TW200830587A - Light-emitting device - Google Patents

Description

200830587 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種發光裝置’尤其關於一種侧面出光型發光 裝置及其應用。 【先前技術】 第ίο圖係顯示一習知側面出光型發光二4亟體（sideview 籲 light-emitting diode )之侧視剖面圖。習知側面出光型發光二極體5〇係 包含基底51、固著於基底51上之晶粒53、用以遮蔽及/或反射晶粒53 - 所射出光線之上側壁52A與下侧壁52B (某些型式之發光二極體具有 ^ 左右側壁）、及填充材料54。 以接近90度射向側壁52A及52B之光線（如箭頭所示），極可能 會在晶粒53與上侧壁52A間及/或晶粒53與下側壁52B間來回震盪而 無法離開發光一極體50。再者’侧壁厚度因發光二極體％尺寸曰益 鲁 縮小而隨之變薄，導致光線可能穿過側壁而導致漏光。由於上述或其 他原因’貝矛务上，封裝後晶粒之出光效率相較於裸晶之出光效率可能 大幅下降達40%。 此外’發光一極體小型化亦縮短側壁間之距離，使得填充材料54 不易填入側壁所包圍之空間中而產生空隙。先線可能會被偈限於此空 隙中而降低發光二^體之出光效率。 【發明内容】 依本裔明之發光裝置包含形成於基座上之光通道及發光單 200830587 兀’其中光通這包含上側面、相對於上側面之下側面、分別與上 侧面與下側面域不同角度夾角之内側面、及相對於内側面之出 光面，發光單元位於内側面上，並發出光線於光通道内朝向出光 面傳遞。 依本發明之發光裳置更包含覆蓋於内側面及下側面上之第一 ^射層、覆蓋於第-反射層上方並使發光單元與—電路電連接之 導電層、位於下側面之相對側之第二反射層；較佳之實施例更包

含介於第-反射層與導電層間之第—絕緣層。光通道内可填入填 充材料。 於-貫施例中’出光面係大體上平行於_面、或大體上垂 直於上側面與下侧面中至少其―、或分別與上側面及下侧面形成 不同角度之夾角。出光面亦可為弧面。上側面亦可選擇大體上平 行下侧面。此外，内側面與下側自中至少其—之—部分可為弧面。 上側面之外緣形成切口，以避免切割晶片（wafer)時所產生之之 金屬殘留物、或焊料職之污染導致發光單元短路。 於另-實施例中，導電層係包含第—導電層與第二導電層。 發光皁元之電極係分別與第—導電層與第二導電層電連接。 再者，發光單元係可發出二種以上之色光、或者發出紅、藍、 或綠色光。發光裝置巾更可包含波長轉換材料以接絲自發光單 激發光。於—實施例中，波長轉換材料係直接覆 本發明之發光裝置可與顯示裝置結合， ，光單元之光線並改變其方向。導光板== "面相對應之幾何輪廓。具體而言，發光裝置更包含位於 光板之i簡以反射絲之反射層、光學膜、麟晶層，其;， 200830587 側 光學膜與液晶層龜於導光板之另一 【實施方式】 卜細置ω包含基座11、第—反射層^、 M17 ¥私層14、發光早7016、填充材料Π、波長轉換材 枓17Α、弟二絕緣層18、及第二反射層19。

於一實施例中，基座U係由石夕㈤c〇n)構成，並具有上接 面ill、斜面m、及下檯面113。第一反射層12、第一絕緣層13、 及導電層14⑽形成树面112上，其中，第一反射層12與第一絕 緣層13係覆蓋上檯面⑴、斜面112、及下棱面113。導電層14 係覆蓋上檯© m與斜面112。發光單元16，例如發光二極曰體晶 粒，係固定於導電層Μ上。第二絕緣層ls與第二反射層19形成 於下檯面113之相對侧。填充材料17係形成於第一絕緣層13與第 二絕緣層18之間。 〃 第一反射層12與第二反射層19可反射或/及散射光線，其材料係 包含但不限於金、銀、铭、銅、鈦等金屬或其合金或其疊層、及布拉 格反射層（Distributed Bragg Reflector ; DBR)。第一絕緣層 13 與第二 絕緣層18之材料係包含但不丨限於氧化石夕（別〇2)、環氧樹脂、 benzocyclobutene (BCB)、及SixNy。其中絕緣層宜維持一定厚度 使光線可以通過以抵達反射層。導電層14之材料係包含但不限於 金、銀、鋁、銅、鎢、錫、及鎳等金屬。 填充材料17係包含但不限於環氧樹脂（Epoxy)、丙烯酸樹脂 (Aciylic Resin)、環烯烴聚合物（C0C)、聚甲基丙烯酸甲酉旨 (PMMA)、聚碳酸酯（PC)、聚醚醯亞胺（Polyetherimide)、 氟石炭聚合物（Fluorocarbon Polymer )、及石夕膠（Silicone )。 200830587 填充材料17中亦可以包含如螢光粉等之波長轉換材料17八，其可 以被發光單元16之光激發而產生不同波長之光線。如第m圖所^， 螢光粉層亦可以直接覆蓋於發光單元16任-可能出光之表面。糾 光表面之螢光粉層厚度係依所需之光場或顏色進行調整，可以相^亦 可以不同。相關技術請參閱本案申請人之台灣專利 安 093126439 號。 〇月7^ $ 、發光單元I6射贿用水平式或垂直式發光二極體或晶粒。 水平式發光二極體之Ρ電極與η電極係位於基板或承载層之同 Γ對=直式發光二極體之ρ電極與η電極係位於基板或承載層之 本發明導電層之詳細說明係如第2Α _示。導· 14Α與 14Β係形成於絕緣層13上，並分別與發光二極體之ρ電日極細電 和电連接„羊5之，垂直式發光二極體之η電極或ρ電極之一 r編轉蝴峨_導電 ^⑨連接。水平式|光二極體之P電極與n電極可以分別固 層14A與14B上，亦即以覆晶（flip_ehip)方式安置於導 =。或者’若水平式發光二減係由絕絲板承載，則絕 導^可以直接安置於導電層14A與14B中之一上，或橫跨此二 =P電_ n電_分取導線或其他連財式與導電 電連接。，絕緣基板之發光二極體或晶粒亦可以 2B圖^ 面112、弟—反射層12、或絕緣層13之上。如第 一圖斤不:反射層12係導電材料且與導線16八相連，亦即發光 2 6係透過反射層12與外部電路電連接。此時，第一反射層 J或絕緣層13之覆蓋區域可視設計需要進行調整。 s 如第3A圖所示，依本發明之一實施例，發光單元i6侧面之 200830587 ^光線會分別射向第—反射層12與第二反射層19。由於斜面上 導電層14與第-反射層12與第二反射層19之夹角不同，使光線 被反射至不同方向。於一實施例中’斜面112與下檯面113之夾 角D1為120度’且導電層14傾斜部分與第一反射層^之夹角等 =1射向第—反射層19之光線R1會經過二次反射後離開發光 裝置10。射向第一反射層19之光線R2會經過一次反射或於第一 反射層12與第二反射層19間反射而離開發光裝置10。如第3B 圖所不’斜面112與下檯面113間例如可為弧面，其夾角係為D1。 •弧面可為固定曲率或可變曲率，曲率變化可為二維或三維空間函 數。依本發明之設計可以有效釋放侷限於封裝結構中之光線而提 - 升發光裝置出光效率。 - 如第4A圖所示，發光裝置10之出光面20係與斜面112平行 或以角度D2相對於下檯面113傾斜。光線行經傾斜之出光面2〇 會被折射^改變方向’因此若適當設定肢D2，可以導引光線朝 向特定方向。於另-實施例中，若角度〇2=6〇。，光場或光線R3 將朝下方偏移。如第4B圖與第4C圖所示，發光裝置⑴之出光面 鲁2G係為弧面’弧面可制定曲率或可變曲率，曲率變化可為二維 或三維郎函數。曲面可產生多樣之光場。於適當弧面設計下， =使無第二絕緣層18與第二反姆19之配置，光線亦可於弧面與 、，本發明之另一實施例中，發光裝置1〇係包 各相鄰出光面相對於一參考面，例如··檯 環境介負:之界面上經-次或數次之全反射後自出光面2〇射出〆、 如第4D圖所示，本發明夕s|^ 面折射後之射出角度亦不同。此外，出光面20與下楼面ιΐ3問之 含多個出光面20，各相鄰出> 113，之夾角並不相同，因此， 灣π 一蚤哼曲，例如··下檯面 以同一角度入射之光線經由各出光

200830587 ，之3輪廟可形成自—多面體（pdyhedmn)之 二面S 42Γ至少一部分或至少數個出光面20係為弧面、粗 LH4圖〜第4G圖、或由透鏡組成。藉由組合不同角度 與t式之出光面可以控制發絲置1G之整體光場。 20! tHr例中之出光面2〇上尚可形成二個以上之微小透鏡 20。如弟5A圖所示’透鏡2〇1係橫向排列於出光面2〇上。光線 imr 2gi導引離開發光裝置ig之出光面％。藉由該些

10呈現出具有較大角度或具有較均勾混色光 之先劳。右赉光裝置10内之發光單元16可產生二 =2(H將有助於此些色光之混合。此外，透鏡2〇1亦有助於複 束之混合。然而’縱向配置之透鏡亦可視需要使用之。透鏡 係可以為凸透鏡或凹透鏡。透鏡2〇1之半徑係介於 · am 〇 一此外’如第5B圖所示’係顯示具有透鏡2〇1之如第4c圖所 不發光裝置10之上視圖。透鏡2〇1之半徑係沿著延伸路線變化， 本例中’透鏡2m之半徑係由上而下逐漸變大。再者，如第冗所 不’具有透鏡陣列20〗之發光裝置1G中，光通道内之内側面117 係可為垂直面而不限於斜面。 、、士發日月之發光裝置10之發光單S 1δ並不限於翻定於光通 運^早-侧，亦可關定於光通道之任—側。如第6圖所示，光 通運中包含二個或多個之斜面112,且斜面112位於光通道之相異 側。斜面112上可以固定任意數目之發光單元16。若二個斜面112 彼此相對，形成於斜面上之反射層可以將來自於對向之光線反射 向上。若光通适之四周分別具有—贿面112，且反射層形成於斜 面m與下檯面H3上，來自於各斜面112上之發光單元16之光 200830587 線將為各斜面上之反射層反射朝上。 ^據本發明之另一實施例，發光裝置1〇中係包含二個或多個 發光單元16，此些發光單元16係可以發出同色光、相異色光、或 非可見波長光、或上述各種齡之組合。發鮮元16之配置方式 ，取决於個別發光單元16之電極設計，詳細内容請參照前述關於 第2B圖之解說。紅、藍、綠三色之發光單元16混光後可以產生 白色光，或者二種互補色之發光單元16亦可以產生白光。 上述^計有觀發光單元翻概晶顯示社背光模組等需 =特殊光場之產品中。如第7A圖所示，侧投式液晶顯示器主要包 含導光板30、反射膜3卜光學膜32、及液晶層％。導光板3〇入 •光面之幾何形狀係隨發光裝置1〇之出光面Μ而變化。於本例中， 入光面係與出絲20輪廓-致，但本發明之應用非僅限於此，其 他可以與發光裝置10接合之配置皆可翻。來自於競單元16 之光線R4於導光板30之入光面經折射後Μ向導光板底部，再為 反射膜31反射朝向光學膜32及液晶層％。本實施例中，出光面 20之角度係不同於以上實施例以配合顯示器之設計。 > %光表置10之出光角度可以藉由改變出光面相對於一參考面 •^傾^度加以控制。水平人射絲通過較大傾斜角度之出光面 可以妝射至較遠之位置；反之，光線通過較小傾斜角度之出光面 僅能照射至較近之位置。如第7Β圖所示，二個具有不同角度之出 光面20Α與20Β係配置於反射體34之同侧，其中，此二個出光 面20Α與20Β係可以形成於單一或獨立之發光裝置1〇上。通過 f大角度出光面20Α之光線（光場）R5經折射後射向距出光面較 通之位置；而通過較小角度出光面20B之光線（光場）R6經折射 後射向距出光面較近之位置。光線經反射體34反射後射向遠離反 11 200830587 射體之方向。於此設計下，即使不使用第7A圖中之導光板3〇， 亦可以使光線均勻分布於—定區域上。上述之具有相異出光角度 ^出光面係可以分顺獨發絲置所擁有，或形成於單一發光 裝置之上。再者，發光裝置係可以配置於反射體之一個或二個以 上之邊緣。 此外，反射體34之表面35可為粗糙面，其上具有突起與凹 陷二照射至粗糙面之光線將會朝不特定方向散射。於一實施例中， 此突起與凹陷之分布密度係隨著遠離出絲之位置而增加。缺

而，突起與凹陷亦可均勻或任意分布於表面35上。突起盘凹陷: 圖案可以為點狀、條狀、孔洞、或其混合。 以下說明本發明之製作流程。 百先，如第8A圖所示，準備一矽基板u。接著，如第8β〜犯 圖所不，輔以氧化物遮罩（未顯示）與K〇H_液，非等向 矽基板11形成溝槽114，溝槽114具有上接面⑴、斜面出與 =檯^113。依序覆蓋第一反射層12與第一絕緣層13於上楼面 ⑴、斜面m、與下檯面113上。再覆蓋導電層14心 絕，層13位於上檯面111與斜面112上方之區域。將發光單元16 固定於導電層14及/或15上，並視需要進行打線 ^入溝槽114中，再依序覆蓋第二絕緣層18與第二反射 弟8F與8G圖所示。最後切割矽基板11完成獨立之發光裝置10。 此外，為避免金屬前物造成發料元1δ短路鱗料辟發 元16之側壁，可以在切割前先形成切口 115 (虛線八本一 二相連之發絲置結構），如第8Η與81圖所示。切口出、=另 开>成於第一絕緣層13覆蓋前，亦即，第一έ / ’、。以 口之上。卜^ 緣層13係覆蓋於切 上述_中，各層可為均勻厚度或非均勻厚度，取決於

12 200830587 製程條件或設計需要。 本喬明之製転亦可有其他選擇。例如，如第9A與第圖所 不，首先，於石夕基板11之一表面上形成私瓜膜116，並侧s讽膜 116以形成圖案，其中，_4膜為製程便利可同時形成於基板u之 其他表面。α此圖案作為遮罩，使用K0聯液钱刻基板n以形成 ，槽114與切口 115。接著藉由乾姓刻移除膜116。導入如氧 氣等之反應氣體使其射基板n之表面反應形成氧財絕緣層 3。再重複第8D圖後之步驟形成發光裝置1〇。 ♦ ^雖然本發明已朗如上，然其並義以限制本發明之範圍、 二施順序、或使狀材料與製程方法。對於本發賴作之各種修 铃變更，皆不脫本發明之精神與範圍。 【圖式簡單說明】 第1A與1B圖係顯示依本發明實施例之發光裝置； 之』二與2B _示依本發明-較佳實施例之部分發繼 第3A與3B圖係顯示依本發明一實施例之 第4A〜第犯圖係顯示本發明另-實_之發繼圖， 第5A〜第5C圖係顯示本發曰月又一實施例之發光裝置； :6 本翻再—實施例之發絲置之示意圖； 圖；弟與弟7B圖係顯示本發明之發光裝置應用於顯示器之示意 =圖〜第卿系顯示依本發明較佳實施例之 弟9A圖〜第9F圖係顯干俨士政αα 衣孝王， 不依本务明另一實施例之發光裝置之製 200830587 程；及 第ίο圖係顯示習知侧面出光型發光二極體之側視剖面圖。 【主要元件符號說明】

10 發光裝置 17 填充材料 11 基座 17A 波長轉換材料 111 上檯面 18 第二絕緣層 112 斜面 19 第二反射層 113 下檯面 20 出光面 114 溝槽 30 導光板 115 切口 31 反射膜 116 Si3N4 膜 32 光學膜 117 内侧面 33 液晶層 12 第一反射層 34 反射體 13 第一絕緣層 35 表面 14 導電層 50 發光二極體 14A 導電層 51 基座 14B 導電層 52A 上侧壁 15 導電層 52B 下側壁 16 發光單元 53 晶粒 16A 導線 54 填充材料 14

Claims (1)

1. 200830587 2. 3. 4. 5. 、申請專利範圍： 一種發光裝置，包含··4通道成於-基座上，包含： 一上側面； 一下側面，係相對於該上側面； 内側面’係分別與該上侧面與該下側面形成不同角度之夾角；及 一出光面，係相對於該内侧面；及 一發光單元，係位於該内侧面上，其中 光線於該光通道内朝該出光面傳遞。 如请求項1所述之發光裝置，更包含·· 一第一反射層，係覆蓋於該内側面上； 厂導電層’係覆蓋於該第—反射層上方，並與該發光單元電 連接；及 一第二反射層，係位於該上側面上。 如請求項2所述之發光裝置，更包含： 一第-絕緣層’係介於該第—反射層與該導電層之間。 如請求項2所述之發光裝置，更包含： 一填充材料，係至少填入該光通道内。 如請求項1所叙魏裝置，其巾糾絲敍社 該内侧面。 、 ，請求項1所述之發光裝置’其中該出光面係大體上垂直於 °亥上側面與該下侧面中至少其一。1所叙發紐置，其巾邮細齡職該上側 曲興该下侧面形成不同角度之夾角。 該發光單元可發出 15 6. 200830587 8· 9. 10. 11. 12. 13.

   14. 15. 16.

   17· ’其中该出光面係為弧面。 ’其中該上侧面係大體上平行該 其中該導電層係包含一第一導 如明求項I所述之發光裝置 如清求項1所述之發光裝置 下側面。 如請求項1所述之發光裝置 電層與一第二導電層。 所述之發光裝置，其中該發光單元係發出二種以 如請求項1 或綠色光。 所述之發絲置，其巾該發光單福發出紅、藍 其中該内側面與該下側面至少 如晴求項1所述之發光裝置 其一之部分係為弧面。 如請求項1·之發絲置，射該摘面包含轉之切口。 如請求項1所述之發光裝置，更包含： 一波長轉換材料’⑽接收來自該發光單元之规並產生激 發光。 如請求項丨6 讀綠置，射誠鶴婦㈣直 蓋於該發来里汰F。 如請求項1所述之發光裝置，更包含： -導光板肋概來自該發鱗元之光線並改變其方向。 I9.如請求項I8所述之發光裝置，其中該導光板之一人光面係具 有與該出光面相應之幾何輪扉。 ’、 20·如請求項18所述之發光裝置，更包含·· 一反射層，位於该導光板之一側，用以反射光線； 16 200830587 21. 22. 23. 24. 25. 26. 一光學膜；及 一液晶層； 〃中ϋ亥光學膜與該液晶層係位於該導光板之一 一種發光裝置，包含·· 一， 光通道，係形成於一基座上，包含··=光Γ係位於該光通道之—側，其上具有二個或多個之 第半導體發光單元，係位於該光通道 體=元係可發出光線於該光通道内朝該出= 2曲ΐ1所述之發光裝置，其中該出光面之至少二分係 如請求項21所述之發光裝置，更包含： 峨綱㈣她異於該2=^之—發繼，其中該綱鏡之排列方向係 元之排列方向4 +雜發光單元與鄕二铸體發光單 =:::項21所述之發光裳置’其中錄座上具有—切口。 二^ 21所述之發光裝置，其中該光通道更包含二個以上 偏r'订之側面’且該些側面係垂直於—_面，复中兮内-種發光裝置另一側，且不平行於該出光面。一反射體； 们ίΐΓίί光單元’各該歸光單元分別具有 面，该些發光單元中至少其 出光 二之該些出光面具有相異之傾斜 17 21. 200830587 =。’使㈣㈣絲折射之細軸反射體之相異 28. 如請求項27所述之發光裝置，更包含： 一液晶層，位於該反射體之上。 29. 30. 一種發光裝置，包含·· 一光通遏，係形成於一基座上，包含： =所=發光裝置，其中_面=_係包 粗上=光學結構係選自於由凸透鏡、凹透鏡'及 31. 一 種液晶顯示裝置，包含·· 一液晶層；及 一發光裝置，包含： 一光通道，係形成於一基座上，包含·· 一上側面； 一下側面，係相對於該上側面； 了内侧面’係分別與該上側面與該下側面形成不度之 夹角；及 一出光面，係相對於該内侧面；及 =光單元’係位於該内側面上，其中，該發光單元可發出 先線於該光通道内朝該出光面傳遞。 如請求項31所述之液晶顯示裝置，該更包含： 32. 200830587 一導光板用以接收來自該發光單元之光線並改變其方向。 33·如請求項32所述之液晶顯示裝置，該更包含: 一反射層，用以反射光線；及 一光學膜。