TH95173A - วิธีการเพื่อการผลิตพื้นผิวตัวนำไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้าง - Google Patents

วิธีการเพื่อการผลิตพื้นผิวตัวนำไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้าง

Info

Publication number
TH95173A
TH95173A TH801000287A TH0801000287A TH95173A TH 95173 A TH95173 A TH 95173A TH 801000287 A TH801000287 A TH 801000287A TH 0801000287 A TH0801000287 A TH 0801000287A TH 95173 A TH95173 A TH 95173A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
electrolytic
under
methods
laser
base layer
Prior art date
Application number
TH801000287A
Other languages
English (en)
Other versions
TH95173B (th
Inventor
คักซุน นายเจอร์เกน
ฟิสเตอร์ นายเจอร์เกน
วากเนอร์ นายนอร์เบิร์ต
ล็อชท์มัน นายเรเน่
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, บีเอเอสเอฟ อัคเทียนเกเซลล์ชาฟท์ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH95173B publication Critical patent/TH95173B/th
Publication of TH95173A publication Critical patent/TH95173A/th

Links

Abstract

DC60 วิธีการเพื่อการผลิตพื้นผิวตัวนำทางไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้างบนซับสเตรท ซึ่งประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ a) การจัดโครงสร้างชั้นฐานที่มีอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบ ไม่ใช้ไฟฟ้าบนซับสเตรทโดยการเสียดกร่อนชั้นฐานตามโครงสร้างที่กำหนดไว้ล่วงหน้าด้วยเลเซอร์ b) การกระตุ้นพื้นผิวของอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ ไฟฟ้า และ c) การใช้การเคลือบตัวนำทางไฟฟ้าบนชั้นฐานแบบเป็นโครงสร้าง วิธีการเพื่อการผลิตพื้นผิวตัวนำทางไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้างบนซับสเตรท ซึ่งประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ a) การจัดโครงสร้างชั้นฐานที่มีอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบ ไม่ใช้ไฟฟ้าบนซับสเตรทโดยการเสียดกร่อนชั้นฐานตามโครงสร้างที่กำหนดไว้ล่วงหน้าด้วยเลเซอร์ b) การกระตุ้นพื้นผิวของอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ ไฟฟ้า และ c) การใช้การเคลือบตัวนำทางไฟฟ้าบนชั้นฐานแบบเป็นโครงสร้าง

Claims (23)

1. วิธีการเพื่อการผลิตพื้นผิวตัวนำทางไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้างบนซับสเตรท ซึ่งประกอบ รวมด้วยขั้นตอนต่อไปนี้ a) การจัดโครงสร้างชั้นฐานที่มีอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบ ไม่ใช้ไฟฟ้าบนซับสเตรทโดยการเสียดกร่อนชั้นฐานตามโครงสร้างที่กำหนดไว้ล่วงหน้าด้วยเลเซอร์ b) การกระตุ้นพื้นผิวของอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ ไฟฟ้า และ c) การใช้การเคลือบตัวนำทางไฟฟ้าบนชั้นฐานแบบเป็นโครงสร้าง
2. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งในที่นี้ส่วนสารทำกระจาย ซึ่งมีอนุภาค แบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ไฟฟ้า ได้รับการนำมาใช้บนซับสเตรท เพื่อที่จะก่อรูปชั้นฐานก่อนการเสียดกร่อนของชั้นฐานโดยเลเซอร์
3. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งในที่นี้การใช้ส่วนฐานทำกระจายเพื่อที่จะ ก่อรูปชั้นฐานได้รับการดำเนินการโดยการพิมพ์ การหล่อแบบ การรีด การจุ่มหรือวิธีการสเปรย์
4. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 2 หรือข้อ 3 ซึ่งในที่นี้ส่วนสารทำกระจายได้รับ การกวน และ/หรือ ได้รับการสูบไปรอบ และ/หรือ ได้รับการปรับแต่งทางความร้อนในภาชนะบรรจุ เก็บก่อนการนำไปใช้
5. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้ส่วนสารทำ กระจายได้รับการนำมาใช้บนซับสเตรท ได้รับการทำให้แห้งและ/หรือได้รับการบ่มตัวอย่างเป็น บางส่วนเป็นอย่างน้อย
6. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 5 ซึ่งในที่นี้การทำให้แห้งหรือการบ่มตัวเป็น บางส่วนเป็นอย่างน้อยของส่วนสารทำกระจาย ได้รับการดำเนินการก่อนการเสียดกร่อนด้วยเลเซอร์ หรือหลังการเสียดกร่อนด้วยเลเซอร์
7. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้เลซอร์เป็น เลเซอร์สถานะของแข็ง ไฟเบอร์เลเซอร์ ไดโอดเลเซอร์ แก๊สเลเซอร์ หรือเอกซ์ไซเมอร์เลเซอร์
8. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้ความยาวคลื่น ของแสงเลเซอร์อยู่ในพิสัยระหว่าง 150 และ 10600 นาโนเมตร ถ้าให้ดียิ่งขึ้นแล้วจะอยู่ในพิสัยระหว่าง 600 และ 10600 นาโนเมตร
9. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้อนุภาค แบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ไฟฟ้า มีผงโลหะ คาร์บอนอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิด หรือของผสมของที่กล่าวนี้
10. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งในที่นี้โลหะของผงโลหะ ได้รับการเลือก จากเหล็ก นิกเกิล เงิน ดีบุก สังกะสี หรือทองแดง
11. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 9 หรือข้อ 10 ซึ่งในที่นี้ผงโลหะเป็น ผงคาร์บอนิล-ไอร์ออน
12. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 11 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้อนุภาค แบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ไฟฟ้า ได้รับการจัดให้มีส่วนเคลือบ ซึ่ง สะท้อนแสงเลเซอร์อย่างอ่อนเท่านั้น หรือประกอบด้วยวัสดุซึ่งสะท้อนแสงเลเซอร์เพียงอย่างอ่อน เท่านั้น ก่อนการกระตุ้นในขั้นตอน b)
13. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 9 ถึงข้อ 12 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้ส่วนสาร ทำกระจายมีสารดูดซับสำหรับแสงเลเซอร์
14. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่งในที่นี้สารดูดซับเป็นคาร์บอน หรือ แลนทานัมเฮกซะโบไรด์
15. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 14 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้อนุภาค แบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ไฟฟ้า มีรูปทรงทางเรขาคณิตของอนุภาคที่ แตกต่างกัน
16. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 15 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้อนุภาค แบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ไฟฟ้า มีในส่วนสารทำกระจายได้รับการทำ ให้เกิดการเปิดออกโดยวิธีการทางเคมี วิธีการทางกายภาพหรือวิธีการเชิงกล ก่อนการเคลือบแบบไม่ ใช้ไฟฟ้า และ/หรือแบบใช้อิเล็กโทรไลต์
17. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 16 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้ส่วน เคลือบที่ใช้อยู่ใดๆ ได้รับการนำออกจากอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบ ไม่ใช้ไฟฟ้า เพื่อที่จะกระตุ้นพื้นผิวของอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ ใช้ไฟฟ้า
18. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 2 ถึงข้อ 17 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้ซับสเตรท ได้รับการทำความสะอาดโดยวิธีการแบบแห้ง วิธีการทางเคมีแบบเปียก และ/หรือวิธีการเชิงกลก่อน การใช้ส่วนสารทำกระจายซึ่งมีอนุภาคแบบเคลือบได้แบบใช้อิเล็กโทรไลต์ และ/หรือ แบบไม่ใช้ ไฟฟ้า
19. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 18 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้พื้นผิว ตัวนำทางไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้างได้รับการนำมาใช้บนด้านบนและด้านล่างของส่วนรองรับ
20. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 19 ซึ่งในที่นี้พื้นผิวตัวนำทางไฟฟ้าแบบเป็น โครงสร้างบนด้านบนและด้านล่างของส่วนรองรับ ได้รับการเชื่อมต่อกันโดยทางการสัมผัสผ่านเวียร์
21. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 20 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งในที่นี้การเคลือบ ตัวนำทางไฟฟ้า ได้รับการนำมาใช้แบบไม่ใช้ไฟฟ้าและ/หรือแบบใช้อิเล็กโทรไลต์บนชั้นฐาน
22. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 21 ซึ่งในที่นี้ชั้นฐานได้รับการเชื่อมต่อสำหรับส่วนเคลือบ แบบอิเล็กโทรไลต์กับแนวการสัมผัสเสริมซึ่งได้รับการสัมผัสกันโดยแคโทดอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง แคโทด
23. วิธีการตามที่ขอถือสิทธิในข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึงข้อ 22 ข้อใดข้อหนึ่ง สำหรับการผลิต แทร็คตัวนำบนแผงวงจรพิมพ์ สายอากาศอาร์เอฟไอดี สายอากาศเครื่องรับส่งสัญญาณหรือ โครงสร้างสายอากาศอื่น มอดูลชิพการ์ด สายเคเบิลแบน เครื่องทำความร้อนที่นั่ง ตัวนำแบบฟอยล์ แทร็คตัวนำในเซลล์สุริยะ หรือในจอแอลซีดี/พลาสมา อุปกรณ์ชนิดเชื่อมต่อระหว่างกันแบบหล่อ สามมิติ วงจรรวม รีซิสทีฟ ชิ้นส่วนตัวเก็บประจุ หรือชิ้นส่วนตัวเหนี่ยวนำ ไดโอด ทรานซิสเตอร์ ตัวรับรู้ ตัวขับเร้า ส่วนประกอบเชิงทัศนาศาสตร์ อุปกรณ์เครื่องรับ/อุปกรณ์การส่ง พื้นผิวตกแต่ง หรือพื้นผิวทำหน้าที่บนผลิตภัณฑ์ ซึ่งได้รับการนำมาใช้สำหรับการกำบังรังสีแม่เหล็กไฟฟ้า สำหรับ การนำความร้อนหรือในฐานะเป็นการหีบห่อ ฟอยล์โลหะบางหรือส่วนหุ้มส่วนรองรับชนิดพอลิเมอร์ บนด้านหนึ่งหรือสองด้าน หรือเพื่อการผลิตผลิตภัณฑ์เคลือบแบบใช้อิเล็กโทรไลต์ในรูปแบบใดๆ
TH801000287A 2008-01-18 วิธีการเพื่อการผลิตพื้นผิวตัวนำไฟฟ้าแบบเป็นโครงสร้าง TH95173A (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH95173B TH95173B (th) 2009-04-09
TH95173A true TH95173A (th) 2009-04-09

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009131220A (ru) Способ изготовления структурированных токопроводящих повехностей
RU2009129827A (ru) Способ изготовления электропроводящих поверхностей
Goh et al. 3D printing of multilayered and multimaterial electronics: a review
KR101586506B1 (ko) 충전제 재료를 포함하는 투명한 전도성 코팅
EP2150417B1 (en) Metallic ink
CN102365713B (zh) 增强光和/或激光烧结的缓冲层
US8404160B2 (en) Metallic ink
US9999137B2 (en) Method for forming vias on printed circuit boards
JP2009510747A (ja) 金属表面構造物を発生させる方法およびそのための装置
JP2013120864A (ja) 導体パターン形成方法および導体パターンを備える基板
Salary et al. A state-of-the-art review on aerosol jet printing (AJP) additive manufacturing process
US20170257974A1 (en) Phase change material-carbon nanotube-metal substrate composites for thermal storage and control of heat generating devices
Khinda et al. Flexible inkjet-printed Patch antenna array on mesoporous PET substrate for 5G applications with stable RF performance after mechanical stress cycling
Olkkonen et al. Sintering of inkjet printed silver tracks with boiling salt water
US20070153488A1 (en) Multi-Layer Printed Circuit Board and Method for Fabricating the Same
TW200843588A (en) Method for contacting electrical devices
Jung et al. Rapid cellulose-mediated microwave sintering for high-conductivity Ag patterns on paper
Zhu et al. Additive preparation of conductive circuit based on template transfer process using a reusable photoresist
CN105321800A (zh) 在聚合物基板上形成金属图案的方法
Lee et al. Heat dissipation performance of metal-core printed circuit board prepared by anodic oxidation and electroless deposition
Guo et al. Facile and eco-friendly room-temperature electrical-enhanced technology for conductive circuits electrohydrodynamic-printed directly on textiles with small usage of conductive fillers
Alhendi et al. Laser sintering of aerosol jet printed conductive interconnects on paper substrate
TH99624A (th) วิธีสำหรับการผลิตพื้นผิวเชิงความนำไฟฟ้า
KR101945101B1 (ko) 기판과의 접착성이 향상된 금속 배선층을 구비하는 인쇄회로 기판 및 이의 제조방법
Cheng et al. Fabrication of Flexible Copper Microelectrodes Using Laser Direct Writing for Sensing Applications