TW200822370A - Method for repairing flat display panel - Google Patents

Description

200822370 九、發明說明：

【發明所屬之技術領 本發明係有關— 域】 種修復 平面顯示器面板之方法，且尤 係有關一種修復平面顯 製程後產生一亮像素， 品缺陷率、 示器面板之方法，其中在單元修復 係使用雷射轉換成暗像素以減少產 v致產品利用性的改進。 同時，為了改進製程 效率在轉換成為暗像素之製程後，當一光透射小於某一 值時’並不使用雷射將亮像素轉換成暗像素，反而應用一 刀配將修復製程施加於未轉換成暗像素之紅（R)、綠 (G)、藍（B)及黑（Βκ)色像素，從而使整體製程最佳化。 【先前技術】

大體上’顯示器係作為人及電子裝置間之介面。此一 顯示器具有資訊顯示裝置之作用，其將各種類型之電子裝 置輸出的電子資訊信號轉換成光學資訊信號，以允許人能 視覺辨識此資訊。在此等顯示器中，平面顯示器面板包括 液晶顯示器（LCD)、電漿顯示器面板（PDP)、場發射顯示器 (FED)、有機發光二極體（OLed)等等。 苐1圖係顯示習知薄膜電晶體液晶顯示器（TFT-LCD) 的斷面圖。 如第1圖中顯示，TFT-LCD係配置以包括一 TFT陣列基 材、一偏光器、一像素電極、一累積式電容器、一配向層 (alignmentlayer)、一 密封件、一間隔件、TFT、液晶、一 共同電極（ITO)、一彩色濾光片、一黑矩陣等等。 5 200822370 一液晶（LC)單元製程係包括在製造TFT-LCD(其係平 面顯示器面板之一）的整體製程中。 此LC單元製程指製造一單位單元之製程，其中一驅 動電路被提供給完整之TFT基材及彩色濾光片基材，使得 該單位LC單元能由信號驅動。 LC皁το製程之特徵係當與TFT製程或彩色濾光片製程 相比％，其通常不需要一重複製程。可將整體[〇單元製程 粗略地分成一配向層形成製程（用於對準LC分子）、一單元 間隙形成製耘、一液晶注入製程、及一偏光膜附接製程。 個別製程具有不同特點，因此需要不同製程，例如一 聚α物薄膜形成製程、一磨擦製程、一使用真空之液晶注 入製程等等。 在液sb單元製程前，會施行單元修復製程以修復lc單 元。 然而，習知技術中沒有用於修復在單元修復製程後產 生的冗像素之方法。因此，係需要一種修復亮像素的方法。 同樣地，應提出一種能最佳化整體製程之修復製程。 【發明内容】 因此，本發明已考慮到以上問題而進行，且本發明之 一目的係提供一種修復平面顯示器面板之方法，其可減少 產品缺陷率，如同使用雷射將單元修復製程後產生之一亮 像素轉換成一暗像素，因而可改進產品利用性。同時，該 方法可使整體修復製程最佳化，因為在將亮像素轉換成為 6 200822370 暗像素後，當光透射係小於一特定值時，並不使用雷射將 免像素轉換成暗像素之製程，反而應用一分配器將一修復 製程施加於未轉換成暗像素之紅（R)、綠（G)、藍（B)及黑（BK) 色像素，從而改進製程效率。 依據本發明之一態樣，以上及其他目的可藉由提出一 種修復平面顯示器面板之方法而達到，其包含：施行一單 元修復製程（cell repair process);確定在該單元修復製程 後一亮度缺陷是否產生；當已產生該亮度缺陷時，施行一 修復製程以將該亮像素轉換成一暗像素；在該修復製程後 確定一光透射是否小於某一值；及當該光透射係小於一特 定值時，使用一分配器修復未轉換成暗像素之紅（R)、綠 (G)、藍（B)、及黑（BK)色像素。 確定亮度缺陷是否產生之步驟，在一缺陷由一或多種 原因產生時可較佳地確定一亮度缺陷是否發生，該多種原 因係：一液晶内之粒子、閘極斷路、像素至資料線短路、 非晶矽（a-Si)殘基、像素通道短路、具不良特徵的TFT、像 素至像素橫跨資料線短路 孔、 、像素下之資料線殘餘、無接觸

施行修復製程之步驟最好係 再次施行。 【實施方式】 種修復具有本發明平面顯示器面 現將參考附圖詳述一 7 200822370 板此構造之方法的較佳具體實施例。 第2圖係描述一種依據本發明之具體實施例修復平面 顯示器面板的方法之流程圖。 首先，係施行一典型單元修復製程（S 1 0)。之後，會作 出關於是否已產生亮度缺陷之判定（S20)。當該判定係肯 定時，或已產生該亮度缺陷時，施行一修復處理使一亮像 素轉換成一暗像素（S3 0)。之後，接著讀取光透射値以確定 其是否小於某一數值（s 4 〇)。當該光透射値小於某一數值 時’未曾轉換成暗像素之紅（R)、綠（G)、藍（B)及黑（BK) 像素係藉由使用一分配器轉換（S5〇)。 在此’ 一關於是否已發生亮度缺陷之判定係如第3及4 圖中所示般施行。 第3圖係顯示缺陷係由於平面顯示器面板上之粒子產 生的實例之斷面圖，該缺陷可藉由第2圖的方法解決。第4 圖係顯不各種類型之缺陷產生於平面顯示器面板上之實例 的俯視圖’該等缺陷可藉由第2圖的方法解決。 及4圖中顯示，當因一或多數原因而產生一缺陷 8^ ， 已〜 疋有亮度缺陷發生，該些原因包括液晶内之粒子、 閘極斷路、栳主 _ 物 篆素至資料線短路、非晶矽殘基、像素通道短 素下/、次^特徵之TFT '像素至像素橫跨資料線短路、像 貝料綠殘餘、無接觸孔、S/D斷路、及像素至像素 飧跨閘極線短路。 ” 5 2射施行將亮像素轉換成暗像素之製程。 冋¥，當光透射値超過某一數值時，其意指尚未達到 8 200822370 一適當效率’其中將亮像素轉換成暗像素之修復製程會重 覆施行。 根據本發明修復具有某一構造之平面顯示器面板的方 法之較佳具體實施例，將會參考附圖更詳細插述。 若確定相關功能及構造之詳細解釋會使本發明之概念 不明確，則將省略詳細解釋。後續欲解釋之名詞係考慮本 發明之功此來定義’其可能依據使用者、操作員或前例之

意圖有所不同。因此，各名詞應基於本發明之說明書涵蓋 的内容來理解。 首先，本發明係關於使用雷射將一在單元修復製程後 產生之焭像素轉換成暗像素，來減少產品缺陷率以改進產 品利用性。 習知技術未曾提供在施行單元修復製程後用以修復亮 像素，或在施行單元修復製程後且接著完成—液晶單元製 程之任何製程。 在此，亮像素代表由於在該彩色濾光片上形成一完整 像素之R、G、及B子像素中之某一子像素不管所施加之 電壓為何-直運轉而顯示在一監視器上之獨一色彩的彩色 滤先片。同樣地’該亮像素甚至可產生在一黑矩陣⑽）中。 當該某子像素持續在開啟狀態時（即若 像素），單色（黑或白）靜止狀離的門韻叮&政符π為一冗 上1此，本發明之摔： = = :發生在監視器 態（即-暗像素）。 式係使該某子像素怪在關閉狀 即，該TFT製程期間產生之亮度缺陷轉換成暗像^ 9 200822370 對於一在TFT及彩色濾光片之附接製程期間產生的亮像 素，亦將該亮度缺陷在一單元製程中轉換成暗像素。 此亮度缺陷係在以下情況中產生。即，缺陷產生係由 於TFT製程期間中之異物的產生、TFT異常操作，及當TFT 製程進行中時由於人工插入異物造成的短路。 可將產生亮度缺陷之情況分類為如第3及4圖中所示。 (1) 液晶内之粒子 (2) 閘極斷路

(3) 像素至資料線短路 (4) 非晶矽（a-Si)殘基 (5) 像素通道短路

(6) 具不良特徵之TFT (7) 像素至像素橫跨資料線短路 (8) 像素下之資料線殘餘 (9) 無接觸孔 (10) S/D 斷路 (11) 像素至像素橫跨閘極線短路。 之後，如第5及6圖中顯示，會施行使用雷射形成一黑 矩陣之製程。 第5圖係顯示應用第2圖修復平面顯示器面板的方法之 實例的斷面圖。第6圖係顯示藉由第2圖之方法使用雷射將 亮像素轉換成暗像素的範例性製程之概念圖。 當形成黑矩陣時，已產生亮度缺陷於其中之彩色濾光 片接著係用黑矩陣覆蓋。在此，一貫穿深度可藉由控制雷 10 200822370 射之強度來調整。 第7 A至7D圖係顯示藉由第2圖之方 暗像素的製程之概念圖。第7A圖顯示R 第7B圖顯示一像素。 如第7C圖中所示，當產生該亮度缺 產生在某一子像素中。然後，如第7d圖 來修復該某子像素，從而將其轉換成暗 因此，本發明使用雷射將修復製程 換成暗像素，從而減少產品缺陷率及改 然而’因為使用雷射施行將亮像素 程花費較長時間，製程效率可能會稍微 明之操作方式係使用雷射將某一數量之 素’來獲得適當效率。即，本發明施行一 係將冗像素轉換成r、G、B及b K像素。 更明確言之，在施行將亮像素轉換 里的修復製程以後，使用雷射之修復製 出光透射値以測量效率。即，確定光透 數值。§光透射値小於某一數值時，其 該面板的所欲效率。否則，即未達到所 取決於該產品的消費者。 當光透射値小於某一數值時，確定 率。因此’使用雷射轉換成為暗像素不 考慮製程效率，未轉換成暗像素的R、{ 用分配益轉換成獨一像素。 b將亮像素轉換成 、G及B子像素，且 陷時，一亮現象係 中所示，雷射係用 像素。 後產生之亮像素轉 進產品利用性。 轉換成暗像素之製 降低。因此，本發 亮像素轉換成暗像 •修復製程之方式， 成暗像素之某一數 程係終止，而後讀 射値是否小於某一 暗示已獲得一用於 欲效率。該某一值 已獲得一所欲效 再施行。而是藉由 3、B及BK像素係使 11 200822370 若光透射值超過該某數值，確定其未達到用於面板之 所欲效率。因此，使用雷射將亮像素轉換成一暗像素之修 復製程會重覆施行。 ^ 如以上描述，在根據本發明修復平面顯示器面板的方 法中，在單元修復製程後產生之亮像素係使用雷射轉換成 暗像素，從而減少產品缺陷率及改進產品利用性。 同樣地，當將亮像素轉換成暗像素後光透射値小於某 一數值時，並不使用雷射將亮像素轉換成暗像素之製程， 本發明之操作方式反而應用一分配器修復未被轉換成暗像 素之R、G、B、及BK像素，從而最佳化整體修復製程及增 加製程效率。 如目前所描述，雖然本發明之較佳具體實施例已揭示 用於示範目的，但本發明不受其限制，而是各種修改、變 化及等效者均可用。因此，在不脫離隨附申請專利範圍中 揭示之本發明範疇及精神下，本發明之較佳具體實施例可 適當地改變來應用。 【圖式簡單說明】 本發明之以上及其他目的、特徵及其他優點，將可自 以上結合附圖之說明中更清楚地瞭解，其中·· 第1圖係顯示習知平面顯示器面板之斷面圖； 第2圖係描述依據本發明之具體實施例修復平面顯示 器面板的方法之流程圖； 第3圖係顯不其中缺陷係由於平面顯示器面板上之粒 12 200822370 子產生的實例之斷面圖，缺陷可藉由第2圖的方法解決； 第4圖係顯示其中各種類型之缺陷係產生於平面顯示 器面板上的實例之俯視圖，缺陷可藉由第2圖的方法解決； 第5圖係顯示其中應用修復第2圖之平面顯示器面板的 方法之實例的斷面圖； 第6圖係顯示藉由第2圖之方法使用雷射將一亮像素轉 換成一暗像素的範例性製程之概念圖；及

第7A至7D圖係顯示藉由第2圖之方法將一亮像素轉換 成一暗像素的製程之概念圖。 【主要元件符號說明】 13

Claims (1)

1. 200822370 十、申請專利範圍： i 一種修復一平面顯示器面板之方法，其包含： 施行一單元修復製程（cell repair process); 確定在該單元修復製程後是否已產生一亮度缺陷； 當該亮度缺陷已產生時，施行一修復製程以將該亮 像素轉換成一暗像素； 在該修復製程後確定一光透射値是否小於某一數

   當該光透射値小於該特定數值時，使用一分配器修 復未轉換成該等暗像素4紅（R)、綠（G)、藍（B)及黑（BK) 色像素。 2.如申請專利範圍第1項所述之方法，其中該確定亮度缺 陷是否已產生之步驟，可在一缺陷因一或多種原因而產 生時，確定一亮度缺陷是否已發生，該些原因係一液晶 内之粒子、閘極斷路、像素至資料線短路、非晶矽（a_Si) 殘基、像素通道短路、具不良特徵之TFT、像素至像素 橫跨該資料線短路、像素下之資料線殘餘、無接觸孔、 S/D斷路、及像素至像素橫跨該閘極線短路。 3·如申請專利範圍第i或第2項所述之方法，其中該施行 一修復製程之步驟係使用一雷射施行。 4·如申請專利範圍第！項所述之方法，其中當該光透射值 14 200822370 超過某一數值時，該施行一修復製程之步驟係再次施 行0 15