TR201816478T4

TR201816478T4 - Ayarlanabilir nem ve ıslaklık dayanıklılığına sahip, lif içeren, neme karşı dayanıklı substrat ve bunun üretimine yönelik yöntem.

Info

Publication number: TR201816478T4
Application number: TR2018/16478T
Authority: TR
Inventors: Josef Eckl; Hans Senger; Herbert Beck
Original assignee: Chem&P Gmbh & Co Kg
Priority date: 2016-11-30
Filing date: 2016-11-30
Publication date: 2018-11-21
Also published as: CA3045527C; JP6679058B2; ES2693598T3; EP3330436A1; RU2716449C1; EP3655584A1; JP2020501035A; CA3045527A1; PL3330436T3; WO2018099623A1; US20200063369A1; US11136720B2; PT3330436T; WO2018099724A1; EP3330436B1

Abstract

Mevcut buluş, ayarlanabilir bir nem ve ıslaklık dayanıklılığına sahip olan, neme karşı dayanıklı, lif içerikli bir substrat; burada substrat, lifler, en az bir bağlayıcı, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içerir; burada en az bir bağlayıcı, en az bir asit grubu içerikli en az bir polisakkarit içerir veya bundan oluşur ve burada en az bir nemli madde, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunların kaışımlarından oluşan gruptan seçilmiş en az bir organik bileşen içerir, ayrıca neme karşı dayanıklı, lif içerikli substratın üretimine yönelik bir yöntem ve kullanımı ile ilgilidir.

Description

TARIFNAME AYARLANABILIR NEM VE ISLAKLIK DAYANIKLILIGINA SAHIP, LIF IÇEREN, NEME KARSI DAYANIKLI SUBSTRAT VE BUNUN ÜRETIMINE YÖNELIK YÖNTEM Mevcut bulus, neme karsi dayanikli, lif içeren, burada substratin lifler, en az bir baglayici madde, en az bir nemli madde en az bir amfoter amin içerdigi, burada en az bir baglayici maddenin, asit grubu içerikli en az bir kalintiya sahip olan bir polisakkarite sahip oldugu veya bundan olustugu bir substrat ve ayrica lif içeren substratin üretimine yönelik bir yöntem ve Önceden nemlendirilmis tuvalet kagidi veya Cilt temizleme bezleri, kisaca nemli bezler, uzun zamandir tekniginden durumundan bilinmektedir ve dezavantajli bir sekilde yüksek bir islanma dayanikliligina sahip olacak sekilde islenmis doku, kagit veya tissue ürünlerinden üretilebilir. Bu ürünler bu nedenle suya, örnegin tuvaleti suyuna sokulduktan sonra kuru tuvalet kagitlarinin aksine daha uzun bir dayanikliliga sahiptir. Nemli bezler, yüksek islaklik dayanikliligi nedeniyle suya sokulmasindan sonra genel olarak yetersiz bir sekilde parçalanir veya parçalanmaz, böylece boru tikanmalarinin olusmasina katki saglayabilirler ve aritma tesislerinde suyun asil temizliginden önce alinmalidir.

Teknigin durumundan, önceden nemlendirilmis lifli bezlerin parçalanabilirligini suya sokulmasindan sonra artiran Çok sayida kisimlar bulunmaktadir. çözeltisi ve hacmen %5 ila 8 alkali metal bikarbonat çözeltisi ile önceden nemlendirilmis, parçalanabilir, liflerin, çok degerli alkol içeren bir baglayici madde ile baglandigi bir nemli bez tarif etmektedir. Bu ürünün üretim, dezavantajli bir sekilde çok külfetlidir ve toksikolojik açidan sakincalidir.

US 4,755,421 numarali patent, su ile delinmis selüloz lifleri ve rejenere edilmis selüloz lifleri vasitasiyla üretilmis, karistirma veya atik su içerisinde daha uzun kalma süresi ile kirilacak bir lif doku yayimlamaktadir. Ancak lif doku, atiga çikarma durumunda da dezavantajli bir sekilde çok yüksek bir dayanikliliga sahiptir.

Bir parçalanabilir bezin üretimine yönelik diger bir yöntem, üç kat tissue kagidinin yalnizca köselerden birbirine preslendigi ve en dis iki katmanin bir islak maddenin ilave lokal uygulamalari nedeniyle bezin sulu sistem içerisindeki parçalanmasini kolaylastirmasi gerektigi US 5,667,635 numarali patentten bilinmektedir. Bu ürünün üretimi dezavantajli bir sekilde çok masraflidir ve ürün suya sokulduktan uzun bir süre sonra parçalanir.

DE 28 17 604 C2 numarali patentten, lif maddelerinden olusan bir dokudan ve doku içerisinde dagitilmis, dokunun lif doku malzemesini baglayan bir yapistirici baglayicisindan olusan önceden nemlendirilmis daha da yikanabilen bir temizleme bezi bilinmektedir; burada yapistirici baglayicisi, genellikle asit içerisinde / alkali içerisinde çözülebilen, asitli bir sivi içerisinde, baglayicinin bir inceltmesi karsisinda dokunun lifleri arasinda dayanikli olmasi gereken bir asitli polimerden Ancak burada, belirlenen bir kullanimdan önce bile, bu temizleme bezinin parçalanmasi dezavantajlidir, bu da sonraki bir kullanilabilirligi etkiler.

EP 0 372 388 A2 numarali patent, suda dagitilabilen liflerden olusan bir kumasa sahip olan, suda parçalanabilen bir temizleme bezi tarif etmektedir; burada kumasa, bir karboksil grubu, alkalik madenlerin iyonlarindan, mangan, kalay, kobalt ve nikel elementlerinden olusan gruptan seçilmis en az bir metal iyon içeren suda çözülebilen bir baglayici malzeme ve bir organik çözücü içeren, sulu temizleme maddesi islenmistir.

Ancak burada, suda parçalanabilen temizleme bezinin, islakliga karsi yüksek dayanikliliga sahip olmasi, böylece 50 mm x 50 mm büyüklügündeki bir temizlik bezinin, parçalanmasi için ancak yüksek mekanik enerji yüklemesi ile karistirilmasi (500 ml suda 90 sn'den fazla, 300 Upm ile) gerekmesi dezavantajlidir. kullanimi ile, 20 °C'de su içerisinde hacmen %2 çözelti olarak ölçülmüs 500 mPas - sn'ye kadar Viskosite içeren suda çözülebilen bir selüloz eter ile bir silindir haznesi, 2,55 sd'deki ölçüm haznesi MV ile baglanmis lifler içeren suda parçalanabilen bir doku lifi hattina odaklanmaktadir.

Ancak burada, suda parçalanabilen doku lif hattinin neme karsi dayanikliliga sahip olmamasi dezavantajlidir.

Ticari olarak elde edilebilen suda parçalanabilen bilinen nemli bezler bir yandan, yeterli bir mekanik nem dayanikliligina ulasmak için kismen agresif, gida maddeleri bakimindan sorunlu veya hatta alerji ve iltihaba sebep olabilen maddelere sahip olmalari dezavantajina sahiptir. Neme karsi dayaniklilik ancak diger yandan, nemli bezin bütünlügünün dezavantajli bir sekilde, düsük mekanik yüklemede bile parçalanacak sekilde kismen çok kuvvetli bir sekilde indirgenir; bu durum örnegin kullanimda ortaya çikabilir.

DE 600 26 460 T2 numarali patent, suya sokulabilen bir lifli bez yayimlamaktadir. Lif bezi, bir amino asitderivat, örnegin trimetil glisin içerebilir.

DE 0 926 299 A2 numarali patent, suda parçalanabilen bir temizlik bezi yayimlamaktadir. Temizlik bezi, söz konusu bir trimetil glisinin oldugu bir amino asitderivat olabilir.

DE 1 630 288 A1 numarali patent, suda parçalanabilen bir temizlik ürünü yayimlamaktadir. Temizlik ürünü, betain esas tensitler (deterjanlar) içerebilir. Tensitlerde söz konusu, alkilkarboksibetainler, alkil-sulfobetainler, alkilhidroksisulfobetainler, alkilamidokarboksibetainler, alkilamidosulfobetainler ve alkilamidohidroksisulfobetainler olabilir, burada alkil kökü 8 ila 24 karbon atomuna sahiptir.

Mevcut bulusun amaci bu nedenle, bir yandan uygulamada yeterli bir mekanik nem dayanikliligina ve diger yandan su içerisine sokulmasindan sonra yeterli parçalanabilirlige, yani düsük islak dayanikliligina sahip olan, böylece örnegin tuvalet borularinin tikanmadigi ve/veya aritma tesisinde atik suyun asil temizliginden önce giderilmesi gerekmedigi, neme karsi dayanikli, lif içerikli bir substrat hazirlamaktir.

Mevcut bulusun diger bir amaci, kolay ve hesapli bir sekilde üretilebilen, neme karsi dayanikli, lif içerikli bir substrat hazirlamaktir.

Amaca, Istem l'e göre neme karsi dayanikli, lif içerikli bir substrat ile ulasilir.

Substrat tercihen lifler, tercihen suda çözünen en az bir baglayici madde, suda çözünen en az bir amfoter amin ve tercihen sivi olan en az bir nemli madde içerir; burada tercihen suda çözünen en az bir baglayici, tercihen suda çözünen en az bir polisakkarite sahiptir veya bundan olusur ve burada suda çözünen en az bir polisakkarit, en az bir asit grubu içeren bir köke, tercihen karboksil grubu içeren köke sahiptir ve daha da tercihen, karboksimetilselüloz (CMC), karboksimetil nisasta (CMS) ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan, daha da tercihen karboksi metil selülozdan olusan gruptan seçilir, burada tercihen suda çözünen en az bir amfoter aminin, tercihen suda çözünen en az bir amino karbon asit, tercihen alanin, arginin, asparagin, asparagin asit, sitrullin, sistein, s- Metilsistein, kistin, kreatin, homosistein, homoserin, norlökin, 2-aminobutan asit, 2-amino-3-mer-kapto-3-metil-butanasit, 3- aminobutan asit, 2-amino-3,3-dimetilbutanasit, 4-aminobutan asit, 2-amino-Z-metilpropanasit, 2-amino-3- sikloheksilpropanasit, 3-aminopropanasit, 2,3- diaminopropanasit, 3-aminoheksanasit, gamma-karboksiglutamin asit (B-Aminopropan-l,1,3-trikarbonasit), Glutamin, glutamin asit, glicin, Histidin, hidroksiprolin, p-hidroksifenilglicin, izolökin, izovalin, lökin, lizin, Metiyonin, ornitin ((S)-(+)- 2,5-diaminopentanasit), fenilalanin, prolin, serin, treonin, triptofan, tirozin, valin maddelerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alanin, arginin, glisin, prolin, lizin, histidin, glutamin, glutamin asit, asparagin asit, ornitin maddelerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen alanin, arginin, glisin, prolin, lizin, ornitin maddelerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen, arginin, lizin, ornitin maddelerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen alanin, glicin, prolin maddelerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen histidin, glutamin, glutamin asit, asparagin asit maddelerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, olusan gruptan seçilmis tercihen alpha amino karbon asittir ve burada tercihen sivi olan en az bir nemli madde, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, l-propanol, 2-propanol, etan-l,2-diol, propan-1,2-diol, propan-l,3-diol, 1,2,3- propantriol ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, l-propanol, 2-propanol, etan-l,2-diol, propan-l,2-diol, propan- l,3-diol ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis ve opsiyonel olarak ayrica tercihen çok degerlikli metalkatyon, ayrica tercihen Caz& Zn2+ ve bunlarin karisimlarini, ayrica tercihen Ca2+ içeren en az bir organik bilesen içerir.

Bulusun tercih edilen bir uygulamasina göre, neme karsi dayanikli, lif içerikli substratin neme ve islakliga karsi dayanikliligi kontrol edilebilir. Baska bir deyisle, bulusa uygun lif içerikli substratin kirilabilirligi kontrol edilebilir.

Amaca ayrica, Istem 14'e göre bir yöntem ile ulasilir.

Amaca ayrica, Istem 15'e göre, neme karsi dayanikli, lif içerikli bir substratin kullanimi ile ulasilir.

Bulusun tercih edilen uygulamalari alt istemlerde verilmistir. çözünen en az bir polisakkarit içeren veya bu polisakkaritten olusan, en az bir asit grup içeren köke, ayrica tercihen karboksil grubu içeren köke sahip olan ve bulusa uygun substratin liflerini birbirine baglayabilecek. durumda olan bir polimer madde anlasilmaktadir. Örnegin en az bir baglayici, bulusa uygun substratin üzerine uygulanmasindan sonra fiziksel kuruma yoluyla liflere yapisabilir ve bunlari adhezyon ve kohezyon ile birbirine baglayabilir.

Tercihen suda çözünen en az bir polisakkarit içeren veya bundan olusan, tercihen suda çözünen, burada polisakkarit en az bir asit grubu içeren köke sahip oldugu en az bir baglayicida söz konusu farkli baglayicilar, örnegin 2, 3, 4 veya daha fazla, tercihen suda çözünen baglayici olabilir. Örnegin farkli baglayicilar farkli, tercihen suda çözünen polisakkaritler içerebilir veya bunlardan olusabilir; burada en az bir asit grubu içeren kök aynidir veya birbirinden farklidir. Örnegin asit grubu içeren köklerin sayisi molekül basina ilgili polisakkarit ve/Veya yapisi ile ayni veya bunlardan farkli olabilir.

Alternatif olarak farkli baglayicilar tercihen suda çözünen ayni polisakkariti içerebilir veya bundan olusabilir; burada baglayicilar örnegin, ilgili polisakkaritin bir molekülüne baglanmis asit grubu içerikli köklerin sayisi veya yapilari bakimindan farkli olabilir. "Amfoter amin" kavrami altinda, bulusa uygun bir sekilde, protonlar için hem akseptör hem de donatör olabilen, yani hem Brcnsted asidi hem de Bronsted bazi olarak isleyebilen tercihen organik bir baglanti anlasilmaktadir. Bulus bakimindan bir amfoter amin, tercihen protonlanabilir ve/Veya porotonlanmis en az bir amino grubuna ve yine tercihen protondan arindirilabilir ve/Veya protondan arindirilmis asit grubuna, ayrica tercihen karboksil grubuna sahiptir. Tercihen suda çözünen en az bir amfoter aminde söz konusu farkli, örnegin 2, 3, 4 veya daha fazla, tercihen suda çözünen amfoter aminler olabilir. Bir amfoter amin tercihen bir amino karbon asit ve/Veya bir tuz ve/veya bunun bir kompleksi, ayrica tercihen bir alfa amino asit ve/veya bir tuz ve/Veya bunun bir kompleksidir. Daha da tercihen, bir amfoter aminin bir tuzu tercihen amino karbon asit, ayrica tercihen alfa amino karbon asit, çok degerlikli bir metal katyonun bir tuzu, ayrica tercihen Caß, Znß've bunlarin karisimi, ayrica tercihen Ca”"dir. Daha da tercihen, bir amfoter aminin bir kompleksi tercihen amino karbon asit, ayrica tercihen alfa amino karbon asit, çok degerlikli bir metal katyonun bir tuzu, ayrica tercihen Ca”, Znß've bunlarin karisimi, ayrica tercihen Caß'dir. baglayicinin su içerisinde kabarma özelliklerini degistiren, tercihen en az bir baglayicinin kabarmasini nemli madde içerisinde bulunan su mevcudiyetinde gerçeklestiren bir madde veya bir bilesim anlasilmaktadir.

En az bir nemli madde bulusa uygun bir sekilde, alifatik alkoller, alifatiken eterler, alifatik esterler, monosakkaritler, oligosakkaritler ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilen en az bir organik bilesen En az bir nemli madde tercihen ayrica, suyu baglayarak ve/veya suyun buharlasmasini önleyerek ve/veya bulusa uygun substratin depolanmasinda hava nemini baglayarak bulusa uygun substratin kurumasini önler.

Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulamasinda bulusa uygun substrat, çözücü içerir, tercihen nemlidir. Bulusa uygun substrat ayrica tercihen, bulusa uygun substratin kuru durumda toplam agirligina bagli olarak, hacmen 6 50 ila hacmen 6 450, ayrica tercihen von hacmen 6 90 ila hacmen 6 390, ayrica tercihen von hacmen 6 110 ila hacmen 6 340, ayrica tercihen von hacmen 6 çözücü madde oranina, tercihen sivi bilesen oranina sahiptir.

Bulus sahipleri, tercihen suda çözünen en az bir polisakkarite sahip olan, burada poli saakaritin en az bir asid grubuna sahip oldugu, tercihen suda çözünen en az bir amfoter amin ve en az bir nemli maddeye sahip oldugu, burada en az bir nemli maddenin alifatik alkollerden, alifatiken eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin grubundan. olusan gruptan seçilen. en. az bir organik bilesene sahip oldugu tercihen suda çözünen en az bir baglayici kullanimi ile, bir tarafta, örnegin deri üzerinde sürtünme yoluyla kisa süreli gerilmede yeterli bir mekanik nem dayanikliligina sahip olan ve bütünlügünü kaybetmeyen, neme karsi dayanikli, lif içeren bir substrat hazirlamanin mümkün oldugunu sasirtici bir sekilde tespit etmistir. Neme karsi dayanikli, lif içeren bulusa uygun substrat, diger tarafta, suya sokulmasindan sonra su içerisinde yeterli bir parçalanma kabiliyetine, yani düsük islaklik dayanikliligina sahiptir, böylece örnegin tuvalet üzerinden giderme durumunda atik su borusundaki tikanmalar önlenebilir veya bulusa uygun substrat, aritma tesisinde, atik suyun asil temizliginden önce çikarilmamalidir. Neme karsi dayanikli, lif içeren bulusa uygun substrat, bunun ötesinde uzun depolamadan sonra da yeterli bir mekanik saglamliga sahiptir. bulusa uygun olan bir substratin en az bir organik bilesen içeren sulu sivinin mevcudiyetindeki dayanikliligi anlasilmaktadir; burada en az bir organik bilesen, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. "Neme karsi dayaniklilik" tercihen, bir analog serit burada tercihen nemli substrat dogrudan ölçülür.

Neme karsi dayanikli, lif içeren bulusa uygun bir substrat, standardina göre serit çekme deneyi vasitasiyla, 20 °C'de ve %65 degerindeki bir izafi nemlilikte, 3 N'den fazla, tercihen 3 N ila 250 N araliginda, ayrica tercihen 4 N ila 150 N araliginda, ayrica tercihen 4,5 N ila 120 N araliginda, ayrica tercihen 5 N ila 80 N araliginda, ayrica tercihen 6 N ila 55 N araliginda nem dayanikliligina sahiptir.

Bulus sahipleri, bulusa uygun bir substratin neme karsi dayanikliliginin, substrat içerisinde bulunan bilesenlerin miktarlarinin degisiklik göstermesi ile ilgili bilesenlerin asagida verilen sinir degerleri içerisinde ayarlanabilecegini tespit etmistir. Bulusa uygun olan bir substratin neme karsi dayanikliligi tercihen, bulusa uygun olan bir substratin ilgili kullanimina göre belirlenebilir.

Neme karsi dayanikli, lif içeren bulusa uygun bir substrat, örnegin nemli tuvalet kagidi olarak gelistirmesinde, DIN EN ISO çekme deneyi vasitasiyla, 20 °C'de ve %65 degerindeki bir izafi nemlilikte 8 PI ila 14 N araliginda, tercihen 10 N ila 12 N araliginda bir nem dayanikliligina sahiptir. Örnegin 8 N'den az olan bir nem dayanikliligi, nemli tuvalet kagidi olarak kullanimda çok düsük mekanik dayanikliliga yol açar. Buna karsin, 14 N'den fazla olan bir nem dayanikliligi, nemli tuvalet kagidi olarak gelistirmesinde, kullanimda çok kati veya çok dayanikli temas hissini etkiler. Örnegin nem dayanikliligi ayrica, bulusa uygun bir substratin planlanan bir kullanimi için aritilmis bir mekanik saglamlik gerekliyse veya bulusa uygun olan bir substratin temasa yönelik özellikleri, örnegin kabariklik, yumusaklik ve/veya kavrayabilirlik, ikinci dereceden bir anlama sahipse artirilabilir.

Bulus sahipleri, bulusa uygun olan bir substratin nem dayanikliliginin artirilmasina ragmen substratin suya sokulmasindan sonra yine tamamen parçalandigini tespit etmistir.

Parçalanmadan sonra yalnizca lifler bulunur. uygun olan bir substratin suyun tasmasi durumundaki dayanikliligi anlasilmaktadir. Bulusa uygun olan bir substratin islakliga karsi dayanikliligi tercihen, DIN EN 18012625, Bölüm (Çikis tarihi: 2005-09) "Genislik bakimindan islaklik kirilmasinin belirlenmesi" standardina göre bir islak çekme deneyi vasitasiyla belirlenebilir.

Neme karsi dayanikli, lif içeren bulusa uygun bir substrat, DIN islak serit çekme deneyi vasitasiyla, 20 °C'de ve %65 degerindeki bir izafi nemlilikte belirlenmis sekilde, en fazla 2 N, tercihen en fazla 1 N, tercihen en fazla 0,5 N degerindeki bir islaklik dayanikliligina sahiptir.

Yukarida belirtilen sekilde belirlenmis sekilde, 3 N'den fazla, tercihen 3 N ila 250 N araliginda, ayrica tercihen 6 N ila 210 N araliginda, ayrica tercihen 4 N ila 150 N araliginda, ayrica tercihen 4,5 N ila 120 N araliginda, ayrica tercihen 5 N ila 80 N araliginda, ayrica tercihen. 6 N ila 55 N araliginda nem dayanikliligina sahip olan bulusa uygun bir substrat tercihen, suya sokulduktan sonra yine tercihen tamamen parçalanabilir durumdadir; burada substratin islakliga karsi dayanikliligi, ayrica tercihen, yukarida belirtildigi gibi en fazla 2 N, tercihen en fazla 1 N, ayrica tercihen en fazla 0,5 N'dir.

Bulusa uygun olan bir substrat, suya sokulduktan sonra, 1 saatten az bir süre içerisinde, tercihen 15 dk'den az bir zaman araliginda, tercihen 1 dk'den az bir zaman araliginda, tercihen sn'den az bir zaman araliginda, ayrica tercihen 10 sn'lik bir zaman araliginda ila 1 saatten az bir sürede, ayrica tercihen 30 sn'den az bir zaman araliginda ila 30 dk'den az bir sürece, ayrica tercihen 1 dk'den az bir zaman araliginda ila 15 dk'den az bir sürede tamamen parçalanir. Parçalanmadan sonra tercihen yalnizca lifler bulunur.

Neme karsi dayanikli, lif içeren substrat, bulusa uygun bir sekilde, liflerin yaninda, tercihen suda çözünen en az bir polisakkarit içeren veya bundan olusan, tercihen suda çözünen en az bir baglayici, suda çözünen en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içerir; burada, suda çözünen en az bir polisakkarit en az bir asit grubu içeren köke sahiptir.

En az bir amfoter amin, tercihen, en az bir baglayici ile birlikte, en az bir nemli madde ile birlikte genellikle çözünmeyen veya dagitilamayan en az bir poli tuza ve/veya polimer yigisiga sahiptir. bir asit grubuna, ayrica tercihen karboksil grubu içeren köke sahip olan, tercihen suda çözünen en az bir polisakkarite sahip olan veya bundan olusan, karsilikli yüklenmis bir grup ile tercihen iyonik bir bilesim olustura bir polimer madde anlasilmaktadir.

Polisakkarite baglanan, iyonik bir sekilde ayirilmis grup tercihen, anyonik yüklenmis bir grup, tercihen protonlarindan arindirilmis asit grubu, ayrica tercihen karboksilat grubudur.

Bir poli tuzun olusturulmasinda tercihen, en az bir baglayicinin anyonik yüklenmis islevsel gruplari, örnegin, en az bir asit grubu içeren kökün protonlarindan arindirilmis asit gruplari ve en az bir amfoter aminin katyonik yüklenmis islevsel gruplari, örnegin iyonik degisim etkisine karsin yüklenmis kökleri ile birbirine baglanabilir, böylece tercihen çözünebilirlik, en az bir nemli maddenin mevcudiyetinde kisitlanir veya elimine En az bir, tercihen suda çözünen amfoter aminin ve en az bir nemli maddenin, tercihen suda çözünen en az bir baglayici ile birlikte kullanimi ile böylece lif içeren bulusa uygun bir substratin neme karsi dayanikliligi, örnegin mekanik etkilemede Lif içeren substratin suya, örnegin sebeke suyuna, az kirlenmis atik suya veya atik suya sokulmasindan sonra, en az bir organik bilesene sahip olan tercihen en az bir nemli madde seyreltilir veya suda çözülür. Böylece, tercihen suda çözünen en az bir baglayicida su yataklanabilir veya tercihen suda çözünen en az bir baglayici su alabilir, böylece suda çözünen en az bir baglayici kabarabilir. Bu sekilde tercihen baglayicinin baglanma özelligi azaltilir veya çözülür. Örnegin, bulusa uygun substratin, nötr veya alkalik bir pH degerine sahip olan suya sokulmasindan sonra ayrica, poli tuzun kismi, tercihen tamamen çözünmesi ortaya çikabilir. Bu sekilde, en az bir baglayicinin suda çözünebilirliginin ve/Veya suda dagitilabilirliginin yükselmesi ortaya çikabilir, böylece bulusa uygun substratin yapisal bütünlügü zayiflatilir veya bozulur.

Böylece, bulusa uygun substratin içerisindeki liflerin arasindaki lif yapilari ve/Veya baglantilar gelistirilebilir, gevsetilebilir, zayiflatilabilir, gerdirilebilir ve/Veya bozulabilir. Mekanik etkiler, örnegin atik su içerisinde ortaya çikan akinti etkileri ile bulusa uygun substratin yapisal bütünlügü daha da zayiflatilir, tercihen bozulur.

Atik suyun pH degeri genelde 7,0 ila 8,5 araligindadir.

En az bir baglayicinin lif içeren bir substrat üzerinden uygulanmasi ve katilastirilmasindan sonra, baglayici içerikli, lif içeren substratin lifleri en azindan kismen, tercihen tamamen en az bir baglayici ile birbirine baglanir. En az bir amfoter aminin baglayici içerikli, lif içeren substrat üzerine uygulanmasindan sonra en az bir baglayici ve en az bir amfoter amin tercihen kismen, ayrica tercihen tamamen poli tuz ve/veya polimer yigisik olarak bulunur.

En az bir amfoter amin, alternatif olarak, en az bir baglayici ile birlikte lif içeren bir substrat üzerine uygulanabilir; burada en az bir baglayici ve en az bir amfoter amin ayni sekilde tercihen kismen, ayrica tercihen tamamen poli tuz ve/Veya polimer yigisik olarak bulunur.

Yukarida belirtilen en az bir organik bilesene sahip olan en az bir nemli maddenin lif içeren bir substrat üzerine uygulanmasindan sonra bulusa uygun bir substrat elde edilir. En az bir nemli maddenin uygulanmasi örnegin, en az bir nemli maddenin ve en az bir amfoter aminin ayri uygulamasi ve/veya en az bir nemli maddeye ve en az bir amfoter amine sahip olan karisimin uygulanmasi ile en az bir amfoter amin ile birlikte gerçeklesebilir.

Bulusa uygun substratin, tercihen, 7,0'dan büyük veya buna esit bir pH degerine sahip olan suya sokulmasinda, tercihen, yukarida belirtilen en az bir organik bilesene sahip olan en az bir nemli madde seyreltilir veya suda çözünür, böylece substrat lif büyüklügüne kadar ayristirilir. Parçalanmadan sonra tercihen yalnizca lifler bulunur.

Burada en az bir baglayiciya ve/Veya en az bir amfoter amine su yataklanabilir; burada tercihen poli tuz ve/Veya polimer yigisik kismen, ayrica tercihen tamamen çözülür. Poli tuzun ve/Veya polimer yigisigin kismen, tercihen tamamen çözülmesi ile en az bir amfoter amin ve ayi az bir baglayici arasindaki temas en azindan kismen, tercihen tamamen kesilebilir.

En az bir baglayici ve en az bir amfoter amin arasinda temasin kesilmesi, örnegin poli tuzun ve/Veya polimer yigisigin çözülmesi ile suyun en az bir baglayiciya yataklanmasi kolaylastirilabilir ve/Veya en az bir baglayicinin suda Çözünebilirligi yükseltilebilir.

En az bir baglayici, örnegin hidrojen köprü baglantisi üzerinden bulusa uygun substratin liflerine baglanabilir.

Bulusa uygun substratin 7,0'dan büyük veya esit pH degerine sahip olan suya sokulmasinda oksijen köprü baglarinin yükselmesi ortaya çikabilir ve bulusa uygun substratin en az bir baglayicisi ve lifleri arasindaki baglar en azindan kismen, tercihen çözülür, böylece en az bir baglayici liflerden çözülebilir.

Mevcut bulusta anilan su pH degerleri tercihen standart sartlar altinda (25°C, 1013 mbar) ölçülür.

Bulusa uygun bir sekilde kullanilan bir baglayici, en az bir oksijen grubu içerikli köke sahip olan, suda çözünen en az bir polisakkarite sahiptir veya bundan olusur. veya farkli monosakkaritlerden olusan ve dogrusal veya dallanmis bir molekül yapisina sahip olabilen homo polisakkaritler, hetero polisakkaritler ve bunlarin karisimlari anlasilmaktadir.

Yüksek moleküler polisakkarit bipolimerler, bir endüstriyel kullanim için tercihen termik - mekanik ve/veya kimyasal ve/veya enzimatik degistirmeyle kismen olusturulabilir ve/veya islevsellestirilebilir. Islemden elde edilen, su içerisindeki kismi ayirilmis ve/veya degistirilmis polisakkaritler tercihen daha iyi çözünür duruma gelir, çözeltiler daha saglam olur ve/veya bundan olusturulmus kaplamalar veya yüzey filmleri daha yüksek katilik ve bag kuvveti olusturur.

Bir polisakkaritin bir çözeltisi tercihen, polisakkaritin termik - mekanik ve/veya kimyasal ve/veya enzimatik degistirmesi ile dinamik viskositede, çözeltinin ilgili görev sürecinde sorunsuz bir sekilde kullanilabilir.

Tercih edilen bir uygulamada, çözeltinin toplam agirligina bagli olarak, tercihen suda çözünen, en az bir asit grubu içerikli köke sahip olan en az bir polisakkaritin çözeltisinin hacmen %2 kadari, su içerisinde 20 °C'de, tercihen, silindir ölçüm tertibatina, ölçüm haznesine sahip olan, 2,55 s*1 dönme sayisindaki bir Haake®Viscotester®550 tip Searle-döner visko metresi (Thermo Fisher Scientific Inc., Karlsruhe, DE) vasitasiyla belirlenmis sekilde, 1 mPa-s ila 10000 mPa-s araligindaki, tercihen 50 mPa 5 ila 3000 mPa-s araligindaki, ayrica tercihen 550 mPa 8 ila 2500 mPa s araligindaki bir dinamik viskositeye sahiptir.

Bir polisakkaritin degistirilmesine veya bilesimine göre tercihen, degistirilmis bir polisakkaritin çözeltileri farkli bir dagilmaya, tercihen poli dagilmaya sahip olabilir. Örnegin, degistirilmis bir polisakkaritin çözeltileri, tercihen çözeltinin dinamik viskositesinin, örnegin çözeltinin ayarlanabilir bir Visko esnekligi ve/Veya yapisal esnekligi ile kullanilan uygulama sistemine uyarlanmasini saglayan degisken bir molekül kütlesi bilesimine sahip olabilir. Örnegin, deistirilmis bir polisakkaritin bir çözeltisi, örnegin bir glikozit bag ile birbirine baglanmis farkli sayidaki monosakkaritlerden kurulmus polisakkarit moleküllerine sahip olabilir. Degistirilmis bir polisakkaritin bir çözeltisi ayrica monosakkaritler ve/veya oligosakkaritler içerebilir.

Bir oligosakkarit tercihen, bir glikozit bag vasitasiyla birbirine bagli olan 2 ila 9 esit veya farkli monosakkarite sahiptir.

En az bir asit grubu içeren köke sahip olan, tercihen suda çözünen en az bir polisakkarit, bir glikozit bag vasitasiyla birbirine bagli olan lO, tercihen 50 esit veya birbirinden farkli monosakkarite sahiptir. En az bir asit grubu içeren köke sahip olan, tercihen suda çözünen en az bir polisakkarit, bir glikozit ila 2000 esit veya birbirinden farkli monosakkarite sahiptir.

Uygun polisakkaritler dallanmis veya dallanmamis, tercihen dallanmamis olabilir.

Tercih edilen bir uygulamada, suda çözünen en az bir polisakkarit, selüloz, hemiselüloz, nisasta, agaroz, algin, alginat, chitin, pektin, kauçuk arabikum, ksantan, guaran veya bunlarin karisimi, tercihen selüloz, hemiselüloz, nisasta veya bunlarin karisimi, tercihen selüloz, hemiselüloz veya bunlarin Hemiselüloz, örnegin bitkisel biyokütleden elde edilebilen, degistirilebilir bilesimdeki polisakkaritlerin dogal ortaya çikan karisimlari için bir üst kavramdir.

Hemiselülozlarin polisakkaritleri farkli monosakkaritlerden olusturulabilir. Çogu zaman ortaya çikan monosakkaritler tercihen, örnegin glukoronik asit, metil glukoronik asit ve/Veya galakturon asit gibi hexuron gruplarindan seçilen pentozlar, örnegin ksilozlar ve/veya arabinozlar, heksosenler, örnegin glükozlar, mannozlar ve/veya galaktozlar ve degistirilmis monosakkaritler, örnegin seker asitler, tercihen üron asitler veya dözoksi monosakkaritler, tercihen dezoksiheksozlar, örnegin ramnozlardir.

Bir dezoksi monosakkarit tercihen, en az bir OH grubunun bir hidrojen atomu ile degistirildigi bir monosakkarittir.

Selüloz, tercihen dallanmamis bir polisakkarittir. Selüloz tercihen 50 ila 1000 araligindaki sellobiyoz birimlerdir.

Sellobiyozlar, ß-l,4-glikozit sekilde birbirine baglanmis, iki glikoz moleküllerden olusan bir dizakkarittir. ila 2000 arasinda glikoz moleküllerine sahiptir.

Nisasta, d-glikozit baglar ile birbirine baglanmis, D glikoz birimlerinden kurulmus bir polisakkarittir. bulus bakimindan nisasta altinda ayni sekilde amilozlar, amilopektin ve bunlarin karisimlari, tercihen amilozlar anlasilmaktadir.

Amilozlar, d-l,4-glikozit baglar ile birbirine baglanmis, D glikoz birimlerinden kurulmus, dallanmamis bir polisakkarittir.

Amilopektin, d-l,4-glikozit baglar ile birbirine baglanmis, D glikoz birimlerinden kurulmus, dallanmis bir polisakkarittir.

Bütün 15-30 monomerlere, D glikoz birimlerinden kurulmus, d-1,4- glikozit baglar ile birbirine baglanmis, d-l,6-glikozit baglar ile birbirine baglanmis bir yan zincir baglanabilir. Bir yan zincir tercihen, d-l,4-glikozit baglar ile birbirine baglanmis en az bes glikoz birimine sahiptir. Bir yan zincir ayrica tercihen, d-l,4-g1ikozit baglar ile birbirine baglanmis 7 ila 60 glikoz birimine, tercihen 10 ila 50 glikoz birimine, tercihen 12 ila 30 glikoz birimine sahiptir.

Bulusa uygun bir sekilde baglayici olarak kullanilan bir polisakkarit, polisakkarit ile tercihen bir eter grubu vasitasiyla bagli olan en az bir asit grubu içeren köke sahiptir.

En az bir polisakkarit ve en az bir asit grubu içeren kök burada tercihen, asit grubu içeren köklere sahip en az bir polisakkaritin monosakkarit birimlerinin hidroksi gruplarinin hidrojen atomlarinin kismen veya tamamen degistirilmesi vasitasiyla bir polisakkarit eter içerir; burada asit grubu içeren kökler esit veya birbirinden farkli olabilir. veya diger protonlanabilir çözücüler ile dengeli bir tepkiye girebilen organik kökler anlasilmaktadir. Burada su durumunda tercihen oksonyum iyon Hjý olusur, bu sirada asit grubu içeren kök su çözücüsüne bir proton verir ve anyonik yüklenmis islevsel bir grup, tercihen bir karboksilat grubu olusturur. içeren kökler, fosfat içeren kökler, fosfon asidi içeren kökler ve bunlarin karisimlari, ayrica tercihen karboksil gruplari En az bir asit grubu içeren kök, ayrica tercihen en az bir -0- alkilkarboksil-kök, en az bir -O-alkilfofat-kök, en az bir -0- alkilfosfonasit-kök veya bunlarin bir karisimi, tercihen en az bir -O-alkilkarboksil-köktür; burada düz Zincirli veya dallanmis olabilen alkil kökü, birbirinden bagimsiz olarak, 1 ila 4 karbon atomna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l karbon atomuna sahiptir.

Bulusun tercih edilen bir uygulamasinda, en az bir asit grubu içerikli kök, karboksil grubu içeren bir kök, tercihen bir alkilkarboksil grubu içeren kök, ayrica tercihen bir -0- alkilkarboksil-köktür; burada düz zincirli veya dallanmis olabilen alkil kökü, birbirinden bagimsiz olarak, 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l karbon atomuna sahiptir.

Tercihen en az bir polissakkarit ve en az bir asit grubu içeren kök, tercihen -O-alkilkarboksil-kök, -O-alkilfoshat-kök, -O- alkilfosfonasit-kök veya bunlarin bir karisimi, ayrica tercihen -O-alkilkarboksil-kök, birbirinden bagimsiz olarak esit veya birbirinden farkli olabilen asit grubu içerikli kökler, tercihen alkilkarboksil-kökler, alkilfoshat-kökler, alkilfosfonasit- kökler veya bunlarin karisimlarini, ayrica tercihen alkilkarboksil-kökler içeren en az bir polisakkaritin monosakkarit birimlerinin hidroksi gruplarinin hidrojen atomlarinin kismen veya tamamen degistirilmesi vasitasiyla bir polisakkarit eter olusturur; burada düz Zincirli veya dallanmis olabilen alkil kökü, 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l karbon atomuna sahiptir.

Bulusa uygun bir sekilde baglayici olarak kullanilan bir polisakkarit tercihen, yukarida belirtilmis en az bir asit grubu içeren kök, tercihen en az bir karboksil grubu içeren kök, tercihen en az bir -O-alkilkarboksil-kök vasitasiyla bir ortalama sübstitüsyon derecesine (DS) sahiptir; burada düz Zincirli veya dallanmis olabilen alkil kökü, 0,4 ila 2,0'dan fazla olan aralikta, tercihen 0,5 ila 1,5 araliginda, tercihen 0,6 ila l,l araliginda, tercihen 0,7 ila 0,9 araliginda 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l karbon atomuna sahiptir.

Ortalama sübstitüsyon derecesi (DS), asit grubu içeren köklerin, tercihen karboksil grubu içeren köklerin, tercihen -O- alkilkarboksil-köklerin ortalama sayisi ile ilgilidir; burada düz Zincirli veya dallanmis olabilen alkil kök, tercihen bir eter bag vasitasiyla monosakkarit birimi basina baglanmis 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l karbon atomuna sahiptir.

Tercihen yukarida belirtilmis asit grubu içerikli kökler, tercihen karboksil grubu içeren kökler, tercihen yukarida belirtilmis -O-alkilkarboksil-kökler esit veya birbirinden farkli olabilir.

Farkli asit grubu içerikli kökler, tercihen karboksil grubu içerikli kökler, tercihen -O-alkilkarboksil-kökler monosakkarit birimlerine bagli ise ortalama sübstitüsyon derecesi (DS), mol monosakkarit birimleri basina tercihen bir eter bagi vasitasiyla baglanmis yukarida belirtilmis bütün asit grubu içeren köklerin, tercihen karboksil grubu içeren köklerin, tercihen -O- alkilkarboksil-köklerin ortalama sayisi ile ilgilidir.

Asagida ortalama sübstitüsyon derecesi (DS), en az bir asit grubu içeren kök, tercihen en az bir karboksil grubu içeren kök, tercihen en az bir -O-alkilkarboksil-kök vasitasiyla "ortalama sübstitüsyon derecesi (DS)" olarak ifade edilmistir.

Polisakkaritin, asit grubu içeren kökleri, tercihen karboksil grubu içeren kökleri, tercihen -O-alkilkarboksil-kökler ile ortalama sübstitüsyon derecesi (DS), ASTM D 1439 - 03 / B yöntemine benzesim içerisinde, krboksimetilselülozun natriyum tuzu için tarif edilen yöntemle belirlenebilir.

Tercihen en az bir asit grubu içeren köke, tercihen en az bir karboksil grubu içeren köke, tercihen en az bir -0- alkilkarboksil-köke sahip olan uygun bir polisakkarit, ayrica, birbirinden bagimsiz olarak düz zincirli veya dallanmis olabilen ve 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 karbon atomuna sahip olan alkil köklere, birbirinden bagimsiz olarak düz zincirli veya dallanmis olabilen ve 1_ ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 karbon atomuna sahip olan hidroksialkil köklere sahip olabilir veya bunlarin bir kombinasyonunu içerebilir; burada alkil kökler ve/veya hidroksialkil kökler tercihen ayni sekilde, polisakkaritin monosakkarit birimlerine bir eter bagi ile baglanmistir.

Suda çözünen en az bir baglayici, karboksialkil-polisakkaritten, karboksialkil-alkil-polisakkaritten, karboksialkil- hidroksialkil-polisakkaritten, karboksialkil-alkil- hidroksialkil-polisakkaritten ve bunlarin karisimlarindan, tercihen karboksialkil-polisakkaritten olusan gruptan seçilmis, tercihen suda çözünen en az bir polisakkaritte sahiptir veya bundan olusur; burada yukarida belirtilmis alkil kökler, birbirinden bagimsiz olarak düz Zincirli veya dallanmis olabilir ve 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen 1 ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l karbon atomuna sahip olabilir.

Suda çözünen en az bir baglayici, karboksimetil-polisakkaritten, karboksimetil-metil-polisakkaritten, karboksimetil- hidroksimetil-polisakkaritten, karboksimetilmetilhidroksimetil- polisakkaritten ve bunlarin karisimlarindan, tercihen karboksimetil-polisakkaritten olusan gruptan seçilmis, tercihen suda çözünen en az bir polisakkaritte sahiptir veya bundan Suda çözünen en az bir baglayici, karboksialkil-selülozlardan, karboksialkil-alkil-selülozlardan, karboksialkil-hidroksialkil- selülozlardan ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis, tercihen suda çözünen en az bir polisakkaritte sahiptir veya bundan olusur; burada yukarida belirtilmis alkil kökler, birbirinden bagimsiz olarak düz Zincirli veya dallanmis olabilir ve 1 ila 4 karbon atomuna, tercihen 1 ila 3 karbon atomuna, tercihen J. ila 2 karbon atomuna, ayrica tercihen l Ayrica tercihen suda çözünen en az bir baglayici, karboksimetilselülozdan (CMC), karboksimetilnisastadan (CMS), karboksietilselülozdan (CEC), karboksipropilselülozdan, karboksimetil-metilselülozdan (CMMC), karboksimetiletilselülozdan, karboksimetilpropilselülozdan, karboksietilmetilselülozdan, karboksietiletilselülozdan, karboksimetilhidroksimetilselülozdan, karboksimetilhidroksietilselülozdan (CMHEC), karboksimetilhidroksipropilselülozdan, karboksietilhidroksimetilselülozdan, karboksietilhidroksietilselülozdan ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen karboksimetilselülozdan, karboksimetilnisastadan, karboksietilselülozdan, karboksipropilselülozdan ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen karboksimetilselülozdan, karboksimetilnisastadan ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen karboksimetilselülozdan olusan gruptan seçilmis, tercihen suda çözünen en az bir polisakkaritte sahiptir veya bundan olusur.

Karboksimetil gruplari vasitasiyla. bir ortalama sübstitüsyon derecesine (DS) sahip olan karboksimetil selülozdan (CMC) tercihen suda çözünen en az bir baglayici, anhidroglükoz birimi basina, ASTM D 1439 - 03 / B yöntemine göre belirlenmis sekilde, tercihen 0,4 ila 1,5 araligindan fazla, tercihen 0,6 ila 1,1 araliginda, tercihen 0,7 ila 0,9 araliginda tercihen bir alkali metal tuzu, tercihen natriyum tuzu içerir veya bundan olusur.

Ticari olarak elde edilebilen, tercihen suda çözünen uygun baglayicilar, Ugur Seluloz Kimya (Aydin, TR) sirketinden alinabilen natriyum karboksimetilselülozlart Rheolon® 30, 30N Rheolon® ve 1000G Rheolon®'dur.

Ticari olarak elde edilebilen diger baglayicilar örnegin, CP Kelco Germany GmbH (Grossenbrode, DE) sirketinden elde edilebilen Caleksis® ve Finnfix® çesitlerindeki karboksimetilselülozlardir.

Bulusa uygun bir substrat tercihen, en az bir baglayiciya, kuru substratin yüzeyi bakimindan, 1 g/m2 ila 30 g/m2 araliginda, tercihen 2 g/m2 ila 20 g/m2 araliginda, ayrica tercihen 1,3 g/m2 ila 17 g/m? araliginda, ayrica tercihen 3,0 g/m2 ila 15 g/m2 araliginda, ayrica tercihen 3,5 g/m2 ila 13 g/m2 araliginda, ayrica tercihen 4 g/m2 ila 11 g/m2 araliginda, ayrica tercihen 4,5 g/m2 ila 9 g/m2 araliginda sahiptir.

Bulusa uygun substrat, bulusa uygun bir sekilde, en az bir baglayici ile birlikte tercih bir poli tuz ve/veya bir polimer yigisik olusturan, suda çözünen en az bir amfoter amin içerir. protonlanabilir ve/veya protonlanmis, tercihen birincil amino gruplarindan, ikincil amino gruplarindan, üçüncül amino gruplarindan ve bunlarindan karisimlarindan, tercihen birincil amino gruplarindan, ikincil amino gruplarindan ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis en az bir amino grubuna ve tercihen en az bir karboksil grubu olan bir asit grubuna sahip olan bir organik bag anlasilmaktadir.

Uygun bir amfoter amin tercihen, protonlanabilir ve/veya protonlanmis en az bir amino grubuna sahiptir. Ayrica tercihen, uygun bir amfoter amin bu nedenle, en az bir amino grubunun protonlanmasindan sonra, en az bir baglayicinin anyonik yüklenmis islevsel gruplari, örnegin protonlarindan arindirilmis asit gruplari ile, örnegin karsilikli yüklenmis köklerin elektrostatik çekimi vasitasiyla bir poli tuz olusturabilir.

Ayrica tercihen bir amfoter amin, bulus bakimindan, tercihen protonlanabilir ve/veya protonlanmis bir birinci amino grubuna ve bir birinci asit grubuna, tercihen karboksil grubuna ve opsiyonel olarak bir ikinci, tercihen protonlanabilir ve/veya protonlanmis asit grubuna ve/Veya bir ikinci asit grubuna, tercihen karboksil grubuna sahiptir.

Bulus bakimindan bir amfoter amin, devamli pozistif yüklenmis azot atomlarina, ayrica tercihen dördüncül ammoniyum gruplarina, örnegin tetraalkilamino gruplarina sahip degildir.

Uygun amfoter aminler tercihen, sübstite edilmemis veya sübstite edilmis tercihen 2 ila 36 arasinda karbon atomlarina sahip olan amino karbon asitlerinden, bunlarin tuzlarindan, komplekslerinden ve karisimlarindan olusan gruptan seçilebilir.

Tercihen 2 ila 36 karbon atomuna sahip olan, sübstite edilmemis veya sübstite edilmis olabilen. uygun amino karbon asitleri, tercihen en az bir karboksil grubu ve en az bir amino grubu içeren organik baglardir. Uygun amino karbon asitleri tercihen klor, brom, iyon, tiyon gruplari veya bunlarin kombinasyonlari Uygun amino karbon asitleri tercihen alpha amino karbon asitleridir. Uygun amino karbon asitleri ayrica tercihen, alanin, arginin, asparagin, asparagin asit, sitrullin, sistein, S-metilsistein, kistin, kreatin, homosistein, homoserin, norlökin, 2-aminobutan asit, 2-amino-3-merkapto-3-metil- butanasit, 3-aminobutan asit, 2-amino-3,3-dimetilbutanasit, 4- aminobutan asit, 2-amino-Z-metilpropanasit, 2-amino-3- sikloheksilpropanasit, 3-aminopropanasit, 2,3- diaminopropanasit, 3-aminoheksanasit, gamma-karboksiglutamin asit (3-aminopropan-l,1,3-trikarbonasit), glutamin, glutamin asit, glisin, histidin, hidroksiprolin, p-hidroksifenilglisin, izolökin, izovalin, lökin, lizin, metiyonin, ornitin ((S)-(+)- 2,5-diaminopentanasit), fenilalanin, prolin, serin, threonin, triptofan, tirozin, valin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alanin, arginin, glisin, prolin, lizin, histidin, glutamin, glutamin asit, asparagin asit, ornitin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen alanin, arginin, glisin, prolin, lizin, ornitin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen arginin, lizin, ornitin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen alanin, glisin, prolin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen histidin, glutamin, glutamin asit, asparagin asit, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Ayrica tercihe edilen bir uygulamada en az bir amfoter amin, tercihen 2 ila 36 karbon atomlarina sahip olan, sübstite edilmemis veya klor, brom, iyot, tiyol gruplari, hidroksil gruplari veya bunlarin karisimlari ile sübstite edilmis olabilen yukarida belirtilmis amino karbon asitlerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Ayrica tercihen, çok degerli metal katyonlar tercihen, yukarida belirtilmis amino karbon asit tuzlarindan birine ve/veya komplekslere sahip olan Ca2h Zn2+ ve bunlarin karisimlarini, ayrica tercihen Caß'olusturabilir.

Yukarida belirtilmis amfoter aminler, tercihen yukarida belirtilmis amino karbon asitleri ayrica tercihen, çok degerli metal katyonlarin tuzlari ve/Veya kompleksleri, ayrica tercihen Ca%, Zn?+ ve bunlarin karisimlari, ayrica tercihen Ca2+ olarak kullanilabilir.

Bulus sahipleri, en az bir amfoter aminin, tercihen en az bir amino karbon asitin ve/veya bunlarin bir tuzunun ve/veya bunlarin bir kompleksinin kullanimi ile bulusa uygun substratin kontrol edilebilir kirilabilirliginin iyilestirildigini tespit etmistir.

Tercihen en az bir amfoter amin, tercihen 2 ila 36 karbon atomuna sahip olan, sübstite edilmemis veya klor, bronu iyot, tiyol gruplari, hidroksil gruplari veya bunlarin karisimlari ile sübstite edilebilen en az bir amino karbon asit ve/Veya bunlarin bir tuzu ve/veya bunlarin bir kompleksi, tercihen suda çözünen en az bir polisakkaritin tercihen en az bir asit grubu içerikli kök, tercihen karboksil grubu içerikli kök ile birlikte, bulusa uygun bir substrat üzerine uygulanmasindan sonra bir poli tuz olusturur.

Tercihen en az bir amfoter amin, ayrica tercihen en az bir amino karbon asit, su içerisinde 25 °C'de 9 g/l sudan büyük, aryica tercihen 11 g/l sudan büyük, ayrica tercihen 20 g/l sudan büyük degerde bir çözünürlüge sahiptir; burada suyun pH degeri 7,0'dir.

Tercihen bulusa uygun bir substrat, mevcut bulusun kuru substratinin toplam agirligina bagli olarak hacmen % 0,1 ila hacmen % 30 araliginda, tercihen hacmen % 0,5 ila hacmen % 20 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 0,7 ila hacmen % 17 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 2 ila hacmen araliginda, ayrica tercihen hacmen % 3,3 ila hacmen % 13 araliginda oranlarinda, sübstite edilmemis veya sübstite edilmis olabilen, tercihen 2 ila 36 karbon atomuna sahip olan yukarida belirtilmis amino karbon asitlerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan olusan tercihen en az bir amfoter amine sahiptir.

Bulusa uygun bir substrat ayrica en az bir nemli madde içerir; burada en az bir nemli madde, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerlerden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilen en az bir organik bilesen En az bir nemli madde, standart sartlar altinda (25 °C sicaklik, 1013 mbar basinç) kati veya sivi, tercihen sivi olabilir.

Lif içeren substrat tercihen, standart sartlar altinda sivi, tercihen sulu bir nemli madde içerir; burada en az bir organik bilesen, standart sartlar altinda (25 °C sicaklik, 1013 mbar basinç) kati veya sivi, tercihen sivi olabilir. Örnegin standart sartlar altinda kati olan bir organik bilesen, standart sartlar altinda sivi olan bir nemli maddede çözülmüs ve/veya dagitilmis sekilde bulunabilir.

En az bir organik bilesen, bulusa uygun bir sekilde, alifatik alkollerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Uygun alifatik alkoller asiklik veya siklik ve doymus veya doymamis olabilir. Uygun alifatik alkoller tercihen doymus, ayrica tercihen asiklik ve doymustur.

Uygun alifatik alkoler, düz Zincirli veya dallanmis olabilen tercihen 1 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 6 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 4 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 3 karbon atomuna ve en az bir OH grubuna, tercihen 1 ila 12 OH gruplarina, ayrica tercihen 1 ila 9 (M1 gruplarina, ayrica tercihen 1 ila 6 OH gruplarina, ayrica tercihen 1 ila 4 OH gruplarina, ayrica tercihen 2 ila 3 OH gruplarina sahiptir.

Uygun alifatik alkoller ayrica tercihen, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 1 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 6 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 4 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 3 karbon atomuna ve 1 OH grubuna sahip olan tek degerli alifatik alkollerden ve düz Zincirli veya dallanmis olabilen 2 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 6 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 4 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 3 karbon atomuna ve 2 ila 12 OH gruplarina, ayrica tercihen 2 ila 9 OH gruplarina, ayrica tercihen 2 ila 6 (El gruplarina, ayrica› tercihen 2 ila 4 OH gruplarina, ayrica tercihen 2 ila 3 OH gruplarina sahip olan çok degerli alifatik alkollerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Tek degerli uygun alifatik alkoller, 1 OH grubuna ve düz Zincirli veya dallanmis olabilen 1 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 6 karbon atomuna, ayrica tercihen 1 ila 4 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 3 karbon atomuna sahiptir ve tercihen metanolda, etanol, 1- propanol, 2-propanol, l-butanol, 2-butanol, 2-metil-1-propanol, 2-metil-2-propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2- metil-l-butanol, 2-metil-2-butanol, 3-metil-l-butanol, 3-metil- 2-butanol, 2,2-dimetil-1-propanol, 1-heksanol, 1-heptanol, ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen metanol, etanol, 1- propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-metil-1-propanol, 2-metil-2-propanol ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Çok degerli alifatik alkoller tercihen, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 2 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 6 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 4 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 3 karbon atomuna sahip alkandiyollerden, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 3 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 3 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 2 ila 6 karbon atomuna, ayrica tercihen 3 ila 4 karbon atomuna sahip alkan triyollerden, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 4 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 4 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 4 ila 6 karbon atomuna sahip alkantetraollerden, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 5 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 5 ila 9 karbon atomuna, ayrica tercihen 5 ila 6 karbon atomuna sahip alkanpentaollerden, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 6 ila 12 karbon atomuna, ayrica tercihen 6 ila 9 karbon atomuna sahip alkanhekzaollerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. Çok degerli uygun alifatik. alkoller tercihen, etan-l,2-diol (etilenglikol, 1,2-glikol), propan-1,2-diol (propilenglikol), propan-l,3-diol (trimetilenglikol), butan-l,2-diol (1,2- butilenglikol), butan-l,3-diol (1,3-butilenglikol), butan-1,4- diol (Tetrametilenglikol), butan-2,3-diol (2,3-butilenglikol), pentan-l,5-diol (pentametilenglikol), heksan-l,6-diol (heksametilenglikol), oktan-1,8-diol (oktametilenglikol), nonan-l,9-diol (nonametilenglikol), dekan-l,10-diol (dekametilenglikol), 1,2,3-propantriol (gliserin), 1,2,6- Heksantriol, l,2,3,4-butantetrol, 1,2,3,4,5,6-heksanheksol (sorbit) veya bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etan- l,2-diol, propan-l,2-diol, propan-l,3-diol, butan-l,2-diol, butan-l,3-diol, butan-l,4-diol, butan-2,3-diol, Pentan-1,5- diol, heksan-1,6-diol (heksametilenglikol), oktan-1,8-diol (oktametilenglikol), nonan-l,9-diol (nonametilenglikol) veya bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etan-l,2-diol, propan- l,2-diol, propan-l,3-diol, butan-l,2-diol, butan-l,3-diol, butan-l,4-diol, butan-2,3-diol, 1,2,3-propantriol, l,2,3,4- butantetrol veya bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etan- l,2-diol, propan-l,2-diol, propan-l,3-diol veya bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Uygun alifatik eterler tercihen Çok degerli alifatik alkollerin eterleri, uygun alifatik eterler ayrica tercihen çok degerli alifatik alkollerin glikoleterleri, polieterleri veya bunlarin karisimlaridir. Çok degerli alifatik alkollerin polieterleri tercihen, yukarida belirtilen çok degerli alifatik. alkollerin, ayrica tercihen yukarida verilen alkandiyollerin polieterleridir.

Uygun polieterler tercihen 4 ila 40 karbon atomuna ve en az 2 OH grubuna, tercihen 2 OH grubuna sahiptir ve tercihen 4 ila 40 karbon atomu içeren polietilenglikollerden, 6 ila 40 karbon atomu ve bunlarin karisimini içeren polipropilenglikollerden, ayrica tercihen 4 ila 40 karbon atomu ve bunlarin karisimini içeren polietilenglikolenlerden olusan gruptan seçilir.

Tercihen düz Zincirli veya dallanmis olabilen 4 ila 40 karbon atomu içeren uygun polietilenglikoller örnegin,2-(2- hidroksietoksi)etanol (dietilenglikol), 2-[2-(2- hidroksietoksi)etoksi]etanol (Tri-etilenglikol), PEG-4, ?EG-6, PEG-ZO veya bunlarin karisimlaridir.

Tercihen düz Zincirli veya dallanmis olabilen 6 ila 40 karbon atomuna sahip olan uygun bir polipropilenglikol, örnegin, tercihen, 2,2'-oksidi-l-propanol, 1,1'-oksidi-2-propanol ve 2- (2-hidroksipropoksi)-l-propanolün yapi izomerinin bir karisimi olan dipropilenglikoldür.

Uygun glikol eter tercihen 3 ila 80 karbon atomuna sahiptir ve düz Zincirli veya dallanmis olabilen 2 ila 12 karbon atomuna sahip olan yukarida belirtilmis alkandiyollerin, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 4 ila 40 karbon atomu içeren yukarida belirtilmis polietilenglikollerin, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 6 ila 40 karbon atomu içeren polipropilenglikollerin veya yukarida belirtilmis tek degerli aifatik alkollere sahip kombinasyonlarin eterleridir.

Uygun glikol eter tercihen, etilenglikolmonometileter (Metil- glikol), etilenglikolmonoetileter (etilglikol), etilenglikolmonopropileter (2-Propoksietanol), etilenglikol- monoizopropileter (2-lsopropoksietanol), etilenglikolmonobutileter (2-butoksietanol), etilenglikolmonoheksileter (2-heksoksietanol), dietilenglikolmonometileter, dietilenglikolmonoetileter, dietilenglikolmono-n-butileter, dietilenglikolmono-n- heksileter, propilenglikolmonometileter (l-metoksi-Z-propanol), propilenglikolmonobutileter (l-butoksi-Z-propanol), propilenglikolmonoheksileter (l-heksoksi-Z-propanol), Dipropilenglikolmonometileter, Dipropilenglikolmonobutileter, Dipropilenglikolmonoheksileter, polietilenglikoleter, polipropilenglikoleter, etilenglikoldimetileter (dimetoksietan), etilenglikoldietileter (dietilglikol), etileneglikoldibutileter (dibutoksietan), dipropilenglikoldimetileter ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Bulus bakimindan monosakkaritler tercihen 3 ila 9 karbon atomuna ve aldehid grubundan veya keto grubundan olusturulmus bir karbonil grubuna [C(=O)] ve en az iki hidroksi grubuna (OH grubu) sahiptir. Bulus bakimindan monosakkaritler ayrica tercihen, asagidaki genel formülün (I) polihidroksialdehitinden (aldozlar): ve asagidaki genel formülün (II) bundan türetilmis siklik yarim asetallerinden, polihidroksiketonlardan (ketozlar): ve bundan türetilmis siklik yarim asetallerden ve bunlarin krisimlarindan olusan gruptan seçilir; burada I] birbirinden bagimsiz olarak 2 ila 8 arasindaki bir tam sayi ve burada a ve b birbirinden bagimsiz olarak 1 ila 7 arasindaki bir tam sayi anlamina gelmektedir; burada a + b, 2 ila 8 araligindaki bir tam sayidir.

Yukarida belirtilen aldozlarin ve ketozlarin siklik yarim asetalleri (laktoller) tercihen, bir* monosakkaritin karbonil grubu ve bir OH grubunun arasinda intramoleküler yarin asetal olusumu ile olusur.

Bulus bakimindan oligosakkaritler tercihen 8 ila 40 karbon atomuna sahiptir ve glikozit baglar ile birbirine baglanmis 2 ila 9, tercihen 2 ila 6 esit veya farkli monosakkaritlerden olusturulmustur. Bulus bakimindan oligosakkaritler, düz Zincirli veya dallanmis olabilir.

Uygun glikol esterler tercihen 3 ila 60 karbon atomuna sahiptir ve düz Zincirli veya dallanmis olabilen 1 ila 9 karbon atomu, tercihen 1 ila 7 karbon atomu, tercihen 1 ila 3 karbon atomu içeren alifatik karbon asitlerine, Örnegin monokarbon asitlerine, düz Zincirli veya dallanmis olabilen 1 ila 9 karbon atomu, tercihen 1 ila 7 karbon atomu, tercihen 1 ila 3 karbon atomu içeren hidroksikarbon asitlerine, düz Zincirli veya dallanmis olabilen tercihen 2 ila 9 karbon atomu, tercihen 2 ila 7 karbon atomu, tercihen 2 ila 3 karbon atomu içeren polikarbon asitlerine veya bunlarin karisimlarina, ayrica tercihen, düz Zincirli veya dallanmis olabilen tercihen 1 ila 7 karbon atomu, tercihen 1 ila 3 karbon atomu içeren hidroksikarbon asitlerine, düz Zincirli veya dallanmis olabilen tercihen 2 ila 9 karbon atomu, tercihen 2 ila 7 karbon atomu, tercihen 2 ila 3 karbon atomu içeren polikarbon asitlerine veya bunlarin karisimlarina sahip yukarida belirtilmis alkandiyollerin, yukarida belirtilmis polietilen glikollerin, yukarida belirtilmis polipropilenglikollerin veya bunlarin karisimlarinin monoester, diester veya bunlarin karisimlaridir.

Uygun glikoesterler örnegin, sirkeasitetilenglikolmetileterester (2-Metoksietilacetat), sirkeasitetilenglikolmontileterester (2-etoksietilacetat), sirkeasitetilenglikolmonobutileterester (2-butoksietilacetat), sirkeasitdietilenglikolmonobutileterester [2-(2- butoksietoksi)etilacetat], sirkeasitpropi- lenglikolmetileterester (l-Metoksi-Z-propilacetat) veya bunlarin karisimlaridir.

En az bir organik bilesen tercihen, tek degerli alifatik alkollerden, çok degerli alifatik alkollerden, polietilengliokellerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Organik bilesen ayrica tercihen, metanol, etanol, l-propanol, 2- propanol, l-butanol, 2-butanol, 2-metil-l-propanol, 2-metil-2- propanol, l-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2-metil-l- butanol, 2-metil-2-butanol, 3-metil-1-butanol, 3-metil-2- butanol, 2,2-dimetil-1-propanol, l-heksanol, etan-l,2-diol, propan-l,2-diol, propan-l,3-diol, butan-l,2-diol, butan-1,3- diol, butan-l,4-diol, butan-2,3-diol, 1,2,3-propantriol, heksanheksol, 2-(2-hidroksietoksi)etanol, 2-[2-(2- hidroksietoksi)etoksi]etanol, PEG-4, EEG-6, PEG-7, PEG-8, PEG- 9, PEG-lO, PEG-lZ, PEG-l4, PEG-l6, PEG-l8, PEG-ZO ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen metanol, etanol, l-propanol, 2- propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-metil-1-propanol, 2-metil-2- propanol, etan-l,2-diol, propan-1,2-diol, propan-l,3-diol, l,2,3-propantriol, l,2,3,4-butantetrol, 1,2,3-propantriol ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, l-propanol, 2- propanol, etan-l,2-diol, propan-1,2-diol, propan-l,3-diol, 1,2,3-propantriol ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, 1-propanol, 2-propanol, etan-1,2-diol, propan-l,2-diol, propan-1,3-diol ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir.

Tercih edilen bir varyanta göre, nemli madde, etanol, l- propanol, 2-propanol, etan-l,2-diol, propan-l,2-diol, propan- l,3-diol, 1,2,3-propantriol veya bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, 1-propanol, 2-propanol, etan-l,2-diol, propan-l,2-diol, propan-l,3-diol veya bunlarin karisimlarindan Nemli madde, en az bir organik bileseni, nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak, en az hacmen %5, tercihen hacmen % 6 ila hacmen 6 98 araliginda, tercihen hacmen 6 8 ila hacmen % 95 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 10 ila hacmen % 85 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 12 ila hacmen % 65 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 17 ila hacmen % 55 araliginda bir oranda içerir.

Nemli madde, suyu ayrica tercihen, nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak, en az hacmen %70, tercihen hacmen 6 2 ila hacmen 6 65 araliginda, tercihen hacmen 6 5 ila hacmen % 60 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 7 ila hacmen % 57 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 9 ila hacmen % 45 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 10 ila hacmen % 30 araliginda bir oranda içerir.

Nemli madde, sulu olmayan bilesenleri, yani nemli maddenin su olmayan bütün bilesenlerini ayrica tercihen, nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak, en az hacmen %30, tercihen hacmen 6 35 ila hacmen % 98 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 40 ila hacmen 6 93 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 55 ila hacmen 92 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 70 ila hacmen % 90 araliginda bir oranda içerir. tercihen sulu alkolik bir hazirlama veya bir su içerisinde yag emilsiyonu veya bir yag içerisinde su emilsiyonu anlasilmaktadir.

En az bir nemli madde, standart sartlar altinda (25 °C sicaklik, 1013 mbar basinç) losyon olarak gelistirilmis olabilir; alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin karisimlarindan tercihen alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilen en az bir organik bilesen örnegin losyon içerisinde çözülmüs sekilde bulunabilir ve/veya losyonun organik fazini olusturabilir.

Bulusa uygun substrat, ayrica tercih. edilen. bir uygulamada, tercihen sivi, tercihen sulu en az bir nemli maddeyi, örnegin bir losyon seklinde, 6,4'den küçük veya buna esit pH degeri ile, tercihen 6,1'den küçük veya buna esit pH degeri ile, tercihen ,9'den küçük veya buna esit pH degeri ile içerir.

Tercih edilen bir varyanta göre, tercihen sivi, tercihen sulu en az bir nemli maddenin pH degeri, 4,0 ila 6,4 pH araliginda, tercihen 4,5 ila 6,1 pH araliginda, tercihen 4,9 ila 5,9 pH araliginda, tercihen 5,0 ila 5,6 pH araliginda bulunur.

Bulusa uygun substrat, tercih edilen diger bir uygulamada en az bir baglayici, bulusa uygun kuru substratin toplam agirligina bagli olarak, hacmen 6 1 ila hacmen 6 35 araliginda, tercihen hacmen 6 3 ila hacmen % 30, ayrica tercihen hacmen 6 4 ila hacmen 6 25, ayrica tercihen hacmen 6 5 ila hacmen 6 20, ayrica tercihen hacmen 6 6 ila hacmen % 15, ayrica tercihen hacmen 6 7 ila hacmen Bulusa uygun substrat tercihen anorganik ve/Veya organik liflere sahiptir. Bir lif tercihen, uzunlugun çapa olan en az 5:1 ila :1 iliskilerine sahip olan, uzunlugu sinirlandirilmis anorganik veya organik bir yapidir.

Bulusa uygun substrat tercihen, tercihen suda çözünebilen ve/veya dagitilabilen, en az 0,1 mm, tercihen 10 mm dahil olmak üzere, 0,1 mm ila 10 mm araliginda, ayrica tercihen 0,2 mm ila 6 mm araliginda, ayrica tercihen 1 mm ila 4 mm araliginda, ayrica tercihen 1,1 mm ila 3 mm araliginda uzunluklara sahip olan lifler Uygun organik lifler hem dogal lifler, hem sentetik lifler hem de bunlarin karisimi olabilir. Bulusa uygun bir substrat tercihen yalnizca dogal lifler, tercihen selüloz lifleri içerir.

Uygun sentetik lifler örnegin, poliesterlifler, poliyamidlifler, poliimidlifler, poliyamidimidlifler, polietilenlifler, polipropilenlifler, polivinil kloridlifler veya bunlarin karisimlarini içerir; burada uygun sentetik lifler, en fazla 6 mm'lik bir uzunluga sahiptir.

Uygun organik bilesenler örnegin mineralyünlifler, bazaltlifleri cam lifler, silisikasit lifler, seramik lifler, karbonlfiler veya bunlarin karisimlarini içerebilir.

Bulusa uygun bir substrat, 6 mm'den fazla lif uzunluguna sahip olan bir lif içermez. Bulusa uygun substratin örnegin atik su içerisinde çözünmesinden sonra, kisa liflerin, yani uzunluklari 6 mm'yi asmayan liflerin kullanimi ile liflerin, lif yigisiklari olusumu altinda bir keçelesmeyi önlemektedir. Lif yigisiklari örnegin bir sifonda veya bir bosaltma süzgecinde takilabilir.

Tercih edilen bir uygulamada baslica selüloz lifleri kullanilir.

Bunun ötesinde örnegin rayon, pamuk, yün, asetat veya liyosel lifler kullanilabilir. Tercih edilen bir diger uygulamada, lif içeren substrat, lif içeren bulusa uygun kuru substratin toplam agirligina bagli olarak hacmen %40 ila yaklasik. 95, ayrica tercihen hacmen % 60 ila 90 selüloz liflerine sahiptir.

Kullanilan selüloz lifler burada bitki liflerinin bir kimyasal kaynamasi veya geridönüsüm liflerinin kullanimi ile elde edilebilir. Tercihen hem agaç lifleri, örnegin saman, bagas, kenaf veya bambu gibi yillik bitkilerin lifleri veya bunlarin karisimlari kullanilabilir. Bunun ötesinde örnegin hem. igne yaprakli agaç selülozu. hem. de yaprakli agaç selülozu kullanilabilir; burada kullanilan kimyasalin sekli kritik degildir.

Kullanilan lifler, örnegin selüloz lifleri, bulusa uygun bir sekilde en az bir baglayici ile birbirine baglanabilir.

En az bir baglayici tercihen sulu çözelti ve/veya baglayici köpük olarak kullanilabilir.

Tercihen bulusa uygun bir substrat, tercihen l nm'den küçük parçacik boyutuna sahip olan ve uzunluk çap iliskisinin 5:1 oldugu en az bir dolgu maddesine sahiptir.

Ayrica tercihen, en az bir dolgu maddesi, 1 mm'den küçük, tercihen 0,9 mm'den küçük olan bir parçacik büyüklügüne sahip olan ve uzunluk çap iliskisinin 5zl'den küçük, ayrica tercihen 4:1'den küçük oldugu anorganik partiküllere sahiptir veya bunlardan olusur.

Uygun organik dolgu maddeleri tercihen ögütülmüs veya küçültülmüs lifler, örnegin poliyamid, poliester, polietilen, bagli poliakrilatlardan, bagli olmayan poliakrilatlardan, bunlarin karisimlarindan veya bunlarin kopolimerizatlarindan kurulmus olabilen çökelmis polimerler veya çökelti polimerizatlardir.

Uygun organik dolgu maddeleri tercihen, selülozlarin, rejenere selülozlarin ve/veya diger dogal liflerin, unlarin, degistirilmis nisastalarin, degistirilmemis nisastalarin veya bunlarin karisimlarinin ince partikülleridir.

Uygun anoganik dolgu maddeleri tercihen, örnegin dolomit, kalsiyum karbonat, titandioksit, çinko oksit, alüminyum oksit, alüminyuni hidroksit, çökelmis silisik. asit, kaolin› ve diger killer, silikat mineralleri veya bunlarin karisimlarini içeren veya bunlardan olusan dogal mineral toz, çökelmis mineral tuzlar veya bunlarin karisimlaridir.

Uygun dolgu maddeleri, kullanima ve miktara göre tercihen substrat içerisine uygulanabilir veya örnegin baglayici ile birlikte substratin yüzeyine uygulanabilir. Örnegin uygun dolgu maddelerinin, örnegin titan dioksit partiküllerinin kullanimi ile substratin donuklugu ayarlanabilir.

Tercih edilen bir uygulamada, bulusa uygun bir substrat en az bir dolgu maddesini, kuru substratin toplam agirligina bagli olarak hacmen %0 ila 30 araliginda, ayrica tercihen hacmen %0,1 ila 25 araliginda bir oranda içerir.

Kullanilan dolgu maddeleri ayrica tercihen en az bir baglayici ile substrata baglanir.

Bulusa uygun substrat, tercih edilen bir uygulamada 1 ila 4 katmana, tercihen 1 ila 3 katmana sahiptir. Bulusa uygun substrat ayrica tercihen tek katmanlidir.

Bulusa uygun substrat, tercih edilen diger bir uygulamada birçok katmana, tercihen› 2, 3 veya 4 katmana sahiptir; burada bu katmanlarin hiç birisi sulu maddeler için geçirmez degildir.

Bulusa uygun substrat tercihen, 30 g/m2 ila 150 g/m2, tercihen Bulusa uygun bir substrat, asagidaki adimlari kapsayan bir yöntem ile üretilir: (a) Lifler ve en az bir baglayiciya sahip olan lif içerikli bir substratin hazirlanmasi; burada en az bir baglayici en az bir polisakkarit, en az bir asit grubu içerikli kök içerir, Burada ayrica (a) adiminda ve/veya bu adimdan sonra en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde arka arkaya, birlikte vey ayni zamanda verilir; burada en az bir nemli madde, tercihen su baglayici, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis en az bir organik bilesen içerir.

Bulusa uygun substrat tercihen, doku maddesi veya doku malzemesi olarak bulunur. Tercih edilen diger bir uygulamada lifler, taraklama, islak yerlestirme, spin baglama veya eriyik üfleme yoluyla lif bandina iletilebilir. Lif veya doku bandi Özellikle tercihen, neredeyse bütün, tercihen bütün liflerin sikica karistirildigi havali serme yöntemi, airlaid yöntemi olarak da ifade edilir, ile olusturulur. Havali serilmis bant daha sonra tercihen sikistirilir veya yogunlastirilir.

Tercihen doku maddesi veya doku malzemesi olarak bulunan bulusa uygun substrat tercihen asagidaki adimlari içeren bir yöntem ile üretilir: (al) Liflerin hazirlanmasi, (a2) Liflerin, bir lif yataginin elde edilmesi ile bir alim yüzeyine serilmesi, (a3) Yogunlastirilmis bir lif yatagininm elde edilmesi ile lif yataginin yogunlastirilmasi, Burada (al) ve/veya (a2) ve/veya (a3) adimlarinda ve/Veya (al), (a2), (a3) adimlarinda ve/veya (c) adimindan sonra, tercihen en az bir asit grubu içerikli köke, tercihen en az bir karboksil grubu içerikli köke sahip en az bir polisakkarit içeren en az bir baglayiciya en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde arka arkaya, birlikte veya ayni anda eklenir; burada en az bir nemli madde, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alifatik alkollerden, alifatik eterlerden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis, tercihen su baglayici en az bir organik bilesen içerir.

Lif yataginin yogunlastirilmasi burada, örnegin lateks bonding, termal bonding, hidrojen bonding veya multi bonding gibi, teknigin durumunda bilinen farkli yöntemlerle gerçeklesebilir. Örnegin kalenderleme vasitasiyla bulusa uygun substratin kalinligi ayarlanabilir.

Bulusa uygun substrat, tercih edilen bir uygulamada, örnegin sekil verme vasitasiyla üretilebilen yüzeysel derinliklere veya yükseltmelere sahiptir.

Tercih edilen diger bir uygulamada (a3) adiminda veya bu adimdan sonra, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde saglanir.

Ayrica tercihen (al) adiminda ve/Veya (a2) ve/Veya (a3) adimlari sirasinda en az bir baglayici ve en az bir amfoter amin sulu çözelti ve/veya köpük olarak, arka arkaya, birlikte veya ayni zamanda uygulanir ve daha sonra 100 °C'den yüksek, tercihen 120 °C'den yüksek, tercihen 150 °C'den yüksek bir sicaklikta katilastirilir. Daha sonra tercihen, en az bir nemli madde uygulanir.

En az bir baglayicinin, en az bir amfoter aminin ve en az bir nemli maddenin uygulanmasi tercihen, birbirinden bagimsiz olarak dokuma bez uygulamasi, köpük uygulamasi ve/veya püskürtme yoluyla gerçeklesir.

Dokuma bez uygulamasinin, köpük uygulamasinin, püskürtmenin uygun yöntemleri teknigin durumunda bilinmektedir ve mevcut bulusta kullanilabilir.

En az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde birbirinden ayri olarak bulusa uygun substratin ayni tarafina veya farkli taraflarina uygulanabilir.

En az bir baglayicinin, en az bir amfoter aminin ve en az bir nemli maddenin uygulanmasi burada kisim kisim, burada uygulamanin siralamasi degisiklik gösterebilir, veya ayni zamanda gerçeklesebilir.

Bunun sonrasin tercihen, en az bir baglayici, bulusar uygun substratin bir tarafina veya her iki tarafina uygulanabilir. En az bir baglayicinin katilasmasindan sonra tercihen, en az bir amfoter aminin bir tarafina veya her iki tarafina, ayrica tercihen bulusa uygun substratin, daha önce en az bir baglayicinin uygulandigi taraf(lar)ina uygulanmasi gerçeklesir.

En az bir baglayicinin, en az bir amfoter aminin ve en az bir nemli maddenin uyulanmasi ancak bir karisim seklinde de, bulusa uygun substratin bir tarafina veya her iki tarafina gerçeklesebilir.

Tercih edilen diger bir uygulamada bulusa uygun substrat, bir selüloz lifine sahiptir veya bundan olusur; burada selüloz lifi, 0,1 mm ila 10 mm, tercihen 0,2 mm ila 6 mm, ayrica tercihen 1 mm ila 4 mm, ayrica tercihen 1,1 ila 3 mm araliklarindaki bir uzunluga sahip hacmen %60 ila 99, tercihen hacmen %65 ila 97,5 selüloz liflerine, hacmen %0,5 ila 40 arasindaki bir oranda, tercihen hacmen %1 ila 35 arasindaki bir oranda yukarida verilen baglayicilarin en az birine, hacmen %0,l ila 20 arasindaki bir oranda, tercihen hacmen %1 ila 15 arasindaki bir oranda yukarida verilen amfoter* aminlerin en az birine ve opsiyonel olarak, bulusa uygun kuru substratin toplani agirligina bagli olarak hacmen %0 ila 30 arasindaki bir oranda, tercihen hacmen %0,1 ila arasindaki bir oranda yukarida verilen dolgu maddelerinden en az birine ve yukarida verilen en az bir organik bilesen içeren en az bir nemli maddeye, en az bir baglayicinin, en az bir amfoter aminin, en az bir dolgu maddesinin ve en az bir nemli maddenin tercihen yüzeysel olmayan bilesenlerinin oranlari toplaminin, bulusa uygun kuru substratin toplam agirligina bagli olarak, hacmen %1 ila 40 araliginda, tercihen hacmen %2,5 ila 35 araliginda olmasi nispetinde sahiptir.

Bulusa uygun substrat, su içerisinde parçalanmak için, nem dayanikliligina ragmen, yeterli bir suda parçalanma kabiliyetine, yani düsük islaklik dayanikliligina sahiptir.

Tercihen sulu olan en az bir nemli madde tercihen 4,0 ila 6,0, tercihen 5,0 ila 5,6 araligindaki bir pH degerine sahiptir ve buna göre saglikli bir derinin pH degeri bakimindan nötr pH degerine sahiptir.

Tercih edilen bir diger uygulamada, tercihen sivi, ayrica tercihen sulu olan en az bir nemli madde ayrica en az bir çok degerli metal katyona sahiptir.

Bulus sahipleri, en az bir çok degerli metal katyonun kullanimi ile, en az bir baglayici ve en az bir amfoter amin ile olusturulan poli tuzun ve/veya polimer yigisigin, en az bir organik bilesenin tercihen sivi, tercihen sulu olan en az bir nemli maddenin içerisinde bulunma durumunda bulusa uygun bir substratin üzerinde veya içerisinde stabilize edilebilecegini tespit etmistir.

Böylece bulusa uygun substrat, tercihen sulu, tercihen sivi olan en az bir nemli maddenin, tercihen ayrica en az bir çok degerli metal katyon içeren losyonun uygulanmasindan sonra önemli derecede artirilmis bir nem dayanikliligina sahiptir.

Uygun çok degerli metal katyonlar tercihen, geçis metallerinin çok degerli iyonlarindan, elementlerin periyot sisteminin 3. ve 4. ana grubun metallerinin çok degerli iyonlarindan, alkalik madenlerin iyonlarindan ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilir. kimyasal elementler anlasilmaktadir. Atom sayisi, bir kimyasal elementin, elementlerin periyot sistemindeki sirasini vermektedir. +2 veya daha fazla yüke, tercihen +2, +3 veya +4 yüküne, ayrica tercihen +2 yüküne sahip olan metal katyonlar anlasilmaktadir.

Ayrica tercihen çok degerli uygun metal katyonlar, Fey, Cazh Zn2+ elementlerinden ve bunlarin gruplarindan, ayrica tercihen Ca”, Zn2+ elementlerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen Caß'elementinden olusan gruptan seçilmektedir.

Uygun metal katyonlar örnegin, suda çözünen tuzlardan ve/veya ilgili metal katyonlarin kompleksleri seklinde, tercihen hidrojenkarbonat, klorür, asetat, laktat, tartrat, fumarat seklinde, yukarida belirtilen amino karbon asitlerin karboksilatlari ve/Veya kompleksleri veya bunlarin karisimlari olarak, yukarida belirtilen amino karbon asitlerden birinin veya bunlarin bir karisimin, ilgili metal katyonlarin tercihen klorürü, karboksilati ve/veya kompleksi olarak tercihen sulu çözelti, tercihen losyon içerisine uygulanabilir.

Amfoter aminlerin, tercihen amino karbon asitlerin ve çok degerli metal katyonlarin, tercihen Caßy Fe“, Zn2+ elementlerinin ve bunlarin karisimlarinin, ayrica tercihen Ca”, Znß'elementlerinin ve bunlarin karisimlarinin, ayrica tercihen Ca2+ elementinin uygun tuzlarinin ve/veya komplekslerinin numarali patentlerde tarif edilmektedir.

Tercihen sivi, tercihen sulu en az bir nemli madde tercihen, en az bir çok degerli katyonu, en az bir nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak, % 0,1 ila hacmen 6 10 araliginda, tercihen hacmen % 0,2 ila hacmen 6 9 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 1 ila hacmen 6 8 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 3 ila hacmen 6 6 araligindaki oranlarinda içerir.

Tercih edilen bir uygulamada, tercihen sulu en az bir nemli madde, yukarida verilen organik bilesenlerden en az birinin, opsiyonel olarak, yukaridar verilenr amfoter* aminlerden› en az birinin ve opsiyonel olarak yukarida verilen çok degerli metal katyonlardan en az birinin suyunu içerir veya bundan olusur; burada suyun orani,nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak en fazla hacmen %70'tir, tercihen hacmen 6 2 ila hacmen 6 65 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 7 ila hacmen % 60 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 8 ila hacmen % 45 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 10 ila hacmen % 30 araligindadir, Burada en az bir organik bilesenin orani,nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak en az hacmen %5,0'dir, tercihen hacmen ila hacmen % 98 araliginda, tercihen hacmen % 8 ila hacmen 95 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 10 ila hacmen 6 85 araligindadir, burada en az bir amfoter aminin orani, nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak hacmen 6 0 ila hacmen 6 arasindadir, tercihen hacmen 6 0,5 ila hacmen % 20 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 0,7 ila hacmen 6 17 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 2 ila hacmen % 15 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 3,3 ila hacmen % 13 araligindadir, Burada çok degerli en az bir metal katyonun orani, en az bir nemli maddenin toplam agirligina bagli olarak, hacmen 6 0 ila hacmen 6 10 araliginda, tercihen hacmen 6 0,2 ila hacmen 6 9 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 1 ila hacmen % 8 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 13 ila hacmen % 6 araligindaki bir orandadir, Burada nispet olarak, en az bir organik bilesenin, en az bir amfoter aminin ve en az bir çok degerli metal katyonun agirlik oranlarinin toplami, nemli maddenin toplam. agirligina bagli olarak, en az hacmen %30'dur, tercihen hacmen 6 35 ila hacmen 6 98 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 40 ila hacmen % 93 araliginda, ayrica tercihen hacmen 6 55 ila hacmen 6 92 araliginda, ayrica tercihen hacmen % 70 ila hacmen 6 90 araligindaki bir orandadir.

En az bir nemli madde tercihen, ayirca tercihen, yukarida verilen çok degerli metal katyonlardan ve bunlarin tuzlarindan, yukarida verilen amfoter aminlerden ve bunlarin tuzlarindan ve/veya komplekslerinden ve bunlarin kombinasyonlaridnan olusan gruptan seçilen yüzeysel olmayan bilesenler içerir.

Kiralite merkezleri, aksi belirtilmedigi sürece, R veya S konfigürasyonunda bulunabilir. Bulus, her iliskide, hem görsel olarak saf baglarin, örnegin bir L amino asitin veya D amino asitin kullanimi heni de enantiyomer karisima› ve diastoremer karisimi gibi stereoizomer karisiminin kullanimi ile ilgilidir. Örnegin, yukarida verilen amino karbon asitlerin biri, L amino karbon asitleri olarak, D amino karbon asitleri olarak veya rasemikler (D, L amino karbon asiti) olarak kullanilabilir. Örnegin 1,2,3,4 butantetrol, (ZR,3R)-1,2,3,4-butantetrol (D- threitol), (28,38)-l,2,3,4-butantetrol (L-threitol) olarak, (2R,3R)- ve (28,38)-l,2,3,4-butantetrol (DL-threitol) bilesiklerinin rasemiki olarak, (28,3R)-l,2,3,4-butantetrol (meso-1,2,3,4-butantetrol, eritritol) olarak veya bunlarin karisimlari olarak bulunabilir.

Tercih edilen bir diger uygulamada tercihen sivi, tercihen sulu olan en az bir nemli madde losyon olarak bulunabilir.

Tercihen sivi, tercihen sulu olan en az bir nemli madde tercihen losyon, ayrica, örnegin mikroorganizmalarin uzun süreli depolama sirasinda korumasini saglayan en az bir koruyucu madde içerir.

Koruyucu maddenin, mikroba karsi bir aktivite, ayrica bakteriye karsi bir aktivite, mantara karsi aktivite veya maya mantarina karsi bir aktivite veya bunlarin bir karisimini saglamasi tercih edilmektedir.

Tercih edilen bir diger uygulamada bulusa uygun bir substrat ayrica deri koruyuvu ve/veya deri onarici ve/veya deri temizleyici, deriye duyusal ve/veya kozmetik bir avantaj olan bir avantaj saglayan aktif maddeler içerir. Örnegin tercih edilen bir uygulamada, deri rejenerasyonunun uyarilmasi, deri fizyolojisinin desteklenmesi, derinin bariyer etkisinin güçlendirilmesi seklindeki bir deri bakimi öngörülebilir. Deri yüzeyinin pH degeri ter salgisina, bakteriyel floraya ve sebum bilesimine baglidir. Deri bölgesine göre pH degeri burada 4 ve 6,4 araliginda, saglikli deride özellikle 5,5 kadardir.

Bulusa uygun bir substrat tercihen bir yüzey yapisi, tercihen bir bez, kapak, kese, torba, yastik veya çuvaldir.

Bulusa uygun bir substrat örnegin, tercihen bir taraftan açik veya kapali olabilen örtü veya kaplama olarak tasarlanmis olabilir. Bulusa uygun bir substrattan olusan bir örtü veya kaplama tercihen ayrica kokusunu alan bir bilesim ve/veya sivi absorbe edici bir bilesim, örnegin, akril asiten ve natriyumakrilattan (süper emici) olusan bir veya daha fazla kopolimer kaplar. Örnegin, örtü veya kaplama olarak tasarlanmis bir substrat bir bez, örnegin bebek bezi olabilir.

Bulusa uygun bir substrat tercihen bir hijyen ürünü, özellikle bir nemli bez, temizlik bezi, hijyen bezi veya nemli bir tuvalet Mevcut bulusun substrati tercihen hijyen ürünü olarak, özellikle nemli bez, temizlik bezi, nemli tuvalet kagidi veya tissue olarak kullanilir.

Bir nemli bez örnegin kisisel temizlik için, kozmetik bezi veya dezenfeksiyon bezi olarak veya ev içerisinde silme bezi olarak tasarlanmis olabilir.

Bulusa uygun bir substrat alternatif olarak, sulu maddeler için geçirgen olan bir katmana sahiptir.

Bulusa uygun bir substrat tercihen kese olarak tasarlanmistir. Örnegin, kese olarak tasarlanmis, sulu maddeler için en az bir geçirgen katmana sahip olan bulusa uygun bir substrat, kese içerisine tertip edilmis bir gübre ile birlikte tabana tertip edilebilir. Mevcut taban nemliligi ve/veya yagmur ile örnegin, gübrenin dikis maddeleri, bulusa uygun substratin sulu maddeler için geçirgen olan katmani vasitasiyla tabana ulasabilir.

Bulusa uygun substrat tercihen tarim ve ormancilikta, ayrica bahçecilikte, örnegin tohum tasiyicisi, bahçe haznesi veya bitki kesesi olarak kullanilir.

Mevcut bulusun bir substrati tercihen bir tohum. tasiyicisi, bahçe haznesi veya bitki kesesidir. Tohum tasiyicilari, tercihen tohum bantlari veya tohum diskleri, tercihen bulusa uygun bir substratin iki katmani arasina tohumlarin tertip edildigi bulusa uygun bir substrattan olusur.

Tohum tasiyicilari, çiçeklerin ve/veya sebzelerin, tohum çekirdeklerinin ;mesafelerine dikkat etmek zorunda olmaksizin geometrik örneklere tohumlanmasini saglar. Bir tohum tasiyicisi örnegin topraga sokulup daha sonra su ile nemlendirilebilir.

Bahçe haznesi veya bitki kesesi, bulusa uygun bir substratin bir veya daha fazla katmanindan kurulmus olabilir. Bir bahçe haznesi veya bitki kesesi ayrica topraga ve bir bitkiye sahip olabilir.

Bulus asagida, sinirlandirilmaksizin örnekler vasitasiyla tarif edilmektedir. Asagida tarif edilen deneyler veya ölçümler, farkli sartlar verilmedigi sürece, 25 °C sicaklikta (oda sicakligi) 1013 mbar basinçta ve %65 izafi hava nemliliginde yürütülmüstür.

Asagida kullanilmis çözücüler, amfoter aminler, özellikle amino asitler ve tuzlar, örnegin Parchem -fine & specialty chemicals, (München, DE) sirketlerinden ticari olarak alinabilir.

Bulusa uygun Örnek 1: Kontrol edilebilir parçalanabilirlige sahip Airlaid doku Asagidaki deneyler için, Parchem -fine & specialty chemicals, (München, DE), sirketinin W4 isaretine sahip, yakl. 50 g/mz degerindeki bir toplam yüzey agirligina sahip olan, ticari olarak alinabilir bir Airlaid selüloz doku kullanilmistir.

Ilgili doku bantlarinin kagit agirliklari 10 x 10 cm büyüklügündeki bölümlerin kullanimindan önce belirlenmistir.

En az bir asit grubu içerikli köke sahip olan bir polisakkarit içeren baglayici olarak, ticari olarak alinabilen karboksimetilselülozlar (CMC) kullanilmistir. Rheolon® 30, Rheolon® 300, SOOG Rheolon® ve lOOOG Rheolon®, Ugur Selüloz Kimya A.S. (Aydin, TR) sirketinden alinmistir. Caleksis® HMB ve Finnfix® 700, CP Kelco Germany GmbH (Grossenbrode, DE) sirketinden alinmistir.

Kullanilan karboksimetilselülozlar farkli dinamik viskositelere sahipti. Baglayicinin uygulanmasindan önce kullanilan baglayicilarin numuneleri alinmistir ve su içerisindeki baglayicinin hacmen %2 kadar çözeltisinin dinamik viskositesi 20 oC'de belirlenmistir.

Ilgili baglayicinin hacmen %2 kadar çözeltisinin 20 °C'de su içerisindeki viskositesi, 2,55 S"l dönme sayisindaki silidir ölçüm tertibatina, ölçüm haznesine (MV) sahip bir Haake® Viscotester® tip Searle döner Visko metresi vasitasiyla belirlenmistir. Su içerisindeki ilgili baglayicinin kullanilan hacmen %2 kadar çözeltisinin üretimi, baglayicinin 2 g kadarinin, üretici verilerine göre 20 °C'de damitilmis 100 g su içerisinde karistirilarak çözülmesi ile gerçeklesmistir.

Doku bantlari öncelikle tek taraftan hacmen %5 içerikli, en az bir asit grubu içerikli köke sahip olan bir polisakkarit içeren yukarida verilmis baglayicilardan birisinin bir sulu dispersiyonu ile püskürtülmüstür; burada verilen yüzde bilgisi kullanilan dispersiyonun 100 g basina baglayici orani ile ilgilidir. Su içerisindeki ilgili baglayicinin kullanilan hacmen damitilmis su içerisinde karistirilarak çözülmesi ile gerçeklesmistir. Kuruma sonrasinda doku bandinin yüzeyine bagli olarak, baglayicinin uygulanmis miktari Tablo 1'de ("uygulama miktari") verilmistir.

Baglayicinin 150 °C ila 170 °C'lik bir sicaklikta kurutulmasindan ve yogunlasmasindan sonra üretilmis doku bandi yuvarlanmistir.

Daha sonra elde edilen kuru durumdaki doku bantlarinin yirtma degerleri ölçülmüstür. Bunun için, elde edilen doku bantlarinin standardina göre, çekme deneyinde makine yönünde çekme yoluyla ölçülmüstür. Asagida verilmis yirtma degerleri ("Kuru yirtma degeri"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Sonuçlar Tablo 1'de özetlenmistir.

Tablo 1: Kullanilan baglayicilarin ve bununla elde edilen kuru Baglayic Uygulama Kuru yirtma Doku NO Tip i madde miktari [g/mz] degeri [N] le Finnfix 623 1,29 62,5 lf Rheolon 630 1,42 31,7 lg Rheolon 660 1,72 43,0 lh Rheolon 960 1,35 30,6 li Rheolon 945 1,54 36,2 katiliklarin karsilastirilmasi Ayrica, elde edilen yas durumdaki doku bantlarinin yirtma degerleri ölçülmüstür. Bunun için, elde edilen doku bantlarinin X 10 cm büyüklügündeki bölümleri, baglayicinin kurutulmasindan ve yogunlastirilmasindan sonra kesilmistir ve bölüm basina 11 ml "Losyon 1" ile degistirilmistir. "Losyon 1" asagidaki bilesime sahipti: Bilesen Nihai konsantrasyon L-Lysin Hacmen %5,9 CaCIz X 2 HzO Hacmen %4,2 1,2-propandiol Hacmen %31,9 Etanol Hacmen %3,5 Su Hacmen %54,5 Verilen hacmen % degerleri, losyonun toplam agirligi ile Oda sicakliginda 60 dakikalik bir inkübasyondan sonra, nemlendirilmis bölümlerin yirtma degerleri oda sicakliginda, DIN 54540-8 stnadardina benzer bir sekilde çekme deneyinde, makine yönünde çekilerek ölçülmüstür. Asagida verilmis yirtma degerleri ("Yas yirtma degeri"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Ayrica, Losyon 1_ ile nemlendirilmis bölümlerin damitilmis su içerisindeki çözülme davranislari ölçülmüstür. Bunun için, önceden nemlendirilmis 10 x 10 cm büyüklükteki bölümler, 100 ml damitilmis su içeren haznelere verilmistir ve daha sonra bölüm çözülene kadar karistirmadan inkübasyon yapilmistir. Burada bir cimbiz ile yalnizca lifler hazneden alinabilmistir. Ölçümler 5 sn'lik araliklarla gerçeklestirilmistir. Tablo 2'de verilmis parçalanma zamanlari ("Su içerisinde çözülme"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Tablo 2: Losyon 1 ile nemlendirmeden sonra ulasilan nem dayanikliliginin ve islaklik dayanikliliginin karsilastirmasi Doku No [N] [s] la 10 30 lb 15 35 lc 15 50 1d 7 10 le 11 25 1f 13 20 lg 14 40 1h 11 10 li 13 40 lj 15,4 45 Artan bir baglayici uygulamasi, elde edilen doku malzemesinin, baglayicinin kurumasindan veya yogusmasindan sonra artan bir kuru dayanikliligina yol açmaktadir. Kullanilan baglayicinin viskositesinin veya zincir uzunlugunun düsük artmalari bile, karsilastirabilir uygulama miktarinda, özellikle düsük moleküllü karboksimetilselülozlarda orantisiz katilik artislarina neden olmaktadir.

Bulusa uygun Örnek 2: Örnekler 1'de üretilmis doku bantlari le ve li) farkli farkli lc, ayrica, miktarda suya sahip olan losyonlar ile islenmistir. Bunun için, ilgili doku bantlarinin 10 >{ 10 cm büyüklügündeki bölümleri, baglayicinin kurutulmasindan ve yogunlastirilmasindan sonra kesilmistir ve bölüm basina 11 ml farkli losyon (1-5) (1 ila 5) ile degistirilmistir. Kullanilan losyonlarin bilesimi Tablo 3'te verilmistir. Verilen hacmen 6 degerleri, losyonun toplam agirligi ile ilgilidir.

Oda sicakliginda 60 dakikalik bir inkübasyondan sonra, nemlendirilmis bölümlerin yirtma degerleri oda sicakliginda, DIN 54540-8 stnadardina benzer bir sekilde çekme deneyinde, makine yönünde çekilerek ölçülmüstür. Asagida verilmis yirtma degerleri (“Yas yirtma degeri"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Tablo 3: Losyonun su oraninin azaltilmasinda elde edilen nem dayanikliligi Baglayici madde CalexisFinnfix Rheolon 1000G 30 Rheolon Uygulama miktari 1,91 1,29 1,75 Loston bilesimi [hacmen %] Etanol [N] Su Yas yirtma degeri Propandiol 21,3 69,7 No. Yas yirtma degeri [N] Loston bilesimi [hacmen %] L- CaC12 1,2- Etanol Su Lysin X 2 Propandiol Losyon içerisindeki su oraninin bir azaltmasi, nem dayanikliliginin artmasina neden olur. Ayrica, losyonun su oraninin degistirilmesi ile nem dayanikliligi büyük bir alanda kontrol edilebilir.

Bulusa uygun Örnek 3: Örneklerde (1) üretilmis doku bantlari (la ve le) ayrica, yalnizca amfoter aminin losyon içerisinde bulundugu (losyon 6) veya amfoter aminin kalsiyum tuz olarak kullanildigi (losyonlar 7 ve 8) farkli losyonlar ile islenmistir. Bunun için, ilgili doku bantlarinin 10 x 10 cm büyüklügündeki bölümleri, baglayicinin kurutulmasindan ve yogunlastirilmasindan sonra kesilmistir ve bölüm basina. 11 ml farkli losyon (6-8) ile degistirilmistir. Kullanilan losyonlarin (6 ila 8) bilesimi Tablo 4'te verilmistir. Verilen hacmen 6 degerleri, losyonun Losyon 7 ve 8'de kullanilmadan önce kalsiyum tuz L lisin tarafindan, Tablo 4'te verilen L lisin miktarinin Tablo 4'te verilen CaCIz X 2 HzO miktari ile degistirilerek su içerisinde üretilmistir ve ilgili losyona eklenmistir.

Tablo 4: Losyonlar 6 ila 8 kullaniminda nem dayanikliligi degerleri Baglayici madde Finnfix Rheolon 700 30 Uygulama miktari 1,29 1,75 . . _ Yas yirtma degeri L- CaC12 X 2 1,2- Etanol Su No. Lysin Ibo propandiol Yalnizca bir amfoter amin içeren ve ilave çok degerli metal katyon içermeyen bir losyon ile de yeterli bir nem dayanikliligi elde edilebilirdi. Bir pH degeri ayarlamasi, çok degerli iyonlar yerine organik veya anorganik asitlerle gerçeklesir; burada, 4,0 ila 5,5 araliginda bir pH degeri kullanilmistir.

Ilgili amfoter aminin kalsiyum tuzunun losyon (losyonlar 7 ve 8) içerisinde kullaniminda çok iyi nem dayanikliligi elde edilmistir.

Bulusa uygun Örnek 4: Kullanilan losyonlar* 1 ila 8, L lisine amfoter amin olarak sahiptir. Ilave amfoter aminlerin nem dayanikliligi üzerindeki etkisini arastirmak için ilave doku bantlari üretilmistir. Bunun için ayni sekilde, Parchem -fine & specialty chemicals, Inc.

(New Rochelle, NY, USA) oder Sigma- Aldrich Chemie GmbH (München, DE), sirketinin W4 isaretine sahip, yakl. 50 g/m2 degerindeki bir toplam yüzey agirligina sahip olan, ticari olarak alinabilir bir Airlaid selüloz doku kullanilmistir.

Baglayici olarak, baglayicinin hacmen %4 içerikli bir dispersiyon seklinde doku bandi üzerine püskürtülmüs Rheolon 1000G kullanilmistir; burada verilen yüzde sayisi, kullanilan dispersiyonun 1000 g su basina baglayici orani ile ilgilidir.

Doku bandinin ön ve arka tarafinda 1,75 g/HF Rheolon 1000G uygulanmistir. Doku bandi üzerine toplam baglayici uygulamasi °C'lik bir sicaklikta kurutulmasindan ve yogunlasmasindan sonra Daha sonra elde edilen kuru durumdaki doku bantlarinin yirtma degerleri ölçülmüstür. Bunun için, elde edilen dokularin 10 x 10 cm büyüklükteki bölümleri oda sicakliginda DIN 54540-8 standardina göre, çekme deneyinde makine yönünde çekme yoluyla ölçülmüstür. Asagida verilmis yirtma degerleri ("Kuru yirtma degeri"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Ayrica, elde edilen yas durumdaki doku bantlarinin yirtma degerleri ölçülmüstür. Bunun için, elde edilen dokularin 10 x 10 cni büyüklügündeki bölümleri, baglayicinin kurutulmasindan ve yogunlastirilmasindan sonra kesilmis, bölümün kuru agirligi belirlenmis ve bölüni basina 11 ml farkli losyon (9-30) ile degistirilmistir. Kullanilan losyonlarin (9 ila. 30) bilesimi Tablo 5'te verilmistir. Verilen hacmen 5% degerleri, losyonun Tablo 5: Losyonlar 9 ila 30'un bilesimi kullanilmis Losyon bilesimi [hacmen %] Losyon Amfoter amin amin CaCIz X 1,2- Etanol Su no. 2H20 propandiol kullanilmis Losyon bilesimi [hacmen %] Dihidroksifenilalan Tablo 5'te "Ca-" ile isaretlenmis amfoter aminler, ilgili L amino asitin kalsiyum tuzu olarak kullanilmistir. Ilgili losyondaki kullanimdan önce, Tablo 5'te verilen amfoter amin miktari, Tablo 'te verilen CaCIz X 2 HzO miktari ile birlikte damitilmis suda çözülmüs ve ilgili losyona eklenmistir. Üretilmis doku bantlarinin kuru durumdaki ve losyonlar 9 ila 30 ile nemlendirilmesinden sonra yirtma degerleri Tablo 6'da özetlenmistir.

Ayrica, su içerisinde parçalanma süresi, EDANA FG502 ("Slosh Box Disintigration Test") (EDANA = European Disposables and Nonwovens Association) deneyine benzer bir sekilde 20 °C'de 10 bölümde belirlenmistir.

Bunun için nemlendirilmis bölümler, 2 L sebeke suyuna (Sicaklik: °C, Toplam katilik: l3,5°dH, 20°C'de iletkenlik: 412 uS/cm, pH degeri: 7,5) sahip deney kabina. verilmis ve karistirilmadan inkübe edilmistir. Parçalanma süresi görsel denetim sonrasinda belirlenmistir. Tablo 6'de verilmis parçalanma zamanlari, 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Bölümler, deney kabinda 20 °C'de toplam 3 saat parçalanmasindan sonra karistirilmadan inkübe edilmistir ve daha sonra bir delikli süzek (ilmik araligi: 12,5 mm) içerisinden verilmistir.

Süzek üzerinde kalan malzeme toplanmis, kurutulmus ve tartilmistir.

Test edilmis bütün bölümlerde, bölümlerin önceden belirlenmis kuru agirligina bagli olarak süzek üzerinde hacmen %10'dan az malzeme kalmasi nedeniyle EDANA deneyi, incelenmis bütün losyonlar için geçerli olarak degerlendirilmistir.

Su içerisindeki parçalanma deneyinin sonuçlari yine Tablo 6'da özetlenmistir.

Tablo 6: Losyonlar 9 ila 30 ile nemlendirilmis doku bantlarinin kuru sabit degerleri ve yas sabit degerleri Kuru yirtma Yas yirtma degeri Su içerisinde dederi parcalanma Losyon no. [N] [N] [s] 9 48 8,6 20 50 8,5 < 10 11 54 14,6 35 12 54 12 25 13 54 12 25 14 54 8,5 < 10 54 13,2 25 16 48 11 35 17 51 9 40 18 54 12 20 19 55 12 20 48 13 40 21 48 8 30 22 55 9,5 35 23 49 9 25 24 54 11 30 49 8,5 15 26 47 8,1 <10 27 54 10,5 25 28 52 11 40 29 55 11,5 35 48 9,6 30 Losyonlar 10 ila 30 ile nemlendirilmis bölümlerin elde edilen nem dayanikliliklari, lisinin (losyon 9) altinda analogdur.

Karsilastirma örnegi 5 EP 0 372 388 A2 numarali patentte tarif edilen temizlik kagidina benzer bir sekilde, örnekler 1'de üretilmis soku bantlari la ve le, amfoter amin içermeyen losyon ile islenmistir. Bunun için, ilgili doku bantlarinin 10 >< 10 cm büyüklügündeki bölümleri, baglayicinin kurutulmasindan ve yogunlastirilmasindan sonra kesilmistir ve bölüm basina 11 ml farkli losyonlar (31 ve 32) ile degistirilmistir. Kullanilan losyonlarin (31 ve 32) bilesimi Tablo 7'te verilmistir. Verilen hacmen -a degerleri, losyonun Oda sicakliginda 60 dakikalik bir inkübasyondan sonra, nemlendirilmis bölümlerin yirtma degerleri oda sicakliginda, DIN 54540-8 stnadardina benzer bir sekilde Çekme deneyinde, makine yönünde çekilerek ölçülmüstür. Asagida verilmis yirtma degerleri ("Yas yirtma degeri"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Tablo 7: Losyonlarin (31 ve 32) kullaniminda nem dayanikliligi degerleri Baglayici madde Finnfix Rheolon 700 30 1,29 1,75 Uygulama miktari [g/mH Loston bilesimi [hacmen Amfoter CaC12 X 2 HzO 1i2'_ Yas yirtma degeri No. amin propandiol Etanol Su [N] Bir amfoter aminin, örnegin bir L amino asitin kullanimi olmaksizin elde edilen nem dayanikliliklari önemli derecede daha Bulusa uygun Örnek 6 ve Karsilastirma örnegi 7 Nemlendirilmis bölümlerin, bir amfoter aminin varliginda veya yoklugunda depolama saglamligini test etmek için, örnekler 1'de üretilmis doku bantlari (la ve la) farkli losyonlar ile islenmis ve daha sonra, nem dayanikliligi ölçülmeden önce 30 gün boyunca Bunun için, ilgili doku bantlarinin 10 x 10 cm büyüklügündeki bölümleri, baglayicinin kurutulmasindan ve yogunlastirilmasindan sonra kesilmistir ve karsilastirma örnegi 'teki ilgili losyonlarin (31 ve 32) ve bulusa uygun örnek 3'deki losyonlarin (6, 7 ve 8) bölüm basina 11 ml kadari ile degistirilmistir. Kullanilan, losyonlarin bilesimi Tablo 8'de verilmistir. Verilen hacmen 6 degerleri, losyonun toplam agirligi ile ilgilidir.

Oda sicakliginda 60 dakikalik bir inkübasyondan sonra, nemlendirilmis bölümlerin yirtma degerleri oda sicakliginda ("60 dk sonra"), DIN 54540-8 stnadardina benzer bir sekilde çekme deneyinde, makine yönünde çekilerek ölçülmüstür. Diger bölümler, nemlendirilmis bölümlerin yirtma degerleri oda sicakliginda ("30 gün sonra"), DIN 54540-8 standardina benzer bir sekilde çekme deneyinde, makine yönünde çekilerek ölçülmeden önce oda sicakliginda (25 °C'de) kapali kaplarda 30 gün boyunca ilgili losyonda depolanmistir. Asagida verilmis yirtma degerleri ("Yas yirtma degeri"), 10 ölçümün aritmetik ortalamasini vermektedir.

Tablo 8: Nem dayanikliliginin oda sicakliginda 30 günlük depolamadan sonra karsilastirmasi Baglayici madde Loston bilesimi [hacmen %] 60 dk sonra 30 gün sonra No. Lisin HK) propandiol Etanol Su degeri [N] degeri [N] Loston bilesimi [hacmen %] No. Lisin IMO propandiol Etanol Su degeri [N] degeri [N] Nem dayanikliliginin verilen ilgili depolama sartlari altinda saglamligi, yalnizca amfoter amin içerikli losyonlar ile elde edilmistir.

Amfoter amin, örnegin amino asit içermeyen sistemler, ticaret konforlu ürünler üretmek için bu arka planin önünde uygun degildi. Kullanilan losyonlarda (31 ve 32) yalnizca 30 günlük bir depolama bile, nem dayanikliliginin önemli derecede azalmasina neden olmustur; bu örnegin nemli tuvalet kagidi olarak diger bir kullanimi imkansiz kilmistir.

Bundan ayri olarak, losyonlardan (6 ila 8) birinin kullaniminda gün sonunda nem dayanikliligi önemli bir azalma görülmemistir. Böylece, nemli bezlerin uygun losyonda, örnegin bir pakette depolanmasinda, örnegin tüketicide en az 30 günde, tüketicinin kullaniminda bir nemli bezin veya nemli tuvalet kagidinin mekanik yükünün belirgin bir azalmasi görülmemistir.

Claims

ISTEMLER

1. Neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; subtratin, lifler, en az bir baglayici, hem Brznsted asidi hem de Bronsted bazi olarak tepki veren bir bag olan en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir baglayicinin, en az bir polisakkaritin en az bir asit grubu içerikli köke sahiptir` ve burada en az bir nemli maddenin, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin kaisimlarindan olusan gruptan seçilmis en az bir organik bilesen içermesi ile karakterize edilir.

2. Istem l'e göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir baglayicinin en az bir poli sakkaritinin, selüloz, nisasta, agaroz, algin, alginat, kitin, pektin, kauçuk arabikum, ksantan, guaran ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmesi, burada asit grubu içerikli en az bir kökün, karboksil grubu içerikli köklerden, fosfat içerikli köklerden, fosfon asidi içerikli köklerden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen karboksil grubu içerikli köklerden olusan gruptan seçilmesi ile karakterize edilir.

3. Istemler 1 veya Z'den birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir baglayicinin, karboksialkil- selülozlardan, karboksialkil-alkil-selülozlardan, karboksialkil-hidroksialkil-selülozlardan ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmesi, burada düz Zincirli veya dallanmis olabilen alkil kökün 1 ila 4 karbon atomuna sahip

4. Istemler 1 ila 3'ten birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada karboksimetil gruplari vasitasiyla bir ortalama sübstitüsyon derecesine (DS) sahip olan karboksimetil selülozdan (CMC) en az bir baglayici, anhidroglükoz birimi basina, ASTM D 1439 - 03 / B yöntemine göre belirlenmis sekilde, tercihen 0,4 ila 1,5 araligindan fazla, tercihen. 0,6 ila 1,1 araliginda, tercihen 0,7 ila 0,9 araliginda tercihen bir alkali metal tuzu, tercihen natriyum tuzu içermesi ile karakterize edilir.

5. Istemler 1 ila 4'ten birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada substratin, en az bir baglayiciyi, kuru substratin toplam agirligina bagli olarak hacmen % 1 ila hacmen

6. Istemler 1 ila 5'den birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir amfoter aminin, tercihen 2 ila 36 karbon atomuna sahip olan, sübstite edilmemis veya sübstite edilmis olan amino karbon asitlerinden, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmesi ile karakterize edilir.

7. Istemler 1 ila 6'dan birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir amfoter aminin, alanin, arginin, asparagin, asparagin asit, sitrullin, sistein, S-metilsistein, kistin, kreatin, homosistein, homoserin, norlökin, 2-aminobutan asit, 2-amino-3-merkapto-3-metil-butanasit, 3-aminobutan asit, 2-amino-3,3-dimetilbutanasit, 4-aminobutan asit, 2-amino-2- metilpropanasit, 2-amino-3-sikloheksilpropanasit, 3- aminopropanasit, 2,3-diaminopropanasit, 3-aminoheksanasit, gamma-karboksiglutamin asit (3-aminopropan-l,1,3- trikarbonasit), glutamin, glutamin asit, glisin, histidin, hidroksiprolin, p-hidroksifenilglisin, izolökin, izovalin, lökin, lizin, metiyonin, ornitin ((S)-(+)-2,5- diaminopentanasit), fenilalanin, prolin, serin, threonin, triptofan, tirozin, valin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, tercihen alanin, arginin, glisin, prolin, lizin, histidin, glutamin, glutamin asit, asparagin asit, ornitin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen alanin, arginin, glisin, prolin, lizin, ornitin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen arginin, lizin, ornitin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen alanin, glisin, prolin, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen histidin, glutamin, glutamin asit, asparagin asit, bunlarin tuzlarindan, bunlarin komplekslerinden ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmesi ile karakterize edilir.

8. Istemler 1 ila 7'den birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada substratin, en az bir amfoter amini, kuru substratin toplam agirligina bagli olarak hacmen % 0,1 ila hacmen

9. Istemler 1 ila 8'den birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir nemli maddenin, en az bir organik bileseni, en az bir nemli maddenin toplam.agirligina bagli olarak en az hcmen %5,0 oraninda içermesi ile karakterize edilir.

10. Istemler 1 ila 9'dan birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir nemli maddenin, metanol, etanol, l- propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-metil-l-propanol, 2-metil-2-propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, 2- metil-l-butanol, 2-metil-2-butanol, 3-metil-l-butanol, 3-metil- 2-butanol, 2,2-dimetil-l-propanol, l-heksanol, etan-l,2-diol, propan-l,2-diol, propan-l,3-diol, butan-1,2-diol, butan-1,3- diol, butan-l,4-diol, butan-2,3-diol, 1,2,3-propantriol, heksanheksol, 2-(2-hidroksietoksi)etanol, 2-[2-(2- hidroksietoksi)etoksi]etanol, PEG-4, PEG-6, PEG-7, PEG-8, PEG- 9, PEG-lO, PEG-lZ, PEG-l4, PEG-l6, PEG-l8, PEG-ZO ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen metanol, etanol, l-propanol, 2- propanol, l-butanol, 2-butanol, 2-metil-l-propanol, 2-metil-2- propanol, etan-l,2-diol, propan-1,2-diol, propan-l,3-diol, 1,2,3-propantriol, l,2,3,4-butantetrol, 1,2,3-propantriol ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, l-propanol, 2- propanol, etan-l,2-diol, propan-1,2-diol, propan-l,3-diol, l,2,3-propantriol ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen etanol, l-propanol, 2-propanol, etan-l,2-diol, propan-l,2-diol, propan-1,3-diol ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis en az br organik bilesen içermesi ile karakterize

11. Istemler 1 ila lO'dan birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin bir yüzey yapisi, tercihen bir bez, kapak, kese, torba, yastik veya çuval olmasi ile karakterize edilir.

12. Istemler 1 ila ll'den birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir nemli maddenin ayrica, geçis metallerinin çok degerli iyonlarindan, elementlerin periyot sisteminin 3. ve 4. ana grubu metallerinin çok degerli iyonlarindan, alkalik madenlerin iyonlarindan ve bunlarin karisimlarindan olusan gruptan seçilmis en az bir çok degerli metal katyon içermesi ile karakterize edilir.

13. Istemler 1 ila lZ'den birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; substratin lifler, en az bir baglayici, en az bir amfoter amin ve en az bir nemli madde içermesi, burada en az bir nemli maddenin ayrica, Ca”, Zn2+ elementlerinden ve bunlarin karisimlarindan, ayrica tercihen Ca” elementinden olusan gruptan seçilmis en az bir` metal katyon içermesi ile karakterize edilir.

14. Istemler 1 ila l3'ten birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substratin üretilmesine yönelik, burada asagidaki adimlara sahip olan: (a) Lifler ve en az bir baglayiciya sahip olan lif içerikli bir substratin hazirlanmasi; burada en az bir baglayici en az bir polisakkarit, en az bir asit grubu içerikli kök içerir, substrat olup, Özelligi; (a) adiminda ve/Veya bu adimdan sonra, hem Brznsted asidi hem de Brznsted bazi olarak tepki veren bir baglanti olan en az bir amfoter* aminin ve en az bir nemli maddenin, arka arkaya, birlikte veya ayni anda eklenmesi, burada en az bir nemli maddenin, alifatik alkollerden, alifatik eterlerden, alifatik esterlerden, monosakkaritlerden, oligosakkaritlerden ve bunlarin kaisimlarindan olusan gruptan seçilmis en az bir organik bilesen içermesi ile karakterize

15. Istemler 1 ila l3'ten birine göre neme karsi dayanikli, lif içerikli substrat olup, özelligi; hijyen ürünü olarak, özellikle nemli bez, temizlik bezi, nemli tuvalet kagidi olarak kullanilmasidir.