TW200925334A - Method to electrodeposit metals using ionic liquids in the presence of an additive - Google Patents
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Description
200925334 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 一離子液體作為 且係關於使用該 本發明係關於一種在添加物存在下利用 電解質於一基板上電沈積—金屬之方法， 添加物於提高該沈積金屬層之層厚产。 【先前技術】
離子液體係-種其中之離子不良配位之鹽，其導致此等 溶劑在低於HHTC之溫度下係液m許多即使在室溫 下亦為液體。離子液體中至少—離子具有一非定域電荷且 一組份為有機物，其可防止穩定晶格之形成。離子液體一 般具有極低蒸氣壓，因此，相對於許多習知溶劑，其實質 上不會產生有害蒸氣。一般而言’已知離子液體可用於許 多應用中，例如作為反應溶劑、萃取溶劑、電池及電沈積 中的電解質、催化劑、熱交換流體，塗層中的添加物。 熟知的系統包含由具有一 _化鋁之齒化烷基吡錠或鹵化 二烷基咪唑鏽形成之系統，及基於氣化膽鹼及一（水合）金 屬鹽諸如氣化鉻（III)之系統。此等系統已被用作電鍍中的 電解質’舉例而言如EP 0 404 188及EP 1 322 591中所述。 此外’ WO 2002/026381揭示氣化膽鹼及一（水合）金屬鹽 諸如氯化鉻（III)之離子液體（共熔混合物）及其在電沈積與 電拋光中之用途。該等混合物係由氣化膽鹼及該（水合）金 屬鹽以介於1:1與1:2.5之間的銨與金屬離子之比率所組 成，且據言其等尤其適用於在一金屬基板上沈積鉻、銘、 鋅或銀。 133195.doc 200925334 此外，PCT/EP/2007/051329描述一種在一基板上電鍍或 電拋光一金屬之方法，其中使用一選自由n+RiR2R3r4 χ· 或N R5R_6R7R8 γ組成之群之離子液體作為電解質，且使 用一添加至該離子液體之金屬鹽作為金屬源或使用一金屬 陽極作為金屬源，其中R,至R8之任一者獨立地表示氫、烷 基、環烧基、芳基或芳烧基’經選自OH、Cl、Br、F、I、 苯基、NH2、CN、N02、COOR9、CHO、COR9或〇R9之基 團取代，Rs至Rs之至少一者係脂肪烷基鏈，且心至化之一 或多者可為（聚）氧伸烷基’其中該伸烷基係〇1至c4伸烷基 且氧伸烷基單元之總數可為1至50個氧伸烷基單元，且Ri 至Rs之至少一者係（^至（：4烷基鏈，R9係烷基或環烷基，χ-係具有Ν-醯基磺醯亞胺陰離子（_c〇-n--S02-)官能性之陰離 子’ Y·係與N+mRs銨陽離子相容之陰離子，例如鹵化 物陰離子、羧酸根陰離子、硫酸根（有機與無機硫酸鹽兩 者）、磺酸根、碳酸根、硝酸根、亞硝酸根、硫氰酸根、 氫氧根或磺醯亞胺陰離子。 在電沈積製程中利用離子液體作為電解質具有若干優 點。舉例而言，習知之鉻酸電鍍製程極其危險，因其主要 仰賴具有高度毒性及致癌性之六價鉻。另一方面，離子液 體可免除使用六價鉻之需求並容許使用被認為係極少危險 之三價鉻。此外，習知之鉻電鍍槽需要使用會造成嚴重處 置問題之強酸，而使用離子液體一般可使此等處置困難最 小化或甚至消除。此外，離子液體為非揮發性，因此其不 會造成大氣污染。 133195.doc 200925334 然而，利用一離子液體作為電解質之先前技術電沈積製 程之缺點係很難或甚至不可能沈積厚於15〇至⑽之 一些金屬之金屬層。 對於-些應用，例如裝㈣電鐘，薄金屬層係可接受。 ’、、:而對於其中a金屬層需要提供保護以防磨損或磨钱， 或提高硬度（功能電鑛）之應用，需要甚厚於細咖之金屬 層。更特定言之，需要數微米或甚至數十微米之層。
因此，有需要可藉以沈積增加厚度之金屬層之改良的離 子液體基電沈積系統。 【發明内容】 令人‘ft牙地’已發現藉由添加—特定添加物至該等離子 液體基電鑛槽’可沈積較厚金屬I。更詳細言之，本發明 係關於在於-基板上電鑛或電拋光__金屬之製程中使用非 晶形氧化矽、石墨粉或其混合物作為添加物，纟中使用一 離子液體作為電解質以提高金屬層厚度。 基於若干原因，已將添加物添加至包含電解質之離子液 體中。舉例而言，仍7，196,221揭示在金屬電鑛與電抛光 製程期間，且特定言之在祕製程中利用亮光劑來改良於 離子液體溶劑/電解質中獲得之塗層之外觀。該等亮光劑 包含硫脲、糖精、香草醛、烯丙基脲、菸鹼酸、檸檬酸、 明膠、2.巯基苯并Μ、二水合氟化四乙錢或五水合氯 氧化四曱基銨。然@ ’此等添加物對沈積層之均勻性具有 不利影響，或完全無作用。 八 W〇 2〇〇6/〇74523係關於-種用於回收始族金屬之方法， 133195.doc 200925334 其包括自一其中可存在氧化還原試劑、錯合劑、傳導性增 強劑之離子液體電沈積鉑族金屬。 US 6,552,843係有關用於控制電磁輻射之反射率及/或透 射之裝置’例如可調節的鏡子、智慧窗、光學衰減器及顯 示器’其揭示一種利用一離子液體電解質之可逆性電沈積 光學調變裝置。該離子液體電解質係由一離子有機化合物 • 與一可電沈積金屬之鹽之混合物組成。該離子有機化合物 0 包括一雜環陽離子，例如N-烧基吡咯錠、吡咯錠、；[-烷 基-3-甲基咪唑鑌、N_烷基吡錠、2•烷基-丨―吡咯啉鑌、丨·烷 基咪峻鏽。該可電沈積金屬係銀、銅、錫、鋅、纪、银、 鎘、汞、銦、鉛、銻、鉈及其合金。其提及該離子液體電 解質可藉由添加有機或無機膠凝劑而成為更具黏性、半固 態或固態。可將包括懸浮碳與溶解染料之無機或有機物質 添加至該電解質以賦予所需顏色或降低背景反射。 此等文件皆未教授如何在利用包含電解質之離子液體之 〇 電沈積製程中獲得較厚金屬層。 本申凊案中之術語電沈積應被理解為包含電鍍與電拋光
原先粗糙或不平坦之金屬表面塗布一 口上。另一應用係利用 。所謂電拋光係指藉由 參布一相對薄的金屬層 133195.doc 200925334 而將其平滑化並增進其外觀。 根據本發明用以提高沈積金屬層厚度之添加物係非晶形 氧化矽、石墨粉、或其混合物。 術語非晶形氧化矽係意指包含任何形式的膠體矽石微 粒，其中該等膠體矽石微粒（亦被稱為矽溶膠）可源自於（例 如广儿焱矽石、矽膠、熱解矽石（發煙矽石）、微矽石（微矽 粉）或其混合物。根據本發明之膠體矽石可經改質且可包
❹ 含其他元素諸如胺、鋁及/或硼，其可以微粒及/或連續相 存在。 水性的溶劑中，適 、NH4+、有機陽離 該4膠體石夕石微粒可分散於一實質上 當地在穩定陽離子諸如K+、Na+、Li+ 第二、第三及第四胺、及其混合物之存在下， 以便形成—水性碎溶膠。然而，亦可使用包含有機溶劑例 如低碳醇、丙_或其混合物之分散液（亦稱為有機石夕溶 膠)。較佳地’該溶膠中的矽石含量係約5至約8〇重量％。 適合根據本發明使用之水性矽溶膠係，例如，由Akz〇 N〇beI麟得。適#的有㈣溶膠係，例如，由Ni_化學工 業購得。 例如由Degussa購 所s胃石墨粉係意指細粒碳粉或碳」 得0 基於電解質之總重量，添加物較佳係以至少0.01 wt%之 量使用，更佳至少0.05 wt% ’且最佳至少〇」㈣。基於電 解質之總重量’較佳使用不多於5 wm之添加物，更佳不 多於3 wt% ’且最佳不多於j wt°/〇。應注意術語電解質係代 -ΙΟ Ι 33195.doc 200925334 表全體電解質混合物，亦艮句 亦即包含溶解金屬鹽與添加物。 藉由本發明’亦即藉由添加所述添加物，當與無該(等) 添加物之電沈積比較時，層厚度可增加至少1〇倍，更佳至 少20倍，且最佳至少仰倍。 +用作電解質之離子液體較佳係選自由N+RlR2R3R4 Χ·、 N R5R6R7R8 γ及其混合物組成之群，其中至以之任一者 冑立地表示氫、烷基、環烷基、芳基或芳烷基，其可經選 Φ 自0H C1 Br、F、I、苯基、NH2、CN、N〇2、CO〇R9、 CHO、COR9或〇r9之基團取代，其中RjR4之至少一者係 視情況分支的脂肪烷基鏈，其中R2可為…广^烷 基）-N+R16R17R18(其中Ri6、Ri7、Ri8係分別類似於心、 R3、R4)，或Cl至C4烷基鏈，且其中心至以之一或多者可 為（聚）氧伸烷基，其中該伸烷基係(^至匕伸烷基且氧伸烷 基單元之總數可為1至50個氧伸烷基單元，且其中心至1 之至少一者係(：〗至（：4烷基鏈，其中I係烷基或環烷基，其 Ο 中X係與N+R)R2R3R4銨陽離子相容之陰離子，例如_化物 陰離子、羧酸根陰離子、硫酸根（有機與無機硫酸根兩 者）、磺酸根、碳酸根、硝酸根、亞硝酸根、硫氰酸根、 風氧根、糖精酸根陰離子或績醯亞胺陰離子，且其中γ-係 具有磺醯亞胺陰離子或Ν-醯基磺醯亞胺陰離子（_c〇_N--S〇2-)官能性之陰離子。 在一實施例中，X_係選自F-、Cl·、Br-、Γ之基團； R10C〇cr陰離子之基團，其中r10可為氫、（：1至(：；22烷基、 烯基或芳基；RuS(V陰離子之基團，其中Rn可不存在（在 133195.doc 200925334 此情況下該陽離子為二價）、為氫、（：〗至(：22烷基、烯基或 芳基，υο/陰離子之基團，其中Rl2可不存在（在此情況 下該陽離子為二價）、為氫、Ci至C22烷基、烯基或芳基；
RuC〇3陰離子之基團，其中Ru可不存在（在此情況下該陽 離子為二價）、為氫、（:〗至(::22烷基、烯基或芳基；及尺… N-S〇2-R!5陰離子之基團，其中及/或尺丨5可獨立地為 氫、（^至匸22烧基、烯基或芳基，且R14可藉由一羰基鏈結 至該氣原子。 月曰肪烧基鍵係意指包含飽和及/或不飽和鏈且包含8至22 個碳原子；較佳地，其包含10至22個碳原子，最佳12至2〇 個碳原子。 在另一實施例中，使用化學式n+RiR2R3R4X-之離子液 體，其中I、R3及R4係如上所述且r2係（C2至烷基）_ N+R16R17R18基。較佳地，Ri6、Ri7及Ri8係分別於心、&及 R4相同，其中其等之至少一者係視情況分支的脂肪烷基 Ο 鏈，而導致一雙子星型結構（亦即一對稱二-第四銨化合 物）。 在另一實施例中，γ-係基於一種已知為甜味劑之化合 物。在另一實施例中，N+hhlR8係胺，其中該等基團心 至R8係氫或視情況經0H或C1取代之烷基或環烷基；更佳 地，其中至少二個係烷基，更佳係c 1至Q烷基。 在一較佳實施例中，離子液體係選自以下任一者：膽鹼 糖精酸鹽、膽鹼乙醯磺胺酸鹽、氣化十六烷基三曱基 錢、氣化十八烧基三曱基錢、氣化椰子三曱基録、氣化牛 133195.doc 200925334 脂三甲基錢、氣化氫化牛脂三甲基錄、氯化氯化標搁三甲 基錢、氣化油稀三甲基錄、氣化黃豆三甲基錄、氣化挪子 节基二甲基錢、氣化C12_16_烧基节基二曱基錄、氣化氫 化牛脂节基二甲基録、氯化二辛基二曱基銨、氣化二癸基 二甲基銨、亞硝酸二椰子二甲基銨、氣化二椰子二曱基 銨、氣化二（氫化牛脂）二甲基銨、氣化二（氫化牛脂）苄基 ' f基銨、氣化二牛脂二甲基銨、氯化二-十八烷基二甲基 ❹ 銨、氣化氫化牛脂(2-乙基己基)二甲基銨、曱基硫酸氫化 牛脂（2-乙基己基）二甲基錢、氯化三_十六烧基甲基銨、氣 化十八烷基甲基二（2·羥乙基）銨、硝酸椰子二羥乙基）甲 基銨、氯化椰子二（2-羥乙基）甲基銨、氣化椰子二（2_羥乙 基）苄基銨、氣化油烯基二（2_羥乙基）甲基銨、氣化椰子 [聚氧伸乙基（15)]-甲基銨、曱基硫酸椰子[聚氧伸乙基 (15)]甲基銨、氣化椰子[聚氧伸乙基甲基銨、氯化十 八烷基[聚氧伸乙基⑴）]甲基銨、氯化氫化牛脂[聚氧伸乙 Φ 基（15)]甲基銨、醋酸三（2_羥乙基）牛脂銨、二氣化牛脂_ 1，3-丙烷五甲基二銨。 以上扣示之適合根據本發明使用之許多離子液體可藉由 一簡單鹽反應而製備’舉例而言，藉由氯化膽鹼與糖精酸 (乙醯磺胺酸）鈉之複分解反應以形成一糖精酸（乙醯磺胺 酸）膽鹼離子液體，或藉由相應胺之第四銨化作用。 離子液體之銨陽離子與來自溶解鹽或來自金屬陽極之金 屬鹽之金屬陽離子的莫耳比較佳係介於1000]與U之 間。更佳係離子液體之銨陽離子與金屬鹽之金屬陽離子之 133I95.doc -13- 200925334 莫耳比介於500:1與5:1之間，最佳係莫耳比介於100:1與 7.1之間，此提供良好品質的金屬層，金屬於離子液體中 之優良溶解及製程成本與電鍍基板產品之外觀之間的良好 平衡。 較佳係沈積金屬鉻、鋁、鈦、鋅或銅、或其合金之一 U佳係沈積鉻或，最佳係鉻4金屬沈積可自溶解 力電解質中的金屬鹽進行，其例如為金屬函化物，較佳為 φ (但不限於）金屬氣化物。其亦可使用經應用作為陽極之純 金屬（即鉻、！S、鈦、鋅或銅陽極）進行。在使用金屬陽極 之實施射，該陽極可呈金屬板、金屬塊、金屬片之形式 或熟習此項技術者已知之任何其他適當的形式。 可根據本發明經電鍍或電拋光之基板可為任何導電物 體。較佳地’其係一固體金屬物體，例如一碳鋼物體，或 其包括導電元件例如一複合材料物體。 本發明進-步關於-種在—金屬基板上電鑛或電抛光一 ❹ 金屬之方法，其中離子液體係選自由X-、 N Rsm γ-及其混合物組成之群，其中心至以之任一者 冑立地表示氫、烧基、我基、芳基或芳院基，其可經選 自 〇H、C1、Br、F、1、苯基、顺2、CN、N〇2、C00R9、 CHO、COR^〇R9之基團取代，其中r丨至^之至少—者係 視情況分支的脂肪烧基鏈’其中R2可為（UC6烧基）_ N R16R17R18(其中Rl6、Rl7、R】8係分別類似於r】、&、 R4)’扣至〇4院基鏈’且其tRjR8之—或多者可為⑻ 氧伸炫基’其中該㈣基係院基且氧伸统基單元 133195.doc -14· 200925334
之總數可為1至50個氧伸烷基單元，且其中 -者係CJC4烧基鏈，其中尺9係院基或環院基，^中㈣ 與N+hm錄陽離子相容之陰離子，例如自化物陰離 子、羧酸根陰離子、硫酸根（有機與無機硫酸根兩者）、磺 酸根、碳酸根、硝酸根、亞硝酸根、硫氰酸根、氫氧根f 糖精酸根陰離子或磺醯亞胺陰離子，且其中γ-係具有續酿 亞胺陰離子或N-醯基磺醯亞胺陰離子（_c〇_N-_s〇2_)官能性 之陰離子， 其中使用添加至該離子液體之金屬鹽或金屬陽極作為金 屬源，及 其中基於電解質之總重量，該離子液體包括至少〇〇1 Wt0/。之選自由非晶形氧化矽、石墨粉及其混合物組成之群 之添加物。 該添加物較佳係以如上描述之量使用。 電沈積較佳係在低於90°C之溫度下，且更佳係在室溫 下’在敞開的電沈積容器中實施，但電沈積並不受限於此 等條件。 【實施方式】 根據本發明之方法藉由以下實例進一步闡明。 實例 比較實例1-在不具有添加物的氣化挪子炫基甲基【聚氧伸 乙基（15)】銨中自CrCh六水合鹽將鉻電鍍於碳鋼上 將氣化鉻（III)六水合鹽添加至包含0.2 wt%水之氣化椰子 烷基甲基[聚氧伸乙基（15)]銨離子液體中，且在約50°C之 133195.doc •15- 200925334 溫度下挽動該混合物直至該固態鹽溶解。在製備得的溶液 中，六水合氣化鉻（III)之濃度係75 g/kg。 將約25〇毫升之該溶液傾倒至設有一電加熱元件之薄膜 電池（Hull cell)中，其在陽極側具有65毫米長度且在陰極 側具有102毫米長度，陽極_陰極最短距離為48毫米，陽極_ 陰極最長距離為127毫米，且深度為65毫米。加熱該電池 且將溫度維持在約8 0。(：。該液體係利用一設置於中央的頂 伸式葉輪攪動。 應用鍍翻鈦板作為陽極且連接至一 DC電源之正極端 子’同時使用碳鋼板作為陰極（基板）且連接至負極端子。 在引入至槽中之前，該基板片先利用一商業擦洗粉清潔， 在去礦質水中、在丙酮中且之後在乙醇中、及最終在4 M_HC1 水溶液中清洗。當兩板皆經連接並引入至電池中時，將電 壓差設定至30V。在一串聯連接之儀表上監控電流。 電鍍數小時後，將陰極與電源分離且從電池中取出。將 ❹ 該板於水及丙酮中清洗然後乾燥。藉由結合X-射線散射之 掃描電子顯微術（SEM/EDX)對該基板實施化學分析。其確 認鉻沈積於碳鋼上。利用自德國Fischer獲得之厚度測量裝 置測量沈積層厚度。經測得厚度低於0.5 μίη。 實例2-在添加0.2 wt%非晶形氧化矽之氣化椰子烷基曱基 [聚氧伸乙基（15)】銨中自CrCL六水合鹽將鉻電鍵於碳鋼上 於如實例1中所述而製備得之氣化鉻（ΠΙ)六水合鹽溶於 氣化椰子烷基甲基[聚氧伸乙基（15)]銨離子液體中之溶液 中添加包含8 wt%活性化合物之非晶形氧化矽含水膠體溶 133195.doc -16- 200925334 液。该製備溶液中該非晶形氧化石夕之濃度，以活性化合物 之量表示，為1.6 g/kg。 將約250毫升之該溶液傾倒至實例1中描述之該薄膜電池 中。將該電池加熱至約8(TC之溫度。 實施如實例1中該碳鋼基板（陰極）之相同的前處理，且 再次應用鍵銘鈦板作為陽極。將電位差設定至3〇 v。該液 " 體係利用一設置於中央的頂伸式葉輪攪動。在一串聯連接 之儀表上監控電極之間的電流。 電流流通數小時後，將陰極與電源分離且從電池中取 出。將該板於水及丙酮中清洗然後乾燥。藉由結合χ_射線 散射之掃描電子顯微術（SEM/EDX)對該基板實施的化學分 析確認鉻沈積於該碳鋼板上。經測得利用一厚度測量裝置 (德國Fischer)測量之沈積層厚度在基板之特定區域高達 8 μΓΠ，其顯著地比未使用添加物時厚。如同薄膜電池實驗 的典型情況，層厚度隨基板上之位置而變化—在此情況 Ο 係1 4爪至8 Pm。為確認此等測量，亦進行橫切金相學分 析。將基板之樣品钱入環氡樹脂中並在顯微鏡下評估沈積 物。以此方式測得的層厚度與厚度測量裝置之結果一致。 實例3-於添加0.4 Wt%非晶形氧切之氣化挪子烧基甲基 [聚氧伸乙基⑽敍中自CrCl3六水合鹽將鉻電錄於破銅上 於如實令π中所述而製備得之氣化鉻（111)六水合鹽溶於 氣化椰子烧基甲基[聚氧伸乙基（15)]録離子液體中的溶液 中添加包含8 wt。/。活性化合物之非晶形氧化石夕含水膠體溶 液。該製備得溶液中該非晶形氧化石夕之遭度，以活性化合 133195.doc 200925334 物之量表示，係4 g/kg。 將約250毫升之該溶液傾倒至實例1中描述之該薄膜電池 中。將該電池加熱至約80eC之溫度。 實施如實例1中該碳鋼基板（陰極）之相同的前處理，且 再次應用鍍鉑鈦板作為陽極。將電位差設定至3〇 V。該液 體係利用一設置於中央的頂伸式葉輪攪動。在一串聯連接 * 之儀表上監控電極之間的電流。 0 在電流流通數小時後，將陰極與電源分離且從電池中取 出。將該板於水及丙酮中清洗然後乾燥。藉由該基板之結 合X-射線散射之掃描電子顯微術（SEM/EDX)的化學分析確 認鉻沈積於該碳鋼板上。經測得利用厚度測量裝置（德國
Fischer)及藉由橫切金相學分析所測量之沈積層厚度在1至 9 μιη之範圍内。 實例4-於添加1 wt%碳黑之氣化椰子烷基甲基丨聚氧伸乙基 (15)】兹中自CrCb六水合鹽將鉻電链於碳鋼上 〇 於如實例…斤述而製備得之氣化鉻⑽六水合鹽溶於 氣化椰子烧I曱基[聚氧伸乙基（15)]録離子液體中的溶液 巾添加碳黑。該製備得混合物中碳黑之濃度係10 g/kg。 將約250毫升之該混合物傾倒至實例14>描述之該薄膜電 池中。將該電池加熱至約7〇〇C之溫度。 實施如實例1中該碳鋼基板（陰極）之相同的前處理，且 再次應用㈣鈦板作為陽極。將電位差設定至3G V。該液 體係利用一設置於中央的頂伸式葉輪授動。在一串聯連接 之儀表上監控電極之間的電流。 133195.doc -18· 200925334 在電流流通數小時後，將陰極與電源分離且從該電池中 取出。將該板於水及丙酮中清洗然後乾燥。藉由該基板之 結合X-射線散射之掃描電子顯微術（SEM/EDX)的化學分析 確認鉻沈積於該碳鋼板上。經測得利用厚度測量裝置（德 國Fischer)測量之沈穑屏 金相學分析測得相同的厚度值。 〇
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Claims (1)
- 200925334 十、申請專利範圍： 1 · 一種選自由非晶形氧化矽、石墨粉及其混合物組成之群 之添加物之用途，其係用於使用離子液體作為電解質於 基板上電鍍或電拋光一金屬以提高金屬層厚度之製程。 2.如叫求項丨之添加物之用途，其中該離子液體係選自由 Κ·ιΚ·2Κ·3Κ4Χ、N R5R6r7r8y·及其混合物組成之群，其 • 中RdR8之任一者獨立地表示氫、烧基、環烷基、芳基 或芳院基，其可經選自OH、Cl、Br、F、I、苯基、 2 CN N02、CO〇R9 ' CH〇、c〇R4 〇R9之基團取 代其中R,至r4之至少—者係視情況分支的脂肪&基 鏈，其中r2可為（(：2至<：6燒基）_N+Ri6Ri7Ri8(其令Ri6、 Rl7、Rl8係分別類似於R】、R3、I)、或C丨至（：4烷基鏈， 且其中R】至118之一或多者可為（聚）氧伸燒基，其中該伸 ’元土係C丨至c4伸烷基且氧伸烷基單元之總數可為^至 個氧伸院基單元，且其w至之至少-者係c,至Μ ❿ 基鏈’其巾基或我基，其中X.係與N+R^n 錢陽離子相容之陰離子，例如#化物陰離子、㈣根陰 . 冑子、硫酸根（有機與無機硫酸根兩者）、績酸根、碳酸 根、石肖酸根、亞硝酸根、硫氰酸根、氫氧根、糖精酸根 -陰離子或伽亞胺陰離子，且其巾U有㈣亞胺陰 離子或N·醯基續酿亞胺陰離子（_c〇_n._s〇2·)官 離子。 3.如清求項1或2之添加物之用途，其中經電鍍或電拋光於 該基板上之該金屬係源自—金屬源，其係—選自由路、 133195.doc 200925334 銘、鈦、鋅及鋼鹽組成之群的金屬鹽，或一選自由鉻、 銘、鈦、鋅及銅陽極組成之群的陽極。 4·如剛述晴求項中任一項之添加物之用途，其中該離子液 體之陽離子與該金屬鹽或由該金屬陽極衍生之該金屬陽 離子之莫耳比係介於1，〇〇〇: 1與3:1之間，較佳係介於 100:1與7:1之間。 5. 如請求項4之添加物之用途，其中以電解質之總重量 ❹ 計’其之量係介於0· 1 wt%與5 wt%之間。 6. 如前述請求項中任一項之添加物之用途，其中該離子液 體係選自由下列所組成之群：膽驗糖精酸鹽、膽鹼乙酿 磧胺酸鹽、氯化十六烷基三曱基銨、氯化十八烷基三曱 基銨、氣化椰子三曱基銨、氯化牛脂三甲基銨、氣化氫 化牛脂三曱基銨、氯化氫化棕櫚三甲基銨、氯化油烯基 一甲基知、氯化黃豆三曱基錢、氣化椰子苄基二曱基 銨、氣化烷基苄基二甲基銨、氣化氫化牛脂苄基 Ο 一甲基知、氣化二辛基二甲基録、氣化二癸基二甲基 銨、亞硝酸二椰子二甲基銨、氣化二椰子二甲基銨、氯 . 化一（氫化牛脂）二甲基銨、氯化二（氫化牛脂）苄基甲基 銨、氯化二牛脂二甲基銨、氣化二-十八烷基二甲基銨、 氣化氫化牛脂（2-乙基己基）二甲基銨、甲基硫酸氫化牛 脂（2-乙基己基）二甲基銨、氯化三_十六烷基甲基銨、氣 化十八烷基甲基二（2-羥乙基）銨、硝酸椰子二（2_羥乙基） 甲基銨、氣化椰子二（2-羥乙基）甲基銨、氯化椰子二（2_ 羥乙基）苄基銨、氣化油烯基二（2_羥乙基）甲基銨、氯化 133195.doc 200925334 椰子[聚氧伸乙基（15)]-甲基銨、甲基硫酸揶子[聚氧伸乙 基〇5)]甲基銨、氣化椰子[聚氧伸乙基（丨7)]甲基銨、氯 化十八燒基[聚氧伸乙基（15)]曱基錄、氣化氯化牛脂[聚 氧伸乙基（15)]甲基録、醋酸三（2_經乙基）牛脂錄、二氯 化牛脂-1,3-丙烷五甲基二銨。 7. 一種在金屬基板上電鍍或電拋光金屬之方法，其中一離 . 子液體係選自由N+nm、n+R5R6R7R8Y-及其混合 0 #組成之群’其中Rl至〜之任—者獨立地表示氫、院 基、環烷基、芳基或芳烷基，其可經選自〇H、C卜Br、 F、I、笨基、顺2、CN、N〇2、c〇〇R9、CH〇、c〇R9或 〇R9之基團取代，其中之至少—者係視情況分支 的脂肪烷基鏈，其中R2可為（(^至^烷基）_N + Ri6Ri7RW其 中Rl6、Rl7、R18係分別類似於心、R3、R4)、或C〗至^院 基鍵，且其中—或多者可為（聚）氧伸烧基，其 中該伸院基係C,至c4伸⑯基且氧伸燒基單元之總數可為 參 1至5G個氧伸貌基單元，且其中〜至〜之至少—者係Cl 至C4烷基鏈，其中R9係烷基或環烷基，其中χ-係與 • N+RlR2R3R4錢陽離子相容之陰離子，例如i化物陰離 子、羧酸根陰離子、硫酸根（有機與無機硫酸根兩者）、 ’ 磺酸根、碳酸根、硝酸根、亞硝酸根、硫氰酸根、氫氧 根、糖精酸根陰離子或磺醯亞胺陰離子，且其中γ·係具 有碩醯亞胺陰離子或Ν·醯基磺醯亞胺陰離子（-CO-N--S〇2 )g月bl·生之陰離子；其中使用一添加至該離子液體之 金屬或金屬陽極作為金屬源；及其中以電解質之總 133195.doc 200925334 十該離子液體包括至少0.01 wt%之選自由非晶形 石墨粉及其混合物組成之群之添加物。 8.如請求項7之方土 々凌’其中經電鍍或電拋光於該基板上 該金屬係诉白八H ^ ^原自—金屬源，其係一選自由鉻、鋁、鈦、鋅 • 及銅鹽組成之群的金屬鹽，或-選自由鉻、紹、鈦、辞 及銅陽極組成之群的陽極。 月求項7或8之方法，其中該離子液體之陽離子與該金 ❹ 屬孤或由該金屬陽極衍生之該金;|陽離子之莫耳比係介 ? 〇·1與3.1之間，較佳係介於100:1與7:1之間。 10·如請求項7至9 φ紅 _ _ _ 中任一項之方法，其中該離子液體係選自 斤、、、成之群.膽鹼糖精酸鹽、膽驗乙酿續胺酸 鹽、氣化十六絲三甲基m十4基三甲基敍、 氯化椰子三甲基銨、氣化牛脂三甲基敍、氯化氫化牛脂 一甲基銨、氯化氫化棕櫚三甲基銨、氣化油烯基三甲基 錢、氣化黃豆三甲基録、氣化椰子节基二甲基錢、氯化 〇 烷基苄基二甲基銨、氣化氫化牛脂苄基二曱基 銨、氯化二辛基二甲基銨、氯化二癸基二甲基銨、亞硝 , 酸二椰子二甲基銨、氣化二椰子二甲基銨、氯化二（氫化 牛脂）二甲基銨、氯化二（氫化牛脂）苄基甲基銨' 氯化二 ' 牛脂二甲基銨、氣化二（十八烷基）二甲基銨、氯化氫化 牛脂（2-乙基己基）二甲基銨、甲基硫酸氫化牛脂（2_乙基 己基）二甲基銨、氣化三-十六烷基甲基銨、氣化十八烷 基甲基二（2·經乙基）錢、確酸椰子二（2_經乙基）甲基敍、 氯化椰子一（2-經乙基）甲基铵、氣化椰子二（2_經乙基）节 133195.doc -4· 200925334 基銨、氯化油烯基-β，好、 伸乙基⑽-甲基錄錄、氯化椰子f聚氧 土 甲基硫酸椰子[聚氧伸乙基（15)]甲 土銨、氯化椰子[聚氧伸乙基⑽f基銨、氣化十八烷 基[聚氧伸乙基(15)]甲基銨、氯化敷化牛脂[聚氧伸乙基 (15)]甲基銨、醋酸三（2-羥乙基）牛脂銨、二氣化牛脂 1，3-丙烷五曱基二銨。 ❹ 133195.doc 200925334 七、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：（無） (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 八、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式： (無）133195.doc
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