TW200918540A - Novel herbicides - Google Patents

Description

200918540 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 /本發明係有關新穎除草活性環戊烷二酮化合物，及其 何生物、其製備方法、包含彼等化合物之組成物，及其於 控制特別是在有用植物之農作物中的雜草，或於抑制；欲 之植物生長之用途。 【先鈾技術】

WO 具有除草作用之環戊烷二酮類係描述（例如）於 01/74770 及 WO 96/03366。 【發明内容】 及抑制生長性質之新穎環戊烷二 目前已發現具有除草 剩化合物，及其衍生物。 本發明因此係有關式(I)之化合物

其中 R及R8彼此獨立為氫 烷®其 r e「c3院基'C「c3鹵烷基、C丨_c3 烷乳基、烷基硫、 3 R2 p3 4 α素或、CrC6烷氧基羰基， R、R3、R4、R5 4 R1 ^ p8 - 和汉彼此獨立為氫或取代基，

次 R 及 R8、R3 及 R4、R 及R —起與其所連接的碳原子 200918540 形成視需要取代之環，視需要包含雜原子，或 ^ R1R4—起與其所連接的碳原子形成酮，亞胺基或 烯基單元，或 R3及R6 —起形成鍵， ' G ^氫、或鹼金屬、鹼土金屬、録L、銨或潛伏化 • (latentiating)基團。

Het為視需要經取代之單環式或二環式雜芳香環，及 其農化上可接受鹽。 …在式⑴化合物之取代基定義中，每個院基部分，無論 是早獨或為較大基團之—部分（例如燒氧基，烧氧基，烧基 羰基，烷基胺基羰基，二烷基胺基羰基），為直鏈或支鏈且 為，例如甲基，乙基，正-丙基，正-丁基，正-戊基，正-己 基，異-丙基，二級-丁基，異_丁基，三級_丁基或新戊基。 烷基合適地為Cl-C6烷基，但是較佳為Ci_C4烷基。 形成環之伸烷基’以及伸烯基可視需要進一步被一個 或更多個鹵素、C1-C3烷基及/或c]-c：3烷氧基取代。當存 在時，視需要的在烷基部分上之取代基（單獨或為較佳基團 一部分如烷氧基，烷氧基羰基，烷基羰基，烷基胺基羰基， 二烷基胺基羰基）包括一個或更多個鹵素，硝基，氰基，c3-c7 環烷基（本身視需要經CrC6烷基或鹵素取代），c5-c7環烯 基（本身視需要經Ci_c0烷基或鹵素取代），羥基，Ci_Ci〇烷 氧基（cvc,。）烧氧基，三（Ci_c4)烷基矽烷基（cvq)烷氧基， C,-C6烧氧基幾基（Ci_Ci❶）院氧基，（Ci_Ci。）画烷氧基，芳基 (CrC：4)烷氧基（其中芳基視需要被取代）’ ere?環烷氧基（其 200918540 中環烧基視需要被（^-(：6烷基或鹵素取代），c3-c10烯氧基， Cs-C!◦炔氧基，氫硫基，Ci_CiG燒基硫，Ci_CiG齒烧基硫， 芳基（Ci-C4)烷基硫（其中芳基視需要經取代），c3-C7環烷基 硫（其中環烧基視需要經Cl_C6烷基或鹵素取代），三（Cl_c4 烧基）院基矽烷（Ci-CJ烷基硫，芳基硫（其中芳基視需要經 取代）’ c「C6烷基磺醯基’ Ci_C6鹵烷基磺醯基，Cl-c6烷 基亞~酿基，Ci_C6 _院基亞礦酿基，芳基績酿基（其中芳 基視需要經取代）’三（Crq烷基）矽烷基，芳基二（crc4) 院基矽烷基，（C^-Cd烷基二芳基矽烷基，三芳基矽烷基， 芳基（cvc4)烷基硫（cvc4)烷基，芳基氧基（cvc4烷基），甲 酸基，cvCw烷基羰基，ho2c，eve,。烷氧基羰基，胺基 幾基’ CVC6烷基胺基羰基’二（Ci_c6烷基）胺基羰基，N_ d-c：3烷基hN-ccvc^烷氧基）胺基羰基，cvc6烷基羰基氧 基’芳基羰基氧基（其中芳基視需要經取代），二（Ci_C6)烧 基胺基羰基氧基’（q-CJ烷基亞胺基氧基，c3-C6烯基氧 基亞胺基，芳基氧基亞胺基’芳基（本身視需要經取代）， 雜芳基（本身視需要經取代），雜環基（本身視需要經（Ci_C6) 烧基或鹵素取代），芳氧基（其中芳基視需要經取代），雜芳 氧基（其中雜芳基視需要經取代），雜環氧基（其中雜環氧基 視需要經（C^-C6)烷基或鹵素取代），胺基，Cl_c6烧基胺基， 一（C「C6)烧基胺基’ Cj-Cg烧基幾基胺基，烧某 罗厌基-NJC^-C6)烧基胺基’ C^-C6稀基幾基’ C2_C6块基幾基， (：3<6烯基氧基羰基，(：3_(：6炔基氧基羰基，芳基氧基幾基（其 中芳基視需要經取代）以及芳基羰基（其中芳基視需要經取 200918540 代）。 姊基和炔基部分可為直鏈或支鏈形式，且烯基部分， 合宜者’可為（E)-或（Z)'组態。其實例為乙烯基，婦丙基和 炔丙基。縣和&基部分可包含一個或多個雙鍵及/或三鍵 之任何組合。應理解的是，丙二烯基和alkyHny丨烯基包括 在此等用語中。 當存在時，烯基或快基上視需要的取代基包括以上為 烧基部分的該等視需取代基。 南素為氟’氯，溴或碘。 齒烷基為經一個或多個相同或不同的幽原子取代且例 如為 CF3，CF2a , CF2H，CC12H，FCH2，C1CH2，BrCH2， CH3CHF，(CH3)2CF，CF3CH2^CHF2CH2〇 在本文中，“芸耸” “ μ ^ m ” ^ 方基，方香銥，和“芳香環系統” 括苯基，萃m 或衣。此類環之實例包 此外，“；，恩基:，基或菲基。較佳之芳基為苯基。 指包含至f ，雜芳香環”或“雜芳香環系統，，意 之芳香環ί統固雜原子且!單一環或二或多個稍合環組成 包人夕、、’較佳者，單環將包含多達三個且二環李统 包含多達四個較佳 > 衣矛'、，'死 香環之實例為，"硫之雜原子。合適的雜芳 基、聘唾基、“二°塞吩基、0夫喃基…比0各基、異聘。坐 基、四唾基、二坐基、嗟嗤基、対基、哺哇基、三。坐 磨二。坐基和售二=、㈣基、。比啡基、°答啡基、三啡基、 雜環及雜:1 ’其適當的話，队氧化物及其鹽。 衣基用語較佳意指非芳香族’較佳為包含達 200918540 7個原子之罝摆：+ 個… 或二環環系統，其包含-個或多個(較佳一 個或二個）選自氧 ^ 爪σ氣之雜原子。此 二氧戊環，4独班 〜貝1夕J巴祜1,3- 畊。 ’、衣丁烷，四氫呋喃，嗎啉，硫代嗎啉和哌 田存在時’雜環基上視需要的取代基包括I必烧基 1 6自炫Ί乂及上述為院基部分所述之該等視需要的 取代基。 f、元基較佳包括環丙基，環丁基環戊基和環己基。 %院基烧基較佳為環丙基甲基。環稀基包括環戊烯基和環 己烯基。 田存在日守’環烷基或環烯基上視需要的取代基包括

CrC3烧基以及上述為烷基部分所述之該等視需要的取代 基0 碳環環包括芳基’環烷基和環烯基。 當存在時’芳基或雜芳基上之視需要取代基係獨立地 選自鹵素’硝基’氰基，羅達若基（rhodano)，異硫氰基， crc6烷基和Cl_c6鹵烷基，Ci_C6烷氧基_ (Ci_c6)烷基，C2_C6 烯基’ C2-C6鹵烯基，C2-C6炔基，C3-C7環烷基（本身視需 要經C「C6烷基或鹵素取代），C5-C7環烯基（本身視需要經 ci_C6烷基或鹵素取代），羥基，CVC,。烷氧基，CVCu烷 氧基（CVCiG)烷氧基，三（CrC4)烷基矽烷基（CVC6)烷氧基， CiA烷氧基羰基（cvc10)烷氧基，crc6鹵烷氧基，C3-C7 環烷氧基（其中環烷氧基視需要經crc6烷基或鹵素取代）’ Cs-C,。烯氧基，cvc,。炔氧基’氫硫基’ CrCw烧基硫’ cvc10 200918540 鹵烧基硫’芳基（CVC4)烧基硫’ c3-C7環烧基硫（其中環燒 基視需要經C】-C6烧基或鹵素取代），三（CfCd烧基石夕烧基 (CrC6)烷基硫’芳基硫’ C「C6烷基磺醯基，crC6鹵烷基 續醯基，CrC6烧基亞績醯基’ crC6鹵烷基亞續醯基，芳 - 基磺磺醯基’三（C^C：4)烷基矽烷基，芳基二（c「c4)烷基石夕 * 娱》基’（C丨-C4)院基_ —方基梦炫•基，三芳基珍烧基，C丨-C10 烷基羰基，H02c，CrC1G烷氧基羰基，胺基羰基，Cl-c 1 6 烧基fe基Ik基，二（C^-Cg烧基）胺基幾基，NJC^-C^烧基）· N-ccvc：3烷氧基）胺基羰基，Crc6烷基羰基氧基，芳基羰 基氧基’一（C^-C6)烧基胺基幾基氧基’芳基（本身視需要經 C^C：6烧基或鹵素取代），雜芳基（本身視需要經Ci_c6烷基 或鹵素取代），芳氧基（其中芳基視需要經Cl_c6烷基或幽 素取代）’雜芳氧基（其中雜芳基視需要經Crc6烷基或南 素取代）’雜環氧基（其中雜環基視需要經基或齒 素取代）’胺基，C「c6烷胺基，二（CVC6)烷胺基，CVC6烷 基裁基胺基，N_(Ci_C6)烷基羰基_n_(Ci_c6)烷基胺基，芳 1 基幾基（其中芳基視需要經鹵素或d-C6烷基取代），或芳 基或雜芳基系統上兩個相鄰位置可被稠合而形成5、6或7_ 員石反環或雜環環，其本身視需要經鹵素或C!-c6烧基取代。 芳基或雜芳基進一步的取代基包括芳基羰基胺基（其中芳基 視需要經CrC：6烷基或鹵素取代），（Ci_c6)烷氧基羰基胺基 Α')烧氧基羰基_n_(Ci_c6)烧基胺基，芳氧基羰基胺基（其 中方基視需要經C「c6烷基或鹵素取代），芳氧基羰基_N_ (c〗-c：6)烧基幾基（其中芳基視需要經Ci_C6烷基或鹵素取 11 200918540 代），芳基磺醯基胺基（其中芳基視需要經Cl_C6烧基或鹵 素取代），芳基續酿基N-CC^-C^)炫基胺基（其中方基視需要 經（：「(：6烷基或齒素取代）’芳基-(Ci-Ce)烧基胺基（其 中芳基視需要經CrC6烷基或鹵素取代）’雜芳基胺基（其 中雜芳基視需要經烷基或鹵素取代）’雜環基胺基（其 中雜環基視需要經CrC6烷基或鹵素取代）’胺基羰基胺基， (c,-c6)烷基胺基羰基胺基，二（crc6)烷基胺基羰基胺基， 芳基胺基羰基胺基，（其中芳基視需要經CrC6烷基或鹵素 取代），芳基-N-(CrC6)烷基胺基羰基胺基（其中芳基視需要 經c,-c6烷基或鹵素取代），（cvc6)烷基胺基羰基 烷基胺基’二（CrC：6)烷基胺基羰基-N-Ch-Cd烷基胺基， ^'基胺基艘基-N-i^Ct-C6)烧基胺基（其中芳基視需要經ct_c6 烷基或鹵素取代）以及芳基-N-(CrC6)烷基胺基羰基（其中芳 基視需要經C「C6烷基或鹵素取代）。 對經取代之苯基部分 k. 個或多個取代基彼此獨立為選自鹵素，crC6院基，c _c 函烷基，CrG烷氧基，Cl_C6齒烷氧基，Ci_C6烷基硫^ 烷基亞磺醯基，q-c：6烷基磺醯基，硝基和氰基。理應瞭 解的是，二録胺基取代基包括料其巾二貌基—起與直 所連接的氮原子成5、6或7員雜環基環，其可包含一個 或多個選自氧、氮或硫之進一步雜原子 r且視需要經一個或 夕個獨立選自（cvc6)烷基所取代。當雜 田雜環％係經由連接氮 原子上的二個基團而形成，所得環適 ^ 有為吡咯啶，六氫 。比啶，硫代嗎琳和嗎琳，其每一者 令』被—個或二個獨立選 12 200918540 自（cvcj烷基所取代。 “環”用語包括相對應芳基，雜芳，環烷基，環烯基和 雜環，視需要經如上所述者取代。 較佳者，在式（I)化合物中’ R2和R7彼此獨立為氫， 鹵素’甲醯基，氰基或硝基，或 R2和R7彼此獨立為CVC：6烷基，C2_C0烯基，Crq炔 基，CVC6烷氧基，cvc：7環烷基，C3_C7環烯基，苯基， 雜芳基或3至7員雜環基，纟中所有此等取代基視婉 取代，或 α R2 和 R7 彼此獨立為 COR9，c〇2Rl^ c〇nr丨iRi2, CRl3 = N〇R"，CR15 = NNr16r17，NHr18，NR18R】9 或 ， 其中 R9為cvC6烷基，c2_c6烯基，c2_c6炔基，環烷 基，Cs-C：7環烯基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基其 中所有此等取代基視需要經取代， 〃 R0為氫，cvc6烧基，C3_C6烯基，κ6炔基， 環烧基，c5-c7環烯基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基，-其中所有此等取代基視需要經取代， R11為氫’ cvc6烧基，C3_C6稀基，C3_C6炔基，c c 環燒基，c5_d縣，苯基，雜芳基或3至7負雜環基，7 其中所有此等取代基視需要經取代， 产R12為氫，cvc6貌基，C3_C6婦基，C3_C6块基， 烧氧基，（Vc6齒烧氧基，c3_C7環烧基，Μ?環烯基， 烧基續酿基，苯基㈣基，雜芳基續醯基， 16 ^ ^ 1 13 200918540 丈完基胺基，二（CrC；6)烧基胺基’苯基，雜芳基或3至7員 雜環基，其中所有此等取代基視需要經取代，或 R11及R12可被連接而形成視需要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或氮原子， R13及R15彼此獨立地為氫，CrC3烧基或q-C6環境基， R14 ’ R16及R17彼此獨立地為氫，Cl-c6烷基，c3-c 烯基，C3-C6炔基’ C3-C7環烧基’ CVC6烧基羰基， 烧氧基幾基’ CVC：6烧基硫幾基’胺基幾基，q-c：6燒基胺 基羰基’二Ci-C6烷基胺基羰基，苯基或雜芳基，其中所 有此等取代基視需要經取代， 尺18為crC6烷基羰基’ crC6烷氧基羰基，Ci_c6燒基 石爪幾基’ c「c6^基胺基幾基’二基胺基徵基， 烷基磺醯基，苯基羰基，苯氧基羰基，苯基胺基羰基，苯 基硫羰基，苯基磺醯基，雜芳基羰基，雜芳氧基羰基，雜 芳基胺基羰基，雜芳基硫羰基或雜芳基確醯基，其中所有 此等取代基視需要經取代， R19 為 CVC6 烧基，C3-C6 烯基，c3-c6 快基 ’ c3-c7 環 烷基，CrC6烷基羰基，CrC6烷氧基羰基，Ci_c6烷基硫 碳基，CVC6烷基胺基羰基，二Ci_C6烷基胺基羰基，Cri 烷基磺醯基，苯基或雜芳基，其中所有此等取代基視需要 經取代， R18及R19可被連接而形成視需要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或氮原子，其中所有此等取代基視需要 經取代， 14 200918540 R20 為 CVC6 烷基，c3_c6 烯基 ’ c3-C6 炔基，c3-c7 環 烧基’ CVC：6燒基羰基，Ci_c6烷氧基羰基，烷基硫 幾基’胺基羰基，c「c6烷基胺基羰基，二crc6烷基胺基 羰基’ CrC：6烷基磺醯基，三（c]_c6烷基）矽烷基，苯基或 雜芳基，其中所有此等取代基視需要經取代， 更佳者，R2和R7彼此獨立為氫，鹵素，氰基，視需 要經取代之CVG烷基或COR9，C02R1G或CONRuR12， cr13=nor14，或 CR15=NNR】6R17，其中 R9 ’ R1() ’ R11 ’ RU 為 Ci_C6 烷基， R13及R15為氫或Ci-Ce烷基， R14為crc3烷基，及 R16和R17彼此獨立為氩或Crc3烧基，其中 R2和R7彼此獨立為氫，曱基或以經Ci_C6烷氧基取代 之甲基特佳。 較佳者，在式⑴化合物中，r3，Μ，r5和R0彼此獨 立為氩，鹵素，羥基，甲醯基，胺基，氰基或硝基，或 R3，R4，R5和R6彼此獨立為Ci_C6烷基，C2_C6烯基， C2_ce炔基，c,_C6烷氧基，Ci_Ce烷基硫，Ci_C6烷基亞磺 醯基，Cl_C6烷基磺醯基，C3_C7環烷基，C4_C7環烯基， 三（C,-C6烷基）矽烷基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基， 其中所有此等取代基視需要經取代，咬 R3，R4，R5和R6彼此獨立為c〇R9，c〇2RlG或 conr"r12, CR心norm，cr15=nnr16r17 nr18r19 或 〇r2〇， 其中 15 200918540 R9為CVC6烷基，C2-C6烯基，（：2-(：6炔基，c3-c7環烷 基’ C5_C?環烯基’苯基，雜芳基或3至7員雜環基，其 中此等取代基視需要經取代， R10 為氫，〇ν(：6 烷基，C3-C6 烯基，C3-C6 炔基，C3-C7 環烷基’ Cs-C7環烯基’苯基’雜芳基或3至7員雜環基， 其中所有此等取代基視需要經取代， R"為氫’ CrC6烷基，C3-C6烯基，C3-C6炔基，CVC6 烧氧基，CVG鹵烷氧基，c3-C7環烷基，c5-C7環烯基， 苯基’雜芳基或3至7員雜環基’其中所有此等取代基視 需要經取代， R12 為氫 ’ C「C6烷基，C3-C6烯基，C3-C6炔基，C「C6 現氧基’ C〗-C6鹵烷氧基，C3-C7環烷基，c5-C7環烯基，CrC6 燒基磺醯基，胺基’ Crq烷基胺基，二（Ci_c6)烷基胺基， 笨基，雜芳基或3至7員雜環基，其中所有此等取代基視 需要經取代，或 R11及R12可被連接而形成視需要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或氮原子， R13及R15彼此獨立地為氫，Crq烷基或C3-C6環烷基， R14，R16及R17彼此獨立地為氫，Ci_C6烷基，C3_C6 稀基’ c3-c6炔基’ c3-c7環烷基，Ci_C6烷基羰基，Ci_C6 燒氧基羰基’ C「C6烧基硫羰基，（^-Cg烷基胺基羰基，二

Ci-C6烧基胺基羰基，苯基或雜芳基，其中所有此等取代 基視需要經取代， R18 和 1119為 CVC6 烷基’c3-c6 烯基，C3-C6 炔基，C3-C7 16 200918540 環烷基，cvc：6烷基羰基，CrC：6烷氧基羰基，Ci_C6烷基 硫羰基’ C「C6烧基胺基羰基，二烷基胺基羰基，CrCe 烧基磺醯基，苯基或雜芳基，或 R18及R19可被連接而形成視需要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或氮原子，其中所有此等取代基視需要 經取代， R20 為 CrC6 烧基，c3-C6 稀基，C3-C6 块基，C3-C7 環 烷基，CVC6烷基羰基，Ci_C6烷氧基羰基，Ci_C6烷基硫 羰基，胺基羰基，Ci-q烷基胺基羰基，二（^-(^烷基胺基 羰基，CrC6烷基磺醯基，三（Ci_c6烷基）矽烷基，苯基或 雜芳基’其中所有此等取代基視需要經取代， 更佳者，R3，R4，R5和R6彼此獨立為氫’ _素，氰 基’ 烧基，C2-C6烯基，（^-(：6烧氧基，CrC6烷氧基

Ci-C6烷基’ 3至7員雜環基或CR13=NOR14，其中 R13為氫或c「c3烷基，及 R14為cvc3烷基。 在一組較佳之式（I)化合物中，R3和R4 一起形成單元 =0，或形成單元=CR21R22，或形成單元=nr23，或與其所 連接的碳原子形成3至8員環，其視需要含有選自氧，硫 或氮的雜原子以及視需要經Ci_C3烷基，Ci_c3烷氧基，Ci_c3 燒基硫’ CVC3烧基亞磺醯基，c「c3燒基確醯基， 鹵烷基，_素，苯基，經CVC4烷基，cvc4 i烷基，Cl_c4 燒氧基’ CVC4烷基硫，CrC4烷基亞磺醯基，院基 κ酿基，C1-C4烧基碳基’ cvC4烧氧基叛基，胺基截基， 17 200918540 c】-c0烷基胺基羰基’鹵素，氰基取代或經硝基’雜芳基 或經CVQ炫基’_烧基’ 〇ν(：4炫氧基，cvc4鹵烷 氧基，CrC4烷基硫，CrC4烷基亞磺醯基，c「c4烷基磺 醯基’ C〗-C4烧基碳基’鹵素，氰基或硝基取代之雜芳基 取代，其中 R21和R22彼此獨立為氫，鹵素，氰基或硝基，或 R21和R22彼此獨立為C丨_C6烷基，^广匕烷氧基，Ci_C6 烷基胺基，二CVC6烷基胺基，Ci_c6烷基羰基，Ci_c6烷 氧基羰基，Ci-C：6烷基胺基羰基，二烷基胺基羰基， N-苯基-N-CVC6烷基胺基羰基，N_苯基_Ci_c6烷基_n_Ci_C6 烧基胺基幾基，N-雜芳基_N_Ci_c6烷基胺基羰基，N_雜芳 基-CrC6烧基-N-CVC6烧基胺基幾基，苯基，雜芳基，c3_ cs壞炊基或3至7員雜環基，其中所有此等取代基視需要 經取代， R21和R22可被連接而形成5至8員環，其視需要包含 選自氧’硫或氮的雜原子且視需要經Cl-C2烷基或 烷氧基取代， R 為硝基或氛基，或 R23g (VC6烷基胺基’二CVC6烷基胺基，CVC6烷氧 基’ C3_C0烯基氧基’ c3-C6炔基氧基，苯氧基，苯基胺基， N-苯基-N-C「c6烷基胺基’ N-苯基-CVC6烷基-N-CVQ烷 基胺基雜氧基，雜芳基胺基，N_雜芳基_n_Ci_C6烷基胺基 或N-雜芳基基-N-CrC6貌基胺基，其中所有此等 取代基視需要經取代，其中 200918540 ，特佳者，當R3和R4 —起形成單元=〇或=NR23 ,其中 R2'為C「C3烷氧基。 在一組較佳之式⑴化合物中，R3和R4 一起與其所連 接：碳原子形成3 S 4員環’其視需要含有選自氧，硫或 的雜原子或基團，以及視需要經CrC*烷基，Ci_C4烷 虱基，c丨-C4烷基硫，齒素，C]_C4烷基羰基或烷氧 基幾基，或 R3和R6 —起與其所連接的碳原子形成5至8員環， 其視需要含有選自氧，硫或氮的雜原子，以及視需要經 烷基’ CrC3烷氧基，cvc：3烷基硫，〇143烷基亞磺醯基，3 C,-C3烷基磺醯基，Ci_c3 _烷基，齒素，苯基，經 烷基，cvc4_烷基，cvc4烷氧基，Ci_c4鹵烷氧基，Ci_c4 烷基硫，Cl-C4烷基亞磺醯基，（:「C4烷基磺醯基， 烷基碳基，C^C4烷氧基羰基，胺基羰基，Ci_C6烷基胺基 羰基，二CrC：6烷基胺基羰基，鹵素，氰基取代或經硝基， 雜芳基或經CVC4烷基，CrC4鹵烷基，Cl-c4烷氧基，（V C4画烧氧基’ crC4烷基硫，crc4烷基亞磺醯基， 烧基磺醯基，C^-C4烷基碳基，鹵素，氰基或硝基取代之 雜方基取代，或 R3和R6 —起形成鍵，其中 R24 為氫，CrC6 烷基，c3-c6 烯基，c3-C6 炔基，C「C6 烧氧基’ CVC6烧基羰基’ c「c6烷氧基羰基，C「c6烧基 胺基羰基，二CrC6烷基胺基羰基，苯氧基羰基Cl-c6烷 基磺醯基，笨基磺醯基或雜芳基氧基羰基，其中所有此等 19 200918540 取代基視需要經取代。 較佳者’ R3和R6 —起形成鍵。 較佳之式⑴化合物中，1^和R8彼此獨立地為氫或匕 C3炫基’其中，更佳者，R〗和R8為氫。 另一組較佳式⑴化合物中，Rl和R8 一起與其所連接 的碳原子形成3至7員環，其視需要包含氧或硫原子。 基團G表示氫、鹼金屬陽離子例如鈉或鉀、鹼土陽離 子例如鈣、銃陽離子（較佳地_s(Ci_C6烷基3)+)或銨陽離子 (車父佳地-NH4+或—N(CrC6烧基）4+)、或c「c6烧基、C3_C6 烯基或CVC6炔基或潛伏化（iatentiating)基團。潛伏化 (latentiating)基團G較佳係選自Cl_c8烷基、c2_c8 _烷基、 苯基C^C：8烷基（其中苯基可視需要經Ci_c3烷基、鹵 烷基、Κ3烷氧基、c「c3鹵烷氧基、cvq烷硫基、cvc3 烷亞磺醯基、c^-c：3烷磺醯基、鹵素、氰基或硝基取代）、 雜芳基C「C8烷基（其中雜芳基可視需要經Cl-C3烷基、Ci_ c3函烧基、Cl-c3烷氧基、Cl_c3鹵烷氧基、Ci_Cj硫基、 q-C3烧亞磺醯基、Ci_c3烷磺醯基、鹵素、氰基或硝基取 代）、C3-C8 烯基、C3-C8 鹵烯基、c3-c8 炔基、C(Xa)-Ra、 C(Xb)-Xc-Rb、C(Xd)-N(Rc)-Rd、-S02-Re、_P(Xe)(Rf)-Rg 或 CH2-Xf-Rh，其中Xa、Xb、Xc、Xd、xe和Xf彼此獨立地為 氧或硫；

Ra為Η、CrCw院基、C2-C18稀基、C2-C18炔基、C广 c10炔基、CVCu氰烷基、crC1Q硝烷基、crc1Q胺烷基、 CVC5烧胺基crC5烷基、C2-C8二烷胺基CrC5烷基、c3-c7 20 200918540 環烷基crc5烷基、cvc5烷氧基cvc5烷基、c3-c5烯氧 基C「C5烧基、C3-C5快氧基C「C5烧基、C〗-C5烧硫基c「 c5烷基、Crc5烷亞磺醯基CVC5烷基、CVC5烷磺醯基c「c5 烧基、C2-C8 亞烧胺氧基（alkylideneaminoxy)CrC5 烧基、 -C!-C5烧徵基ci-C5烧基、C]烧氧叛基C]-C5烧基、胺 • 羰基c「c5烷基、cvc5烷胺羰基（vc5烷基、c2-c8二烷 胺羰基CrC5烷基、CVC5烷羰胺基CVC5烷基、N-CrC5 烷羰基-N-CVCs烷胺基crc5烷基、C3-C6三烷矽基CrC5 ( 烷基、苯基CrCs烷基（其中苯基可視需要經Cl_c3烷基、

Cj-C〗_烧基、Ci-C〗烧氧基、C^-Cs鹵烧氧基、Cj-Cs烧硫 基、C^-C〗炫•亞石黃酿基、Cj-Cg烧石黃S篮基、_素、氰基、或 經硝基取代）、雜芳基crc5烷基，（其中雜芳基可視需要 經CVC3炫基、C「c3鹵烧基、CVC3烧氧基、（^-〇3鹵烧氧 基、CVC3炫•疏基、CVC3烧亞績醯基、烧確醢基、 鹵素 '氰基、或經硝基取代）、C2-C5鹵烯基、C3-C8環炫基、 笨基或經crc3烷基、（vq鹵烷基、cvc3規氧基、c _c / 1 3 鹵烧氧基、鹵素、氰基或琐基取代之苯基、雜芳基或經 烧基、crc3 i烷基、Cl-C3烷氧基、cvc3幽烷氧基、齒 素、氰基或硝基取代之雜芳基，

Rb 為 CVCu 娱;基、C3-C18 烯基、C3-Cl8 炔基、c2-C10 iS燒基、C^-Cw氣烧基、c^-Cio端烧基、C2-CI〇胺烧基、（^-(^ 院月女基C「C5烧基、C2-C8二烧胺基C「C5燒基、c3-C7環 院基CrC〗院基、C^-Cs炫氧基C「C5院基、C3-C5稀氧基CrC5 烷基、CVC5炔氧基C丨-C：5烷基、C丨-C5烷硫基Cl-c5院基、 21 200918540 c「c5烷亞磺醯基c「c5烷基、（VCs烷磺醯基cvc5烷基、 C2-C8 亞烧胺氧基（alkylideneaminoxy^-Cs 烧基、（^-〇5 嫁 羰基C,-C5烷基、（：「<：5烷氧羰基CVC5烷基、胺羰基cvc5 烷基、（^-(^烷胺羰基CVC5烷基、C2-C8二烷胺羰基cvc5 烷基、CrC5烷羰胺基CVC5烷基、N-C「C5烷羰基-N-CVCs 烷胺基C「C5烷基、C3-C6三烷矽基c「c5烷基、苯基C「C5 烷基（其中苯基可視需要經烷基、C^-Cs鹵烷基、Cr c3烧氧基、c「c3鹵院氧基' Ci-C^烧硫基、CVC3炫亞石黃 醯基、C ! -C3烷磺醯基、鹵素、氰基、或經硝基取代）、雜 芳基CVC5烧基’（其中雜芳基可視需要經Cl_c3烧基、cv c3鹵烷基、cvc3炫《氧基、i烧氧基、cvc^烧硫基、 c烷亞磺醯基、CfC：3烷磺醯基、鹵素、氰基、或經硝 基取代）、cvc：5鹵烯基、c3-c8環烷基、苯基或經cvc5烷 基、c】-c3鹵烷基、Cl-C3烷氧基、c「c3鹵烷氧基、鹵素、 氰基或硝基取代之苯基、雜芳基或經Ci_C3烷基、Ci_C3鹵 烷基、cvc3 @氧基、〇vc3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基 取代之雜芳基， R和Rd彼此獨立地為氫、Ci_c"烷基、烯基、 C3-C1G炔基、c2_c1G ^烷基、Ci_CiQ氰烷基、Ci_CM硝烷基、 CVC1G胺烷基、Cl_c5烷胺基Ci_c5烷基、C2_C8二烷胺基 C〆5燒基、q-c：7環燒基Ci_c5烧基、Ci_c5烧氧基c「c5 烷基、C3-C5烯氧基Cl-C5烷基、C3-C5炔氧基Cl_c5烷基、 Cl-C：5烧硫基CVC：5烧基、Ci_c5烧亞續醯基Ci_C5烧基、CrC5 烧續醯基C「C5院基、c2-c8亞烧胺氧基 22 200918540 (alkylideneaminoxyfrCs 烷基、CVC5 烷羰基 CVC5 烷基、 垸氧幾基c^-Cs烧基、胺叛基cvc5烧基、cvq烧 胺羰基CVC5烷基、C2-C8二烷胺羰基（VC5烷基、cvc5 烷羰胺基CVC5烷基、N-CrC5烷羰基-N-C2-C5烷胺基烷基、 C3-C6三烷矽基CrCs烷基、苯基Crc5烷基（其中苯基可視 需要經crc3烷基、cvc3鹵烷基、cvq烷氧基、crc3鹵 烷氧基、（Vq烷硫基、crc3烷亞磺醯基、cvc3烷磺醯 基、鹵素、氰基、或經硝基取代）、雜芳基Ci-Cs烷基，（其 中雜芳基可視需要經c「c3烷基、crc3鹵烷基、CVC3烷 氧基、CrC3鹵烷氧基、C「c3烷硫基、crc3烷亞磺醯基、 C「c3烷磺醯基、鹵素、氰基、或經硝基取代）、c2_c5鹵烯 基、C3-C8環烷基、苯基或經crC3烷基、CVC3鹵烷基'CVC3 烷氧基、鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之苯基、 雜芳基或經crc3烷基、cvq鹵烷基、（vc3烷氧基、cv c3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之雜芳基、雜芳胺基 或經cvc3烷基、crc3鹵烷基、cvc^烷氧基、鹵烷 氧基、鹵素、氰基或硝基取代之雜芳胺基、二雜芳胺基或 經cvc3烷基、CVC3鹵烷基、c「c3烷氧基、CVC3鹵烷氧 基、鹵素、氰基或硝基取代之二雜芳胺基、苯胺基或經Ci-C^ 烧基、Ci-C^鹵烧基、（^-(^3炫氧基、CrC3鹵烧氧基、鹵 素、氰基或經硝基取代之苯胺基、二苯胺基或經C^-Cs烷 基、C「c3鹵烷基、CVC3烷氧基、crc3鹵烷氧基、鹵素、 氰基或經硝基取代之二苯胺基、胺基、crc5烷胺基、c「c3 二烷胺基、CrC3烷氧基或c3-C7環烷胺基、二-c3-c7環烷 23 200918540 胺基或CrC7環烷氧基或Re*…可連接在一起以形成夂7 員環’視需要包含一個選自〇或S之雜原子。

Re為CrC1G燒基、c2_Ci。稀基、C2 基 ^ 1 ^10 炔基、crc1G亂烷基、Ci_Ci()硝烷基、Ci_Cig胺烷基、 C5烷胺基CrC5烷基、C2_C8二烷胺基Ci_c5烷基、c 3 η 環烷基CrC5燒基、Ci_C5烧氧基Ci_C5烧基、C3_Cs烯氧 基c,-c5炫基、C3-C5块氧基crc5炫基、Ci_c5烧硫基k C5烷基、C「C5烷亞磺醯基Cl-C5烷基、（^-(^烷磺醯基c __Γ 1 烧基、C2-C8亞院胺氧基（aikyiideneaminoxy)C丨-C5淀基、 crC5炫幾基cvc：5烧基、cvc：5院氧幾基Ci_C5院基、胺 幾基cvc5炫•基、cvc5烧胺幾基cvc5院基、c2-c8二燒 胺羰基crc5院基、c「c5烷羰胺基Ci_c5烷基、N_Ci_c 烷羰基-N-CVC5烷胺基crc5烷基、c3_c6三烷矽基c _c5 烧基、苯基C「C5烧基（其中苯基可視需要經燒義 CrC3鹵炫基、CVC3烧氧基、（^-(：3鹵燒氧基、Crq燒碎 基、c「C3烷亞磺醯基、c「C3烷磺醯基、齒素、氰基、咬 經硝基取代）、雜芳基q-C：5烷基（其中雜芳基可視需要經 CVC5烷基、CrC3 1S烧基、CVC3烷氧基、Ci_c3鹵烷氧基: CrC3烷硫基、CrC3烷亞磺醯基、CVC：3烷磺醯基、鹵素、 氰基、或經破基取代）、CrC5鹵稀基、c3_c8環烧基、苯其 或經cvc^炫:基、crc3 i烧基、（：〗-(：3燒氧基、c,-c3齒烧 氧基、素、亂基或确基取代之求基、雜芳基或經c^c 烷基、crc3鹵烷基、CrC3烷氧基、鹵烷氧基、鹵 素、氰基、胺基或經硝基取代之雜芳基、雜芳胺基或經cc 24 200918540 烷基、Cl_C3鹵烷基、ci-c3烷氧基、cvc3鹵烷氧基、鹵 素、氰基或經硝基取代之雜芳胺基、二雜芳胺基或經ei_C3 烷基、cvc3鹵烷基、Ci_c3烷氧基、Ci_C3鹵烷氧基、鹵 素、氰基或硝基取代之二雜芳胺基、苯胺基或經烷 基、C「c3鹵烷基、Cl_c3烷氧基、c「C3鹵烷氧基、鹵素、 氰基、硝基、取代之苯胺基、二苯胺基、或經el_c3烷基、 c,-c3鹵烷基、Ci_c3烷氧基、Ci_c3鹵烷氧基、鹵素、氰 基或硝基取代之二苯胺基、或C3_C7環烷胺基、二C3_C7 環烷胺基或（VC7環烷氧基、Ci_CiG烷氧基、Ci_CiQ _烷氧 基、（^-(35烧胺基或c2-C8二燒胺基， …和此獨立地為Cl_ClQ烷基、C2_Ciq烯基、C2_Ci〇 炔基、c,-c10烷氧基、cvCu鹵烷基、crc10氰烷基、cv c10硝院基、C^-Cu胺烷基、cvc5烷胺基c「c5烷基、c2-c8二烧胺基cvq烷基、c3-c7環烷基（VC5烷基、c「c5 烧氧基CVCs烷基、c3-c5烯氧基CVC5烷基、c3-C5炔氧 基院基、c^-Cs烧硫基C^-Cs烧基、Ci-Cs烧亞績醯 基C「C5烧基、crC5烧續醯基（VC5烧基、c2-C8亞烷胺 氧基（alkylideneaminoxyfrC^ 烷基、C丨-C5 烷羰基（^-(：5烷 基、（：「(：5烷氧羰基cvc5烷基、胺羰基（ν<：5烷基、cvc5 烷胺羰基cvc5烷基、c2-c8二烷胺羰基（vc5烷基、crc5 烷羰胺基cvc3烷基、n-cvc5烷羰基-n-c2-c5烷胺基烷基、 C3_c0二烧石夕基cvc5烧基、苯基cvc5燒基（其中苯基可視 需要經c〗-c3烷基、CVC3鹵烷基、crc3烷氧基、Ci_c3鹵 院氧基、CrCg院琉基、C!-C3院亞績醯基、（^-(^3烧績醯 25 200918540 基、鹵素、氰基、或經硝基取代）、雜芳基crc5烷基（其 中雜芳基可視需要經CVC3烷基、CVC3鹵烷基、crc3烷 氧基、cvc3鹵烷氧基、<ν<:3烷硫基、cvq烷亞磺醯基、 cvc3烧績醯基、鹵素、氰基、或經硝基取代）、c2-c5鹵歸 基、C3-C8環烧基、苯基或經CrC3烧基、鹵烧基、C^-C^ 烷氧基、鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之苯基、 雜方基或經C丨-C 5烧基、C | - C 3鹵烧基、c 1 - C 3烧氧基、c丨_ C3鹵烷氧基、鹵素、氰基或經硝基取代之雜芳基、雜芳胺 基或雜經cvq烷基、crc3鹵烷基、cvc3烷氧基、cvc3 鹵院氧基、函素、氰基或經硝基取代之芳胺基、二雜芳胺 基或經cvc3烷基、CVC3鹵烷基、CVC3烷氧基、cvc3南 炫氧基、素、氰基或硝基取代之二雜芳胺基、苯胺基或 經Crq烷基、Cl-C3鹵烷基、CVC3烷氧基、c】-c3鹵烷氧 基、_素、氰基或硝基取代之苯胺基、胺基、羥基、二苯 胺基、或經cvc3烷基、c「c3鹵烷基、cvc3烷氧基、（V C3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基取代之二苯胺基、或c3_c7 環燒胺基、二C3_C7環烷胺基或c3_c7環烷氧基、Ci_Ci〇鹵 烷氧基、C^-C：5烷胺基或二烷胺基、苯甲氧基或苯氧 基’其中笨曱基和苯基基團可依次經Cl-C3烷基、crc3鹵 烷基、C「C3烷氧基、Cl_(：3鹵烷氧基、鹵素、氰基或硝基 取代，和

Rh 為 Ci-C!。烷基、C3-C1()烯基、C3-C]。炔基、CVC10 函燒基、CrC10氰烷基、4-〇:10硝烷基、c2_Ci〇胺烷基、crc5 烷胺基cvc5烷基、c2-c8二烷胺基CVC5烷基、C3-C7環 26 200918540 烷基（Vq烷基、cvc5烷氧基cvq烷基、c3-c5烯氧基cvc5 烷基、C3-C5炔氧基C「C5烷基、CVCs烷硫基CVC5烷基、 c,-c5烷亞磺醯基cvq烷基、cvq烷磺醯基cvc5烷基、 c2-c8 亞烧胺氧基（alkylideneaminoxy)c 丨-C5 烧基、CVC5 炫 羰基CVC5烷基、（^-(：5烷氧羰基cvc5烷基、胺羰基cvc5 烷基、c「c5烷胺羰基cvq烷基、C2-C8二烷胺羰基cvc5 烷基、C,-C5烷羰胺基CVQ烷基、N-C「C5烷羰基-n-cvc5 烷胺基c「c5烷基、c3-c6三烷矽基CrC5烷基、苯基CVC5 烷基（其中苯基可視需要經Ci-Cs烷基、Ci-C^鹵烷基、Cl-c3烷氧基、CVC3鹵烷氧基、crc3烷硫基、crc3烷亞磺 基、C^-Cs院續醯基、鹵素、氣基或經琐基取代）、雜务 基C〗-C5烷基（其中雜芳基可視需要經Cl-C3烷基、Ci-Cs鹵 烷基、CVC3烷氧基、cvc3鹵烷氧基、Cl_C3烷硫基、cvC3 垸亞續龜基、C^-C：3烷磺醯基、鹵素、氰基或經硝基取代）、 苯氧基Ci-C5烷基（其中苯基可視需要經Ci_c3烷基、Ci_C3 鹵烷基、CVC3烷氧基、Ci-C^鹵烷氧基、Ci_C3烷硫基、（:「C3 烷亞磺醯基、q-C3烷磺醯基、鹵素、氰基或經硝基取代）、 雜芳氧基Ci-C：5烷基（其中雜芳基可視需要經烷基、 CVC3鹵烷基、c丨-C3烷氧基、c丨_c3鹵烷氧基、Ci_c3烷硫 基、c^-c：3烷亞磺醯基、Ci_c3烷磺醯基、_素、氰基或經 硝基取代）、C3_c5鹵烯基、環烷基、苯基或經Ci_C3 院基、CVC3齒烧基、Ci_c3烷氧基、Ci_c3鹵烷氧基、鹵 素或經硝基取代之苯基、 cs鹵烷基、cvc3烷氧基 或雜芳基、或經CVC3烷基、CV 、C1-C3鹵烷氧基、鹵素、氰基或 27 200918540 經石肖基取代之雜芳基。 特別地，潛伏化（latentiating)基團G為基團-C(Xa)-Ra 或-C(X )nRb，和χ3、Ra、X。、ρ和Rb之意義如上述所 定義。 較佳地，G矣；* u f圭。 μ虱、鹼金屬或鹼土金屬，其中氫為特 干乂佳為視需要經 為下式〜12之基圏

(¾) 硫或，較佳含氮雜芳香環。更佳^ 6_貞或，較佳S員含 乳雜芳香環，甚至更佳 ’ Het早裱5員含

识7) (Re) 25

R28

(R9> (Rio) 供”) (尺 12) 28 200918540 其中 A代表連接至酮烯醇之點， wl 為 N 或 CR28， W2和W3彼此獨立為n或cr26， W4 為 CR29，

其限制條件為W1 X 為 Ο，W，Se， Z 為 N 或 CR32， 其中 ，w2’ w3和w4中至少一者為N， 或 NR31， R25為氳，函素，Cl_c4烷基，Ci_c4 _烧基，car環 烷基，c3-c6-幽環院基，c2_c4烯基，c2_c4 _烯基， 炔基’。丨-。4烷氧基，cvc4画烷氧基，。丨义烷基硫，c「c: 烷基亞磺醯基，（^-(:4烷基磺醯基，硝基或氰基，較佳為 鹵素，CrC2鹵烷基，乙烯，乙炔基，或甲氧基，甚至更 佳者為甲基，或乙基， R26為氫，cvc6烧基，Ci_c6鹵烧基，c2_C6烯基，c2_ C6 _烯基，C2-C6快基，c3_c6環烷基，C5_C6環烯基，函 素，crc6烷氧基，c「c6烷氧基_ Cl-C6烷基，Ci_c6 _烷 氧基’視需要經取代之芳基，視需要經取代之芳氧美，視 需要經取代之雜芳基或視需要經取代之雜芳氧基，較佳為 視需要經取代之芳基或視需要經取代之雜芳基，其中取代 基係選自鹵素’ Ci-C^烧基’ crc2炫氧基，crc2鹵烧基， CrC2鹵烷氧基’氰基或硝基，甚至更佳者為苯基，其經 鹵素，cvc2烧基’ C!-C2燒氧基，自貌基，c _c歯 29 200918540 少完氧基或氰基取代一次，二次或三次， R 為氫’ c「c4烧基’ Ci-C4鹵炫基’ c3-c6環烧基， c3-c6鹵環烷基，c2_c3烯基，c2_c3炔基，函烷基或 C2-C3鹵稀基，較佳為甲基或乙基， R28為氫’曱基，鹵甲基或鹵素，較佳為氫， R 為鼠’鹵素，c丨-c4烧基’ 鹵院基，c2_c4稀 基’ C2-C4鹵浠基，c2_c4块基，Crc4烧氧基，Ci_c4齒烷 氧基’ CVC4烷基硫’ crC4烷基亞磺醯基，（^-(^烧基確 臨基或氰基，較佳為氫，鹵素，曱基或乙基， R3Q為氫，甲基，乙基，齒曱基，鹵乙基，其視需要經 取代之芳基或視需要經取代之雜芳基，較佳為視需要經取 代之芳基或視需要經取代之雜芳基，其中取代基係選自齒 素Cl-C2烷基，Ci-C：2烷氧基，CVC2鹵烷基，鹵烷 氧基氰基或硝基，又更佳者為苯基，其經鹵素，（^-0：2 k基，CVC2烷氧基，CVC2鹵烷基，Ci_c2鹵烷氧基或氰 基取代一次、二次或三次， R31為氫，曱基，乙基或鹵甲基，及 R為氫，曱基，乙基，鹵曱基，鹵乙基，鹵素，氰基 或確基。 更佳者，Het為式（R2)之基團，其中又為3且2為^^ 和R25及R26，如以上所定義者。 μ亦較佳者為Het為式（I)之基團，其中乂為8且2為 CR及R25，r25及r26，如以上所定義者。 該等特佳式⑴化合物，其中r1至R8及G為氫’ Het 30 200918540 為r2基團

為N，R25為曱基或乙基且R26為氯 物較佳能夠與胺、鹼金屬和鹼 形成之農化可接受鹽類。 的例子包括氨以及一級、二級 和三級CrCu烧胺類、Γ ρ ,,一社，a Ά C丨_C4經基烷胺類和c2-c4-烷氧基 烷胺，例如甲胺、乙胺、正而A ^ ^ ‘ β 哎 止内胺基、異丙胺、四種丁胺異

其中X為s 本基或4 -漠苯基 本發明也有關式（I)化^^ 土金屬鹼類、或四級銨鹼類 適合於銨鹽形成之胺類 構物、正-戊胺、異戊胺'己胺、庚胺、辛胺、壬胺、癸胺、 十五胺、十六胺、十七胺、十八胺、甲基乙胺、曱基異丙 胺、曱基己胺、甲基壬胺、甲基十五胺、甲基十八胺、乙 基丁胺基、乙基庚胺、乙基辛胺、己基庚胺、己基辛胺、 二曱胺、二乙胺、二-正-丙胺、二異丙胺、二-正-丁胺、二 -正-戍胺、二異戊胺、二己胺、二庚胺、二辛胺、乙醇胺、 正-丙醇胺、異丙醇胺、Ν，Ν-二乙醇胺、Ν-乙基丙醇胺、 Ν-丁基乙醇胺、烯丙胺、正-丁 -2-烯胺、正-戊-2-烯胺、2 , 3-二曱基丁 -2-烯胺、二丁 -2-烯胺、正-己-2-烯胺、伸丙二 胺、三甲胺、三乙胺、三-正-丙胺、三異丙胺、三-正-丁胺、 31 200918540 三異丁月安、二 _ .^ 二級·丁胺、三-正-戊胺、甲氧基乙胺和乙氧 卜 頬，例如吡啶、喹啉、異喹啉、嗎福林、 六鼠吡啶、吡咯哈 ,, 、異D引°朵淋、口昆咬和氮呼；一級芳基胺 類’例如苯胺類、田β 、曱乳基苯胺類、乙氧基苯胺類、鄰-、間 -和對-甲苯胺類、 _ 本一 fee類、聯苯胺類、萘胺類和鄰_ '間_ 和對-氣苯胺類；作特— g ^ 丨一付别疋二乙胺、異丙胺和二異丙胺。 適合於δί花？ 4、+ 肜成之較佳四級銨鹼類對應（例如）於式 [N(R aR’bR’cR’d胸，其中 R、、R、、R、和 R、彼此各自 蜀也為C〗-C4烷基。進一步適當之具有其他陰離子的四 烷銨鹼類可（例如）藉由陰離子交換反應獲得。 視取代基之性質而定，式⑴之化合物可以不同異構物 形式存在。虽G為氫，例如，式⑴之化合物可以不同互變 異構物形式存在。本發明包括所有該等異構物和互變異構 物及於所有比例之混合物。且，當取代基包含雙鍵時， 順式-和反式·異構物可存在。這些異構物也在式⑴化合物 所主張之範圍内。 式⑴之化合物，其中〇為CrC8烷基、C2_C8_烷基、 苯基C】-C8烷基（其中苯基可視需要經Ci_c3烷基、Ci_c3鹵 烷基、c「c3烷氧基、cvc3鹵烷氧基、（：1_(：3烷硫基、 烷亞磺醯基（sufinyl)、Cl-C：3烷磺醯基、幽素、氰基或經硝 基取代）、雜芳基c「C8烷基（其中雜芳基可視需要經Ci_C3 烷基、Κ3鹵烷基、cvc3烷氧基、Ci_C3鹵烷氧基、K3 烷硫基、C丨-C：3烷亞磺醯基（sufinyi)、Ci_c3烷磺醯基、鹵 素、氰基或經硝基取代）、（VC8烯基、c3_Cs鹵烯基、c 32 8 200918540 炔基、C(Xa)-Ra、C(Xb)-Xc-R»>、c(Xd)-N(Rc)-Rd、-S02-Re、 -P(Xe)(Rf)-Rg 或 CH2-Xf-Rh，其中 xa、xb、xc、xd、Xe、Xf、

Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg和Rh如上述所定義，可藉由 用一種5式劑G-Z(其中G-Z為烧化劑例如鹵炫（鹵炫類之定 義包括簡單C] - C 8鹵烧類例如埃甲烧和破乙烧）、經取代之 鹵烷類例如氯甲基烷基醚類、Cl-CH2-Xf-Rh，其中xf為氧， 和氯曱基烧基硫醚類Cl-CH2-Xf-Rh，其中Xf為硫）、磺酸 crc8烷酯、或硫酸二_Ci_c8_烧酯），或用C3_C8稀鹵、或 用CVC8炔由、或用醯化劑例如羧酸（H〇_c(xa)Ra，其中Xa 為氧）、醯_ ，Cl-C(Xa)Ra(其中Xa為氧）、或酸酐， [RaC(Xa)]2〇(其中Xa為氧）或氰酸酯，RcN=C=0、或胺甲醯 氣，Cl-C(XTN(Re)_Rd(其中xd為氧且其先決條件為RC或

Rd皆不為氫）、或硫代胺基甲醯基（如沉的枷㈣乂…）- N(R )-R (其+ Xd為硫且其先決條件為rc或…皆不為氣） 或氣甲醋，C1-C(Xb)_xc_Rb，（其中xb和為氧）、或氯硫 代甲酸酷C1-c(xb)_xe_Rb(其中xe為氧和X。為硫）、或氯二 硫代甲酸醋C1_C(Xb)_xc_Rb(其中x、xc為硫）、異硫氛酸 醋’ 處理式⑷之化合物（其為式⑴之化合物，兑 2為H)而製得，或藉由後來用二硫化碳和烧化劑，或用 磷酸化劑例如磷醯氯，Cl-P(Xe)(Rf；)_Rg 〆 石黃醯氯cl-S(VRe，㈣Λ )或與伽化劑例如 2 Κ ，較佳地在至少一合 製得。 田里之鹼存在下處理而 異構=基…8以及G之特性而定，可形成式⑴之 異構化&物。例如，式⑷化合物其中R、R8為不同者， 33 200918540 得到式（I)化合物或式（ΙΑ)化合物，或式⑴和式（IA)化合物 的混合物。本發明包括式⑴之化合物和式（IA)之化合物二 者’與於任何比例之這些化合物的混合物。

環1，3-二酮類之〇-烧化作用為已知；適當方法（例如） 由T. Wheeler描述於US4436666。替代步驟已被m. Pizzorno 和 S. Albonico(Chem. Ind.(London)，（1972)，425) ； H. Born 等人，（化學會 tfe (J. Chem. Soc.)，（1953)，1779) ; Μ· Constantino 等人（合成通訊（Synth. Commun.)，（1992)， 22(19)，2859) ; Υ· Tian 等人（合成通訊（Synth. Commun.)， (1997) ’ 27(9)，1577)，S· Chandra Roy 等人（Chem. Letters， 2006 ’ 35 ’（1) 16) ’ 和 P. Zubaidha 等人（四面體快報 (Tetrahedron Lett.) ’（2004) ’ 45，7187)報告以及 b.

Zwanenburg 等人，Tetrahedron (2005)，45(22)，7109。。 環1，3-二酮類之醯化作用可藉由類似於（例 如）US455 1547，US4175135，US4422870、US4659372 和 US4436666所述之步驟產生。典型地式（A)之二酮類可在至 少一當量之適當鹼存在下'視需要在適當溶劑存在下用醯 化劑處理。該驗可為無機，例如鹼金屬碳酸鹽或氫氧化物， 34 200918540 或金屬氫化物，或有機鹼例如三級胺或金屬烷氧化物。適 當無機鹼類的例子包括碳酸鈉、氫氧化鈉或鉀、氫化鈉， 和適當有機驗類包括三烷胺類，例如三甲胺和三乙胺、〇比 。疋類或其他胺鹼類例如1,4-重氮雙環[2·2·2]辛烷和^8 — 二氮雜雙環[5·4_〇]十一-7-烯。較佳鹼類包括三乙胺和吡 啶。用於此反應之適當溶劑被選擇以使與該等試劑相容且 包括醚類例如四氫呋喃和丨，2_二甲氧基乙烷和齒化溶劑 例如二氯甲烷和氯仿。某些鹼類（例如吡啶和三乙胺）可成 功地用作鹼和溶劑二者。對於其中醯化劑為羧酸之情形， 醯化作用較佳地在偶合劑例如2_氯基甲基吡啶錤、ν， Ν-一壞己基碳二醯亞胺、二甲胺基丙基乙基碳二 L亞胺和Ν，Ν - %基二咪唑，和鹼例如三乙胺或吡啶存在 下於適當溶劑例如四氫吱喊、二氣甲烧或乙猜中產生。適 當步驟（例如）由W. Zhang和G· pugh(四面體快報 (Tetrahedron Lett.)，(1999)，40(43)，7595-7598)^ T. Isobe 和 τ· Ishikawa(有機化學期刊（J 〇rg chem )，（i999)， 64(19)，6984)描述。 % 1 ’ 3-一 g同類之碟酸化作用可藉由類似於US44〇9153 描述之步驟使用磷醯齒或硫代磷醯_和鹼產生。 式（A)化合物之磺醯化作用可例如藉由c. K〇waiski和 K. Fields 之步驟（有機化學期刊（j〇rgChem)，（1981)，46， 197)使用烧基或芳基績酿南’較佳在至少一當量之驗存在 下達成。 一些式（I)化合物為烯類，且如此根據習知程 序進行進 35 200918540 一步的典型烯類反應而獲得 又付領外的式（I)化合物。此類反應 之實例包括，但不限定於，烯翻 Λ 岬頸之齒化反應，環氧化反應’ 環丙烷化反應，二羥基化反應和水合反應。反之，藉由

Michael B. Smith and Jerry March > Marche Advanced Organic Chemistry (Sixth Edition) > John Wiley and Sons. 所述方法，此等產物可被轉化成為額外的式⑴化合物。式⑴ 化合物（其中R3和R6形成鍵且尺4或尺5為C「C6烷氧基）為 烯醇醚，且此等可使用標準程序被水解成為相對應酮類而 得到額外的式（I)化合物。式（I)化合物（其中R3和R6成鍵且 R4或R5為鹵素，較佳為氯或溴）可與合適的偶合劑在

Suzuki-Miyaura ’ Sonogashira， Stille 所述文獻以及相關 交叉偶合反應之下進行交叉偶合反應為而得到額外的式（I) 化合物（參見’例如 C. J. O’Brien， M. G. Organ Angew. Chem. Int. Ed. 2007， 46， 2768-28 1 3 ; A. Suzuki， Journal of Organometallic Chemistry (2002)，653，83; N. Miyaura and A. Suzuki Chem. Rev. (1995) > 95 > 2457-2483) °

其中及硭形成鏈

Het 36 200918540 丄式（A)化合物可經由式（B)化合物的環化反應而製備， 其較佳係在酸或驗存在了，以1視需要在合適溶劑中，藉 由類似於美國專4，2〇9，532中所述方法進行。式（B)化合 物已特別被設定為合成式⑴化合物之中間⑯。式⑻化合物 其t R為氫者可在酸性條件下，較佳在強酸例如硫酸，聚 磷酸或Eaton’s試劑，視需要在合適溶劑例如乙酸，甲苯 或二氯甲烷存在下進行環化反應。

式（B)化合物其中R為烷基（較佳為甲基或乙基）者’可 在酸性或鹼性條件下，較佳在至少一種當量之強鹼例如二 丁氧化鉀，二異丙基醯胺鋰或氫化鈉及溶劑例如四氫呋 喃，二甲基亞颯或N，N_二曱基曱醯胺存在下進行環化反 應。 式（B)化合物其中R為Η者可藉由式（c)化合物其中r， 為烷基（較佳為曱基或乙基）在標準條件下之皂化反應，接 著使反應混合物之酸化反應而進行脫叛酸反應，藉由類似 於美國專利第4，209 ’ 532所述方法而進行。 37 200918540

式（B)化合物其中R為H者可在標準條件之下被酯化 成為式（B)化合物（其中r為烷基）。 式（C)化合物其中r為烷基者可藉由以合適的式（£)的 羧酸氯化物其中R為烷基者在鹼性條件下處理式（D)化合 物而製備。合適的鹼包括三級丁氧化鉀，雙（三甲基矽烷基） 醯胺鈉和二異丙基醯胺鋰而反應較佳在合適的溶劑（例如四 氯°夫喃或甲苯）及在介K_8(TC和30°c之間的溫度下進行。

m 或者’式（C)化合物（其中R為Η)可在合適溶劑（例如 四氫呋喃或曱苯）及合適溫度（介於_8〇°C和)之下藉由以 合適驗（例如三級丁氧化鉀’雙（三甲基矽烷基）醯胺鈉和二 異丙基醯胺鋰）處理式（D)化合物，以及合適式（F)之酐使所 38 200918540 得陰離子反應而製備。

式（D)化合物係為習知的，或者可藉由來自習知化合物 之習知方法而製備（參見，例如E. Bellur and P. Langer. Synthesis (2006)， 3 > 480-488 ； E. Bellur and P. Langer，

Eur· J. Org· Chem. (2005)， 10 > 2074-2090； G. Bartolo et al·，J.Org.Chem· (1999)，64(21)，7693-7699; R.Kranich et al. J. Med. Chem. (2007)， 50(6)，1101-111 5 ; I. Freifeld et al·， J· Org. Chem. (2006)， 71(13)， 4965-4968 ； S.

Hermann et al. » WO 2006/087120 ； R.Fischer et al. > WO 96/16061 ； H. A. Staab and G. A.Schwalbach > Justus Liegigs Annalen der Chemie (1968)， 715， 128-34 ； J-L

Brayer et al. > EP 402246 ; P. Chemla et al.， WO 99/32464; A. Dornow and G. Petsch， Chem. Ber. (1953) > 86， 1404-1407； E. Y-H Chao etal. > WO 200 1/000603 ； D.B. Lowe etal ； WO 2003/01 1 842 ； R. Fischer et al. * WO 200 1/096333 » J. Ackermann et al_， WO 2005/049572 ; B. Li et al ; Bioorg， Med. Chem. Lett. (2002)， 12， 39 200918540 2141-2144， G. P. Rizzi， J. 〇rg. Chem. (1968) > 33(4) 12222-13337； M. Okitsu and K. Yosid « JP 63230670 ； F. Bohlmann et al.，Chem. Ber( 1995)，88， 183 1-1838； R.

Rischer et al. ’ WO 2003/035463 ; R. Fischer et al.，WO 2005/005428 ； D 〇，Mant， GB 1226981)。 式（E)化合物可製備於式（F)化合物，其係藉由在鹼（例 如驗金屬燒氧化物）存在下處理烷基醇（R_〇H)(參見，例如 S. Buser and A. Vaseiia, Helv，Chim. Acta (2005)，88， 3151 ’ M.E.. Hart et al ； Bioorg. Med. Chem. Lett. (2004) » 14 1 9 6 9) ’接著以乳化試劑例如草醯氯化物或亞硫醢氣 化物在習知條件下處理所得酸（參見，例如C. Santelli-Rouvier ’ Tetrahedron Lett. (1 984)，25(39)，4371 ; D. M‘ Walba and M. D. Wand，Tetrahedron Lett. (1982)， 23(48) ’ 4995 ; J. Cason，Org· Synth，Coll. Vol. Ill， (1955) ， 169)。

式（F)化合物其中R3和R6為氫者可藉由式化合物在 習知條件下之還原作用而製備（參見，例如γ Baba， n Hirukawa and M. Sodeoka，Bi〇〇rg. Med. Chem. (2005) > 40 200918540 13(17)， 5164 ; M.E. Hart et al.， Bioorg， Med. Chem.

Lett. (2004)， 14(18)， 1969 ; Y. Baba， N_ Hirukawa， N. Tanohira and M. Sodeoka， J. Am. Chem. Soc.(2003)， 125 > 9740) 〇

其中R3和R6爲氫 式（G)化合物可由使式（H)化合物與順丁烯二酸酐（J)， 視需要在路易酸和觸媒存在下，以及根據例如在O. Diels andK. Alder， Liebigs Ann. Chem. (1931)，490, 257; K.T. Potts and E.B. Walsh- J. Org. Chem.(1984)« 49(21)» 409 ； J. Jurczak， T. Kozluk > S Filipek and S. Eugster， Helv. C him· Acta(1982)，65，1021 ; W.G. Dauben » C.R.Kessel and K.H. Takemura > J. Am. Chem. Soc.( 1 980)，1 02，6893 ; A.Pelter and B. Singaram， Tetrahedron Lett.(1982)， 23， 245 ; M.W. Lee and C.W. Herndon > J.Org. Chem. (1978)， 43， 5 18 ； B.E. Fisher and J.E. Hodge， J. Org.

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Dauben， J. Y. L. Lam and Z.R. Guo * J. Org. Chem. (1996) ， 61(14)4816-4819 ； M. Sodeoka， Y. Baba， S. • Kobayshi and N. Hirukawa， Bioorg. Med. Chem. Lett. (1997) ， 7(14)， 1833； M. Avalos， R . Babiano， J. L.

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式（Η)和式⑺化合物為習知化合物，或者可由習知方 法自習知化合物製得。 一些式（G)化合物為稀類，且如此根據習知程序進行進 一步的典型烯類反應而獲得額外的式（F)化合物。此類反應 之實例包括’但不限定於，浠類之鹵化反應，環氧化反應， 環丙烧化反應，二經基化反應和水合反應。反之，藉由 Michael B. Smith and Jerry March » March，s Advanced Organic Chemistry (Sixth Edition) > John Wiley and Sons. 所述方法，此等產物可被轉化成為額外的式（F)化合物。

式（G)化合物亦可藉由使式（H)化合物與式（κ)化合物 (其中R為風或烧基）在習知條件下反應而得到式（L)化合 物環化化合物（參見，例如P.W. Spraque et al·， J. Med. Chem. (1985) » 28， 1580 ； A.P. Guzaev and M

Manoharan > J. Am. Chem. Soc. (2003)» 125， 2380; and 43 200918540 Α·Ρ· Marchand and R.W. Allen，J.Org. Chem. (1975)，40 (17) ， 2551 。

式（L)化合物亦可被還原成為式（M)化合物，且式（M)化 合物可在類似於前先所述條件下被環化成為式（F)化合物 (其中R3和R6為氫）。 式（K)化合物為習知化合物，或者可由習知方法自習知 化合物加以製備。 在另一種至式（A)化合物的方案中，式（N)化合物（其係 為式（A)化合物，其中Het為（r2)，當r25為c仏以”且R,，， 為氫’烷基或鹵烷基（較佳為氫，甲基或三氟曱基））可藉由 气（0)化δ物之熱重排反應，視需要在合適的溶劑和視需要 在熱微波照射之下製備。 44 200918540

較佳者，重排反應係藉由在12〇 P W ^ 牡至250°C溫度範圍内

加熱式（0)化合物，視需要在合適溶劑例如丨，2-二甲氧基乙 烷’二乙二醇甲醚，三甘醇二甲醚，四甘醇二甲醚，二甲 以及視需要在微波照射之下進 笨，三甲苯或 行0

Dowtherm®， 類似地，式（P)化合物（其係為式（A)化合物，其中

Het 為（R3)，當R”為CH2R，”且R，’，為氫，燒基或齒烧基（較佳 為氫’曱基或三氟曱基））可藉由類似方法自式⑼化合物加 以製備。 \

R26 Δ 溶劑

(P) 式（〇)化合物可藉由自式（R)化合物經與式（s)化合物（其 中L為合適的離去基例如鹵素或烷基_或芳基_磺酸酯），视 45 200918540 需要在合適驗和視需要在合適的溶劑例如以上式（A)化 之烧基化反應所述者存在之下之烷基化反應而製備。〇物

類似者，式（Q)化合物可自式（R)化合物與式（τ)化人物 (其中L為合適的離去基例如鹵素或烷基-或芳基風）在： 似條件下之烷基化反應而製備。 類

(T) «7

驗，溶劑

(Q) 另一種替方案中’式（Ο)化合物可自式（R)化合物與式（U) 醇之縮合反應而製備，該反應可視需要在合適的酸觸媒例 如對-甲苯磺酸’或路易酸觸媒例如三氟甲烷磺酸鐘（III)， 三氟甲烷磺酸鑭（III)，四氯金酸（III)鈉二水合物，氯化鈦 46 200918540 (IV)，氯化銦（III)或氯化鋁，以及視需要在合適溶劑存在 下進行。合適的溶劑為選自可與所用試劑相容者，且包括 例如，曱苯，乙醇或乙腈。類似的方案已敘述於例如Μ. Curini. F. Epifano > S. Genovese， Tetrahedron Lett. (2006)， 47 ’ 4697-700 以及 A. Arcadi， G. Bianchi， S.

Di Giuseppe，F.Marinelli，Green Chemistry (2003)，5， 64-7。

HO

^26 z (U)

觸媒 溶劑

R26 ^或者，縮合反應可在合適的偶合劑例如2-氯-1-曱基吡 疋”化物，N，N-二環己基碳二亞胺，丨，（3_二甲基胺基丙 乙基炭化—亞胺和N，N_碳二咪唑和視需要合適的鹼 :，二乙基胺或吡啶在合適的溶劑例如四氫呋喃，乙腈或 乳甲烷，或在三芳基膦（例如三苯基膦）和二烷基疊氮二 :S曰(較佺為二乙基疊氮二羧酯或二異丙基疊氮二羧酸酯〕 -適的岭劑例如二乙醚’四氫呋喃或Μ·二曜烷之下 戶斤仃’如例如 〇. MitSUn〇bu，Snythesis (1981)，U-28 中 所述者。 τ 使用類似方法，式（Q)化合物可藉由式（R)化合物與式（V) 47 200918540 化合物的反應而製傷。

額外的式（ο)化合物（其中R26為芳香族或雜芳香族部 分，或為烧基，細基或炔基）可藉由式⑽其中Q 用於進行交叉偶合反應之原子或基團(例b Q為氣：二 碘，或li烷基磺酸酯，例如三氟曱烷磺酸酯）且R，，，為如式 化合物所定義者）與合適偶合劑在suzuki_Miya^a，

Sonogashira 5 Stiue以及相關交叉偶合反應之文獻所述 條件下反應。

Sonogashi 或類抱者 :ashira 偶合 R，，， Suzuki-Miyaura 偶合 Stille偶合

R 26 例如，式（W)化合物可經芳基-，雜芳基—，烧基 基-或炔基硼酸，R26-B(OH)2，硼酸酯，R26-B(；〇r,，，）2 ) 其中R，，，為C「C6烷基或R26-B(OR”，）2代表環式硼g 48 200918540 其係何生自c^-c：6二醇（特較者為衍生自片吶醇（pinac〇i)之 環式硼酸Sa )，或金屬（特別為鉀）芳基_，雜芳基，炫基_， 烯基-和炔基三氟硼酸鹽，M+[R 26-BF3]·，其係在合適鈀 觸媒’合適配位基和合適鹼及在合適溶劑存在下，在

Suzuki-Miyaura條件下進行（參考，例如 K. BiUingsley and S. . Buchwald ’ J· Am· Chem. Soc. (2007)，129，3358-3366 ; H. Stefani R. Celia and A. Vieira，Tetrahedron (2007) » 63 ’ 3623-3658 ’ N. Kudo，M. Perseghini and G· Fu， f

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或者，式（O)化合物（其中R26為視需要經取代之乙炔） 可自式（W)化合物與末端炔，R26_H反應而製備，該反應係 在合適的把觸媒及視需要在合適銅觸媒，合適配位基，合 適鹼和合適添加劑存在下，及在進行s〇n〇gashira偶合反 應為習知的條件下進行（參考，例如，U. Sorenson and E Pombo-Villar，Tetrahedron (2005) . 2679-2703 ； N. I Leadbeater and B· Tominack，Tetrahedron Lett. (2003)， 44 ’ 8653-8656 ； K· Sonogashira，J. Organomet. Chem. (2002) ， 653 ， 46-49)。 在另一方案中’式（O)化合物（r26為烷基，視需要經取 代之乙烯基’視需要經取代之乙炔基，視需要經取代之芳 基或視需要經取代之雜芳基）可自式（W)化合物與合適有機 錫院在Stille條件下反應而製備（參見，例如，R Bedford， C. Cazin and S. Hazlewood (2002)，22，2608-2609; S. Ley etal_’ Chem. Commun. (2002)，l〇，1134_n35; G.Grasa 50 200918540 and S. Nolan > Org. Lett. (2001) 5 3(1) » 119-122 ； T.

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Synth. (1992)， 71， 97)。 .. 式（Q)化合物可自式（X)化合物（其中Q和R”，為如式（w) 化合物中所定義者），藉類似方法及使用合適起始材料加以 製備。

式（W)化合物可自式（R)化合物’藉與式（γ)化合物（其 中L為合適的離去基例如_素或烷基_或芳基_磺酸酯）及藉 ”以上所述用於自式（R)化合物製備式化合物之方法反 ::製備。或者’式(w)化合物可藉式⑻化合物與式⑻化 :蜡由類似於以上所述用於自式(R)化合物製備式⑼化 。物之方法反應而製備。 51 200918540

藉類似於該等如以上所述之方法，式(χ)化合物可自式 (R)化合物與式（ΑΑ)化合物（其中L為合適的離去基例如函 素或烷基-或芳基-磺酸酯）反應，或者藉烷基化反應與式（AB) 化合物反應而製備。 52 200918540

在一替代方案中，式（R) σ物可經齒化劑 化磷，五氯化磷，五演化磷 〃 例如三氣氣 溴處理’其視需要右人嗝w/ 早&虱或卓醯 祝為要在合適洛劑例如甲苯，氯仿 \ 及視需要在二甲基曱醯胺存在 ^ 甘上Λ 仔仕下進订’且所得式（AC)乙烯 基鹵化物（其中Hal為氯或演）可藉由與式（u)、或式⑺、 或式（Z)或式（AB)之醇反應，其視需要在合適鹼例如氫化 鈉，三級丁氧化鈉，三級丁氧化鉀及合適溶劑例如四氫呋 喃’ 1，4 - 一 0¾烧，二乙一醇一甲_存在下進行分別得到 式（0)、式（Q)、式（W)及式（X)化合物。 53 200918540 /.

式（R)化合物（其中反3和6 — 、Λ, 還原式（AD)化合物而製備。R為氫）可藉由在習知條件下

(AD)

-些式（AD)化口物為烯类員且如此根據習知程序進行 進一步的典型烯類反應而獲得額外的式化合物。此類反 應之實例包括，但不限定於，稀類之齒化反應，環氧化反 應，環丙烷化反應，二羥基化反應和水合反應。反之，藉 54 200918540 由 Michael B. Smith and Jerry March， March，s Advanced Organic Chemistry (Sixth Edition)，John Wiley and Sons. 所述方法，此等產物可被轉化成為額外的式（R)化合物。式 (R)化合物（其中R4和R5為CVC6烷氧基）為烯醇醚，且此 尊可使用標準程序被水解成為相對應酮類。接著，此酮可 進一步藉由縮醛反應、肟化反應、還原反應及類似者，在 習知條件下被轉化而得到額外的式（R)化合物。式（AD)化合 物（其中R4和R5為鹵素’較佳為氯或溴）可與合適的偶合 劑在 Suzuki-Miyaura， Sonogashira， Stille 所述文獻以 及相關父叉偶合反應之下進行交叉偶合反應為而得到額外 的式（AD)化合物（參見’例如c j 〇，Brien， M. G. Organ

Angew.Chem.Int. Ed. 2007，46，2768-2813; A. Suzuki，

Journal of Organometallic Chemistry (2002) > 653，83; N

Miyaura and A. Suzuki Chem. Rev. (1995) > 95 , 245?_ 2483) ° 式（AD)化合物可藉由使式（AE)化合物與（AF)之環戊二 酮反應而製備，其視需要在路易酸觸媒存在下，根據例如 B. Zwanenburg et al. > Tetrahedron (1989) » 45 (22) » 71〇9 及 M. Oda et al· ’ Chem. Lett. (1977)，307 所述程序進行。 55 200918540

式（AE)化合物和式（AF)化合物為習知化合物，或者可 藉習知方法自習知化合物製備。

式（S)’ 式（T)’ 式（U)，式（V)，式（Y)，式（Z)，式（AA) 和式(AB)化合物係為習知者，或者可藉習知方法自習知化 合物製備(參見，例如，τ. T.Denton，x zhang，】R

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(AG) $uzuki^Miyaua, $0(105^9}½ 或相關反應

(N) 嶋芳基，㈣基，稀基> 類似者 該等熟習此項4

3技藝人士蔣I 於式（AG)化合物，作/ 將會理解此型態轉變並不限定 Het為經適合用系奴適用於任何式（I)化合物（其中 夂進一步；f汗& 環）。 匕之原子或基團取代之雜 该等熟習此項技藝 具有一個或多個能夠在 之取代基之雜芳香部分 外式（I)化合物的中間物 基或炔基）可在習知條件 R26為烷基）。 人士將會理解，式（I)化合物可包含 習知條件下被轉變成為替代取代基 ，且此等化合物本身係作為製 。例如，式(咖環(…4: 之下被還原成為式（N)化合物（其中 58 200918540

(N) 其中 其中R26爲姨 基或嫌基 在式（A)化合物（其中Het為式（R 2)基團，X為s且γ 為N)之進一步方案中’式（AH)化合物（其中l為合適的離 去基例如鹵素或烧基-或鹵烧基石夤酸醋）可經式（AJ)化合物 處理’其係在合適的驗（例如三乙基胺或η比唆）存在下，以 及視需要在合適溶劑（例如水，丙酮，乙醇或異丙醇）中， 根據習知程序進行（參見，例如，E. Knott， J. Chem. Soc. (1945) ’ 455 ； H. Brederick，R. Gompper，Chem. Ber. (1960) ’ 93， 723 ; B. Friedman， M. Sparks and R.

Adams， J. Am. Chem. Soc. (1937) > 59， 2262)。

W (A) 其中Het爲R2， X爲S且Z爲N 59 200918540 或者，式（AH)化合物可藉由習知程序經硫脲處理（參 見’例如，V· Pshenichniya，O. Gulyakevich and V. Kripach. Chemistry of Heterocyclic Compounds (1990)， 10， l4〇9-1412) ’且所得到的式（AK)產物可被轉變成為額外的 式（A) ’其係在Sandmeyer條件下被轉變為式（AL) _化物（其 中Hal為氣，溴或碘），而式（AL)化合物可藉由交又偶合及 在習知的 Suzuki-Miyaura， Sonogashira » Stille 以及 以上所述之相關反應之習知條件被轉變成為式（A)化合物。

m

交叉偶合

其中Het爲R2， X爲S且Z爲N

200918540 式（AH)化合物可自式（R)化合物在習知條件之下而製備 (參見，例如，V. Pshenichniya， O. Gulyakevich and V. Kripach. Chemistry of Heterocyclic Compounds (1990)， 10， 1409-1412 ; V. Pshenichniya， O. Gulyakevich and V.

Kripach， Russian Journal of Organic Chemistry (1989)， 25(9) ， 1882-1888)。 在另一方案中，式（A)化合物之製備可藉由式（R)化合 物與雜芳基三羧酸鉛在文獻中所述條件下反應（參見，例如 J. T. Pinhey > B. A. Rowe， Aust· J. Chem_ (1 997)， 32， 1561-6; J· Morgan，J.T. Pinhey > J. Chem. Soc. Perkin

Trans. (1990)，3，715-20 and J.T. Pinhey，Roche，E.G J· Chem. Soc. Perkin Trans. (1998)， 241 5-21)。較佳者， 雜芳基三羧酸鉛為式（AM)之雜芳基三乙酸酯，而反應係在 合適配位基存在下（例如N，N-二曱基胺基吡啶，吡π定， 咪唑，二吼咬和1，1 〇·菲羅琳，較佳為i至i 〇當量Ν 二曱基胺基吼啶關於化合物（R))及在合適的溶劑（例如氯 仿，二氯曱烷和甲苯，較佳為氯仿和視需要在共溶劑例如 甲本存在下）在25C至10〇C(較佳為60°C至90°C)進行。

OAc AcO——Pb—Het OAc (AM)

Het 61 200918540 式（AM)化合物可自式（AN)化合物藉由四乙酸鉛在合適 溶劑（例如氯仿）在25。(：至1〇〇。(：（較佳為25°C至50。(：），及 視需要在觸媒例如二乙酸汞存在下經處理，其係根據以下 文獻中所述程序（例如，參見K· Shimi， G. Boyer， J-P.

Finet and J-P. Galy， Letters in Organic Chemistry (2005)， 2 ’ 407-409 ； J. Morgan and J.T· Pinhey，J. Chem. Soc.

Perkin Trans. 1(1990)， 3， 715-20)。 HO \ 戶一Het HO OAc Pb(〇Ac)4 | ^ AcO Pb Het Hg(OAc)2,溶劑占Ac (AN) (AM) 較佳之偶合劑包括雜芳基硼酸，（AN〇至（AN8)(其中

R25，R26 , R27，R28，R29，R3〇，X , w1，W2，W3，W4 及 Z 係定義如上。 62 200918540

(ANS) (ANe) (AN7) (Afy 式（AN)雜芳基>ε朋酸係為習知的化合物，或者可自習知 化合物猎由習知方法予以製備（參見’例如，A. V 〇 i s i η.， Tetrahedron (2005) ’ 417-1421 ; Α· Thompson et al， Tetrahedron (2005 » 61 > 5131-5135； K. Pauro and G. Fum

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Buchwald，J. Am. Chem. Soc. (2003)， 125, 11818-11819， 以及其中之文獻）。 在另一方案中，式（A)化合物可自式（AO)化合物與式 63 200918540 (an)之雜芳基硼酸在合適的鈀觸媒及鹼，以及較佳在合適 溶劑之存在下反應而製備。 σ k

合適的鈀觸媒一般為鈀（II)或鈀（0)錯合物，例如二鹵 化物鈀（II) ’乙酸把（π)，硫酸把（π)，雙（三苯基麟）二氯化 鈀（II)，雙（二ί哀戊基膦）二氯化鈀（π)，雙（三環己基膦）二氯 化鈀（II)，雙（二亞苄基丙酮）鈀或四（三苯基膦）鈀（〇)。鈀 觸媒也可藉由與所要配位基錯合而"就地，，從鈀（11)或鈀⑺) 化合物製備，例如，藉由組合欲錯合之鈀（11)鹽，例如二氯 化把（IIKPdCl)2或乙酸！巴（II) ( Pd(0Ac)2)，與所要之配位 基，例如三苯膦（PPh3)、三環戊膦或三環己膦和所選擇之 起，與式（0)之化合物、式（L)之化合物和鹼。也適 當者為雙牙團（bidendate)配位基，例如ΐ，ι，_雙（二苯基_膦 基）二茂鐵或1，2-雙（二苯膦基）乙烷。藉由加熱反應介質， c-c偶合反應所要之鈀（11)錯合物或鈀（〇)錯合物因此“就地” 形成’和然後引發c_c偶合反應。鈀觸媒使用於從〇 〇〇1 至50莫耳％之量’較佳於從〇_1至15莫耳％之量，以式（0) 之化合物為基準。更佳地鈀源為乙酸鈀，該鹼為氫氧化鋰 和洛劑為於4 : 1至1 : 4比例之1，2-二曱氧基乙烷和水的 64 200918540 混合物。反應也可在其他添加劑（例如四烷銨鹽類，例如， 四丁基溴化錢）存在下進行： 式（AO)之化合物可根據κ·⑽故和c. ^(合成 (Synthesis)，（1983)，392 )或 ZY叫等人（有機快報（〇rg Lett·)’（2002)，4(no 19)，3333 )之步驟藉由用(二乙醯氧 基）碘苯處理而從式（R)之化合物製備：

Ph 式（AO) 在另-方法中’式⑷之化合物可藉由水解，較佳在一 種酸觸媒例如鹽酸存在下和視需要在適當溶劑例如四氫咬 喃或Μ·二Μ存在下，從式UiA之化合 =式（AP)之化合物（其中以。…烧基，且如為齒 素（車父佳地 >臭或硬））與式（AN)之雜芳基硼酸， 在適當_媒（例如〇·謝·卿乙㈣（π)，相對於化合物 (A Ρ ))和驗（例如1至1 〇當吾桃—^ 至田里磷酸鉀，相對於化合物（ρ))存 m較佳地在適當配位基（例如咖身略二環己基膦 土，：曱氧基聯苯’相對於化合物(AP))存在下，和在 例如甲苯），較佳介於饥和2G(rc之間反應 備。相似的偶合在文獻中為已知（參見例如，Y.song， 65 200918540 B. Kirn 和 J.-N. Heo，四面體快報（Tetrahedron Letters)， (2005) ， 46(36) ， 5987-5990)。

式（AP)之化合物可藉由鹵化式（R)之化合物，接著所得 之式（AQ)鹵化物與q-C4烷鹵或三_Ci_c4-烷基原甲酸酯在 已知條件下的烷化，例如藉由r . Shepherd和A. White(化 學會誌，帕爾金彙刊，第i輯（J. Chem. s〇c. perkin Trans 1)(1987), 2153)和 Y.-L. Un 等人（Bioorg. Med. Chem 10(2〇02)685-690)之步驟製備。或者，式（Ap)之化合物可藉 由用C"烷鹵或三-Ci-C4-烷基原甲酸酯烷化式（R)之化合 物，和在已知條件下鹵化所得式（R)之烯酮而製得（參見例 如 Y. Song ’ B. Kirn 和 J._N. Heo，四面體快報（Tetrahedr〇n

Letters)(2005)，46(36)，5987-5990)。 66 200918540

yt 一 方案中，式（A)之化合物可藉由使式（R)之化合 物與合適的雜芳基鹵化物（Het_Hal，其中Hal為，例如碘 4匕斗勿或、、自儿 ^屬化物）在適當鈀觸媒（例如相對於化合物為 i 0.001 5 ς Λ0/ 0 /〇乙酸鈀（II))及鹼（例如相對於化合物（⑴為1至 10 ^ -g- r5u . 人 *奴鉀）存在下，較佳在適當配位基（例如相對於化 合為0.001至50%(2_二環己基膦基）_2，，4，，6,三異丙 本）存在下和在適當溶劑（例如1，4_二嗯烧）中，和較佳 於25C和200C下反應而製備。相似的偶合見於文獻 中 y 參見例如，J. Fox，X. Huang，A. Chieffi，s. Buchwald， 、，化冬會遠（j. Am· Chem· Soc. )( 2000)，122, 1360-1370 ; 。H〇ng等人w〇 2〇〇5/〇〇〇233 )。或者式（a)之化合物 "藉由使式（R)之化合物與合適的雜芳基鹵化物（Het_Hal， 67 200918540 其中Hal為，例如碘化物或溴化物)在適當銅觸《（例如相 對於化合物（R)為請⑽㈣化銅⑴）和驗（例如相對於 化合物W為…0當量碳酸鉀）存在下且較佳地在適當 配位基（例如相對於化合物⑻為〇〇〇1巧〇%l_捕胺酸^ 在下’。和在適當溶劑中（例如二甲亞砜）’較佳介於25力 和200 C之間反應而製得。相似的偶合在文獻中為已知（參 見例如，Y. Jiang，N_ Wu，H. Wu，M 心，Synleu，（ 2〇〇5 / 18 ’ 273 1-2734 )。

額外的式（A)化合物可藉由在水性酸條件不水解式⑴ I 化合物（其中〇為Q-C：6烷基）而加以製備。式⑴化合物（其 中G為Cl_c6烧基且^和R6形成鍵）可藉由使式（as)化合 物（其中G為Q-C6烷基，X為鹵素或其他合適的離去基（例 如烷基或芳基磺酸酯，或芳基氧化硒）與式（AE)化合物在無 溶劑或在合適溶劑以及視需要在合適驗存在了反應而製 備。 68 200918540 G、

且R3和R6形成鍵 以及合適的鹼包括有機鹼，例 合適的溶劑包括曱笨， 如1，8-二氮雜二環[5.4.0]十 式（AS)化合物（G為^ 件之下製備於式（AT)化合物基，X為鹵素）可在習知條 為C「c6烷基）。 i

例如’式（AS)化合物（其巾χ為氯）可使式（AT)化合物 與氯化銅（II)和氯化鐘根據E M K〇s〇wer et al， J 〇rg

Chem_(1963)， 28， 630-633 之程序製備。 式（AT)化合物係為習知的化合 °物 或者可由習知化合 物以習知方法加以製備（參見，例如 1 ° * 〇. Song， B · Ί · 69 200918540

Kim and J.N Heo， Tetrahedron Lett， 5990)〇5^,^(ATMb.„(^t 46(2005)5977. 1、烷基）可藉由使式ίΑ1Ί 化合物（其中G為氫）在習知條件下進 仃坟1基化而加以製 備。式（AT)化合物（其中G為氫）係為 白犬考，或者可自習 知化合物藉由習知方法加以製備

10118310)〇 參見，例如DE 或者，在式（AT)化合物之另外進—步方案中，式（au) 化合物（其係為式（AT)化合物（其中G為氫且Het為（r), 在W CH2R”，且R”’為氫，烧基她基(較佳為1， 甲基或三氟甲基），可藉由式(AV)化合物之熱重排反應，視 需要在合適溶劑及視需要在微波照射之下而製備。

(AU) 較佳者，該重排反應係藉由在介於1 20-3〇〇。(3之溫度 下加熱式（AV)化合物，視需要在合適的溶劑例如丨，2_二曱 氧基乙烧，二乙二醇曱醚’三甘醇二曱it，四甘醇二曱醚， 二甲苯’三曱苯或Dowtherm®，以及視需要在微波照射之 下進行。 類似地，式（AW)化合物（其係為式（AT)化合物，其中 200918540 為氫，烧基 _似方法自 G為氫且Het為（r 3)，當R25為CH2R，，，且 或鹵烷基（較佳為氫，甲基或三氟曱基D可藉由 式（AX)化合物加以製備。

式（AV)化合物可藉由自式（AY)化合物經與式（s)化合物 (其中L為合適的離去基例如鹵素或烧基-或芳基-硬），視 需要在合適鹼和視需要在合適的溶劑例如以上式（A)化合物 之烧基化反應所述者存在之下之烷基化反應而製備。

(AV)

〇 (AY) 類似者，式（AX)化合物可自式（AY)化合物與式（τ)化合 物（其中L為合適的離去基例如_素或燒基-或芳基-礙）在 類似條件下之烷基化反應而製備。 71 200918540

(ΑΧ) 另一種替方案中，式（AV)化合物可自式（Αγ)化合物與 式（U)醇之縮合反應而製備，該反應可視需要在合適的酸觸 媒例如對-甲苯磺酸，或路易酸觸媒例如三氟曱烷磺酸鏡 (III) ’三氟甲烧石黃酸鐦（III)，四氯金酸（Ιπ)鈉二水合物， 氯化鈦（IV) ’氯化銦（III)或氣化銘，以及視需要在合適溶 劑存在下進行。合適的溶劑為選自可與所用試劑相容者， 且包括例如’甲苯’乙醇或乙腈。類似的方案已敘述於例 如 M.Curini.F.Epifano，s. Genovese，Tetrahedron Lett. (2006)， 47 ’ 4697-700 以及 A. Arcadi， G. Bianchi， S.

Di Giuseppe > F.Marinelli’ Green Chemistry (2003) » 5， 64-7。 72 200918540

(AY) ο

(AV) 或者，縮合反應可在合適的偶合 錠鐵化物，N，N-二環己基後二亞胺，^如氯-1·曱基吼 基χτ 1，（3 - 一甲基胺基丙 丞）3_乙基奴化一亞胺和N，N_碳二咪 例如二？其脸弋a —人* 〇視需要合適的驗 二氯甲炫，或在三芳““ 例如四氫咬喃，乙腈或 鉍 土 如二笨基膦）和二院A聶氮- 竣㈣(較佳為二乙基疊氮二 -土-鼠-

和右人4 一異丙基疊氮二羧酸酯） 和在合適的溶劑例如二乙醚， J k 之下推四虱呋喃或Μ-二腭烷存在 進订’如例如〇· Mitsunobu， c u 28 中所述者。 Snythesis (1981)，U_ 式（VWb a類似方法，式（AX)化合物可藉由式（AY)化合物與 )化δ物的反應而製備。 73 200918540

額外的式（AV)化合物（其中R26為 分，或為烷基，烯基或炔基)可藉由式心二1雜芳香族部 用於進行交叉偶合反應之原子或基團(例如氣為：： 碘，或鹵烷基磺酸酯，例如=氟ψ … J又—亂甲庇〜酸醋）且R„ ’為如式 (AW)化合物所定義者）與合適偶合劑在Suzuki_Miyaura， Sonogashira， Stille以及相關交叉偶合反應之文獻所述 條件下反應。

Suzu關偶合 Stille偁合 偶合娜似者

74 200918540 • 例如’式（AZ)化合物可經芳基-，雜芳基，烷基-，烯 基-或块基棚酸’ R26-B(〇H)2，删酸酯，r26_B(〇r，，，）2反應， 其中R’’’為CVC6烷基或R26_B(〇R，，，）2代表環式硼酸酯，其 係衍生自CrC6二醇（特較者為衍生自片吶醇（pinac〇1)之環 • 式删酸酯），或金屬（特別為鉀）芳基-，雜芳基，烷基-，烯 . 基-和炔基三氟硼酸鹽，M+[R26-BF3]-，其係在合適鈀觸媒， 合適配位基和合適鹼及在合適溶劑存在下，在Suzuki_ Miyaura條件下進行（參考’例如κ. Billingsley and S. Buchwald，J· Am· Chem. Soc. (2007)， 129，3358-3366 ； H. Stefani，R· Celia and A. Vieira，Tetrahedron (2007)， 63， 3623-3658， N. Kudo， M. Perseghini and G. Fu，

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Roglans ’ A. Pla-Quintana and M. Moreno-Manas， Chem. Rev. (2006) > 1 06，4622-4643 ; J-H Li，Q-M Zhu and Y-X

Xie， Tetrahedron (2006)， 10888-10895 ; S_ Nolan etal_， J. Org. Chem. (2006) » 71， 685-692 ; M. Lysen and K.

Kohler， Synthesis (2006)，4， 692-698; K. Anderson and S. Buchwald， Angew. Chem. Int. Ed. (2005)， 44， 6173-6177 ； Y. Wang and D. Sauer j Org. Lett. (2004) » 6(16)， 2793-2796 ; I. Kondolff， H. Doucet and M，

Santelli， Tetrahedron， （2004)， 60， 3813-3818 ; F.

Beilina，A. Carpita and R. Rossi，Synthesis (2004)， 1 5， 2419-2440 ； H. Stefani » G. Molander，C-S Yun，M. Ribagorda and B. Billatto，J. Org. Chem (2003) ’ 68， 75 200918540 5534-5539 ； A. Suzuki ， Journal 〇f Organometallic Chemistry (2002)， 653 » 83 ; G. Molander and C-S Yun，

Tetrahedron (2002)’ 58，1465-1470； G. Zou> Y.K. Reddy and J. Falck > Tetrahedron Lett. (2001) > 42， 4213-7215; S. Darses 5 G. Michaud and J-P > Genet » Eur， J. Org. Chem.(1999) ， 1877-1883)。

或者，式（AV)化合物（其中r 26為視需要經取代之乙炔） 可自式（AZ)化合物與末端炔，R 26_H反應而製備，該反應 係在合適的把觸媒及視需要在合適銅觸媒，合適配位基， I 合適鹼和合適添加劑存在下，及在進行Sonogashira偶合 反應為習知的條件下進行（參考，例如，U. s〇rens〇n and E Pombo-Villar > Tetrahedron (2005) > 2679-2703 ； N.

Leadbeater and B. Tominack » Tetrahedron Lett. (2003) > 44 8653-8656 , K. Sonogashira > J. Organomet. Chem. (2002) ， 653 ， 46-49)。 在另一方案中，式（AV)化合物（R26為烷基，視需要經 取代之乙稀基，視需要經取代之乙块基，視需要經取代之 芳基或視需要經取代之雜芳基）可自式（az)化合物與合適有 76 200918540

機錫烷在Stille條件下反應而製備（參見，例如，R. Bedford， C. Caziri anci S. Hazlewood (2002)， 22> 2608-2609； S. Ley etal·，Chem. Commun. (2002)，10，1 134-1 135； G. Grasa and S. Nolan， Org· Lett. (2001)， 3(1)， 119-122 ; T

Weskamp ’ V. Boehm. J. Organomet. Chem. (1999) > 585(2)’ 348-352 ； A. Littke and G. Fu. Angew. Chem. Int.

Ed. (1999) 38(16)，2411-2413 ； J. Stille et al. > Org.

Synth. (1992) > 71， 97) ° 式（AX)化合物可自式（B A)化合物（其中Q和R，，，為如式 (AZ)化合物中所定義者），藉類似方法及使用合適起始材料 加以製備。

’藉與式（Υ)化合物（其

式（AZ)化合物可自式（Αγ)化合物， 中L為合適的離去基例如鹵素或烷基 77 200918540 l"SiVq

CO

藉類似於該等如以上所述之方法，式（BA)化合物可自 式（AY)化合物與式（AA)化合物（其中L為合適的離去基例 如鹵素或烷基-或芳基-磺酸酯）反應，或者藉烷基化反應與 式（AB)化合物反應而製備。 78 200918540

在替代方案中’式（AY)化合物可經鹵化劑例如三氯 氧化磷，五氣化磷，五溴化磷，三溴氧化磷，草醯氣或草 鯭/臭處理，其視需要在合適溶劑例如甲苯，氯仿’二氯甲 烷及視而要在二曱基甲醯胺存在下進行，且所得式（BB)乙 烯基_化物（其中Hal為氯或溴）可藉由與式（u)、或式（v)、 或式（Z)或式（AB)之醇反應，其視需要在合適鹼例如氫化 鈉，三級丁氧化鈉，三級丁氧化鉀及合適溶劑例如四氫呋 喃，1，4-二聘烷，二乙二醇二甲醚存在下進行，分別得到 式（AV)、式（AX)、式（AZ)及式（BA)化合物。 79 200918540

(AV) ο

Μ鹸，飾

Ο (AV)

<Ζ> 鹼，溶劑

ο

(ΑΒ) 鹸，溶劑 (ΑΧ)

Ο (BA) 式（ΑΥ)化合物為習知化合物，或者可藉習知方法自習 知化合物製備。 再者，式（BC)化合物（其中Q為適合交又偶合化學之 原子或基團（例如鹵素或鹵烷基磺酸酯）可進行 Miyaura ，St出e， Sonogashira及相關反應在習知條件下 而得到額外的式N化合物。式（B)化合物可藉由式（AZ)化 合物之重排於類似該等將式（AV)化合物轉變成式（AU)化合 物之條件而製傷. 200918540

SuzuMM%aua, 80nog^hfta Sfiile 獅關反應

其中R26爲芳基，雜芳基， 燦基> 似者 該等熟習此項技藝人士將备 胃理解此型態轉變並不限定 於式（BC)化合物’但係一般適

通用於任何式（I)化合物（其中 Het為經適合用於進一步衍决 王化之原子或基團取代之雜 環）。 會理解，式（AT)化合物可包 條件下被轉變成為替代取代 此等化合物本身係作為製備 例如’式（AU)雜環（其中R26 下被還原成為式（AU)化合物 該等热習此項技藝人士將 含具有一個或多個能夠在習知 基之取代基之雜芳香部分，且 額外式（AT)化合物的中間物。 為烯基或炔基）可在習知條件之 (其中R26為烷基）。 81 200918540

其中妒爲烧基 m 其中护爲總 ο iAUl 在式（AT)化合物（其中Het為式（R2)基團，X為s且Y 為N)之進一步方案中，式（BD)化合物（其中[為合適的離 去基例如鹵素或烧基-或鹵烷基磺酸酯）可經式（AJ)化合物 處理’其係在合適的驗（例如三乙基胺或n比啶）存在下，以 及視需要在合適溶劑（例如水，丙酮，乙醇或異丙醇）中， 根據習知程序進行（參見，例如，E. Kn〇tt， J. Chem. Soc. (1945) ’ 455 ’ H. Brederick，R. Gompper，Chem. Ber. (1960) 93，723 ； B. Friedman，M. Sparks and R.

Adams ’ J. Am. Chem. Soc. (1937)， 59， 2262)。

其中G爲He細2， X爲S和Z爲Μ 82 200918540 或者，式（BD)化合物可藉由習知程序經硫脲處理（參 見’例如 ’ V. Pshenichniya， O. Gulyakevich and V. Kripach.

Chemistry 〇f Heterocyclic Compounds (1990)， 10， 1409-1412) ’且所得到的式（BE)產物可被轉變成為額外的 ： 式（AT)，其係在Sandmeyer條件下被轉變為式（BF)鹵化物 ··(其中Hal為氣’溴或碘）’而式（AT)化合物可藉由交叉偶 合及在習知的 Suzuki-Miyaura， Sonogashira > Stille 以 及如以上所述之相關反應之習知條件被轉變成為式（at)化 合物。

X 鹼，溶劑

其中Het爲R2， X爲S且Z爲N

83 200918540 式（BD)化合物可自式（AY)化合物在習知條件之下而製 備（參見，例如 ’ V. Pshenichniya， O. Gulyakevich and V. Kripach. Chemistry of Heterocyclic Compounds (1990) > 10，1409-1412 ； V. Pshenichniya > 〇. Gulyakevich and V.

Kripach， Russian Journal of Organic Chemistry (1989)， 25(9) ， 1882-1888) 〇 再者’式⑴化合物（其中G為H且R3和R6形成鍵）可 藉式（BG)化合物與式（Η)化合物在視需要合適溶劑和合適觸 媒存在下反應而製備。

其中G爲氫且R3和 R6形成鍵 式（BG)化合物可藉在合適溶劑例如甲苯 ，丙酮，氯仿，

劑例如三氧化鉻，二鉻酸。比截 異丙氧化鋁，以及有機氧化劑 對-苯醌和超價碘氧化劑例如 1，2-苯碘醯·3_(ιη)-酮 w 例如三氧化鉻’二鉻酸吡錠， (1H)-酮（Dess_Martin :’二氧化鎮和烧氧化鋁例如 ’例如2,3-二氣-5,6-二氰基_ LU-三（乙醯氧基二氫- periodinane)。合適的程 84 200918540 • 序記述於，例如美國專利第4,371,711以及G. Piancatelli et al. Tetrahedron (1978)，34(18)，2775-2778。。

式（BH)化合物可藉由以合適酸觸媒及水和存在下及視 需要合適溶劑存在下，自式（BJ)化合物，根據習知程序加 以製備。

例如’式（BJ)化合物可在水溶性酸例如聚磷酸存在下 被轉換成為式（ΒΗ)化合物，例如美國專利第4,3 71，711中 所述。或者，式（ΒΗ)化合物可自式化合物藉重排作用 在路易酸酸觸媒例如氣化鋅存在下，根據G. piancatelH et al.，Tetrahedron (1978)，34(18)，275-2778。。 式（BJ)化合物可藉習知條件下製備於式（BK)化合物之 85 200918540 還原作用（參考，例如Ρ J 如 K · Silvestri et al. , J. Med. Chem. 2005，48，4378-4Us . ^ 8 ’ B-L Yin et al·，Synthesis (2003)， (13) ， 1995-2000) 〇 RS=^He、還原 HO —R\ >et M (BK) (BJ) 式（BK)化合物為習知者， 或者可藉習知化合物製備於 習知化合物（參考，例如Y. Shigetaka， T.， Akira « Y.

Katsumi，Yakugaku Zasshi (1968)，88(8)，997-1002 ; Leditschke，H. Arch· Phar. (1952)，295，323-30)。 或者’式（BJ)化合物可藉添加合適有機金屬試劑例如 式（BL)雜芳基鹵化鎂（其中Hal為鹵化物例如氯化物，溴化 物或碘化物）或式（BM)雜芳基鋰試劑或式（BN)二雜芳基鋅 試劑至式（BO)之呋喃-2-甲醛及根據習知程序而製備（參 見’例如 G. Panda et al.，Tetrahedron Lett.，46，2005， 3097-3 102； D. J. Dixon > M. S. Scott > C.A. Luckhurst > Synlett (2003)， （15)， 23 17-2320 ； I. Gupta， M.

Ravikanth’ Tetrahedron (2003)， 59(32)，6131-6139; M.

Sanchez， O. Diallo， A. Oussaid， B. Oussaid， B Garrigues，Phosphorus， Sulfur and Silicon and the Related Elements (2001)， 173， 235-242 ; B. Garrigues， M. 86 200918540 • Sanchez O. Diallo F. Chemat » Journal of Nature (2000)，12(1)，25-28 ; C. M. Shafer，T. F. Molinski , J. Org. Chem· (1998)，63(3)， 55 1-5 55)。

額外的式（BJ)化合物可製備於式（BP)化合物與烷基鋰 試劑例如正丁基鋰之反應，該反應視需要在添加劑例如四 曱基乙二胺存在下及在合適的溶劑例如二乙醚或四氫吱喃 之中進行，接著與式（BQ)苯甲搭反應，如I. Gupta and Μ. Ravikanth， J· Org. Chem·， 2004 ’ 69， 6796-68 11， a M. Echavarren et al.， J. Am. Chem. Soc.， 125(19)， 5757-5766， 2003 and T. K. Chandrashekar et al. > J· Org_

Chem. 2002， 67， 6309-6319 所述。

R

o (BP) R8 1. 院基鋰 2 ^Hei ^ OHC (BQ)

HO

87 200918540 式㈣化合物和式（BQ)化合物為習知化合物，或者可 自習知化合物及習知方法加以製備。 根據本發明之式⑴化合物可以合成中所獲得之未改質 的形式用作除草劑，但它們通常以㈣方式使用調配佐劑 (例如載劑、溶劑和界面活性物質）綱己成除草組成物。 該調配物可於各種物理形式，例如粉劑、凝膠、可濕性粉 劑、水-分散粒劑、水-分散片劑、泡騰壓縮片劑、乳劑 (emulsifiable concentrate)、微乳劑（micr〇_emuisifiabie concentrate)、水中油型乳液、油懸浮劑（〇ilfi〇wabie)、 水分散液、油分散液、懸乳劑、膠囊懸著液、乳粒劑、可 溶性液劑、水-溶液（Soluble c〇ncentrate)(用水或水-互 溶有機溶劑作為載劑）、浸潰聚合物膜之形式或於其他（例 如）從植物保護產品之FA〇規格的發展和使用手冊（the Manual on Development and Use of FAO Specifications for Plant Protection Products，第 5 版，1999)得知的形式。 該等調配物可直接使用或在使用之前稀釋。稀調配物可藉 由（例如）用水、液體肥料、微量營養素、生物體、油或 溶劑製備。 調配物可（例如）藉由混合活性成分與調配佐劑製備 以便獲彳寸極細固體、粒劑、溶液、分散液或乳液之形式的 組成物。該等活性成分也可與其他佐劑（例如極細固體、 礦油、植物油、改質植物油、有機溶劑、水、界面活性物 質或其組合物）一起調配。活性成分也可包含在由聚合物 組成之非常細的微膠囊中。微膠囊包含在多孔載劑中之活 88 200918540 性成分。此使活性成分能夠以控制量釋入装卢比 卉環境内（例如 緩慢釋放）。微勝囊通常具有從0.1至的s W )υο微米直徑。 它們包含膠囊重量之大約從25至95重量％的量之活性成 分。活性成分可以整塊固體之形式、於以固體或液體分散 液中的細粒之形式或以適當溶液之形式存在。包膠膜包^ j例如）天然和合成膠、纖維素、苯乙烯_丁二烯共聚 聚丙烯腈、聚丙烯酸酯、聚酯、聚醯胺類、聚脲類、聚胺 甲酸酯或化學改質之聚合物和黃原酸澱粉或其他熟習該項 $術者已知與此相關的聚合物。或者可能形成其中活=成 =以細，形式存在於基本物f之固體基質中的非常細微膠 但是在該情況中微膠囊不被包覆。 知適合於製備根據本發明之組成物的調配佐劑本身為已 ;為可使用之液體載劑有：水、甲苯、、石油 辦、植妨7、、i ^ 4 ' _、曱基乙基酮、環己酮、酸酐類、乙腈、 本乙鋼、7酿尖& ^ 戍知、2_丁酮、碳酸伸丁酯、氣苯、環己烷、 _ 之烷酯、二丙酮醇、1，2-二氯丙烷、二乙醇 妝、對-二己其4 ^ 土本、一乙二醇、松香酸二甘醇酯、二二醇 丁 5^、一乙一丄 一醇乙醚、二乙二醇曱醚、N，N-二甲基甲醯 ^5 、—田 工 一 砜、L4·二腭烷、二丙二醇、二丙二醇曱醚、 —丙二醇二案田心 * 酸酯、二普羅斯醇（diproxitol )、烧基吡 乙俨 文乙酯、2·乙基己醇、碳酸伸乙酯、1，1,1-三氯 _ ^ 庚酮、α -蒎烯、d-葶烯、乳酸乙酯、乙二醇、乙 —' 醇丁鱗、己 _ 一醇甲醚、γ- 丁内酯、甘油、甘油乙酸酯、 /由二乙酸酯、甘、4 : * 甘油二乙iiL_、十六烧、己二醇、乙酸異 89 200918540 戊醋、乙酸異获脂、異辛烷、異佛_、異丙基笨、肉豆缝 酸異丙酯、乳酸、月桂胺、亞異丙基丙酮、甲氧基而 ^·、 甲基異戍基嗣、甲基異丁基綱、月桂酸甲g旨、辛酸甲 T酉旨、 油酸曱酯、二氯甲烷、間-二曱苯、正-己烷、正-辛胺、 八酸、辛胺乙酸酯、油酸、油胺、鄰-二曱苯、酚、聚乙一 醇（PEG 400 )、丙酸、乳酸丙酯、碳酸丙烯酯、而_ ’ J〜醇、 丙一醇甲醚、對-二甲本、甲苯、鱗酸三乙醋、：r ——醇、 二甲苯磺酸、石蠟、礦油、三氣乙烯、全氣乙烯、乙酸乙 酯、乙酸戊酯、乙酸丁酯、丙二醇甲醚、二乙二薛， 甲醇、乙醇、異丙醇，和較高分子量醇類，例如戊醇、四 氫糠醇、己醇、辛醇、乙二醇、丙二醇、甘油、N•曱基^ 吡咯啶酮等等。水通常是選擇用於稀釋濃縮液之載劑適 當固體載劑為（例如）滑石、二氧化鈦、葉臘石粘土、矽 石、鎂鋁海泡石黏土、矽藻土、石灰石、碳酸鈣、膨土、 約蒙脫石、棉籽殼、小麥粉、大豆粉、浮石、木粉;^磨碎 核桃殼、木質素和相似的物質，如（例如）cfr丨MW (c ) & ( d )中所述。 很多的界面活性物質可有利地使用於固體和液體調配 物中，特別是使用於該等在使 ° 文用之别可用載劑稀釋之調配 物中°界面活性物質可為陰離子、陽離子、非離子或聚合 物和它們可用作乳化、濕湖或懸浮劑或用於其他目的。* 型的界面活性物質包括（例如）《烧酿類的鹽類，例:: 酸月桂醋·，烧基芳基她旨類的鹽類，例如十 -基本…；烧基紛-環氧燒加成產物，例如壬基紛聚氧 90 200918540 乙烯醚（n〇nylphen〇1 eth〇xylate);醇-環氧烷加成產物， 例如十二醇聚氡乙烯醚（tridecyl alcohol ethoxylate );皂 類，例如硬脂酸鈉；烷基萘磺酸酯類之鹽類，例如二丁基 萘磺酸鈉；磺琥珀酸鹽類的二烷基酯類，例如磺琥珀酸鈉 一（2-乙基己基）酯；山梨醇酯類，例如山梨醇油酸酯丨四 級胺類，例如月桂基三甲基氯化銨’脂肪酸之聚乙二醇酯 類，例如聚乙二醇硬脂酸酯；環氧乙烷和環氧丙烷之嵌段 共聚物；和磷酸單-和二-烷酯類之鹽類；以及進一步的物 質描述（例如）於“McCutche〇n氏清潔劑和乳化劑年刊 (McCutcheon's Detergents and Emulsifiers Annual) » , MC 出版公司，紐澤西州理奇伍德市（Ridgew〇〇d) ，DM。 通常可用在農藥調配物中之進一步佐劑包括結晶抑制 劑、黏度·調整物質、懸浮劑、染料、抗氧化劑、發泡劑、 光吸收劑、混合助劑、消泡劑、錯合劑、中和$ pH調整 物質和緩衝劑、腐蝕抑制劑、芳香、潤濕劑、吸收改良劑、 微量營養素、塑化劑、滑動劑、潤滑劑、分散劑、增稠劑、 抗凍劑、微生物殺菌劑（micr〇bi〇cides ) 體肥料。 以及液體和固 調配物也可包含額外活性物質，例如另外的除草劑、 除草劑安全劑、植物生長調節劑' 殺真菌劑或殺蟲劑。 根據本發明之組成物可額外地包括一種添加劑，其包 含植物或動物源的油、礦油、芎黧 …卜上 ^ 飧，由这等油頰之烷酯或該等油類 和油衍生物之混合物。徒用於招姑士② 使用於根據本發明之組成物的量 苇為從0.01至10%，以咱·靈、，日^ 以赁霧此合物為基準。例如，油添加 91 200918540 劑可在喷霧混合物已被製備之後以所要濃度加至噴霧桶。 較佳油添加劑包含礦油或植物源之油，例如油菜籽油、撖 ^或奏花油、乳化植物油，例如A腦〇⑧（㈣ne_p〇uienc 2旱大公，植物源之油類的烧酯，例如F基衍生物， =物源的油類’例如魚油或牛脂。較佳添加劑（例如） 基本上包含（作為活性成份）8〇重量％魚油之院醋類和15 重量％甲基化油菜軒油、以及5重量％之習知乳化劑和pH 調整劑。特佳油添加劑包含Μ”脂肪酸之烧基酯類，特 別是LA脂肪酸之甲基衍生物，例如月桂酸、轉搁酸和 油酸之甲醋類，是重要的。那些醋類為已知如月桂酸甲醋 (CAS 111-82-G)、掠櫚gtfg 旨（cas_ii2_39_q)和油酸 甲酉旨（CAS-112-62Q、 . 62·9)。較佳脂肪酸甲酯衍生物為Eme 23〇和2231 (Cognis GmbH)。那些和其他的油衍生物也 從除草劑佐劑概略（c〇mpendium 〇f祕咖她， 第5版，南伊利諾州大學，2000 )得知。 油添加劑之應用和作用可藉由將其與界面活性物質(例 士非離子1%離子或陽離子界面活性劑）合併而進一步改 良適田陰離子、非離子和陽離子界面活性劑之例子列於 WO 97/ 34485之第7和8頁上。較佳界面活性物質為： 二基苯曱基石黃酸鹽類型之陰離子界面活性劑，特別是其鈣 ^以及月曰肪知乙氧基化類型之非離子界面活性劑。特佳 者為具有從5至40夕7 p « 台 40之乙氧基化度的乙氧基化cu_c22脂肪 醇類。商業上可得之界面活性劑的例子為Genapo丨類型 (Clanant AG )。較佳也為聚矽氧界面活性劑，特別是聚 92 200918540 烧基-氧化物-改質之七田 一 、 r基二石夕氧烧類，其可例如以Silwet L-77®商業上獲得以及 氟化界面活性劑。界面活性物質 相對於總添加劑之；曹# 劑之，辰度通常為從1至30重量％。由油或 礦油或其衍生物盘I; 一 '舌性劑之混合物組成的油添加劑之 例子為ME SU⑧、⑧（⑽咖Μ , CH ) 和Α=Γ〇_(英國BP油有限公司（㈤UK Limited ’ GB ))。 该等界面活性物暂A i @ 負也了單獨使用於調配物中，也就是 說沒有油添加劑。 此外’有機溶劑加至油添加劑/界面活性劑混合物中可 有助於作用之進一步增強。適當溶劑為（例如）㈣⑧ (ESSO)和芳族溶劑⑧（Εχχ〇η公司）。該等溶劑之濃度 可為總重量之從10至8〇重量％。該油添加劑，其可與溶 劑混合’係描述（例如）於US_A_4 834 9〇8中。本文中所 揭示之商業上可得之油添加劑已知名^ merge@(basf 公司）。根據本發明為較佳之另一油添加劑為⑽刪（加 拿大Syngenta作物保護公司）。 除了上列油添加劑，為了提高根據本發明之組成物的 活性’也可能將院基料錢類（例⑹Agdmax⑧）之調 配物加至該噴霧混合物。也可使用合成晶格之調配物，如 例如，聚丙烯醯胺、聚乙烯基化合物或聚_丨_對-孟烯（例 如Bond®、Courier®或Emerald®)。包含丙酸之溶液，例 如Eurogkem Pen-e-trate®也可混進噴霧混合物中作為活性 增強劑。 除草調配物通常包含從0.1至9 9重量。/。，特別是從〇 i 93 200918540 至95重量％之式⑴化合物和從丄至99 9重量％之調配佐 背1J，其較佳地包括從0至2 5重量°/〇之界面活性物質。然而 商業產品較佳地將被調配成濃縮液，使用者將正常地使用 稀釋的調配物。 式（I)化合物之施用率可在廣泛限制内改變且視土壤之 性質、施用之方法（萌芽前或萌芽後；浸種；施用至種子 犁溝；沒有耕作施用等）、作物植物、欲控制之雜草或草、 盛行氣候條件、和其他由施用方法、施用時間和目標作物 支配之因素而定。根據本發明之式（I)化合物通常以i至 2000克/公頃，特別是從i至1〇〇〇克/公 只又比率施用佳調 配物特別地具有下列組成： (% =重量百分比）： 乳劑（emulsifia^ponceiltrate)： 活性成分 界面活性 液體載劑 粉劑： 劑 1至95%，較佳60至9〇% 1至30%，較佳5至2〇% 0.1 至 10%， 99.9 至 90%， 較佳〇.1至5% 較佳99.9至99% 5 至 75%， 94 至 24%， 1 至 40%， 活性成分： 固體載劑： 懸浮濃縮液： 活性成分： 水： 界面活性劑： 可濕性粉劑： 較佳10至50% 較佳88至3〇0/〇 較佳2至3〇% 94 1 至嶋，較佳1至35% 200918540 活性成分： 界面活性劑： 固體載劑： 粒劑： 活性成分： 0·5 至 90%，較佳 1 至 8〇〇/0 〇·5至20%，較佳i至15% 5至95%，較佳15至9〇〇/〇 〇.1至30% ’較佳〇丨至15〇/〇 固體載劑： 99·5至7〇%，較佳97至85% 下列實施例進一步說明但不限制本發明。

F1.乳劑 _ a) iemulsifiable concentrated b) c) d) 活性成分 5% 10% 25% 5 0% 十二烧基苯績酸躬 6% 8% 6% 8% 葱麻油聚乙二醇醚 (36莫耳的環氧乙烷） 4% - 4% 4% 辛基酌聚乙二醇醚 (7-8莫耳的環氧乙烧） 4% - 2% NMP _ 10% 20% 芳香烴混合物C9-C12 85% 78% 55% 16% 以水稀釋可從該濃縮液製備任何所要濃度之乳劑 o F2.溶液 a) b) C) d) 活性成分 5% 10% 5 0% 90% 卜甲氧基-3-(3-甲氧基-丙氧基）-丙烷 峰 20% 20% - ♦乙—畔 M W 4 0 0 20% 10% NMP . . 30% 10% 芳香烴混合物c9-c12 75% 60% 95 200918540

該等溶液適合以微滴之形式使用。 g3.可濕性粉劑 a) b) c) d) 活性成分 5 % 25% 5 0% 80% 木質素磺酸鈉 4% _ 3% 硫酸月桂酯鈉 2% 3% - 4% 一異丁基萘績酸納 - 6% 5% 6% 辛基酚聚乙二醇醚 (7-8莫耳的環氧乙烷） - 1% 2% - 高分散石夕酸 1% 3% 5% 10% 南嶺土 88% 62% 35% 將活性成分和添加劑徹底地混合且在適當研磨機中徹 底研磨混合物’產生可濕性粉劑’其可以水稀釋而產生任 何所需要濃度之懸浮液。 貧布粒劑 、 a) b) c) 活性成分 0.1% 5% 15% 高分散矽酸 0.9% 2% 2% 無機載劑（直徑0.1-1毫米） 例如CaC03或Si02 99.0% 93% 83% 將活性成分溶解在二氯甲烷中’將溶液喷灑在載劑上 且隨後在真空中蒸發掉溶劑。 布粒劑 活性成分 聚乙二醇MW 200 a) b) c) 0.1% 5% 15% 1.0% 2% 3% 96 200918540 南分散酸 °·9% 1% 2% 無機載劑（直徑0.1-1蒼半、Ω〇 Λ 宅水）98.0% 92% 80% 例如CaC03或Si〇2 在此口器中將磨細之活性成分塗覆至以聚乙二醇濕化 的載劑。以此方式獲得非粉塗布之粒劑 F 6 ·擠製粒舞丨 a) b) c) d) 活性成分 0.1% 3% 5% 15% 木質素續酸鈉 1.5% 2% 3% 4% 羧甲基纖維素 1.4% 2% 2% 2% 咼嶺土 97.0% 93% 90% 79% 將活性成分與該等佐劑混合和研磨且以水溼化朵 物。擠製所得混合物及然後在 空氣流中乾燥。 F7.粉劑 a) b) c) 活性成分 0.1% 1% 5% 滑石 39.9% 49% 35% 1¾嶺土 60.0% 50% 60% 藉由混合活性成分與載劑 1和在適當研磨機中 研磨if 獲得在備用狀態之粉劑。 F8.懸浮濃縮游 a) b) c) d) 活性成分 3% 10% 25% 5 0% 乙二醇 5% 5% 5% 5% 壬基苯氧基聚乙二 二醇醚 - 1% 2% 97 200918540 (1 5莫耳的環氧乙烷） 木質素磺酸鈉 3% 3% 4% 5% 羧曱基纖維素 1% 1% 1% 1% 3 7%曱醛水溶液 0.2% 0.2% 0.2% 0.2% 石夕酮油乳液 0.8% 0.8% 0.8% 0.8% 水 87% 79% 62% 3 8% 將磨細的活性成分與添加劑均勻混合，產生懸浮濃縮 液’可藉由用《稀釋而從其製備任何所要濃度之懸浮液。 本發明也有關一種選擇性控制有用植物之作物中的草 和雜草之方法以及非選擇性野草控制，其包含用式⑴之化 合物處理有用植物或耕種區域或其所在地。 其中可使用根據本發明之組成物的有用植物之作物特 別包括穀類、棉花、大豆、甜菜、甘薦、栽植作物、菜軒、 玉米和稻米、和用於非選擇性雜草控制。 術語“作物”應了解為也包括由於繁殖或基因工程的習 知方法而對除草劑或除草劑類別（例如ALs、GS、EPSPS、 PPO、ACCase和HPPD抑制劑）產生耐受性的作物。以習 知的繁殖方法而對咪唑啉酮（例如甲氧咪草煙 (imaZamox))產生耐受性的作物之例子為CiearfieM⑧夏 曰油菜（Canola )。以基因工程法而對除草劑產生耐受性 的作物之例子包括以商標Roundup Ready®& LibertyLink® 商業上可付的抗嘉填基（glyph〇sate )-及抗固殺草 (glufosinate )之玉米品種。欲控制之雜草可為單子葉和 雙子葉雜草二者，如例如，繁縷屬（SteUaria )、豆瓣菜 98 200918540 屬（Nasturtium ) ' 小糠草屬（Agrostis )、馬唐屬（Digitaria )、 燕麥屬（Avena )、狗尾草屬（setaria )、歐白芥屬（Sinapis )、 歐毒麥屬（Lolium)、茄屬（Solanum)、稗屬（Echinochl〇a)、 完草屬（Scirpus )、雨久花屬（Monochoria )、慈姑屬 (Sagittaria)、雀麥屬（Bromus)、看麥娘屬（Alopecurus)、 高梁屬（Sorghum )、羅氏草屬（Rottboellia )、莎草屬 (Cyperus) 、® 麻屬（Abutilon)、黃花捻屬（Sida)、 蒼耳屬（Xanthium )、笼屬（Amaranthus )、藜屬 (Chenopodium )、番薯屬（lpomoea )、菊花屬 (Chrysanthemum)、豬殃殃屬（Galium)、菫菜屬（Vi〇la) 和婆婆納屬（Veronica )。控制單子葉雜草，特別是小糠 草屬（Agrostis)、燕麥屬（Avena)、狗尾草屬（Setaria)、 歐毒麥屬（Lolium)、稗屬（Echinochloa)、雀麥屬（Bromus)、 看麥娘屬（Alopecurus )和高梁屬（Sorghum )非常廣泛。 也應了解作物為該等藉由基因工程方法已對有害昆蟲 產生抵抗性之作物’例如Bt玉米（抵抗歐洲玉米螟 (European corn borer ))、Bt 棉花（抵抗棉鈴象鼻蟲（c〇u〇n boll weevil ))以及Bt馬鈴薯（抵抗科羅拉多曱蟲（c〇1〇rad〇 beetle) ) 。Bt玉米的例子為NK®之Bt-176玉米雜種（先 正達種子公司（Syngenta Seeds )) °Bt毒素為一種由蘇 力菌（Bacillus thuringiensis) 土壤細菌天然地形成之蛋白 質。該等毒素和能夠合成該等毒素之基因轉殖植物的例子 係描述於 EP-A-451 878、EP-A-374 753、WO 93/07278、WO 95/34656、WO 03/052073 和 EP-A-427 529。包括一或多種 99 200918540 . 為了抗殺蟲劑性編碼及表現一或多種毒素之基因的基因轉 殖植物之例子為KnockOut®(玉米）、Yield Card®(玉米）、

NuCOTIN33B® (棉花）、Bollgard® (棉花）、NewLeaf® (馬鈴薯）、NatureGard®和Protexcta®。植物作物和他們 : 的種子物質可抗除草劑和同時也抗昆蟲吃食（“堆疊 ·- ( stacked ) ”基因轉殖結果）。種子可（例如）具有表現 殺蟲活性Cry3蛋白質和同時耐嘉磷塞（glyph〇sate)之能 力。術語“作物”應了解為也包括由於繁殖或基因工程的習 知方法而獲得之作物，其包含所謂的產品性狀（〇utput traits)(例如改良之滋味、儲藏穩定性、營養含量）。 耕種區域應了解為包括其中已經生長作物植物之土地 以及意欲耕種那些作物植物之土地。 根據本發明之式（I)化合物也可與其他除草劑合併使 用。下列式（I)化合物之混合物特別重要。較佳地，在這些 混合物中，式⑴之化合物為該等下表i至36〇中所列的化 合物之一： 式⑴之化合物+乙草胺（acetochlor )、式（I)之化合物+ 亞喜芬（acifl丽fen ) ’式⑴之化合物+亞喜芬（) -鈉、式（I)之化合物+苯草醚（acl〇nifen)，式⑴之化合物 +丙烯醛、式（I)之化合物+拉草（alachl〇r)、式⑴之化合 物+亞汰草（alloxydim)、式⑴之化合物+烯丙醇、式⑴之 化合物+草殺淨（ametryn)、式⑴之化合物+氨唑草酮 (amicarbazone )，式⑴之化合物+醯嘧續隆 (amidosulfuron )，式⑴之化合物+氣氨基π比咬酸 100 200918540 • ( aminopyralid )、式（I)之化合物 + 殺草強（amitrole )、 式（I)之化合物+胺基續酸按、式（I)之化合物+莎裨填 (anilofos)、式（I)之化合物+亞速爛（asulam)、式（I)之 化合物 + 草脫淨（atrazine )、式（1)+阿威甘胺酸 : (aviglycine )、式（1)+草芬定（azafenidin )、式（I)之化合 ' 物 +四唾°密績隆（azimsulfuron )、式（I)之化合物 + bcpc、 式⑴之化合物+氟丁醯草胺（beflubutamid)、式（I)之化合 物 +草除靈（benazolin)、式（1) +苯卡巴腙（bencarbazone)、 式（I)之化合物+倍尼芬（benfluralin)、式（I)之化合物+ 呋草黃 （benfuresate )、式（I)之化合物+免速隆 (bensulfuron)、式（I)之化合物+免速隆_甲基、式（1)之化 合物 +地散磷（bensulide )、式（I)之化合物+本達隆 (bentazone )、式⑴之化合物+雙苯哺草綱 (benzfendizone )、式（I)之化合物+苯並雙環酮 (benzobicyclon )、式（I)之化合物 +D比草 g同（benzofenap )、 式⑴之化合物+必芬諾（bifenox)、式⑴之化合物+畢拉草 " (bilanafos)、式⑴之化合物+雙草醚（bispyribac)、式⑴ 之化合物+雙草醚-鈉、式⑴之化合物+硼砂、式⑴之化合 物+克草（bromacil )、式（I)之化合物+溴丁醯草胺 (bromobutide)、式⑴ + 溴芬斯（br〇m〇phen〇xim)、式⑴ 之化合物+漠苯腈（bromoxynil)、式⑴之化合物+丁基拉 草（butachlor)式⑴之化合物+氟丙喷草醋（butafenacii )、 式（I)之化合物+丁胺磷（butamifos)、式（I)之化合物+比達 寧（butralin)、式⑴之化合物+ 丁苯草酮（butr〇xydim)、 101 200918540 • 式⑴之化合物+拔敵草（butylate)、式（i)之化合物+卡可 酸（cacodylic acid)、式（I)之化合物+氯酸鈣、式⑴之化 合物+苯酮嗤（cafenstrole)、式⑴之化合物+雙醯草胺 (carbetamide)、式⑴之化合物 + 克繁草（carfentraz〇ne)、 • 式⑴之化合物+乙基克繁草（carfentrazone-ethyl )、式⑴ , 之化合物+CDEA、式⑴之化合物+CEPC、式（I)之化合物+ 整形醇（chlorflurenol )、式（I)之化合物+整形醇 (chlorflurenol ) _曱基、式⑴之化合物+氯草敏 (chloridazon)、式⑴之化合物+氯嘴黃隆（chl〇rimur〇n)、 式⑴之化合物+氮癌黃隆（chlorimuron)-乙基、式⑴之化 合物+乳乙、式（I)之化合物+綠麥隆（chlorotoluron)、 式⑴之化合物+氣苯胺靈（chlorpropham )、式（I)之化合物 +氯磺隆（chlorsulfuron )、式（I)之化合物+大克草 (chlorthal )、式⑴之化合物+大克草-二甲基（chl〇rthal_ dimethyl)、式（I)之化合物+吲哚酮草酯（cinidon_ethyi)、 式（I)之化合物+環庚草醚（cinmethylin)、式（I)之化合物+ 、 醚磺隆 （cinosulfuron )、式（I)之化合物+咯草隆 (cisanilide)、式（I)之化合物+烯草酮（cleth〇dim)、式⑴ 之化合物+炔草酯（clodinafop)、式（I)之化合物+炔草酯 (clodinafop )-丙炔基、式⑴之化合物+可滅蹤 (clomazone)、式（I)之化合物+克普草（cl〇mepr〇p)、式 (I)之化合物+必克草（cl〇pyralid )、式⑴之化合物+氣酯 磺草胺（cl〇ransulam )、式⑴之化合物+氣酯磺草胺 (cloransulam-methyl)、式（I)之化合物+CMA、式（I)之化 102 200918540 合物+4-CPB、式⑴之化合物+cpMF、式⑴之化合物+ 4_ cpp、式（I)之化合物+CPPC、式⑴之化合物+甲酚、式⑴ 之化合物+苄草隆（cumylur〇n )、式⑴之化合物+氰胺、 式⑴之化合物+氰乃淨（cyanazine)、式⑴之化合物+環草 敵（CyCl〇ate )、式⑴之化合物+環磺隆（cyclosulfamuron )、 式⑴之化合物+環殺草（eycl〇xydim)、式⑴之化合物+賽 伏草（Cyhal0f0p )、式（I)之化合物+ 丁基賽伏草 (cyhalofop-buty丨）、式⑴之化合物+2,4_D、式⑴之化 合物+3,4-DA、式⑴之化合物+殺草隆（daimur〇n)、式⑴ 之化合物+得拉本（dalap〇n)、式⑴之化合物+邁隆 (dazomet)、式⑴之化合物+2,4_〇Β、式⑴之化合物+ 3,4-DB、式⑴之化合物+ 2,4_DEB、式⑴之化合物+甜 菜安（desmedipham)、式⑴ + 敵草淨（desmetryn)、式 ⑴之化合物+麥草畏（dicamba)、式（1)之化合物+敵草腈 (dichlobenil)、式⑴之化合物+鄰_二氯苯、式（ι)之化合 物+對-二氯苯、式⑴之化合物+滴丙酸（dichl〇rpr〇p)、式 ⑴之化合物+滴丙酸（diChl〇rprop) _p、式⑴之化合物+禾 草靈（diclofop)、式⑴之化合物+禾草靈（dici〇f〇p) _甲 基、式（I)之化合物+雙氯磺草胺（dicl〇sulam)、式⑴之化 合物+燕麥枯（difenzoquat)、式⑴之化合物+曱硫燕麥枯 (cUfenzoquat metilsulfate)、式⑴之化合物+吡敦醯草胺 (diflufenican )、式⑴之化合物+二氟D比隆（)、 式（I)之化合物+腭嗤隆（dimefUron)、式⑴之化合物+吸 草丹（dimepiperate )、式⑴之化合物+二甲莖险 103 200918540 (dimethachlor )、式（I)之化合物+異戊乙淨 (dimethametryn )、式（I)之化合物+汰草滅 (dimethenamid)、式⑴之化合物 +汰草滅（dimethenamid) -P、式（I)之化合物+穫萎得（dimethipin)、式（I)之化合物 ! + 一曱胂酸、式⑴之化合物+撻乃安（dinitramine )、式⑴ , 之化合物+特樂酚（dinoterb )、式（I)之化合物+大芬滅 (diphenamid)、式⑴十異丙淨（dipr〇petryn)、式⑴之化 合物+敵草快（diquat)、式⑴之化合物+敵草快（diquat_ dibromide)、式⑴之化合物+汰硫草（dithi〇pyr)、式⑴ 之化合物+達有龍（diuron)、式⑴之化合物+DN〇c、式⑴ 之化合物+3,4-DP、式（I)之化合物+DSMA、式⑴之化合物+ EBEP、式（I)之化合物+茵多酸（end〇thai )、式⑴之化人 物+EPTC、式⑴之化合物+戊草丹（espr〇carb )、式⑴之 化合物+乙丁烯氟靈（ethalfluralin)、式⑴之化合物+胺苯 磺隆（ethametsulfuron )、式（I)之化合物+胺苯磺隆 (ethametSulfuron )-甲基、式⑴+益收生長素（ethephon )、 式（I)之化合物+乙氧呋草黃（ethofumesate)、式⑴之化人 物+氯氟草醚（eth〇Xyfen )、式⑴之化合物+亞速隆 (ethoxysulfuron )、式⑴之化合物+乙氧苯草胺 (etobenzanid)、式⑴之化合物+芬殺草（fen〇xapr〇p)_p、 式（I)之化合物+芬殺草（fen〇Xapr〇P) _P_乙基、式⑴之化 合物+四唑草胺（fentrazamide) '式（1)之化合物+硫酸亞 鐵、式（I)之化合物+麥草氟（flampr〇p ) ·Μ、式⑴之化人 物+伏速隆（flazasulf_ )、式⑴之化合物+雙氟磺草胺 104 200918540 . (florasulam )、式⑴之化合物+伏寄普（fluazif〇p )、式⑴ 之化合物+伏寄普（f丨uazifop_butyl )、式⑴之化合物+伏 寄普（fluazifop-P)、式⑴之化合物+伏寄普（fluazif〇p_p_ butyl)、式⑴+異丙吡草酯（fluaz〇late)、式⑴之化合物 ：+氟酮磺隆（flucarbazone )、式（I)之化合物+氟酮磺隆 -(flucarbaz〇ne )-鈉、式⑴之化合物+氟托磺隆 (flucetosulfuron )、式⑴之化合物 + 氟消草（fluchl〇ralin )、 式（I)之化合物+氟噻草胺（Hufenacet)、式（I)之化合物+ 氟分比（flufenpyr)、式（I)之化合物+氟芬比（flufenpyr) -乙基、式（1)+氟節胺（flumetralin)、式⑴之化合物+唑嘧 磧草胺（flumetsulam )、式（I)之化合物+氟烯草酸 (flumiclorac)、式⑴之化合物+氟烯草酸（flumicl〇rac) -戊基、式（I)之化合物+丙炔氟草胺（numi〇xazin)、式⑴+ 氟米拼（flumipropin )、式（I)之化合物+氟草隆 (fluometuron )、式⑴之化合物+乙羧氟草醚 (fluoroglycofen )、式⑴之化合物+乙羧氟草醚 (fluoroglycofen) _ 乙基、式⑴ + 氟沙普（flu〇xapr〇p)、 式（1)+氟胺草唑（flupoxam)、式⑴+氟帕絲（nupr〇pacil)、 式⑴之化合物+敦普内特（flUpr〇panate)、式⑴之化合物 +氟啶嘧磺隆（flupyrsulfuron)、式⑴之化合物+氟啶嘧磺 隆（flupyrsulfuron )-曱基-鈉、式⑴之化合物+芴丁酯 (flurenol)、式⑴之化合物+氟啶草酮（flurid〇ne)、式⑴ 之化合物+氟嚷草酿](flurochl〇rid〇ne )、式（I)之化合物+ 氟氯比（fiur〇xypyr)、式⑴之化合物+呋草酮（flurtam〇ne)、 105 200918540 式⑴之化合物+啡草酸（fluthiacet)、式⑴之化合物+啡草 酸甲酯（fluthiacet-methyl)、式（I)之化合物+氟磺胺草醚 (fomesafen )、式（I)之化合物+甲醯胺磺隆 (foramsulfuron)、式（I)之化合物 +殺木膦（f〇samine)、 式⑴之化合物+固殺草（glufosinate )、式（I)之化合物+固 ' 殺草（glufosinate-ammonium )、式（I)之化合物+嘉構塞 (glyphosate )、式⑴之化合物+氯吡嘧磺隆（hal〇sulfur〇n )、 式（I)之化合物+氯吨。密項隆（hal〇sulfur〇n_methyl )、式（I) 之化合物+合氯氟（haloxyfop )、式（I)之化合物+合氯氟 (haloxyfop) -P、式⑴之化合物+HC_252、式⑴之化合物 +菲殺淨（hexazinone )、式（I)之化合物+咪草酸 (imazamethabenz )、式（I)之化合物+ 口米草酸 (imazamethabenz )-甲基、式⑴之化合物+甲氧咪草煙 (imazamox)、式⑴之化合物+曱基咪草煙（imazapic)、 式⑴之化合物+依滅草（imazapyr)、式⑴之化合物+嗎紮 啥（imazaquin)、式⑴之化合物+咪唑乙煙酸（imazethapy〇、 式⑴之化合物+依速隆（imaz〇sulfur〇n)、式⑴之化合物+ 茚草酮（mdanofan )、式（I)之化合物+碘甲烷、式⑴之化 合物+碘磺隆（iod〇sulfur〇n)、式⑴之化合物+甲基碘磺 隆納鹽（iodosulfuron-methyl-sodium)、式（I)之化合物 + 碼 苯腈（ioxynil)、式⑴之化合物+異丙隆（is〇pr〇tur〇n)、 式⑴之化合物+異惡隆（isouron)、式⑴之化合物+異惡草 胺（isoxaben)、式⑴之化合物+依索氯托（is〇xachl〇n〇le)、 式（I)之化合物+異聘嗤草酮（is〇xaflut〇le)、式⑴+異惡草 106 200918540 • 醚（isoxapyrifop)、式（I)之化合物 +特胺靈（karbutilate)、 式（I)之化合物+乳氣禾草靈（lactofen )、式（I)之化合物+ 環草定（lenacil)、式⑴之化合物+理有龍（linuron )、 式（I)之化合物+ MAA、式（I)之化合物+MAMA、式（I)之化 : 合物+MCPA、式（I)之化合物+MCPA-硫乙基、式（I)之化合 ， 物+MCPB、式（I)之化合物+曱氣丙酸（mec〇pr〇p )、式⑴ 之化合物+甲氯丙酸（mecoprop) -P、式（I)之化合物+滅芬 草（mefenacet )、式（I)之化合物+氟磺醯草胺（mefluidide )、 式（I)之化合物+曱續胺績隆（mesosulfuron)、式（I)之化合 物+甲續胺績隆-甲基（mesosulfuron-methyl)、式（I)之化 合物+甲基石黃草酿I (mesotrione)、式（I)之化合物+威百软 (metam)、式（I)之化合物+惡嗤草胺（metamifop)、式（I) 之化合物+滅得群（metamitron)、式（I)之化合物+滅草胺 (metazachlor )、式（I)之化合物+曱基苯噻隆 (methabenzthiazuron )、式（1)+滅草。圭(methazole )、式 (I)之化合物+甲胂酸、式（I)之化合物+甲基汰草龍 [ (methyldymron)、式（I)之化合物+異硫氰酸甲酯、式（j) 之化合物+ °比喃隆（metobenzuron )、式（1)+溴谷隆 (metobromuron )、式（I)之化合物 +莫多草（metolachlor )、 式⑴之化合物+S-莫多草（metolachlor)、式（I)之化合物+ 石黃草0坐胺 （metosulam )、式（I)之化合物+曱氧隆 (metoxuron )、式（I)之化合物 + 滅必淨（metribuzin )、 式（I)之化合物+甲績隆（metsulfuron)、式（I)之化合物+甲 石黃隆（metsulfuron-methyl )、式（I)之化合物+MK-6 1 6、式 107 200918540 ⑴之化合物+稻得壯（m〇linate)、式⑴之化合物+綠穀隆 (monolinuron)、式⑴之化合物+MSMA、式（I)之化合物+ 萘普草（naproanilide )、式⑴之化合物+滅落脫 (napropamide)、式⑴之化合物+鈉得爛（naptalam)、 式⑴+ NDA-402989、式（I)之化合物+草不隆（nebur〇n)、 式⑴之化合物+煙喊續隆（nicosulfur〇n )、式（I)+n比氣草 胺（nipyraclofen)、式⑴ + 正-甲基_嘉磷塞（glyph〇sate)、 式⑴之化合物+壬酸、式⑴之化合物+氟草敏 Uorflurazon)、式⑴之化合物+油酸（脂肪酸類）、式⑴ 之化合物+坪草丹（orbencarb)、式⑴之化合物+磺酰脲 (orthosulfamuron)、式（I)之化合物 + 安磺靈（〇ryzalin)、 式⑴之化合物+丙炔惡草酮（oxadiargyi )、式⑴之化合物 +樂滅草（oxadiazon )、式⑴之化合物+環氧嘧磺隆 (oxasulfuron )、式⑴之化合物 +去稗安（〇xazicl〇mef〇ne )、 式（I)之化合物+復祿芬（〇Xyfluorfen )、式（I)之化合物+巴 拉别（paraquat)、式⑴之化合物+巴拉刈二氣鹽（paraquat dichloride)、式⑴之化合物+克草敵（pebu丨价）、式⑴ 之化合物+施得圃（pendimethalin)、式（I)之化合物+平速 爛（penoxsulam)、式⑴之化合物+五氯酚、式⑴之化合 物+甲氯醯草胺（pentanochlor)、式（I)之化合物+環戊惡 草酮（pentoxazone)、式⑴之化合物+烯草胺（peth〇xamid)、 式⑴之化合物+石油、式⑴之化合物+甜菜寧 (phenmedipham )、式⑴之化合物 +甜菜寧（phenmedipham ) -乙基、式（I)之化合物+畢克爛（pici〇rarn)、式（I)之化合 108 200918540 , 物+氟吡醯草胺（picolinafen )、式（I)之化合物+匹諾沙得 (pinoxaden)、式⑴之化合物+呱草磷（piper〇ph〇s)、式 (I)之化合物+亞砷酸鉀、式（I)之化合物+疊氮化鉀、式⑴之 化合物+普拉草（pretilachl〇r)、式⑴之化合物+氟嘧磺隆 ；(PrimiSulfuron )、式⑴之化合物+氟嘧磺隆 1 ( primiSUlfuron ) _甲基、式⑴之化合物+氨氟樂靈 (prodiamine)、式⑴之化合物+氟唑草胺（pr〇fluaz〇i)、 式⑴之化合物+環苯草酮（pr0f0xydim )、式（1)+調環酸 Γ ( prohexadione )-鈣、式⑴之化合物+撲滅通（pr〇met〇n )、 式⑴之化合物+撲草淨（pr〇metryn)、式⑴之化合物+毒 草胺（propachlor)、式⑴之化合物+除草靈（pr〇panii)、 式（I)之化合物+普拔草（propaqUizaf〇p)、式⑴之化合物+ 普拔根（propazine)、式⑴之化合物+苯胺靈（pr〇pham)、 式⑴之化合物+異丙草胺（propisochl〇r)、式⑴之化合物 +丙氣基卡巴細、式（I)之化合物+丙氧基卡巴腙-納、式⑴ 之化合物+炔苯醯草胺（propyzamide)、式⑴之化合物+ 、 节草丹（prosulfocarb )、式⑴之化合物+氟續隆 (prosulfuron)、式⑴之化合物+雙唑草腈（pyracl〇nii)、 式（I)之化合物〇比草醚（pyraflufen)、式⑴之化合物+吡 草醚（pyraflufen-ethyl)、式⑴ + 百福托（pyrasulf〇t〇le)、 式⑴之化合物+吡唑特（pyrazolynate)、式⑴之化合物+ 百速隆（PyraZ〇SUlfuron )、式（I)之化合物+百速隆 (pyrazosulfuron )-乙基、式⑴之化合物+苄草唑 (pyrazoxyfen )、式⑴之化合物+嘧啶肟草醚 109 200918540 . (pyribenzoxim )、式⑴之化合物 +稗草丹（pyributicarb )、 式⑴之化合物+百立達福（pyridafol)、式⑴之化合物+健 草特（pyridate)、式⑴之化合物+環酯草醚（pyriftalid)、 式（I)之化合物+嘴草趟（pyriminobac)、式⑴之化合物+嘴 : 草醚（pyriminobac-methyl )、式⑴之化合物+百米殺番 ' (Pyrimisulfan)、式⑴之化合物+嘧啶硫苯（pyrhhi〇bac)、 式（I)之化合物+°密°定硫苯（pyrithiobac)-納、式（1)+百羅沙 砜（pyroxasulfone)、式⑴+ 百蘇爛（pyr〇xulam)、式⑴ f' 之化合物+快克草（quincl〇rac )、式⑴之化合物+氯曱喹 口林酸（quinmerac )、式⑴之化合物+滅藻酿（quin〇clamine )、 式⑴之化合物+快伏草（quizalofop )、式⑴之化合物+快 伏草（quizalofop ) _p、式⑴之化合物+砜嘧磺隆 (rimsulfuron)、式⑴之化合物 +烯禾啶（seth〇xydim)、 式（I)之化合物+環草隆（siduron)、式（I)之化合物+草滅淨 (simazine) '式⑴之化合物+西草淨（simetryn)、式⑴ 之化合物+sma、式⑴之化合物+亞珅酸鈉、式（1)之化合物+ 、 疊氮化鈉、式⑴之化合物+氯酸鈉、式（I)之化合物+硫可三 酮（sulcotrione )、式⑴之化合物+甲磺草胺（sulfentraz〇ne )、 式⑴之化合物+喷續隆（sulfometur〇n)、式⑴之化合物+ 甲"密續隆（sulfometuron-methyl)、式⑴之化合物+硫復松 (sulfosate)、式⑴之化合物+續醯磺隆（suif〇suifur〇n)、 式⑴之化合物+硫酸、式⑴之化合物+焦油、式⑴之化合物 + 2,3,6-TBA、式⑴之化合物+TCA、式⑴之化合物+Τ(：Α_ 鈉、式（1)+牧草胺（tebutam )、式（I)之化合物+ 丁噻隆 110 200918540 .(tebuthiur〇n)、式⑴+特呋三鋼（tefuryitri〇ne)、式⑴ 之化合物+替伯二酮（tembotrione )、式⑴之化合物+得殺 草（tepraloxydim)、式⑴之化合物+特草定（terbacii)、 式⑴之化合物+曱氧去草淨（terbumet〇n )、式⑴之化合物 1 +特丁津（terbuthylazine )、式⑴之化合物+去草淨 ，(terbutryn)、式⑴之化合物+欣克草（thenylchlor)、式 (I)之化合物+噻氟隆（thiazafluron)、式（I)之化合物+噻草 啶（thiazopyr)、式⑴之化合物+噻黃隆（thifensulfur〇n)、 式（I)之化合物+°塞吩卡巴腙（thiencarbazone)、式⑴之化 合物+噻黃隆（thifensuifuron ) _曱基、式⑴之化合物+殺 丹（thiobencarb)、式（I)之化合物 + 仲草丹（ti〇carbazil)、 式⑴之化合物+本α比唾草_ ( topramezone )、式（I)之化合 物+三曱苯草酮（tralkoxydim )、式⑴之化合物+野麥畏 (tri-all ate)、式（I)之化合物+ ¾ 苯績隆（triasulfuron)、 式⑴之化合物+三氟草胺（triaziflam)、式（I)之化合物+苯 磺隆（tribenuron)、式（I)之化合物+苯磺隆（tribenuron ) ' -曱基、式（1)之化合物+殺草畏（tricamba )、式（I)之化合 物+三氣比（triclopyr)、式⑴之化合物+草達津（trietazine)、 式（I)之化合物+二乱°定績隆（trifloxysulfuron )、式（I)之化 合物 +三氟咬續隆（trifloxysulfuron ) 鈉、式（I)之化合 物+三福林（trifluralin )、式（I)之化合物+氟胺磺隆 (triflusulfuron )、式（I)之化合物+氟胺磺隆 (triflusulfuron-methyl )、式（I)之化合物+三經基三啡、 式（I)之化合物+抗倒S旨（trinexapac-ethyl )、式（I)之化合 111 200918540 . 物+二氟曱磺隆（tritosulfuron)、式（I)之化合物+[3-[2-氯 基-4-氟基-5- (1-曱基_6_三氟曱基_2,4_二側氧四氫 % °定_3_基）苯氧基]-2- °比啶氧基]乙酸乙酯（CAS RN 353292_31_6)、式⑴之化合物+ 4-羥基-3-[[2-[(2-甲氧基 ’ 乙氧基）甲基]_6-(三氟甲基）·3-°比啶基]羰基]-雙環[3.2.1]辛--3-烯 酮（CAS RN 352010-68-5 )、和式（I)之化合物+4-羥基-3-[[2-(3 -甲氧基丙基）_6_(二氟曱基）_3_«^啶基]羰基]雙 ί衣[3.2.1]辛-3-稀-2 嗣。 t 式⑴化合物之混合夥伴也可於酯類或鹽類之形式，如 例如在辰藥手冊（The Pesticide Manual，第12版，英國 辰作物保濩委員會（British Crop Protection Council ) 2000 ) 中所述。 根據本發明之式⑴化合物也可與安全劑併用。較佳 地’在這些混合物中，式⑴之化合物為該等下表1至36〇 中所列化合物之一。下列與安全劑之混合物，特別地納入 考慮： 、 式（I)之化合物 + 解毒唾（cloquintocet-mexyl )、式（I) 之化合物+解毒啥酸（cl〇qUintocet acid)及其鹽、式⑴之 化合物+解草唑（fenchl〇raz〇ie)-乙基、式⑴之化合物+解 草0坐酸（fenchlorazole acid)及其鹽、式（I)之化合物+!2比0坐 解草酯（mefenpyr-diethyl )、式（I)之化合物+吡唑解草酯 二酸（mefenpyr diacid )、式（I)之化合物+雙苯惡唑酸 (isoxadifen )-乙基、式⑴之化合物+雙苯惡唑酸（is〇xadifen acid)、式⑴之化合物+解草腭唑（furilaz〇le)、式⑴之 112 200918540 . 化合物+解草聘唑（hrilazole) R異構物、式（I)之化合物+ 解草酮（benoxacor )、式（I)之化合物+二氯丙稀胺 (dichlormid)、式（I)之化合物+AD-67、式（I)之化合物+解 草腈（oxabetrinil )、式（I)之化合物+解草胺腈 ’ （cy〇metrinil)、式（I)之化合物+解草胺腈（cy〇metrinil) -.Z-異構物’式（I)之化合物+解草α定（fenci〇rim )、式（I)之 化合物+賽普確醯胺（cyprosulfamide )、式⑴之化合物+ 萘酐、式⑴之化合物+解草安（flurazole)、式⑴之化合 物+ N- ( 2-曱氧基-苯甲醯基；)_4_[(曱基胺羰基）胺基]_苯 石黃醯胺、式（I)之化合物+CL 304,415、式（I)之化合物+待環 隆（diCyCl〇non)、式⑴之化合物+氟草肟（fiux〇fenim)、 式⑴之化合物+DKA-24、式（I)之化合物+r_29148和式⑴ 之化合物+PPG-1292。也可觀察到混合物式⑴之化合物+汰 草龍（dymron) '式⑴之化合*+McpA、式⑴之化合物+ 甲氯丙酸（mecopr〇p )和式⑴之化合物+甲氯丙酸 (mecoprop) -P之安全效果。 上述安全劑和除草劑係描述（例如）於農藥手冊（第 12版英國展作物保護委員會（British Crop Protection Council ) ’ 2_ )中。R_29148 係（例如）由 p B G〇ldsbr〇ugh 等人描述（植物生理學（Plant Physiology) ,( 2002 )，第130 冊第1497-1505頁和其中之參考文獻），ppG_1292係從 WO0921 1761 得知。 安全劑相對於除草劑之施用率大半地視施用模態而 定在田間處理之情形中，施用通常從〇 至公斤 113 200918540 的安全劑/公頃，較佳從_至 和通常從〇.0()1至2八“，.么斤的女全劑/公頃， 至1公斤/公頃。A㈣草劑/公頃，但較佳地從〇.〇。5 根據本發明之除 用方法，如例如，成物適合於所有農業中習知的施 欲的用途而定安施用、萌芽後施用和浸種。視所 =或苗？或在播種之前或之後引入土壤内子= 妙/之未女全化）化合物，視需要與共-除草劑合併。 :ΓΓ物的萌芽之前或之後單獨施用或與除草劑 =用。用安全劑處理植物或種子物質可因此原則上盘 矛劑之施用時間獨立地發生。植物藉由同時施用除草劑 和安全劑之處理（例如於桶混劑（…i一〇之形式

通常為較佳。安全為丨j I J相對於除卓劑之施用率大半地視施用 抵態而定。在田間處理的情況中，施用通常從0 001至50 公斤的安全劑/公頃，較佳從〇.〇〇….5公斤的安全劑/公 頃。在浸種之情形中，施用通f從G GG1至ig克之安全劑 斤之種子，較佳從〇·〇5至2克之安全劑,公斤之種子。 虽以液體形式施用安全劑，且在播種之前不久，浸泡種子 曰可，使用包含於從1至1〇 〇〇〇 ppm，較佳從1〇〇至ι〇〇〇卩㈣ 之濃度的活性成分之安全劑溶液是有利。 【實施方式】 下列實施例進一步說明本發明但不限制本發明。 复備實施例： 熟習此技藝人士將會理解以下所述之一些化合物為召 114 200918540 嗣稀醇m此可以單―互變異㈣或為嗣稀醇和二嗣 互變異構體之混合物，如例如j March，Ad觀ced。啊^

Chemistry， thirdediti〇n，驗心叫福 s_ 所述者。 該化合物如表 T1 所顯示盔《 ^ 所』不為早一烯酵互變異構體，但其應 該被推及此敘述涵蓋二酮形式和任何可能經由互變異構化 而產生之烯醇二者。再者 雙吳構化 # 為了簡化之便，—些表T1和 表p 1之化合物被引為單一對 η 對映異構物，但是除非特定被 異= =之―該被解讀為代表對映 ▲。物在评細之實驗部分中，為命名 酮互變異構體，即使 、、擇一 卩使主要。Ρ分互變異構體為烯醇形式。 田夕；-種互變異構體經觀察到質子Ν 為互變異構體混合物b 所不資料 實施例1 _ 茉某 癸烷-3」： R ά — «、-

碼唾-4-某1-1 r>

步驟1

115 200918540

對 10-氧雜-三環[5.2.ι·〇*2.6*]癸烷-3,5-二酮（1.66 克， 1〇毫莫耳）在氯仿（2〇毫升）中之溶液被一次加入PC15(1 〇4 克，5毫莫耳）。反應混合物被攪摔，在回流下被加熱5小 時。將反應混合物蒸乾，粗製產物經急驟層析法純化，製 得5-氯-10-氧雜-三環[5.2丄〇*2.6*]癸_4稀_3_嗣（129克卜 步驟2 2-(4 -氣基装基）石西。坐_5·甲龄

Π6(Λ·"^Λ酿胺（219亳克’1毫莫耳）和2-氯丙二酸 4 ，L5 $莫耳）於1,2·二曱氧基乙烧（1.5毫升）中 懸洋物被加入碳酸鎂（42毫克， 在航及在氮大氣中經攪拌3小時。毫莫耳)，所得混合物 然後使粗製反應混合物經砂塞過濾，並以乙酸乙酿予 116 200918540 乂冲洗而；慮液被濃縮而得到棕色固豸。此粗製產物在石夕 膠上經急驟層析法純化’製得2_(4'氯基苯基)硒唑_5-曱醛 (162毫克）。 步驟3 [2-(4~風.羞1_^基）石西岭_5_甲醇气j備

對2-(4-氣基笨基）硒唑_5_甲醛（13〇毫克，〇48毫莫耳） 在曱醇（5宅升）中之懸浮液加入硼氫化鈉（19毫克，〇·5毫 莫耳）（〇°C之下）。在之下攪拌反應混合物〇 5小時。以 飽和氯化叙水溶液（丨〇毫升）使反應混合物驟冷，以二氣甲 烷（3x25毫升）予以萃取。合併的有機萃取物於無水硫酸鎂 乾燥，過濾，濾液經蒸乾’得到[2_(4_氯基苯基）硒唑·5_甲 醇（127毫克 步驟4 -苯表J-硒唑-5-基甲氧基μι〇_氣雜-三環 癸-4-埽-3-酮之製備 117 200918540

對[2-(4-氯基苯基）站唾-5-甲醇（300毫克，1 1毫莫耳） 在無水四氫呋喃（5毫升）中之溶液，一次加入氫化鈉（'6〇% 分散物，於礦物油中，44毫克，毫莫耳）。在室溫下攪 拌反應混合物5分鐘’ 一次加入5_氣基_ι〇氧雜-三環 【Γ1·0:2:]癸外3-酮(2〇3毫克，u毫莫耳)。反應混 .+ + p 、、、攪+隔伏，將矽膠加入粗製反應混合物 T ’在減壓< γ _ 上經純化而製/ V $留物藉由急驟層析法在石夕膠 氧雜-三環[5.2: 5:[2*乳基-笨基)，吐-5-基曱氧基]-10· • .〇*2.6*]癸 _4_ 稀·3,（360 毫克）。 步驟 基 V5-甲 [5.2.1.〇*2.6

二-4-基 1-10-氧雜-三i

118 200918540

波瓶中，並溶於二乙醇二甲醚（8毫升）中，加 波瓶中， 〇·55毫莫耳）置於微 中，加入1-丁基-3- 甲基咪銼雙（二氟曱基磺醯基）醯亞胺（〇1毫升），反應混合 鐘。將矽膠加入 殘留物藉由急驟 物在210 C及微波照射之下經加熱達3〇分鐘 粗製反應混合物，在減壓之下蒸發溶劑， 層析法在矽膠上經純化而製得4_[2_(4_氯基_苯基）_5_甲基 硒唑 _4_基]_10-氧雜-三環[5·2.1_0*2·6*]癸烷-3,5-二酮（14< 毫克）。 實施例2 4-[2-(4-氯基-笨基）_5_乙基-噻唑―心基卜丨曱基_1〇-氧雜-三 環[5.2.1.0*2_6*]癸院_3,5_二酮的製備

步驟1 ΙιΧ.基二氧錐二^_^[匕2.1.〇*2』*1癸烷-8·嬌-3,5二鳊的製 1 119 200918540

4-環戊烯_1，3-二酮（10克，104毫莫耳）和孓甲基呋喃（15 毫升）之混合物在室溫之下經攪拌3天。然後加入甲醇（5〇 毫升），收集固體，在Buchner漏斗中乾燥，得到丨甲基_丨〇_ 氧雜-三環[5 ·2· 1·〇*2.6*]癸烷-8-烯-3，5 二酮（14 3 克）。 步驟2 i-雜-三環「5·2·1·0*2_6*1 癸烷·3·5 二_ 的製備

將 10-氧雜-三環[5.2.1.0*2.6*]癸-8-烯-3,5 二酮（10_5 克）溶於曱醇（700亮升）中，甲醇溶液以1.5毫升/分鐘之速 率在通過40°C和40巴且配備10%碳上鈀之Thalis H-cube 裝置（來自Thalis nanotech)組合，將所得溶液蒸乾，得到1-曱基-10-氧雜-三環[5.2.1_〇*2.6*]癸烷-3,5二酮（9.2克）。 120 200918540 步驟3互二氣-1 _甲棊

對基-10-氧雜 %[5.2」.0*2.6”癸烷 _3 5 _ 克，16.6毫莫耳）在氯仿（8毫升）中之溶液滴加入 應混合物經㈣及在回流下加熱5小時。反應混反 乾。粗製產物藉由急驟層析法在⑦膠上經純化而^經蒸 小甲基_10·氧雜-三環錢6Ί癸-4-稀_3_酮〇 5德 童驟4

ldL^-(4-氯-笑甚、°坐_5_基1乙醇

仕至溫下對 古& 7吞0坐'5-基]乙酮（5克，21 笔莫耳）在甲醇（00毫升）中之懸淳 年液加入硼氫化鈉（832毫 121 200918540 . 克’ 2 2毫莫耳）。反應混合物在室溫下經授拌0 · 5小時。反 應混合物經1 00毫升氯化銨飽和水溶液驟冷，以二氯甲烧 (2x150毫升）萃取。合併的有機萃取物經硫酸鎂乾燥，過 濾和蒸乾，製得1-[2-(4-氯-苯基）-噻唑-5-基]乙醇（4 88克）。 步驟5 ν ^ -- 噻唑-5-_基甲氣基1-1-甲基-10-擧雜-二率 「5 _2· 1.0*226*1 癸-4-嫌-3-酮的事借

對氣-苯基）^塞 替五、六^ ;塞吐·5-基]乙醇（264毫克，1.1毫 莫耳）在四氧呋喃（5毫升六 yv HL· AU ^ * 之，谷液，一次加入氫化鈉（60〇/〇 刀政物，於礦物油中，44古± 拌反應混合物5分鐘，—^ U毫莫耳）°在室溫下擾 環[5.2.1.0*2.6*]癸_^次加入5-氯基-1-甲基-1〇-氧雜-三 混合物於室溫下經攪拌p3,219毫克，U毫莫耳)。反應 中，在減壓之τ v w仪’將石夕膠加入粗製反應混合物 卜Q發溶齊丨〗，免 上經純化而製得5 [2 篆留物藉由急驟層析法在矽膠 基-10-氧雜-三環9\-(4-氣_苯基）-噻唑_5_基甲氧基]-卜甲 一來 2.1.0*2 “ •]癸-4-烯-3-酮（410毫克）。 122 200918540 , 步驟6 4-[2-(4-乳-笨基上-噻唑_4_基甲基·^ -甲篡-1〇_氧雜、 環[5·2· 1 _0*2.6上}癸烧_3.5_二銅的臀借

將5-[2-(4-氣-苯基）_噻唑_5_基曱氧基]_丨_曱基_10_氧雜 -三環[5.2.1.0*2.6*]癸-4-烯-3-酮（410毫克，0.56毫莫耳）置 於微波瓿中，並溶於二乙醇二甲醚（8毫升）中，加入丨-丁 基-3-曱基咪經雙（二氟曱基磺醯基）醢亞胺（〇1毫升），反應 混合物在21 0。(：及微波照射之下經加熱達3〇分鐘。將矽膠 加入粗製反應混合物，在減壓之下蒸發溶劑，殘留物藉由 急驟層析法在矽膠上經純化而製得4_[2_(4_氯_苯基）_乙基_ 噻唑_4_基甲基]-1-甲基-10-氧雜-三環[5.2_1.0*2.6”癸烷-3，5-二酮（175 毫克）。 實施例3 5-{ 1-「2-(4->臭基-2-甲I·苯基碟唑_5二基卜乙氣基1〇氣 雜-U裒『5.2.1.0*2.6*1癸-4-烯-3-酮的製 123 200918540

步驟1 4-漠-2-甲基-硫笨甲酿胺之帑備

對氫硫化鈉（2.80克，5〇毫莫彳）在氯化鎖六水合物（W 克’ 25 *莫耳)在二甲基甲醯胺(5〇毫升π之漿料溶液中 一次加入4务2·曱基苯甲腈（請克，50毫莫耳），所得到 的綠色漿料在室溫之下被㈣90分鐘。將反應混合物倒 入水（200毫升）中，所得沉澱物被過濾，以水沖洗。然後 將黃色固體懸浮於2Ν鹽酸（200毫升）中，攪拌i小時，然 後予以過濾’以水己烷沖洗，在真空中乾燥，得到4_溴_2_ 甲基-硫苯甲醯胺（820毫克）。 124 200918540 . 步驟2 2-(4_漠_2_甲某-装基）-嗟。坐_5_甲盤之舉備

Br 對4-溴_2_甲基-硫苯甲醯胺（3_11克，13·5毫莫耳）和2_ 氯丙二醛（2.6克，2〇·3毫莫耳）在二甲氧基乙烷（2〇毫升）中 之懸浮液加入碳酸鎮（567毫克，6.75毫莫耳），所得混合 物在60°C及氮氣之下被授拌3小時。然後，粗製反應物經 矽塞過濾，以乙酸乙酯沖洗，濾液經濃縮而得到2_(4_溴_2_ 曱基-苯基）-噻唑-5-曱醛（3.8克）。 步驟3 1ιΙ2-(4-溴-2 -甲基-苯基塞唾·5-基μ乙醇之^

Br 2-(4-溴-2-曱基-苯基噻唑_5_甲醛（1 9克，6 7毫莫耳） 在醚中之懸浮液在〇〇c經3 〇M MeMgBr(5毫升，15毫莫耳） 在二乙醚（50毫升）處理。然後，反應混合物經攪拌2小時， 125 200918540 然後經水稀释。以飽和水性nh4ci酸化。含水層經 DCM(2xl 00耄升）萃取。混合的有機層硫酸鎮乾燥，過滤 及蒸乾而得到1.8 0克粗製產物。粗製產物藉由急驟層析法 在矽膠上經純化而製得^[。（扣溴-?-甲基-苯基）_噻唑_5_ 基]-乙醇（1.40克）。 步驟4 -2-甲基-茉篡唑-5-基1-乙氣某 建二^_環丨5.2.1及*2.6*1癸-4-嫌-3-酮的盤備

對[2-(4-溴-2-甲基-苯基噻唑_5_基]-乙醇（450毫克， 1.5毫莫耳）和5·氣基-ι〇_氧雜-三環[5·2〗〇*2 6”癸_4-烯_ 3_酮（277毫克，1.5毫莫耳）在四氫呋喃（10毫升）中之溶液 一次加入氫化鈉（60%分散液於礦物油，6〇毫克’ 1.5毫莫 耳）°在室溫之下攪拌反應混合物。粗製反應混合物在減壓 之下瘵發’加入丨〇毫升三甘醇二甲醚。因此，反應混合 物在加熱至回流3〇分鐘。粗製反應混合物經vaccedd〇wn， 126 200918540 粗製產物藉由急驟層析法在矽膠上經純化而製得黃色固 體。固體經異己烷沖洗，製得5-{1-[2-(4-溴基-2-曱基-笨 基）-噻唑-5-基]-乙氧基}- 10-氧雜-三環[5.2.1.0*2.6*]癸-4-烯-3-酮（490毫克）。 實施例4 4-f5-(4-氣基-本基)-2-乙基-口塞吩-3-基氧雜-三環 「5.2.1.0*2.6*1癸烷-3,5-二酮的製備

步驟1 3-溴-5-(4-氣-笨基）-2-乙基-噻吩的製備

127 200918540 對3,5_二溴-2-乙基-噻吩（3.28克，12.15毫莫耳）在二 乙醚（50毫升）之溶液在-78°C及在氮氣之下於1〇分鐘慢慢 加入2.5M 丁基裡在己烧溶液中（4.86毫升，12.15毫莫耳）， 在-78°C攪拌反應30分鐘。然後，將反應冷卻至_78它，再 於5分鐘滴加二甲基爛酸醋（1_64毫升，146毫莫耳）。在_ 78 C攪拌反應30分鐘，然後使其回溫至室溫，再攪拌6〇 分鐘。然後將乙酸鈀（68毫克，12.15毫莫耳），三苯基膦（314 毫克，1.2毫莫耳）和4-氯-碘苯（4.9克，1215毫莫耳）加入 反應，接著加入四氫呋喃（50毫升）和1N碳酸鈉溶液（2()毫 升）’加熱反應至回流3小時。使經冷卻之反應混合物於醚 (250毫升）和水（3〇〇毫升）之間分層。分離有機層，於硫酸 鎂乾燥，過濾和在減壓之下蒸發。因此，殘留物藉由急驟 層析法在矽膠上經純化而製得3_溴_5_(4_氯_苯基）_2_乙基_ °塞吩之白色固體（2_75克）。 步驟 乙基-°塞^3_基 >夫喃_2_基-甲瘦身製備

，於10 對3·溴-5_(4-氯-苯基）-2-乙基-噻吩（2.62克，8·67毫莫 耳）在二乙_(30毫升）中之溶液於-78°C及氮氣之下 128 200918540 . 分鐘慢慢加入2.5M 丁基鋰在己烷溶液中（4·86毫升，12.15 毫莫耳），在-78°C攪拌反應30分鐘。然後，於5分鐘滴加 2-糠醛（1毫升，12.14毫莫耳）。在-78°C攪拌反應15分鐘， 然後使其回溫至室溫，再攪拌1小時。以飽和氯化銨（1 00 毫升）使反應驟冷，以醚（100毫升）進行萃取。分離有機層， • 於硫酸鎂乾燥，過濾和蒸乾。因此，殘留物藉由急驟層析 法在矽膠上經純化而製得[5-(4-氯-苯基）-2-乙基-噻吩-3-基] 呋喃-2-基-甲醇之黃色油（2.52克）。 步驟3 j_-『5-(4 -氯-苯基）-2 -乙基塞吩-3-基1-4-經基-環戍-2-嫌_的 製備

對[5-(4-氯-苯基）-2-乙基-噻吩_3_基]呋喃-2-基-甲醇 (2.52克，7.9毫莫耳）在丙酮（30毫升）和水（5毫升）中之溶 液加入聚磷酸（0.5毫升），所得溶液在6〇c被加熱5小時。 所得黑色溶液於真空中被濃縮且藉由急驟層析法在石夕膠上 經純化而製得5-[5-(4-氯-苯基）_2·乙基-噻吩_3_基]-4-羥基_ 環戊-2-烯酮的澄清膠（320毫克）。 129 200918540 步驟4 2 -「5-(4 -氣-苯基）-2-乙基-g塞吩-3-基1 -;哀戍-4-婦-1，3-二酉同的 製備

對5-[5-(4 -氣-本基）-2 -乙基-嗟吩-3 -基]-4 -經基-壞戍-2 -烯酮（300毫克，0.95毫莫耳）在丙酮（5毫升）中之溶液於0 °C滴加入Jones試劑，所得黃色溶液在0°C攪拌80分鐘。 藉添加丙-2-醇（1毫升）使反應驟冷，另外攪拌2小時。加 入鹽水（50毫升），以乙酸乙酯（2x50毫升）進行萃取。然後， 混合的有機層經鹽水沖洗，於硫酸鎂乾燥，於真空中濃縮， 製得2-[5-(4 -氯-苯基）-2 -乙基-α塞吩-3-基]-ί哀戊-4-稀-1,3-二 酮的橙色固體（248毫克）。 步驟5 4-f5-(4-氣基-笨基）-2-乙基-噻吩-3-基1-10-氧雜-三環 『5.2.1.0*2.6*1 癸-8-烯-3,5-二酮的製備 130 200918540

對2-[5-(4-氯-苯基）-2-乙基-噻吩-3-基]-環戊-4-烯-1， 3-二酮（248毫克，0.78毫莫耳）在呋喃（3毫升）中的攪拌溶 液中加入碘化鎂（44毫克，0.1 5毫莫耳），使反應在室溫下 攪拌4天。粗製反應混合物藉由急驟層析法純化而製得4-[5-(4-氣基-本基）-2-乙基-σ塞吩-3 -基]-10-氧雜-二環 [5.2·1.0*2·6*]癸-8-烯_3,5-二酮的白色固體（180毫克）。 步驟6 4 -「5-(4-氣基-苯基)-2-乙基-口塞吩-3基1-10-氧雜-二環 「5.2.1.0*2.6*1 癸烷-3，5-二酮的製備

131 200918540 對4-[5-(4-氮基-苯基）-2-乙基-α塞吩-3-基]-10-氧雜-二 環[5.2.1·0*2.6*]癸-8-烯-3，5-二酮（180 毫克，0.47 毫莫耳） 在甲醇（5毫升）中之溶液在氳氣（3巴）之下攪拌7小時。反 應溶液經Ceiite墊過濾，濾液經濃縮而製得4-[5-(4-氯基-苯基）-2-乙基-噻吩-3-基]-10-氧雜-三環[5.2.1.0*2.6*]癸烷-3,5-二酮（51 毫克）。 實施例5 4-(5-溴基-4-乙基-2-甲基-噻吩-3-基1-10-氡雜-三環 「5.2.1.0*2.6*1 癸烷-3,5-二酮的製備

步驟 4-乙基-噻吩-2-甲醛之製備

132 200918540 對3-乙基噻吩（2克，17·7毫莫耳）在醚（2〇毫升）中及 在氮氣及室溫之下加入丁基鋰（2_5M在己烷溶液中，8 Μ 毫升，2丨_4毫莫耳），所得稻草色溶液加熱至回流達2〇分 鐘。所得混濁溶液然後被冷卻至室溫，之後在2分鐘慢慢 =入二甲基曱醯胺（2毫升），所得溶液在室溫下攪拌1小 時。反應經飽和水性氯化錢（1〇〇冑升）驟冷，以氯仿⑽ :升)進行萃取。有機層經鹽水沖洗，於硫酸鎖乾燥，濃縮， 侍到4-乙基-噻吩_2_甲醛的淺棕色油（2.克）。 步驟2 -基）甲薛之，備

OK 對4-乙基-噻吩_2_甲醛（2 48 毫物之溶液於。。C 一次加入上二7毫莫耳 替κ、 爛氧化納（7〇7毫克，18 7臺 、耳）。使所得溶液回溫至室溫， ' 分鐘。在真办中：曲絃6虛 在至/皿之下另外攪拌4〇 使反雍飽和氣化銨水溶液（100毫升） 定反應驟冷，以氯仿（丨00毫 乾护，、* 進萃取。有機物於硫酸鎂 -過濾和濃縮而製得淺黃色油 石夕膠上純化而製得⑷乙基·、日由心驟層析法於 克）。 2_基）甲醇的澄清油（1.87 133 200918540 步驟3 5-(4-乙基-噻吩-2-基1-10-氧雜-三環「5.2.1.0*2.6*1癸-4-烯- 3-酮的製備

/ _ 對（4-乙基-噻吩-2-基）曱醇（3 69毫克，2毫莫耳）在四氫 呋（1 0毫升）中的溶液，一次加入在礦物油中60%分散液（88 毫克，2.2毫莫耳），反應在室溫之下攪拌3小時。然後， 所得黑黃色溶液被冷卻至〇°C，加入5-氯-10-氧雜-三環 [5.2 _1.0*2.6*]癸-4-烯-3-酮（341毫克，2.4毫莫耳），使所得 棕色溶液回溫至室溫30分鐘，然後在室溫下攪拌1 7小時。 粗製反應藉由急驟層析法純化而製得5-(4-乙基-噻吩-2- 基]-10-氧雜-三環[5.2.1.0*2.6*]癸-4-烯-3 -酮的白色固體 I . (515毫克）。 步驟4 4-(4-乙基-2-甲基-噻吩-3-基1-10-氧雜-三環「5.2.1.0*2.6*1癸 烷-3,5-二酮的製備 134 200918540

η _4-烯-3-酮（5 15毫克，1.77毫莫耳）在二甲氧基乙烷（5毫升） 1之’谷液在微波照射之下被加熱至2 〇 〇 °c達3 0分鐘。將石夕 膠=入粗製反應混合物，在減壓之下蒸發溶劑，殘留物藉 ^驟層析法純化而製得4<4·乙基_2_甲基“塞吩_3_基] 克）—^^5·2.1·0*2·6*]癸烷-3,5-二酮的白色固體（105毫

對4-(4-乙基-2-癸烷-3， 曱基-〇塞吩-3-基]-10-氧雜-三環 5一二鲷在DCM(2毫升）中的懸浮液， 135 200918540 在〇°c之下—_ —田 _人π入肩（26微升，0.5宅莫耳），使反應回溫 至至皿’在室溫之下攪拌3小時。反應在真空之下濃縮， 再溶於甲, 宅升），加入碳酸鉀（250毫克），所得懸浮液 在室溫之下另外橹 規拌17小時。藉添加水性2N鹽酸（1〇毫 升）使反應驟冷，， 以DCM(2xl〇毫升）進行萃取。混合的有 機萃取物經乾燥， ^ ^ 愿在具二之下濃縮，藉由急驟層析 法在石夕膠上純化而贺得兔p &阴 I付為棕色固體之4-(5-溴基-4-乙基-2- 曱基塞吩-3-基]_ι〇_氣雜_ $ ^ 乳雜-二％[5.2.1.0*2.6” 癸烷-3，5-二 酮（43毫克）。 實施例6 t(6-氣基-4^某-叫# q甘,，Λ ‘ ~~~·〜雜一：率 f5.2.1.〇*2.6*1 癸 H5-二酮的

步驟1 5 -曱氧基-10--- 癸-4-烯-3-酮的製備 136 200918540

對10-氧雜-三環[5.2丄0*2.6*]癸t3,5_二嗣（9 97克， 60毫莫耳）在甲醇（2〇〇毫升）中的懸浮液加入四氯金酸納 (597毫克，1.5晕莫耳），反應混合物經加熱至0〇〇c達7小 時。使反應混合物回溫至室溫，靜置隔夜。反應混合物在 減壓之下濃縮，溶於乙酸乙酯（2〇〇毫升），以2N水性碳酸 鈉（1 〇〇笔升）沖洗，接著以飽和鹽水（丨〇〇毫升）沖洗。有機 層經硫酸鎂乾燥，在減壓之下濃縮，製得5_甲氧基_10-氧 雜-三環[5·2.1·〇*2·6*]癸-4-烯-3-酮（8.62 克）。 步驟2 氧雜-三環「5.2.1.0*2.6*1癸-4_烯-3-酮的 .製備

燒瓶被裝入5-甲氧基-ίο·氧雜-三環[5.2.1.0*2·6*]癸-4-烯-3-酮（13_3克’ 24.2毫莫耳）和碘（6.73毫克’ 26.5毫莫 耳）’然後通入氮氣。加入無水乙腈（1 20毫升），反應經加 137 200918540 熱至40C，並伴隨著攪拌2小時。粗製反應混合物被倒入 重亞I鈉的飽和水溶液（25〇毫升），以二氯曱烷（2χ25〇亳 升）萃取。混合的有機物經硫酸鎂乾燥，過濾，且溶劑在減 壓之下被移❺，而製得4_碘_5_甲氧基_ι〇-氧雜-三環 [5.2丄0*2.6*]癸 _4_烯_3,(5 7〇 克）。 / 步驟3 —(6_ 氯基-4二啶-3-基卜5-甲 氧基· 10-乳雜-

微波瓶裝入4-碰< my 4+ 1Λ P 4峨-5-甲虱基-10-軋雜-三環[5.2.1.0*2.6*] 癸-4 -炸-3-酬（184 毫克，0.6毫升），6 -氯·4·甲基吼咬-3-蝴 酸（103 毫克，! >兄ϋ·6 *升）和雙（三苯基膦）二氯化鈀（21毫克， 〇·〇3毫升）。加入DMe〇毫升），接著加入2ν碳酸鈉水溶 液（0.6毫升 2笔莫耳），反應經微波照射被加熱至1 3 〇 °C，並伴隨著檀抽^ 牛30分鐘。然後’反應被2N鹽酸（20毫 升）稀釋，以乙酸7麻μ ^ 虹乙酯（2〇毫升）進行萃取，有機層被移除， =由急驟層析法在石夕膠上純化而製得4_(6_氯基_4_甲基 。定-3-基]-5-甲氧其ΐΛί;: 軋暴-1〇-氧雜-三環[5.2.1_〇*2.6*]癸_4_烯_3-_ 138 200918540 (119毫克）。 步驟4

4-(6-氣基 吡啶·3_^Ί_1〇_ 烧-3，5 -二酮

:在微，瓿中4_(6_氯基"基·吡啶_3_基]_5_甲氧基_ 10-氧雜-三環[5.2.1.0*2.6*]癸-4-稀-3_酮⑴9毫克）在丙納（1 毫升)中的溶液加入2Ν鹽酸(〇_6毫升），所得溶液在微波照 射之下被加熱至13(rc，並伴隨著攪拌達3〇分鐘。粗反應 混合物經碳酸氫鈉驟冷，直到停止產生氣泡為止，反應於 乙酸乙醋（40 4升）和飽和水性氯化銨（4〇毫升）之間分層。 有機層被移除，以鹽水飽和溶液沖洗，於硫酸鎂乾燥，過 遽’在減Μ之下自據液移除溶劑，製得4_(6_氯基甲基_ 口比咬-3-基]-1()-氧雜.三環[5.2 l G*2 6*]癸烧 _3,5_二嗣（1〇4 毫克）。 139 200918540 實施例7 基-2-甲篡鈽某-嘧啶-4-基1-10-氧雜-[1：2」.0^2.6*1癸烷-3.5-二酮的製備

微波瓿被裝入4-氯-5-曱基-2-甲基硫基嘧啶（174毫克， 1毫莫耳），1〇_氧雜-三環[5.2.1.01.6^癸烷-3,5-二酮（166 毫克’1毫莫耳），乙酸鈀（12毫克，0.05毫莫耳），X_Ph〇s(48 毫克’ 0.1毫莫耳）和磷酸鉀（424毫克，2毫莫耳）。加入1， 二甲氧基乙烷（3毫升），反應經加熱至16〇它，並伴隨著 授摔3 0分鐘。將矽膠加入粗製反應混合物，在減壓之下 蒸發溶劑，殘留物藉由急驟層析法在矽膠上純化而製得4_ (5-甲基-2-甲基硫基“密咬_心基]·1〇_氧雜_三環[5 2」 癸烷，5-二酮（34毫克）。 中之額外化合物係藉類似方法及使用合 以下於表T1中4 適起始材料加以製備。 光譜中觀察到多於 一種互變異構物或旋

在質子NMR光言 轉構象異構物者， 之混合物。 140 200918540 表τι 化合物 編號 結構 iHNMRCCDCL除非指示） 或其他物理數據 Τ1 Ρ飞 (CD3OD) δ ppm 1.66 {qt 2 H), 1.77 - -A3 1,88 (m, 2H), 2.21 (s, 3H), 2.82 (s, 2H), 4.60 (dci, 2H), 6.39 (d, 1H), 7.34 Η'4~("Η θ (d, 1H) Τ2 F (CD3OD) δ ppm 1.56-1.65 (m, 2H)t 1.72-1.83 (m, 2H), 2,27 (s, 3H), 2.63 \===v (s, 2H), 4.53-4.67 (m, 2H), 6.02 (d, 1H), 6.72 - 6.81 (m, 1 H)( 6.88 - 7.06 H,i7~~(，mH (m, 2H) Τ3 Cl (CD3OD) δ ppm 1.59-1.73 (m, 2H), fl 1.76-1.92 (m, 2H), 2.66 (s, 3H), 2.78- 2.99 (m, 2H), 4.49 > 4.73 (m, 2H), 6.12-6.13 (m, 1H), 7.49-7.61 (m, 2H), H1')(…H β 7.71-7,83 (m, 2H) 141 200918540 Τ4 夸r Η*7νΜΗ Θ δ ppm 1.51 (q, 2Η), 1,74-1.82 (m, 2Η), 2.25 {s, 3H), 2,74 (s, 2H), 4.59-4.62 {m, 2H), 7.03 (s,1H) Τ5 Βγ Λ5 Η·')—(·Ή (DMSO-D6) δ ppm 1.51-1.58 (m, 2H), 1.63-1.72 {m, 2H), 2.17 (Ss 3H), 2.70 (s, 2H), 4.46-4.54 (m, 2H), 6.85 (s, 1H) Τ6 〇 Η11/-Λμ'Η β δ ppm 1,53-162 (m, 2H), 1.78-1.89 (m, 2H), 2.24 (s, 3H), 2.77 (s, 2H) 4.67-4 J9 (m, 2H), 7.07-7.13 (m, 1H), 7.29 (S, 1H), 7.38 (d, 1H), 7.63 (td, 1H), 8.31 (d, 1H) Τ7 Nws χΓ Η")—("Η β (CD3OD) δ ppm 1.65-1 J2 (m, 2H), 1.77-1*89 (m, 2H), 2.31 (s, 3H), 2.85 (s, 2H), 4.61-4.67 (m, 2H), 7.24 (s, 1H), 7.38 (s,1H) 142 200918540

Τ8 xT d ppm 1.53-1.61 (m, 2H), 1.79-1.87 (m, 2H), 2.30 (s, 3H)t 2.78 (S, 2H), 4.67-4.71 (m, 2H), 6.92 (sf 1H), 6.95-7.01 (m, 1H), 7.06-7.11 (m11H), 7.17 (d, 1H) T9 δ ppm 1.25 (t, 3H)f 1.50-1.62 (m, 4H), 1.76-1.90 (m, 2H), 2.69 (q, 2H), 4.68- Ο-ϊ^Ν^Ο 4.74 (m, 2H), 6.84 (dr 1H), 7.02 (d, Η")~v^H β 1H) Τ10 δ ppm 1.44-1.53 (m, 2H), 1.74-1.82 平 (m, 2H), 1.99 (s, 3H), 2,21 (d, 3H), o^N^O 2,68 (d, 2H), 4.58 (mf 2H), 6.70 (d, Hm7~(·，Η β 1H) Til (CD3OD) 6 ppm 164-1.72 (m, 2H), Q 1.80-1.89 (m, 2H), 2.30 (s, 3H), 2.85 J (S, 2H), 4.62{dd,2H), 7.05 (s,1H), X> H " ii............. (* 1 1 θ 7.36-7.41 (m, 3H), 7.46-7.50 (mr 2H) 143 200918540 T12 Of 0 Ο^Λ^Ο Η '7—("Η {DMSO-D6) 6 ppm 1.4S-1.53 (m, 2Η), 1.56-1.71 (m, 2Η), 2.18 (s, 3H), 2.70 (s, 2H)t 4.41-4.52 (m, 2H), 7.14 (s, 1H), 7.36 (m,2H), 7.51 (m, 2H) T13 Η，*)—("_Η β δ ppm 1.12 (td, 3H), 1.53-1.62 (m, 2H), 1.80-1.97 (m, 2H), 2.24 (s, 3H), 2.36 (ddd, 2H), 2.79 (s, 2H), 4.64-4.73 (m, 2H), 6.77 (s, 1H) T14 Βγ /"C / δ ppm 0.97 (t, 3H), 1.S1-1.67 (m, 2H), 1.78-1.91 (m, 2H), 2.17 (s, 3H), 2.35 {dt, 2H), 2.80 (d, 2H), 4.63-4.76 (m, Η 4—(-Η β 2H) T15 5ppm1.11 (id,3H), 1.18(td,3H), 1.47-1.55 (m, 2H), 1.75-1.83 (m, 2H), 2.27-2.40 (m, 2H), 2,57 (ddd, 2H), ^μ| ι μ iiwuww* m β 2.72 (d, 2H), 4.58^.66 (m, 2H), 6.77 (s,1H) 144 200918540 T16 Η'1*)~(川 Η β (CDsOD) δ ppm 1.57-1.67 (mf 2Η), 1.73-1.83 (m, 2Η), 2.28 (s, 3H), 2.71 (s, 2H), 4.48-4.55 (m, 2H), 6.78 {s, •IH), 7.05-7.13 (m, 2H), 7.20-7.26 (m, 2H) T17 CI (CD3OD) δ ppm 1.22 (t3 3H), 1.62- ρ 1.68 (m, 2H), 1J6-1.84 (m, 2H), 2.68 X (q, 2H), 2.77 (s, 2H), 4.56-4.61 (m, 2H), 7.11 (s, 1H), 7.30-7.36 (m, 2H), ηΖ〇λ，η 7.51-7.57 (m, 2H) T18 δ ppm 1.59-1.69 (m, 2H), 1.85-1.96 (m, 2H), 2.36 (s, 3H), 2.86 (s, br, 2H)f 4.02 (s, 3H)t 4.71 - 4.79 {m, 2H), 6.76 Η(7—(…Η {s, 1H), 7.09 (s,1H) % δ ppm 1.53 -1.66 (m, 2H), 1.82-1,93 ffx (m, 2H), 2.35 (st 3H)t 2,81 (s, 2H) W/ 3.91 (s, 3H)，4.68 - 4.77 (m, 2H), 7.18 (s,1H), 7.51 -7.68 (m,2H),7.94- T19 Η'2^-^·'Η 8.06 (m, 2H) 145 200918540 T20 Λ》 Η"*)— β δ ppm 1.55-1.65 (m, 2Η), 1.81-1 ·95 (m, 2Η), 2.41 (s, 3Η), 2.78 (s, 2H), 2.86 (s, 3H), 4.70-4.79 (m, 2H), 7.26 {d, 2 H), 7.69 (d, 2H) T21 d χΓ ο^Α^ο Ημ/~("Η δ ppm 1.60 (q, 2H)T 1.83-1 ,S1 (m, 2H), 2.78 (s, 2H), 2.85 (s, 3H), 3.87 (s, 3H), 4.75 (dd, 2H}, 6.92-7.01 (m, 2H), 7.69-7.81 (m, 2H) T22 C! -Vn Η**>)(·>Ή 0 δ ppm 1.61 {q, 2H), 1.87 (ddd, 2H), 2.79 (s, 2H), 2.86 {s, 3H), 4.76 (dd, 2H), 7.39-7.49 (m, 2H), 7.70-7.76 (m, 2H) T23 CI νΛ^Ν Η'7~(…Η δ ppm 1.32 (t, 3H), 1,61 (q, 2H), 1.83-1,92 (m, 2H), 2.79 (s, 2H)t 3.41 (q, 2H), 4J3-4.79 (m, 2H), 7.39-7.47 (m, 2H), 7.71-7.80 (m,2H)

146 200918540

T24 Cl d Η'7~~ν"Η δ ppm 1.55-1.76 (m, 6H), 1.94-2.05 (m, 1H) 2.71 {d, 1H), 2.86 (m, 4H), 4.68 (d, 2H), 7.43 (d, 2H), 7 J3 (d, 2H) T25 Cl s-P Η11)~(UH 5 ppm 1.32 (t, 3H), 1.56-1.75 {m, 6H), 1.94-2.06 (m, 1H) 2.70 (df 1H), 2.87 (d, 1H), 3.41 (qd, 2H), 4.68 (df 2H), 7.43 (d, 2H), 7.74 (d, 2H) T26 Cl Η ιιΛ——^*u h δ ppm 1.61 (s, 6H), 1.71-1.85 (m,4H), 2.79 (s, br, 2H), 2.83 (s, 3H), 7.39-7.47 (m, 2H), 7.70-7.79 (m, 2H) T27 Cl d s~/ \^ΛγΝ _ |少__.........L· 11^ δ ppm 1.33 (t, 3H), 1.61 (s, 6H), 1.72-1.80 (m, 4H), 2,79 (s, br, 2H), 3.35-3.46 (m, 2H), 7.39-7.47 (m, 2H), 7.70-7.78 (m, 2H) 147 200918540

T28 .8r δ ppm 161 {q, 2Η), 1.83-1.94 (m, 2H)r 2.79 {s, 2H), 2.86 {s, 3H}, 4.75 (dd, 2H), 7.56-7.62 (ms 2H)r 7.63-7.71 (m, 2H) T29 Br d s-/ vX)n H tr«V«r·..!»/><« H Θ 5 ppm 1.32 (t, 3H), 1.56-1.66 (m, 2H), 1.83-1.94 (m, 2H), 2.79 (s, 2H), 3.41 {q, 2H), 4.75 {dd, 2H), 7.57-7.64 {m, 2H), 7.65-7 J2 (m, 2H) T30 Cl O / Ύ Η·1)—(-Ή δ ppm 1,58-1.67 (mt 2H), 1,84-1,92 (m, 2H), 2.80 (s, br, 2H), 2,88 (s, 3H), 4.72-4.79 (m, 2H), 7,41-7.47 (m, 1H), 8.04(dd,1H), 8.81 (d, 2H) T31 Cl Λ於 Η*，)~(，丨 Η θ δ ppm 1.58-1.65 (m, 2H), 1.85-1.91 (m, 2H), 2.80 (s, br, 2H), 2.86 (s, 3H), 4.75 (dd, 2H), 7.53 (d, 1 H), 7.62 (del, 1H), 7.87 {d, 1H) 148 200918540

149 200918540 T36 Br 0 jS~( F Hy~ δ ppm 1.56-165 (m, 2H), 1.84-1.92 (m, 2H), 2.80 (s, 2H), 2.88 (s, 3H), 4.71-4.80 (m, 2H), 7.41 (dd, 1H)f 7.44 (d, 1H), 7.81 (dd, 1H) T37 Cl δ ppm 1.56-1.64 (m, 2H), 1.83-1.90 s 、 (m, 2H), 2.77 (s, 2H), 2.82 (st 3H), —v"H X〇y 4.71-4.75 (m, 2H), 6.91 {d, 1H), 7.20 (d,1H) T38 一/r δ ppm 1.59-1.63 (m, 2H), 1.83-1.90 0 (m, 2H), 2.80 (s(br), 2H), 2.86 (s, 3H), )~H P% 4.75 (dd, 2H), 7.84 (d, 1H), 7.94 (dd, 〇^y^〇 H*7~("H Θ 1H), 8.66 (d,1H) T39 Br f% δ ppm 1.57-1.62 (m, 2H), 1.85-1.88 jH ^YN (m, 2H), 2.52 (s, 3H), 2.78 (s(br), 2H), 2.88 (s, 3H), 4.74 (dd, 2H)t 7.42 (dd, O^K^O Θ 1H), 7.46 (d, 1H), 7.48 (d, 1H) 150 200918540 T40 Cl 0 H (丨“ |μ| w δ ppm 1,27 (i, 3H), 1.54-1.63 {mf 2H), 182-1.90 (m, 2H), 2.75 (s, 2H), 3.35 (q, 2H), 4.69-4,76 (m, 2H), 5.25 (s, 2H), 6.87-6.94 (m, 2H), 7.23-7.30 (m, 2H) T41 F 0-/ Hy~七 H δ ppm 1.58-1.65 (m, 2H), 1.85-1.91 (m, 2H), 2.79 (s, 2H)r 2.86 (s, 3H), 4.73-4.76 (m, 2H), 6.58 (t, 1H), 7,18-7.24 (m, 2H), 7.77-7.83 (m, 2H) T42 F 0--{ d F H**y—v,fH w δ ppm 1.31 (t, 3H), 1.57-1.65 (m, 2H), 1.83-1.91 (mt 2H)f 2.78 (s, 2H), 3.39 (q, 2H), 4.67-4.78 (m, 2H), 6.57 (t, 1H), 7.18-7.21 (η% 2H), 7,78-7.80 (m， 2H) 151 200918540

T43 T44 T45

Br

Cl

Cl δ ppm 1.32 (t, 3H), 1,58-1.63 (m, 2H), 1.84-1.90 (mf 2H), 2J9 (s(br)f 2H), 3.40 (q, 2H), 4.74 (dd, 2H), 7.84 (d, 1H), 7.93 (dd, 1H), 8.65 (d, 1H} δ ppm 1.40-1.53 (m, 3H), 1.58-1.64 {m, 2H), 1.72-1.82 (m, 2H), 2.11 (s, 3H)r 2.62-2.71 (m, 2H), 3.54-3.64 (m, 2H), 4.53-4.63 (m, 2H), 7.02-7.04 (m, 1H), 7.09-7.18 (mt 1H) 5 ppm 1.32 (t, 3H), 1.58-1,66 (m, 2H), 1.84-1.92 (m, 2H), 2.80 (s (br), 2H), 3.41 (qf 2H), 4.72-4.77 (m, 2H), 7.54 (d, 1H)f T.63 (dd( 1H), 7,88 (d, 1H) 152 200918540 T46 C! d H=\ H'4~ w δ ppm 1.55 (mt 2H)，1.65 (m, 2H), 2.20 (s, 3H), 2.78 (s, 2H), 4.5 (s, 2H), 7.50 (d, 2 H), 7,90 (dr 2H) T47 :多 \^γΝ 〇^yfi〇 Hl,v—Vf,H w δ ppm 1.34 (t, 3H), 1.56-1.66 (m, 2H), 1.82-1.95 (m, 2H), 2.79 (s (br), 2H), 3.44 (q, 2H), 4.74-4.84 (m, 2H), 7.60 (d,1H), 7.71 (d, 1H) T48 s~—· H'4~~^"H γο*7 δ ppm 1.61 (q, 2H)t 1.84-1.91 (m, 2H), 2.53 (s, 3H), 2.78 (δ, 2H), 2.86 (s, 3H), 4 JO-4.79 (m, 2H), 7.26-7.34 (m, 2H), 7.65-7.75 (m, 2H) T49 9、 S^ H * * »V~"·—^ it w δ ppm 1.58-1.67 (m, 2H), 1.82-192 {m, 2H), 2.78 ($, 3H), 2.81 (s, 2H), 2.88 (s, 3H), 4.72-4.80 (m, 2H), 7.71-7.78 (m, 2H), 7.90-7.99 (m, 2H) 153 200918540

T50 Hh7~^丨 H 6 ppm 1.31 (t, 3H), 1.61 (q, 2H), 1.83-1.96 {m, 2H), 2,53 (s, 3H), 2.78 (s, 2H), 3.41 (q, 2H), 4.72-4.79 {m, 2H), 7.25-7.34 (m, 2H), 7.68-7.76 (m, 2H) T51 —(…H δ ppm 133 (d, 6H), 1.63-1.67 (m, 2H), 1.88-1.94 (m, 2H), 2.83 (s(br), 2H), 2.90 {st 3H), 3.01 (sept, 1H), 4.79 (dd, 2H), 7.3S (d, 2H), 7.77 {d, 2H) T52 p 0-{ H'4~ w 5 ppm 1.56-1.65 (m, 2H), 1.83-1.93 (m, 2H), 2.78 (s (br), 2H), 2.89 (st 3H), 4.70-4.78 (m, 2H), 6.58 (t, 1H), 7.17 (dd, 1H), 7.32 (d, 1H), 7.88 (d, 1H) 154 200918540 T53 Hy~ν**Η w 6 ppm 1.55-1.67 (m, 2 H), 1.84-1.87 (m, 2H), 2.68 (s, 3H), 2,78 (s, 2H), 4.81-4.90 (m, 2H), 7.51-7.63 (m, 2H), 8.17-8.31 (m, 2H), 8.54 (s, 1H) T54 F δ ppm 1.55-1.65 (m，2H), 1.83^1.92 /°-< (m, 2H), 2.79 (s, 2H), 2.86 (s, 3H), ~~("H 0 4.71-4.78 (m, 2H), 6.58 (t, 1H), 6.97- 7.09 (m, 2H), 7.92 (d, 1H) T55 δ ppm 1.55-1.65 (m, 2H), 1.79-1.91 XJ (m, 2H), 2.52 (s, 3H), 2.67 (s, 3H), 2.74 (s, 2H), 4.78-4.83 (mf 2H), 8.28 HyVirH w (s, 1 H) T56 5 ppm 1,56-1.67 (m, 2H), 1.80-1.94 Λη (m, 2H), 2.25 (s, 3H), 2.82 (s, 2H), 4.72-4.83 (m, 2H), 6.98 (s, 1H), 7J9 (st 1H) 155 200918540 Τ57 A w (CD3OD) δ ppm 1.65-1.72 (m, 2Η), 1.80-1.88 (m, 2Η), 2.36 (d, 3H), 2.49 (d, 3H), 2.69 (s, 3H), 2.98 (d, 2H), 4.59-4.65 (m, 2H), 7.60 (s, 1H) Τ58 ?Λ δ ppm 1,52-1.70 (m, 2H), 1.81-1.91 (m, 2H), 2.01 (s, 3H), 2.25 (s, 3H), Η*γ—ν^Η W 2.81 (s, 2H), 4.68-4.72 (m, 2H) 實施例8 壤丙烧竣酸-4-f2-(4-氣基-苯基）-5-乙基-0塞口坐-4-基1 -5乳基_ 10-氣雜-三環「5.2.1.0*2.6*1癸-3-烯-3-基酯之製備

對4-[2-(4-氯基-苯基）-5-乙基-11塞哇-4 -基]-10 -乳雜-二 環[5·2·1.0*2.6*]癸烷-3，5-二酮（100毫克，0·18毫莫耳）在 156 200918540 DCM(5毫升）和三乙胺（14〇微升，1毫莫耳）中之溶液，於 室溫之下加入環丙烷羰基氯化物（91微升’丨毫莫耳）。在 室溫之下攪拌反應混合物隔夜。將矽膠加入粗反應混合 =，在減壓之下蒸發溶劑，殘留物於矽膠上經急驟層析法 =化，製得環丙烷羧酸_4_[2_(4_氯基_苯基）_5_乙基_噻唑_4_ 基]_5_氧基-1()_氧雜·三環[5.21 G*2 6*]癸_ _3•基〇2 宅克）。 以下於矣 p 1 . 適^ 、 中之額外化合物係藉類似方法及使用合 過起始材料加以製備。 在質子 NMR 土 λ» κ nm M m 先中觀察到多於一種互變異構物或旋 符攝象異構物者， 之現人物 厅不數據係為異構物和構象異構物

iHNMR (CDC13，除非指示） 或其他物理數據 δ ppm 1.30 (s, 9H), 1.62-171 (m, 2H)t 1.85-196 (m, 2H), 2.37 (s, 3H), 2.81 (d, 1H), 3.56 (d,1H), 4.57 (d,1H}f 479 (d, 1H), 7.08 (sa 1H)f 7.33-7.38 (mt 2H)( 7.44 - 7.52 (m, 2H) 157 200918540 P2 Cl xP h<M，h 0 δ ppm 1.26 (dr 3H), 1.30 (d. 3H), 1.56-1 J3 (m,2H),1.83-1.99 (m, 2H), 2.37 (st 3H), 2.67-2.80 (m, 1H),2.80 (d, 1H),3.59 (d, 1H),4.59(Ci, 1H),4.79(d,1H), 7.10 (s, 1H), 7.35 (d, 2H), 7.49 (d, 2H) P3 Cl W δ ppm 1.20(s, 9H),1.30{tt p 3H), 1.56-1 朋（m,2H), 1.81- 1.94 (m,2H), 2.74-2.80 (m, 3H), 3.50 (d, 1H),4,57 (d, h4~~("H 1Η),4.77(€ΐ, 1H), 7.36 (d, 2H)( 7.80 (d, 2H) P4 C' δ ppm 0.90-0.96 (m, 2H), 0 1.04-1.09 (m,2H}f 1.3(t,3H), 1.57-1.68 (m, 2H), 1.69-1.77 0¾^¾^ (m, 1H), 1.80-1.94 (m, 2H), 2.74-2.80 (m, 3H), 3.48 (d, HuT~\nH 1H), 4.64 (d, 1H)?4.76{d, 1H),7.37(d，2H)，7.83(cUH)

158 200918540 P5 w8r jS~{ 。奋r δ ppm 1.57-1.63 (m, 2H), 1.80-1.94 (m, 2H), 2.21 (s, 3H), 2.41 (s, 3H), 2,76 (d, 1H), 3.46 (d, 1H), 4.62 (d, 1H),4.76 (d, 1H),7.86 (dd, 1H), 7.98 (d, 1H), 8.60 (d, 1H) P6 wBr δ ppm 0.90-0.98 (m, 2H), P~{ Λν , 104-1.09 {m, 2H), 1.57-1.68 (m, 2H), 1.69-177 (m, 1H), 1.8CM.94 (m, 2H), 2.41 (s, ογγ-ο 3H), 2.76 (d, 1H), 3.52 (d, Η，ΖδΛ，Η 〇 1H), 4.63 (d,1H), 4.76 (d, 1H)，7.86 (dd, 1H), 8.03 (d, 1H), 8.60 (d,1H) P7 βΓ δ ppm 1.19 (s, 9H), 1.57-1.68 (m, 2H), 1.80-1.94 (m,2H), 2.4f (s, 3H), 2.52 (sr 3H), 2.77(cJ, 1H),3.49(d, 1H>, °Υτ°ν^< β 〇 4.55 (d, 1H),4.77(d, 1H), 7.35{dd,1H), 7.41 (d, 1H), 7.56 (d, 1H) 159 200918540 P8 ,Br 去rCT δ ppm 1.33 (t, 3H), 1.60-1.70 (m，2H), 1.84-1.95 (m,2H), 2.36 (s, 3H), 2.82-2.87 (mt 3H), 3.62 (d，iH>, 4.70 (d, 1H),4.81 (d, 1H), 7.27 (d, 1H), 7.35-7.38 (m, 4H)S 7.97 (d, 2H) P9 F 0-( 〇YY°yi H'-)—(-'Hj * δ ppm 1.20 (s, 9H), 1,59-1.68 (m,2H), 1.77-2.00 (mf 2H)( 2.42 (s, 3H), 2.78 (d, 1H), 3.52 (cUH), 4.57 (d, 1H),4.78(d, 1H), 6.55 (t, 1H), 7.08 (dd, 1H), 7.24 (d, 1H), 8.23 (d, 1H) P10 F 0 F xTF °Yt°v- δ ppm 1.57-1.66 (m, 2H), 1.80-1.93 (m, 2H)t 2.20 (s, 3H), 2.41 (s, 3H), 2.75 (d, 1H)，3.43 (d,1H), 4.62 (d, 1H), 4.76 (d, 1H), 6.55 (t, 1H), 6.97 (m, 2H), 8.17(dr1H) 160 200918540

Pll Xts^ \〇y δ ppm 0.88 (t,3H), 1.19-1.40 {m, 8H), 1.50-1,69 (m, 2H), 1.79-1.96 (m, 2H), 2.12 (s, 3H), 2.44 {i, 2H), 2.51 (s, 3H), 2.74 (d, 1H), 3.40 (df1H), 4.59 (d, 1H),476(d,1H), 8.38 (s, 1H) P12 J δ ppm 1.56-1.66 (m, 2H), 177-1.96 (mt 2H), 2.11 {d, 3H), 2.36 (d, 3H), 2.47 (s, H …)~(“《Η 3H), 2.68 (t, 1H)t2.93(t, 1H), W 3.62 (s，3H), 4.67 (dd, 1H), 4,73(t, 1H),6.86(d，1H} P13 O-N δ ppm 1.49-1.68 (m, 2H)f 1.81-1.96 (m, 2H), 2.14 (s, Η'-)~HH 3H), 2.27 (s, 3H), 2.66 (d, ksd 1H), 2.99 (d,1H),3.90 (s, 3H), 4.63 (d，1H)，4.72 (d,1H) P14 ?-\ δ ppm 1.27 (s, 9H), 1.58-1.65 兮/ (m,2H), 1.80-1.93 (m, 2H), 2.14 (s, 3H),2.26(s, 3H), Ηι^·~^ηη 6 【 2.75 (d,1H), 3.54 (d, 1H), 4.48 (d,1H)t 4.71 (d,1H) 161 200918540 . 本發明化合物之特定實例包括表1至360詳述之該等 化合物。 表1 : 下表涵蓋272個結構型態T-1化合物：

其中 X 為 S，Z 為 C-H，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7 和R8為氫： 化合物編號 R25 R26 1.001 CH, Η 1.002 CH, Cl 1.003 CH, Br 1.004 CH, CH, 1.005 CH, CH,CH, 1.006 CH, (CH,)9CH 1.007 CH, (CH,),C 1.008 ch,ch7 H 1.009 CH,CH, Cl 162 200918540 1.010 ch,ch7 Br 1.011 ch,ch9 CH, 1.012 ch,ch7 CH3CH, 1.013 ch,ch9 (CH,),CH 1.014 ch,ch9 (cn,\c 1.015 CH, 苯基 1.016 CH, 2-氟苯基 1.017 CH, 3-氟苯基 1.018 CH, 4-氟苯基 1.019 CH, 2-氯苯基 1.020 CH, 3-氯苯基 1.021 CH, 4-氣苯基 1.022 CH, 2-溴苯基 1.023 CH, 3-溴苯基 1.024 CH, 4-溴苯基 1.025 CH, 2-埃苯基 1.026 CH, 3-蛾苯基 1.027 CH, 4-碘苯基 1.028 CH, 2-甲基苯基 1.029 CH, 3-曱基苯基 1.030 CH, 4-甲基苯基 1.031 CH, 2-氰基苯基 1.032 CH, 3-氧基苯基 1.033 CH, 4-氰基苯基 | 163 200918540 1.034 CH, 2-曱氧基苯基 1.035 CH, 3-曱氧基苯基 1.036 CH, 4-曱氧基苯基 1.037 CH, 2-三氟甲基苯基 1.038 CH, 3-三氟甲基苯基 1.039 CH, 4-三氟曱基苯基 1.040 CH, 4-三氟甲氧基苯基 1.041 CH, 4-二氟甲氧基苯基 1.042 CH, 4-甲基硫苯基 1.043 CH, 4-甲基亞磺醯基苯基 1.044 CH, 4-曱基石黃醯基苯基 1.045 CH, 4-三氟甲基硫苯基 1.046 CH, 4-三氟曱基亞磺醯基苯基 1.047 CH, 4-三氟甲基磺醯基苯基 1.048 CH, 2,3-二氟苯基 1.049 CH, 2,3-二氟苯基 1.050 CH, 2,4-二氟苯基 1.051 CH, 2,5-二氟苯基 1.052 CH, 2,6-二氣苯基 1.053 CH? 3,4-二氣苯基 1.054 CH, 3,5-二氯苯基 1.055 CH, 2,4-二氯苯基 1.056 CH, 2,5-二亂笨基 1.057 CH, 2,6-二氯苯基 164 200918540 1.058 CH, 3,4-二氯苯基 1.059 CH, 3,5-二氣苯基 1.060 CH, 2,3,4-三氯苯基 1.061 CH, 2,3,5-三氣苯基 1.062 CH, 2,3,6-三氯苯基 1.063 CH, 2,4,5-三氯苯基 1.064 CH, 2,4,6-三氯苯基 1.065 CH, 3,4,5-三氯苯基 1.066 CH, 4-漠-2-氟苯基 1.067 CH, 4-漠-3-氟苯基 1.068 CH, 4-溴-2-氟苯基 1.069 CH, 4-、/臭-3-氣苯基 1.070 CH, 4-溴-2-氰基苯基 1.071 CH, 4->臭-3-鼠基苯基 1.072 CH, 4-溴-2-甲氧基苯基 1.073 CH, 4-溴-3-甲氧基苯基 1.074 CH, 4-漠-2-曱基苯基 1.075 CH, 4-漠-3-甲基苯基 1.076 CH, 4-氣-2-亂基苯基 1.077 CH, 4-氯-3-氣基苯基 1.078 CH, 4_氣-2-氣苯基 1.079 CH, 4-氣-3-氟苯基 1.080 CH, 4-氯-2-曱氧基苯基 1.081 CH, 4-氯-3-甲氧基苯基 165 200918540 1.082 CH, 4-氣-2-甲基苯基 1.083 CH, 4-氯-3-甲基苯基 1.084 CH, 4-氯-2-三氟甲基苯基 1.085 CH, 4-氯-3-三氟甲基苯基 1.086 CH, 2-氯-4-甲氧基苯基 1.087 CH, 3-氯-4-甲氧基苯基 1.088 CH, 2-氣-4-甲基苯基 1.089 CH, 3-氯-4-甲基苯基 1.090 CH, 4-氣-2-氯苯基 1.091 CH, 4-氣-3-氯苯基 1.092 CH, 4-氟-2-甲基苯基 1.093 CH, 4-氟-3-甲基苯基 1.094 CH, 4-氟-2-二氟甲基苯基 1.095 CH, 4-氟-3-三氟甲基苯基 1.096 CH, 2-氟-4-甲氧基苯基 1.097 CH, 3-氟-4-甲氧基苯基 1.098 CH, 2-氟-4-甲基苯基 1.099 CH, 2-氟-4-曱基苯基 1.100 CH, 2-氟-4-二氟甲基苯基 1.101 CH, 3-氟-4-二1甲基苯基 1.102 CH, 2-〇比σ定基 1.103 CH, 3-σ比°定基 1.104 CH, 4-°比咬基 1.105 CH, 定-2-基 | 166 200918540 1.106 CH, 4-氯°比°定-2-基 1.107 CH, 5 -亂°比σ定-2-基 1.108 CH, 6-亂°比唆-2-基 1.109 CH, 2·鼠吼。定-3 -基 1.110 CH, 4-氣ϋ比°定-3 -基 1.111 CH, 2-乳°比°定-4-基 1.112 CH, 3-鼠°比°定-4-基 1.113 CH, 2-氯°比°定-5-基 1.114 CH, 3-氯吼啶-5-基 1.115 CH, 3-曱基吡啶-2-基 1.116 CH, 4-甲基吡啶-2-基 1.117 CH, 5-甲基吡啶-2-基 1.118 CH, 6-甲基吡啶-2-基 1.119 CH, 2-曱基11比σ定-3 -基 1.120 CH, 4-甲基吡啶-3-基 1.121 CH, 2-甲基。比咬-4-基 1.122 CH, 3-甲基吡啶-4-基 1.123 CH, 2-曱基吡啶-5-基 1.124 CH, 3-甲基吡啶-5-基 1.125 CH, 2-二氣甲基°比°定-5·基 1.126 CH, 3-三氟甲基吼啶-5-基 1.127 CH, 2,6-二氣。比^定-5-基 1.128 CH, 2-氣-4-甲基ϋ比咬-5-基 1.129 CH, 6-氯-2-曱基吡啶-3-基 167 200918540 1.130 CH, 3,4-亞甲基二氧基苯基 1.131 CH, 苯並[1，3]二氧雜環戊烯-5-基 1.132 CH, 2,3-二氫苯並[1，4]戴奥辛-6-基 1.133 CH, 4-氣°比唾-1-基 1.134 CH, 2-噻吩基 1.135 CH, 5-氣塞吩-2-基 1.136 CH, 5 - >臭-σ塞吩-2-基 1.137 CH, 3-噻吩基 1.138 CH, 5-氣-α塞吩-3-基 1.139 CH, 5-溴-σ塞吩-3-基 1.140 CH, 5-氯-噻唑基 1.141 CH, 5->臭-。塞。坐基 1.142 CH, 2-氯-噻唑基 1.143 CH, 2-溴-噻唑基 1.144 CH, CH, 苯基 1.145 CH, CH7 2-氟苯基 1.146 CH, CH? 3-氣苯基 1.147 CH, CH? 4-氟苯基 1.148 CH, CH? 2-氯苯基 1.149 CH, CH7 3-氣苯基 1.150 CH, CH9 4-氯苯基 1.151 CH, CH? 2-溴苯基 1.152 CH, CH, 3-溴苯基 1.153 ch3 ch7 4->臭苯基 200918540 1.154 CH, CH, 2_蛾苯基 1.155 CH, CH? 3-碘苯基 1.156 CH, CH? 4-碘苯基 1.157 CH, CH, 2-曱基苯基 1.158 CH, CH, 3-甲基苯基 1.159 CH, CH? 4-曱基苯基 1.160 CH, CH, 2-亂基苯基 1.161 CH, CH9 3-氣基苯基 1.162 CH, CH, 4-氰基苯基 1.163 CH, CH, 2-甲氧基苯基 1.164 CH, CH, 3-曱氧基苯基 1.165 CH, CH, 4-甲氧基苯基 1.166 CH, CH, 2-二氟曱基苯基 1.167 CH, CH7 3-三氟曱基苯基 1.168 CH, CH? 4-三氟曱基苯基 1.169 CH, CH7 4-三氟甲氧基苯基 1.170 CH, CH, 4-二氟甲氧基苯基 1.171 CH, CH? 4-曱基硫苯基 1.172 CH, CH, 4-甲基亞磺醯基苯基 1.173 CH, CH? 4-甲基磺醯基苯基 1.174 CH, CH, 4-三氟甲基硫苯基 1.175 CH, CH, 4-三氟曱基亞磺醯基苯基 1.176 CH, CH, 4-三氟甲基磺醯基苯基 1.177 CH, CH, 2,3-二氟苯基 169 200918540 1.178 CH, CH, 2,3-二氟苯基 1.179 CH, CH, 2,4-二氟苯基 1.180 CH, CH? 2,5-二氟苯基 1.181 CH, CH, 2,6-二氟苯基 1.182 CH, CH, 3,4-二氟苯基 1.183 CH, CH, 3,5-二氯苯基 1.184 CH, CH, 2,4-二氯苯基 1.185 CH, CH, 2,5-二氯苯基 1.186 CH, CH? 2,6-二氯苯基 1.187 CH, CH, 3,4-二氣苯基 1.188 CH, CH7 3,5-二氯苯基 1.189 CH, CH, 2,3,4-三氯苯基 1.190 CH, CH? 2,3,5-三氣苯基 1.191 CH, CH? 2,3,6-三氯苯基 1.192 CH, CH7 2,4,5-三氯苯基 1.193 CH, CH7 2,4,6-三氯苯基 1.194 CH, CH, 3,4,5-三氯苯基 1.195 CH, CH, 4- >臭-2-氟苯基 1.196 CH, CH7 4->臭-3-氟苯基 1.197 CH, CH? 4->臭-2-氣苯基 1.198 CH, CH, 4->臭-3-氣苯基 1.199 CH, CH, 4->臭-2-氮基苯基 1.200 CH, CH, 4- >臭-3 -氛基苯基 1.201 CH, CH? 4->臭-2-甲氧基苯基 170 200918540 1.202 CH, CH, 4->臭-3-曱氧基苯基 1.203 CH, CH, 4-漠-2-甲基苯基 1.204 CH, CH7 4->臭-3-甲基苯基 1.205 CH, CH7 4-氯-2-亂基苯基 1.206 CH, CH, 4-氯-3-氰基苯基 1.207 CH, CH? 4-氮-2-亂苯基 1.208 CH, CH? 4-氣-3-氣苯基 1.209 CH, CH, 4-氣-2-甲氧基苯基 1.210 CH, CH, 4-氯-3-甲氧基苯基 1.211 CH, CH, 4-氯-2-甲基苯基 1.212 CH, CH, 4-氯-3-曱基苯基 1.213 CH, CH, 4-氯-2-三氟甲基苯基 1.214 CH, CH? 4-氣-3-三氟甲基苯基 1.215 CH, CH, 2-氯-4-曱氧基苯基 1.216 CH, CH? 3-氯-4-甲氧基苯基 1.217 CH, CH7 2-氯-4-甲基苯基 1.218 CH, CH, 3-鼠-4-甲基苯基 1.219 CH, CH, 4-亂-2-氮苯基 1.220 CH, CH, 4-亂-3-氯苯基 1.221 CH, CH? 4-敗-2-甲基苯基 1.222 CH, CH? 4-氟-3-甲基苯基 1.223 CH, CH, 4-氟-2-二氟甲基苯基 1.224 CH, CH, 4-氟-3-三氟甲基苯基 1.225 ch3 ch2 2-氟-4-甲氧基苯基 171 200918540 1.226 CH, CH, 3-氣-4-曱乳基苯基 1.227 CH, CH? 2-氣-4-曱基苯基 1.228 CH, CH, 2-氣-4-曱基苯基 1.229 CH, CU7 2-氟-4-三氟甲基苯基 1.230 CH, CH? 3-敦-4-三氟甲基苯基 1.231 CH, CH, 2-°比°定基 1.232 CH, CH? 3-吡啶基 1.233 CH, CH, 4-0比。定基 1.234 CH, CH, 3 -鼠°比淀-2-基 1.235 CH, CH, 4-氯吡啶-2-基 1.236 CH, CH? 5-氣0比。定-2-基 1.237 CH, CH, 6- 基 1.238 CH, CH, 2-氣吡啶-3-基 1.239 CH, CH, 4-氣。比0定-3-基 1.240 CH, CH, 2-氣。比啶-4-基 1.241 CH, CH9 3-氯σ比10定-4-基 1.242 CH, CH, 2-氯吼啶-5-基 1.243 CH, CH, 3-氣°比。定-5-基 1.244 CH, CH? 3-甲基。比。定-2-基 1.245 CH, CH? 4-甲基吡啶-2-基 1.246 CH, CH, 5-甲基°比〇定-2·基 1.247 CH, CH7 6-曱基吡啶-2-基 1.248 CH, CH9 2-甲基吡啶-3-基 1.249 CH, CH7 4-甲基吡啶-3-基 172 200918540 1.250 CH, CH, 2-甲基吡啶-4-基 1.251 CH, CH, 3-甲基吡啶-4-基 1.252 CH, CH, 2-甲基吡啶-5-基 1.253 CH, CH? 3-甲基吡啶-5-基 1.254 CH, CH? 2-二氣曱基°比。定-5-基 1.255 CH, CH2 3-二氣曱基^比咬^-基 1.256 CH, CH? 2 ’ 6·二氣ϋ比σ定-5-基 1.257 CH, CH7 2-氯-4-甲基。比咬-5_基 1.258 CH, CH? 6-氮-2-曱基。比。定-3-基 1.259 CH, CH, 3,4-亞甲基二氧基苯基 1.260 CH, CH, 苯並[1，3]二氧雜環戊烯-5-基 1.261 CH, CH, 2,3-二氫苯並[1,4]戴奥辛-6-基 1.262 CH, CH, 4-氣β比峻-1-基 1.263 CH, CH, 2_σ塞吩基 1.264 CH, CH, 5-氣-α塞吩-2-基 1.265 CH, CH, 5-溴-噻吩-2-基 1.266 CH, CH, 3-噻吩基 1.267 CH, CH, 5-氯-噻吩-3-基 1.268 CH, CH? 5 -邊-。塞吩-3 -基 1.269 CH, CH? 5-氯-噻唑基 1.270 CH, CH? 5-漠-D塞11 坐基 1.271 CH, CH? 2-氯-D塞唾基 1.272 CH, CH, 2-、/臭-σ塞σ坐基 173 200918540 表2 : 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X為S > Z 為 C-H，R7 為ch3 ，R1 ，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫 且 R 25及R26為如表： 1中所定義者。 表 3 ; 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X為S ? Z 為 C-H，R7 為CH 2ch2 丨，R1，R2，R3，R4， R5， R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表1中所定義者。 表 4 • 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X為S Z 為 C-H，R7 為ί哀丙 基， R1，R2，R3，R4，R 5 , R 6和R8 為 氫 ? 且R25及 R26為如表 1中所定義者。 表 5 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X為S > Z 為 C-H，R7 為 ch2< 3CH 3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表1中所定義者。 表 6 * 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X為S > Z 為 C-H，R 7為CH [2OCH2CH3，R1，R2，R3 5 R4 ，R5， R6 和 R 8為氫，且R25及 R26 為如表1中所定義者。 表 7 • 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X為S > Z 為 C-H，R7 為ch2 ch2> 0 CH3，R1，R2，R3 R4 ，R5， R6 和 R 8為氫，且R25及 R26 為如表1中所定義者。 174 200918540 表8 : 此表 涵蓋 272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為S 5 Z 為 C-H ，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6 和 R8 為 氫 且R 25及 R26為如表1中所定義者。 表 9 ; 此表 涵蓋 272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為S J Z 為 C-H ，R7 為 O CH2CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表1中所定義者。 表 10 ： 此表 涵蓋 2 72個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為S Z 為 C-H ，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R 5 , R1 6和R8 為 氫 且R: 25及 R26為如表1中所定義者。 表 1 . 1 ： 此表 涵蓋 2 72個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為S 5 Z 為 C-H ，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5， -R .7 , 1和R8 為 氫 5 且R: 25及 R26為如表1中所定義者。 表 12 ： 此表 涵蓋 272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為S 5 Z 為 C-H ，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5 5 R?，和 R8 為 氫 ，且 R25 . 及R26為如表1中所定義者。 表 13 ： 此表 涵蓋 272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為S 5 Z 為 C-H ，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4 R5 ，R7， 和 R8 為 氫， 且R25及R26為如表1中所定義者。 175 200918540 表14 : 此表涵蓋 272個 T-1 型 態結構之化合物， 其 中 X 為S 5 Z 為 C-H，R6 為 CH20 CH [2CH3，R1，R2，R3， R R5 ，R， Γ 和 R 8為氫，且R25及 R26 為 如表1中所定義者。 表 15 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型 態結構之化合物， 其 中 X 為S Z 為 C-H，R6 為ch2 CH2OCH3，Ri，R2，R3， R/ R5 ，R7 和 R 8為氫，且R25及 R26 為 如表1中所定義者。 表 16 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型 態結構之化合物， 其 中 X 為S Z 為 C-CH3， R1，R2 ，R3 R4，R5，R6，R7， 和 R 8為氮1 0 表 17 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型 態結構之化合物， 其 中 X 為S 5 Z 為 c- ch3 ，R7為 ch3 ， R1，R2，R3，R4， R 5 , R( >和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表 1中所定義者。 表 18 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型 態結構之化合物， 其 中 X 為S 5 Z 為 C-CH3 ’ : R7 為 CH2CH3 ，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表 1中所定義者。 表 19 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型 態結構之化合物， 其 中 X 為S 5 Z 為 C-CH3， R7為環 丙基 5 R1，R2，R3，R4， R5， R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表 1中所定義者。 表 20 ： 176 200918540 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表21 : 此表涵蓋 272 個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 S， Z 為 C-CH3， R7為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R 3， R' 1 , R5 ，R( 和 R 8為氫，且R25 及 R26為如表1中所定義者。 表 22 ： 此表涵蓋 272 個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 S， Z 為 C-CH3， R7為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R 3， R4 丨， R5 ， 和 R 8為氫，且R25 及 R26為如表1中所定義者。 表 23 ： 此表涵蓋 272 個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 S， Z 為 C-CH3， R7為 OCH3，R1，R2，R3，R4， R 5 , R 6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為 f如表1中所定義者。 表 24 ： 此表涵蓋 272 個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 S， Z 為 C-CH3， R7為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R 6和 R8 為 氫，且R25及 R26為如表1中所定義者。 表 2f 此表涵蓋 272 . 個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 s， Z 為 C-CH3， R7及 R 2 為 CH3，R1，R3，R4， R 5， R1 5和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為 1如表1中所定義者。 表 26 ： 177 200918540 . 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表27 : 此表涵 蓋 272 個 T-1型態結 構之化合物 ，其 中 X 為 S’ Z 為 c-ch3 ，R6為 CH2CH3，R1 ，R2，R3，R 4 , R5 R7 ，和 R8 為 氫，且 R: ”及 R26為如表1 中所定義者。 表 28 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1型態結構之化合物' ，其 中 X 為 S， Z 為 c-ch3 ，R6為 CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 5 R5 R7， 和 R 8為氫， 且 R25 及 R26為如表 1中所定義者。 表 29 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1型態結構之化合物. ，其 中 X 為 S， Z 為 c-ch3 ，R 6為 CH ：2〇CH2CH3 ，Rl，R2，R3 ，R 4 , R* 5 , R7， 和 R 8為氫， 且 R25 及 R26為如表 1中所定義者。 表 30 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1型態結構之化合物: '其 中 X 為 S， Z 為 c-ch3， ，R6為 CH ：2CH2OCH3 ，Ri，R2，R3 ，R 4 , R1 R7， 和 R 8為鼠5 且 R25 及 R26為如表 1中所定義者。 表 3 ] 此表涵 蓋 272 個 T-1型態結構之化合物， '其 中 X 為 S， Z 為 c-ch2 CH3 > R1 ，R2 , R3， R4，R5，R6， 'R1 ，， 和 R8為 氫 0 表 32 ： 178 200918540 . 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH3，Ri，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表33 : ' 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， - Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH3，Ri，R2，R3，R4，r5，r6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表34 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C_CH2CH3，R7 為環丙基，Ri，R2，R3，R4 , r5，r6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表35 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2OCH3，Ri，R2，R3，R4 , R5 , R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表36 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表37 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH20 CH3，Ri，R2，R3，R4，R5 , R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表38 : 179 200918540 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表39 : ' 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 表40 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表41 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 42 ·· 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2CH3，Ri，R2，R3，R4，R5 , R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表43 : 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2OCH3，Ri，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表44 : 180 200918540 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R7，和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表45 : 此 表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化 合物 ，其中 X 為 S， Z 為 C- -ch2ch 3，R6 為 CH2CH2OCH3，R 1，R: !，R3， R4 R5， R7 和 R8為氫，且R 25及R26為如表1 中所 定義者。 表 46 ： 此 表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化 合物 ，其中 X 為 S， Z 為 N ，Rl , R2，R3， R4 ,R5，R6，R7 ，和 R8為. 氤（ > 表 47 ： 此 表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化 合物 ，其中 X 為 S， Z 為 N ，R7為 CH3，Ri， R2，R3，R4， R5， R6和： R8 , 為 氫， 且 R 25 及R26為如表1 中所定義者。 表 48 ： 此 表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化 合物 ，其中 X 為 S， Z 為 N ，R7為 ch2ch [3 - R1，R2，R3，] R4，] R5，R 6和 'R8為 氫 且 R25及 R26為如 表 1中所定義者1 0 表 49 ： 此 表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化 合物 ，其中 X 為 S， Z 為 N ，R7為環丙基， R1 ，R2，R3，R4， R5， R6和 R8 為 氫， 且 R 25 及R26為如表1 中所定義者。 表 50 ： 此 表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化 合物 ，其中 X 為 S， 181 200918540 Z 為 N，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表51 :

此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 S 5 Z 為 N， R7為 CH2OCH2j CH3，R〗，R2，R3， R4 R5 ，R6 和 R8 :為 氫 ，且R 25及R26為 如表1中所定義者 〇 表 52 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 S 5 Z 為 N， R7為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且R 25及R26為 如表1中所定義者 〇 表 53 ： 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 S ， Z 為 N， R7為 OCH3， R1 ，R2，R3，R4，R5， R6和 R8 為 氫 且 R25及 R26為如表1 中所定義者。 表 54 ： 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 S Z 為 N， R7為 0 ch2 ,CH; 5 , Rl , R2 , R3 , Κ4 ，R 5 , -R 6和 R8 為 氫 ，且R25及R26為 r如表1中所定義者。 表 55 ： 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 S 5 Z 為 N， R7及 R2 為 CH3， R1，R3，R4，R5， R6和 R8 為 氫 9 且 R: 25及 R26為如表1 中所定義者。 表 56 ： 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 S J 182 200918540 Z 為 N，R6 為 CH3，Ri，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8 為氳， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表57 : 此表涵 蓋 272 個 T-1 型態 結構之化合物 ，其 中 X 為S， Z 為 N > R' ;為 CH2CH3， R1， R2，R3，R4， R5 ，R7， 和R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1 ' _所定義者。 表 58 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1 型態 結構之化合物 ，其 中 X 為S， Z 為 N，R6 為 CH2OCH3， R1， R2，R3，R4， R5 ，] R.7 ' ，和R8 為 氫 ，且R 25及R26為如表1中所定義者。 表 59 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1 型態 結構之化合物 ，其 中 X 為S， Z 為 N，R* 5為 CH2OCH2 ch3 ，Rl，R2，R3， 'R4 R5 ，R7， 和 R 8為氮’ 且 R25 及 R26 為如 表1中所定義 者。 表 60 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1 型態 結構之化合物 ，其 中 X 為S， Z 為 N，R( 5為 CH2CH2OCH3 ，R1，R2，R3， 'R4 5 R5 ，R7， 和 R 8為氮5 且 R25 及 R26 為如 表1中所定義 者。 表 61 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物： 183 200918540

Rm 其中 X 為 S，Z 為 C-H，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7， 和R8為氫。 表62 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C- Η，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表63 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-H，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表64 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C_H ’ R7 為環丙基，Rl，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表65 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-H，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 184 200918540 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表66 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為S Z 為 C-H ’ R 7為CH 2OCH2CH3，R1，R2，R3 1 ? R4 ，R5， R6 和 R 8為氮 ，且R25及 R26為如表1中所定義者。 表 67 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為S 5 Z 為 C-H， 1 R7 為 CH 2CH2OCH3，R1，R2，R3 R4 > ] R5， R6 和 R 8為氫 ，且R25及 R26為如表1中所定義者。 表 68 ： 此表涵 *蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為S 5 Z 為 C-H， R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6 丨和 R8 為 氫 5 且R25 及 R26為如 f表1中所定義者。 表 69 ： 此表涵 丨蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為S 9 Z 為 C-H， R7 為OCH ，R5， R .6和 R8 為 氫 ，且 R25 , 反R26為 ，如表1中所定義者。 表 70 ： 此表涵 丨蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為S 9 Z 為 C-H， R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R: 5， R6 和 R8 為 氫 5 且R25 及 R26為如 表1中所定義者。 表 71 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-H，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8 為 185 200918540 . 氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表72 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-H，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8 ' 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 : 表 73 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-H，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表74 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C_H，R6 為 CH20 CH2CH3，Ri，R2，R3，R4，r5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表75 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-H，R6 為 CH2 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表76 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，和 R8 為氫。 表77 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 186 200918540 . 表 78 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3 ’ R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 : 表 79 : : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為環丙基，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表80 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表81 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表82 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2CH2〇CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表83 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 187 200918540 表84 : 此表涵 蓋272 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 c-ch3 ，R7為 OCH2CH3，R1，R2，R3， R4 5 R5 ，R6 和 !為 氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者 〇 表 85 ： 此表涵 蓋272 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S Z 為 c-ch3 ，R7及 R2 為 CH3，R1，R3，R4 ，R 5 , R 6和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 86 ： 此表涵. 蓋272 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S Z 為 c-ch3 ，R6為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R7， 丨和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 87 ： 此表涵. 蓋272 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S Z 為 c-ch3， | R6為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R7， 和 R8 為 氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者‘ 3 表 88 ： 此表涵： ί 272 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S ， Z 為 c-ch3 ，R6為 CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 ， R5 ，R7 9 和 R1 3為氫， 且R25 及R26為如表1中所定義: 者。 表 89 ： 此表涵蓋272 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 C-CH3， R6為丨 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R 4 , R5 ，R7 5 和 R! 5為氫， 且R25 及R26為如表1中所定義: 者0 188 200918540 表90 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 S 1 Z 為 C-CH3，R6 為 CH2 CH2OCH3，R1，R2， R3 J R4 R5 > R7 和R8為氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 91 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 S 5 Z 為 C-CH2CH3，R1 ，R2，R3，R4，R5，R6， R7， 和 R8 為 氫 〇 表 92 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 S Z 為 c-ch2ch； s，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 93 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 S 5 Z 為 c-ch2ch 3 ’ R7 , 為 CH2CH3，R1，R2，R3 j R4 R5 ， R6 和 R 8為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 94 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 S 5 Z 為 C-CH2CH3，R7 為環丙基，Ri，R2，R3 5 R4 R5 5 R6 和 R: 8為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 95 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 S 5 Z 為 c-ch2ch3 ，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R: 5 , R4 R5 5 R6 和 R! 3為氳，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 189 200918540 表96 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 ' 表 97 : : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH20 CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表98 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表99 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 100 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 101 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 190 200918540 表 102 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之 化合物 ，其中 X 為 S， Z 為 c-ch2ch 5，R6 為 丨 CH2CH3，R1， R2，R3 ，R4， R5 R7， 和 R 8為氫，且 R25及 R26為如表1中 所定義者。 表 103 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之 化合物: ，其中 X 為 S， Z 為 c-ch2ch; ;，R6 為 CH2OCH3，R1， R2，R3 ，R4， R; 5 , R7， 和 R 8為氫，且 R25及 R26為如表1中 所定義者。 表 104 ： 此表涵盖 272個 T-2型態結構之 化合物: 1其中 X 為 S， Z 為 c-ch2ch： ;，R6 為 CH2OCH2CH3， Ri，R2 ，R3， R4 ^ , R5， R7 和R8為氫 ，且R 25及R26為如表 1中所定義者 〇 表 105 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之 化合物， 1其中 X 為 S， Z 為 c-ch2ch: 丨，R6為 CH2CH2OCH3， Ri , R2 ，R3， R4 R5， R7 和R8為氫 ，且R 25及R26為如表 1中所定義者 0 表 106 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之 化合物， 1其中 X 為 S， Z 為 N，R1，R 2，R3 , R4，R5，R6，R7，和 R8 為氫〔 > 表 107 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之 化合物， 其中 X 為 S， Z 為 N，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5，R6 和 R8 , 為 氫， 且 R 25及R26為 如表1 中所定義者。 表 108 ： 191 200918540 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 N，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 109 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S ， Z 為 N，R7為環丙基 ，R1，R2，R3，R4，R5， R6和 R8 為氫 ， 且 R 25及R26為如表1 中所定義者。 表 1 10 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S j Z 為 N，R7 為 f CH2OCH3，R1，R2，R3，R4 ，R 5 , R丨 3和 R8 為 氳 ，且R25及R26為 ί如表1中所定義者。 表 1 11 ： 此表涵蓋 272個 Τ-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 N，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3， R4 R5 ，R6 和 R8 為 氫，且R 25及R26為如表1中所定義者 〇 表 1 12 ： 此表涵蓋 272個 Τ-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S Z 為 N，R7 為 ch2ch 20 CH3，R1，R2，R3， R4 ? R5 ，R6 和 R8 為 氫，且見 25及R26為如表1中所定義者 〇 表 1 13 ： 此表涵蓋 2 72個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 N，R7 為 OCH3， Rl，R2，R3，R4，R5， R6和 R8 為氫 9 且 R 25及R26為如表1 中所定義者。 表 1 : L4 ： 192 200918540 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S z 為 N，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4 ，R 5 , R' 5和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 1 15 ： 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 z 為 N，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5， R6和 R8 為氫 5 且 R 25及R26為 ，如表1中所定義者。 表 1 16 ： 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 N，R6 為 CH3，Rl，R2，R3，R4，R5，R 7，和 R8 為氫 5 且 R 25及R26為 ，如表1中所定義者。 表 1 ： 17 ： 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 N，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5， R7， 和 R8 為 氳 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 1 : 18 ： 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S 5 Z 為 N，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R7 ，和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 1 : 19 : 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為S ) Z 為 N，R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3， R4 ) R5 ，R7 5 和 R s為氫，且 R25及R26為如表1中所定義 者。 表 120 ： 193 200918540 . 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為S， Z 為 N，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 121 : 此表 涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其中 X 為 0， Z 為 C-H ，R1 ，R2，R3， R4，R5，R6，R7，和 R8 為氫。 表 122 ： 此表 涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其中 X 為 0， Z 為 C-H ，R7 為 CH3， R1 ，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氫， 且 R 25及 R26為如表1 中所定義者。 表 123 ： 此表 涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其中 X 為 0， Z 為 C-H ，R7 為ch2 ch2 ;，R1，R2，R3，R4， R5， R 6和R8 為 氫 ，且 R25 . 及R26為 r如表1中所定義者。 此 表 涵蓋 272 個T-1 型態結構之化合物，其 中X 為 0 丨，Z 為 C-H， R7為環丙基 ，R1，R2，R3，R4，R5 ，R6 和 R 8為 氫 5 且R: 。及 R26為如 〖表 1中所定義者。 表 125 ： 此表 涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其中 X 為 0， Z 為 C-H ，R7 為 ch2och 3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且 R25 . 及R26為 ，如表1中所定義者。 表 126 ： 此表 涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物， 其中 X 為 0， Z 為 C-H ，R: 7為CH 2OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R4 R5 ，R6 194 200918540 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 127 : 此表涵 丨蓋 272 個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-H ’ R 7 為 ch2ch :2OCH3，R1，R2，R: 5 , R4 ^ , R5 5 R6 和 R 8為氫 ，且 R25 及 R26 為如表1中所定義者。 表 128 ： 此表涵 丨蓋 272 個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 5 Z 為 C-H， R7 為 OCH3， R1，R2，R3，R4，R 5 , R 6和R8 為 氫 5 且R25 及 R26為如表 1中所定義者。 表 129 ： 此表涵 1蓋 272 個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-H， R7 為 och2ch 3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6 ： 手口 R8 為 氫 ，且 R25 . 及R26為如表1中所定義者。 表 130 ： 此表涵 1蓋 272 個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-H， R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5， R6 和 R8 為 氫 5 且R25 及 R26為如表 1中所定義者。 表 131 ： 此表涵 1蓋 272 個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-H， R6 為 CH3，R 1，R2，R3，R4，R5 ，R7 ，和R8 為 氫 j 且R25 及 R_26為如表 1中所定義者。 表 132 ： 此表涵 蓋 272 個 T-1 型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 ? Z 為 C-H， R6 為 ch2ch3 ，R1，R2，R3，R4， R5 > R7 ? 和 R8 195 200918540 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 133 : 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 C-H，R6 為ch2 OCH3，R1，R2，R3，R4， R5 5 R7 ， 和 Rs ;為 氫，且R25及R26為 如表1中所定義者 0 表 134 ： 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 〇， Z 為 C-H，R6 為 ch2och 2CH3，R1，R2，R3 ，R; 1， R- 5 , R7， 和 R 8為氫，且R25及 R26 為如表1中所定義 者〇 表 135 ： 此表涵蓋 2 72個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 C-H，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3 ，IT > , Rf R7， 和 R 8為氫，且R25及 R26 為如表1中所定義 者° 表 136 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 C-CH3，R1，R2 ，R3 ，R4，R5，R6，R7 ，和 R 8為氫。 表 137 ： 此表涵蓋 272個 T-1 型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 C-CH3，] R7 為 CH3， R1，R2，R3，R4， R5， R6和R8為 氫 5 且R25及 R26為如 ，表 1中所定義者。 表 138 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 196 200918540 表 139 : 此表涵蓋 272 個T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 ， Z 為 C-CH3， R7為 環丙基，R1，R2，R3 , R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表1中所定義者。 表 140 ： 此表涵蓋 272 個T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-CH3， R7為 CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 9 R5 > R6 和 R8 ’為 氫，且R25及 R26為如表1中所定義者。 表 141 ： 此表涵蓋 272 個T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 1 Z 為 C-CH3， R7為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R 3 , R 4 , R5 5 R6 和 R 8為氫，且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 142 ： 此表涵蓋 272 個T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 Z 為 C-CH3，： R7為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R 3 , R ^ , R5 R6 和 R 3為氫，且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 143 ： 此表涵蓋 272 個T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 Z 為 C-CH3， R7為 OCH3，R1，R2，R3，R4， R5， R6禾 ，R8 為 氫 ，且 R25 . 及R26為如表1中所定義者。 表 144 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為〇， Z 為 C-CH3，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 197 200918540 表 145 : 此表涵 蓋272個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 5 Z 為 c-ch3 Hr ‘2 為 CH3，R1，R3，R4 ，R5， R6和 R8 為 氫 ，且R 25及R26為如表1中所定義者。 表 146 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 ) Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R7 ，和 R8 為 氫 ，且R: 25及R26為如表1中所定義者。 表 147 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 ， Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R R5 R7 和 R8 為 氫，且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 148 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 R5 > R7 ϊ 和 R 8為氫， 且R25及 R26為如表1中所定義者。 表 149 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 ? Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH 2OCH2CH3，Ri，R2，R3 ，R 4 , R 5 , R7 5 和 R 8為氫， 且R25及 R26為如表1中所定義者。 表 150 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH 2CH2OCH3，Ri，R2，R3 ,R 4 , R 5 , R7 J 和 R1 3為氫， 且R25及 R26為如表1中所定義者。 198 200918540 表 151 : 此表涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物，其 中 X 為 0 5 Z 為 C-CH2CH3，R1 ，R2，R3，R4，R5，R6，R7， 和R8 為 氫 〇 表 152 ： 此表涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物，其 中 X 為 〇 > Z 為 c-ch2ch: ;，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，： R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 153 ： 此表涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物，其 中 X 為 0 Z 為 c-ch2ch 3，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3， R4 R5 5 R6 和 R 8為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 154 ： 此表涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物，其 中 X 為 0 Z 為 C-CH2CH3，R7 為環丙基，Ri，R2，R3， R4 > R5 ，R6 和 R 8為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 155 ： 此表涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物，其 中 X 為 0 Z 為 c-ch2ch3 丨，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3， 1， R5 ) R6 和 R! s為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 156 ： 此表涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物，其 中 X 為 0 5 Z 為 c-ch2ch3 ，R7為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R 3 , R 4 , R5 R6 和 R8為氫， 且R25 及R26為如表1中所定義者= ) 199 200918540 表 157 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為〇， Z 為 C_CH2CH3，R7 為 CH2CH2OCH3，Ri，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 ' 表 158 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為〇， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 159 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為〇， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 160 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為〇， Z 為 C-CH2CH3，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 161 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 162 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C_CH2CH3，R6 為 CH2CH3，Ri，R2，R3，R4 , R5，R7 , 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 200 200918540 表 163 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2OCH3，Ri , R2，R3，R4，R5 , R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 ' 表 164 : ; 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R7，和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 165 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R7，和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 166· 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7，和 R8 為氫。 表 167 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N , R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 168 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 169 : 201 200918540 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Ζ 為 Ν，R7 為環丙基，Rl，R2 , R3，R4，R5，R6 和 R8 為氮， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 170 : 此表 涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為0 5 Z 為 N， R7為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4 ，R 5， R 6和 R8 為 氫 ，且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 171 ： 此表 涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為〇 ， Z 為 N， R7為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3， R4 y R5 ，R6 和 R8 為 氳， 且R 25及R26為如表1中所定義者 〇 表 172 ： 此表 涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為0 ， Z 為 N， R7為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 R5 ，R6 和 R8 為 氫， 且R: 25及R26為如表1中所定義者 〇 表 173 ： 此表 涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為0 5 Z 為 N，： R7為 OCH3， Rl，R2，R3，R4，R5， R6和 R8 為氫 ) 且 R 25及 R26為 ί如表1 中所定義者。 表 174 ： 此表 涵蓋 272個 T-1型態結構之化合物 ’其 中 X 為0 1 Z 為 N， R7為 och2 CH3，R1，R2，R3，R4 ，R 5， R1 5和 R8 為 氫 ，且 R25及R26為 Ϊ如表1中所定義者。 表 175 ： 202 200918540 « 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為Ο， Ζ 為 Ν，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 176 : 此表涵蓋 272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 N，R6 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，： 和 R8 為 氳， 且 R 25及R26為 f如表1中所定義者。 表 177 ： 此表涵蓋 272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 N，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R7 ，和R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 178 ： 此表涵蓋 272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 N，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4， R5 5 R7 ，和R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 179 ： 此表涵蓋 272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 〇， Z 為 N，R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3， 'R4 ， R5 R7， 和 R 8為氫，且 R25及R26為如表1中所定義 者。 表 180 ： 此表涵蓋 272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 N，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3， 'R4 ， R5 1 R7， 和 R 8為氫，且 R25及R26為如表1中所定義 者。 表 181 ： 203 200918540 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 9 z 為 C- Η ， R1 丨，R2， R3，R 4，R5，R6，R7 和 R8 為 氫 9 表 182 ： 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 5 z 為 C- Η，R7 為 CH3，R1 ，R2，R3，R4，R5， R6 '和R8 為 氫 且R25及 R26為如表1 ' _所定義者。 表 183 ： 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 y z 為 C-H，R7 為CH: 2CH3， R1，R2，R3，R4 'R .5 , R 6和 R8 為 氫 ，且 R25 . 及R26為如表 1中所定義者。 表 1 ί 54 ： 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-H > R7 為壤丙 基，R1 ，R2，R3，R4，R5， R6 和 R8 為 氫 且R25及 R26為如表1 ' 尹所定義者。 表 185 ： 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 5 Z 為 C-H，R7 為 CH2OCH3， R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ，且 R25 及R26為如表 1中所定義者。 表 186 ： 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 0 5 Z 為 C-H，R 7為CH [2OCH2 CH3，R1，R2，R: 5 , R4 9 R5 5 R6 和 R 8為氫，且R25及 R26為 如表1中所定義者。 表 187 ： 此表涵蓋 272個 T-2型 態結構之化合物， 其 中 X 為 0 204 200918540 Z 為 C-H，R7 為 CH2CH20 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R?5及R26為如表1中所定義者。 表 188 : 此 表涵盖 272個Τ-2型態結構之化合物， 其 中 X 為0 9 Z 為 C -H，R7 為 OCH3，R 1，R2，R3，R4，R5， R6 和 R8 為 氫 且 R25及 R26為如表1 中所定義者。 表 189 ; 此 表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為〇 5 Z 為 C- Η，R7 為 OCH2CH3 ，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6和 R8 為 氫 ? 且R25 及R26為如表 1中所定義者。 表 190 • 此 表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為0 5 Z 為 C-H，R7 及R2為CH: 3，R1，R3，R4，R5， R6 和 R8 為 氫 5 且 R25及 R26為如表1 中所定義者。 表 191 ; 此 表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為0 9 Z 為 C -Η，R6 為 CH3，R1， R2，R3，R4，R5 ，R7 ，和R8 為 氫 ? 且 R25及 R26為如表1 中所定義者。 表 192 • 此 表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為0 > Z 為 C- Η，R6 為 CH2CH3， R1，R2，R3，R4， R5 5 R7 ，和 R8 為 氫 且 R25 . 及R26為如表 1中所定義者。 表 193 • 此 表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為0 5 205 200918540 Z 為 C-H，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 194 : 此 表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0 1 Z 為 C- -H，R6 為 CH20 CH2CH3，R1，R2，R3 ，R4， R 5， R7 和 R 8為氫，且R25及 R26為如表1中所定義 者。 表 195 * 此 表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0 5 Z 為 C- -H，R6 為ch2 CH2OCH3，R1，R2，R3 ，R4， R 5 , R7 5 和 R 8為氫，且R25及 R26為如表1中所定義 者。 表 196 此 表涵蓋 2 72個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0 5 Z 為 C- _CH3， R1，R2 ，R3，R4，R5，R6，R7 和R8 為 氳 ， 表 197 ; 此 表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0 1 Z 為 C- -CH3， R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5，R 6和R8 為 氫 5 且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 198 ； 此 表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0 9 Z 為 C- CH3，] R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R 4，R5 ，R6 ； 和 R8 為 氫 且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 199 此 表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0 9 Z 為 C- -CH3， R7為環 丙基，R1，R2，R3，R4 ，R5， 'R ，和： R8 206 200918540 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 200 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 : 表 201 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2〇CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 202 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2CH20 CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 203 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 204 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 205 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH3，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5，R6 和 R8 207 200918540 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 206 : 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0 Z 為 c-ch3 ,] R_6 為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 R.7 ，和 R8 為 氫 ，且R: 25及R26為如表1中所定義者。 表 207 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0 9 Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R7 ， 和 Rs 1為 氫，且 R 25及R26為如表1中所定義者‘ 0 表 208 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0 ， Z 為 c-ch3 ，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 5 R5 R7 5 和 R 8為氮， 且 R25及 R26為如表1中所定義: 者。 表 209 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0 ) Z 為 c-ch3， R 6為CH [2OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R .4， R 5， R7 J 和 R 8為氮’ 且 R25及 R26為如表1中所定義: 者。 表 210 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物， ，其 中 X 為 0 Z 為 c-ch3， R 6為CH [2CH2OCH3，R1，R2，R3 ，R4， R 5 , R7 5 和 R1 3為氫， 且 R25及 R26為如表1中所定義: 者。 表 2] [1 : 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物， ，其 中 X 為 0 ? Z 為 c-ch2ch3 丨，R1， R2，R3，R4，R5，R6， R7和 R8 為 氫 5 208 200918540 表 212 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物，其 中 X 為 0 5 Z 為 c-ch2ch ;，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，] R6 和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 213 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物，其 中 X 為 0 9 Z 為 c-ch2ch 3，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3， R4 5 R5 5 R6 和 R 8為氮’且 R25及 R26為如表1中所定義者。 1 表 214 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物，其 中 X 為 0 f Z 為 C-CH2CH3，R7 為環丙基，R1，R2，R3， R4 9 R5 9 R6 和 R 8為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 215 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物，其 中 X 為 0 Z 為 C-CH2CH3 丨，R7 為 CH2OCH3，Ri，R2，R3， R5 R6 和 R s為氫，且 R25及 R26為如表1中所定義者。 表 216 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物，其 中 X 為 0 > Z 為 c-ch2ch3 ，R7為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R 3 , R 4 , R5 R6 和 R8為氫， 且R25 及R26為如表1中所定義者t ) 表 217 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 209 200918540 表 218 : 此表涵蓋 272 個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 Z 為 c-ch2ch 3 ’ R 7 為 OCH3，R1，R2，R3， R4 5 R5 ，R6 Rf !為 氫，且R‘ 25及 R26為如表1中所定義者。 表 219 ： 此表涵蓋 272 個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 Z 為 c-ch2ch 3 ’ R 7 為 OCH2CH3，R1，R2，R 3 , R 4 , Rf 和 R 8為氫，且 R25 及R26為如表1中所定義者。 表 220 ： 此表涵蓋 272 · 個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 Z 為 c-ch2ch 3 ’ R 7 及 R2 為 CH3，R1，R3， R4 R5 ，R6 R8 丨為 氫，且R; 。及 R26為如表1中所定義者。 表 221 ： 此表涵蓋 272 ‘ 個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 Z 為 C-CH2CH: 3，R 6 為 CH3，R1，R2，R3，R4 R5 R7 5 R8 為 氫，且R/ 及 R26為如表1中所定義者。 表 222 ： 此表涵蓋 272 - 値T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 0 Z 為 c-ch2ch; > 為 CH2CH3，Ri，R2，R3， R 4， R; 5， R7 和 R! s為氫，且 R25 及R26為如表1中所定義者。 表 223 ： 此表涵蓋 272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 〇 Z 為 c-ch2ch： 丨，R6 為 CH2OCH3，Ri，R2，R3 ，R 4， R 5， R7 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 210 200918540 表 224 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0， Z 為 c-ch2ch 3，R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R 2，R3， ，R 4， R5， R。 1 和R8為負 ▲，且R 25及R26為如表1中所 定義者。 表 225 : 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 Ο， Z 為 c-ch2ch 3，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R: !，R3， R 4， R5， R7 和R8為A ‘，且R 25及R26為如表1中所 定義者。 表 226 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0， Z 為 N，R1，R2，R3， R4，R5，R6，R7 和 R 8為氫 表 227 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0， Z 為 N，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和 R8 為 氫， 且 R 25及R26為 r如表1 中所定義者。 表 228 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0， Z 為 N，R7 為 ch2ch 3，R1，R2，R3，R4，] R5，R6 和 R8 為 氫 5 且R25及] R26為如 表1中所定義者。 表 229 ： 此表涵蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其中 X 為 0， Z 為 N，R7為環丙基， Rl，R2，R3，R4，R5， R6和 R8 為 氫， 且 R 25及R26為 ，如表1 中所定義者。 表 230 ： 211 200918540 . 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Ζ 為 Ν，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 231 : . 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， : Z 為 N，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 .R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 232 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N，R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 233 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N，R7 為 0(：Η3，R1，R2，R3，R4，r5，r6 和 R8 為氮， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 234 : 1 ; 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 235 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Z 為 N，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 236 : 212 200918540 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Ο， Ζ 為 Ν，R6 為 CH3，Rl，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8 為氮， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 237 : 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 N，R( ;為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，] R.7 ，和R8 為 氫 ，且R 25及R26為如表1中所定義者。 表 238 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 0， Z 為 N，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4， R5 R7 ，和R8 為 氫 ，且R 25及R26為如表1中所定義者。 表 239 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 〇， Z 為 N，R( 5為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R4 5 R5 R7， 和 R 8為氫， 且 R25及 R26為如表1中所定義 者。 表 240 ： 此表涵 蓋 272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 〇， Z 為 N > R' >為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3 ，R4 5 R5 ， R7， 和 R 8為氫， 且 R25及 R26為如表1中所定義 者。 表 241 ： 此表涵 蓋 272個 T-1型態結構之化合物， ，其 中 X , 為 Se， Z 為 C-H，R1， R2，R3，R4，R5，R6，R7 和 R8 為 氫 表 242 ： 此表涵 蓋 272個 T-1型態結構之化合物， ，其 中 X , % Se， 213 200918540 Z 為 C-H，R7 為 CH3，Rl，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫， 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 243 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為 Se Z 為 C-H ，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6 和 R8 為 氳 ，且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 244 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為 Se ， Z 為 C-H， R7 為環丙基，R1，R2，R3，R4，R5 ，R6和 R8 為 氫 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 245 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為 Se 5 Z 為 C-H， R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4 R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 246 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為 Se Z 為 C-H . ，R7 為 CH20 CH2CH3，R1，R2，R 3 , 1，R: 5， R6 和 R 8為氮 ，且R25及R26為如表1中所定義者 〇 表 247 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物， 其 中 X為 Se 5 Z 為 C-H ，R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3， R' 1，R5， R6 和 R s為氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者 〇 表 248 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， 214 200918540 Z 為 C-H，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為 氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 249 : 此表 涵蓋272個 Τ-l型 態結構之化合物， 其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-H ，R7為 OCH2CH3 ，R1，R2，R3，R4 R5 5 R6 和 R8 為 氫 ，且 R25及 R26為如表 1中所定義者。 表 250 ： 此表 涵蓋272個 Τ-1型 態結構之化合物， 其 中 X 為 Se Z 為 C-H ，R7及 R2 為CH: ;，R1，R3，R4，R5， ，R6和 R8 為 氫 5 且R: 及R26為如表1 中所定義者。 表 251 ： 此表 涵蓋272個 Τ-l型 態結構之化合物， 其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-H ，R6為 CH: ,，R1， R2，R3，R4，R5 ，R7 ，和 R8 為 氫 5 且R25及R26為如表1 中所定義者。 表 252 ： 此表 涵蓋272個 Τ-l型 態結構之化合物， 其 中 X 為 Se Z 為 C-H ，R6為 ch2 CH3， R1，R2，R3，R4， R 5 , R 7， 和 R8 為 氫 ，且 R25及 R26為如表 1中所定義者。 表 253 ： 此表 涵蓋272個 Τ-l型 態結構之化合物， 其 中 X 為 Se ， Z 為 C-H ，R6為 CH 2OCH3 ，R1，R2，R3，R 4， Rf R 7， 和 R8 為 氫， 且R25 及R 26為如 表1中所定義者。 表 254 ： 此表: 涵蓋272個 Τ-l型 態結構之化合物， 其 中 X 為 Se 1 215 200918540 z 為 C-H， R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R4， R5， R- 1 和 R 8為氮 ，且R25及R26為如表1中所定義 者 〇 表 255 ： 此表涵 蓋272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se ? z 為 C-H， R6 為 CH2 CH2OCH3，R1，R2，R3 ，R4 . 'R5， R1 r 5 和 R 8為氫 ，且R25及R26為如表1中所定義 者 〇 表 256 ： 此表涵 蓋272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se ) Z 為 c-ch3 ，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7 和 R8 為氫 表 257 ： 此表涵 蓋272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se 5 Z 為 c-ch3 ，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R6和 R8 為 氫 且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 258 ： 此表涵 蓋272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se Z 為 c-ch3 ，R7 為 CH2CH3，Ri，R2，R3，R4， R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且R 25及R26為如表1中所定義者。 表 259 ： 此表涵 蓋2 72個T- 1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se ， Z 為 c-ch3 ，R7 為環丙基，Ri， »，R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且R 25及R26為如表1中所定義者。 表 260 ： 此表涵 蓋272個T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se 5 Z 為 c-ch3 ，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 5 R5， R6 和 216 200918540 • R8為氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 261 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se ’ Z 為 C_CH3，R7 為 CH2〇 CH2CH3，R1 , R2，R3，R4，R5， R6和Rs為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 _表 262 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R7 為 CH2CH2〇CH3 , Rl , r2，R3，R4，R5，R6 和R8為氳’且R25及R26為如表1中所定義者。

Jl 263 ： 此表涵蓋272個Τ-l型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R7 為 〇CH3，R1，R2，R3，R4，r5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表l中所定義者。 產 264 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R7 為 〇CH2CH3，R1，r2，R3，R4，r5，R6 和 R8為氫’且R25及R26為如表1中所定義者。 砉 265 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R7 及 R2 為 Ch3，R1，r3，R4，r5 ’ R6 和 R8 為氫’且R25及R26為如表1中所定義者。 A 266 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中χ為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH3 , Rl，r2，r3，r4 , r5，r7，和 r8 217 200918540 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 267 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 ' R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 : 表 268 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 269 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 270 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 271 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7 和 R8 為氫， 表 272 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 218 200918540 表 273 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 274 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為環丙基，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 275 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 276 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 277 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 278 : 此表涵蓋272個T-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 219 200918540 表279 此表涵蓋272個T-1型態結構之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R 7 為 OCH2CH3，R1 ，R2，R3， R 4，R 5 , 和 R 8為氫，且 R25 及R26為如表1中 所定義者 〇 表 280 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R 7 及 R2 為 CH3，R1 ，R3， R4 > R5， R6 R8 為 氫，且R2; 5及 R26為如表1中所 定義者。 表 281 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R 6 為 CH3，R1，R2 ，R3，R 4 , R- 5，R: 7 R8 :為 氫，且R2i ;及 R26為如表1中所 定義者。 表 282 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R( ;為 CH2CH3，Ri， R2，R3 ，R4， R5， R7 和 R 8為氫，且 R25 及R26為如表1中 所定義者 〇 表 283 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R6 為 CH2OCH3，R1 ，R2，R3 ，R4， ，R5， R7 和 R s為氫，且 R25 及R26為如表1中 所定義者 〇 表 284 ： 此表涵蓋272個T-1型態結構之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R6 為 CH2OCH2CH3， Ri，R2 ，R3， R4， R5 R7 5 和R8為氫 ，且 R25及R26為如表 1中所定義者。 220 200918540 表 285 : 此 表涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se， Z 為 C- CH2CH3，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R 2，R3 ，R4， R5， R1 和 R8為氫，且： R25及R26為如表1中所 定義者。 表 286 ; 此 表涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se， Z 為 N ，Ri，R2，R3 ，R4，R5，R6，R7 和 R 8為 氫 5 表 287 ; 此 表涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se 5 Z 為 N ，R7 為 CH3， R1，R2，R3，R4，R5， R6和 R8為 氫， 且 R 25及R26為如表 1中所定義者。 表 288 • 此 表涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se， Z 為 N ，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5， R6和 R8為 氫 且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 289 此 表涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se， Z 為 N ，R7為環丙基 ，R1，R2，R3，R4，R5， R6和 R8為 〖氫， 且 R 25及R26為如表 1中所定義者。 表 290 ； 此 表涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se， Z 為 N ，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4 ，R5， 'R6 和 R8 為 氫 5 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 291 ; 221 200918540 此表 :涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 1 z 為 N， R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3， R4 > R5 ，R6 和 R8 為 氫’ 且R25及R 26為如表1中所定義者 〇 表 292 ： 此表 .涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 5 Z 為 N， R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3， R4 R5 ，R6 和 R8 為 氫， 且R25及R 26為如表1中所定義者 〇 表 293 ： 此表 .涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 9 Z 為 N， R7 為 OCH3 ，Rl，R2，R3，R4，R5， R6 和 Rf ’‘為 氫 J 且 R 25及 R26為如表 1中所定義者。 表 294 此表 .涵蓋272個 τ-i型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 5 z 為 N， R7 為 OCH 2CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R .6和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 295 ： 此表 .涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 9 z 為 N， R7 及 R2 為 CH3，R1 ’ R3 ’ R4 ’ R5， R6 和 R8 :為 氫 9 且 R 25及 R26為如表 1中所定義者。 表 296 ： 此表 .涵蓋272個 T-1型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 1 z 為 N， R6 為 CH3，: R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和 !為 氫 5 且 R 25及 R26為如表 1中所定義者。 表 297 ： 222 200918540 . 此表涵蓋272個Τ-1型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 N，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7，和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 298 : 此表涵 蓋272個 T-1型態結構 之化合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N，R6 為 CH2OCH3，R1，R2 ，R3，R4， R5 R7 和R8 為 氫 ，且R 25 及 R26 , 岛如表1中所 定義者。 表 299 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構 之化合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N，R' 、％ CH2OCH2CH3，R1 ,R2 ， R3 ，R 夺， R 5， R7， 和 R 8為氫， 且R25及R26為如表1 中所定義 者 〇 表 300 ： 此表涵 蓋272個 T-1型態結構 之化合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N， ;為 CH2CH2OCH3，R1 ，R2，R3 ，R R: 5 , R7， 和 R 8為氫， 且R25及R26為如表1 中所定義 者 〇 表 301 ： 此表涵 蓋272個 T-2型態結構 之化合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 C-H，R1，R2， R3，R4，R5， R6，R7 和 R8 為 氫 5 表 302 ： 此表涵 蓋272個 T-2型態結構 之化合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 C-H，R7 為 CH3 ，Rl，R2，R3 ，R4，R5， R6 和 R! 5為氫， 且 R 25及R26為如表 1中所定義者 0 表 303 ： 此表涵 蓋272個 T-2型態結構 之化合物 ，其 中 X 為 Se， 223 200918540 Z 為 C-H，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 304 : 此表涵 *蓋272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-H， R7 為環丙基，Rl，R2，R3，R4，R5 ，R6 和 R8 為 氫 ， 且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 305 ： 此表涵 ,蓋272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se ， Z 為 C-H， R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4 R5 5 R6 和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 306 ： 此表涵 ,蓋272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-H， R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R 3 , R 冬， R 5 , R6 和 R 8為氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者 〇 表 307 ： 此表涵 !蓋272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se Z 為 C-H， R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R 3 , R *， R 5， R6 和 R 8為氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者 0 表 308 ： 此表涵 ，蓋272個T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se y Z 為 C-H， R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， ，R6和 R8 為 氫 9 且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 309 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， 224 200918540 Z 為 C-H，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 310 : 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-H， R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4， R5， R6和 R8 為 氫 且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 3 11 ： 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se ， Z 為 C-H， R6 為 CH: s，R1，R2，R3，R4，R 5，R7 ，和 R8 為 氫 且R25 及R26為如表1中所定義者。 表 312 ： 此表涵 *蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se Z 為 C-H， R6 為 CH2 CH3，R1，R2，R3，R4 ，Rf !, R' f， 和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 3 13 ： 此表 >蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-H， R6 為 CH 2OCH3，R1，R2，R3，R4， s , R 7 , 和 R8 為 氳，且R25及R26為如表1中所定義者 〇 表 3 14 ： 此表'/產 ，蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 9 Z 為 C-H， R6 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R 4 , R 5 , R7 ) 和 R 8為氳 ，且R25及R26為如表1中所定義 者 〇 表 3 15 ： 此表涵 ，蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 1 225 200918540 Z 為 C-H，R6 為 CH2 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 316 : 此 表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se Z 為 C- CH3，Ri，R2 ，R3，R4，R5，R6，R7 和 R8 為氫 1 表 3 17 ; 此 表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se 9 Z 為 C. _CH3，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R6和 R8 為 氫 且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 3 ： 18 ； 此 表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se Z 為 C- _，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5 ，R6和 R8 為 氫 且 R25及R26為如表1中所定義者。 表 319 ; 此 表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se Z 為 C- -CH3，R7 為環 丙基，R1，R2，R3，R 4，R5 ，R6 和 R8 為 氳 5 且R25及R26為如表1中所定義者。 表 320 • 此 表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se Z 為 C- -CH3，R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3 ，R4 R5， R6 和 R8 為 氫 ，且R25及R 26為如表1中所定義者 〇 表 321 ； 此 表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物 ，其 中 X為 Se Z 為 C- CH3，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2， R3， R 4，R 5 , R6 226 200918540 和 R 8為氮， 且 R25 及R26為如表1中所定義 者 〇 表 322 ： 此表涵蓋272 - 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 C-CH3， R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2， R3， 'R4， R5， R( 和 R 8為氫， 且 R25 及R26為如表1中所定義 者 0 表 323 ： 此表涵蓋272 ' 個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se j Z 為 c-ch3， R 7為 OCH3，R1，R2，R3，R/ 1，R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且 R25 丨及 R26為如表1中所定義者。 表 324 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se Z 為 C-CH3， R7 ，為 OCH2CH3，R1，R2，R3 ，R4 ， R5 9 R6 和 R8 為 氫，且 R25 及 R26為如表1中所定義者 0 表 325 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se Z 為 c-ch3， R 7及 R2 為 CH3，R1，R3，R4 丨，R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且 R25 及 R26為如表1中所定義者。 表 326 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se 5 Z 為 C-CH3， R( ;為 CH3，R1，R2，R3，R4， R5 R7 5 和 R8 為 氫 ，且 R25 及 r2( ’為如表1中所定義者。 表 327 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物 ，其 中 X 為 Se > Z 為 C-CH3， R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R 5 , R 7 , 和 227 200918540 R8為氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 328 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R7， — 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 -· 表 329 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2OCH2CH3，Ri，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 330 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH3，R6 為 CH2CH2OCH3，Ri，R2，R3，R4，R5，R7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 331 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6，R7 和 R8 為氫， 表 332 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8 為氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 333 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 228 200918540 一 表 334 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C_CH2CH3，R7 為環丙基，，R2，R3，R4，R5 , R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 ' 表 335 : ·' 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C_CH2CH3，R7 為 CH2OCH3，Ri，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 336 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 337 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R6和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 338 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 339 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 C-CH2CH3，R7 為 OCH2CH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 229 200918540 表 340 : 此表涵蓋272個T-2型態結構 之 化合物: ，其 中 X為 Se ， Z 為 c-ch2ch3 ,R 7及R2為CH3 ，R1，R3， R4 R5， R6 和 !為 氫，且R25及 R26為如表1中 所 定義者 0 表 341 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構 之 化合物: '其 中 X為 Se 5 Z 為 c-ch2ch3 ，R 6 為 CH3，R1，] R2 ，R3 ， R4 ， R 5，R 7 , 和 Rs ’為 氫，且R2: 5及 R26為如表1中 所 定義者 〇 表 342 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構 之 化合物， 其 中 X為 Se Z 為 c-ch2ch3 ，R( 5 為 CH2CH3，R 1 , R2，R3 ，R4， R5， R7 5 和 R 8為氫，且 R25 及R26為如表1 中 所定義 者 〇 表 343 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構 之 化合物， 其 中 X為 Se ， Z 為 c-ch2ch3 ，R6 為 CH2OCH3，R1 ,R2，R3 丨，R4 ，R5， R7 和 R 8為氫，且 R25 及R26為如表1 中 所定義 者 0 表 344 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構 之 化合物， 其 中 X為 Se ， Z 為 c-ch2ch3 ，R6 為 CH2OCH2CH3， Ri，R2 ，R3 ’ ，R4， R5 5 R7 5 和R8為氫 ，且 R25及R26為如 表 1中所 定義者。 表 345 ： 此表涵蓋272個T-2型態結構 之 化合物， 其 中 X為 Se 9 Z 為 C-CH2CH3，R6 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5， R7，和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 200918540 表 346 : 此表 .涵蓋272個 T-2型態結構之化 合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N， Ri，R2，R3 ，R4，R5，R6，R7 和R 8為 氫 ， 表 3 47 ： 此表 涵蓋272個 T-2型態結構之化 合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N， R7 為 CH3， R1，R2，R3，R4， R5， R6 ： 手口 R8 為 氫， 且 R 25及 R26為如表 1中所定義者。 表 348 ： 此表 涵蓋272個 T-2型態結構之化 合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N， R7 為 CH2CH3，R1，R2，R3， R4， R5， R6和 R8為 氫 5 且R .25及R26為如表1中所定義者 0 表 3 49 ： 此表 涵蓋272個 T-2型態結構之化 合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N，： R7為環丙基 ,Rl，R2，R3，R4， R5， R6 和 Rf !為 '氫， 且 R 25及 R26為如表 1中所定義者。 表 350 ： 此表 涵蓋272個 T-2型態結構之化 合物 ，其 中 X 為 Se， Z 為 N， R7 為 CH2OCH3，R1，R2，R3 ，R4 ，R5， R6 和 R8 為 氫 '且 R25及R26為如表1中所定義: 者。 表 351 ： 此表 涵蓋272個 T-2型態結構之化 合物 ，其 中 X 為 Se 5 Z 為 N， R7 為 CH2OCH2CH3，R1，R2 ’ R3， R4 R5 R6和 R8 為 氫， 且R25及R 26為如表1中所定 義者 〇 表 352 ： 231 200918540 、 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中X為Se， Z 為 N，R7 為 CH2CH2OCH3，R1，R2，R3，R4，R5，R6 和 R8為氳，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 353 : 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物， '其 中 X 為 Se， Z 為 N，R7 為 OCH3 ，R1，R2，R3，R4，R5， R6 和 R 8為 氫， 且 R 25及R26為如表 1中所定義者。 表 354 ： 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se， Z 為 N，R7 為 OCH 2CH3，R1，R2，R3，R4 ，R5 ，R6 和 R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 3 5 5 ： 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se， Z 為 N，R7 及 R2 為 CH3，R1，R3，R4，R5， R6 和 r! 氫， 且 R 25及R26為如表 1中所定義者。 表 356 ： 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se， Z 為 N，R6 為 CH3，： R1，R2，R3，R4，R5 , R 7 , 和 R8為 氫， 且 R 25及R26為如表 1中所定義者。 表 357 ： 此表涵蓋272個 T-2型態結構之化合物， 其 中 X 為 Se， Z 為 N，R6 為 CH2CH3，R1，R2，R3，R4， R5 R7 ，和R8 為 氫 ，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 358 ： 232 200918540 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中χ為Se， Z 為 N，R6 為 CH2〇ch，Rl，r2 r3 r4 r5 尺和 y 為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 359 : 此表涵蓋272個T-2型態結構之化合物，其中χ為§e， Z 為 N ’ R6 為 ch2〇CH2CH3，Rl，R2，r3，R4，r5，r7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者。 表 360 : 此表/函蓋272個T-2型態結構之化合物，其中χ為se， Z 為 N，R6 為 Ch2CH2〇CH3，Rl，R2 r3 , R4 r5 r7， 和R8為氫，且R25及R26為如表1中所定義者D 生物實施例

實施例A 將各種試驗品種之種子播種在盆中的標準土壤。在溫 室中於控制條件下培養一天之後（萌芽前）或培養1 〇天 之後（确芽後），用得自技術活性成分在0.6毫升丙酮和 、 45 宅升包含 1 〇.6%Emulsogen EL (註冊號 61791-12-6)、 42.2%N-甲基吡咯啶酮、42.2%二丙二醇單曱基醚（註冊號 34590-94-8 )和 〇.2%Χ-77(註冊號 1 1097-66_8)的調配溶 液之調配物的噴霧水溶液喷灑植物。試驗植物然後在溫室 中於最適條件下生長，直到萌芽後13天之後和萌芽前2〇 天，評估測試（1 00 =完全損害植物；〇 =沒有損害植物）。 試驗植物： 看麥娘屬（Alopecurus myosuroides ) ( ALOMY )、 233 200918540 燕麥草（Avena fatua ) ( AVEFA )、黑麥草（Lolium perenne ) (LOLPE )、大狗尾草（Setaria faberi ) ( SETFA )、馬 唐（Digitaria sanguinalis ) ( DIGSA )、稗（Echinochloa crus-galli ) ( ECHCG) 萌芽前活性： 化合物編號 比率克/公頃 ALOMY AVEFA LOLPE SETFA DIGSA ECHCG T4 500 70 70 70 70 30 70 Τ5 500 0 20 0 0 0 0 Τ6 500 0 60 0 0 0 0 Τ7 500 10 10 10 0 20 0 Τ10 250 10 10 20 0 30 30 Τ12 500 10 20 10 20 0 30 Τ14 250 90 60 100 100 70 90 Τ15 250 70 10 10 20 30 90 Τ21 250 90 70 90 100 100 100 Τ22 250 100 100 100 100 100 100 Τ23 500 100 90 90 100 100 100 Τ24 250 90 60 90 100 100 100 Τ25 250 90 90 100 100 100 100 Τ26 250 90 60 70 100 100 80 Τ27 250 70 60 90 100 100 70 Τ28 250 100 100 100 100 100 100 Τ30 250 10 30 40 70 60 80 Ρ1 250 30 0 30 0 0 20 Ρ2 250 30 0 50 0 0 50 234 200918540 萌芽後活^生： 化合物編號 比率克/公頃 ALOMY AVEFA LOLPE SETFA DIGSA ECHCG T4 125 10 30 40 40 60 80 T5 125 10 10 0 10 30 0 T6 125 10 10 10 40 20 30 T7 125 0 0 0 0 0 50 T10 125 10 40 20 60 40 60 T12 125 80 80 30 70 80 80 T14 125 90 100 80 80 60 100 T15 125 50 40 40 70 40 90 T21 125 50 20 40 80 80 100 T22 125 70 70 20 60 100 100 T23 125 100 100 100 100 100 100 T24 125 70 70 30 80 90 100 T25 125 100 100 50 90 100 100 T26 125 10 0 0 0 30 0 T27 125 80 90 40 80 100 100 T28 125 70 70 50 80 100 100 T30 125 0 10 20 40 70 70 P1 125 70 80 60 90 80 100 P2 125 90 90 70 80 80 100

實施例B 將各種試驗品種之種子播種在盆中的標準土壤。在溫 235 200918540 室中於控制條件下（於24/16°C，日/夜；丨4 , , - 從，14小時光；65% 濕度）培養一天之後（萌芽前）或培養8天之後（萌芽後）， 用得自技術活性成分在包含0· 5%Tween 20 ί"取& ^ ζυ I聚軋化乙烯山 梨糖醇酐單月桂酸酯，CAS RN 9005-64-5 )夕不加，，/ 〜 < 内_ /水（50 : • 50 )溶液中的調配物之噴霧水溶液噴灑植物。試驗植物然 後在溫室中於控制條件下（於24/1 6°C，日/夜；丄4小時光. 6 5 %濕度）生長且每天洗水二次。萌芽前和萌芽後丄3天之 後，評估該測試（1〇〇=完全損害植物；〇=沒有損害植物）。 1 試驗植物： 看麥娘屬（Alopecurus myosuroides ) ( ALOMY )、 燕麥草（Avena fatua ) ( AVEFA )、大狗尾草（Setaria faberi ) (SETFA )、稗（Echinochloa crus-galli ) ( ECHCG )、 龍葵（Solanum nigrum) ( SOLNI )和反枝莧（Amaranthus retroflexus) (AMARE) 萌芽前活性： 化合物編號 頃 AMARE SETFA ALOMY ECHCG AVEFA T20 _2501 0 80 50 70 60 T29 250 20 90 50 90 90 T31 __250___ 20 90 60 90 70 T32 250 --~ 0 40 0 0 0 T33 250 0 100 90 100 0 T34 250 ---- 0 90 40 70 20 T35 250 ~~----- 0 100 100 100 100 236 200918540 T36 250 0 100 90 100 80 T37 250 0 90 30 40 0 T38 250 0 90 0 40 0 T39 250 0 90 70 80 90 T40 250 100 90 100 100 40 T41 250 0 100 100 100 30 T42 250 0 100 90 90 30 T43 250 0 60 0 80 0 T45 250 0 100 90 100 60 T47 250 0 100 90 90 80 T48 250 0 90 40 70 20 T49 250 0 90 20 70 0 T50 250 0 90 40 90 0 T51 250 0 100 80 100 90 T52 250 0 100 70 100 90 T53 250 90 90 50 80 70 T54 250 0 100 90 100 100 P4 250 0 90 60 90 90 P5 250 0 100 50 90 70 P6 250 0 70 0 20 0 P7 250 0 100 100 100 100 P8 250 0 100 90 100 30 P9 250 0 90 70 90 50 P10 250 0 100 90 100 100 237 200918540 萌芽後活生： 化合物編號 比率克/公頃 AMARE SETFA ALOMY ECHCG AVEFA P34 250 0 100 100 100 80 T17 1000 70 100 100 100 100 T18 1000 0 40 20 20 0 T19 1000 20 30 10 0 0 T20 250 0 100 90 100 100 T29 250 0 100 100 100 100 T31 250 0 70 60 80 50 T32 250 0 70 0 30 0 T33 250 60 100 100 100 100 T35 250 0 100 100 100 100 T36 250 30 100 100 100 100 T37 250 0 90 50 90 10 T38 250 0 100 90 100 90 T39 250 0 100 100 100 100 T40 250 0 100 100 100 70 T41 250 0 100 100 100 90 T42 250 0 100 100 100 100 T43 250 0 100 90 100 100 T45 250 0 100 100 100 100 T47 250 0 100 100 100 100 T48 250 40 90 60 100 40 T49 250 〇 90 50 100 30 238 200918540 T50 250 0 100 90 100 90 T51 250 0 90 90 100 80 T52 250 0 100 100 100 100 T53 250 0 100 60 90 70 T54 250 40 100 100 100 100 P3 250 0 100 100 100 100 P4 250 0 100 100 100 100 P5 250 0 100 90 100 90 P6 250 0 100 90 100 90 P7 250 0 100 100 100 100 P8 250 0 100 100 100 100 P9 250 0 100 100 100 90 P10 250 20 100 100 100 100 【圖式簡單說明】 益 % - 【主要元件符號說明】 益 239

Claims (1)

1. 200918540 十、申請專利範圍： —種式⑴之化合物

   其中 > R及R彼此獨立為氣、Ci_C3烧基、Ci_C3函烧基、Ci_c: 说乳基、（VC3院基硫、_素或、C】_C6烧氧基羰基， 2、1^3 ^R_4 5 ,8 、 、R5' R6、R7彼此獨立為氫或取代基，或 11及R、R3及r6 一起與其所連接的碳原子形成 視需要取代環’視需要包含雜原子，或 i R 起與其所連接的碳原子形成酮，亞胺基或 烯基單元，或 R3及R6 —起形成鍵， G為氫、驗金屬、驗土金屬、疏、敍或潛伏 心以 基團。 Het為視需要經取代之單環式或二環式雜芳香環及 其農化上可接受鹽。 ^ 2_根據申請專利範圍第1項之化合物，其中R2和R7 彼此獨立為氯，由素，甲酿基，氰基或確基，或 240 200918540 ’ C2-C6 烯基，c2-C6 炔 C3-C7環烯基，苯基， R2和R7彼此獨立為Ci_C6烷基 基，C!-C6烧氧基，c3-c7環烷基， 雜芳基或3至U雜環基’丨中所有此等取代基視需要經 取代，或 R2和R7彼此獨立為COR9，c〇2R1(^ c〇nr丨丨ri2 CR〜norI4，cr15=_r16r17，nhr18，舰18汉19 或⑽2〇 其中 R為crc6烷基，c2_c6烯基，C2_C6炔基，q_C7環烷 基，C5_C：7環烯基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基，其 中所有此等取代基視需要經取代， 〃 R10為氫，Crc6烧基，c3_c6稀基，c3_c6炔基，^7 環烷基，CrC7環烯基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基，7 其中所有此等取代基視需要經取代， R11為氫，Crc6烧基，c3_c6稀基’ c3-c6块基， 環烷基，Cs-C7環烯基，苯基，雜芳基或3至7員雜環^ 7 其中所有此等取代基視需要經取代，

   R12為氫，c「c6 烷基，C3-C6 烯基，c3-c6 炔基，Ci_c 烷氧基’（VC6鹵烷氧基’ c3-c7環烷基，c5-c7環烯基，c1 烧基磺醯基，苯基磺醯基，雜芳基磺醯基，胺基， 烷基胺基，二（CrC6)烷基胺基，苯基，雜芳基或3 1 芝7員 雜環基’其中所有此等取代基視需要經取代，或 R11及R12可被連接而形成視需要經取代之3至 土 / 貝％， 視需要包含氧，硫或氮原子， R13及R15彼此獨立地為氫，CVC3烷基或cvc：6環燒基 241 200918540 R14，R16及R17彼此獨立地為氯，Ci_C6烷基，Crq 烯基’ c3-c6炔基，c3-c7環烧基，Ci_C6烷基羰基， 烧氧基羰基，cvc：6烧基硫羰基，胺基羰基，Cl_c6烧基胺 基Ik基’二C^-C6院基胺基幾基’苯基或雜芳基，其中所 有此等取代基視需要經取代， R18為（VC6烷基羰基，（VC6烷氧基羰基，Ci_c6烷基 v幾基，烧基胺基幾基，二cvc6烧基胺基幾基， 烷基續醯基，苯基羰基’苯氧基羰基，苯基胺基羰基，笨 基硫羰基’苯基磺醯基’雜芳基羰基，雜芳氧基羰基，雜 芳基胺基羰基’雜芳基硫羰基或雜芳基磺醯基，其中所有 此等取代基視需要經取代， R19 為 CVC6 烧基 ’ C3-C6 稀基，c3-C6 炔基，c3-c7 環 烷基，CVC6烷基羰基，q-C6烷氧基羰基，Ci_c6烷基硫 羰基’ C「C6烷基胺基羰基，二Cl_c6烷基胺基羰基，c * 6 烧基項醯基，苯基或雜芳基，其中所有此等取代基視需要 經取代， R18及R19可被連接而形成視需要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或氮原子，其中所有此等取代基視需要 經取代， R20 為 cvc6 烷基 ’ c3-c6 烯基，c3-c6 炔基 ’ c3-c7 環 燒基’ CVC6烧基羰基’ Ci_c：6烷氧基羰基，Cl_c6烷基硫 碳基，胺基羰基，CrC6烷基胺基羰基，二（^-(^烷基胺基 釦基’ C「C6烷基磺醯基，三（Ci_C6烷基）矽烷基，苯基或 雜芳基’其中所有此等取代基視需要經取代。 242 200918540 s 3.根據申請專利範圍第1項之化合物，其中R3, R4, 矛R彼此獨立為氫，_素，羥基，曱醯基，胺基，氰 基或硝基，或 R ’ R4’ R5和R6彼此獨立為cvc6烷基，c2-c6烯基， :6炔基，eve：6烷氧基，c^c6烷基硫，Ci_C6烷基亞磺 I基，Cl_C6烷基磺醯基，環烷基，c4-c7環烯基， 三（CrC0烷基）矽烷基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基， 其中所有此等取代基視需要經取代，或 R5和R6彼此獨立為COR9，c〇2R】 或 CONR R12) CRn=NOR14, CR15=NNR16R17, NR18R!9 ^ 〇R2〇 其中 R9為cvc6烧基，c2_c6絲，C2_c6快基，CA環烧 環稀基，苯基，雜芳基或3至7員雜環基，其 中此等取代基視需要經取代， 為氫 ’ Cl-C6 院基，c3_c6 烯基，c3_c6 炔基，C3-C7 衣凡土，eve?環烯基，苯基，雜芳基或3至7 , 其中所有此等取代基視需要經取代， 、” 土 P為氫’ Cl-C6烷基’ c3_c6烯基’ c3_c6块基，以 3基’cvc6齒炫氧基，C3_Cm，C5_Cpf稀基， 雜芳基或3至7員雜環基，其中所有此等取代基視 需要經取代， RUCVW基，C3.C6 烯基，炔基，Ci_Ci 二：基，C「c6齒院氧基，c3_c7環烧基，環烯基，以 、兀基續醯基，胺基，CVM基胺基，二（CVC6)烧基胺基， 243 200918540 苯基’雜芳基或3至7員雜環其 —Λ & 其中所有此等取代基視 需要經取代，或 Rn及R12可被連接而形成沐 、 見而要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或氮原子， 二及二5彼此獨立地為氫，Μ院基或Wf烧基， η V…彼此獨立地為氣，…基，cvc6 烯基，C3-C6炔基’ c3-c7環烷其 p ^产诗 基，C1-C6烷基羰基，（VC6 烧乳基被基’ cvq烷基硫羰基， 、， i-C6院基胺基幾基，二 Cj-C6烧基胺基裁基，苯基或 乂雜务基，其中所有此等取代 基視需要經取代， R18 和 R19 為其，r p 環烷基’ cvc6烷基羰基，c c 6 基 C3_C6 烯基，C3-C6 炔基，c3-c7 燒氧基羰基，CVC6烷基 硫羰基’C丨-c6炫基胺基羰基，一 Γ m 土一 C丨-c6烷基胺基羰基，Cl_c< 烷基磺醯基，苯基或雜芳基，或 R及R19可被連接而形成視需要經取代之3至7員環， 視需要包含氧，硫或u历I，甘+ A鼠原子其中所有此等取代基視需要 經取代， 〇 20 ^ ”、1-C6烷基，c〆6烯基，c3-c6炔基，c3-c7環 、，山 1 C6烷基羰基，Cl_C6烷氧基羰基，crc6烷基硫 =土胺基扠基，Ci-C6烷基胺基羰基，二cvc6烷基胺基 叛？ ’ c「c6烷基磺醯基，三(Ci_c6烷基)矽烷基，笨基或 雜方基’其中所有此等取代基視需要經取代。 根據申凊專利範圍第1項之化合物，其中R3和R4 I V成單疋-0，或形成單元=CR21R22 ,或形成單元 244 200918540 =NR23，或與其所連接的碳原子形成3至8員環，其視鬵 要含有選自氧，硫或氮的雜原子以及視需要經Cl-C3烷基， (VC3烷氧基，cvq烷基硫，Ci_C3烷基亞磺醯基， 烷基磺醯基，CrC3鹵烷基，鹵素，苯基，經Cl-C4烷基， CVC4鹵烷基，CVC4烷氧基，Ci_c4烷基硫，Ci_c4烷基亞 磺醯基，CVC4烷基磺醯基，Ci_C4烷基碳基，C「C4烷氧 基羰基’胺基羰基，Ci-q烷基胺基羰基，鹵素，氰基取 代或經硝基，雜芳基或經Ci_C4烷基，Ci_C4鹵烷基， 烷氧基，cvc4鹵烷氧基，Ci_C4烷基硫，Ci_C4烷基亞磺 醯基，烷基磺醯基，Ci_c4烷基碳基，鹵素，氰基或 石肖基取代之雜芳基取代，其中 R21和R22彼此獨立為氫，鹵素，氰基或硝基，或 R21和R22彼此獨立為Ci_C6烷基，Ci_C6烷氧基，Ci_C6 烷基胺基，二C】-C6烷基胺基，Ci_c6烷基羰基，烷 氧基羰基，C^-C6烷基胺基羰基，二Ci_C6烷基胺基羰基， N-苯基-N-CVC6烷基胺基羰基，N_苯基_Ci_C6烷基_n_Ci_C6 烷基胺基羰基，N-雜芳基-N-C^C^烷基胺基羰基，N-雜芳 基-c「C6烷基-N-cvC6烷基胺基羰基，苯基，雜芳基，C3_ 哀烷基或3至7員雜環基，其中所有此等取代基視需要 經取代， R21和R22可被連接而形成5至8員環，其視需要包含 選自氧’硫或氮的雜原子且視需要經Cl-C2烷基或 烷氧基取代， R23為硝基或氰基，或 245 200918540 R23為 <：丨-匚6烷基胺基，二C丨_c6烷基胺基，c丨_c6烷氧 基，C^-C：6烯基氧基，C：3_C6炔基氧基，苯氧基，苯基胺基， N-苯基-N-CVC：6烷基胺基，N_苯基_Ci_C6烷基_n_c「C6烷 基胺基雜氧基，雜芳基胺基，N_雜芳基_N_CrC6烷基胺基 或N-雜芳基{「(:：6烷基_N_CrC6烷基胺基，其中所有此等 取代基視需要經取代。 5.根據申請專利範圍第1項之化合物，其中R3和R0 一起與其所連接的碳原子形成3至4員環，其視需要含有 選自氧，硫或NR24的雜原子或基團，以及視需要經c「c4 烷基，crc4烷氧基，烷基硫，鹵素，Ci_C4烷基羰 基或Ci-C4貌氧基幾基，或 R3和R6 —起與其所連接的碳原子形成5至8員環， 其視需要含有選自氧，硫或氮的雜原子，以及視需要經CrG 烷基，eve：3烷氧基，基硫，CrQ烷基亞磺醯基， Crq烷基磺醯基，Ci_C3鹵烷基，鹵素，苯基，經Ci_C4 烷基，cvc4幽烧基，Ci_C4烧氧基，Ci_c4鹵烧氧基，Ci_C4 烷基硫，cvc：4烷基亞磺醯基，烷基磺醯基，Ci_C4 烷基碳基，CpC：4烷氧基羰基，胺基羰基，CrG烷基胺基 羰基’一 CrC6烷基胺基羰基’鹵素，氰基取代或經硝基， 雜芳基或經（VC4烷基，Ci_c4 _烷基，Ci_c4烷氧基，Ci_ C4鹵烷氧基，Cl_c：4烷基硫，Ci_c4烷基亞磺醯基， 烧基確酿基’ Cl-C4烷基碳基，_素，氰基或硝基取代之 雜芳基取代，或 R3和R6 —起形成鍵， 246 200918540 R24為氫，c「c6烷基，c3-c6烯基，c3-c6炔基， 烧氧基’ C1-C6烷基羰基，CVC6烷氧基羰基，c c,-c 羰 CVC6烷基胺基羰基，苯氧基羰基c 烷基 C6烷 基磺醯基，苯基磺醯基或雜芳基氧基羰基，其 6 ^ Τ 有Jf望 取代基視需要經取代。 f 6·根據申請專利範圍第1項之化合物，其中 起形成鍵。 7_根據申請專利範圍第1項之化合物，其中R1和r8 彼此獨立地為氫或Ci_c3烷基。 8.根據申請專利範圍第1項之化合物，其中R1和R8 Γ起與其所連接的碳原子形成3 1 7貢環，其視需要包含 氧或硫原子。 匕9·根據申請專利範圍第1項之化合物，其中（3表示 風、驗金屬陽赫.. t 、驗土陽離子、疏陽離子或銨陽離子、 或按其、p 广 χ „ 6 土、3_C6 烯基或 C3-C6 炔基或潛伏化（latentiating) 其中Het係 其中R1為至 •根據申請專利範圍第1項之化合物 ，，、、視需要經取代之單環5_或6•員雜芳香環。 才艮據申凊專利範圍第1項之化合物 R以及G為氫、細為、基團， 247 200918540

   R26 (r2) 其中 X 為 S，Z 為]ST,R25 為 w 馮甲基或乙基且R26 Λ 4_氣 苯基或4-溴苯基。 @ ^ f 12, 種製備根據申請專利範圍第j 合物之方法。 13_ —種下式之化合物， 項所述之式（I)化

   I. (〇) 其中R1至R8係根據申嗜直划从阁β , 豕甲D月專利靶圍第1項所定義， R係為氫，CVC,焓其r广 Γ1_C6函烷基’ C”C6烯基， c2-c6 i 稀基’ c2_c6 炔 ..^ y L6 J衣烷基，c5-c6環烯基， 齒素’ c丨-c6烷氧基，c丨_c6烷氣美r 广A 6况虱基-Ci-C6烷基，c丨-c6鹵烷 乳土’視需要經取代之芳基 万丞視而要經取代之芳基氧基， 視舄要經取代$在鱼关其十、 ’、 土或視品要經取代之雜芳基氧基，且 248 200918540 R”’為氫，烧基或函烧基。 14. 一種下式的化合物，

   R25係為氫，_素，CVC4烷基，CVC4 _烷基， 稀基’CVC4齒稀基’c2_c4快基，Cl_C4烧氧基’Ci 烷氧基，CVC4烷基硫，Cl_C4烷基亞磺醯基，Ci_C4烷武* 醯基，石肖基或氰基，且RW為氫，Cl_C6烷基’ C〗_C6南^土基續 c2-c6烯基，c2-c6 i稀基，c2_c6炔基，c3_c6環燒基，/ 環稀基，鹵素，Cl_c6烧氧基，Ci_c6烧氧基_Ci_c6境基-C6 Cl c6鹵烷氧基’視需要經芳基取代，牙見需要經芳基氧基取 代’視需要經雜芳基取代或視需要經雜芳基氧基取代β 15. —種除草組成物，其除了包括調配物助劑之外，包 括除草有效量之式（I)化合物。 1 6 ·根據申請專利截圍楚 m仆人妝夕从 項之組成物，其除了包含式 進-许㈣2 除草劑作為混合夥伴，視需要 進步除卓劑作為混合夥伴和視需要的安全劑。 1 7· 一種控制有用植物之作物 包含將除草有效量之式 、卓和雜卓之方法，其 物施用至植物或其所在地。&物，或包含該化合物之組成 249