200844250 (1) . 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種用來塗佈一基材的設備及方法。 【先前技術】 塗佈基材的設備及方法在許多有用的應用中都是受人 關注的。舉例而言，在塗覆大型基材，譬如大型玻璃板， Φ 時使用針空及各式的處理氣體的設備與方法已受到關注有 一段時間了。大型基材，譬如建築用玻璃，可被塗覆上多 種物質用以改變其光學，熱學，及/或美學上的特性。例 如’ 一光學塗層可被用來降低可見光的透射性，降低能量 的吸收，減少反射，及/或追求特性的任何組合。此一光 學塗層可分別被稱爲一太陽光控制塗層，一低發射性塗層 ’ 一抗反射塗層，及/或一多用途塗層。美國專利第 6,589,657 號，名稱爲 ’’Anti-reflection Coatings and φ Associated Methods”及美國專利申請案第 2003/0043464 號 ’名稱爲 ’’Optical Coatings and Associated Methods” 中描 述了會影響到一玻璃基材的光學特性的塗層的形成及用途 ’這兩個文獻內容藉由此參照而被倂於本文中。 一種塗佈系統大體上包括一塗佈機及一些相連接的遠 端單元。該塗佈機（其亦可被稱爲一塗佈系統）大體上包含 多個以串聯方式配置之處理模組或處理室，使得基材可從 一處理模組前進至下一個處理模組。該基材係沿著一從上 游至下游的基材前進方向由滾子來加以支撐及移動。該基 -4- 200844250 · (2) · 材大體上由該塗佈機的一端，或上游端，進入，通: 處理模組，該基材在這些模處理模組中用一種物質: 不同的物質塗佈，並在該塗佈的另一端，或下游端 塗佈機。該基材可被擺置成"水平或幾近水平並沿著 或幾近水平的平面被移動通過該塗佈機，或該基材 置成垂或幾近垂直並沿著一垂直或幾近垂直的平面 通過該塗佈機，或可被被其它的擺置並依此被移動 φ 塗佈機。 大型機材的塗佈是具有挑戰性的。舉例而言， 的玻璃通常被製造成3.2公尺乘6公尺（126英吋乘 吋）的大型板材，這是很難在塗佈機內搬運及處理 種適合塗佈大型基材，譬如建築中玻璃，的塗佈系 材通過路線上的方向上將會有數百英呎的長度，會 設施內佔據了大量的空間，且在採購，容納操作及 都將耗費鉅資。 φ 圖1爲一塗佈機2的示意圖，該塗佈機可被用 一基材4，譬如塗佈上文中提到的大型基材，或數 。該圖從該塗佈機2的下游端來顯示該塗佈機的上 立體圖，其中有一基材4從該塗佈機2的下游端出 塗佈機2具有數個以串聯的方式設置的處理模組， 組A及B，在處理期間該基材4係在一從上游到下 向上（在圖中以方向箭頭來標示）通過該等處理模 此例子中，基材4具有一水平向的擺置方位用以沿 平的平面移動通過塗佈機2的處理模組，如圖所示 多個 多種 離開該 —水平 可被} 被移動 通過該 建築用 23 6英 的。一 統在基 在處理 維修上 來塗佈 片基材 及側邊 來。該 譬如模 游的方 組。在 著一水 。塗佈 -5- 200844250 (3) 機2可具有數個位在處理模組之間的細縫閥，它們可位在 室內，譬如圖1所示的細縫閥室6，8及10。 圖2提供此塗佈機2的一部分的進一步細節。該圖顯 示塗佈機的上部，與圖1所示相同的一側，及靠近與圖1 所示之下游端相對的上游端的部分。在此圖中，塗佈機2 係以從上游至下游的式被顯示，其具有一細縫閥室6，一 由6個室14所構成的處理模組A (其包括室A5及A6) ^ ，一細縫閥室8，及一處理模組B其係由數個室14所構 成並包括室B1及B2。該塗佈機2具有數個滾子1〇用以 將基材（未示出）沿著基材前進路線12移動，該基材前 進路淡爲一條基材於一上游至下游的方向上（即基材路線 上的箭頭所標不的方向）被移動通過該塗佈機的路徑。在 此例子中，滾子1 0係位在每一室內。滾子1 0具有一適合 支撐基材的整個寬度的寬度，譬如從與基材寬度SW (圖 1 )或多或少相等的寬度，如約1 000mm至約3 3 00mm，到 φ 與一室寬度CW (圖1 )相當的寬度，如約1 000mm至約 4210mm，及一分開距離SD (圖2)其平行於該基材前進 路線用以適當地支撐基材，譬如一不大於約3 00mm的分 開距離。大體上，在該塗佈機2中的所有滾子1 0可在大 致相同的速率下被轉動且基材通過該塗佈機的移動速率是 大致固定的。 將處理模組分隔開來的細縫閥處理室的細縫閥可以打 開的，用以讓基材在處理期間從一處理模組通過到達另一 模組。因此，一處理模組可透過細縫閥的開孔而與相鄰近 -6 -
200844250 (4) 的處理模組流體聯通，或透過多個細縫閥的開孔 相鄰的處理模組流體相聯通。該流體聯通可用多 小。舉例而言，該細縫閥開口的大小可被縮小到 基材通過其間之可行的或可能的程度，用以減小 之間的流體聯通。進一步舉例而言，一介於沿著 路線通過之基材之間的間距或間隙可被縮小到可 能的程度，用以減小被帶入的流體量或郵著該基 線從該間隙進入的流體量，並藉以減小介於處理 的流體聯通。 該塗佈機之每一處理模組可由數個室1 4構 處理模組之室1 4的數目可以是相同的或是不同 ，一個平行於該基材前進路線且從該模組的入口 口的處理模組的尺寸可以與其它處理模組相同（ 示）亦或可以與其它處理模組的尺寸不同。爲了 ，平行於基材前進路線的方向的尺寸被定爲”長 是這並不是最長的尺寸。（參見圖1及2中處理 長度AL及處理模組B的長度BL。）該等處理模 大小上可以是相同的，譬如長度（約600mm至糸 )，寬度（約 1 000mm至約4210mm)，深度（ 至約 1 000mm)，及體積（約 0.2m3至約3m3 ) 中的室1 4所示，因爲這有利於處理模組的架構 構，以及有利於該塗佈機的結構。這些室可用於 的或不同的目的。舉例而言，一個室可用於一處 在該處理室內塗佈一基材。進一步舉例而言，一 而與多個 種方師減 一可讓該 處理模組 基材進進 行的或可 材則進路 模組之間 成。每一 的。因此 延伸至出 如圖1所 方便起見 度，即使 模組A的 :組的室在 ^ 1 0 0 5mm 約 3 5 0mm ，如圖2 ;或重新架 •類似的目 :理，譬如 •室可被用 200844250 (5) 於另一個目地或其它的目的，譬如透過與該抽吸室相關連 之一或多個幫浦抽吸。具有不同功能的處理室，譬如沉積 室或塗佈室及抽吸室，是可互換的。 一塗佈機，譬如圖1及2中所示者，可用在塗佈處理 中，其涉及了在基材移動通過靶材時將一標靶物質從一圓 柱形或平面的靶材濺鍍至大型基材上。將把材物質灑鍍至 大型基材上涉及了使用一用於濺鍍之高功率電源供應器及 φ 使用一用於熱控制，譬如避免過動加熱，的冷卻水。一種 透過一圓柱形標靶或磁電管來濺鍍物質的系統及方法被揭 露在美國專利第 6,73 6,948號，名稱爲’’Cylinder AC/DC Magnetron with Compliant Drive System and Improved electronic and Thermal Isolation"中，其內容藉由此參照 被倂於本文中。一種透過一平面標靶來濺鍍物質的系統及 方法被揭露在美國專利第 4，166,018 號，名稱爲 ’’Sputtering Process and Apparatus'·中，其內容藉由此參照 φ 被倂於本文中。 濺鍍大體上係發生在真空環鏡中。在本文中，'’真空π 一詞可葸指一在低於大氣壓力的壓力下之氣體。大體上， 用來塗佈玻璃的濺鍍處理都是在毫托（mTorr)的壓力範 圍內實施的。在用來塗佈大型玻璃板的濺鍍處理中，些玻 璃板都是在真空下在該標靶被轉動及靶材被濺射時被移動 通過該標靶。該處理涉及了維持一適合濺鍍的的真空環境 ，同時將部件移動於該真空環境內。在某些濺鍍處理中， 一氣體可被引入到該濺鍍室內用以促使反應性的灑鍍發生 -8- 200844250 (6) 。大體上，反應性濺鍍包含氣體與被濺鍍的標靶物質之間 的互動或反應，用以形成一物質層於一基材上。可被引入 一濺鍍處理中的氣體量通常是很小的’使得處理壓力被維 持在遠低於大氣壓力之下且處理蒼室仍可被視爲是在真空 下。 在圖2的塗佈機2中，具有不同功能的處理室，譬如 沉積或塗佈室及抽吸室’是可互換的。在此塗佈機中’室 φ A5與B2可以是被用來沉積物質（譬如藉由濺鍍）於一基 材上的處理室，及室A6與B1 (其設在處理室A5及B2) 之間）可以是抽吸室，它們被用來提供適當的真空。圖3 爲塗佈機2的一部分的示意圖’其以垂直剖面圖的方式顯 示該塗佈機的一側。如圖所示，該塗佈機2從上游到下游 具有一抽吸室A6其與一處理模組A相關連，一細縫閥室 8，及一抽吸室B 1其與一處理模組B相關連。抽吸室A6 及B1中的每一者都配備有數個滾子10，如上文中提及的 φ ，以及一幫浦1 6及1 8，其分別位在該抽吸室的頂部。抽 吸室A6及B 1中的每一者都分別典型地配備有多於一個的 幫浦16及18。每一個幫浦16及18都可進一步與一支援 或數個支援幫浦（未示出）相關連。 如之前提到的，一處理模組可以與一相鄰的或多個相 鄰的處理流體連通。因此，氣體可流動於相鄰的處理模組 之間，譬如圖3的處理模組A及B之間。大體上，減少， 最小化或消除在處理期間流動於處理模組之間的氣體流是 所想要的。如果與處理模組相關連的處理並非是充分相容 -9- 200844250 (7) 的或是完全不相容的話’減少’最小化或消除在處理期間 流動於處理模組之間的氣體流就更是所想要的了。雖然不 相容的處理通常不會在同一處理模組內實施，但是會在相 鄰的處理室內實施。 相同地’一處理室可以與一相輪的處理室流體連通或 與多個相輪的處理室流體連通。因此，氣體會流動於相鄰 的處理室之間，譬如圖2的模組A5與A6，A6與B1，及 % B 1與B 2。大體上，減少，最小化或消除在處理期間流動 於處理模組之間的氣體流是所想要的。如果與處理模組相 關連的處理並非是充分相容的或是完全不相容的話，減少 ，最小化或消除在處理期間流動於處理模組之間的氣體流 就更是所想要的了。雖然不相容的處理通常不會在相鄰的 處理模組內實施，但是會在被抽吸室隔開來的處理室內實 施。舉例而言，一個用於反應性濺鍍處理（即，其使用氧 氣環境來產生氧化層）中之處理室可位在相對於一處理室 • 的上游或下游處，其被用於對氧氣存在或含氧氣體的存在 很敏感的處理中。在此例子中，或任何其它適當的例子中 ，抽吸室，及相關連的幫浦可被設置在兩個處理室之間， 且可分別被使用在一細縫閥室的一側或另一側上，或並排 使用，用以減少兩個處理室之間的氣流或污染。以此方式 ，與一處理室中的一處理相關的氣體或污染會在到達該細 縫閥室或相鄰的處理室之前即被抽吸到該塗佈機外。
舉例而言，當處理室A5及抽吸室A6被建構在處理 模組A內，及處理室B2及抽吸室B 1被建構在處理模組B -10- 200844250 (8) 內，且處理模組A與處理模組B係位在細縫閥室8的相反 側上時，如圖2所示，與抽吸室A6相關連的幫浦16，如 圖3所示，可被用來降低從該抽吸室A6到達或擴散至細 縫閥室8的氣體量，且與抽吸室B1相關連的幫浦1 8，如 圖3所示，可被用來降低從該抽吸室B1到達或擴散至處 理室B2的氣體量。抽吸室A6及B1與相關的幫浦16及 18因而可分別被用來減少從處理室A5到達處理室B2的 φ 氣流，或可提供某種程度的氣體隔離於至些處理室之間。 以上所述之使用至少兩個抽吸室，幫浦，及一細縫閥室的 結構的設備與方法被用來提供某種程度之氣體隔離於相鄰 的處理室及/或模組之間。 用於塗佈基材的設備，系統及方法的開發通常是所想 要的。 【發明內容】 一種用來塗佈一由其間通過的基材的設備被提供。該 設備包含一處理室其能夠讓該基材經由一途徑由其內通過 且可透過一氣體塗佈該基材，另一個具有類似特徵之處理 室，及一抽吸室，其被設置在該二處理室之間。對於每一 處理室而言，該途徑的長度是從該處理室的一入口延伸至 一出口。使用在該二處理室中的氣體可以是相同的’亦可 以是不同的。該抽吸室能夠讓一基材經由一從該抽吸室的 一入口延伸至一出口的長度的路徑由其內通過。該路徑和 與該二抽吸室相關連的途徑可操作地相連通。 -11 - 200844250 (9) 在上述的設備中，該抽吸室與該二處理室及可用幫浦 將氣體由其內抽出之路徑可操作地相連通。該抽吸室能夠 將與一處理室相關連的氣體和與另一處理室相關連的氣體 相對於彼此近似地隔離開。該抽吸室在該路徑長度小於與 一處理室相關連的途徑長度的2倍，與另一處理室相關連 的途徑長度，或兩個途徑長度的平均値時即可如此足夠。 該設備能夠提供與該基材塗佈相關之3 5比1之與一處理 φ 室相關的氣體壓力對與另一處理室相關的氣體壓力的比率 〇 一種從一設備抽吸氣體的方法亦被提供，該設備係用 於塗佈一通過其內的基材。該方法包含提供上文所述之設 備並透過與該基材塗佈處理相關之幫浦從該路徑及兩個處 理室抽吸氣體。該抽吸能夠將與一處理室相關連的氣體和 與另一處理室相關連的氣體相對於彼此近似地隔離開。 一種用來抽吸與一基材塗佈處理相關之氣體的設備亦 φ 被提供。該設被包含一抽吸室及高壓真空幫浦。該抽吸室 被設計成與一和該抽吸室的一側鄰接的處理室以及一與該 抽吸室的另一側鄰接的另一處理室可操作地連通。在該抽 吸室的一側的處理室具有一長度，而在該抽吸室的另一側 的處理室則具有另一長度。該抽吸室具有一路徑供一基材 通過該抽吸室。該路徑長度小於與一處理室相關連的途徑 長度的2倍，與另一處理室相關連的途徑長度，或兩個途 徑長度的平均値。該高真空幫浦係可相關於該幫浦室操作 且能夠將與一處理室相關連的氣體和與另一處理室相關連 -12- 200844250 (10) 的氣體相對於彼此近似地隔離開。這些氣體可以是相同的 亦或可以是不同的。 一種抽吸與一基材塗佈處理相關的氣體的方法亦被提 供。該方法包含提供上文所述之設備並透過與該基材塗佈 處理相關之幫浦從該路徑，一處理室抽及另一處理室抽吸 氣體。該抽吸能夠將與一處理室相關連的氣體和與另一處 理室相關連的氣體相對於彼此近似地隔離開。 g 在有需要或在想要的時候，一單一的抽吸室即足夠提 供一可接受的程度之氣體隔離於處理或塗佈室之間。當使 用於一塗佈機上時，此單一抽吸室可達到大於約20比1 之氣體隔離率，譬如高達約3 5比1的氣體隔離率。在降 低設備成本，塗佈機複雜性，及/或類此者來考量時，使 用單一抽吸室是有利的，且在大型的多模組塗佈機上，譬 如用來將基材塗覆5層或更多層物質層，如6至8層物質 層，的塗佈機上是特別有利的，因其使用了爲數眾多的氣 φ 體隔離室。許多包含了三艙室的多模組塗佈機會是有用的 ，在這些艙室中一單一抽吸室位於兩個塗佈室的側面，如 本文中所描述者。 這些及許多各式的態樣，特徵，及實施例將於本文中 進一步說明。 【實施方式】 在此說明中應被瞭解的是，本文中以單數形式出現的 字包含了它複數的意涵，及以單數形式出現的字包含了它 -13- 200844250 (11) 複數的意涵，除非有隱含的或外顯的理解或作出相反的陳 述。又，應被瞭解的是，對於本文中所提到的任何構件而 言，該構件之任何可能的候選者或替代物都可被單獨地或 以任何組合的方式加以使用，除非有隱含的或外顯的理解 或作出相反的陳述。此外，應被瞭解的是此等候舉這或替 代物的任何名單都只是示範性的，而非限制性的，除非有 隱含的或外顯的理解或作出相反的陳述。再者，應被瞭解 Φ 的是，本文中所出現的任何數字或數目或數目都是近似値 ，且任何數値範圍都包括界定該範圍的最小數字與最大數 字，不論”包含π—字或類似的字是否有出現都是，除非有 隱含的或外顯的理解或作出相反的陳述。再者，應被瞭解 的是，任何所使用的標題都是爲了方便而不是爲了限制。 此外，應被理解的是，任何開放式的用語都包含了較不開 放至完全封閉式的用語，，除非有隱含的或外顯的理解或 作出相反的陳述。舉例而言，”包含” 一字可涵蓋了 ”包含” Φ ，"主要由…構成”，及/或"由…構成”之類的用語。 各式的用詞都是爲了促進理解而被使用於本文中。應 被瞭解的是，一相應的一般性描述或這些不同的用詞的使 用適用於至些不同的用詞之相對應的語言或文法上的變化 。同樣應被瞭解的是。一般性的描述或使用或本文中之任 何用詞之相應的一般性描述或使用在該用詞是在一非一般 性的或更爲特定的方式被使用時則不適用或不完全適用° 同樣應被瞭解的是，本文中所用之用來描述特定實施例的 修詞或描述都不是限制性的。應進一步瞭解的是，描述於 -14- 200844250 (12) 本文中的實施例或描述於本文中的應用都不是限制性的， 因爲它們都會變化。 如圖4所示，一塗佈機4 0包含至少一處理模組4 2其 具有數個室或隔間44。一模組塗佈機可用特定的方式加以 建構，譬如用相同尺寸之建造好的處理室及抽吸室來建構 ，且不能重新組建。舉例而言，一模組塗佈機40可用一 成組的處理模組42來建構，其從上游端至下游端包含一 φ 抽吸室（P )，另一抽吸室（P )，數個處理或塗佈室（， 譬如三個處理室（CCC )及另一抽吸室（P )，藉以形成 具有6個室44之成組的結構（PPCCCP )。一用於大型基 材，譬如建築用玻璃，之塗佈機可藉由將此處理模組一個 接一個的方式加以建造。一適當的細縫閥或細縫閥室可被 使用在相鄰的處理模組之間，譬如在美國專利申請案第 11 /150,360 號，名稱爲 ’’Dual Gate Isolation Maintenance Slit Valve Chamber with Pumping Option”中所揭示的任何 φ 一種細縫閥，例如示於該申請案的圖5-9中的細縫閥。 整個塗佈機因而具有一組相鄰的處理模組構成的結構 (PPCCCP/PPCCCP/PPCCCP ，如圖所示，或 PCCCPP/ PCCCPP/PCCCPP等，或類此者）。被安排成與一在多模 組結構（CP/PPC )中之塗佈室相鄰兩個抽吸室46及50中 的每一抽吸室可被用來抽吸相鄰的塗佈室，如在圖4中之 與抽吸室4 6及5 0相關連的箭頭所標不’而被安排該多模 組結構中之兩個抽吸室46及5〇之間之有時被稱爲一隔離 一隔離隔間的其餘的抽吸室4 8可被用來抽吸與該基材通 -15- 200844250 (13) 過抽吸室46，48及50之通路相關連的路徑。適當 52可被使用在該隔離隔間48中，使得該隔離隔間 分或一半可被分離地抽吸，如圖4中之與隔離隔間 關連的箭頭所示。擋板52亦可被稱爲一內部充氣 產生隔離隧道於該抽吸室48內。每一抽吸室被配 個擴散幫浦54，它們因爲有很大的足跡所以係如圖 被垂直地支撐在該室的兩端。 在上述的模組塗佈機中，擴散幫浦54通常是 熱油真空幫浦，其與渦輪分子幫浦相較，在相對高 能力或抽吸速度及低花費方面是有優點的，而在可 污染，高的供率要求（例如，每一抽吸需要9kW) 足跡方面則是較不具優勢的。舉例而言，——熱油幫 具有每秒9000公升的能力）通常都具有一大的足 別是以相關的溝槽而言，該溝槽通常都是沿5 6統 設置用以容納該幫浦的高度。此大的足跡具有相關 成本。又，舉例而言，雖然與一熱油幫浦有關的油 在一故障模式下才會發生，但它會伴隨事後之大量 潔而產生另一設備成本。 在此一模組塗佈機中，這少三個完整的抽吸室 )被用來在有必要或有需要時提供一可接受的氣體 度於處理或塗佈室之間。如圖4B所不’與這三個 46，4 8及5 0中的每一個抽吸室相關連之流體連通 導引狹縫55，57及59可具有約200至約300公釐 。此等導引狹縫可被稱爲隧道。此一模組塗佈機可 的擋板 的一部 48相 室其可 備有兩 所示地 高速的 的抽吸 能的油 及大的 浦（其 跡，特 的側邊 的設備 污染只 人工清 (P/PP 隔離程 抽吸室 .或氣體 :的長度 具有從 -16 - 200844250 (14) 約20至3 0比1的氣體隔離比（其中該氣體隔離比爲在該 三個抽吸室的上游之塗佈室內的氣體壓力與在該三個抽吸 室的下游之塗佈室內的氣體壓力的比値）’處理收吸係發 生在抽吸室46與50內且氣體隔離抽吸係透過與氣體導引 狹縫55，57及59相連通之半隔間47與49而發生在抽吸 室48內，如圖所Tpc。如早先提到的’適當的檔板52可被 用來促進氣體的隔離，譬如提供與位在該室的遠側（即圖 φ 4A的最上面的部分）處的氣體導引狹縫55及57相連通 的半隔間47的擋板，同時擋住與該室的近側（即圖4A的 最下面的部分）上的狹縫的連通，及提供與位在該室的近 側（即圖4 A的最下面的部分）處的氣體導引狹縫5 7及 59相連通的半隔間49的擋板，同時擋住與該室的遠側（ 即圖4A的最上面的部分）上的狹縫的連通。 一模組塗佈機在建構與重新建構方便可被設計得夠具 彈性。此種模組塗佈機的一個例子爲VAC8 70塗佈機，其 φ 可由Applied Films公司（設於美國加州Fairfield )購得 。此塗佈機60的結構64的示意圖示於圖5A中。如圖所 示，室62的大小相同，這有助於處理模組的建構及/或重 新建構，以及有利於整個塗佈機。因此，塗佈機60可被 稱爲一個模組室式塗佈機。室6 2可用於相同的功能或不 同的功能，譬如像是塗佈，抽吸或一些其它的作用。圖中 所示的塗佈機60的結構64爲開放式的結構，室62沒有 頂部結構或頂蓋且沒有端部結構或端蓋。開放式結構64 在建構上是相當有彈性的且可單純地藉由增加適合一特定 -17- 200844250 (15) 應用之頂部結構及端部結構的方式即可建造或重新建造適 合該特定應用的結構。舉例而言，一將一室62的頂部封 閉但容許進出一室（譬如抽吸氣體進出）的頂部結構（未 示出）及一將一室62的端部封閉但容許進出一室（譬如 抽吸氣體進出）的端部結構（未示出）可被加至該開放式 結構上。又，舉例而言，模組，例如抽吸模組或塗佈模組 ，可與一室相關連，譬如一室的頂部，如描述於Phillip φ Μ· Petrach於2005年5月 20日提申之名稱爲·’Modular Coating System”的美國專利暫時申請案第60/682,985號及 共同繫屬中之由Phillip M. Petrach於2006年5月8日提 申之名稱爲”Modular for a Coating System and Associated Technology"的美國專利暫時申請案中，這兩個文獻的內 容藉由此參照被倂於本文中。如圖所示，該開放式結構64 的每一個室62都具有一開口或狹縫66以供一基材通過該 室及開口或狹縫6 8以提供與該室的流體連通，譬如與抽 ^ 吸相關者。 舉例而言，一模組塗佈機60可用成組的結構之處理 模組62來建造，其從上游端至下游端包含一抽吸室（P ) ，數個塗佈室，譬如兩個塗佈室（CC )，及另一個抽吸室 (P )，並獲得由6個室62所構成之成組的結構（ PCCPCC )，如圖5A所示。在此例子中，一抽吸室被設在 兩個相鄰的塗佈室的側面上，一個塗佈室是在該抽吸室的 上游側，另一塗佈室是在該抽吸室的下游側，該收吸室能 夠抽吸來自下游側的處理氣體及抽吸來自上游側的氣體。 -18- 200844250 (16) 然而，在此例子中’單一個抽吸室通常並不能夠提供可被 接受的或所想要的氣體隔離’特別是在上游處理氣體與下 游處理是不相同或不相容時’其氣體隔離比最多爲約5比 1 ° 舉例而言，用於大型基材（譬如建築用玻璃）的塗佈 機可用一此種處理模組其後接著另一個處理模組的方式來 建造，每一處理模組具有相同的或不同的塗佈及抽吸室的 φ 結構，使得整體的塗佈機具有一成組的結構（PCCPCC/ PCPPCP/PCCPCP，等）之相鄰的處理模組。在此例子中， 當一抽吸室係設在相鄰的塗佈室的側面上，一個塗佈室是 在該抽吸室的上游側，另一塗佈室是在該抽吸室的下游側 時，該抽吸室如上文中提到的通常並不能夠提供可被接受 的或所想要的氣體隔離。然而，在此例子中，當有兩個抽 吸室被設在相鄰的塗佈室側面上，一個抽吸室在上游側的 塗佈室上，另一個抽吸室在下游側的塗佈室上時，如圖 φ 5B及5C所示，這兩個抽吸室可提供可被接受之氣體隔離 ，這將於下文中進一步說明。 圖5B及5C所示之模組塗佈機60包括了一種4個室 或隔間的結構（CPPC，C/PPC，或CPP/C )，從上游端至 下游端分別爲一處理或塗佈室70，兩個抽吸室72及74， 及另一個塗佈室76。舉例而言，如圖5C所示的，一適當 的細賵閥63或細縫閥室可如上文中所述的使用在相鄰的 處理模組之間。抽吸室72及74中的每一者都配備有多達 6個的渦輪分子幫浦82 (通常是具高真空之轉子式幫浦） -19- 200844250 (17) ，其可被支撐在該室的頂部。抽吸室72及74中的每一者 都包含兩個半隔間，即，一個半隔間7 8與一塗佈室相鄰 ，其配備有多達三個的幫浦82用來抽吸該相鄰的塗佈室 ，另一個半隔間8 0與前述的半隔間7 8相鄰，其亦配備有 三個幫浦82用來抽吸與基材通過該室相關之路徑86，如 圖5所示。舉例而言，半隔間78(圖5B及5C中之最左 邊的半隔間78 )可被用來抽吸相鄰的塗佈室70 (其包含 φ 一陰極或標靶），另一個半隔間78 (圖5B及5C中之最 右邊的半隔間7 8 )可被用來抽吸相鄰的塗佈室7 0 (其包 含一陰極或標靶）。塗佈室的抽吸可透過開口或狹縫6 8 來達成。適當的擋板88可被使用在抽吸室72及74內， 使得這些抽吸室內的一部分或半隔間係被分開來抽吸。舉 例而言，一個半隔間80(圖5B及5C中之最左邊的半隔 間80 )可被用來抽吸介於導引狹縫71與導引狹縫73之間 的路徑，另一個半隔間8 0 (圖5 B及5 C中之最右邊的半 φ 隔間8〇 )可被用來抽吸介於導引狹縫73與導引狹縫75之 間的路徑。該路徑8 6的抽吸可透過開口或狹縫8 4來達成 。適當的擋板89可被使用在抽吸室72及74內，使得這 些抽吸室內的一部分或各導引狹縫係被分開來抽吸。 在上文所描述的模組室塗佈機中，兩個完整的抽吸室 72及74被用來提供與三個導引狹縫71，73及75相關連 之適當的氣體隔離。導引狹縫71，73及75的長度可如圖 5 C所示地爲相同，大致相同或不同。導引狹縫的長度， 或導引狹縫一起的總長度是在決定與抽吸室7 2及7 4相關 -20- 200844250 (18) 或與其半隔間相關之氣體隔離比率時的因素。一導引狹縫 的長度約爲4 0 0公釐至約5 0 0公釐（並不包含介於相鄰的 導引狹縫之間的兩個開口或間隙的長度（約1 50公釐）） ，且該氣體隔離比率的範圍約爲2 0比1至約3 0比1，端 視所用之幫浦的數目或兩個開口 8 4的抽吸能力而定。 在上文所述之模組室塗佈機中，該渦輪分子幫浦8 2 相較於擴散式幫浦而言在低功率需求（例如，每次抽吸爲 φ 1 Kw或更小）及小足跡等方面是有優點的，但相較於擴散 式幫浦而言在相對低的抽吸能力或抽吸速率及較高的花費 (譬如貴了約2.5倍）等方面則是有缺點的。舉例而言， 渦輪分子幫浦係安裝在，通常不會有用於擴散參幫浦的側 裝式溝槽及相關的足跡。在上文所述之模組室塗佈機中， 至少兩個完整的抽吸被用來在有需要或有必要的時候提供 一可被接受的程度的氣體隔離於處理或塗佈室之間。這兩 個圖5中的抽吸室72及74莒有約1 400至約1 800公釐的 φ 長度且氣體隔離比率係從約25比1至約3 5比1，其中該 氣體隔離比率爲在相鄰的塗佈室70內的氣體壓力對在相 鄰的塗佈室76內的氣體壓力的比値。 依據一實施例，一如圖6A及6B所示的多模組塗佈機 90包括了一個三室或隔間的結構（例如，CPC，C/PC，或 CP/C )，即從上游端至下游端分別爲一處理或塗佈室92 ，一抽吸室94及另一塗佈室96。該基材可經由一設在抽 吸室94的側邊上的狹縫114而通過該塗佈90及抽吸室94 。當待塗佈的基材很薄時，譬如一薄的玻璃板，該狹縫 -21 - 200844250 (19) 1 1 4只比該玻璃的厚度稍大，使得在該塗佈處理所用的壓 力下，該窄的狹縫可有效地阻擋氣體流。 該抽吸室94可配備有多達6個渦輪分子幫浦102其 可被支撐在該室的頂部，及兩個擴散式幫浦104，一個被 支撐在該室的一端，另一個則被支撐在該室的另一端。該 抽吸室94可包含兩個半隔間，亦即，一個與該塗佈室92 相鄰的半隔間98其配備有多達三個的渦輪分子幫浦102 用來抽吸該塗佈室92，及與前述的半隔間9 8及該塗佈室 96相鄰的另一個半隔間1 〇〇其亦配備有多達三個的渦輪分 子幫浦102用來抽吸外塗佈室96。該等塗佈室的抽吸可經 由開口或狹縫1 1 2來達成，如之前所討論的且如圖6所示 。與抽吸室94相關連的擴散式幫浦104可被用來抽吸與 該基材通過該室的路徑1 06，如圖6所示。該擴散式幫浦 i 〇4可與該半隔間98相關連且另一擴散式幫浦104則與半 隔間1 〇〇相關連，如圖6所示。該路徑106的抽吸可透過 0^ 開口或狹縫1 〇 8來完成，如圖6所不。一適當的擋板1 1 〇 及適當的擋板1 1 1可被使用在該抽吸室9 4內’使得這些 室的半隔間的部分被分開來抽吸’及使得該路徑的不同部 分或導引狹縫被分開來抽吸。 在上面所描述的塗佈機中，一單一的抽吸室94被用 來提供與三個導引狹縫（未示出）相關連之適當的氣體隔 離。該等導引狹縫可用一種類似於圖7B所示的導引狹縫 201，203及2 05的方式來加以建造，這將於下文中說明。 該等導引狹縫的長度可以與圖7B所示的相同，大致相同 -22-
.200844250 (20) ，或不同。導引狹縫的長度，或導引狹縫一起的總長度 決定與抽吸室94相關或與其半隔間相關之氣體隔離比 時的因素。舉例而言，一導引狹縫的長度約爲200公釐 約300公釐之間，譬如約250公釐，三個引導狹縫的總 度是在約700公釐至約900公釐之間，譬如約700公釐 (這並不包含介於相鄰的導引狹縫之間的兩個開口或間 的長度（約1 5 0公釐）），且該氣體隔離比率的範圍約 約2 0比1至約3 5比1，譬如約2 0比1至約3 0比1， 端視所用之幫浦的數目或兩個開口 222的抽吸能力而定 在此一塗佈機中，一單一的抽吸室可在有需要或有 要時被用來提供一可被接受的氣體隔離程度於處理或塗 室之間。與此室相關之一^單一導引狹縫的長度約爲2 0 0 釐至約2 5 0公釐。當使用於一塗佈機中時’該單一的拍 室可具有一高於2 0比1 2的氣體隔離比，譬如高達約 比1。以上述的方式來使用一單一抽吸室在降低設備成 ，塗佈機足跡，建構時間及勞力’操作時間及勞力’與 佈機複雜度上是有利的’在大型多模組式塗佈機上是特 有利的，譬如像是用來塗佈具有5層或更多層物質層纪 材，如6至8層物質層’的塗佈機’這些塗佈機上都赛 了爲數眾多的氣體隔離室。 各種包含三個室或隔間的結構的多模組塗佈機是往 用的，其中一單一抽吸室被設置在兩個塗佈室側面上， 如同上文中所述。依據示於圖7A及7B*所示的實施存 此一單一抽吸室200包含兩個半隔間，即一個半隔間 是 率 至 長 隙 爲 這 〇 必 :佈 公 1吸 35 :本 [塗 e別 }基 ，設 I有 就 !1， 202 -23- 200844250 (21) 其位在與一塗佈室（未示出）相鄰處及其與前述的半隔間 2 02相鄰的另一個半隔間204其可與另一個塗佈室（未示 出）鄰接。待塗佈的基材（未示出）可經由與該抽吸室的 側邊相關連之開-口或狹縫2 2 4而通過該抽吸室2 0 0 ’就如 上文中描述的。每一個半隔間202與204都配備有多達三 個渦輪分子幫浦206用來抽吸一相鄰的塗佈室。每一個半 隔間都配備有一擴散式幫浦208其被支撐在半隔間的端部 ^ 212，及多達兩個渦輪分子幫浦210其可被支撐在該半隔 間的另一端214，用來抽吸與該基材通過該室有關之路徑 216，如圖7所不。在圖7A中，每一個半隔間都具有兩個 渦輪分子幫浦206，但只看到一個擴散式幫浦208與該半 隔間202相關連，及每一個半隔間只有一個渦輪分子幫浦 2 1 0可被看到。相鄰的塗佈幫浦（未示出）與路徑2 1 6的 抽吸如上文中所描述地可分別經由開口或狹縫220及222 來達成。適當的擋板218及適當的擋板219可被使用在該 φ 抽吸室200內，使得這些室的半隔間的部分被分開來抽吸 ，及使得該路徑的不同部分或導引狹縫分別被分開來抽吸 〇 在上面所描述的塗佈機中，一單一的抽吸室200被用 來提供與三個導引狹縫201，203及205相關連之適當的 氣體隔離。該等導引狹縫201，203及205的長度可以與 圖7B所示的相同，大致相同，或不同。導引狹縫的長度 ，或導引狹縫一起的總長度是決定與抽吸室2 0 0相關或與 其半隔間相關之氣體隔離比率時的因素。這些參數可以如 -24- 200844250 (22) 之前參照圖6所描述的一樣。一單一的抽吸室可被使用在 一塗佈機中用以在有需要或有必要時被用來提供一可被接 受的氣體隔離程度於處理或塗佈室之間。又，一抽吸室可 具有與上文中參照圖6所描述之抽吸室的長度及氣體隔離 比相同的長度及氣體隔離比。 依據另一實施例，一示於圖8A，8B及8C中之單一 抽吸室250可如上文所描述地被設置在兩個塗佈室（未示 φ 出）的側面上。待塗佈的基材（未示出）可經由與該抽吸 室的側邊相關連之開口或狹縫266而通過該抽吸室250， 就如上文中描述的。該抽吸室2 5 0包含兩個半隔間，即一 個半隔間252其位在與一塗佈室（未示出）相鄰處及其與 前述的半隔間2 5 2相鄰的另一個半隔間254其可與另一個 塗佈室（未示出）鄰接。每一個半隔間都配備有多達三個 渦輪分子幫浦2 5 6其可被支撐在該半隔間的頂部用來抽吸 一相鄰的塗佈室及用來抽吸與該基材通過該室有關之路徑 φ ，如圖8所示。相鄰的塗佈幫浦（未示出）與路徑21 6的 抽吸如上文中所描述地可分別經由開口或狹縫25 8及260 來達成。適當的擋板264及適當的擋板265可被使用在該 抽吸室2 5 0內’使得這些室的半隔間的部分被分開來抽吸 ，及使得該路徑的不同部分或導引狹縫分別被分開來抽吸 ，如圖8所示。舉例而言，四個渦輪分子幫浦2 5 6可被用 來抽吸相鄰的塗佈室’而其餘兩個渦輪分子幫浦256可被 用來抽吸該路徑262。 在上面所描述的塗佈機中，一單一的抽吸室25 0被用 -25- ,200844250 (23) 來提供與三個導引狹縫（未示出）相關連之適當的氣體隔 離。導引狹縫可用類似於圖7B所示的引導狹縫201，203 及205相同的方式如上文所述地來建構。該等導引狹縫 20 1，20 3及205的長度可以與圖7B所示的相同，大致相 同，或不同。導引狹縫的長度，或導引狹縫一起的總長度 是決定與抽吸室94相關或與其半隔間相關之氣體隔離比 率時的因素。這些參數可以如之前參照圖6所描述的一樣 φ 。一單一的抽吸室可被使用在一塗佈機中用以在有需要或 有必要時被用來提供一可被接受的氣體隔離程度於處理或 塗佈室之間。又，一抽吸室可具有與上文中參照圖6所描 述之抽吸室的長度及氣體隔離比相同的長度及氣體隔離比 〇 關於本文中所描述的設備，將可被瞭解的是除了擴散 式幫浦及渦輪分子幫浦之外的其它幫浦，譬如低溫幫浦（ cryogenic pump)或其它高真空幫浦，亦可被使用，只要 φ 它們適合抽吸應用即可。任何這些幫浦可以單獨或與其它 幫浦相組合而具有適於在一目標區域內達到近似高真空條 件，譬如約1 0 - 3托耳（T 〇 r〇至約1 0 - 7托耳或約1 0 - 8托 耳，像是約 1〇-4托耳或更低，或與分子或過渡流（ transitional flow)制度相關的壓力，的能力。此外，將被 瞭解的是，任何適當的幫浦組合及/或數目都可被使用。 舉例而言，大體上當一幫浦具有一夠小的足跡及或夠小或 相對上不太複雜的支撐要求時，相較於足跡較大或支撐要 求相對複雜的幫浦之所用的數目，這種幫浦可用的數目可 - 26- .200844250 (24) 以較多。將可被瞭解的是，幫浦可相對於一抽吸室以任何 適當的方式被建構在任何適當的位置處。例如’將可被瞭 解的是，任何用來安裝或支撐任何適當的幫浦的適當方式 ，譬如透過一室的頂部及/或底部（如果可行的話）及/或 端部，都可被使用。又，將可被瞭解的是，任何適當的幫 浦或幫浦的組合都可被用來抽吸該基材路徑及/或抽吸一 或多個塗佈室。 φ 將可被瞭解的是，任何適當的形式的擋板或內部氣室 都可被用來如所需地或如所想地將室分隔成數個部分。包 含至少一擋板的擋板化（baffling )可被安排來將一室分 隔成分開來的區段。每一分開來的區段可具有相關連的分 開抽吸。例如，在圖6 - 8所示的實施例中，完整的抽吸室 被分隔成四個分開來的區段，每一區段都具有其本身的抽 吸配置。如圖所示，兩個區段被用來將氣體從相鄰的室抽 吸出來且兩個區段被用來將氣體從該路徑或導引狹縫抽吸 φ 出來以實施氣體隔離。兩個氣體隔離區段中的一個可與總 數爲三個導引狹縫中的兩個導引狹縫相關連或設在這兩個 導引狹縫之間，另一個區段則與該總數爲三個導引狹縫的 另兩個導引狹縫相關連或設在這兩個導引狹縫之間。這三 個導引狹縫的長度可以是相同的或是不同的。擋板化可被 用來將一氣體隔離區段或階段關連至該塗佈機的側面或頂 部，或該塗佈機之會發生抽吸之任何其它適當的部分。擋 板化可被用來將一處理抽吸區段或階段與另一處理抽吸區 段，及/或與一氣體隔離區段或階段分隔開來。擋板化可 -27- 200844250 (25) 被用來或多或少地將一區段或階段與另一區段或階段隔離 開或封閉起來，用以它們之間的串音及/或交互污染降低 或最小化。與一區段或階段相關的擋板化應只有開放至與 該區段或階段相關的抽吸之容許氣體洩漏或串音（crosstalk) 的開口 的截面 積的約 5%或更小 。例如 ，如果 與一處 理抽吸階段或一氣體隔離階段相關的抽吸狹縫總共具有 6〇〇平方英吋的截面積的話，則在與該階段相關連的擋板 上的間隙或開口則應具有約3 0平方英吋或更小的總截面 積。 依據一實施例該設備的幫浦可包含至少一擴散式幫浦 用來從與該基材通過該抽吸室有關的路徑處抽吸氣體及至 少一個不是該擴散式幫浦的幫浦用來從安裝在該抽吸室的 側面上的至少一個處理室中抽吸氣體。這些幫浦中的後者 可以是一渦輪分子幫浦。舉例而言，至少兩個後者的幫浦 可被使用。 依據另一實施例，該設備的幫浦可包含至少一幫浦其 透過該抽吸室的一端與該吸室可操作地連通。舉例而言， 此一幫浦可被用來從該路徑處抽吸氣體。又，舉例而言， 此一幫浦可包含任何適當的幫浦，譬如一擴散式幫浦，一 渦輪分子幫浦，或低溫幫浦。當使用多於一個此種幫浦時 ，該等幫浦可包含任何適合的幫浦，譬如擴散式幫浦，渦 輪分子幫浦，或它們的任何組合。舉例而言，至少兩個此 種幫浦可被使用。 依據一實施例，該設備的幫浦可包含至少一擴散式幫 -28- 200844250 (26) 浦其透過該抽吸室的一端與該抽吸室可操作地連通用以從 與該基材通過該抽吸室有關的路徑處抽吸氣體，及/或至 少一渦輪分子幫浦其與該抽吸室的另一端可操作地連通用 以抽吸該路徑，及至少一渦輪分子幫浦其透過該抽吸室的 頂端與抽吸室可操作地連通用以從安裝在該抽吸室的側面 上的至少一個處理室中抽吸氣體。舉例而言，至少兩個渦 輪分子幫浦被用來從該抽吸室出吸氣體。此一抽吸配置的 φ 例子可見圖7所示者。 依據另一實施例，該設備的幫浦可包含渦輪分子幫浦 其透過該抽吸室的頂端與該抽吸室可操作地連通用以從與 該基材通過該抽吸室有關的路徑處抽吸氣體，從安裝在該 抽吸室的側面上的一個處理室中抽吸氣體，及從安裝在該 抽吸室的側面上的另一個處理室中抽吸氣體。此一抽吸配 置的例子可見圖8所示者。 依據另一實施例，該設備的抽吸室可包含至少一隔板 φ 其將該抽吸室中與從安裝在該出吸室的側面上的處理室抽 吸氣體相關連的一個區域與該抽吸室中與從安裝在該出吸 室的側面上的另一個處理室抽吸氣體相關連的另一個區域 分隔開來。依據另一實施例，該設備的抽吸室可包含至少 一隔板其將該抽吸室中與從該基材通過該抽吸室有關的路 徑處抽吸氣體相關連的一個區域及該抽吸室中與從安裝在 該出吸室的側面上的至少一處理室抽吸氣體相關連的另一 個區域分隔開來。此等抽吸室的例子被示無圖6-8中。 一種用來塗佈一由其間通過的基材的設備被提供。該 -29- 200844250 (27) 設備包含一處理或塗佈室其能夠讓該基材經由一途徑由其 內通過，該途徑具有一從該室的一入口延伸至一出口的長 度。此處理或塗佈室可藉由一使用在該塗佈處理中之氣體 來塗佈該基材，該氣體包含一或多種成分。該設備典型地 包含數個此種處理或塗佈室用來以此種方式塗佈基材。使 用於一個此種處理或塗佈室中的氣體可以與使用在另一個 此種處理或塗佈室中的氣體相同或部同。透過一適當的抽 φ 吸室，譬如上文中參照圖6-8所描述的任何一種隔離抽吸 室，可將使用在同的處理室內的氣體，不論至些氣體是相 同或不同，隔離開來。該抽吸室係設置在一處理室與另一 處理室之間且能夠讓該基材經由一路徑由其內通過，該路 徑具有一從該室的一入口延伸至一出口的長度。該路徑與 和兩個處理室相關連的途徑可操作地連通，使得基材可藉 由滾子的輸送通過至三個室。 該抽吸室可與兩個處理室以及延伸於該抽吸室的整個 φ 長度的路徑可操作地連通，使得氣體可透過幫浦從處理室 與途徑內被抽吸。充分的抽吸可藉由使用少於兩個全尺寸 的抽吸室來達成，譬如一個全尺寸的抽吸室。舉例而言， 當處理室都是同一尺寸使得上述之路徑長度都相同時，就 可使用一個具有一路徑長度的抽吸室，或使用一總路徑長 度小於該處理室的路徑長度的兩倍之多個抽吸室。又，舉 例而言，當抽吸室與處理室的大小相同使得上述之途徑長 度與路徑長度都相同時，即可使用一抽吸室其單一長度小 於或使用多個抽吸室其長度總合小於兩個全尺寸的抽吸室 -30- •200844250 (28) 的長度。再者，舉例而言’當處理室的大小不相同時’則 可使用一抽吸室其單一長度小於或使用多個抽吸室其長度 總合小於兩個處理室的平均長度的兩倍。 一抽吸室或者些抽吸室能夠將使用在一處理室中之氣 體與使用在另一處理室內的氣體近似地隔離開來。氣體隔 離的適當程度係隨著處理及隨著使用者的不同而有所不同 。大體上，兩個使用相同的氣體環境或近似’相容的氣體 ^ 環境的處理室之間之可接受的氣體隔離程度可用約2 0比1 至約3 5比1的氣體隔離比來代表。描述於或示於本文中 抽吸配置能夠提供更佳的氣體隔離比其可適用於更進一步 的發展，譬如更敏感的塗層的發展。雖然單一個此種抽吸 室能夠提供一塗佈設備或塗佈處理中之近似氣體隔離’但 使用至少另一個此種抽吸室是較佳的。基於多種因素，譬 如減小設備足跡，降低處理時間與複雜度，降低操作與結 構成本，及/或類此者，使用較小或較少的抽吸室是較有 φ 利的或是所想要的。但，使用數目較多的抽吸室對於較大 的氣體隔離能力而言是有利的或是所想要的。在一塗佈系 統中要使用數目多少的抽吸室的選擇涉及了在上述的因素 之間與其它的考量下找出一適當的平衡。 如上文所述，一抽吸室（譬如在上文中參照圖6 - 8所 描述的隔離抽吸室）或多個此種抽吸室能夠將使用於一個 處理室中之氣體與使用在另一處理室中的氣體近似地隔離 開來。舉例而言，一種能夠達成此近似氣體隔離的抽吸室 現將加以描述。側面上安裝了兩個處理室的此種抽吸室能 -31 - 200844250 (29) 夠提供與該基材塗佈相關之至少20比1的在一處理室中 的氣體壓力對再另一處理室中的氣體壓力的比値。舉例而 言，此一比値可以是在約20比1或約25比1至約3 5比1 或更大的範圍之內。在一塗佈設備中，此一抽吸室的一側 或兩側上可安裝一系列之處理室。舉例而言，此一系列的 處理室可包含多達約60個左右的處理室，譬如多達約20 個左右的處理室。 φ 如之前提到的，雖然單一個此種抽吸室能夠提供近似 氣體隔離，但亦可使用多個此種抽吸室。當使用一或多個 此種抽吸室時，用來提供近似氣體隔離的此種抽吸室的數 目將少於其它抽吸室提供相同的近似氣體隔離所需的數目 ’或用來提供近似氣體隔離的此種抽吸室的的總長度或總 路徑長度將會小於其它抽吸室提供相同的近似氣體隔離所 需的總長度或總路徑長度。舉例而言，當需要兩個或三個 或四個具有某特定抽吸室長度的抽吸室被用來提供可被接 • 受的氣體隔離程度於塗佈室之間時，用來提供相同氣體隔 離程度之爹照圖6-8於上文中描述之具有相同的抽吸室長 度的隔離抽吸室的數目將分別少於兩個或三個或四個。舉 例而言，當需要兩個或三個有一整體的抽吸室長度或集合 性的抽吸室長度或路徑長度的抽吸室來提供可被接受的氣 體隔離於塗佈室之間時，則可用一個或更多之整體的抽吸 室長度或集合性的抽吸室長度或路徑長度較短之參照圖6_ 8於上文中描述之隔離抽吸室來達到相同的效果。這在降 低成本’減少空間及類此者等方面是有利的。 -32- 200844250 (30) 依據一實施例，一抽吸室的路徑長度或多個抽吸室的 總路徑長度係小於安裝在該抽吸室的側面上之處理室的長 度的兩倍’或小於安裝在該抽吸室的側面上的兩個處理室 的平均長度的雨倍。舉例而言，此一路徑長度或集合性路 徑長度大於或等於安裝在該抽吸室的側面上之一個處理室 的長度’或安裝在該抽吸室的側面上的兩個處理室的平均 長度。進一步舉例而言，此一路徑長度或集合性路徑長度 φ 大於或等於約600公釐且小於或等於2010公釐。進一步 舉例而言，此一路徑長度或集合性路徑長度可以是在約 7 5 0公釐或約8 50公釐至約900公釐或約1 000公釐之間。 依據一實施例，氣體可藉由提供於本文中所描述或所 示之設備而從一用來塗佈一基材的設備處被抽吸，並在一 基材的塗佈處理中透過該設備的幫浦從該路徑及安裝在該 抽吸室的側面上的每一個處理室抽吸氣體。依據此方法， 可達成一適當的氣體隔離程度。 φ 爲了要評估一包含本文中所描述或所示的抽吸室的設 備，可實施兩個安裝在該抽吸室的側面上的處理或塗佈室 之間所達到的氣體隔離的評估。舉例而言，此一評估可包 含產生一適當的真空條件於兩個塗佈室中（譬如約8x 1 0_6 托耳的基礎壓力），提供一處理氣體至其中的一個塗佈室 (”室1”）中用以建立一處理壓力（譬如，約3x10_3托耳 的處理壓力），執行該塗佈處理這包括操作與該抽吸室相 關連的幫浦，及測量在另一個塗佈室室2”）內的處理 氣體的壓力。由這些測量中，一氣體隔離比率即可被決定 -33 - 200844250 (31) ，其中成功可相對於本文中之前所描述之氣體隔離比率被 決定，或其對於一給定的處理而言是適當的。舉例而言， 使用本文中所描述的設備所達到的氣體隔離程度與使用一 模組塗佈機（譬如參照圖4或5所描述者）所達成的隔離 程度大致相同或更佳。 以上所述的評估可在有一基材及/或沒有一基材（譬 如一玻璃基材）下被實施。當該評估是在由一基材存在的 φ 情況下實施時，該氣體隔離比率相對於同一個評估在沒有 基材存在下所實施而獲得之氣體隔離比率而言被認爲會較 高，譬如高約20%，因爲基材的存在被認爲會阻擋氣體從 一塗佈室流至另一塗佈室。此一隔離比率的提高，或對於 一給定的處理或設備而言是適當的氣體隔離的此一結果將 代表一成功的處理或設備。一類似的評估可使用數片基材 通過塗佈室來實施，其中沿著基材通過線路移動的基材用 一間距間隔開來，譬如2至3英吋的距離。該間距被認爲 φ 會將一些氣體從一個塗佈室帶到另一個塗佈室。當實施此 一評估時，相對於基材與基材之間沒有間距的所得到的評 估結果而言在氣體隔離比率上會有約2%的下降。此一下 降是一成功的處理或設備的代表。 藉由使用不同的幫浦組合，譬如擴散式幫浦，渦輪分 子幫浦，低溫幫浦或其它高真空幫浦，配合隔離抽吸室來 將本文中所描述的設備的性能，效率及/或成本最佳化是 可能的。此最佳化必需要將抽吸能力或速率，幫浦足跡， 任何的幫浦缺點，譬如像是可能的油漬污染或其它污染， - 34- 200844250 (32) 在處理壓力下之可能的氣體回流（雖然這在某些隔離抽吸 室中並不是一個問題），或與低溫幫浦有關的重生（ iregeneration )問題，任何的幫浦優點，譬如像是相對沒 有此 '污染或相對沒有此回流，等等都加以考量。此最佳化 必需要進一步達到這些及/或其它相關因素的適當平衡。 Μ ’ 一設備可能因爲擴散式幫浦的相對大的足跡而無法 容納擴散式幫浦，因而必需接受在抽吸能力及在成本方面 φ 的犧牲或在某些方面加以調和。舉例而言，一設備可能因 爲'渦輪分子幫浦的高成本而被設計成使用較少的渦輪分子 幫浦ί ’因而必需接受在抽吸能力方面的犧牲或在某些方面 加以調和。再舉例而言，某些渦輪分子幫浦可用擴散式幫 浦來取代，但與擴散式幫浦相關之油漬或其它污染，相對 高的電力需求，及相對大的足跡當都必需被接受或在某些 方面加以調和。 一塗佈處理或設備的最佳化必需用不同的幫浦，譬如 # 本文中提到的任何一種幫浦，來建造該設備，如上文中描 述地執行的塗佈處理，及評估氣體隔離比率的結果。成功 的最佳化包含找出氣體隔比率其它因素之間的一可被接受 的平衡。舉例而言，從兩個到三個或四個之間的渦輪分子 幫浦可被用來取代本文中所描述的或所顯示的塗佈處理或 δ受備中的擴散式幫浦（因爲渦輪分子幫浦的成本相對較高 所以數目愈少愈好），只要氣體隔離結果對該處理而言是 適當的即可。 一塗佈處理或設備的最佳化必需要考量使用者提出的 -35- 200844250 (33) 處理或操作參數，譬如氣體流及壓力，及相關的計算，譬 如根據一選定的設備或處理設計的計算。最佳化包括了設 計與開發測試與現地測試。關於最佳化的測量包含了改變 參數，譬如在一選定的抽吸配置下的氣體流，或以不同的 抽吸配置來使用選定的氣體流，等等。最佳化包含了達到 或超過與既有系統相關之氣體隔離比率，或達到或超過使 用者所想要的氣體隔離比率。 φ 一種用來塗佈一由其間通過的基材的設備被提供。一 種用來抽吸與一基材塗佈處理相關的氣體的設備亦被提供 ，此一設備可與一基材塗佈設備一起使用。此一設備大體 上包含一抽吸室其被設計來與一和該抽吸室的第一側相鄰 的處理室可操作地連通及與和該抽吸室的第二側相鄰的另 一個處理室可操作地連通，如圖6-8所示者。該抽吸室包 含供一基材通過該抽吸室之具有一路徑長度的路徑。該路 徑長度小於相鄰的處理室的長度的兩倍或小於兩個相鄰的 φ 處理室的平均長度。該設備亦包含高真空幫浦其與該抽吸 室可操作地連通，如圖6-8圖所示及所描述者。該等高真 空幫浦能夠將一和一相鄰的處理室相關的氣體與一和另一 相鄰的處理示相關的氣體相對於彼此近似地隔離。一種相 關連的方法亦被提供，其包含提供此一用來抽吸與一基材 塗佈處理相關的設備及透過與該基材塗佈處理相關的幫浦 從該路徑及兩相輪的處理室抽吸氣體。 如本文中所描述的，一塗佈系統可包含一單一抽吸室 其能夠提供可被接受之氣體隔離程度於處理或塗佈室之間 -36- 200844250 (34) 。當使用在一塗佈室中時，此單一抽吸室可提供一大於20 比1，譬如高達3 5比1，的氣體隔離比率。用本文中所描 述的方式使用一單一抽吸室在降低設備成本，減小塗佈機 足跡，建構時間及勞力，操作時間及勞力，與塗佈機複雜 度上是有利的，在大型多模組式塗佈機上是特別有利的’ 譬如像是用來塗佈具有5層或更多層物質層的基材，如6 至8層物質層，的塗佈機，這些塗佈機上都裝設了爲數眾 0 多的氣體隔離室。各種包含三個室或隔間的結構的多模組 塗佈機是很有用的，其中一單一抽吸室被設置在兩個塗佈 室側面上，就如同上文中所述。 很明顯的是，有各式的修改，處理以及許多的結構都 可被應用於本文中。各式的態樣，特徵或實施例都已經以 有關的理解，理念，理論，基本的假設，及/或實際的或 預言性的例子來加以說明，然而應瞭解的是，任何特定的 理解，理念，理論，基本的假設，及/或實際的或預言性 # 的例子限制性的。雖然各式態樣及特徵已參照各種實施例 及特定的例子於本文中描述但將被瞭解，的是，任何這些實 施例及例子都不是要用來限制下面的申請專利範圍或將會 與本申請案有關之其它申請專利範圍的最大的範圍。 【圖式簡單說明】 各式的態樣’特徵，及實施例將於本文中參照附圖於 下文中進一步說明。這些圖是舉例性質的且並不一應是按 比例繪製的。這些圖顯示各式的背景資訊或各式態樣或特 -37- 200844250 (35) 徵並整體或部分地顯示一或多個實施例。使用在一圖式中 用來代表一特定的元件或特徵的標號，字母，及/或符號 可被使用在另一圖中用以代表相同的元件或特徵。 圖1爲從本文中所描述的視點所畫的模組塗佈機的示 意圖。 圖2爲從本文中所描述的視點所畫的一模組塗佈機的 一切開部分的示意圖，它的一些內部特徵爲了舉例的目的 φ 而可被看見。 圖3爲一模組塗佈機的切開部分的示意圖，其顯示從 該塗佈機的側面所看的垂直剖面。 圖4A爲從模組塗佈機的側面看的模組塗佈機的一部 分的示意圖。圖4B爲模組塗佈機的一部分的示意圖，其 顯示從塗佈機的側面所看的垂直剖面。圖4A及4B在本文 中被統稱爲圖4。 圖5 A爲從本文中所描述的視點所畫的一模組艙室式 φ 塗佈機的結構的示意圖。圖5 B爲從該塗佈機的頂端來看 之模組塗佈機的一切開部分的水平剖面示意圖。圖5 C — 模組塗佈機的切開部分之從該塗佈機的側面所看到之垂直 剖面的示意圖。圖5A，5B及5C在本文中被統稱爲圖5。 圖6A爲一模組塗佈機的一切開部分的示意圖，其顯 示從塗佈機的頂端所看到的水平剖面圖。圖6B爲一模組 塗佈機的一切開部分的示意圖，其顯示從塗佈機的側面所 看到的垂直剖面圖。圖6 A及6 B在本文中被統稱爲圖6。 圖7 A爲一抽吸室的示意圖，其顯示從該抽吸室的頂 -38- 200844250 (36) 端所看到的水平剖面。圖7B爲抽吸室的示 從抽吸室的一端所看到的垂直剖面。圖7A 2 被統稱爲圖7。
意圖，其顯示 .7B在本文中 該抽吸室的頂 意圖，其顯示 爲抽吸室的示 垂直剖面。圖 圖8A爲一抽吸室的示意圖，其顯示從 端所看到的水平剖面。圖8B爲抽吸室的示 從抽吸室的一端所看到的垂直剖面。圖8 c 意圖，其顯兩從抽吸室的一端所看到的另一 8A，8B及8C在本文中被統稱爲圖8。 【主要元件之符號說明】 2 :塗佈機 4 :基材 A :處理模組 B :處理模組 6 :細縫閥室 8 :細縫閥室 1 0 :細縫閥室 14 ·_ 室 A5 :室 A6 :室 B1 :室 B2 ··室 1 0 :滾子 1 2 :基材通過線 -39- 200844250 (37) :基材寬度 :室寬度 =分隔距離 :幫浦 :幫浦 :塗佈機 :處理模組 :室 :抽吸室 :抽吸室 :抽吸室 :擋板 :擴三式幫浦 :氣體導引狹縫 :氣體導引狹縫 :氣體導引狹縫 :半隔間 :半隔間 :模組塗佈機 :室 :結構 :開口 ••開口 :處理或塗佈室 -40- 200844250 (38) 抽吸室 抽吸室 塗佈室 渦輪分子幫浦 半隔間 路徑 半隔間 導引狹縫 導引狹縫 擋板 導引狹縫 多模組塗佈機 處理或塗佈室 抽吸室 塗佈室 :渦輪分子幫浦 半隔間 :擴散幫浦 :開口 :擋板 =擋板 :開口 :路徑 :半隔間 -41 200844250 (39)
201 ： 2 03 ： 2 05 ： 222 ： 200 ： 202 ： 204 ： 2 24 ： 2 06 ： 208 ： 2 10 ： 212 ： 214 ： 216 ： 220 ： 2 22 ： 218 ： 219 ： 25 0 ： 266 ： 252 ： 254 ： 256 ： 262 ： 導引狹縫 導引狹縫 導引狹縫 開口 抽吸室 半隔間 半隔間 間隙或狹縫 渦輪分子幫浦 擴散式幫浦 渦輪分子幫浦 端部 端部 路徑 開口或狹縫 開口或狹縫 擋板 擋板 抽吸室 間隙或狹縫 半隔間 半隔間 渦輪分子幫浦 路徑 200844250 (40) 25 8 :開口或狹縫 260 :開口或狹縫 264 :擋板 265 :擋板。