TR201806063T4 - Siklik N, O asetal bileşikleri ve bunlar kullanılarak üretilen polimerler - Google Patents

Abstract

Bu buluş, çapraz bağlanabilen ve kaplamalar, yapıştırıcılar ve tekstil binderleri olarak kullanılabilecek çapraz bağlanabilir polimerler oluşturmak üzere diğer etilenik monomerlerle homo- ve kopolimerize edilebilen genel yapısal formül (I) 'e sahip olan olefinik olarak doymamış monomerler ile ilgilidir. Çapraz bağlama reaksiyonu, ısı ile desteklenir ve sonuçta oluşan çapraz bağlanmış polimerler, kürlenme sırasında formaldehit salınımı göstermez ve çözücüye karşı dirençlidir.

Description

Tarifname Siklik N, O asetal bilesikleri ve bunlar kullanilarak üretilen polimerler Mevcut bulus, kaplamalar, yapistiricilar ve tekstil binderlerinin üretiminde kullanilabilen çapraz baglanabilir polimerler olusturmak üzere tek basina veya diger etilenik monomerlerle birlikte polimerize edilebilen çapraz baglanabilir, olefinik olarak doymamis monomerler ile ilgilidir. Çapraz baglanma reaksiyonu isi ile desteklenir, reaksiyon sonucu olusan çapraz baglanmis polimerler çözücüye karsi dirençlidir ve kürleme sirasinda formaldehit salinimi gerçeklestirmezler.

Termal olarak k'urlenebilir fonksiyonel gruplar içeren etilenik monomerlerin polimerizasyonuyla elde edilen polimerler, tekstil, kaplama ve yapiskan malzeme sektörlerinin birçok alaninda kullanima sahiptir. Bu gibi polimerler kati, sulu dispersiyon, em'ulsiyon veya çözelti formunda olabilir. Epoksi, karboksilik asit, bloke izosiyanat veya N-metilol gruplarini içeren polimerler, etilenik monomerlerden elde edilen en yaygin kullanima sahip polimerler arasindadir. Bu gruplar, prensipte polimerizasyon prosesine katilmayan pendant gruplar olarak etilenik omurgaya dahil edilirler. Tekstil endüstrisinde, en yaygin kullanilan baglayicilar omurgasinda N- metilol akrilamid içeren baglayicilardir. Fakat, N-metilol akrilamid gibi N-metilol içeren baglayicilar kürleme islemi sirasinda formaldehit salinimi yaparlar.

US 3,311,642 sayili patentte açiklanan örnekte (Örnek 8) N- (2-tetrahidropiranil) - akrilamid (THPA), DHP ve akrilamidin reaksiyonu ile elde edilmektedir. Bu patent, bu tür bilesiklerin antifungal ajanlar olarak kullanilmasina iliskindir ve bu nedenle bu bilesigin çapraz baglanma kabiliyeti tartisilmamistir veya arastirilmamistir. Siklik asetal disinda, dogrusal dialkil ikameli akrilamidler US 4,959,489'da açiklanmistir. US piranile baglanmis sülfonamidler ve furanil, fotorezist materyaller olarak açiklanmistir.

Rajani Bhat ve Agostino Pietrangelo'nun "Piroglutamik Asit, Biyo-Kaynakli Bir Kaynak", Macromol içinde "Tünel Thermoresponsive Pyrrolidone Bazli Polimerler" baslikli makalesinde. Rapid Commun., 2013, 34, 447, degisen alkoksi ikame edicilerine sahip pirolidon bazli polimerler açiklanmistir.

X.-L Sun ve makalenin diger yazarlari, "Journal of Material Chemistry B, 2015, 3, 814-815" te yayimlanan, "Ayarlanabilir pirolidon bazli polimer çekirdeklerine sahip isiya dayanikli blok kopolimer miselleriii isimli makalelerinde; bir blokun pirolidon ikameli etilenik tekrar birimlerinden yapildigi, ilaç tasiyici olarak kullanilabilen misel yapilari olusturan A-B tipi blok kopolimerlerin potansiyelini tartismaktadir.

Buna göre, mevcut bulusun amaci, kürleme sonrasinda herhangi bir formaldehit salinimi yapmayan yeni tipte polimer baglayicilarin, dolayisiyla formaldehit içermeyen olarak düsünülebilecek baglayicilarin temin edilmesidir.

Asagidaki açiklamalardan da anlasilacak olan bu amaç, genel yapisal formül (l) 'e sahip olan siklik N, O asetal bilesikleri ile ilgili olan mevcut bulus ile elde edilmektedir: n = 1 veya 2'dir, Y (met)akriloyoksi'den seçilir ve X, bir etilen (-CH2-CH2-), propilen (-CH2-CH2-CH2-) veya bütilen (-CH2-CH2-CH2- CH2-) fonksiyonel grubudur, R, hidrojen, metil, etil, propil ve izopropilden olusan gruptan seçilir ve eger mevcutsa, Z ikame edilmemis veya ikame edilmis, anillenmis bir benzen halkasindan seçilir, Z mevcutsa, n =1'dir.

Buna göre, mevcut bulus, çapraz baglanabilir fonksiyonel gruplar olarak amido N,O asetalleri ve hemi asetalleri içeren yeni etilenik monomerleri ve bunlardan üretilen polimerleri içerir.

Siklik N,O asetal monomerler özellikle hizli reaksiyona girme özelligine sahiptir ve etkin çapraz baglanma gösterirler. Elde edilen çapraz baglanmis ürünler, mükemmel çözücü ve su direnci, düsük enerji ile kürlenebilme özelliklerine sahiptir. Kaplama, baglayici veya yapistirici olarak kullanimda iyi yapisma gösterirler. Bilhassa hiçbir formaldehit içermezler.

Bu bulusun siklik N,O asetal monomerleri, serbest radikal polimerizasyon yöntemi ile polimerlesebilir. Buna göre, bulusun bir baska yönü, monomer olarak bu tür bilesikleri içeren polimerler içermesidir. Polimer zincirine katilan bu monomerler sayesinde, elde edilen polimerler asit katalizi ve/veya isiyla sertlestirme kosullari altinda kendi kendine çapraz baglanabilirler. Dahasi, alkoller ve dioller gibi aktif hidrojen bilesikleri ile reaksiyona girerler.

Mevcut bulusun tercih edilen baska bir uygulmasinda, yukaridaki yapisal formülde (I), n = 1 ve Z yoktur.

Mevcut bulusun tercih edilen baska bir uygulamasinda, yukaridaki yapisal formül (I) Mevcut bulusun daha da tercih edilen bir uygulamasinda, yukaridaki yapisal formül (I) 'de, n = 2'dir.

Tercihen, yukaridaki yapisal formül (I)i deki R, metil, etil veya izopropil, daha tercihen metil veya etildir.

Mevcut bulusun olefinik olarak doymamis olan siklik N, O asetal monomerleri, homopolimerize edilebilir veya herhangi bir miktarda, örnegin, % O"dan % 99'a kadar olan oranlarda, birbirleriyle ve/veya baska kopolimerize edilebilir monomerlerle, polimerize edilebilir. Kopolimerlerini mevcut bulusa ait siklik N, O asetal monomerlerinin agirlikça yaklasik % 0.5 ila % 10' unu, özellikle de dokumasiz yüzeylerde kullanilan baglayici polimerlerde agirlikça yaklasik % 1 ila 3'ü içermesi tercih edilir.

Uygun kopolimerize edilebilir monomerler, akrilik, metakrilik, krotonik ve izokrotonik asitler gibi 03-010 alkenoik asitler ve bunlarin esterleri, metanol, etanol, propanol, bütanol ve 2-etilheksil alkol gibi Ci-C18 alkanoller ile mono-olefinik ve poliolefinik açidan doymamis monomerleri (C4-CZ8 alkil akrilatlar); maleik asit, fumarik asit ve itakonik asit gibi alfa, beta-doymamis C4-C1O alkenedioik asitleri ve ayni Ci-C18 alkanolleri olan monoesterleri ve diesterleri; vinil klorür ve vinil flor'ür gibi vinil halojenürleri; viniliden klorür gibi viniliden halojen'ürleri; etilen, propilen ve bütadien gibi alkenleri; stiren, viniltoluen ve diger sübstitüe edilmis stirenleri; ve nitrojen ihtiva eden monoolefinik olarak doymamis monomerler, özellikle nitriller, amidler, N-metilol amidler, N-metilol amidlerin düsük alkanoik asit esterleri, N-metilol amidlerin düsük alkil eterleri ve akrilonitril, akrilamid, metakrilamid, N-metilolilakrilamid gibi allil karbamatlar N-metilol metakrilamid, N-metilol aIiI karbamat ve N-metilol düsük alkil eterleri ve N-metilkollakit, N-metilol metakrilamid ve N-metilol aIiI karbamatin N- metilol düsük alkanoik asit esterlerini; vinil format, vinil propiyonat, vinil laurat ve özellikle vinil asetat gibi C1-C18 alkanoik asitlerin vinil esterlerini; metil vinil eter ve izob'ütil vinil eter gibi vinil eterleri; ve N-vinil pirolidon, N-vinilasetamid ve N- vinilformamid gibi vinilamidleri içerir. Ozel uygulamalarda, polimer Iateksler n-b'ütil akrilat-metil metakrilat, etil akrilat, 2-etilheksil akrilat veya herhangi bir baska polimerize edilebilir monomerden olusabilir.

Bu bulusun siklik N, O asetal monomerlerinin vinil asetat-bütil akrilat ve bütil akrilat- metil metakrilat terpolimerleri `özellikle tercih edilir.

Bu bulusun siklik N, O asetal monomerlerini içeren tercih edilen polimerler, su komonomer sistemlerinin agirlikça % 90 ila % 99.5'i ile hazirlanir: vinil asetat; vinil asetat-etilen; vinil asetat-butil akrilat; vinil klorür-etilen; C4 ila C28 alkil akrilatlar, örnegin bütil akrilat, metil metakrilat ve benzerleri; vinil asetat-akrilat; ve stiren.

Vinil asetat-etilen ve vinil klorür-etilen terpolimerlerinde, etilen polimerin agirlikça % 1 ila % 80'ini, tercihen agirlikça % 5 ila % 40'ini olusturabilir.

Vinil asetat-akrilat terpolimerlerinde akrilat, agirligin % 0.5 ila 99' unu, tercihen % 15 ila 50'sini olusturabilir.

Bununla birlikte, herhangi bir baska polimerize edilebilir monomer kullanilabilir.

Mevcut bulusa ait siklik N, O asetal monomerleri, homopolimerize edilebilir, birbirleri ile kopolimerize edilebilir veya teknikte iyi bilinen çözelti veya sulu emülsiyon polimerizasyon teknikleriyle yukaridaki kopolimerlestirilebilir monomerlerden en az biri ile kopolimerize edilebilir. Bu polimerizasyon teknikleri su kaynaklarda açiklanmistir: Polymer Synthesis, Vol. I ve II, SR Sandler ve W. Karo, Academic Press, New York ve Londra (1974) ve WR Sorenson ve TW Campbell, Interscience Publishers (John Wiley ve Sons), Polimer Kimyaisinda Hazirlama Yöntemleri, Ikinci Basim, New York (1968). Çözelti polimerizasyonu için uygun olan çözücüler arasinda tolüen, izopropanol, etanol, metanol, benzeri, aseton, etil asetat, asetonitril, dimetilformamit, metil etil keton ve su bulunur.

Polimerizasyon formülasyonundaki monomerler, çesitli monomerlerin çesitli polimerizasyon reaktivitelerinden yararlanmak için, bir kerede tamamen eklenebilir veya aralikli veya sürekli, tercihen sabit bir besleme hizinda veya bunlarin herhangi bir kombinasyonunda polimerizasyon reaksiyon ortamina kademeli olarak beslenebilir. Çesitli serbest radikal Olusturucu malzemelerin katalitik olarak etkili miktarlari, monomerlerin, örnegin perasetik asit, benzoil peroksit ve persülfat tuzu ve azo bilesikleri gibi peroksit bilesikleri polimerizasyonun gerçeklestirilmesinde kullanilabilir.

Hem redüksiyon ajanlarini hem de oksitleyici ajanlari kullanan kombinasyon tipi sistemler de kullanilabilir, örn. redoks sistemi. Uygun indirgeyici ajanlar veya aktivatörler arasinda bisülfitler, sülfoksilatlar veya askorbik asit, erythorbik asit ve diger indirgeyici sekerler gibi indirgeme özelliklerine sahip baska bilesikler bulunur.

Oksitleyici maddeler arasinda, hidrojen peroksit, t-b'ütil hidroperoksit ve benzeri organik peroksitler, amonyum veya potasyum persülfat gibi persülfatlar ve benzeri yer alir. Kullanilabilecek spesifik redoks sistemleri hidrojen peroksit ve çinko formaldehit sülfoksilati içerir; t-bütilhidroperoksit ve erythorbic asit; hidrojen peroksit, amonyum pers'ülfat, potasyum persülfat veya t-butil hidroperoksit, sodyum metabisülfit, sodyum bisülfit, demir sülfat, çinko formaldehit sülfoksilat, sodyum formaldehit sülfoksilat veya sodyum aseton bisülfit içerir. Teknikte iyi bilinen diger serbest radikal olusturma sistemleri de monomerleri polimerize etmek için kullanilabilir.

Oksitleyici madde genellikle polimerizasyon sistemine sokulan monomerlerin agirligina bagli olarak % 0.01 ila % 1, tercihen% 0.05 ila 0.5 miktarinda kullanilir.

Indirgeyici madde, uygun bir çözücü içinde gerekli esdeger miktarda çözündürülür.

Sulu emülsiyon polimerizasyon teknikleri ile ilgili olarak, yine, bilinen herhangi bir emülsifiye edici madde kullanilabilir, bu gibi emülsifiye edici maddeler arasinda, sodyum laurii sülfat, sodyum sülfosüksinat esterleri ve amidler, sülfonatli alkil benzenler, alkilfenoksi polietoksi etanoller ve diger polioksietilen kondensatlar gibi iyonik ve iyonik olmayan yüzey aktif maddeler bulunur.

Kullanilacak toplam emülsifiye edici madde miktarinin konsantrasyon araligi, kati içerigine bakilmaksizin emülsiyonun sulu fazina bagli olarak % 0.5 ila % 5'ten azdir.

Sulu emülsiyon reaksiyon ortaminin pH'ini korumak için gerekli oldugunda, tipik tamponlama sistemleri kullanilabilir.

Sürfaktanlara ek olarak veya bunlarin yerine, hidroksietil selüloz, metil selüloz, hidroksipropil metil selüloz ve benzerleri gibi polivinil alkol ve selülozlar gibi koruyucu koloitler, emülsifiye edici veya dengeleyici madde olarak kullanilabilir.

Polivinil alkol, en basta veya polimerizasyon reaksiyonu sirasinda stabilize edici ajan olarak eklendiginde, monomerler tipik olarak polivinil alkol omurgasina asilanir.

Bu bulusun siklik N, O asetal monomerleri ve bu monomerler kullanilarak üretilen polimerleri, boyalar ve diger kaplamalar ve ayrica cam, ahsap, kagit, metal, seramik ve diger substratlarda kullanilan yapistiricilarda çapraz baglayici ve yapiskanlik arttirici madde olarak kullanim için uygundur; dokumasiz ürünler, medikal / cerrahi uygulamalar, bebek bezi örtüleri, mendiller, havlular, giyim esyasi, halilar, kumaslar, filtrasyon ürünleri ve ev esyalarinda ise formaldehit içermeyen baglayicilar olarak kullanim için uygundur.

Standart aminoplastlar ve fenoplastlarla birlikte kullanildiginda formaldehiti azaltmak ve/ veya adezyonu ve diger performans faktörlerini gelistirmek için yardimci reaktifler Bu bulusun siklik N,O asetal monomerlerinden üretilen polimerler, dokumasiz ürünlerin veya kumaslarin hazirlanmasinda baglayici formülasyonlari olarak kullanilabilir. Bu kullanim genel olarak, gevsek bir sekilde hazirlanmis lif kütlesinin kopolimer baglayici emülsiyon ile emprenye edilmesi gibi sanayide bilinen çesitli yöntemleri içerir. Ayrica arkasindan baglayici emülsiyon ile bir araya getirilmis elyaf kütlesinin kurutulmasi için orta düzeyde isitma uygulanir.

Bu orta düzeydeki isitma da genellikle çapraz baglanmis bir polimer olusturarak baglayiciyi iyilestirmeye yarar. Baglayici uygulanmadan önce çapraz baglayici monomer için uygun bir katalizör ile karistirilabilir. Örnegin, mineral asitler gibi bir asit katalizör'u, örn. hidrojen klor'ur veya organik asitler, örn. p-toluensülfonik asit veya amonyum klorür gibi asit tuzlari, teknikte bilindigi gibi uygun sekilde kullanilir.

Katalizör miktari, toplam baglayici reçinenin genel olarak yaklasik % 0.5 ila 2'sidir.

Baslangiçtaki lif tabakasi veya kütlesi, bir ag veya tabakada Iiflerin biriktirilmesi veya düzenlenmesi için geleneksel tekniklerin herhangi biri ile olusturulabilir. Bu teknikler, taraklama, garnitürleme, hava serme ve benzerlerini içerir. Bu tekniklerin biri veya daha fazlasi tarafindan olusturulan tek tek aglar veya ince tabakalar, bir kumasa dönüstürmek için daha kalin bir tabaka saglamak üzere lamine edilebilir. Tipik olarak, lifler, kumasin ana düzlemi ile genel hizalamada, birbiriyle kesisen, açik ve gözenekli bir yapi olusturmak üzere birbirlerini kesen ve destekleyen, çok çesitli yönlerde uzanirlar. içeren lifler kastedilmektedir. Bu nedenle, baslangiç katmaninda kullanilacak liflerin örnekleri odun hamuru, pamuk ve kenevir gibi dogal selüloz Iifleri ve suni ipek ve rejenere selüloz gibi sentetik selüloz lifleridir. Çogu zaman, baslangiç katmanindaki lifler, yün, jüt gibi dogal elyaflari; selüloz asetat gibi suni elyaflar; selüloz asetat, polivinil alkol, poliamidler, naylon, polyester, akrilikler, poliolefinler, yani polietilen, polivinil klorür, poliüretan ve benzerleri gibi sentetik elyaflari, içerebilir.

Lif baslangiç tabakasi, kendi kendini idame ettiren bir ag olusturacak sekilde tek tek lifleri birbirine baglamak için çesitli tipte baglama islemlerinden en az birine tabi tutulur. Daha iyi bilinen birlestirme yöntemlerinin bazilari genel olarak emprenye etme veya ag-yapiyi aralikli ya da sürekli düz ya da dalgali hatlar ya da ag-yapi boyunca genel olarak enine ya da çapraz olarak uzanan ve ayrica istenirse ag boyunca uzanan baglayici bölgelerle bastirmadir.

Su olmadan hesaplandiginda lifli baslangiç ag-yapisina uygulanan baglayici miktari, en azindan, kendi kendini idame ettiren bir agi olustururken elyaflari birbirine baglamak için yeterli olan ve uygun olarak baslangiç aginin agirlikça yaklasik % 3 ila yaklasik % 100 ya da daha fazlasi arasinda degisen, tercihen baslangiç aginin agirlikça yaklasik % 10 ila yaklasik % 50`si araligindaki miktaridir. Emprenye edilmis ag daha sonra kurutulur ve kürlenir. Böylece kumas uygun sekilde bir hava firini veya benzerinden geçirilerek ve daha sonra bir kurutma firinindan geçirilerek kurutulur.

Bulusun monomerleri, kaplama bilesimlerinde reaktif seyrelticiler olarak da yararli olabilir. Ayrica, bilesikler, polivinil alkol, selülozik (odun, kagit, suni ipek, pamuk), nisasta ya da sekerlerin 1,2-ya da 1,3-di0l olan siklik asetallerin olusumu yoluyla modifiye edilmesi ya da islevsel hale getirilmesi için yararli olabilir.

Mevcut bulus, herhangi bir sinirlama olmaksizin asagidaki örneklerde daha detayli olarak gösterilecektir. ÖRNEKLER Monomer Sentezi Asagidaki örnekler, mevcut bulusu kapsamini sinirlamadan açiklamayi amaçlamaktadir. 2- (2-hidroksi-5-oksopirolidin-1-il) etil akrilat (HoPEA) sentezi l NaBH. MeOH ° NazCO; N`/\OH Et3N CHClz \/\0Jîl_b HCI MeOH V`OJ\” Step A StepB Step C Asama A-Etoksilasyon: Süksinimid (0.5 mol) ve etilen karbonatin (0.5 mol) bir çalkalandi.

Daha sonra reaksiyon ürünü, beyaz bir kati halinde N- (2-hidroksietil) süksinimid (HESl) (% 94) elde etmek için indirgenmis basinç altinda damitildi. ( trietilamin önceden sogutulmus karisimina, 450 mL CH20I2 0 ° C'de damla damla ilave edildi. Ekleme tamamlandiktan sonra, reaksiyon karisimi 3 saat oda sicakliginda karistirildi.

Daha sonra ham karisim kismen buharlastirildi ve kati parçaciklar süzülerek çikarildi. Organik karisim ilk önce 100 mL % 10 sulu HCI, daha sonra 100 mL tuzlu su ile yikandi. Organik karisim Na2804 'üzerinde kurutuldu ve süzüldü ve kuruyana kadar buharlastirildi. Ham ürün dietileterden yeniden kristallestirilerek 2- (2,5- dioksopirolidin-1-il) etil akrilat (DoPEA) (% 82) beyaz bir kati olarak elde edildi. `H- CH2CH2-C = 0). 29.57 9 (150 mmol) DoPEA'nin önceden sogutulmus çözeltisine kisimlar halinde ilave edildi. Düzenli araliklarla (10-15 dakika) 2 mL 1 M HCl, metanol içerisinde reaksiyon karisimina eklenmistir. 1.5 saat çalkalamadan sonra, fazla hidrit yok edildi ve reaksiyon karisimi, metanol içinde 1 M HCI eklenerek nötralize edildi.

Nötralizasyondan sonra, ham karisim, kuruyana kadar buharlastirildi ve 200 mL CH20|2 ile özü çikarildi. Organik karisim su ile yikandi ve Na2SO4 'üzerinde kurutuldu.

Organik karisim, “celitef'den süzüldü ve daha sonra kuruyana kadar buharlastirildi ve etil asetat / CHCI2 eluent olarak kullanilarak flas kolon kromatografisiyle aritildi ve berrak bir yag olarak 2- (2-hidroksi-5-oksopir0lidin-1-il) etil akrilat (HoPEA) (% 75) 2- (1-hidroksi-3-oksoizoindolin-2-il) etil akrilat (HolEA) sentezi HzN/\/ I NaBH. MeOH Asama A-Etoksilasyon: Fimoik anhidrit (0.5 mol) ve amino etanol (0.5 mol) esit mol karisimi, 30 dakika boyunca 80 °C'ye kadar dikkatli bir sekilde isitildi ve daha sonra 4 saat boyunca 200° C'de çalkalandi.

Daha sonra reaksiyon ürünü, beyaz bir kati olarak N-(2-hidroksietil) fitalimit (HEPI) (% 80) elde etmek üzere metanolden yeniden kristallestirildi. 'H-NMR (d6-DMSO) 2H, t, N-CH2-).

Asama B-Akrilasyon: Islem, HESI yerine 19.1 9 (100 mmol) HEPI kullanilmasindan ve ham kuru ürünün aseton, metanolden yeniden kristallestirilmesi veya eluent olarak CH2CI2 kullanilarak flas kolon kromatografisi ile saflastirilmasi haricinde Örnek l'deki ile ayniydi. % 82 verimle beyaz bir kati halinde 2- (l, 3-dioksoizoind0lin-2-il) etil akrilat (DolEA) elde edildi. 'H-NMR (CDCIs) 8: sayfa 7.79 (2H, m, aromatik H'Ier), 7.65 (2H, Adim C-Indirgeme: Prosedür, DoPEA yerine 36.78 9 (150 mmol) DolEA kullanilmasi disinda Örnek l'dekiyle ayniydi. Ham kuru ürün,% 78 verimle berrak bir yag halinde - (2-hidroksi-5-0ksopirrolidin-l-il) etil akrilat (HolEA) verecek sekilde etil asetat / CHzClz elüent olarak kullanilarak flas kolon kromatografisiyle aritildi. 'H-NMR ORNEK 3-8 Lateks Baglayicilarin Sentezi Yari-sürekli emülsiyon kopolimerizasyonlarini gerçeklestirmek için 2 L ceketli cam reaktör kabi, bir termostatik sirkülasyon banyosu, bir termokupl, üç peristaltik pompa, bir reflü kondansatörü, mekanik bir karistirici ve paslanmaz çelik karistirici ile donatilmis tam otomatik bilgisayar kontrollü sistem kullanilmistir.

BA/ MMA lateksinin sentezi 40 ile dolduruldu.

Sicaklik 65° C'ye yükseltildi ve karisim 120 rpm`de çalkalandi. Monomer emülsiyonu, 120 g BA karistirilarak 0,5 L beher içinde hazirlandi. Reaksiyon sicakliginda sirasiyla metabisülfit (MBS) reaktöre eklenmistir. Baslama üzerine, kalan monomer emülsiyonu 75 dakika içinde reaktöre beslendi. Beslenen monomer emülsiyonuna amonyak karisimi reaktöre beslenmistir. Besleme periyodunun tamamlanmasindan sonra, Iateks, 15 dakika daha pisirilmis ve reaksiyon sicakliginda, reaksiyona girmemis monomer içerigini azaltmak için, sirasiyla, 4.2 9 °/o 5 tBHP'lik bir çözelti ve 9 g % 5'lik bir MBS çözeltisi eklenmistir. Pisirme asamasindan 15 dakika sonra sistem oda sicakligina kadar sogutuldu ve lateksin pH'i,% 25 sulu amonyak damla damla ilave edilerek 6.5-7.0'a ayarlandi.

Kati içerik:% : 10 cps.

BA/ MMA / NMA (100 mmol) lateksinin sentezi Bu polimer Iateks, Örnek 3'ün islemine göre yapilir, ancak, monomer emülsiyonuna 40 g % 25 n-metilogilaksiid eklenir. Kati içerik:% 40,1; viskozite (Brookfield LVT 1/60): 48 cps.

BA/ MMA / HoPEA (100 mmol) lateksinin sentezi Bu polimer lateks, 19.9 9 HoPEA'nin monomer emülsiyonuna dahil edilmesi haricinde, Örnek 3'ün islemine göre yapilir. Kati içerik:% 41,1; viskozite (Brookfield LVT1/60): 15 cps.

BA/ MMA / HolEA (100 mmol) lateksinin sentezi Bu polimer lateks, Örnek 3'ün islemine göre yapilir, ancak 24.7 9 HolEA, monomer emülsiyonuna dahil edilir. Kati içerik:% : 10 cps.

VAM / BA lateksinin sentezi rpm'de çalkalandi. Monomer emülsiyonu 1 L beherde 167 g DlW, 3.2 9 %31 Aerosol hazirlandi. Reaksiyon sicakliginda, sirasiyla 8 g % 5 sodyum metabisülfit (MBS), 1 g Baslamadan sonra kalan monomer emülsiyonu, 210 dakika içinde reaktöre beslendi.

Besleme periyodunun tamamlanmasindan sonra, lateks ilave 60 dakika boyunca pisirildi ve reaksiyon sicakliginda reaksiyona girmemis monomer içerigini azaltmak için sirasiyla 5 g % 7 tBHP ve 5 g % 7 MBS'Iik bir çözelti eklendi. Pisirme asamasindan 15 dakika sonra sistem oda sicakligina kadar sogutuldu ve kati madde içerigi:% 25 cps olarak ölçüldü.

VAM / BA/ NMA (100 mmol) lateksinin sentezi Bu polimer lateks, Örnek 7'nin prosesine göre yapilir, ancak monomer emülsiyonuna Emülsiyon Polimerleri Üzerinde Swell ve Retikülasyon Indeksi Ölçümleri Polimer filmler, 3 gün boyunca oda sicakliginda lateksler kurutularak elde edildi. Her bir polimer filmden alinan kopyalar, 1x1 cm'lik numuneler (150-200 mg) kesilerek hazirlandi ve filmler, 3 ve 10 dakika boyunca 160° C'de sertlestirildi. Daha sonra, her bir iyilestirilmis film örnegi, 100 mL aseton içeren bir kavanoza konuldu. Bütün kavanozlar mühürlendi ve 1 gün oda sicakliginda tutuldu. Sismis numuneler tartildi ve daha sonra 20 dakika boyunca 150° C'de yeniden kurutuldu ve sisme ve yüzde çözünür hesaplamalar için yeniden tartildi.

Sisme indeksi = aseton içinde sisirilmis numune agirligi /orijinal numune agirligi Çözünür % = (1 - (aseton sismesi sonrasi kuru filmin agirligi / orijinal kuru film Çapraz Sisme Indeksi Aseton içinde baglayici Lateks Bilesimi (Aseton) Çözünür % Example tipi 3' 10' 3' 10' 9 none eo °° 100 100 13 none VAM/BA oo °° 100 100 14 NMA 8.7 6.4 10 8 Tablo 1. Kuru Filmlerdeki Test Sonuçlari Dokumasiz Uygulamalarda Performans Testleri Lateksler dokumasiz örneklere emdirildi. % 35 kati içerige sahip bir lateks banyosu hazirlanmis ve bu banyoya dokumasizlar (her iki tarafta 20 saniye) ve 20 g / m2 kuru toplama ile dokumasiz numuneler hazirlanmistir. Dokumasiz numuneler 3 dakika 160 ° C'de sertlestirilmistir. Numunelerin üç kopyalari (her biri 5x15 cm) 24 saat oda ortaminda kosullandirildi. Numuneler su banyosuna daldirildi ve 40 saniye (her iki tarafta 20 saniye) tutuldu ve daha sonra performans testleri Zwick dinamometre tarafindan gerçeklestirildi.

Latex Islak Dokumasiz Islak Uzama Bilesimi Mukavemet Ornek (N) - Islenmemis 11.2 2.6 16 Baglayici 39.3 5.0 olmadan 17 NMA 136.9 9.4 18 HoPEA 104.4 11.6 19 HolEA 118.1 11.7 Tablo 2. Dokumasiz Uygulamalarda Zwick Performans Testi Sonuçlari

Claims (10)

Istemler

1. (I) no'lu genel yapisal formüle sahip siklik N,O asetal bilesigi olup n = 1 veya 2'dir, Y (met)akril0y0ksi'den seçilir ve X bir etilen (-CH2-CH2-), propilen (-CH2-CH2-CH2-) veya b'utilen (-CH2-CH2-CH2-CH2-) fonksiyonel grubudur, R, hidrojen, metil, etil, propil ve izopropilden olusan gruptan seçilir ve eger mevcutsa, Z ikame edilmemis veya ikame edilmis, anillenmis bir benzen halkasindan seçilir, Z mevcutsa, n = 1'dir.

2. Istem 1'e göre siklik N, O asetal bilesigi olup, burada n = 1'dir ve Z yoktur.

3. Istem 1, e göre siklik N, O asetal bilesigi olup, burada n = 1 ve Z mevcuttur.

4. Istem 1' e göre siklik N, O asetal bilesigi olup, burada n = 2' dir.

5. Istem 1 ila 4' ten herhangi birine göre siklik N, O asetal bilesigi olup, burada R metil veya etildir.

6. Istem 1 ila 5' ten herhangi birine göre siklik N, O asetal bilesiklerinden türetilen polimer birimleri içeren bir emülsiyon polimeri.

7. Istem 6'ya göre emülsiyon polimeri olup, ayrica vinil asetat ve bütil akrilattan türetilmis polimer birimleri içerir.

8. Istem 6 veya 7'ye göre bir emülsiyon polimeri olup, ayrica bütil akrilattan türetilmis polimer birimleri içerir.

9. Istem 6, 7 veya 8'den herhangi birine göre emülsiyon polimerinin çapraz baglanmasiyla elde edilen kürlenmis bir polimer.

10. Istem 6, 7 veya 8' den herhangi birine göre bir emülsiyon polimeri veya istem 9'a göre kürlenmis bir polimerin bir kaplama maddesi, yapistirici veya tekstil binderi olarak kullanilmasi.