TH91671B - เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธค - Google Patents
เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธคInfo
- Publication number
- TH91671B TH91671B TH601004523A TH0601004523A TH91671B TH 91671 B TH91671 B TH 91671B TH 601004523 A TH601004523 A TH 601004523A TH 0601004523 A TH0601004523 A TH 0601004523A TH 91671 B TH91671 B TH 91671B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- magnetron sputtering
- thin films
- machine
- cathode
- metal
- Prior art date
Links
Abstract
------25/11/2565------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสูญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธคเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ ------19/07/2565------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซค์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กัน โดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟีล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลทะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ ------01/04/2565------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ ------18/09/2563------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ DC60 (12/04/54) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะ ฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศ เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมี คาโธคเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสอง คาโธค ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2 ชนิดพร้อมกันได้ เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะ ฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศ เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมี คาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสอง คาโธดซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ2 ชนิดพร้อมกันได้
Claims (1)
1. เครื่องขจัดกลิ่นรองเท้าประกอบด้วยโครงสร้างเครื่อง (12) เป็นกล่องรูปทรงขั้นบันได 3 ขั้น มีฝาปิดทุกด้านที่ ด้านข้างด้าน 1 ของโครงสร้างเครื่อง (12) มีอุปกรณ์ประกอบดังนี้ ช่องหยอด เหรียญ (1) โดยมีกล่องรองเหรียญ (2) และกล่องควบคุมการทำงาน (4) ติดตั้งอยู่ด้านในโครงสร้าง เครื่อง (12) มีช่องแสดงเวลาการทำงาน(10) และสวิทช์ควบคุมการทำงาน (11) ติดอยู่ด้านนอก ของ ด้าน ข้างโครงสร้างเครื่อง (12) มีลักษณะเฉพาะคือที่ภายในด้านบนของขั้นบันไดขั้น 1 และขั้นที่2 ของโครงสร้างเครื่อง( 12) จะมีชุดเป
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH91671A TH91671A (th) | 2008-09-30 |
| TH114572A TH114572A (th) | 2012-06-22 |
| TH91671B true TH91671B (th) | 2023-02-17 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8541101B2 (en) | Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article | |
| MX2013015130A (es) | Lamina de acero galvanizado por inmersion en caliente de alta resistencia a la corrosion que tiene excelente uniformidad de apariencia y metodo para fabricar la misma. | |
| US20150232982A1 (en) | Method for manufacturing a metal-borocarbide layer on a substrate | |
| US20120251838A1 (en) | Coated article and method for manufacturing same | |
| CN102345093A (zh) | 壳体及其制作方法 | |
| JP2018507320A (ja) | 密着性に優れためっき鋼板及びその製造方法 | |
| EP4130332A3 (en) | Spallation resistant thermal barrier coating | |
| TH91671B (th) | เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธค | |
| JP5889965B2 (ja) | ハウジング及びその製造方法 | |
| JP2013530308A5 (th) | ||
| US8361639B2 (en) | Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article | |
| CN107022742A (zh) | 一种极高靶材利用率的镀膜设备 | |
| KR20110129279A (ko) | 마그넷 구동 방법 및 이를 이용한 스퍼터링 장치 | |
| US8580379B2 (en) | Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article | |
| CN102548308A (zh) | 壳体及其制造方法 | |
| TW200706673A (en) | Temperature control of pallet in sputtering system | |
| WO2009007448A3 (en) | Magnetron co-sputtering device | |
| US20110031108A1 (en) | Sputtering deposition method and apparatus | |
| CN104894524A (zh) | 一种表面处理设备 | |
| US20120018296A1 (en) | Continuous vacuum sputtering method | |
| US20120064364A1 (en) | Coated article | |
| WO2011094060A3 (en) | Pump baffle design for integrated pump and sputter source | |
| JP2013108123A5 (ja) | 成膜方法 | |
| US20120052291A1 (en) | Article and method for manufacturing same | |
| TH114572A (th) | เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธค |