TW200424553A - A lens array and a method for fabricating the same - Google Patents

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TW200424553A
TW200424553A TW092127229A TW92127229A TW200424553A TW 200424553 A TW200424553 A TW 200424553A TW 092127229 A TW092127229 A TW 092127229A TW 92127229 A TW92127229 A TW 92127229A TW 200424553 A TW200424553 A TW 200424553A
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Pratima G N Rao
George Bigelow Hares
Nicholas Francis Borrelli
Dennis Wayne Smith
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Corning Inc
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Description

200424553
相關申請: 本發明係關於Hares等人之2〇〇2年1〇月4日申 第60/41 6076號專利申請棄主張優先權，諸專利名稱為[_ Array And Method F0r Fabricatlng The Uns 。 一、 發明所屬技術領域 本發明一般係關於光子領域，特別是透鏡陣列以及由 光敏玻璃板製造出透鏡陣列，該玻璃板具有相當少量光敏 玻璃劑（例如為銀，金或其混合物）。 二、 先前技術 目前人們已熟知由光敏玻璃板製造出透鏡陣列。實際 上，本公司已發展出光敏玻璃板並命名為F〇T〇F〇RM玻璃以 及一種處理過程已知為SMILE處理過程並獲准給予專利，其 能夠使用來形成透鏡陣列。關於SM丨LE處理過程之詳細說 明已揭示於美國第4572611,4518222,5062877號專利，該專 利之說明在此加入作為參考。關於F〇T〇F〇RM玻璃已說明於 美國苐2326012, 2422472, 2515936，2515938, 2515275, 2515 9 4 2及2 5 1 5 9 4 3號專利，該專利之說明在此加入作為參考。 由F0T0F0RM玻璃以SMILE處理過程製造出之傳統透鏡陣列 範例針對圖1 A及1 B說明於底下。 0 參考圖1 A-B，其分別地顯示出由fotofORM玻璃製造出 1 6 X 2 0透鏡陣列1 〇 〇之頂視圖及侧視圖。基本上，$ μ I l E處理 過程將F0T0F0RM玻璃施以紫外線照射，熱處理步驟以及需 要情況下進行離子交換步驟以製造傳統透鏡陣列丨〇 〇。特 別是，傳統透鏡陣列100能夠藉由將F0T0F0RM玻璃經過選擇
第8頁 200424553 五、發明說明（2) 部份施以240-40 〇11111波長範圍（優先地3〇〇-35〇11111)紫外線戶、召 射歷時3分鐘以及再將照射過F0T0F0RM玻璃在6 0 0 °c下作熱 處理歷時40分鐘而製造出。以該方式製造出傳統透鏡陣列 100將使透鏡110具有5-15微米之弛垂高度（參閱圖^)。傳 統透鏡陣列1 0 0亦能夠施以離子交換處理，其中透鏡陣列 100浸潰於5 0 0 °c之KN〇3鹽浴歷時64小時。離子交換處理促 使透鏡110弛垂鬲度增加至38-61微米。弛垂高度為控制曲 率，及形成透鏡之焦距以及聚集光線焦度之參數，其關係能 夠以下列式子表示：匕=1^2/2 $ (1) 其中5為弛垂高度，rL為透鏡半徑，^為曲率半徑。 由於透鏡110顏色及弛垂高度大小直接地影響透鏡之 性月b，目岫我們不斷地嘗試改善光敏玻璃板（f〇t〇f〇rm玻璃 )之組成份，其使用來製造透鏡陣列。因而，存在光敏玻璃 板新穎組成份之需求，其能夠使用來製造清澈，無色透鏡 列，该透鏡具有相t A弛垂冑度。本發明 方法能夠滿足該需求以及其他需求。 早到及
三、發明内容 …明包含由光敏玻璃板製造出透鏡陣列，其具有少
敎處aV ^如銀’ I <其組合），使得當光敏玻璃板作照; 選；性離子交換步驟時，該玻璃板緣 璃區域#玻肖稷5板包含透鏡玻璃區域以及不透明破 口口 S 於每一透鏡四週。與由傳 的照射，熱虛採以菸M b 凡取圾哨扳加以相1 透鏡比較時本發換步驟製造出透鏡陣列之黃色 t本卷月透鏡陣列具有清澈無色透鏡。本發明
第9頁 200424553
亦包含製造透鏡陣列之方法。 附圖簡單說明： ^發明藉由詳細說明以及下列附圖能夠完全地了解。 第一圖A - B顯示出先前技術1 6 X 2 〇透鏡陣列之頂視圖及 側視圖。 第=圖顯示出本發明製造透鏡陣列優先方法之步驟。 &第二圖A-F顯示出第二圖方法中在不同步驟之透鏡陣 列斷面側視圖及頂視圖。 四、實施方式： ,茶考圖2 —3，其中揭示出透鏡陣列3〇〇以及依據本發明 二製造透鏡陣列30 0優先之方法。為了較佳地說明本發明，在 詳細說明使用製造透鏡陣列3〇〇光敏玻璃不同組成份之前， 將對透鏡陣列3 〇 〇以及製造透鏡陣列3 〇 〇之優先方法詳細說 '參考圖2及圖3A-3F，其顯示出製造透鏡陣列3〇〇優先方 法流程圖以及在優先方法2 0 0中不同步驟處透鏡陣列3〇〇 面側視圖以及頂視圖。以步驟2〇2開始，光遮罩3〇2放置與 光敏玻璃板304接觸（參閱圖3)。在優先實施例中，光敏破 璃板304為可光晶核形成，可結晶矽酸鋰玻璃板，其含有預 先決定數量之光敏玻璃劑（例如銀，金或其組合物')。該優 先光敏玻璃板3 0 4在所有熱處理步驟2 〇 6前所有階段需 以保護避免受到外界紫外線（例如陽光，未過濾人工^線口 以防止微量不透明形成於透鏡陣列3〇〇中所需要透鏡處。 優先光敏玻璃板304之範例性矽酸鹽玻璃組成份將針對底
第10頁 200424553 五、發明說明（4) --- 下表2及3 A - 3 B詳細加以說明。 光遮罩302與光敏玻璃板304間接觸能夠為空氣界面 30 3,其中在光遮罩3 02上外形間距為相當大例如約為“微 米或更大。空氣界面3 03之替代物為折射率相匹配液體（例 如為甘油），其能夠放置於光遮罩3〇2與光敏玻璃板3〇4之間 :例如，人們能夠使用已知的甘油-真空技術，其中甘油薄 膜放置於光遮罩302與光敏玻璃板3〇4之間。光敏玻璃板 3 04再按裝於真空設備上，使得真空抽除能夠拉引光遮罩 302下降至光敏玻璃板3〇4上及擠壓過剩甘油以產生連續性 均勻甘油薄膜於光遮罩3〇2與光敏玻璃板3〇4之間界面處。 在步驟20 2之前，光敏玻璃板30 4加以研磨以及拋光以 製造適當大小基板以使用作為透鏡陣列3〇〇。一般光敏玻 璃板304尺寸為4”χ4”Χ〇·160”。長度及寬度能夠顯著地加 以臺化，其決疋於應用情況，但是厚度優先地不小於〇 . 〇 7 5 英吋或大於0· 25英叶。 在步驟204處，光遮罩302以及所選擇光敏玻璃板3〇4暴 露於紫外線3 0 5 (參閱圖3Β)。在優先實施例中，光遮罩為鉻 在石英上光遮罩3 02，其使用來控制光敏玻璃板3〇4上之照 射圖案。鉻在石英上之光遮罩3〇2包含石英基板30 2a以及 鉻層30 2b。光遮罩302之鉻層30 2b中鉻不存在於鉻層區域 中，該區域相對於光敏玻璃板3〇4中所需要不透明區域3〇6 (顯示為陰影區域）。特別地，每一不透明區域3 〇 6為玻璃相 以及次矽酸鋰微結晶相複合體，該處存在大約2〇%複合體 2 0%體積比。另外一方面，在光遮罩3〇2鉻層3 0 2b中鉻存在
200424553 五、發明說明（5) 於相對應於光敏玻璃板304中所需要玻璃區域308(顯示為 清澈區域）。 照射步驟2 0 4能夠以任何方法進行，其能夠產生紫外線 或微波照射，其具有充份能量使不透明區域晶核形成（未來 為並不會透射光線之不透明區域）於光敏玻璃板3〇4中以及 具有相當準直，使得照射經由光敏玻璃板3 〇 4良好地界定出 。例如，準直1 〇〇〇瓦Hg/xe弧光光源能夠使用來照射光敏玻 璃板3 0 4。在該範例中，輸出光束大約為丨〇 "直徑，其遠大於 5、5Π光遮罩3 02。紫外線密度為5 - 1 Omw/cm2範圍，照射時 間為3-4分鐘。除了 Hg/Xe光源外亦能夠使用其他紫外線光 源，其包含例如準分子雷射（30 9-35 0nm)，可調整YAG 300-4 0 0 n m °在知、射步驟2 〇 4後，光遮罩3 0 2與照射過光敏玻璃板 304分離以及在需要情況下照射過光敏玻璃板3〇4利用肥皂 及水份加以清洗以在熱處理2 〇 6前去除甘油。 在步驟20 6處，對照射過光敏玻璃板3〇4加熱以在其中 七成不透明區域3〇6(顯示為陰影區域）以及玻璃區域3〇8( 顯示為清澈區域）（參閱圖3C)。在優先實施例中，熱處理步 = 20 6在高溫爐中進行，將照射過光敏玻璃板3〇4放置於含 盖子之不鏽鋼盒中；高溫爐大氣包含流動乾燥氮氣。在實 1中，照射過光敏玻璃板304放置於成形器或平板，使得^ 照射過光敏玻璃板304被照射過之面朝上。成形器能夠為 任何破璃，陶瓷或玻璃-陶瓷材料，被照射過光敏玻璃板3〇4 將不會在熱處理步驟2 0 6過程中融合以及在熱處理步驟2〇6 過程中並不會變形。粉末化Al2〇3(例如）能夠分佈於成形
IH 200424553 五、發明說明（6) 器上作為脫模劑。一般熱處理步驟如下：
• 46 0 °C/hr 至48 0 °C
• 150 °C/hr 至615 °C •保持在615 °C歷時60分鐘 •高溫爐速率冷卻 在加熱步驟20 6過程中，不透明區域30 6相當程度收縮超過 光敏玻璃板304(參閱圖3C)中之玻璃區域308。在完成步驟 202, 204及20 6步驟後，加熱光敏玻璃304轉變為熱形成之透 鏡陣列200，其基本上為玻璃複合板304(參閱圖3C)。
在優先實施例中，透鏡陣列30 0能夠藉由暴露光敏玻璃 板304於波長優先界於240-400 nm (最優先地為300-350 nm) 紫外線以及隨即將照射過光敏玻璃板3 〇4在61 5 X：下作熱處 理歷時一小時以形成不透明區域3 0 6以及玻璃區域3 08。當 光敏玻璃板304中Ce3+吸收紫外線以及產生釋出電子而轉 變為Ce4+時，能夠使不透明區域3〇6中結晶顆粒成長之晶核 形成的機制開始進行。電子被光敏玻璃板3 〇 4中金屬離子 吸收例如銀離子（Ag+)及將該離子轉變為金屬（例如gAg)。
以該方式製造出熱產生透鏡陣列3〇〇使透鏡31〇顯示為 玻璃區域3 0 8，其呈現出弛垂高度大於傳統透鏡陣列1 〇 〇中 透鏡110呈現出之弛垂高度（比較圖…與圖3C)。因而本發 明透鏡陣列300呈現出較大弛垂高度而大於這些透鏡3丨〇， 其呈現出較的模場直徑以及光束至光腰部之較短距離。 因而，人們能夠製造較小的透鏡陣列3〇〇，其每單位玻璃面 積產生較多透鏡3 10，因而節省費用。
第13頁 200424553 五、發明說明（7) ' " - 透鏡310弛垂高度之改善為改良矽酸鹽玻璃組成份/光 敏玻璃板3 0 4之直接結果，該玻璃板使用來製造透鏡陣列（ 參閱表2及3A-3B)。 再次參閱圖2及3D-3F，在步驟208處（選擇性地），熱產 生之透鏡陣列30 0能夠施以離子交換處理步驟以產生改良 之透鏡陣列300(參閱圖3D)。基本上，使用延長離子交換步 驟2 08以進一步增加透鏡陣列3〇〇中透鏡31〇之弛垂高度。 在優先實施例中，延長之離子交換步驟21 〇能夠藉由將熱處 理之透鏡陣列30 0浸潰於5〇〇 °CKN〇3熔融鹽浴中歷時64小時 。，以離子交換步驟2〇8之透鏡陣列3〇〇使透鏡31〇具有弛 垂高度大於熱處理產生透鏡3 〇〇陣列中透鏡31〇之弛垂高度 (比較圖3C至圖3D)。 又 人們應該再次注意到先前技術中在完成步驟2〇2, 2〇4， 206以及延長離子交換步驟2〇8後，只可能產生傳統的透鏡 陣列100，其具有呈現出黃色之透鏡。透鏡丨丨〇黃顏色為 不想要的特性，其將負面地影響透鏡丨丨0之透射度。我們相 信當透鏡陣列100施以延長離子交換步驟時，大量光敏劑（ 例如銀）導致傳統透鏡陣列丨〇〇中透鏡i丨〇轉變為黃色。特 別是，我們相信透鏡11 〇變為黃色係因為在離子交換步驟中 延長加熱導致透鏡11 〇中（未照射玻璃區域）銀還原所致。 因而在本發明步驟2〇2, 204, 20 6及208後，有可能製造 出透鏡陣列3 0 0,其具有MxN陣列清澈，無色透鏡31 〇(例如為 雙凸透鏡，平凸透鏡，等凸），弛垂高度大於以相同方式製造 出之傳統透鏡陣列1 00中黃色透鏡11 0。此由於所使用來製
^— 第14頁 200424553 五、發明說明（8) 造光敏玻璃板3 0 4具有不同的矽酸鹽玻璃組成份異於製造 傳統透鏡陣列1 〇 〇所使用之光敏玻璃板。新穎的與先前光 敏玻璃板間之差異將詳細地對表1，2及3A-3B說明於底下。 如先前所說明，傳統透鏡陣列丨00由已知的]7〇了〇1?〇〇玻 璃之光敏玻螭板製造出。表1顯示F〇T〇F〇RM玻璃以重量比 例之組成份，以及量測之弛垂高度以及各種物理特性。 表1 FOTOFORMR 玻璃 Si〇2 Na20 79. 3 1. 6 K20 3 3 κνο3 Al2〇3 • 9 4. 2 ΖηΟ … 1 . U An Ag .0012 .115 CeO〇 . . _ L Sb2 03 .015 4 Li20 9. 4 弛垂高度： 弛垂高度（暴露KHg/Xe輻射 5 // m 線1分鐘） 弛垂局度（暴露於j}g/Xe輕射 14am 線2分鐘）
第15頁 200424553
弛垂高度（暴露於Hg/xe輻射38 //m 線1分鐘及離子交換步驟） 弛垂兩度（暴露於Hg/Xe輕射 61 /zm 線2分鐘及離子交換步驟） 物理特性 車欠化點 在量測時結晶
退火點 4 5 4 °C 應變點 41 β t
熱膨脹係數 8 3 X 1 0_7 / °C
$ 度 2. 308 如表1所示，F0T0F0RM玻璃使用相當大數量銀以及少量 金作為光敏劑。我們進行實驗以及測定出透 夠製造出具有清澈，無色透細及呈現出心=0:度 ，假如透鏡陣列3 0 0由光敏玻璃板30 4製造出，其使用相當少 里光敏劑（例如銀，金或其組合物）。因而，我們發展出不同 的光敏玻璃板304之組成份，其施以先前所提及2〇22〇4， 2 0 6及2 0 8或類似步驟後以及仍然形成呈現出提昇弛垂高度 之清澈，無色透鏡310的透鏡陣列3〇〇(參閱表2及3A-3B)。
表2記錄使用於形成本發明光敏玻璃板3 〇 4之本發明組 成份，所列各種成份以重量百分比表示。 表2 光敏性玻璃3 0 4 si°2 6 5 - 8 5
Na20 〇一1〇
第16頁 200424553 五、發明說明（ίο) K20 0-8 κνο3 0-5 A 12 〇3 2-7 ZnO 0-5 Sb2 〇3 0-5 Ce02 0. 01-0. 05 Li20 8-11 Au 0-0.01 Ag 0-0.00 木假如Au為零，則Ag為具有0. 0 0 0 5- 0. 0 0 5%重量比唯一 的光敏劑。 «假如Ag為零，貝llAu為具有0. 0 0 0 5-0. 0 1 5%重量比唯一 的光敏劑。 表3A-3B列出範例性矽酸鹽玻璃組成份在本發明先前 所提及光敏玻璃板304範圍内，其能夠使用來製造透鏡陣列 3 0 0。表3A-3B顯示每一範例以重量百分比表示之矽酸鹽玻 璃組成份，以及量測之弛垂高度以及各種物理特性。 1 2 表3 A 3 4 5 6 7 Si02 76. 7 75. 7 74. 7 73. 7 72. 7 79. 5 76.7 Na20 4 5 6 7 8 1. 6 2 K2〇 3.8 3.8 3. 8 3. 8 3. 8 4. 2 5. 8 kno3 0 0 0 0 0 0 0 A 12 03 4. 8 4. 8 4.8 4.8 4.8 4.2 4. 8
五、發明說明（11) ZnO Au Ag .( Ce02 Sb203 Li90 1 0 602 436 400 9 3.0 97.2 1 1 1 1 1 0 0 0 0 0 0 0 2 5 .0 0 2 5 .0 0 2 5 .0 0 2 5 .0 02 5 0. 02 0. 02 0. 02 0.02 0. 02 0 0 0 0 0 9. 7 9. 7 9. 7 9. 5 9. 7 47 68 71 17 36. 8 37 69 89 27 45. 1 105 125 154 53 86.6 90 130 187 62 77· 8 596 586 578 432 429 431 — - 396 397 415 — — 100 1 04.9 1 0 9. 1 - — 200424553 1 0 0. 02 0. 02 0 0 ^ 9. 7 9.7 弛垂高度（H)單位（微米）·· H(暴露於Hg/ 43 47
Xe輻射線4分 鐘） H(暴露於Hg/ 35 52
Xe輻射線8分 鐘） H(暴露於Hg/ 100 106
Xe輻射線4分 鐘及離子交換） H(暴露於Hg/ 89 111
Xe輻射線8分 鐘及離子交換） 物理特性 軟化點（°C ) 退火點（°C ) 應變點（°C ) 熱膨脹係數 617 441 403
第18頁 200424553 五、發明說明（12) 密度（g/cm3 ) 2.3 0 8 2.3 9 2 2·3 9 8 2.40 6 2.4 1 5 -表3Β 8 9 10 11 12 13 Si〇2 74. 7 78. 7 74. 7 76.7 76. 7 76. 7 Na20 9. 8 4 4 0 4 2 K20 0 3. 8 3,8 6.8 2.8 4. 8 κνο3 0 0 0 1 1 1 A 12 〇3 4.8 2. 8 6. 8 4.8 4. 8 4. 8 ΖπΟ 1 1 1 1 1 1 Au 0 0 0 .01 0 .01 Ag .0 0 2 5 .0 0 2 5 .0 0 2 5 0 .0 0 2 5 0 Ce02 0.02 0. 02 0. 02 0. 02 0. 02 0. 02 S b2 〇3 0 0 0 .2 .2 .2 Li90 9.7 9. 7 9. 7 9.7 9. 7 9. 7 弛垂高度（Η)單位（微米）： H(暴露於Hg/ Xe輻射線4分 鐘） 32. 6 30. 5 29. 6 23. 6 27. 0 31. 9 H(暴露於Hg/ X e輪射線8分 鐘） 36. 8 23. 8 40. 2 22.0 22. 0 79. 5 H(暴露於Hg/ 87. 7 86. 3 80. 2 55. 2 50.5 48. 6
Xe輻射線4分 鐘及離子交換）
第19頁 200424553 五、發明說明（13) 92.5 4 6.2 46. 113 H(暴露於Hg/ 97. 4 78. 0 Xe輻射線8分 鐘及離子交換） 物理特性 軟化點（°C) 585 退火點（°C ) 429 應變點（°C ) 394 熱膨脹係數 104.9 密度（g/cm3) 2· 408 *暴露於Hg/Xe輻射線3分鐘以及在N2中在615 °C熱處理歷時 小時 **暴露於Hg/Xe輻射線6分鐘以及在N2中在615 °C熱處理歷 時1小時
熱膨脹係數單位為X1 0_7 / °C 列於表3A-3B中矽酸鹽玻璃組成份使用來製造一些透 鏡陣列300，其具有清澈無色透鏡310，其具有提昇弛垂高度 。甚至於透鏡310之弛垂高度呈現為表3A-3B中所顯示石灰 含量之函數，我們相信增加之弛垂高度歸諸於在5〇〇 t下玻 璃板增加黏滯係數所致。 除了列於表2及3A-3B先前所提及矽酸鹽玻璃組成份， 人們應該了解存在其他尚未發展出光敏矽酸鹽玻璃組成份 ，其能夠使用來製造所需要之透鏡陣列3〇〇。人們 步驟202, 204, 2 0 6及208能夠s插於#丄 ^ ^ 所丨炎凡 列杲種程度加以改變以及# Μ诂 璃板304不同的矽酸鹽破墦相杰於处奶杜+制 冗取敬 两殂成伤旎夠使用來製造所需要
第20頁 200424553 五、發明說明（14) ~ -- 透鏡陣列30 0,該陣列具有MxN陣列相當清澈之透鏡31〇 ^ 人們了解使用本發明光敏玻璃板3〇4之結果在於照射 以及熱發展出不透明區域30 6 (不透明區域）通常為白色而 非一般藍棕色FOTOFORM玻璃。人們了解當與使用f〇t〇f〇rm 玻璃製造出雙凸透鏡比較時，使用本發明光敏玻璃板3〇4之 結果在於能夠製造出雙凸透鏡具有良好的表面品質。 人們了解透鏡陣列300能夠連結至光纖陣列以形 直器陣列，其能夠使用來進行一系列訊號處理操作，直包含 多工化，切換，濾波，偏極化以及解多工化。下 ’」、 光子應用，其能夠使用準直器陣列： ' '' •雷射二極體陣列 •光學内部連接 •接觸影像感測器 •發射光線二極體陣列 •液晶顯示器投射系統 •具有直接按裝透鏡陣列之電荷耦合裝置 • 2D及3D光學開關 雖然本發明數個實施例已顯示於附圖中以 說明，人們了解本發明並不受限於所揭示實施例及 2作出：多再排列，改變以及替代物而並不會脫；疋二 请專利fe圍界定出之本發明精神。 ’下列申
$ 21頁 200424553 圖式簡單說明 附圖簡單說明： ^發明藉由詳細說明以及下列附圖能夠完全地了解。 =-顯*出先前技術16x2G透鏡陣列之 側視圖。 Η人 第二圖顯示出本發明製造透鏡陣列優先方法之步驟。 第三圖A-F顯示出第二圖方法中在不同步驟之透鏡 列斷面側視圖及頂視圖。 附圖元件數字符號說明： 透鏡陣列100;透鏡110;放置光遮罩於光敏玻璃板上 202 ;將經選擇部份光敏玻璃板暴露於紫外線2〇4 •，對照射 光敏玻璃板加熱以產生透鏡陣列2〇6;對加熱光敏玻璃板 作離子父換以提昇透鏡陣列2 〇 8 ;透鏡陣列3 0 0 ;光遮罩 302;石英基板302a;鉻層30213;空氣界面3〇3;光敏玻璃 板304;紫外線3 0 5;不透明區域3〇6;玻璃區域3〇8;透鏡 310 〇

Claims (1)

  1. 200424553 六、申清專利範圍 1 · 一種透鏡陣列，其包含： 光敏玻璃板，其具有矽酸鹽玻璃組成份，其以重量百分比 表示包含下列成份：65-85% Si02，8-11% Li2〇，2-7% Al2〇3， 0· 〇卜〇· 〇5g/q Ce〇2，以及包含光敏劑，光敏劑包含Au 或Ag及/或其組合物，光敏劑數量為：〇. 〇〇5 —〇. (315%重量比 Au， 0· 0 0 0 5-〇· 0 0 5%重量比，其中光敏玻璃板進行照射步驟 ，熱處理步驟以及延長離子交換步驟，該光敏玻璃板變為玻 璃複合板，其包含一組多個為透鏡之玻璃區域以及至少一 個位於透鏡四週之不透明區域。 2 ·依據申請專利範圍第1項之透鏡陣列，其中玻璃複合板具 有透鏡形成於其中，該透鏡具有提昇之弛垂高度。 3 ·依據申請專利範圍第1項之透鏡陣列，其中使用藉由浸潰 玻璃複合板於50 0 °C之KN〇3熔融鹽浴歷時64小時之延長離 子交換步驟以增加透鏡之弛垂高度。 4 ·依據申請專利範圍第1項之透鏡陣列，其中該光敏玻璃板 之矽酸鹽玻璃組成份具有以重量比百分比表示之下列成份 - 10% Na20，0-8% K20，0-5% ZnO，0-5% Sb2 03，及〇-5% kno3。 5 · —種製造透鏡陣列之方法，該方法包含下列步驟： 放置光遮罩於非暴露之光敏玻璃板，玻璃板具有下列以 重量百分比成份之矽酸鹽玻璃組成份：65-85% Si02，8-11°/〇 Li20， 2-7% ΑΙΑ, 〇·(Η - 〇.〇5% Ce02，以及包含光敏 劑，光敏劑包含Au或Ag及/或其組合物，光敏劑數量為： 0. 0 0 5-0· 01 5% 重量比Au， 〇· 0 0 0 5-0· 00 5% 重量比；
    第23頁 200424553
    將光遮罩以及非照射光敏玻璃板暴露於紫外線，· 過光敏玻璃板加熱以在其中形成—組多個玻璃區 域以及至少一個不透明區域；以及 對加熱光敏玻璃板進行離子交換以產生透鏡陣豆 ”為玻璃複合板’其中一組多個玻璃區域為透鏡以 及至父一個不透明區域位於透鏡四週。 6.,依據申請專利範圍第5項之方法，其中透鏡陣列具有透鏡 形成於其中，該透鏡具有提昇之弛垂高度。
    7二依據申請專利範圍第5項之方法，其中離子交換步驟使用 藉由/又/貝玻㈤複合板於5 〇 〇 〇c之κ N 〇3炫融鹽浴歷時6 4小時之 離子交換步驟以增加透鏡之弛垂高度。 8·依據申請專利範圍第丨項之方法，其中該光敏玻璃板之矽 酸鹽玻璃組成份具有以重量比百分比表示之下列成份：〇一 10% Na20，0-8% K20，〇 —5% Zn〇，〇一5% 〇 及〇一5% kno3。 9 · 一種光敏玻璃板，該玻璃板具有下列以重量百分比成份 之石夕酸鹽玻璃組成份：65-85% Si02，HI% Li20， Al2〇3，0· 0卜0· 0 5% Ce02，以及包含光敏劑，光敏劑包含All 或Ag及/或其組合物，光敏劑數量為：〇 〇〇5_〇· 〇15%重量比 Au， 0.0005-0.005%重量比。 10·依據申請專利範圍第9項之光敏玻璃板，其中矽酸鹽玻 璃組成份具有以重量比百分比表示之下列成份·· 〇」〇% Na20，0-8% K20，〇一5% Zn〇，〇一5% ㈣，及〇一5% kN〇3。 11 ·依據申凊專利範圍第9項之光敏玻璃板，其中光敏玻璃
    第24頁 200424553 六、申請專利範圍 —--- 板進行照射步驟，熱處理步驟以及延長 敏玻璃板變為玻璃複合板，其包含一組多個$ ' = 區域以及至少一個位於透鏡四週之不透明區”域。，兄之玻埚 12.依據中請專利範圍第⑽之光敏玻璃板，其中玻璃複合 板具有透鏡形成於其中，該透鏡具有提昇之弛垂高度。 1 3· —種光敏玻璃板，該玻璃板具有下列以重量百π分X比成份 之石夕酸鹽玻璃組成份：6 5-85% Si02，，8-1U Li2〇，2 —7% Al2〇3， 0.01 - 0.05% Ce02，以及 0.005-0.015% Au。
    14.依據申請專利範圍第13項之光敏玻璃板，其中矽酸鹽玻 璃組成份具有以重量比百分比表示之下列成份：〇 _ 1 〇 % Na20，〇一8% K20，0-5% ZnO，0-5% Sb2 03 ,及0-5% KN〇3。 1 5. —種光敏玻璃板，該玻璃板具有下列以重量百分比成份 之石夕酸鹽玻璃組成份：6 5-85% Si02，8-11% Li20，2 - 7% Al2〇3， 0·〇；[-〇·〇5% Ce02，以及0.0 0 0 5-0·005% Ag。 1 6·依據申請專利範圍第1 5項之光敏玻璃板，其中矽酸鹽玻 璃組成份具有以重量比百分比表示之下列成份：0 -1 0 °/〇 Na2〇，〇-8% K20，0-5% ZnO，0-5°/〇 Sb2 03,及〇-5°/〇 KN〇3。
    第25頁
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