝 擊墊中。 【圖式簡單說明】 以上係參考隨附圖式來描述僅作爲範例用之本發明特 © 殊具體實施例，其中： 第1Α圖與第1Β圖分別顯示呈一開口箱體構形之一先 前技藝衝擊墊的一全面與一局部立體圖； 第2Α圖與第2Β圖分別顯示依據本發明具有複數個沿 垂直方向對正溝道之一衝擊墊第一具體實施例的一全面與 一局部立體圖； 第3Α圖與第3Β圖分別顯不依據本發明具有複數個傾 斜溝道之一衝擊墊第二具體實施例的一全面與一局部立體 ⑩圖； 第4Α圖與第4Β圖分別顯不依據本發明之一衝擊墊第 三具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相似於第二具 體實施例（第3Α圖及第3Β圖）’但具有朝對立方向傾斜且 與基底相間隔之溝道； 第5Α圖與第5Β圖分別顯不依據本發明之一衝擊墊第 四具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相似於第二具 體實施例（第3Α圖及第3Β圖）’但具有由側壁部中之皺摺 -21- 200927333 定義出之溝道； 第6A圖與第6B圖分別顯示依據本發明之一衝 五具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相似於 體實施例（第5 A圖及第5 B圖），但具有與基底相間 道； 第7A圖與第7B圖分別顯示依據本發明之—衝 六具體實施例的一全面與一局部立體圖，其具有圓开 第8A圖與第8B圖分別顯示依據本發明之一衝 ® 七具體實施例的一全面與一局部立體圖，其亘有在 側壁部中之複數個相互套疊漸會聚溝道、及在另二 壁部中之複數個相互套疊漸叉離溝道； 第9A圖與第9B圖分別顯示依據本發明之一衝 九具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相似於 體實施例（第2A圖與第2B圖），但具有深度自衝擊 漸增之複數個溝道； 第10A圖與第10B圖分別顯不依據本發明之一 第十具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相似 具體實施例（第2A圖與第2B圖），但具有朝向該塾 斜之側壁部內表面； 第11A圖與第11B圖分別顯示依據本發明之一 第十一具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相 二具體實施例（第4A圖與第48圖），但具有深度自 面起漸減之複數個溝道； 第12圖顯示依據本發明之一衝擊墊第十二具 擊墊第 第四具 隔之溝 擊墊第 >基底； 擊墊第 二對立 對立側 擊墊第 第一具 表面起 衝擊墊 於第一 中心傾 衝擊墊 似於第 衝擊表 體實施 -22- 200927333 例的一全面立體圖’其相似於第二具體實施例（第4A圖與 第4B圖）’但具有一開放側纟而、及深度自衝擊表面起漸增 之複數個溝道； 第13A圖與第13B圖分別顯示依據本發明之一衝擊墊 第十三具體實施例的一全面與一局部立體圖，其附有複數 個溝道，各具有自衝撃表面起算之漸增寬度及深度； 第14A圖與第MB圖分別顯示依據本發明之一衝擊墊 第十四具體實施例的一全面與一·局部立體圖，其相似於第 Ο 十三具體實施例（第13A圖及第13B圖），但具有與基底相 間隔之溝道； 第15A圖與第15B圖分別顯示依據本發明之一衝擊墊 第十五具體實施例的一全面與一局部立體圖，其附有複數 個溝道，各具有自衝擊表面起算之漸減寬度及深度； 第16A圖與第16B圖分別顯示依據本發明之一衝擊墊 第十六具體實施例的一全面與一局部立體圖，其相似於第 十五具體實施例（第15A圖及第15B圖），但具有與基底相 ® 間隔之溝道；及 第17圖顯示依據本發明之一衝擊墊第十七具體實施 例的一全面立體圖，其附有二對立開放側端、及其內具有 複數個垂直溝道之二對立側壁部。 【主要元件符號說明】 10 (先前技藝餵槽）衝擊墊 12 (正方形平面）基底 正方形基底 -23- 200927333 14 16 20 22 24 26 40 ® 42 44 46 50 (垂直直立）側壁（部） 垂直側壁部 (平坦）上方表面 衝擊墊 (線形、垂直）溝道 第一末端 第二末端 衝擊墊 溝道 第一末端 第二末端 衝擊墊 5 1 切口 52 間隙 60 衝擊墊
62 64 66 70 溝道 第一末端 第二末端 衝擊墊 71 切口 72 間隙 80 衝擊墊 82 (平面）基底 84 側壁 -24- 200927333 86 隆起中心部 8 8 斜坡側 90 溝道 100 衝擊墊 102 (線形）溝道 (第一對傾斜）溝道 10 4 第一末端 106 第二末端
108 (第二對傾斜漸叉離）溝道 110 溝道 1 12 溝道 1 14 間隙 120 衝擊墊 122 溝道 13 0 衝擊墊 132 (傾斜）內表面 140 衝擊墊 142 溝道 150 衝擊墊 152 溝道 1 54 開放側端 160 衝擊墊 162 溝道 1 70 衝擊墊 -25- 200927333 1 72 間隙 1 80 衝擊墊 1 82 溝道 190 衝擊墊 192 間隙 200 衝擊墊 202 側端