TW200410785A - Method for cutting laminated sheets, laminated sheets, optical components and image display devices - Google Patents

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200410785 玖、發明說明： I：發明戶斤屬之技術領域3 本發明是有關於將以預定形狀切斷之積層片之切斷面切 削加工之積層片之切削加工方法、及藉該方法切削之積層片、 5 以及搭載有從該積層片得到之光學膜或光學元件之影像顯示 裝置。 【先前技術3 將積層片（例如以光學膜層與黏著層形成者，亦稱積層膜） 切斷為預定之矩形尺寸時，係利用衝床用刀模等，對連續狀之 10 積層片之壓延材料進行切斷。該積層片作為偏光片使用時，係 以單軸或雙軸定向延伸加工，在切斷為矩形尺寸時以平行或略 平行於延伸方向切斷。這種情況，切斷面會產生纖維狀（鬍鬚 狀）破碎片。又，當含有黏著層時，黏著劑會因切斷時之壓力 而溢出。該破碎片之發生或黏著劑之溢出，會在後續步驟中成 15 為使品質降低的原因，故必須除去。 於是，目前已知的有在特開昭61-136746號公報中所揭示 之各向異性膜之切斷加工法。該加工方法係沿著具有各向異性 之膜之延伸軸施行切斷加工後，將切斷加工口切削加工。藉 此，可進行纖維狀破碎片等之除去。 20 然而，上述先前技術中，談不上是以良好精度且將切削面 精加工成良好狀態者。亦即，將積層片以矩形切斷後，藉切削 切斷面來進行精加工時，仍必須以良好精度來加工該精加工之 尺寸。亦即，切削加工後，必須精加工為預定尺寸之矩形。又， 必須將切削面精加工成良好狀態。 5 200410785 【發明内容2 本發明是有鑒於上述實情而作成者，該課題係提供在將積 層片之切斷面切削精加工之際，可以達到良好精度與良好面狀 態來進行加工之積層片之切削加工方法、及藉該方法切削之積 5層片、以及搭載有從該積層片得到之光學膜之影像顯示裝置。 為了解決上述課題，有關本發明之積層片之切削加工方 法，係將切斷為預定形狀之積層片之切斷面切削完工者，其特 徵在於該切削加工方法係藉靠模方式進行切削加工之控制。 本申請案發明人針對進行切削加工時之方法進行專心研 10討，結果發現，以靠模方式進行切削加工，可得到良好精度及 良好之面狀態（不會有黏著劑溢出）。 本發明之適當實施型態，可舉在將多數片積層片重疊之狀 怨下，整合切削多數片之切斷面。 藉此’可效率良好地進行切削加工。 15 圖式簡單說明 第1圖是顯示藉靠模方式之切削方法之圖。 第2圖是顯示非靠模方式之切削方法（其1)之圖。 第3圖是顯示非靠模方式之切削方法（其2)之圖。 C 資 】 20 利用圖式說明有關本發明之積層片之切削加工方法之適 當貫施型態。首先，藉第卜2、3圖說明切削方法之具體方法。 第1圖是顯示藉靠模方式之切削方法，第2、3圖是顯示非靠 模方式之切削方法之1例。 <切削方法> 6 200410785 第1圖是顯示切削積層片之切斷面（端面）時之切削裝置 之構成之概念圖。作為切削機構之旋轉刀具5僅設置1個，與 該旋轉刀具5同心地設置有靠模轉子4。另一方面，積層片1 藉適宜機構安裝於靠模3。靠模3與積層片1係構成為可在預 5 定之旋轉軸芯周圍朝0方向旋轉（第1圖中為順時針方向旋 轉）。 靠模轉子4係經常按壓於靠模3。其按壓力係藉彈簣等賦 予勢能機構來賦予。靠模轉子4與旋轉刀具5之旋轉中心不移 動。因此，在將靠模轉子4按壓於靠模3之狀態下使靠模3旋 10 轉，可切削積層片1之切斷面。積層片1為矩形，是長方形或 正方形。 接著，說明不使用靠模3之切削方法。第2圖是在切削積 層片1之切斷面（端面）時，具有1個旋轉刀具2 (相當於切 削機構）之例。旋轉刀具2受旋轉驅動但其旋轉中心不移動。 15 取而代之的是，積層片1受驅動控制而可在X (橫）、Y (縱）、 0 (旋轉）方向移動。藉由使積層片1朝上述各方向移動，可 切削切斷面之全周圍。 第3圖是顯示其他實施型態，旋轉刀具2設有2個。旋轉 刀具2受驅動控制而僅可朝Y方向移動。又，積層片1受驅動 20 控制朝X、0方向。藉該構成，首先，同時切削矩形之積層片 1相向之長邊la，接著可同時切削相向之短邊lb。在長邊切削 時與短邊切削時，只需改變2個旋轉刀具2之間隔即可。 藉第2、3圖之切削方法，則關於積層片及旋轉刀具之控 制軸就需要X、Y、0這3軸，加工裝置非常複雜且大型，成 7 200410785 10 15 20 為高價裳置。特別是若遇到含有圓弧之加工，則需要更複雜的 控制’就積層片之切肖仏工裝置而言，為高成本。更複雜的 對於此第1圖所示之藉靠模方式之切削震置之 只需控制㈣可，故控制機構可簡 ^ 又，只需按屋旋轉刀具5與靠模轉子4這個動作即可H 精度地進行固定位置之動 而同 之動作，故可以簡單之控制來進行切削加 由靠模3之尺寸精度來決定， β 以一般性金屬材料作成，从 α 罪楔3疋 成故以一般使用之呢工作機械之加工 可得到充分之精度。χ，由於使时模轉子*朝靠模3 使Γ日寸之位置來決定加工尺寸這種物理性位置決定方法，故可 化：之再現性優異。至於因靠模3之磨損等造成之尺寸變 題^積層片之加工精度相較為可充分容許之程度，故沒有問 在進行積層片1之切斷面切削時，係在於厚度方向將多 積層片1堆疊之狀能下/一 田 整〜Μ 心下如。堆$之情況係堆疊為使切斷面 :之Μ。藉此’可同時加工多數片之積層片卜 率鲛佳。又，在進行切削加工之一 先藉切斷裝置切斷為_等預定形狀。 <積層片之具體例> 積層片可使用藉黏著劑積層各種構件者，並無特別限制， 而本發明適用於光學構件。 光學構件可舉例如於偏光狀單面或雙面隔著 積層有透明保《之偏光片。 ㈣ 偏先鏡並無特別限制，可使用各種。作為偏光鏡可舉例如 數 故加工效 ’積層片1係在前步驟中事 8 200410785 使聚乙烯醇系膜、部分曱縮醛化聚乙烯醇系膜、乙烯•乙烯乙 酸共聚合物系部分皂化膜等親水性高分子膜内吸著碘或二色 性染料等二色性物質單軸延伸者、聚乙烯醇之脫水處理物或聚 氯乙烯之脫氯酸處理物等多烯系定向膜等。這當中又以聚乙烯 5 醇系膜與碘等之二色性物質形成之偏光鏡為佳。這些偏光鏡之 厚度並無特別限定，一般為5〜80/zm。 將聚乙烯醇系膜以碘染色之單軸延伸之偏光鏡，可以例如 藉由將聚乙烯醇浸漬於碘水溶液中來染色，並延伸為原長之 3〜7倍來製作。亦可因應需要浸潰於含有硼酸或碘化鉀等水溶 10 液中。更可因應需要，於染色前將聚乙烯醇系膜浸潰於水中水 洗。藉由水洗聚乙烯醇系膜，不僅可洗淨聚乙烯醇系膜表面之 污垢或阻塞防止劑，且有使聚乙烯醇系膜膨脹來防止染色斑駁 等不均之效果。延伸係可在以碘染色後進行，或於染色之同時 進行延伸，或於延伸後再以碘染色皆可。也可在硼酸或碘化鉀 15 等水溶液中或於水浴中延伸。 設於前述偏光鏡之單面或雙面之透明保護膜，以透明性、 機械性強度、熱安定性、水分遮蔽性、各向同性等皆很優異者 為佳。透明保護膜之材料可舉例如聚乙烯對苯二曱酸酯或聚乙 烯萘二甲酸酯等聚酯系聚合物、雙乙醯纖維素或三乙醯纖維素 20 等纖維素系聚合物、聚曱基甲基丙烯酸酯等丙烯酸系聚合物、 聚苯乙烯或丙烯腈•苯乙烯共聚合物（AS樹脂）等之苯乙烯 系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，具有聚乙烯、聚丙烯、 環系乃至去甲莰構造之聚烯烴、如乙烯·丙烯共聚合物之聚烯 烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、耐綸或芳香族聚醯胺等之醯胺 9 y 一物驢亞胺糸聚合物、观糸聚合物、聚喊礙系聚合物、 聚鱗峻明系聚合物、聚伸苯基硫化物系聚合物、乙稀醇系聚合 物、偏氣乙烯系聚合物、聚乙烯醇縮丁醛系聚合物、烯丙酯系 聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或前述聚合物之摻 合物等也是可舉出之可作為形成前述透明保護膜之聚合物之 例子。可舉將丙烯酸系或胺酯系、丙烯胺酯系或環氧系、聚矽 氧系等之熱硬化型或紫外線硬化型之樹脂薄膜化者等。 透明保護膜之厚度一般為500//m以下，以1〜3〇〇/zm為 佳尤其以5〜200 // m為佳。 *透明保護膜基於偏光特性或财久性等點，以三乙醯纖維素 等纖維素系聚合物為佳，尤以三乙醯纖維素膜為佳。又，若為 在偏光鏡之兩顺置透明健獻情況，職表裡可使用由相 同“物材料形成之透明保護膜，亦可使用由不同聚合物材料 等形成之透明保護膜。 又，特開2001-343529號公報（W001/37〇〇7)中所記載之 聚合Μ ’可舉例如含有（A)側鏈上具有取代及/或非取代酿 胺基之熱可紐樹脂、及（Β) _上具有取代及域非取代苯 基以及腈基之熱可塑性樹脂之樹脂組成物。具體例可舉含有由 異丁烯與Ν-甲基順丁稀二醯亞胺形成之交互共聚合物及丙婦 腈•苯乙共聚合物之樹脂組成物之膜。膜可使用由樹脂組成 物之混合押出品等所形成之膜。 又，透明保護膜以盡可能沒有著色為佳。因此，宜使用： 以RtiH (nx+ny) /2_ηζ] η(唯，nx、ny為膜平面内之主折射 率、nz為膜厚度方向之折射率、d為膜厚）所表示之膜厚度方 200410785 向之相位差值為-90nm〜+75nm之保護膜。藉由使用該種厚度方 向之相位差值為-90nm〜+75nm者，可幾乎消除起因於保護膜之 偏光片之著色（光學性染色）。厚度方向之相位差值（Rth)又 以-80nm〜+60nm為佳，尤其以_7〇nm〜+45nm為佳。 5 前述透明保護膜之未接著偏光鏡之面，亦可施行以硬罩層 或反射防止處理、黏結防止或擴散乃至抗眩光為目的之處理。 硬罩處理係以防止偏光片表面之損傷為目的所施行者，可 藉由將藉丙烯酸系、聚矽氧系等適宜之紫外線硬化型樹脂形成 之硬度或滑動特性上很優異之硬化皮膜附加於透明保護膜表 10面等方式來形成。反射防止處理係以防止偏光片表面之外光之 反射為目的而施行者，可按照習知之反射防止膜等之形成來達 成。又’黏結防止處理係以防止與鄰接層之密著為目的而施行 者。 又’抗眩光處理係為了防止外光在偏光片之表面反射而阻 15礙偏光片透過光之目視辨認等目的而施行者，可藉由例如藉噴 砂方式或壓紋加工方式等之粗面化方式、或透明微粒子之混合 方式等適宜之方式於透明保護膜表面賦予微細凹凸構造來形 成。‘述表面微細凹凸構造之形成中，作為其中所含之微粒子 者可使用例如平均粒子徑〇·5〜5〇 V m之二氧化矽、氧化鋁、二 2〇氧化鈦、氧化鍅、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等所形成 之具導電性之無機系微粒子，及交聯或未交聯之聚合物等形成 之有機系微粒子等之透明微粒子。形成表面微細凹凸構造時， 微粒子之使用量係相對於形成表面微細凹凸構造之透明樹脂 1〇0重量部，一般為2〜50重量部，又以5〜25重量部為佳。亦 11 200410785 可使抗眩光層兼作擴散層（擴大可視角機能等），使偏光片透 過光擴散來擴大可視角等。 又，前述反射防止層、黏結防止層、擴散層或抗眩光層等 係可設為透明保護膜，此外亦可作為其他用途光學層而與透明 5 保護膜作為不同個體來設置。 前述偏光鏡與透明保護膜之接著處理中，可使用各種水系 黏著劑。水系黏著劑可舉例如聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著 劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺甲酸酯、水系聚酯等。前述黏著 劑通常作為由水溶液形成之黏著劑來使用。 10 前述接著劑中藉著含有水溶性交聯劑而可使凝膠強度增 加，使接著性提昇。聚乙烯醇系接著劑中，可含有硼酸、硼砂、 戊二醛、三聚氰胺、草酸等水溶性交聯劑。水溶性交聯劑之添 加量並無特別限制，通常相對於聚乙烯醇等主材之固體成分 100重量份，而在40重量份以下，又以0.5〜30重量份為佳。 15 又，為了使交聯進行，前述黏著劑亦可變化pH。更，調製該水 溶液之際，可因應必要在前述黏著劑中混合甲酸、苯酚、水楊 酸、苯曱醛等防腐劑。 偏光鏡與透明保護膜之貼合可藉積層機（roll laminator) 等來進行。黏著劑之厚度並無特別限制，通常為0.05〜5//m。 20 前述偏光鏡在實用之際，可作為與其他光學層積層之光學 膜來使用。關於該光學層並無特別限制，可使用1層或2層以 上之例如反射片或半透過片、相位差片（包含1/2或1/4等波 長片）、視角補償膜等用於形成液晶顯示裝置等之光學層。特 別是於本發明之偏光片上更積層有反射片或半透過反射片之 12 200410785 反射型偏光片或半透過型偏光片、偏光片上更積層有相位差片 之橢圓偏光片或圓偏光片、偏光片上更積層有可視角補償膜之 廣可視角偏光片、或是偏光片上更積層有亮度提升膜之偏光片 為佳。 5 反射型偏光片係於偏光片設置反射層者，係用以形成使發 自目視辨認侧（顯示側）之入射光反射而顯示之類型之液晶顯 示裝置等者，具有可省略内藏背光等光源、容易達到液晶顯示 裝置之薄型化等優點。反射型偏光片之形成，可因應需要，隔 著透明保護層等而於偏光片之單面附設由金屬等形成之反射 10 層之方式等適宜之方式來進行。 反射型偏光片之具體例，可舉例如：因應需要而在業已施 行褪光處理之透明保護膜之單面上，附設由鋁等反射性金屬形 成之金屬薄片或蒸鍍膜來形成反射層者等。又，亦可舉使前述 透明保護膜中含有微粒子作成表面微細凹凸構造，且其上具有 15 微細凹凸構造之反射層者等。前述微細凹凸構造之反射層具 有：藉漫反射使入射光擴散而防止指向性或刺眼之外觀、抑制 明暗不均勻等優點。又，含有微粒子之透明保護膜具有在入射 光及其反射光透過該保護膜時可使之擴散，而更進一步抑制明 暗不均勻之優點。反映出透明保護膜之表面微細凹凸構造之細 20 微凹凸構造反射層之形成，可藉由例如以真空蒸鍍方式、離子 鍍方式、濺射方式等蒸鍍方式或電鍍方式等適宜之方式，將金 屬直接附加於透明保護層表面之方法等來進行。 反射片亦可在按照該透明膜之適宜之膜上設置反射層而 作成反射膜等來使用，代替前述之於偏光片之透明保護膜上直 13 200410785 接賦予之方式。又，由於該反射層通常由金屬形成，因此若採 取該反射面為透明保護膜或偏光片等所覆蓋之狀態，則該使用 形恶可防止因氧化導致之反射率降低，進一步可長期維持初期 反射率、以及可避免另外附設保護層等，因此更適宜。 5 又’半透過型偏光片係可藉由作成以上述反射層使光反射 且透過之半透明反射鏡等之半透過型反射層而得到。半透過型 偏光片通常設於液晶晶胞之裡側，可形成如下述類型之液晶顯 示裝置等，即，在相對較明亮之環境中使用時，使發自目視辨 認側（顯示側）之入射光反射來顯示影像，而在相對較暗之環 · ίο 境下，則使用内藏於半透過型偏光片之背側之背光等之内藏光 源來顯示影像之類型。亦即，在形成這種在明亮之環境下，可 節約背光等之光源使用之能源，而即使在相對較暗之環境下仍 可用内藏光源來使用之類型之液晶顯示裝置等上，半透過型偏 光片是有用的。 15 接著就偏光片上更積層有相位差片所形成之橢圓偏光片 或圓偏光片說明之。在將直線偏光改變為橢圓偏光或圓偏光， 或將橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光，或改變直線偏光之偏 · 光方向時，可使用相位差片等。特別是將直線偏光改變為圓偏 光或將圓偏光改變為直線偏光之相位差片，可使用所謂1/4波 20長片（又稱λ/4片）。而1/2波長片（又稱又/2波長片）通常用 · 於改變直線偏光之偏光方向之情況。 - 橢圓偏光片可補償（防止）超扭轉向列（STN)型液晶顯 示裝置之液晶層因複折射產生之著色（青或黃），可有效地用 於前述無著色之黑白顯不之情況等。更，控制三次元折射率者 14 200410785 由於亦可補償（防止）從斜方向看液晶顯示裝置之影像時產生 之著色，故更適宜。圓偏光片在例如用以調整影像變為彩色顯 示之反射型液晶顯示裝置之#像之色調時復有效，且也具有防 止反射之機能。上述相位差片之具體例可舉如聚碳酸酯、聚乙 5烯醇、聚苯乙烯、聚甲基曱基丙烯酸醋、聚丙烯或其他聚烯烴、 聚烯丙s旨、聚醯胺之適宜聚合物形成之膜施以延伸處理而成之 雙折射性膜或液晶聚合物之定向膜、以膜支持液晶聚合物之定 向層者。相位差片可以是具有因應各種使用目的之適當相位差 者；所謂各種使用目的係例如以補償因各種波長片或液晶層之 10雙折射造成之著色或可視角等為目的，而相位差片也可以是積 層2種以上的相位差片以抑制相位差等之光學特性者。

15 又，上述橢圓偏光片或反射蜇橢圓偏光片係將偏光片或反 射型偏光片與相位差片以適當之組合積層者。該橢圓偏光片等 可藉由在液晶顯示裝置之製造過程中將（反射型）偏光片與相 伋差片依序個別積層，使這些片組合來形成，不過若為如前所 述之事先作成橢圓偏光片等之光學膜者，則具有品質之安定眭 或積層作業性等優異、可提升液晶顯示裝置等之製造效率= 黑占0

20 1視角補1員膜係用以擴大可視角，可在當從不是香 面、而是從稍微傾斜之方向來看液晶顯示裝置之影像： 面看起來較為鮮明。這種可視角補償相位差片係由在々 差片、或液晶聚合物等定向膜、或透明基材上载有液曰E 等之定向層者等所形成。-般之相位差片麵用在其3 有單軸延伸之雙折射之聚合物膜，相對的，作為可視# 15 200410785 來使用之純差Μ係❹於㈣向具有雙祕狀雙折射之 聚合物膜、或具有於面方向單軸延伸且厚度方向亦延伸之控制 厚度方向之折射率之雙折射率之聚合物、或如傾斜定向膜之二 方向延伸膜等。傾斜定向膜可舉例如：使熱收縮膜接著於聚合 5物膜並加熱產生收縮力’在該收縮力之作用下將聚合物膜延伸 處理或/及收縮處理者、或使液晶聚合物傾斜定向者等。相位差 片之素材原料聚合物係、使用與切在相位差片中說明之聚合 物相同者，可使用對於達到：防止基於因液晶晶胞之相位差之 目視辨認角之變化所產生之著色等、或好的目視辨認之可視角 10 擴大等目的上適宜者。 又，基於達成擴大好的目視辨認可視角這點等，可適宜地 使用以三乙酿纖維素膜載有液晶聚合物之定向層；特別是盤狀 液晶聚合物之傾斜定向層所形成之光學性各向異性層之光學 補償相位差片。 15 冑已貼合偏光片與^度提升膜之偏光片，通常係設於液晶 晶胞之裡侧來使用。亮度提升膜係具有當液晶顯示裝置等之背 光或自然光藉由從裡側之反射等而入射時，即反射預定偏光軸 之直線偏光或預定方向之圓偏光，且使其他光透過這樣的特性 者，而將亮度提升膜與偏光片積層之偏光片，則使來自背光等 20光源之光入射而得到預定偏光狀態之透過光，同時使預定偏光 狀態以外之光不透過地反射，使在該亮度提升膜面反射之光經 由設於更後側之反射層等而反轉，再入射到亮度提升膜上，使 其局部或全部透過作為預定偏光狀態之光以增加透過亮度提 升膜之光量，同時供給難以為偏光鏡所吸收之偏光以增大可利 16 用於液晶顯示影像顯示等之光量，藉此使亮度提升者。亦即， 不利用亮度提升膜、並以背光等使光㈣晶晶胞裡舰過偏光 '兄入射t /、有與偏光鏡之偏光軸不一致之偏光方向之光幾乎 全被偏光鏡㈣，而不㈣顯光鏡。亦即，雖然會依據所使 用之偏光&之特性而不同，不過大約5G%的光會被偏光鏡所吸 收，运種狀g下’可為液晶影像顯示等所利用之光量減少，晝 面曰支暗。7Π度提升膜可反覆使具有被偏光鏡吸收之偏光方向 之光不入射偏光鏡而被亮度提升膜暫時反射，更經由設於其後 側之反射料使其反轉再人射到亮度提升膜這個動作 ，由於其 10

僅使該兩者射、反狀光之偏光Μ魏可通過偏光鏡之 偏光方向之偏光透過亮度提升膜供給於偏光鏡，因此可使背光 等光有效率地利用於液晶顯示裝置之影像等之顯示，使畫面變

亦可於亮度提升膜與上述反射層等之間設置擴散片。藉亮 15度提升膜反射之偏光狀態之光雖朝向上述反射層等，不過業經 設置之擴散片能使通過之光均句擴散同時消除偏光狀態，而變 成非偏光狀態。亦即，擴散片係使偏光恢復為原來的自然光狀 悲。該非偏光狀態、亦即自然光狀態之光會反覆進行朝向反射 層等，經由反射層等反射，再次通過擴散片再入射到亮度提升 20膜之過程。藉由如此於亮度提升膜與上述反射層等之間設置使 偏光恢復成自然光狀態之擴散片，可維持顯示晝面之明亮，同 時減少顯示畫面之亮度不均，提供均一明亮的畫面。藉由設置 該擴散片，初次之入射光可適當地增加反射之重覆次數、與擴 散片之擴散機能相輔相成，故可提供均句之明亮之顯示畫面。 17 作為則述焭度提升膜係可使用適 層薄膜或折射率各向異性不同之薄膜之多二二介電體之多 偏光轴之直線偏光而顯示其他光反射_者曰’透過預定 :::持螺旋狀液一定向_二=薄:: 右凝任側之圓偏光而顯示其他光透過之特性 因此，使前述之預定偏光軸之直 提升膜中，相先相之類型之亮度 上入射，可= 狀態下使偏光轴聚集於偏光片 透過卩因偏W経之吸收損失，同時使其有效率地 10

产提升料將如職缝晶層之投下圓偏光之類型之亮 膜中，可於該狀態下使之人射㈣光鏡，轉於抑制吸 收抽失㈣，宜使該圓偏光經由相位差片而直線偏光化並入射 到偏光片。又，藉由使用1/4波長片作為該相位差片，可將圓 偏光變換為直線偏光。

在可見光域等之廣波長範圍中作為1M波長片來發揮功能 15之相位差片，可藉由例如將相對於波長55〇細之淡色光作為 1/4波長片發揮功能之相位差層與顯示其他相位差特性之相位 差層；例如作為1/2波長片發揮功能之相位差層重疊之方式等 得到。因此，配置於偏光片與亮度提升膜之間之相位差片亦可 以是由1層或2層以上之相位差層形成者。 20 又，有關螺旋狀液晶層，藉由作成反射波長不同者之組合 且作成重ci 2層或3層以上之配置構造，可在可見光領域等之 廣波長範圍中得到反射圓偏光者，並可據之而得到廣波長範圍 之透過圓偏光。 又，偏光片亦可如上述之偏光分離型偏光片，由積層偏光 18 200410785 片與2層或3層以上之光學層者形成。因此，亦可為組合上述 反射型偏光片或半透過型偏光片與相位差片之反射型橢圓偏 光片或半透過型橢圓偏光片等。 前述積層上可使用黏著層等適當接著機構。在接著前述偏 5 光片或其他光學膜之際，該等之光學軸可因應作為目的之相位 差特性等來做出適宜之配置角度。 前述偏光片、或至少積層有1層偏光片之光學膜可設置用 以與液晶晶胞等其他構件接著之黏著層。形成黏著層之黏著劑 並無特別限制，例如可適當選擇丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚 10 合物、聚酯、聚胺曱酸酯、聚醯胺、聚醚、氟原子系或橡膠系 等之聚合物為基質聚合物者來使用。特別是丙烯酸系黏著劑， 其光學性透明性優異，展顯出適度之可濕潤性、凝集性與接著 性之黏著特性，在耐氣候性或耐熱性等方面優異，尤適宜使用。 又，除上述之外，再加上基於防止因吸濕等造成之發泡現 15 象或剝離現象、防止因熱膨脹等造成之光學特性降低或液晶晶 胞翹曲、進而有高品質且耐久性優異之液晶顯示裝置之形成性 等點，以使用吸濕率低且耐熱性優異之黏著層為佳。 黏著劑層可含有例如天然物或合成物之樹脂類、特別是如 黏著性賦予樹脂、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、由其他無機粉 20 末等形成之充填劑、顏料、著色劑或抗氧化劑等可添加於黏著 層之添加劑。又，亦可使其為含有微粒子而顯示光擴散性之黏 著劑層等。 對偏光片或光學膜之單面或雙面附設黏著層時，可以適當 之方式進行。例如，可舉調製使基質聚合物或其組成物溶解或 19 200410785 分散於由甲苯或乙酸乙酯等適宜之溶劑之單獨物或混合物~ 形成之溶劑中而成之10〜40重量％左右之黏著劑溶液，將之以 延流方式或塗工方式等適宜之展開方式直接附設於偏光片上 或光學膜上這種方式，或依據前述於脫模膜上形成黏著層，再 5將之移著到偏光片上或光學膜上之方式等。 黏著層亦可作為不同組成或種類等之重疊層設於偏光片 或光學獏之單面或雙面。又，設於雙面之情況，亦可在偏光片 或光學膜之表裡作成不同組成、種類或厚度等之黏著層。黏著 層之厚度可因應使用目的或黏著力等適宜地決定，一般為 1〇 1〜5〇〇//m，又以5〜200#m為佳，尤以i〇〜100/zm為佳。 在供於實用之前，以防止其污染等為目的，對黏著層之露 出面暫時貼附脫模膜覆蓋住。藉此，在通例之處理狀態下可防 止接觸黏著層。脫模膜除了上述厚度條件外，可使用例如將塑 膠膜、橡膠薄片、紙、布、不織布、網、發泡薄片或金屬薄片、 15這些薄片的積層體等之適宜之薄片，因應需要而以石夕氧系、長 鍵烧基系、I兀素或硫化翻等適宜之剝離劑施行塗層處理者等 依據習知之適宜者。 又，本發明中，形成上述偏光片之偏光鏡、透明保護膜或 光學膜等、或黏著層等各層上，可藉例如柳酸醋系化合物或苯 紛系化口物|并一氮唾系化合物或氰基丙烯酸系化合物、鎳 錯鹽系化合物等之紫外線吸收劑來處理之方式等方式 ，使其具 有紫外線吸收能等。 月11述光學構件（偏光片、光學膜等）可適當地使用在液晶 顯不裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可以習知 20 200410785 為基準來進行。亦即，液晶顯示裝置一般是藉由將液晶晶胞與 黏著型光學膜及因應需要之照明系統等之構成零件適當地組 合並裝入驅動電路等來形成，本發明中，除了使用藉本發明形 成之偏光片或光學膜這點外，並無特別限定，可依據習知之方 5 法。有關液晶晶胞也可使用例如TN型、STN型或7Γ型等任意 類型者。 可形成在液晶晶胞之單側或兩側配置偏光片或光學膜之 液晶顯示裝置、或於照明系統中使用後照燈或反射片者等之適 宜之液晶顯示裝置。這時，藉本發明形成之偏光片或光學膜可 10 設置於液晶晶胞之單側或兩侧。於兩側設置偏光片或光學膜 時，該等可以相同，也可以不同。更，在液晶顯示裝置形成之 際，可於適宜之位置將例如擴散片、抗眩光層、反射防止膜、 保護片、稜鏡陣列、透鏡陣列薄膜、光擴散片、背光等適宜之 零件配置1層或2層以上。 15 接著說明有關有機電致發光裝置（有機EL顯示裝置）。一 般而言，有機EL顯示裝置係於透明基板上依序積層透明電極、 有機發光層及金屬電極而形成發光體（有機電致發光發光 體）。在此，有機發光層是各種有機薄膜之積層體，已知的有 例如由三苯胺衍生物等形成之正電洞注入層、與由蒽等之螢光 20 性有機固體所形成之發光層之積層體，或這種發光層與紫蘇烯 衍生物等形成之電子注入層之積層體，甚或這些之正電洞注入 層、發光層及電子注入層之積層體等具各種組合之構成。 有機EL顯示裝置是以下述原理發光，亦即，藉由外加電 壓於透明電極與金屬電極，使正電洞與電子注入有機發光層， 21 200410785 再藉這些正電洞與電子之再結合所產生之能源激發螢光物 質，被激發之螢光物質恢復基態時會將光放射出來而發光。所 明迷中之再結合機構與一般一極體相同，由此可預測到，電流 與餐光強度相對於外加電壓顯示出伴隨整流性之強烈非線性。 5 在有機EL顯示裝置中，為了取出在有機發光層之發光， 必須至少一側之電極為透明，通常是使用氧化銦錫（IT〇)等 透明導電體所形成之透明電極作為陽極。另一方面，為了要使 電子注入容易進行，提咼發光效率，於陰極使用工作函數小的 物質是很重要的，通常是使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。 10 在這種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層係由厚度 10nm之極薄之膜形成。因此，有機發光層也與透明電極相同 地可使光完全透過。結果，非發光時從透明基板表面入射、透 過透明電極與有機發光層而以金屬電極反射之光，會再次往透 明基板表面侧透出，因此從外部目視辨認時，有機EL顯示裝 15 置之顯示面看起來有如鏡面。 在含有藉施加電壓來發光之有機發光層之表面侧具有透 明電極、同時有機發光層之裡面側具有金屬電極之有機致電發 光發光體之有機EL顯示裝置中，可於透明電極之表面侧設置 偏光片，同時於透明電極與偏光片之間設置相位差片。 2〇 相位差片及偏光片由於具有使從外部入射並以金屬電極 反射之光偏光之作用，因此藉該偏光作用可產生使金屬電極之 鏡面無法從外部目視辨認之效果。尤其是以丨/4波長片構成相 位差片，且將偏光片與相位差片之偏光方向形成之角調整為π /4，即可完全遮蔽金屬電極之鏡面。 22 200410785 亦即，入射到該有機EL顯示裝置之外部光，因偏光片而 僅有直線偏光成分透過。該直線偏光一般藉相位差片成為擴圓 偏光，不過特別是當相位差片為1/4波長片、且偏光片與相位 差片之偏光方向形成之角為7Γ/4時會變成圓偏光。 5 該圓偏光透過透明基板、透明電極、有機薄膜而以金屬電 極反射，再透過有機薄膜、透明電極、透明基板，於相位差片 再次變成直線偏光。然後，由於該直線偏光與偏光片之偏光方 向垂直，故無法透過偏光片。結果，可完全遮蔽金屬電極之鏡 面。 10 實施例 接著，說明有關實施例及比較例。準備講求加工精度或精 加工精度之用於液晶顯示裝置之偏光膜作為積層片，進行以下 之加工來評價。 實施例1係積層20片偏光片，在第丨圖所示之靠模方式 15之切削裝置上，將255mmx 195mm之製品精加工為25〇mmx 190mm尺寸。重複3次該作業，進行各樣本之大小與加工面外 觀之評價。 實施例2係積層50片偏光片，進行與實施例ι同樣的加 工與評價。 20 ^匕較例係對50片實施藉刀模之衝床加工，進行與實施例 1、2同樣的評價。又，比較例中，不進行藉第2圖或第3圖等 切削裝置之切斷面切削加工。評價結果顯示於表i。 23 200410785 表1 加工精度σ ( mm ) 加工面狀態（以X 100觀察） 長邊方向 短邊方向 實施例1 0.041 0.036 ◎ 實施例2 0.044 0.041 ◎ 比較例 0.042 0.038 △(局部黏著劑溢出） 從表1之結果也可得知，關於加工精度，可做出與習知方 式同等級之加工。又，在比較例中，可看出局部之黏著劑溢出， 而在實施例中加工面之狀態良好。

5 【圖式簡單說明】 第1圖是顯示藉靠模方式之切削方法之圖。 第2圖是顯示非靠模方式之切削方法（其1)之圖。 第3圖是顯示非靠模方式之切削方法（其2)之圖。 【圖式之主要元件代表符號表】 1…積層片 3…靠模 la…長邊 4…靠模轉子 lb…短邊 5…旋轉刀具

2…旋轉刀具 24

Claims (1)

1. 200410785 拾、申請專利範圍： 1. 一種積層片之切削加工方法，係將切斷為預定形狀之積層 片之切斷面切削完工者，該切削加工方法係藉靠模方式進 - 行切削加工之控制。 ， 5 2.如申請專利範圍第1項之切削加工方法，其係在將多數片積 層片重疊之狀態下，整合切削多數片之切斷面。 3. —種積層片，係藉申請專利範圍第1項之積層片之切削加工 方法切削而成者。 φ 4. 如申請專利範圍第3項之積層片，其中該積層片為光學膜用 10 材料。 5· —種光學元件，係在光學元件之單面或雙面設有申請專利 範圍第4項之光學膜用材料。 6. 一種影像顯示裝置，係搭載有申請專利範圍第4項之光學膜 用材料。 15 7. —種影像顯示裝置，係搭載有申請專利範圍第5項之光學元 件。 ⑩ 25