TR201819355T4 - Mgda ihtiva eden bir deterjan bileşimini içeren kap. - Google Patents

Abstract

Buluş, bir sulu ortamda çözünen en az bir kompleks yapıcı ajan (A) ihtiva eden tek birim doz deterjan bileşimini içeren kap olup söz konusu kompleks yapıcı ajan (A), metil glisin diasetik asit (MGDA) veya bunun ilgili mono-, di- veya trialkali metal veya mono-, di- veya triamonyum tuzlarının L- ve D-enantiyomerlerinin karışımıdır; söz konusu karışım, baskın olarak %5 ila 85 aralığında enantiyomerik fazlalığa (ee) sahip ilgili L-izomeri ihtiva etmektedir; burada söz konusu kap, polimerden yapılmaktadır.

Description

TARIFNAME MGDA IHTIVA EDEN BIR DETERJAN BILESIMINI IÇEREN KAP Mevcut bulus, bir sulu ortamda çözünmüs en az bir kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden tek birim doz deterjan bilesimini içeren bir kaba yönelik olup, söz konusu kompleks yapici ajan (A), metil glisin diasetik asit (MGDA) veya bunun ilgili m0no-, di- veya trialkali inetal veya m0no-, di- veya triamonyum tuzlarinin L- ve D-enantiyomerlerinin bir karisimi olmaktadir; söz konusu karisim, baskin olarak %5 ile 85 araliginda enantiyomerik fazlaliga (ee) sahip ilgili L-izomeri ihtiva etmektedir; burada söz konusu kap, polimerden yapilmaktadir ve burada bu tür sulu ortam, sürekli fazin tainainindan hareketle agirlikça en az %33 oraninda su içeimektedir.

Metil glisin diasetik asit (MGDA) gibi selat ajanlar] ve bunlarin ilgili alkali metal tuzlari, Ca2+ ve Mg2+ gibi toprak alkali metal iyonlarina yönelik kullanisli ve çevre dostu kireçlenineyi önleyici maddelerdir. Bu maddeler, artik çevresel sebeplerden ötürü birçok ülkede degistirilmekte olan sodyum tripolifosfat (“STPP”) gibi fosfat tipi kireçlenmeyi önleyici maddelerin yerini alabilmektedir. Dolayisiyla MGDA ve ilgili bilesikler tavsiye edilmekte ve çamasir deterjanlari ve otomatik bulasik makinesi (ADW) formülasyonlari, bilhassa fosfat içermeyen çamasir deterjanlari ve fosfat içermeyen ADW formülasyonlari gibi çesitli amaçlar için kullanilmaktadir.

Bu tür selat a janlarinin nakliyesi için, çogu vakada granül gibi kati maddeler uygulanmakta veya Patent Dokümanlari, MGDA içeren birim doz deterjan bilesimlerini açiklamaktadir.

US 8802894 B2 numarali Patent Dokümani, sulu MGDA solüsyonunun hazirlanmasina yönelik bir süreci açiklamaktadir.

Otomatik bulasik ve çamasir bakimi için, tek birim doz olarak adlandirilan dozlar, artan ticari öneme sahiptir. Bu tür birim dozlarinin yikama ve durulama adimlari için dogru miktarlarda bilesen ihtiva etmesi ve son kullanici tarafindan kolaylikla otomatik bulasik veya çamasir makinesine konulabilmesinden dolayi bu tür dozlar, son kullanici için büyük bir öneme sahiptir; doz örnekleri, tabletler ve topaklar ve özellikle keselerdir. Çok bölmeli keseler biçimindeki Ancak, özellikle inorganik peroksit esasli agartma maddeleri mevcudiyetinde, bazen kusurlar gözlemlenebilmektedir. Ozellikle yazin birkaç ay gibi uzun süreli depolamaya yöiielik olarak, deterjan bilesimlerinde sararma veya hata kahverengimsi leke olusumlari gözlemlenebilmektedir.

Bu tür renklenme, ilgili deterjan bilesiminin kalitesinin bozulmus olabilecegini belirtinesinden Bu kusurun önlenmesinin bir yolu, birçok bölme içeren kaplarda deterjan bilesimlerinin saglanmasidir. Bir bölüm, agartma maddesini ihtiva ederken diger bölüin ise enzimler gibi oksitlenmeye duyarli bilesikler içemiektedir. Bir yikama döngüsü esnasinda çikan bölümler, bakiniz. Bu tür filmler kombinasyonlar halinde olan su, depolandiktan sonra söz konusu filmlere zarar verebileceginden dolayi dezavantajlidir. MGDA solüsyonlari, ortam sicakliginda agirlikça degildir. Bunun yerine MGDA çökeltisi ve kristallesmesi gözlemlenebilmektedir.

Ancak, kireçlenmeyi önleyici maddenin yikama döngüsünün erken asamasinda yikama çözeltisine saglanmasi arzu edilmektedir. Kati MGDA gibi kireçlenmeyi önleyici maddelerle bu durum tüin kosullar altinda ise yaramamaktadir.

Dolayisiyla mevcut bulusun bir amaci, özellikle yukarida açiklanan dezavantajlarin üstesinden gelebilen birim doz biçiminde bir deterjan bilesiminin saglanmasi olmustur. Ayni zamanda mevcut bulusun bir amaci, yukarida açiklanan dezavantajlarin üstesinden gelebilen deterjan bilesimlerinin imal edilmesine yönelik bir yöntemin saglanmasi olmustur. ilaveten mevcut bulusun bir amaci, yukaridaki dezavantajlarin üstesinden gelebilen bir deterjan bilesiinine yönelik bir elementin ve bu tür bir elementin yapimina yönelik bir yöntemin saglanmasi olinustur.

Buna bagli olarak, baslangiçta tanimlandigi gibi tek birim doz içeren kaplar kesfedilmistir. Ayni zamanda bu kaplar, bundan sonra mevcut bulusa göre kaplar seklinde veya tek birim doz içeren mevcut bulus kaplari seklinde veya mevcut bulus kaplari seklinde tanimlanacaktir.

Mevcut bulus kabi, birim doz biçimindedir. Mevcut bulus baglaminda, “birim doz” terimi, çamasir makinesinde bir yikama veya otomatik bulasik makinesinde bir yikama için tasarlanan deterjan bilesimi miktarlarini ifade etmektedir. Birim doz, evde bakim uygulamalari veya örnegin bununla sinirli olinainak üzere, hastaneler, kantinler, lokantalar, oteller, ögrenci yurtlari veya ticari çamasirhaiieler gibi endüstriyel veya kurumsal uygulamalar için tasarlanabilmektedir.

Tercihen mevcut bulus baglamindaki birim dozlar, evde bakiin uygulamalari için tasarlaninaktadir. Birim dozlar, ayni zamanda tek birim dozlari seklinde tanimlanabilmekte; her iki terim de mevcut bulus baglaminda birbiriyle degistirilebilir sekilde kullanilmaktadir.

Tek birim doz içeren mevcut bulus kaplari, çesitli uygulamalarda, özellikle otomatik bulasik veya çamasir uygulamalarinda uygulanabilmektedir. Uygulamaya bagli olarak, deterjan bilesimi, kompleks yapici ajan (A) disinda farkli bilesenler ihtiva edebilmekte ve istenen uygulamaya bagli olarak boyut degisebilmektedir. Evde bakim uygulamalarinda kullanilan mevcut bulus kaplarinin endüstriyel veya kurumsal uygulamalarda kullanilacak mevcut bulus kaplarina kiyasla boyut olarak daha küçük olmasi tercih edilmekte ve otoinatik bulasik uygulamalarinda kullanilan kaplarin çamasir temizlik uygulamalarinda kullanilan mevcut bulus kaplarina kiyasla boyut olarak daha küçük olmasi tercih edilinektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, tek birim doz içeren mevcut bulus kaplari, ilgili deterjan bilesiminin bütün bilesenlerinin bulundugu tek bölmeyi kapsamaktadir. Tercih edilen bir yapilaiidirmada, mevcut bulus kaplari, iki veya daha fazla bölmeyi, örnegin iki, üç veya dört bölineyi kapsamaktadir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus kaplari, bir veya daha fazla bölmeye sahip kutu biçiminde veya bir veya daha fazla bölmeye sahip bir sase biçiminde veya bir veya daha fazla bölmeye sahip bir kese biçiminde veya bir kutu ve bir veya daha fazla kese kombinasyonu biçiminde, özellikle bir kutu ve bir kese kombinasyonu biçiinindedir. Bu tür bir kombinasyonda, kutu ve kese, örnegin birbirine yapistirilarak baglanabilmektedir. Iki bölmeye sahip bir kese, ayiii zamanda iki odacikli kese seklinde de ifade edilebilmektedir. Tek bölmeye sahip bir kese, ayni zamanda tek odacikli kese seklinde de ifade edilebilmektedir. Dolayisiyla, belirli yapilandirmalarda, mevcut bulusa göre kaplar, iki odacikli kese biçiminde veya bir kutu ve tek odacikli kese kombinasyonu biçiminde olabilmektedir.

Söz konusu kap, mekanik olarak esnek veya kati olabilmektedir. Mekanik olarak esnek ve mekanik olarak kati arasinda, ortalama son kullanici tarafindan iki parmak ile sekil degistirebilme derecesinin manüel olarak belirlenmesi araciligiyla ayirim yapilabilmektedir. Bu tür bir ortalama son kullanicinin söz konusu kabin seklini bir boyutta en az %5 oraninda degistirebilmesi durumunda, ilgili kap, mekanik olarak esnek kabul edilmekte, aksi durumda kati olarak kabul edilmektedir.

Spesifik yapilandirmalarda, mevcut bulus kaplari, tablet basina en az bir bosluga sahip tabletlerdir. Bosluk basina en az bir kese bulunmakta; tercihen bosluga yerlestirilmis ve tablete takilmis en az bir kese bulunmaktadir. Özel bir yapilandirmada, kompleks yapici ajan (A) solüsyonu içeren kesenin hacmi, boslugun hacmine karsilik gelmekte; örnegin bunlar ayni hacme ±%10, tercihen ±%5 sahip olabilmektedir. Bosluk ve kompleks yapici ajan (A) solüsyonu içeren kesenin sekli ve boyut birbirine ne kadar iyi karsilik gelirse, tasima esnasinda 0 kadar az kirilma gözlemlenebilmektedir. Bu tür tabletler, örnegin polivinil alkol filmde paketlenebilmektedir.

Tablet, yüzey aktif maddeler, gelistirici bilesen(ler), enzimler ve/Veya agartma maddeleri gibi ilgili deterjan bilesimi bilesenlerini içermektedir.

Diger spesifik yapilandirmada, mevcut bulus kaplari, kutu basina en az bir bosluga sahip bir kutudur. Bosluk basina en az bir kese bulunmakta; tercihen bosluga yerlestirilmis ve tablete takilmis en az bir kese bulunmaktadir. Özel bir yapilandirmada, kompleks yapici ajan (A) solüsyonu içeren kesenin hacmi, boslugun hacmine karsilik gelmekte; örnegin bunlar ayni hacme ±%10, tercihen ±%5 sahip olabilmektedir. Bosluk ve kompleks yapici ajan (A) solüsyonu içeren kesenin sekli ve boyut birbirine ne kadar iyi karsilik gelirse, tasima esnasinda 0 kadar az kirilma gözlemlenebilmektedir. Bu tür tabletler, örnegin polivinil alkol filmde paketlenebilmektedir.

Tablet, yüzey aktif maddeler, gelistirici bilesen(ler), enzimler ve/Veya agartma maddeleri gibi ilgili deterjan bilesimi bilesenlerini içermektedir.

Diger spesifik yapilandirmada, mevcut bulus kaplari, en az iki, örnegin iki, üç veya dört bölmeyi kapsayan keselerdir. Bölmelerin biri, kompleks yapici ajan solüsyonu (A) ihtiva etmektedir.

Ilgili deterjan bilesimlerinin diger bilesenleri, diger bir veya daha fazla bölmede(lerde) yer almaktadir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus kaplarinda bulunan kompleks yapici ajanlarin (A) tamaini, 0 bölmede çözünmüs biçimdedir. Mevcut bulusun diger yapilandirmasmda, bir kompleks yapici ajan (A) payi, yukarida belirtildigi gibi, bir bölmede çözünmüs biçimde bulunmakta ve daha fazla kompleks yapici ajan (A), mevcut bulusun diger bölmesinde veya uygun oldugu 'üzere bir diger bölmesinde bulunmaktadir.

Kati deterjan bilesimleri, nem kalintisi ihtiva edebilmektedir. Nem kalintisi, kompleks yapici a janin (A) içinde çözündügü sulu ortainin bir parçasi olan suyun disindaki suyu ifade etmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, nem kalintisi içerigi, ilgili toplam deterjan bilesimine atifta bulunarak, agirlikça %0.] ile 10 araligindadir. Nem kalintisi içerigi, örnegin Karl-Fischer Titrasyonu araciligiyla veya kurutulduktaii sonraki agirlik kaybinin ölçülmesi araciligiyla belirlenebilmektedir Mevcut bulus baglaminda, “kese” terimi, esnek filmden yapilan bir kabi ifade etmektedir. Söz konusu kap, esasen ilgili bulasik deterjani bilesiminin depolaninasindan sonra kapatilinaktadir.

Bulasik yikama süreci esnasinda, kesenin içerikleri, tercihen kesenin çözünmesi araciligiyla kesenin kendisinden çikarilmaktadir.

Mevcut bulus baglaminda kaplar ve özellikle keseler, çesitli sekillere sahip olabilmektedir.

Ornegin kaplar, bilye, elipsoit, küp, küpoid biçiminde olabilinekte veya geometrik olarak düzensiz bir sekle sahip olabilmektedir. Ozel örneklerde keseler, bir zarf, yastik, esnek bilezik veya her iki uçlarda yapali esnek tüp veya bilye veya küp sekline sahip olabilmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulusa göre kaplar, özellikle keseler, 0.5 ile 7 cm araliginda bir çapa sahiptir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulusa göre kaplar, 'Özellikle keseler, kapali hacme sahiptir. Bu tür mevcut bulus kaplari, `özellikle evde bakim uygulamasiiidaki otomatik bulasik yikaina makinesi için kullanislidir. Ozellikle evde bakiin uygulamalarinda kumas bakimi için kullanisli olan mevcut bulus kaplari, 15 ile 40 ml, tercihen 25 ile 30 ml araligindaki bir hacme sahip olabilmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, her bir bölme, 0.5 ile 50 m1, tercihen 5 ile 25 m1 araligindaki bir içerige sahiptir. Mevcut bulus kaplarinin iki veya daha fazla bölmeyi kapsadigi yapilandirmalarda, bu tür bölmeler, esit boyuta veya farkli boyuta sahip olabilmektedir. Tercihen mevcut bulus kaplarinin iki veya daha fazla bölmeyi kapsadigi yapilandirmalarda, bu tür kaplar, bir büyük böliiieyi ve bir veya iki veya üç daha küçük bölnieyi kapsamaktadir.

Mevcut bulus kaplari, polimerden, tercihen suda çözünebilir polimerden yapilmaktadir. Mevcut bulus baglamindaki keseler, polimer filmden yapilmaktadir.

Söz konusu poliiner, dogal polimerler, modifiye dogal poliinerler ve sentetik polimerlerden seçilebilmektedir. Uygun dogal polimer 'Örnekleri, alginatlar, 'ozellikle sodyum alginat, ilaveten ksantum, karajeiian, dekstrin, maltodekstrin, jelatin, nisasta, ve pektindir. Uygun modifiye dogal polimer örnekleri, metilseli'iloz, etilselüloz, karboksimetil selüloz, hidroksipropilselüloz, hidroksipropil metil selüloz (HPMC), ve hidroksimetil selülozdur. Uygun sentetik polimer örnekleri polivinil pirrolidon, poliakrilemid, polialkilen glikoller, tercihen polipropilen glikol ve (MW) sahip polietilen glikol, ve bilhassa polivinil alkoldür.

Burada kullanilan “polivinil alkol” terimi, yalnizca Vinil asetatin radikalsiz polimerizasyonunu takiben ester gruplarinin büyük çogunlugunun veya tamaminin hidrolizi (sabunlastirilmasi) araciligiyla yapilabilen polivinil alkol homopolimerlerini içermemektedir. Polivinil alkol, ayni zamanda, Vinil asetatin radikalsiz kopolimerizasyonu araciligiyla elde edilebilen kopolimerleri ve maleik asit, maleik anhidrit, itakonik anhidrit, metil (met)akrilet ve 2-akrilemido-2-metil propansülfonik asitten ("AMPS") seçilen en az bir komonomeri içermektedir.

Mevcut bulusun tercih edilen bir yapilandirmasinda, kaplarin, özellikle keselerin yapimi için kullanilan polivinil alkol, 500 ile 3,000 g/mol araliginda bir ortalama polimerizasyon derecesine (ortalama agirliga) sahiptir. Bu tür polivinil alkolün molekül agirligi (MW), tercihen 6,000 ile polivinil asetat veya ilgili kopolimerin sabunlasmasindan önce yapilan pelte geçirim kromatografisi araciligiyla belirlenmektedir.

Kaplarin ve özellikle keselerin yapimi için kullanilan polivinil alkol, tercihen lH NMR spektroskopisi araciligiyla belirlendigi gibi dizesizdir (ataktik).

Kaplarin, özellikle keselerin yapiini için kullanilan polivinil alkoller, esasen tekrarlayan (CH2- CHOH) birimlerine sahiptir. Polivinil alkoldeki hidroksil gruplari, çogunlukla 1,3-pozisy0nunda olmaktadir ve böylelikle -CH2-CH(OH)-CH2-CH(OH)- tipindeki yapisal birimleri olusturmaktadir. Az miktarlarda (mol cinsinden %1 ile 2) germinal hidroksil gruplari bulunmakta ve böylelikle -CH2-CH(OH)-CH(OH)-CH2- yapisal birimler olusmaktadir.

Bir veya daha fazla modifiye polivinil alkoller, polivinil alkolün yerine veya polietilen glikol veya polivinil alkol ile kombinasyon halinde polimer seklinde kullanilabilmektedir. Buna yönelik örnekler, polivinil asetat ile greftlenen ve bunu takiben ester gruplarinin hidrolizi/sabunlasmasi ile olusan polialkilen glikol gibi greft kopolimerlerdir.

Polimer, bir veya daha fazla katki maddesi ile birlikte veya bu maddeler olmadan kullanilabilmektedir. Uygun katki maddeleri, özellikle C4-Cio-dikarboksilik asit, Örnegin adipik asit gibi plastiklestiriciler ve etilen glikol ve dietilen glikol gibi glikollerdir.

Uretiminden dolayi, piyasada satilan polivinil alkoller, genellikle sabuna dönüstürülmemis kalinti ester gruplari, 'Özellikle asetat gruplarina sahiptir. Mevcut bulusun yapilandirmalarina yönelik kaplarin ve Özellikle keselerin yapimi için kullanilan polivinil alkoller, esasen mol cinsinden %87 ile 89 mol araliginda sabunlasma derecesine sahiptir. Sabunlasma derecesi, olarak belirlenebilmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasirida, inevcut bulusun yapilandirmalarina yönelik kaplarin ve cam geçis sicakligina sahiptir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasmda, mevcut bulusun yapilandirinalarina yönelik kaplarin ve özellikle keseleriii yapimi için kullanilan polivinil alkoller, 185 ile 187°C araliginda bir erime noktasina sahiptir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulusun yapilandirmalarina yönelik kaplarin ve özellikle tek birim doz içeren keselerin yapimi için kullanilan polivinil alkoller, glukoz, fr'üktoz gibi sekerlerle veya nisasta ile kismen asetallenmekte veya katalize edilmektedir. Mevcut bulusun diger yapilandirinasinda, kaplarin ve özellikle keselerin yapimi için kullanilan polivinil alkoller, örnegin maleik asit veya itakonik asit ile kismen esterlestirilmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, polivinil alkol filmleri, bir plastiklestirici ihtiva edebilmektedir. Plastiklestiriciler, bu tür polivinil alkol filmleriniii sertliginin azaltilmasi için kullanilabilmektedir, Polivinil alkol için plastiklestirici olarak kullanilabilen uygun bilesikler, etilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, örnegin 400 g/mol kadar ortalama molekül agirligina (MW) sahip polietilen glikol, gliserol, trimetilol propan, trietanolamin ve neo-pentil glikoldür.

Ilgili poliviiiil alkolün agirlikça %25 kadari plastiklestirici olabilmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, söz konusu keseler, polimer filmden yapilinakta, söz konusu polimer, en az 40°C, örnegin 40 ile 95°C araligindaki bir sicakliktaki suda çözünebilmekte, ancak 5 ile 30°C araligindaki bir sicakliktaki suda çözünmemektedir. Diger yapilandirmalarda, söz konusu keseler, 1°C”deki suda bile çözünebilen polimer filmlerden yapilmaktadir. Mevcut bulus baglaminda, suda çözünebilir ve suda çözünebilen terimleri, birbiriyle degistirilebilir bir sekilde kullanilmaktadir. Bu terimlerin her ikisi de 20°C'deki suda çözünen polimerleri ifade etmekte ve bunlarin belirlenme yöntemleri, asagida ele alinmaktadir.

Ancak, bu tür polimerler, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortamda çok daha yavas bir sekilde veya hiç tespit edilemeyen bir sekilde çözünmektedir. Bir polimer, çözünebilirlik yüzdesinin en az %90 olmasi durumunda suda çözünebilir kabul edilmektedir. Bu yüzdenin belirlenmesine yönelik uygun bir yöntein, asagida ele alinmaktadir. 1°C veya daha fazla sicaklikta çözünebilen polimer filmler ve 40°C7de çözünebilen polimer filmlere yönelik örnekler, Syntana E. Harke GmbH & Co tarafindan Solublon® ticari markasi ile satilan polivinil alkol filmlerdir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulusta kullanilabilen keselerin yapimi için kullanilan polimer filmler ve tercihen polivinil alkol filmler, 10 ile 100 mm, tercihen 20 ile 90 um ve hatta daha tercihen 25 ile 35 um araliginda kalinliga (mukaveinete) sahiptir. Polimer filmlerin ve özellikle polivinil alkol filmlerin mukavemetinin 100 um,yi asmasi durumunda bunlarin çikama döngüsü esnasinda çözünmesi çok uzun sürmektedir. Polimer filmlerin ve özellikle polivinil alkol filmlerin mukavemetinin 10 um”nin altinda olmasi durumunda bunlar, mekanik gerilime çok duyarlidir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden solüsyon, en az bir boya maddesi ihtiva etmektedir. Boya maddesi örnekleri, Acid Red 1, Acid Red 52, Acid Blue 9, Acid Yellow 3, Acid Yellow 23, Acid Yellow 73, Pigment Yellow 101, Acid Green 1, Solvent Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden solüsyon, MGDA”nin disinda en az bir selat ajani ihtiva etmektedir. Ornekler, sitrik asit, ve ilgili alkali metal tuzlari ve aminopolikarboksiletlar ve IDS ve IDS-Na4 gibi bunlarin ilgili alkali metal tuzlaridir. Diger yapilandirmalarda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden solüsyon, MGDASnin disinda herhangi bir selat ajani ihtiva etmemektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden solüsyon, örnegin bir kivamlastirici madde gibi en az bir viskoziteyi degistiren madde ihtiva etmektedir.

Kivamlastirici madde örnekleri, agar-agar, karajenan, kitre, arap zamki, alginat, pektin, hidroksieti] selüloz, hidroksipropil selüloz, nisasta, jelatin, keçiboynuzu zamki, çapraz bagli poli(met)akriletlar, örnegin metilen bis-(met)akrilemid ile çapraz bagli poliakrilik asit, ilaveten silisik asit, kil, örnegin, bununla sinirli olmamak üzere, montmorillonit, zeolit ve ilaveten dekstrin ve kazeindir.

Mevcut bulusun tercih edilen yapilandirmasinda, söz konusu kap ve tercihen bu tür bir kese, ne peroksit ne de enzim ihtiva etmektedir. Bu tür tercih edilen yapilandirmalar, genellikle daha uzun raf ömrüne sahiptir.

Kaplar ve özellikle keseler, renksiz olabilmektedir. Diger yapilandirmalarda bunlar renkli olabilmektedir. Dekoratif veya reklam amaçlari dogrultusunda, bunlarin üzerine resimler, logolar veya yazilar basilabilmektedir.

Tek birim doz deterjan bilesimi içeren kap, sulu ortamda çözünmüs en az bir kompleks yapici ajan (A) ihtiva etmekte, söz konusu kompleks yapici ajan (A), metil glisin diasetik asit (MGDA) veya bunun ilgili mono-, di- veya trialkali metal veya mono-, di- veya triamonyum tuzlarinin L- ve D-enantiyomerlerinin bir karisimi olmaktadir; söz konusu karisim, baskin olarak %5 ile 85 araliginda enantiyomerik fazlaliga (ee) sahip ilgili L-izomeri ihtiva etmektedir.

Burada kullanilan sulu ortam ifadesi, ortam sicakliginda sivi veya jel tipinde olan ve sürekli fazin tamamina atifta bulunarak agirlikça en az %33 oraninda su ihtiva edeii ve dolayisiyla MGDA içemieyen bir ortaini ifade etmektedir. Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, söz konusu sulu ortam, örnegin bununla sinirli olmamak üzere, etilen glikol, 1,2-propilen glikol, dietilen glikol, trietilen glikol, N,N-dietanolamin, N,N-diizopr0panolamin, ve N-metil N,N-dietanolamin gibi su ile karisabilen en az bir organik solvent ihtiva etmektedir. Diger yapilandirmalarda, söz konusu sulu ortam, herhangi organik solvent ihtiva etmemektedir.

Mevcut bulusta kullanilan ainonyum tuzlari terimi, kalici veya geçici olarak kuatemize edilen bir nitrojen atoinunu tasiyan en az bir katyona sahip tuzlari ifade etmektedir. Kalici olarak kuaternize edilen en az bir nitrojen atomunu tasiyan katyon 'Örnekleri, tetrametilemonyum, tetraetilemonyum, dimetildietil amonyum, ve n-Cio-Czo-alkil trimetil amonyumu içermektedir.

Geçici olarak kuaternize edilen en az bir nitrojen atomunu tasiyan katyon 'Örnekleri, örnegin monoineti] amonyum, diinetil amonyum, triinetil amonyum, monoetil amonyuin, dietil amonyum, trietil amonyum, n-Cio-Czo-alkil dimetil amonyum 2-hidroksietilem0nyum, bis(2- hidroksietil) amonyum, tris(2-hidroksietil)amonyum, N-metil 2-hidroksietil ainonyum, N,N- dimeti]-2-hidroksietileinonyum, ve özellikle NH4+ gibi amonyak ve protonlu aminleri içermektedir Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajanlar (A), asagidaki genel formüle (I) sahip moleküllerin L- ve D-enantiyomer karisimlarindan seçilmektedir sifir ile 0.5 araliginda, tercihen sifir ile 0.25 araligindadir, ikame edilmis veya ikame edilmemis amonyum ve potasyum ve sodyum ve bunlarin karisimlarindan seçilmektedir. M3.XHX örnekleri, Na3.xHx, seçilmektedir.

Tercih edilenler ise tripotasyum tuzlari gibi MGDA trialkali inetal tuzlari, MGDA disodyum monopotasyum tuzu, MGDA dipotasyum monosodyum tuzu, mol cinsinden %20 ile 25 alkalinin potasyum oldugu geri kalan mol cinsinden %75 ile 80 kismin ise sodyum oldugu trialkali inetal tuzlari, mol cinsinden %20 ile 25 alkali metalin sodyum oldugu ve geri kalan mol cinsinden %75 ile 80 kismin ise potasyum oldugu trialkali metal tuzlar] ve MGDA tripotasyum tuzudur.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajandaki (A) ilgili L-izomerin enantiyomerik fazlaligi, %5 ile 85 araliginda, tercihen %10 ile 75 araliginda ve hatta daha tercihen %20 ile 60 araligindadir.

Genel formüldeki (I) iki veya daha fazla bilesigin mevcut oldugu yapilandirinalarda, ee terimi, D-izomerlerin tamamina kiyasla ilgili karisimda mevcut olan L-izomerlerin tamaminin enantiyomerik fazlaligini ifade etmektedir. Örnegin, MGDA di ve trisodyuin tuzu karisiininin mevcut oldugu vakalarda, ee terimi, D-MGDA disodyum tuzu ve trisodyum tuzuiiuii toplamina göre L-MGDA disodyum tuzu ve trisodyum tuzunun toplamini ifade etmektedir.

Enantiyomerik fazlaligi, polarizasyonun ölçülmesi (polarimetri) araciligiyla veya tercihen kromatografi araciligiyla, örnegin kiral kolona sahip HPLC araciligiyla, örnegin hareketsiz faz olarak bir veya daha fazla siklodekstrin ile veya ligand degisimi (Pirkle-firça) kavrami kiral durgun faz ile belirlenebilmektedir. Tercih edilen ise, bakir(ll) tuzu mevcudiyetinde D- penisilemiii gibi hareketsiz, optik olarak etkin amin ile yapilaii HPLC araciligiyla eeinin belirlenmesidir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajan (A), agirlikça %0,1 ile 10 araliginda optik olarak etkisiz katisikliklar ihtiva edebilmekte; katisikliklarin en az biri, iminodiasetik asit, formik asit, glikolik asit, propiyonik asit, asetik asit ve bunlarin ilgili alkali metal veya m0no-, di- veya triamonyum tuzlarindan seçilmektedir. Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus karisimlari, agirlikça %O.2”den daha az oranda, tercihen agirlikça % ihtiva edebilmektedir. Yüzdeler, toplam kompleks yapici ajan (A) ifade etmektedir.

Mevcut bulusuii bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajan (A), agirlikça %0.] ile 10 araliginda optik olarak etkisiz katisikliklar; katisikliklarin en az biri, L-karboksimetilelanin ve bunun ilgili mono- veya dialkali metal tuzlarindan seçilmektedir; ve kompleks yapici ajanin (A) sentezi esnasinda eksik sabunlasmadan ortaya çikan optik olarak etkin mono- veya dianiidleri ihtiva edebilmektedir. Tercihen, optik olarak etkin katisiklik miktari, kompleks yapici ajaiia (A) atifta bulunarak, agirlikça %001 ile 1.5 araligindadir. Hatta daha tercihen, optik olarak etkin katisiklik miktari, agirlikça %0.] ile %02 araligindadir.

Mevcut bulusun bir yönünde, kompleks yapici ajan (A), alkali metal veya amonyumun disinda az miktarlarda katyonlar ihtiva edebilmektedir. Dolayisiyla, anyona bagli olarak toplam selat ajaninin %001 ile 5 moliü gibi az miktarlarin, Mg2+ veya Caz' gibi toprak alkali metal katyonlari veya Fe2+ veya Fe3+ katyonlari gibi geçis metal iyonlarini tasimasi mümkündür.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, sulu ortain, agirlikça %35 ile 75 araliginda, tercihen agirlikça %40 ile 70 araliginda, daha tercihen agirlikça %45 ile 70 araliginda ve hatta daha tercihen agirlikça %48 ile %65 araliginda kompleks yapici ajan (A) ihtiva etinektedir.

Sulu ortam, solventin esasen su oldugu ortami ifade etmektedir. Bir yapilandirmada, bu tür sulu ortamda, su tek solventtir. Diger yapilandirmalarda, su ile bir veya daha fazla suda karisabilen solvent karisimlari, sulu ortam olarak kullanilmaktadir. Suda karisabilen solvent terimi, faz6 ayrilmasi olinadan ortam sicakliginda su ile karisabilen organik solventleri ifade etmektedir. Örnekler, etilen glikol, 1,2-propilen glikol, izopropanol, ve dietilen glikoldür. Tercihen, solvente atifta bulunarak, hacimce en az %50 oraninda ilgili sulu ortam, sudur.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva edeii sulu ortam, 8 ile 14 araliginda, tercihen 10.0 ile 13.5 araliginda bir pH degerine sahiptir.

Mevcut bulusun bir yapilaiidimiasinda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortam, alkali metal hidroksitler ve alkali metal karbonatlardan seçilen en az bir inorganik bazik tuz ihtiva etmektedir. Tercih edilen örnekler, sodyum karbonat, potasyum karbonat, potasyum hidroksit ve özellikle agirlikça %01 ile 1.5 oraninda sodyum hidroksittir. Sirasiyla potasyum hidroksit veya sodyum hidroksit, ilgili kompleks yapici ajanin (A) imal edilmesinden ortaya çikabilmektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, jel tipi, sivi tipi veya esasen kati tipte olabilmektedir. Jel tipi mevcut bulus bilesimleri, kaliplar seklinde saglaiiabilmektedir. Sivi tipi mevcut bulus bilesiinleri, en az iki bölmeye sahip bir kap içinde saglanabilmekte, bir bölme, çözünmüs kompleks yapici ajan (A) ihtiva etmekte ve ikinci bölme ise örnegin bununla sinirli olinainak üzere, bir yüzey aktif madde veya yüzey aktif maddeler kombinasyonu, enzim veya enzimler kombinasyonu, agartma maddesi, agartici katalizörü, veya kompleks yapici ajanin (A) disindaki diger bir gelistirici bilesen gibi kompleks yapici ajanin (A) disindaki en az bir bulasik yikaina deterjani bilesimini ihtiva etmektedir.

Yukaridaki açiklamaya göre, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, kompleks yapici ajanin (A) disindaki bilesenleri ihtiva etmektedir. Kompleks yapici ajaiiin (A) disindaki bilesen örnekleri, bir yüzey aktif madde veya yüzey aktif maddeler kombinasyonu, enzim veya enzimler kombinasyonu, agartma maddesi, agartici katalizörü, veya kompleks yapici ajanin (A) disindaki diger bir gelistirici bilesendir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunaii deterjan bilesimleri, MGDA,nin disinda bir veya daha fazla kompleks yapici ajan ihtiva edebilmektedir. MGDA disindaki kompleks yapici ajan 'Örnekleri, sitrat, fosforik asit türevleri, örnegin hidroksietan-l,l-difosforik asit (“HEDP”), örnegin trisodyuin sitrat ve STPP (sodyum tripolifosfat) gibi fosfatlardir. Fosfatlarin çevre sorunu olustuririasindan dolayi, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimlerinin fosfat içermemesi tercih edilmektedir. “Fosfat içermeyen” ifadesi, mevcut bulus baglaminda, fosfat ve polifosfat içeriginin, gravimetrik analiz araciligiyla belirlendigi gibi ve toplam deterjan bilesimine atifta bulunarak, 10 ppm ile agirlikça %02 araliginda oldugu seklinde anlasilmalidir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, bir veya daha fazla yüzey aktif madde, tercihen bir veya daha fazla iyoiiik olmayan yüzey aktif madde ihtiva edebilmektedir.

Tercih edilen iyonik olmayan yüzey aktif maddeler, alkoksillenmis alkoller, etilen oksit ve propilen oksidin di- ve çok bloklu kopolimerleri ve sorbitanin etilen oksit veya propilen oksit ile olan reaksiyonundan ortaya çikan ürünler, alkil poliglikositler (APG), hidroksialkil ile karisik eterler ve amin oksitlerdir.

Alkoksillenmis alkoller ve alkoksillenmis yag alkollerine yönelik tercih edilen örnekler, `Örnegin asagidaki genel formüle (ll) sahip bilesiklerdir RýoVOhO+R3 (ii) burada degiskenler, asagidaki gibi tanimlanmaktadir: Rl özdes veya farkli olmaktadir ve hidrojen ve dogrusal Ci-Cio-alkilden seçilmektedir, tercihen her vakada özdes ve etil ve özellikle tercihen hidrojen veya metil olmaktadir, R2 Cg-sz-alkil, dallanmis veya dogrusal, örnegin n-Can, n-CioHzi, n-C12H25, n-Ci4H29, ri- C16H33 veya n-CigH37°den seçilmektedir, R3 Ci-Cio-alkil, metil, etil, n-propil, izopropil, n-bütil, izobütil, sek-bütil, tert-bütil, n-pentil, izopentil, sek-pentil, neopentil, 1,2-dimetilpropil, izoamil, n-heksil, izoheksil, sek-heksil, n-heptil, n-oktil, 2-etilheksil, n-nonil, n-desil veya izodesilden seçilmektedir.

Degiskenler (m ve n), sifir ile 300 araliginda olmaktadir, burada degiskenlerin (m ve n) toplami, en az bir, tercihen 3 ile 50 araligindadir. Tercihen degisken (m), 1 ile 100 araliginda olmaktadir ve degisken (n), 0 ile 30 araligindadir.

Bir yapilandirmada, genel formül (II) bilesikleri, blok kopolimerler veya rastgele kopolimerler olmaktadir, tercih ise blok kopolimerlerden yanadir.

Alkoksillenmis alkollere yönelik diger örnekler, Örnegin genel formüle (lll) sahip bilesiklerdir Raowoax/Oakw <'"> burada degiskenler, asagidaki gibi tanimlanmaktadir: Rl özdes veya farkli oliiiaktadir ve hidrojen ve dogrusal Ci-Co-alkilden seçilinektedir, tercihen her vakada özdes ve etil ve özellikle tercihen hidrojen veya metil olmaktadir, a sifir ile 10 araliginda, tercihen 1 ile 6 araliginda bir sayidir, b 1 ile 80 araliginda, tercihen 4 ile 20 araliginda bir sayidir, d sifir ile 50 araliginda, tercihen 4 ile 25 araliginda bir sayidir. a + b + d toplami, tercihen 5 ile 100 araliginda, hatta daha tercihen 9 ile 50 araligindadir.

Hidroksialkil ile karisik eterlere yönelik tercih edilen örnekler, genel formüle (lV) sahip bilesiklerdir burada degiskenler, asagidaki gibi tanimlanmaktadir Rl özdes veya farkli olmaktadir ve hidrojen ve dogrusal Ci-Cio-alkilden seçilinektedir, tercihen her vakada özdes ve etil ve özellikle tercihen hidrojen veya metil olmaktadir, R2 Cg-sz-alkil, dallanmis veya dogrusal, örnegin IZO-CiiHzgç, izo-C13H27, n-CgHi7, n-CioHzi, R3 Ci-Cig-alkil, metil, etil, n-propil, izopropil, n-bütil, izobütil, sek-bütil, tert-bütil, n-pentil, izopentil, sek-pentil, neopentil, 1,2-dimetilpropil, izoamil, n-heksil, izoheksil, sek-heksil, n-heptil, n-oktil, 2-etilheksil, n-nonil, n-desil, izodesil, n-dodesil, n-tetradesil, n-heksadesil, Ve n-octadesildeii seçilmektedir.

Degiskenler (m ve n), sifir ile 300 araliginda olmaktadir, burada degiskenlerin (m ve n) toplami, en az bir, tercihen 5 ile 50 araligindadir. Tercihen degisken (m), 1 ile 100 araliginda olmaktadir ve degisken (n), 0 ile 30 araligindadir.

Genel formül (III) ve (IV) bilesikleri, blok kopolimerler veya rastgele kopoliinerler olabilmekte ve tercih ise blok kopolimerlerden yana olmaktadir.

Ilave uygun iyonik olmayan yüzey aktif maddeler, etilen oksit ve propilen oksitten olusan di- ve çok bloklu kopolimerlerden seçilmektedir. Ilave uygun iyonik olmayan yüzey aktif maddeler, etoksillenmis veya propoksillenmis sorbitan esterlerden seçilmektedir. Amiii oksitler veya alkil poliglikositler, özellikle dogrusal C4-C16-alki1 poliglukositler ve asagidaki genel formüle (V) sahip bilesikler gibi dallanmis Cs-Ci4-alki1 poliglikositler de benzer sekilde uygundur.

R5 Ci-C4-alkil, özellikle etil, n-propil veya izopropildir, R6 -(CH2)2-R5”dir, G' 4 ile 6 karbon atomuna sahip monosakkaritlerden, özellikle glukoz ve ksilozdan seçilmektedir, y 1 .1 ile 4 araliginda olmaktadir, y, ortalama sayi olmaktadir.

Iyonik olmayan yüzey aktif maddelere yönelik ilave örnekler, genel formüle (VI) ve (VII) sahip bilesiklerdir: AO, etilen oksit, propilen oksit ve bütilen oksitten seçilmektedir, EO, etilen oksit, CHzCH2-05dur, R7, dallanmis veya dogrusal Cg-Cig-alkilden seçilmektedir, A3O, propilen oksit ve bütilen oksitten seçilmektedir, W 15 ile 70 araliginda, tercihen 30 ile 50 araliginda bir sayidir, wl ve w3, 1 ile 5 araliginda sayilardir, ve w2, 13 ile 35 araliginda bir sayidir.

Ilave uygun iyonik olmayan yüzey aktif maddelere yönelik bir genel bakis, EP-A 0 851 023 ve Iki veya daha fazla farkli iyonik olmayan yüzey aktif maddelerin karisimlari da mevcut olabilinektedir.

Mevcut olabilen diger yüzey aktif maddeler, amfoterik (zwitteriyonik) yüzey aktif maddeler ve anyonik yüzey aktif maddeler ve bunlarin karisimlarindan seçilmektedir.

Amfoterik yüzey aktif maddelere yönelik örnekler, kullanim kosullari altinda ayni molekülde pozitif ve negatif yük tasiyanlardir. Amfoterik yüzey aktif maddeleriii tercih edilen örnekleri, betain-yüzey aktif maddeler olarak adlandirilmaktadir. Betain-yüzey aktiflere yönelik birçok tasimaktadir. Amfoterik yüzey aktif maddelere yönelik özellikle tercih edilen bir 'Örnek, kokainidopropil betain (laurimidopropil betain) olmaktadir.

Amin oksit yüzey aktif madde örnekleri, asagidaki genel formüle (VIII) sahip bilesiklerdir burada, RIO, R8 ve R9, birbirinden bagimsiz olarak, alifatik, sikloalifatik veya C2-C4-alkilen C10- Czo-alkilemido parçalarindan seçilmektedir. Tercihen, R'O, Cg-Czo-alkll veya C2-C4-alkilen C10- C20-alkilemid0dan seçilmektedir ve R8 ve R9iun her ikisi de metildir.

Ozellikle tercih edilen örnek, bazen ayni zamanda lauramin oksit olarak da adlandirilan lauril dimetil aminoksittir. Ilaveten özellikle tercih edilen örnek ise bazen ayni zamanda kokainidopropilemin oksit olarak adlandirilan kokamidilpropil dimetileminoksittir.

Uygun anyonik yüzey aktif madde `Örnekleri, Cg-Cig-alkil sülfatlarin, Cg-Cig-yag alkol polieter sülfatlarin, etoksillenmis C4-Ciz-alkilfenollerin (etoksillenme: 1 ile 50 mol etilen oksit/mol) sülfürik asit yarim esterlerinin, Ciz-Cig sülfo yag asidi alkil esterlerinin, örnegin C iz-Cig sülfo yag asidi metil esterlerin, ilaveten Ciz-Cig-alkilsülfonik asitlerin ve Cio-Cig-alkilerilsülfonik asitlerin alkali metal ve amonyum tuzlaridir. Yukarida bahsedilen bilesiklerin alkali metal tuzlar] ve tercih edilmekte ve özellikle sodyum tuzlar-i tercih edilmektedir.

Uygun anyonik yüzey aktif maddelere yönelik ilave örnekler, sabunlar, örnegin stearoik asit, oleik asit, palmitik asidin sodyum veya potasyum tuzlari, eter karboksilet ve alkileter fosfatlardir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, anyonik yüzey aktif maddeler, amfoterik yüzey aktif maddeler ve amin oksit yüzey aktif maddelerden seçilen agirlikça %0.1 ile 60 oraninda en az bir yüzey aktif madde ihtiva edebilmektedir.

Tercih edilen bir yapilandirmada, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, herhangi bir anyonik yüzey aktif madde ihtiva etmemektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, ayni zamanda agartici olarak da ifade edilen en az bir agartma maddesini ihtiva edebilmektedir. Agartma maddeleri, klorlu agartici ve peroksitli agarticidan seçilebilmekte ve peroksitli agartici, inorganik peroksit agartici ve organik peroksitli agarticidan seçilebilmektedir. Tercih edilenler ise, alkali metal perkarbonat, alkali metal perborat ve alkali metal persülfattan seçilen inorganik peroksitli agarticilardir.

Organik peroksitli agartici örnekleri, organik perkarboksilik asitler, özellikle organik perkarboksilik asitlerdir.

Uygun klor ihtiva eden agarticilar, 'Örnegin, 1,3-dikloro-5,5-dimetilhidantoin, N-klorosulfamid, kloramin T, klorainin B, sodyum hipoklorit, kalsiyum hipoklorit, magnezyum hipoklorit, potasyum hipoklorit, potasyum dikloroizosiyanürat ve sodyum dikloroizosiyanürattir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesiinleri, örnegin agirlikça %3 ile 10 araliginda klor ihtiva eden agartici içerebilmektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunaii deterjan bilesimleri, bir veya daha fazla agartici kataliz'oiü içerebilmektedir. Agartici katalizörleri, agaitmayi güçlendirici geçis metal tuzlari veya örnegin manganez, demir, kobalt, rutenyum veya molibdenum-salen koinpleksleri veya karbonil koinpleksleri gibi geçis inetal komplekslerinden seçilebilmektedir. Ayni zamanda manganez, demir, kobalt, rutenyum, molibdenum, titanyum, vanadyum ve üç ayakli ligandlara sahip azotla bakir kompleksleri ve ayni zamanda kobalt, demir, bakir ve rutenyum amin kompleksleri de agartici katalizörleri olarak kullanilabilmektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, bir veya daha fazla agartici aktivat'orleri, örnegin N-metilmorfolinyum-asetonitril tuzlari ("MMA tuzlari"), trimetileinonyuin asetonitril tuzlari, N-asilimidler, örnegin, N-nonanoilsüksinimid, l,5-diasetil-2,2-di0ksoheksahidro-l,3,5- triazin ("DADl-lT") veya nitril kuatlarini (tri-metilemonyum asetonitril tuzlari) içerebilmektedir.

Uygun agartici aktivatör örnekleri, tetraasetiletilendiamin (TAED) ve tetraasetilheksilen- ediamindir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, bir veya daha fazla korozyon inhibitörü içerebilmektedir. Mevcut vakada, bunun, metal korozyonunu inhibe eden bilesikleri içerdigi anlasilmalidir. Uygun korozyon inhibitörleri örnekleri, triazoller, özellikle benzotriazoller, bisbenzotriazoller, aminotriazoller, alkilemino-triazoller, ayni zamanda fenol türevleri, örnegin, hidrokinon, pirokatekol, hidroksihidrokinon, gallik asit, floroglusinol veya pirogalloldur.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, toplamda agirlikça %01 ile 1.5 araliginda korozyon inhibitöri'i içermektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, organik ve inorganik gelistirici bilesenlerden seçilen bir veya daha fazla gelistirici bilesen içerebilmektedir. Uygun inorganik gelistirici bilesen örnekleri, sodyum sülfat veya sodyum karbonat veya silikatlar, özellikle sodyum disilikat ve sodyum metasilikat, zeolitler, silikat tabakalari, özellikle oc-Na28i205, ß- NazSizOs, ve ö-NazSizO5 formülüne sahip olanlar, ayni zamanda yag asidi sülfonatlar, 0t- hidroksipropiyonik asit, alkali metal malonatlar, yag asidi sülfonatlar, alkil ve alkenil disüksinatlar, tartarik asit diasetat, tartarik asit monoasetat, oksitlenmis nisasta, ve polimerik gelistirici bilesenler, örnegin polikarboksiletlar ve poliaspartik asittir.

Organik gelistirici bilesen örnekleri, özellikle polimerler ve kopolimerlerdir. Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, organik gelistirici bilesenler, polikarboksiletlar, örnegin (met)akrilik asit homopoliinerler veya (met)akrilik asit kopoliinerlerin alkali metal tuzlarindan seçilmektedir.

Uygun komonomerler, maleik asit, fumarik asit, maleik anhidrit, itakonik asit ve sitrakonik asit gibi monoetilenik açidan doymamis dikarboksilik asitlerdir. Uygun bir polimer ise özellikle 3000 ile 8000 g/mol araliginda bir ortalama molekül agirligina (MW) sahip poliakrilik asittir.

Ayni zamanda kopolimerik polikarboksiletlar, özellikle metakrilik aside sahip akrilik asit ve maleik asit ve/veya fumarik aside sahip ve ayni molekül agirligi araliginda olan akrilik asit veya nietakrilik asit uygundur.

Ayni zamanda, asagida listelenen en az bir hidrofilik veya hidrofobik monomere sahip maleik asit, maleik anhidrit, akrilik asit, metakrilik asit, fumarik asit, itakonik asit ve sitrakonik asit gibi monoetileiiik açidan doymamis C3-Cio-mono- veya C4-Cio-dikarboksilik asitlerden olusan gruptan gelen en az bir monomere sahip kopolimerlerin kullanilmasi da mümkündür.

Uygun hidrofobik monomerler, 'Örnegin izobüten, diizobüten, büten, penten, heksen ve stiren, tetrakosen ve l-heksakosen gibi 10 veya daha fazla karbon atomuna veya buiilarin karisimlarina sahip olefinler, sz-oc-olefin, Czo-C24-0L-olefinler karisimi, ve molekül basina ortalama 12 ile 100 karbon atomuna sahip poliizobütendir.

Uygun hidrofilik monomerler, sülfonat ve fosfonat gruplarina sahip inonoinerler ve ayni zamanda hidroksil isleviiie sahip iyonik olinayan monomerler veya alkilen oksit gruplaridir. Örnegin: alil alkol, izoprenol, metoksipolietilen glikol (met)akrilet, metoksipolipropilen glikol (met)akrilet, metoksipolibütilen glikol (met)akrilet, metoksipoli(propilen oksit-ko-etilen oksit) (met)akrilet, etoksipolietilen glikol (met)akrilet, etoksipolipropilen glikol (met)akrilet, etoksipolibütilen glikol (met)akrilet ve etoksipoli(propi1en oksit-ko-etilen oksit) (met)akrilettan bahsedilebilmektedir. Buradaki polialkilen glikoller, bir molekül basina 3 ile 50, özellikle 5 ile 40, ve bilhassa 10 ile 30 alkilen oksit birimini içerebilmektedir.

Burada özellikle tercih edilen sülfonik-asit-grubu ihtiva eden monomerler, l-akrilemido-l- propansülfonik asit, 2-akrilemido-Z-propansülfonik asit, 2-akrilemido-2-metilpropansülfonik asit, 2-metakrilemido-Z-metilpro-panesülfonik asit, 3-metakrilemido-2-hidroksipropaiisülfoiiik asit, allilsülfonik asit, metallilsülfonik asit, alliloksi-benzenesülfonik asit, metalliloksibenzenesülfonik asit, 2-hidroksi-3-(2-propeniloksi)propansülfonik asit, Z-metil-Z- propen-l-sülfonik asit, stirensülfonik asit, Vinilsülfonik asit, 3-sulf0pr0pi1 akrilet, 2-sulf0eti1 metakrilet, 3-sulfopropil metakrilet, sulfometakrilemid, sulfometilmetakrilemid, ve sodyum, potasyum veya bunlarin amonyum tuzlari gibi söz konusu asitlerin tuzlaridir.

Ozellikle tercih edilen fosfonat grubu ihtiva eden monomerler, Vinilfosfonik asit ve bunun tuzlaridir.

Ilave gelistirici bilesen örnegi, karboksimetil inulindir.

Dahasi, ainfoterik polimerler de gelistirici bilesen olarak kullanilabilmektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, örnegin agirlikça toplam %10 ile 70 araliginda, tercihen agirlikça %50 kadar oranda gelistirici bilesen içerebilmektedir. Mevcut bulus baglaminda, MGDA, gelistirici bilesen olarak sayilmamaktadir.

Mevcut bulusun bir yapilandiimasinda, mevcut bulus kaplarinda bulunan bu tür deterjan bilesimleri, bir veya daha fazla es gelistirici bilesen içerebilmektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, örnegin silikon yaglari ve parafin yaglarindan seçilen bir veya daha fazla köpük önleyici içerebilmektedir. Mevcut bulusun bir yapilandirmasmda, inevcut bulus kaplari bilesimlerinde bulunan deterjan bilesimleri, agirlikça toplam %005 ile 0.5 araliginda köpük önleyici içermektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, bir veya daha fazla enzim içerebilmektedir. Enzim örnekleri, lipazlar, hidrolazlar, ainilezlar, proteazlar, selülazlar, esterazlar, pektinazlar, laktazlar ve peroksidazlardir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, örnegin agirlikça %5 kadar enzim içerebilmekte ve agirlikça %0.1 ile 3 oranindaki miktar tercih edilmektedir. Söz konusu enzim, örnegin en az bir Ci-Cg-karboksilik asit veya C4-Cio- dikarboksilik asidin sodyum tuzu ile kararli hale getirilebilmektedir. Tercih edilenler ise formatlar, asetatlar, adipatlar ve süksinatlardir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, en az bir çinko tuzu içermektedir. Çinko tuzlari, suda çözünebilir veya suda çözünmeyen çinko tuzlarindan seçilebilmektedir. Bu baglamda, mevcut bulus kapsaminda, suda çözünmeyen ifadesi, 25°C°deki damitik suda, 0.1 g/l veya daha az çözünebilirlige sahip çinko tuzlariiii ifade etmek için kullanilmaktadir. Suda daha yüksek çözünebilirlige sahip çinko tuzlari, buna bagli olarak mevcut bulus baglaminda suda çözünebilir çinko tuzlari seklinde ifade edilmektedir.

Mevcut bulusun bir yapilandirinasinda, çinko tuzu, çinko benzoat, çinko glukonat, çinko laktat, çinko format, ZnClz, ZnSO4, çinko asetat, çinko sitrat, Zn(NO3)2, Zn(Cl-l3803)2 ve çinko gallat, tercihen ZnClz, ZnSO4, çinko asetat, çinko sitrat, Zn(NO3)2, Zn(CH3803)2 ve çinko galattan seçilmektedir.

Mevcut bulusun diger yapilandirmasinda, çinko tuzu, ZnO, ZnO~sulu, Zn(OH)2 ve ZnCOften seçilmektedir. Tercih, ZnO'sulu,dan yana yapilmaktadir.

Mevcut bulusun bir yapilandirmasinda, çinko tuzu, 10 nm ile 100 um araliginda ortalama parçacik çapina (agirlik ortalamasi) sahip çinko oksitlerden seçilniektedir. Çinko tuzundaki katyon, kompleks biçimde mevcut olabilinekte, örnegin amonyak ligandlari veya su ligandlari ile kompleks hale getirilebilinekte ve özellikle sulu biçimde mevcut olabilmektedir. Sadelestirnie ainaciyla, mevcut bulus baglaminda, ligandlar, su ligandlari oldugu takdirde genellikle dahil edilmemektedir.

Mevcut bulus kaplarinda bulunan deterjan bilesimleri, sayisiz avantaja sahiptir. Bunlar, otoinatik bulasik makinesi uygulamalarinda iyi temizleme `Özellikleri sergilemektedir. Bu kaplar, iyi bir depolama ve raf ömrü davranisi ve renklenmeye, 'ozellikle sararmaya karsi düsük bir egilim sergilemektedir. Kompleks yapici ajan (A), rasemik MGDA”ya karsi iyilestirilmis solüsyon davranisi sergilemekte ve kapta istenmeyen çökelti olusumuna karsi oldukça az bir egiliin sergilemekte veya hiç egilim sergilememektedir.

Mevcut bulusun diger yönü, mevcut bulus kaplariiiiii bulasik ve çamasir temizligine yönelik kullanilmasi ile ilgilidir. Bulasik ve çamasir temizligi, evde bakiin veya endüstriyel ve kurumsal uygulamalari ifade edebilmekte ve evde bakim uygulamalari tercih edilmektedir. Ozellikle tercih edilen ise evde bakiin uygulamalarinda otomatik bulasik makinesidir.

Mevcut bulusun diger yönü, tek birim doz içeren mevcut bulus kaplarinin yapimina yönelik bir proses ile ilgili olmaktadir ve söz konusu proses, ayni zamanda mevcut bulus süreci olarak ifade edilmektedir. Mevcut bulusun diger yönü, ayni zamanda bundan sonra mevcut bulus süreci olarak da ifade edilen, mevcut bulusa göre bir kabin bir bölmesinin yapimina yönelik bir proses ile ilgilidir. Mevcut bulus süreci, bundan sonra adimlar (a) ile (e) olarak ifade edilecek olan birkaç adimi içermekte ve söz konusu adimlar, asagida kisaca özetlenmektedir: (b) bir siviyi barindirabilmesi için en az bir girintiye sahip olacak sekilde polimerin sekillendirilmesi, (c) sulu ortamda çözünmüs kompleks yapici ajanin (A) saglanmasi, söz konusu kompleks yapici ajan (A), metil glisin diasetik asit (MGDA) veya bunun ilgili mono-, di- veya trialkali metal veya m0n0-, di- veya triamonyum tuzlarinin L- ve D-enantiyomerlerinin bir karisimi olmaktadir; söz konusu karisim, baskin olarak %5 ile 85 araliginda enantiyomerik fazlaliga (ee) sahip ilgili L-izomeri ihtiva etmektedir, ((1) adim (cfye göre kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden söz konusu sulu ortamin, adim (b)°ye göre olusturulan girintinin içine yerlestirilmesi, (e) sirasiyla açik kabin veya bölmenin kapatilmasi.

Tercih edilen bir yapilandirmada, kap, polimer filmden yapilan bir kesedir. Tercihen polimer, polivinil alkoldür. Adimlar (a) ile (e), bundan sonra daha ayrintili olarak tarif edilmektedir.

Adim (a), bir polimer, tercihen polimer film ve hatta daha tercihen polivinil alkolden yapilan bir filmin saglanmasini ifade etmektedir.

Kabm veya ilgili bölmesinin keseden farkli oldugu yapilandirmalarda, bu tür polimer, filmlere kiyasla farkli bir kalinliga, tercihen daha büyük bir kalinliga sahip olabilmektedir. Kap, granül biçiminde olabilmekte ve polimerin sekillendirilmesine yönelik adim (b), örnegin enjeksiyonla kaliplama araciligiyla gerçek]estirilebilmektedir.

Mevcut bulusun tercih edilen bir yapilandirmasinda, mevcut bulus bilesimlerine yönelik keselerin yapimi için kullanilan polimer filmler ve tercihen polivinil alkol filmler, 10 ile 100 mm, tercihen 20 ile 90 pm ve hatta daha tercihen 25 ile 35 um araliginda kalinliga (mukavemete) sahiptir. Polimer filnileriii ve özellikle polivinil alkol filmlerin mukavemetinin 100 um°yi asmasi durumunda bunlarin çikama döngüsü esnasinda çözünmesi çok uzun sürmektedir. Polimer filmlerin ve özellikle polivinil alkol filmlerin mukavemetinin 10 um°nin altinda olmasi durumunda bunlar, mekanik gerilime çok duyarlidir.

Adim (b),de, polimer, tercihen polimer film, siviyi barindirabilmesi için en az bir girintiye sahip olacak sekilde biçimlendirilmektedir. Örnekler, özellikle ilgili polimerin erime noktasinin 5 ile °C altindaki bir sicaklikta yapilan isil sekillendirme prosesleridir.

Söz konusu kabin bir kese oldugu yapilandirmalarda, sekillendirme islemi, bir hortumun sekillendirilinesi ve hortumun daha küçük parçalar halinde kesilmesi ve her bir tarafta kapatilmasi ve böylelikle saselerin sekillendirilmesi araciligiyla gerçeklestirilebilmektedir.

Mevcut bulus sürecinin `Özel yapilandirmalarinda, adim (b), en az bir bosluga, tercihen birden çok bosluga sahip bir biçimlendirme kalibinin yardimiyla gerçeklestirilmektedir. Bu tür bosluklar, içinden indirgenmis basincin (“Vakum”) uygulanabildigi açikliklara (deliklere) sahip olabilmektedir. Bu tür özel yapilandirmalarda, bir polimer film, kaliba yerlestirilmektedir.

Polimer, daha sonra bir isitma cihazi araciligiyla isitilmaktadir. Polimer film, es zamanli olarak örnegin boslugun/bosluklarin açikliklarindan vakuin uygulanarak sekillendirilmektedir.

Vakum uygulanmasina ek olarak, polimer filmin kalip ile yakin temas halinde zorlanmasi için polimer filme karsi hava veya soy gazin üflenmesi mümkündür.

Adim (c)”de, sulu ortainda çözünen kompleks yapici ajan (A), saglanmaktadir. Bu tür kompleks yapici ajan (A) solüsyonlarinin yapilma sekli, asagida tarif edilmektedir.

Omegin sulu solüsyonlar olarak ilgili enantiyoinerlerin karistirilmasi mümkün olmasina ragmen, D-MGDA sentezinin zahmetli olmasindan dolayi bu tür bir yöntem tercih edilmemektedir.

Kismen n'otrlestirilmis L-alaninin çift Strecker sentezi baglaminda hidrosiyanik asit ve forinaldehit ile reaksiyona sokulmasiyla baslanmasi ve daha sonra kismi rasemiklesmenin meydana geldigi kosullar altinda nitril gruplarinin sabunlastirilmasi tercih edilmektedir. Örnegin, tercih edilenler, çift Strecker sentezine sokulabilen mol cinsinden %33 ile 37 L-alanin (serbest asit) ile mol cinsinden %63 ile 67 mol L-alanin alkali metal tuzu karisimlaridir. Bu tür çift Strecker sentezi, serbest asit veya alkali meta] tuzlari olarak iki mol HCN ve iki mol formaldehidin sulu ortamina ilave edilmesi araciligiyla gereeklestirilebilmektedir. Çift Strecker sentezi, 20 ile 80°C araliginda, tercihen 35 ile 65°C araligindaki bir sicaklikta gerçeklestirilebilmektedir. Tercihen kismen nötrlestirilmis biçimdeki L-ABAN (B) elde edilmektedir.

H3C COOH Sabunlasma islemi, alkali metal hidroksit ile gerçeklestirilmektedir. Farkli alkali metallerin miktari ve orani, istendigi takdirde, oranin geiiel formüldeki (I) istenen M orani ile eslesecek sekilde ayarlanmaktadir. Sabunlasina, daha sonra iki asamali proseste gerçeklestirilinekte ve söz konusu iki proses, farkli sicakliklarda gerçeklestirilmektedir. Genellikle tespit edilebilir hiçbir rasemiklesmenin meydana gelmedigi birinci asama, 20 ile 100°C araliginda, tercihen 40°C ile 90°C araligindaki bir sicaklikta gerçeklestirilmektedir. Tercih edilen basinç, normal basinçtir. sicaklikta ve 5 ile 180 dakika araligindaki bir ortalama kalma süresinde gerçeklestirilebilmektedir. Bu tür reaksiyon kosullari, 'Örnegin 3 ile 40 atm°1ik yükseltilmis basinçta elde edilmektedir.

M°nin Na oldugu yapilandirmalarda örnegin 190 ile [95°C gibi ikinci sabunlasma asainasinin daha yüksek sicaklik araligi, 5 ile 20 dakika gibi daha kisa kalma süresiyle birlestirilmekte veya dakika gibi orta bekleme süresiyle birlestirilmektedir.

Alkali metaliii en az bir kisminin potasyum oldugu yapilandirmalarda, daha da kisa kalma süreleri mümkün olmaktadir, örnegin 15 ile 20 dakikalik kalma süresi içinde 160°C°lik bir sicaklik olmaktadir.

Yukaridaki sentezdeii sonra, bu sekilde elde edilen kompleks yapici ajan (A) solüsyonu, 'örnegin bir veya daha fazla saflastirma adiminin gerçeklestirilmesi araciligiyla hareketlendirilebilmektedir. Uygun satlastirma adimlari, amonyak soyma, kömür ile isleme ve peroksit ile agartmadir.

Kompleks yapici ajan (A) solüsyonlari elde edilmektedir. Kompleks yapici ajanin (A) uygulandigi derisime bagli olarak sentezi, suyun örnegin buharlasma araciligiyla giderildigi bir veya daha fazla derisiin adiini takip edebilmektedir.

Adim (d)”de, bu sekilde elde edilen kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortam, daha sonra adiin (b),de elde edilen girintinin içine yerlestirilmektedir. Adim (d), basinç uygulanarak veya sadece yerçekimi uygulanarak gerçeklestirilebilmektedir. Basinç uygulanmasi tercih edilmektedir. Birden fazla bosluga sahip bir kalibin kullanildigi yapilandirmalarda, kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortamin es zamanli olarak birden fazla girintiye yerlestirilmesi tercih edilmektedir.

Bir yapilandirmada, girintiler, tamamen doldurulmaktadir. Diger yapilandirmalarda, girintiler yalnizca kismen, örnegin hacimce %50 ile 90 oraninda doldurulmakta ve bu sonraki yapilandirma, takip edecek adim (e)”deki sulu ortamin dökülmesini önleinek için tercih edilmektedir.

Mevcut bulus sürecinin adim (e)°sinde, dolu, ancak halen açik kaplar, kapatilmaktadir. Bu tür kapatma adiminin, sizdirmazlik saglama, örnegin isi ile sizdirmazlik saglama araciligiyla gerçeklestirilmesi tercih edilmektedir. Diger yapilandirmalar, bir kapatma cihazinin örnegin bir polimer film, tercihen suda çözünebilir poliinerden yapilmis bir filmden olusan açik kabin üstüne yapistirilmasini ifade etmektedir.

Keselerin sizdirmazliginin saglanmasi veya isi ile sizdirmazliginin saglanmasini elde etmek için, diger polimer filmin saglanmasi ve bunun kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortami barindiran sekillendirilmis filmi içeren kaliba yerlestirilmesi tercih edilmektedir.

Polimer film saselerinin olusturuldugu ve kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortam ile en azindan kismen dolduruldugu diger yapilandirmalarda, bunlar, sadece sasenin üst kenarina örnegin kizgin metal cihaz araciligiyla isi uygulanarak kapatilabilmektedir. Diger yapilandirmalarda, polimer filmden yapilan kaplar, sizdirinazlik maddesinin kimyasal reaksiyonunun gerçeklestirilmesi araciligiyla kapatilabilmektedir. Söz konusu kimyasal reaksiyon, bir vakum uygulanarak tesvik edilebilmektedir.

Diger yapilandirmalarda, adimlar (b), ((1) ve (e), kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortam içeren zarf seklinde keseler saglayan dikey sekillendir-doldur-kapat yolu seklinde gerçeklestirilmektedir.

Mevcut bulus, calisina 'Örnekleri araciligiyla daha fazla açiklanmaktadir. araciligiyla belirleninistir. Mobil faz (yikaina solüsyonu, 0.5 mM sulu CuSO4-solüsyonu Sicaklik: 20°C olmustur. Çalisma süresi, 25 dakika olmustur. ee degeri, L- ve D-MGDA tepe noktasinin toplam alan yüzdesine (%) bölünen L- ve D-MGDA tepe noktasinin alan yüzdesinin (%) farki seklinde belirlenmistir. Numunenin hazirlanisi: 10 ml ölçüm sisesine 50 mg test malzemesi yüklenmis ve yikama solüsyonu ile isaretli yere kadar doldurulmus ve daha sonra homojenize edilmistir.

Su içinde polimerin çözünebilirligi, asagidaki gibi belirlenmistir: 'Önceden tartilmis 400 m1,lik deney sisesi, 50 g ± 0,1 g ilgili polimer ve 245 ml ± 1 ml damitik su ile yüklenmistir. Bu sekilde elde edilen karisim, dakikada 600 tur olarak ortam sicakliginda 30 dakika boyunca manyetik karistirma ile karistirilmistir. Bu sekilde elde edilen solüsyon, 20 umslik inaksimum gözenek çapina sahip filtrelenmis nitelikli sinterlenmis cam filtre ile filtrelenmistir. Su, buharlasma yoluyla süzüntüden çikarilmistir. Kalinti, suda çözünebilir kisma karsilik gelmektedir. Vakumlu bir sekilde 50°C”lik bir sicaklikta yapilan kurutma isleminden sonra çözünebilirlik yüzdesi (%) belirlenebilmektedir. ee degerlerinin disinda, örnekler baglamindaki yüzdeler, aksi açikça belirtilmedikçe, agirlikça yüzdeyi ifade etmektedir. sodyum hidroksit solüsyonu (8.75 mol), 30 dakikalik bir dönem boyunca ilave edilmistir. Ilave etme esnasinda sicaklik, 60°C°ye yükseltilmistir. Sodyuin hidroksitin tamamen ilave edilmesinden sonra bulamaç, 30 dakika boyunca 60°C”de karistirilmistir. Berrak bir solüsyon elde edilmistir. 1.2 Kompleks yapici a janlarin (A. 1), (A2) ve (A.3) sulu solüsyonlarinin sentezi Kompleks yapici ajan (Al) ile (A3) solüsyonlarinin takriben %40”inin sürekli sentezi, toplam 8.5 I hacminde 6 karistirmali tank reaktör'û kaskatinda gerçeklestirilmistir. Reaksiyon karisimi, 6 karistirmali tank reaktörünün tamaminin içinden (STR.1 ile STR.6) ardisik bir sekilde geçmistir.

Geçilecek son karistirmali tank reaktörü olan STR.6, borulu reaktöre (TR.7) baglanmistir. Ilk üç karistirmali tank reaktörü olan STR.] ile STR.3,te, çift Strecker sentezi gerçeklestirilmis ve STR.] ile STR.3, 40°C'de çalistirilmistir. STR.] ile STR.3°teki ortalama kalma süresi, toplamda 45 ile 90 dakika olmustur. Uç karistirmali tank reaktörü olan STR,4 ile STR.6,da, sabunlastirma islemi gerçeklestirilmistir. STR.4 ile STR.6, 60°C”de çalistirilmistir. STR.4 ile STR.6,daki ortalama kalma süresi, toplamda 150 ile 400 dakika olmustur. Sabunlasma islemi, daha sonra 130°C ile 195°C,lik bir sicaklik profili ile çalistirilan borulu reaktörde (TR.7) tamamlanmistir.

Nihai amonyak siyirina islemi, buhar kullanilarak normal basinç altinda bir kolonda gerçeklestirilmektedir. Formaldehit (%30 sulu solüsyon), 1.1”e göre elde edilen L-alanin (I) ve sodyum tuzunun sulu solüsyonu ve mol cinsinden %80 gerekli HCN, STR.1”e ilave edilmis ve gerekli HCN°nin geri kalan %20°si, STR.2”ye ilave edilmis, gerekli sodyum hidroksit solüsyonu ise STR.4”e ilave edilmistir.

Besleme malzemelerinin molar oranlari, asagidaki gibi olmustur: L-alanin ve sodyum tuzu toplami: 1.00, Formaldehit : 1.95 ile 2.05, HCN : 1.95 ile 2.10 ve Sodyum hidroksit = 3.15 (adim (I.1)°de ilave edilen sodyum hidroksit dahil toplam sodyum hidroksit miktari).

Agirlikça %40 kompleks yapici ajan (A) solüsyonlari, mükemmel koku davranisi sergilemis ve özellikle kömür ile islendikten ve hidrojen peroksitle agartildiktan sonra sararmaya karsi düsük bir egilime sahip olmustur.

Tablo 1: Ikinci sabunlasma adiminin kalma süresi ve sicakliginin etkisi Sicaklik Ikinci sabunlasma adimi için kalma süresi [dk] ee Solüsyonlarin derisimi, derisiin %50 olana dek 70°C ,de suyun buharlastirilinasi araciligiyla yükseltilmistir Mol cinsinden %88 sabunlasma derecesine ve 25 um°lik kalinliga sahip bir polivinil alkol film, her biri 0.5 ml”lik bir hacine sahip 6 yarimküre seklindeki bosluga sahip bir kalibin üzerine yerlestirilmektedir. Elle basinç uygulanarak her boslukta girintiler olusturulabilmektedir. Bir pipet yardiiniyla, 7 ile 8 damla kompleks yapici ajan (A. 1), (A2) veya (A3) solüsyonu, her bir girintiye yerlestirilmektedir. (1 ml, 20 damlaya karsilik gelmektedir). Daha sonra, 25 um71ik kalinliga sahip diger polivinil alkol filmi, birinci kalibin üzerine yerlestirilmektedir. Her bir bosluga 1 ile 5 saniyelik kisa bir süre boyunca isi, yani lSO°C uygulanarak, girintileriii sizdirmazligi saglanmaktadir. Dolgulu önceden sekillendirilmis keseler, daha sonra elle kesilip çikarilabilmektedir. Bir bölme olarak görev yapan mevcut bulus keseleri elde edilmektedir.

Bunlar, ilgili kompleks yapici ajan (A.l) ile (A3) solüsyonunu ihtiva etinektedir. Buzdolabinda °C”de depolandiktan sonra bile solüsyondan hiçbir kati çökeltisi gözlemlenmemektedir.

Tablo 2”ye göre öniek deterjan bilesimleri, ilgili bilesenlerin kuru halde karistirilmasi araciligiyla hazirlanmaktadir.

Tablo 2: Otomatik bulasik makiiiesine yönelik örnek deterjan bilesimleri Bütün miktarlar g/numune cinsinden ADW.] ADW.2 ADW.3 Proteaz 2.5 2.5 2.5 Amilez 1 l 1 Sodyum tuzu olarak, tamamen nötrlestirilmis Poliakrilik asit MW 10 10 10 4000 g/mol Sodyum perkarbonat 10.5 10.5 10.5 Nazsizos 2 2 2 Sodyum sitrat diliidrat I 5 22.5 30 18 g agirliga sahip bir tablet, yukaridaki karisimin herhangi birinden olusturulabilmekte ve adiin (11)”den gelen bir kese, her bir tablete yerlestirilebilmektedir. Tabletler, keseyle birlikte, mol cinsinden %88 sabunlasma derecesine ve 35 um”lik kalinliga sahip polivinil alkol filminin içine paketlenmektedir. Bunlar, otomatik bulasik yikama makinesinde birim dozlar seklinde kullanilmakta ve mükemmel bulasik sonuçlari vermektedir. Bunlarin kullanimi uygundur.

Yukarida uygulanan rasemik olmayan karisimin yerine raseinik MGDA-Nagaün kullanilmasi durumunda, MGDA°nin oldugu kesede birkaç saat sonra çökelti olusumu gözlemlenebilmektedir.

Claims (2)

1. ISTEMLER Bir sulu ortainda çözünmüs en az bir kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden tek birim doz deterjan bilesimini içeren bir kap olup; söz konusu kompleks yapici ajan (A), metil glisin diasetik asit (MGDA) veya bunun ilgili mono-, di- veya trialkali metal veya m0no-, di- veya triamonyum tuzlarinin L- ve D-enantiyomerlerinin bir karisimi olmaktadir; söz konusu karisim, baskin olarak %5 ila 85 araliginda enantiyomerik fazlaliga (ee) sahip ilgili L- izoineri ihtiva etmektedir; özelligi söz konusu kabin, polimerden yapilmasi, ve bu tür sulu ortamin, sürekli fazin tamamina atifta bulunarak agirlikça en az %33 oraninda su içermesidir.
2. 2. Istem l,e göre kap olup, özelligi söz konusu kabin iki veya daha fazla bölmeyi kapsamasidir. Istem 1 veya 2”ye göre kap olup, özelligi söz konusu kabin mekanik olarak esnek veya kati olmasidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, özelligi söz konusu kabin bir veya daha fazla bölmeye sahip bir kutu biçiminde veya bir veya daha fazla bölmeye sahip bir sase biçiminde veya bir veya daha fazla bölmeye sahip bir kese veya bir kutu ve bir kese kombinasyonu biçiminde olmasidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, özelligi kesenin bir polimer filmden yapilmasi, söz konusu polimerin en az 1°C”lik bir sicakliktaki suda, suda çözünebilir özellikte olmasidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre, en az iki bölmeyi kapsayan bir kap olup, özelligi bir bölmenin sulu ortamda kompleks yapici ajan (A) ihtiva etmesi ve en az bir ek bölmenin, esasen bir kati bilesim ihtiva etmesidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, özelligi kompleks yapici ajanin (A), MGDA trisodyum tuzunun, MGDA disodyum monopotasyum tuzunun, MGDA dipotasyum monosodyum tuzunun, alkalinin mol cinsinden %20 ila 25llik kisminin potasyum oldugu ve geri kalan mol cinsinden %75 ila 80”]ik kismin sodyum oldugu trialkali metal tuzlarinm, alkali inetalin mol cinsinden %20 ila 25”1ik kisminin sodyum oldugu ve geri kalan mol cinsinden %75 ila 80,1ik kisminin potasyum oldugu trialkali inetal tuzlarinin ve MGDA tripotasyum tuzunun L ve D-izomerlerinin bir karisiinindan seçilmesidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, 'Özelligi söz konusu sulu ortamin agirlikça Onceki istemlerden en az birine göre kap olup, özelligi söz konusu sulu ortamin ilaveten en az bir boya maddesini ihtiva etmesidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, 'Özelligi polimerin polivinil alkol olmasidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, 'özelligi söz konusu kabin en az iki bölmeyi kapsamasi, söz konusu deterjanin ilaveten bir inorganik peroksit içermesi, söz konusu inorganik peroksitin, koinpleks yapici ajan (A) ihtiva eden sulu ortami ihtiva eden bölmede bulunmamasidir. Onceki istemlerden herhangi birine göre kap olup, 'özelligi bu tür kabin polimer filmden yapilan bir kese olmasi ile karakterize edilir. Bulasik veya çamasir temizligine yönelik önceki istemlerden herhangi birine göre kabin kullanimi. Istemler 1 ila 12”den herhangi birine göre bir kabin veya bir kabin bir bölmesinin yapilmasina yönelik bir proses olup, söz konusu proses, asagidaki adimlari içermektedir a) bir polimerin saglanmasi, b) bir siviyi ihtiva edebilmesi için en az bir girintiye sahip olacak sekilde polimeriii sekillendirilmesi, o) bir sulu ortamda çözünmüs kompleks yapici ajanin (A) saglanmasi, söz konusu kompleks yapici ajan (A), metil glisin diasetik asit (MGDA) veya bunun ilgili moiio-, di- veya trialkali metal veya mono-, di- veya triamoiiyum tuzlarinin L- ve D-enantiyomerlerinin bir karisimidir; söz konusu karisim, baskin olarak %5 ila 85 araliginda enantiyomerik fazlaliga (ee) sahip ilgili L-izomeri ihtiva etmektedir, (1) adiin (c`)°ye göre kompleks yapici ajan (A) ihtiva eden söz konusu sulu ortamin, adini (b)”ye göre olusturulan girintinin içine yerlestirilmesi, e) sirasiyla açik kabin veya bölmenin kapatilmasi. Istem l4,e göre proses olup, 'özelligi polimerin bir polimer filin biçiminde saglanmasidir. Istem 14 veya 15”e göre proses olup, 'özelligi adim (e)°nin sizdirmazlik saglama araciligiyla gerçeklestirilinesidir. Istemler 14 ila l6”dan herhangi birine göre proses olup, 'Özelligi adim (b)”nin en az bir bosluga sahip bir biçimlendirme kalibinin yardimiyla gerçeklestirilmesidir.