TW200840802A - Method for recycling silicon slurry - Google Patents

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Description

200840802 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關-種回收石夕泥之方法,尤指一種 貝去除而侍到矽之回收矽泥方法。 【先前技術】 速的董^=來1^者再生能源的受到重視,太陽能產業快 有可二!尤其在台灣,快速的上下游垂直整合,極 一^ 來繼半導體、面板與二極體產業,成為世界第 策的t(Ph°t(Taie)_ °這兩年由於各國再生能源政 、,尤其是德國,使得太陽能電池的需求大增,單 =年的年出貨量,就超過1GW,而所需的侧早 飆煩,進而造成物的缺乏,使得價格 _/Κμ ’這μ㈣擊到太陽能產举 2展。因此’對產業的正面發展與降低太陽能發電成本、, :成本的原物料或是耗損物料的回收,將扮演重 。再加上台灣這幾年來愈來愈多廠商投入太陽能產業, ^造成國内石夕原料已變成供不應求的狀態,因此找君 到更多^原料來源,已變成產學界共通努力的方向“ Α太陽此矽曰曰在生長完畢後,首先會經過切斷晶冠及层 =步I,接著利用鑽石磨輪進行外徑磨削直到直徑到逵 斤:大小再經過平邊以固定晶圓結晶方向之後’以金严 切割線㈣晶棒切成晶片,最後經圓邊、研磨拋 驟蜀 即可得⑽製程所需之侧。在這過程中,简:中 5 200840802 隶谷易扣耗的步驟主要在於切割,其中平约約 因為切副線本身的見度而損耗掉(kerf i〇s : Ί 4( 斗夕Γ;、、爸、、ρ λα +上2上π 士 、l > 這些切 40%的矽 生之矽泥以污泥的方式被丟棄,這在經濟成=泛切割後產 個非常不可思議的浪費,雖然工業上e二了 的考量上是 " u、、、二不用鑽 割晶錠’改用線鋸的方式切割,但線寬仍在1 屢輪切 切割損失仍是不可避免的,大約切一片晶片即4 μηΐ左右, 且 ΒΘ 液 體在切割拋光時需要消耗大量的切削、、 片。 研磨
,這些切削研磨漿料中主要成份為水、0 夂彳匕石夕研声 (5〜30μηι),此外還有含化學成分的潤滑液、 石板子 口定晶椽沾# 酯削與切割線磨耗的金屬(黃銅為主)。水的 +的樹 下用是栽^ $翌 磨粒子並帶走切割研磨時所產生的熱量,而真、& 釋研 研磨作用的主角是漿料中的碳化矽懸浮粒子,、成切割 冒選用石山义 矽的原因是基於其高硬度與低價格,雖說碳化 反化 廉,但因為使用量大,在矽泥廢料中的比重最* ^ ^ 取问,因此, 目前為止大多數人仍著重回收研磨漿中的碳化石夕Q主面 因有為研磨晶片時需使用大量研磨液’而且為了保持良好 的晶片品質,研磨液無法循環使用,而這些研磨液中絕大 部分是碳化石夕,相對的石夕成分較少’因此回收碳化石夕會比 回收矽來得簡單有效益。況且,相較於矽粉,有部分的破 化矽顆粒因研磨所造成的碎粒,其粒徑小(1 micron左右或 以下),造成分離上的困難,再加上矽原料的純度要求仍局 (在6〜7個九),容許雜質多在lpPm以下。因此’就技術面 而言,困難度要高的多 6 200840802 【發明内容】 有4^於此,於晶棒切割成石夕晶片時,平 石夕因為切割線本身的寬度而損耗掉,、古此々、〜、有的 式被丢棄或是回收·夕粒子後丢棄二;:;::的: ^40〇^ ,可以減低的生產成本,其中該编長: 化矽之外,還包含了潤滑油 ^尺及石厌 屬等雜質,如果可以有效的去: ::,切割線損耗的金 乃双日7责除後而留下矽原料, 收應用於太陽能晶體的原物料之用,更可以增加產旦口 於實施時,其回收矽泥之曰曰產里。 驟去除石夕泥中之金屬物質,^# j先^泥進行酸洗步 熱,係介_碳化 :去二亚凝聚成塊狀,可與破切幾乎完全分‘了 冉舌除奴化矽,而可得到矽。 丨夂 【實施方式】 以及實施方 為能使貴審查委員清楚本發明之 式,茲配合圖式說明如下: 入开》2士\回收石夕泥之方法」,其晶棒切割成石夕晶片時 成,“夕泥’該石夕泥的成分主要有被磨下來的石” i、刀剔用的碳化石夕粒子、潤滑油或是乙二醇、切 耗的金屬、或是處理過程意外的污染雜質,如第月# 二圖所示,該回收方法係包括有下列步驟: ° ^ /、離心清洗:加入清洗劑(例如丙酉同)去除石夕泥 雑貝’並利用離心處理分離液體丄,其離心處理的方式; 200840802 :疋批次的也可以是連續的,例如工業界可用賴%
Centnfuge(碟型離心機)則可作為連續離心之用,藉以去除 潤滑油,清洗過後之㈣經過離心後取得沉積的石夕 二;:夕泥則ί第二圖所示以粉末2型態存在,而污濁之 μ可經由_將水分離,再次 可先把溶液態之污染物做大部分清除。 L將 J古酸洗:到此步驟時’石夕泥裡只剩下碳化石夕及石夕顆 飧二的屬巧染物。金屬污染物之來源主要是切割 0==(例如鑛銅),還有-小部分是前面清洗步驟 二/二/的:些金屬離子,這些金屬污染物—般會以 =方舰物方式吸附在石夕晶表面。係利用酸洗 =用硫酸、鹽酸或是_與晶體表面之金屬形成可 浴性錯化物溶解於滚、為+ 於石夕泥中金屬㈣物含、洗去除金屬物質,由 以重複使用多: 來就不高’因此清洗用酸液可 Μ人,亚不會增加太多生產成本。 含有:許經過酸洗㈣泥仍然 卻仍铁右… 隹然這些物質含量不高,但是 n /、、、此在加熱過程中裂解成為碳而包覆於矽晶中, ^此^以醇類或_(例如酒精與丙酮)進行第二次清 物U移除,此步驟過濾後之殘留物為所需之 々I思液將可經過蒸鶴後將醇類與睛再回收使用。 而石夕泥可於醇類或酮甸、、主 燥,確保所有的溶劑^清^。,以清水再—次的清洗與乾 d'高溫分離:加熱之溫度介於料碳化石想點之間, 8 200840802 其矽熔點為1 4 1 2 t,碳化矽為254 5°C,其加熱溫 度約可為1 4 2 0至1 5 0 0 °C,並停留一段適當時間, 其停留時間係至少3小時,當加熱溫度為1 4 2 0至1 5 0 0 °C時,係高於矽的熔點,此時矽會產生熔融析出並凝 聚成塊狀3,如第二圖所示,可與碳化矽幾乎完全分離。 e、 第三次清洗步驟··矽泥經過高溫分離後出現複數個 發的聚集塊狀體以及破化石夕的粉末’清洗後可將碳化砍的 粉末去除,而可得到矽的聚集塊狀體。 f、 第二次酸洗,將矽的聚集塊狀體會合後,利用酸洗 方式,利用硫酸、鹽酸或是硝酸與晶體表面之金屬形成可 溶性錯化物溶解於溶液中,再過濾清洗去除金屬物質。 g、 垂直凝固,可去除剩餘的微量碳化矽,也可將金屬 物質做偏析純化,並可形成較大尺寸的石夕塊4。 另外,步驟b與步驟c之間可再進行溶解矽之步驟,可藉 由加入氫氟酸清洗以加速溶解矽泥中所存在的氧化矽。 故利用本發明之回收矽泥方法可將40%的切割矽泥回 收再次成為碎晶棒生長的原料,可以減低的生產成本5並 可有效的去除矽泥内除了矽以外的水、碳化矽、潤滑油、 乙二醇或是切割線損耗的金屬等雜質,而留下矽原料,進 而回收應用於太陽能晶體的原物料之用,更可以增加石夕晶 產量。 如上所述,本發明提供一較佳之回收矽泥方法,爰依 法提呈發明專利之申請;惟,以上之實施說明及圖式所示, 係本發明較佳實施例者,並非以此侷限本發明,是以,舉 9 200840802 凡與本發明之構造、裝置、特 本發明之創設目的及申請專絲圍之内^者’均應屬 溶液中,二用::=i屬形成可溶性錯化物溶解於 用心處理分離液體以去除金屬物質 C 加入氣氣酸·加入礼翕酸、、主± 、 所存在的氧切。 A岐4以加速溶解石夕泥中 子 θ、加入去料H去除水巾彳找⑽離子與陰 離 i;: ^ ^ 、,在一冒與乳反應生成二氧化 亚不適用。本發明騎心 W…皿乾無 除水分,最後可得到高純度二方式’在一 ^ 轰贫述,本發明提供—較佳之切财泥回收方法, C月專利之中請·,惟,以上之實施說明及圖式 以^係本發明較佳實施例者,並非以此偈限本發明,是 垃庫二凡財电明之構造、跋置、特徵等近似、雷同者, —〜屬本發明之創設目的及申請專利範圍之内。 10 200840802 【圖式簡單說明】. 第圖係為本發明中切割矽泥回收方法之主要步驟流 程圖。 第—圖係為本發明+功、 月中矽泥經由不同步驟後所形成之 態示意圖。 【主要元件代表符號說明】 液體1 ^ 粉末2 塊狀3 大尺寸的矽塊4
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Claims (1)

  1. 200840802 十、申請專利範圍: 1、一種回收;5夕泥之方法,係包括有下列步驟: a、 酸洗,加入酸洗劑去除矽泥中之金屬物質,此時石夕泥 之主要為矽及碳化矽; b、 高溫分離,加熱之溫度介於矽及碳化矽熔點之間,並 停留一段適當時間,使矽及碳化矽分離,並去除碳化矽, 而可得到石夕。 乂 二如_丄所述回收石夕泥之方法,其中該酸洗步 =:進行:離心清洗步驟’係利用加入清洗劑並離心分 離液脰,以去除發泥中之雜質。 3、如請求項1所述回收矽泥之方法, 係為硫酸、鹽酸或硝酸。 ~忒酸洗劑 史後^如請求項1所述回㈣泥之方法,其中铺洗牛 知後可進—步進行第二次清洗步驟。 ' 文洗v 5、如請求項4所述回㈣泥之方法,一 步驟可先利用醇類或_清洗去除有機物,:::: 為4:: =述—方法,該醇類係 驟以^如請求項4所述回收石夕泥之方法,龙由 '”、及弗一次清洗步驟之間可加 、中该酸洗步 矽泥中所存在的氧化矽。 I弗次凊洗以加速溶解 劑 係為丙剩 12 200840802 9、如請求項1所述回收石夕泥之方法,其中該高溫分 離步驟中之加熱溫度為1 42 0至1 5 0 0°C。 1 0、如請求項1所述回收矽泥之方法,其中該高溫 分離步驟中停留時間係至少3小時。 1 1 、如請求項1所述回收矽泥之方法,其中該高溫 分離步驟後可進一步進行第三次清洗步驟。 1 2、如請求項1 1所述回收矽泥之方法,其中該第 三次清洗步驟後可進一步進行第二次酸洗步驟。 1 3、如請求項1 1所述回收矽泥之方法,其中該第 三次清洗步驟後可進一步進行垂直凝固步驟。
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