TW200819229A - A mold, a device for processing the same, and a replica made therefrom - Google Patents

Description

200819229 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本申請案基於35 U.S.C. 119，根據於2006年8月23 日提出之韓國專利申請案號1〇_2〇〇6-008007 1主張優先權 權利。此申請案以參考的方式全部倂入本文中。 本發明針對一種鑄模。本發明亦針對一種用於處理該 鑄模之裝置及由其製造之模製品。 【先前技術】 以LCD之名而爲人熟知之液晶顯示器係利用依據施加 的電壓改變液晶透過率而將電訊號轉爲視覺訊號之電子裝 置。 一般而言，液晶顯示器包括一液晶面板，其對應來自 外部的驅動訊號及資料訊號而顯示影像；及一背光單元， 其置於液晶面板背側而用於照明面板。 背光單元包含光源、反射片及光學膜。 光源產生具有特定波長的光線。 反射片反射光源產生的光以引導至液晶面板。 光學膜包括擴散片、稜鏡片及保護片。 由光源產生的光通過擴散片。在此，擴散片將入射光 散射以防止其局部集中且使亮度均勻。 由擴散片傳出的光線之亮度快速地降低。因此使用棱 鏡片防止亮度降低。 第1圖係說明製造鑄模之傳統方法的圖式。 參照第1圖，將黏附鑽石顆粒之尖刻（blte ) 100固定 200819229 於平台，且將鑄模11 0置於尖刻1 00下方，且將鑄模11 ο 之表面與尖刻100接觸。 接著，將鑄模1 1 0轉動且移向左方並加工尖刻1 0 0。在 此，當鑄模1 1 0只轉動時，尖刻1 00可水平地移動。 尖刻1 00之轉動速度及直線移動速度通常爲固定。因 此，鑄模1 1 0之表面被切割特定量而獲得如第1圖所示之 線形均勻的表面1 1 2。 第2圖爲一立體圖，說明藉由使用第1圖之鑄模所製 ' 造的稜鏡片。 參照第2圖，棱鏡片包括稜鏡基座230及形成於稜鏡 基座230上之稜鏡210之陣列。稜鏡210包括由第一表面 2 1 2及第二表面2 1 4構成之側表面，且稜鏡2 1 0之形狀爲近 似等邊三角形。一般而言，第一表面212與第二表面214 構成直角，但亦可選擇構成其他角度。 將複數個稜鏡2 1 0配置於稜鏡基座2 3 0上，且輪流形 成山峰（peak) 216及溝槽（groove) 218。棱鏡片200使自 (1 w/ 稜鏡基座230入射之光線藉由通過稜鏡210而折射。因此， 低入射角的入射光被聚焦於前側，藉以在有效視野內增強 亮度。 然而，習知的稜鏡片200之此等稜鏡210因其表面爲 平面，所以將入射光折射朝向一個方向。因此習知的稜鏡 片2 00具有不適合將光線折射於兩個方向的缺點。 【發明內容】 本發明之一目的係提供鑄模、其處理裝置及由其製造 -6- 200819229 的模製品，該模製品具有將光線折射成二維之圖案。 本發明之另一目的係提供鑄模、其處理裝置及由其製 造的模製品，該模製品之缺陷難以被目視檢出。 本發明之另一目的係提供鑄模、其處理裝置及由其製 造的模製品，該模製品能減少或消除疊紋（moire )現象。 【實施方式】 藉由下文所提供之詳細敘述將使本發明之應用範圍變 得顯而易見。然而，應瞭解的是，所提出之詳細敘述及特 定範例（同時指出本發明之較佳具體實施例）係僅供說明， 因爲對本領域之熟習技藝者而言，藉由此詳細敘述將使本 發明之精神及範疇內之各種變更及修改變得顯而易見。 弟3 a圖係g兌明用於處理根據本發明之一*具體貫施例的 鑄模之裝置立體圖；且第3b圖係說明第3a圖中用於處理 鑄模之裝置之沿著線段A - A的剖面圖。 參照第3a及3b圖，本發明之處理裝置300包括外殼 31〇;至少一個壓電元件320a、32 0b、320c及320d;訊號 產生器340及切割單元3 5 0。 外殼3 1 0收納切割單元3 5 0且具有開口 3 1 2，切割單元 350之一部分自開口 312突出。顯示於第3a及3b圖中之外 威310形狀可被改變爲能固定於處理台（processing table) (未顯示）之形狀。 將至少一個壓電元件320a、320b、320c及320d配置於 切割單元3 5 0與外殼3 1 0之間。 當施加電壓於壓電元件3 20a、3 20b、3 20c及3 20d時， 200819229 壓電元件會發生機械性位移。相反地，當施加應力或振動 於壓電元件320a、320b、320c及320d時，會由壓電元件產 生電訊號。 根據本發明之一具體實施例，當施加電訊號於壓電元 件320a及320b時，配置於外殼310側壁（side wall)之壓 電元件3 20a及3 20b會水平地產生機械性位移。 同樣地，當施加電訊號於壓電元件3 2 0 c及3 2 0 d時， 配置於外殼310上壁（upper wall)之壓電元件320a及320b 會產生垂直的機械性位移。在此，垂直方向的機械性位移 可能爲l//m至4//m之範圍內。因此，本發明之處理裝置 3 00之切割單元3 5 0可具有某種程度的垂直及水平位移，且 可藉由結合每一個壓電元件320a、320b、320c及320d之機 械性位移而產生隨機位移。 顯示於第3b圖之處理裝置300在外殼310中具有4個 壓電元件320a、320b、320c及320d，但並不限定於此種構 造。例如，可將一個壓電元件配置於外殼3 10中，且可配 置更多的壓電元件以便更精確地控制切割單元3 5 0之位移。 壓電元件320a、320b、320c及320d包括選自由酒石酸 鉀鈉（rochelle salt )、鈦酸鋇及PZT所構成群組之至少一 個。 根據本發明之一具體實施例，壓電元件320a、320b、 3 20c及3 20d各具有不同的壓電模組。因此，即使施加相同 的電訊號於各壓電元件320a、320b、3 20c及3 20d，各壓電 元件3 20a、3 20b、3 20c及3 20d之機械性位移可爲不同。 200819229 訊號產生器340施加電訊號於壓電元件3 20a、3 20b、 320c及320d而引發壓電元件320a、320b、320c及320d產 生機械性位移。 連接線 3 30a、3 3 0b、330c 及 3 30d 爲中間工具 (intermediate means)，其將由訊號產生器340產生的電訊 號傳送至壓電元件320a、3 20b、3 20c及3 20d。 訊號產生器340可爲DC電壓產生器、可變AC電壓產 生器或函數波產生器（function generator)。 當將由訊號產生器 340產生的電壓施加至壓電元件 320a、 320b、 320c 及 320d，壓電元件 320a、 320b、 320c 及 3 20d會對應於電壓變動而產生機械性位移。 切割單元3 50雕刻鑄模600表面。切割單元3 5 0包含 至少一種選自由碳鋼、高速鋼、硬金屬及陶瓷所構成之群 組。 將切割單元3 5 0連接至壓電元件3 20a、3 20b、3 20c及 3 20d，因而造成對應於壓電元件3 20a、3 20b、3 20c及3 20d 之機械性位移的位移。 第4圖係說明第3 a圖中用於處理鑄模之裝置的底視 圖。 參照第4圖，切割單元3 5 0與外殼3 1 0開口相隔（a + b )之距離。因此收納於外殻3 1 0中的切割單元3 5 0可產生 (a+b)之預定距離內的位移。 因此，即使壓電元件320a、320b、3 20c及3 20d因訊號 產生器340故障而產生過量的位移，切割單元3 50亦產生 200819229 預定距離內的位移。 根據本發明之一具體實施例，（a + b )之距離爲在約1 //m至4/zm之範圍內。 第5圖係說明用於處理根據本發明之另一具體實施例 的鑄模之裝置剖面圖。 參照第5圖，將兩個壓電元件5 20a及5 20b配置於切 割單元5 50及外殼510之間。 根據本發明之一具體實施例，壓電元件520a及5 20b 各具有不同的壓電模組。因此，切割單元5 50可產生水平 位移及垂直位移。 例如，在當施加相同的電訊號於壓電元件5 20a及5 20b 時，一壓電元件5 20a之垂直位移大於另一壓電元件5 20b 之垂直位移的情況下，切割單元5 5 0產生水平位移及垂直 位移。 第5圖中，可將鑽石顆粒5 50a黏附至切割單元5 50之 一部分，與鑄模600相接觸，藉此可強化切割單元5 50的 耐用性及硬度。 第6圖係說明根據本發明之一具體實施例之鑄模立體 圖。 參照第6圖，本發明之鑄模600係利用如第3b及5圖 之處理裝置300及500進行處理，且鑄模600包含複數個 形成於鑄模600表面之線形山峰620及溝槽610。在此，山 峰620及溝槽610之兩者或其中之一具有隨機的或週期的 蜿蜒形狀。 -10- 200819229 山峰620之深度及溝槽610之高度係由切割單元35〇 及5 5 0之運作決定，因而可能隨機地或週期地變化，或者 爲固疋。 第7圖係說明根據本發明之一具體實施例之鑄模平面 圖。 在處理裝置300及500於垂直方向週期地振動之情況 下，形成如第7圖所示鑄模600a。 處理裝置300及500不會產生水平位移，因而鑄模600a 之溝槽6 1 0 a係依直線方向形成。然而，溝槽6 1 0 a之深度 被改變。 山峰620a對稱於溝槽610a之軸而形成，且山峰620a 間的距離係週期地變化。 第8 a圖係說明藉由第7圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第8b圖係說明第8a圖之模製品的平面圖；且第8c圖 係說明第8 b圖之B 1部分側面圖。 參照第8a至8c圖，將複數個線形山頂660a及山谷650a 形成於模製品640a表面。 模製品640a之山頂660a對應於鑄模600a之溝槽 610a，模製品640a之山谷650a對應於鑄模600a之山峰 620a 〇 如第7圖所示，鑄模6 0 0 a之溝槽6 1 0 a係形成爲直線 方向，因而模製品640a之山頂660a亦形成爲直線方向。 又，鑄模600a之山峰620a對稱於溝槽610a之軸而形成。 -11- 200819229 因此，模製品640a之山谷650a亦對稱於山頂660a之軸而 形成。 在每一排稜鏡中，模製品640a之從底部到山頂660a 的高度（hi )爲週期地變化，模製品640a之從底部到山谷 650a的距離（dl)爲固定。 參照第8c圖，從側面觀察形成於模製品640a之一條 線的山頂660a，山頂660a之高度（L1 )爲週期地變化。 第9圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模平 ' 面圖。 在處理裝置300及500於垂直方向隨機振動的情況 下，形成如第9圖所示之鑄模600b。 處理裝置300及500不會產生水平移動，因而鑄模600b 之溝槽610b係形成爲直線方向。然而，溝槽610b的深度 係依處理裝置300及500之垂直振動而隨機變化。 山峰620b之高度爲隨機地變化，且山峰620b間之距 離（P2)爲隨機地變化。 " 第1 〇a圖係說明以第9圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第10b圖係說明第10a圖之模製品的平面圖；及第l〇c 圖係說明第1 Ob圖之B 2部分側面圖。 參照第10a至10c圖，複數個線形山頂660b及山谷65 0b 係形成於模製品640b表面。 模製品 640b之山頂 660b對應於鑄模 600b之溝槽 610b，且模製品640b之山谷650b對應於鑄模600b之山峰 -12- 200819229 620b ° 如第9圖所示’鑄模600b之溝槽610b形成爲直線方 向，因而模製品640b之山頂660b亦形成爲直線方向。同 樣地，鑄模600b之山峰620b具有隨機的蜿蜒形狀，因而 模製品640b之山谷65 0b亦具有隨機的蜿蜒形狀。 在每一排稜鏡中，模製品640b之從底部到山頂660b 的高度（h2 )爲隨機地變化，模製品640b之從底部到山谷 6 5 0b的距離（d2 )爲隨機地變化。 參照第1 0c圖，從側面觀察模製品640b之一條線中的 山頂660b，山頂660b之高度（L2)爲隨機地變化。 第1 1圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 平面圖。 在處理裝置300及500於水平方向週期地振動的情況 下，形成如第1 1圖所示之鑄模600c。 鑄模600c之溝槽610c及山峰620c具有週期的蜿蜒形 狀。 處理裝置3 00及500未產生垂直位移，因而溝槽610c 之深度及山峰620c之高度係固定，且山峰620c之間的距 離（P3 )係固定。 第1 2a圖係說明以第1 1圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第12b圖係說明第12a圖之模製品的平面圖；且第12c 圖係說明第1 2b圖之B 3部分側面圖。 參照第12a至12c圖，複數個線形山頂660c及山谷650c -13- 200819229 係形成於模製品640c表面。 模製品640c之山頂660c對應於鑄模 610c，且模製品640c之山谷650c對應於鑄模 6 2t)c 〇 如第1 1圖所示，鑄模6 0 0 c之溝槽6 1 0 c 具有週期的蜿蜒形狀，且模製品640c之山頂 6 5 0c亦具有週期的蜿蜒形狀。

在每一排稜鏡中，模製品640c之從底部 γ 的高度（h 3 )爲固定，且模製品6 4 0 c之從底音I 的距離（d3 )爲固定。 同樣地，顯示於第1 1圖中之鑄模600c之 的距離（P3 )爲固定，因而模製品640c之山 距離（T3 )爲固定。 參照第12c圖，自側面觀察模製品640c , 山頂660c，山頂660c的高度（L3)爲固定。 „ 第1 3圖係說明根據本發明之另一具體1 \ .· 平面圖。 在處理裝置3 00及5 00於水平方向隨ί 下，形成如第13圖之鑄模600d。 鑄模600d之溝槽610d及山峰620d具有| 狀。 處理裝置300及500不會產生垂直位移，I； 之深度爲固定。然而，山峰6 20d之高度爲隨榜 山峰620d之間的距離（P4 )爲隨機地變化。 600c之溝槽 6 00c之山峰 及山峰620c 660c及山谷 到山頂6 6 0 c 5到山谷650c 山峰620c間 谷650c間的 匕一條線中的 I施例之鑄模 _振動之情況 眞機的蜿蜒形 3而溝槽620d 地變化。且， -14- 200819229 第1 4 a圖係說明以第1 3圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第14b圖係說明第14a圖之模製品的平面圖；且，第 14c圖係說明第14b圖之B4部分側面圖。 參照第1 4 a至1 4 c圖，將複數條線形山頂6 6 0 d及山谷 650d形成於模製品640d表面。 模製品640d之山頂660d對應於鑄模600d之溝槽 610d，且模製品640d之山谷650d對應於鑄模600d之山峰 620d ° 如第13圖所示，鑄模600d之溝槽610d及山峰620d 具有隨機的蜿蜒形狀，因而模製品640d之山頂660d及山 谷65 0d亦具有隨機的蜿蜒形狀。 在每一排稜鏡中，模製品6 4 0 d之從底部到山頂6 6 0 d 的高度（h4 )爲固定，且模製品640d之從底部到山谷65 0d 之距離（d4)爲隨機地變化。 參照第14c圖，從側面觀察模製品640d之一條線中的 山頂660d，山頂660d之高度（L4)爲固定。 第1 5圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 平面圖。 在處理裝置300及500d於水平及垂直方向週期地振動 之情況下，形成如第1 5圖所示之鑄模6 0 0 e。 鑄模600e之溝槽610e具有週期的蜿蜒形狀，且溝槽 6 10e之深度週期地變化。 鑄模600e之山峰620e具有週期的蜿蜒形狀，且山峰 -15- 200819229 620e之高度爲隨機地變化。同樣地’山峰620e之間的距離 (P5 )隨機地變化。 第1 6a圖係說明以第1 5圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第16b圖係說明第16a圖之模製品的平面圖；且第16c 圖係說明第1 6 b圖之B 5部分側面圖。 參照第1 6 a至1 6 c圖，將複數條線形山頂6 6 0 e及山谷 650e形成於模製品640e表面。 ; 模製品 640e之山頂 660e對應於鑄模600e之溝槽 610e，且模製品640e之山谷650e對應於鑄模600e之山峰 6 2 0 e ° 如第15圖所示，鑄模600e之溝槽610e具有週期的蜿 蜒形狀，因而模製品6 4 0 e之山頂6 6 0 e具有週期的蜿蜒形 狀。且，鑄模600e之山峰620e具有隨機的蜿蜒形狀，因 而模製品640e之山谷65 0e亦具有週期的蜿蜒形狀。 f 在每一排稜鏡中，模製品640e之從底部到山頂660e 的高度（h5 )爲隨機地變化，且模製品640e之從底部到山 谷650e之距離（d5)爲隨機地變化。 參照第16c圖，從側面觀察模製品640d之一條線的山 頂660e，山頂660e之高度（L5 )爲週期地變化。 第1 7圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 平面圖。 在處理裝置300及500於水平及垂直方向隨機地振動 之情況下，形成如第1 7圖所示之鑄模600f。 -16- 200819229 鑄模600f之溝槽610f及山峰620f具有週期的蜿蜒形 狀，且山峰62Of之高度及溝槽610f之深度隨機地變化。因 此，山峰620f之間的距離（P6 )隨機地變化。 第1 8a圖係說明以第1 7圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第18b圖係說明第18a圖之模製品的平面圖；且第18c 圖係說明第1 8 b圖之B 6部分側面圖。 參照第18a至18c圖，將複數條線形山頂660f及山谷 : 650f形成於模製品640f表面。 模製品640f之山頂660f對應於鑄模600f之溝槽610f， 且模製品640f之山谷650f對應於鑄模600f之山峰620f。 如第17圖所示，鑄模600f之溝槽610f及山峰620f具 有隨機的蜿蜒形狀，因而模製品6 4 0 f之山頂6 6 0 f及山谷 650f具有隨機的蜿蜒形狀。 在每一排稜鏡中，模製品640f之從底部到山頂66Of 的高度（h6 )爲隨機地變化，且模製品640f之從底部到山 / h V 谷65 0f之距離（d6 )爲隨機地變化。 參照第1 8 c圖，從側面觀察模製品6 4 0 f之一條線的山 頂660f，山頂660f之高度（L6)爲隨機地變化。 第1 9圖係說明製造根據本發明之一具體實施例之稜 鏡片的方法之圖。 參照第1 9圖，用於製造稜鏡片之裝置包括樹脂供應單 元700、鑄模600及光照射單元720。 首先，如第19圖所不，將基底膜（base film) 810連 -17- 200819229 續地供應至製造裝置。 基底膜810爲光學膜，且較佳爲透明、可撓、及具有 優異加工性的熱塑性聚合物膜。 當基底膜810被供應至製造裝置時，樹脂供應單元700 施加光固化樹脂（light curative resin) 822於具有規定厚 度的基底膜8 1 0上。 當樹脂供應單元700施加特定量之光固化樹脂8 22於 基底膜8 1 0時，將施加於基底膜8 1 0表面上的光固化樹脂 822控制爲特定的厚度。 接著，將被施加光固化樹脂8 2 2的基底膜8 1 0移動至 鑄模600。 接著，鑄模600以一特定方向轉動並處理施加於基底 膜8 10之光固化樹脂8 22。在被施加光固化樹脂822的基底 膜8 10通過鑄模600之情況下，將對應於鑄模600之圖案 的圖案形成於光固化樹脂8 22的表面，且該圖案形成複數 個稜鏡8 20。 接下來，將具有棱鏡820圖案之光固化樹脂822移至 光照射單元720。 光照射單元720以預定的時間照射光線於光固化樹脂 8 22。此處，可將光線（例如UV )照射於光固化樹脂822 上以固化（cure )棱鏡820。 接著，將保護膜8 30a及8 30b覆蓋於稜鏡片800之上 表面及下表面（稜鏡片800包含基底膜810及棱鏡820)， 接著將其捲繞爲捲狀物。 -18- 200819229 利用上述處理製造的稜鏡片800之山頂高度爲隨機地 變化。因此，難以目視檢查出由稜鏡片800與其他光學膜 間之實體收縮而產生的缺陷。 利用本發明之鑄模所製造的稜鏡片具有隨機的圖案， 因而可減少或消除因固定圖案之重複性而發生的疊紋現 象。 第1 9圖將稜鏡片解釋爲模製品，但本發明並不侷限於 該具體實施例，且利用本發明之鑄模所製造的任何模製品 % 皆可被本發明包含。 此說明書中任何涉及「一具體實施例」、「具體實施 例」、「示範性具體實施例」等，意指與該具體實施例有關 之特殊的特色、結構或特徵係包含於本發明之至少一具體 實施例中。出現於說明書各位置之此等措辭不必然全數參 照相同的具體實施例。再者，當描述與任何具體實施例有 關之特殊的特色、結構或特徵時，其係於此領域之熟習技 藝者之範圍內提出以達到與其他具體實施例有關之特色、 ί : % 結構或特徵。 雖然已參照許多示範性具體實施例而描述具體實施 例，但應瞭解的是，此領域之熟習技藝者所能設計出的許 多其他修改及實施例將落於此發明原理之精神及範疇內。 尤其是，可將本說明、圖式、附加的申請專利範圍之範疇 內的成分零件及/或實體結合的配置進行各種變化及修 改。除了成分零件及/或配置之各種變化及修改以外’對此 領域之熟習技藝者而言，其他的用途係顯而易見。 -19- 200819229 【圖式簡單說明】 本發明之此等及其他的特徵、態樣及優點將藉由上列 敘述、附加之申請專利範圍及隨附之圖式而更加明瞭，其 中： 第1圖係說明製造鑄模之傳統方法的圖式。 第2圖係一立體圖，說明藉由使用第1圖之鑄模所製 造的稜鏡片。 第3 a圖係說明用於處理根據本發明之一具體實施例的 " 鑄模之裝置立體圖。 第3b圖係說明第3a圖中用於處理鑄模之裝置之沿著 線段A-A的剖面圖。 第4圖係說明第3a圖中用於處理鑄模之裝置的底視 圖。 第5圖係說明用於處理根據本發明之另一具體實施例 的鑄模之裝置剖面圖。 第6圖係說明根據本發明之一具體實施例之鑄模立體 v : π 圖。 第7圖係說明根據本發明之一具體實施例之鑄模平面 圖。 第8a圖係說明藉由第7圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第8b圖係說明第8a圖之模製品的平面圖。 第8c圖係說明第8b圖之B1部分側面圖。 第9圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模平 -20- 200819229 面圖。 第1 Oa圖係說明以第9圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第10b圖係說明第10a圖之模製品的平面圖。 第10c圖係說明第10b圖之B2部分側面圖。 第1 1圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 平面圖。 第1 2a圖係說明以第1 1圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第12b圖係說明第12a圖之模製品的平面圖。 第12c圖係說明第12b圖之B3部分側面圖。 第1 3圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 平面圖。 第1 4a圖係說明以第1 3圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第14b圖係說明第14a圖之模製品的平面圖。 第14c圖係說明第14b圖之B4部分側面圖。 第1 5圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 平面圖。 第1 6a圖係說明以第1 5圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第16b圖係說明第16a圖之模製品的平面圖。 第16c圖係說明第16b圖之B5部分側面圖。 第1 7圖係說明根據本發明之另一具體實施例之鑄模 -21- 200819229 平面圖。 第1 8a圖係說明以第1 7圖之鑄模所製造之模製品的正 面圖。 第18b圖係說明第18a圖之模製品的平面圖。 第18c圖係說明第18b圖之B6部分側面圖。 第1 9圖係說明製造根據本發明之一具體實施例之稜 鏡片的方法之圖。 【主要裝置符號說明】 100 尖刻 110 鑄模 112 表面 200 稜鏡片 210 稜鏡 212 第一表面 214 AW -- V 7". t 弟表面 216 山峰 218 溝槽 230 稜鏡基座 300 處理裝置 310 外殻 312 開口 3 20a 、320b 、 320c 、 320d 壓電元件 3 3 0a 、330b 、 330c 、 330d 中間工具 340 訊號產生器 -22- 200819229 350 切割單元 500 處理裝置 510 外殼 5 20a 、5 20b 壓電元件 550 切割單元 5 50a 鑽石顆粒 600、 600a 、 600b 、 600c 、 600d 、 600e 、 600f 鑄模 610、 610a 、 610b 、 610c 、 610d 、 610e 、 610f 溝槽 620、 620a 、 620b 、 620c 、 620d 、 620e 、 620f 山峰 640a、 640b 、 640c 、 640d 、 640e 、 640f 模製品 650a、 650b 、 650c 、 650d 、 650e 、 650f 山谷 660a、 660b 、 660c 、 660d 、 660e 、 660f 山頂 700 樹脂供應單元 720 光照射單元 800 稜鏡片 810 基底膜 820 稜鏡 822 光固化樹脂 8 30a 、8 30b 保護膜

Ll、L2、L3、L4、L5、L6、hi、h2、h3、h4、h5、h6 高度 cH 、 d2 、 d3 、 d4 、 d5 、 d6 、 P2 、 P3 、 P4 、 T3 距離 -23-

Claims (1)

1. 200819229 十、申請專利範圍： 1 · 一種處理鑄模之裝置，其包括： 一切割單元，用於雕刻鑄模表面； 一外殼，用於收納該切割單元並具有一開口，以使 切割單元之一部分經由該開口突出； 至少一個壓電元件，設置於該切割單元與該外殼之 間；及 一訊號產生器，施加電子訊號於該壓電元件。 2 ·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該切割單元包含至 少一種選自由碳鋼、高速鋼、硬金屬及陶瓷所構成之群 組。 3 ·如申請專利範圍第1項之裝置，其中該切割單元具有鑽 石顆粒，該鑽石顆粒係黏附至與該鑄模表面接觸的部 份。 4.如申請專利範圍第1項之裝置，其中該切割單元與該外 殼之開口相隔一距離。 5 .如申請專利範圍第4項之裝置，其中該距離爲約1 // m 至4//m之範圍內。 6.如申請專利範圍第1項之裝置，其中該壓電元件各有不 同的壓電模組（piezoelectric modulus)。 7 .如申請專利範圍第1項之裝置，其中該壓電元件包括至 少一種選自由酒石酸鉀鈉（rochelle salt )、鈦酸鋇及PZT 所構成群組。 8.如申請專利範圍第1項之裝置，其中該訊號產生器爲DC -24- 200819229 電壓產生器、可變 AC電壓產生器或函數波產生器 (function generator) ° 9. 一種鑄模，包括形成於該鑄模表面之複數個線形山峰 (peak)及溝槽（groove)，其中該些山峰及該些溝槽之 兩者或其中之一具有隨機或週期的蜿蜒形狀。 1 〇.如申請專利範圍第9項之鑄模，其中該些山峰具有隨機 變化的高度，且其中該些山峰垂直地或水平地蜿蜒環繞 鑄模。 1 1.如申請專利範圍第9項之鑄模，其中該些山峰具有週期 性變化的高度，或固定的高度，且其中該些山峰垂直地 或水平地蜿蜒環繞鑄模。 1 2.如申請專利範圍第9項之鑄模，其中該些溝槽具有隨機 變化的深度，且其中該些溝槽垂直地或水平地蜿蜒環繞 鑄模。 13.如申請專利範圍第9項之鑄模，其中該些溝槽具有週期 性變化的深度，或固定的深度，且其中該些溝槽垂直地 i V 或水平地蜿蜒環繞鑄模。 1 4. 一種由鑄模製造之模製品，包括：形成於該模製品表面 之複數個線形該些山頂（crest)及該些山谷（valley)， 其中該些山頂及山谷之兩者或其中之一具有隨機或週 期的蜿蜒形狀。 1 5 .如申請專利範圍第1 4項之模製品，其中該些山頂具有 隨機變化的高度，且其中該些山頂垂直地或水平地蜿虫延 環繞模製品。 -25- 200819229 1 6 ·如申請專利範圍第1 4項之模製品’其中該些山頂具有 週期性變化的高度，或固定的高度，且其中該些山頂垂 直地或水平地蜿蜒環繞模製品。 i 7 .如申請專利範圍第1 4項之模製品，其中該些山谷具有 隨機變化的深度，且其中該些山谷垂直地或水平地蜿蜒 環繞模製品。 1 8 .如申請專利範圍第1 4項之模製品，其中該些山谷具有 週期性變化的深度，或固定的深度，且其中該些山谷垂 f 直地或水平地蜿蜒環繞鑄模。 i -26-