TH91671B - Dual cathode DC magnetron sputtering machine - Google Patents

Dual cathode DC magnetron sputtering machine

Info

Publication number
TH91671B
TH91671B TH601004523A TH0601004523A TH91671B TH 91671 B TH91671 B TH 91671B TH 601004523 A TH601004523 A TH 601004523A TH 0601004523 A TH0601004523 A TH 0601004523A TH 91671 B TH91671 B TH 91671B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
magnetron sputtering
thin films
machine
cathode
metal
Prior art date
Application number
TH601004523A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH114572A (en
TH91671A (en
Inventor
พวงรัตน์ นายสุนทร ใครวงษ์ นายไพฑูรย์ บุญมั่ง นางกฤษณา เฮ็งฉุน นายทิชาพงษ์
วิทิตอนันต์ นายนิรันดร์
ลิ้มสุวรรณ นายพิเชษฐ
ไชยคุณ นายสุรสิงห์
Original Assignee
มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
สำนักงานคณะกรรมการการอาชีวศึกษา
Filing date
Publication date
Publication of TH91671A publication Critical patent/TH91671A/en
Application filed by มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี, สำนักงานคณะกรรมการการอาชีวศึกษา filed Critical มหาวิทยาลัยเทคโนโลยีพระจอมเกล้าธนบุรี
Publication of TH114572A publication Critical patent/TH114572A/en
Publication of TH91671B publication Critical patent/TH91671B/en

Links

Abstract

------25/11/2565------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสูญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธคเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ ------19/07/2565------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซค์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กัน โดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟีล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลทะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ ------01/04/2565------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ ------18/09/2563------(OCR) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมีคาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสองคาโธด ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2ชนิดพร้อมกันได้ ------------ DC60 (12/04/54) เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะ ฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศ เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมี คาโธคเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสอง คาโธค ซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ 2 ชนิดพร้อมกันได้ เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอน เป็นเครื่องที่ใช้ในการเคลือบฟิล์มบางโลหะ ฟิล์มบางโลหะออกไซด์ และฟิล์มบางโลหะไนไตรด์ภายใต้สภาวะที่เป็นสุญญากาศ เครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนที่มีใช้กันโดยทั่วไปทั้งในระดับวิจัยและในอุตสหกรรมจะมี คาโธดเพียงชุดเดียวแต่ในการประดิษฐ์นี้จะเป็นเครื่องสปัตเตอริงแบบดีซีแมกนิตรอนชนิดสอง คาโธดซึ่งจะช่วยให้อัตราการเคลือบฟิล์มเร็วขึ้น นอกจากนั้นยังสามารถใช้ในการเคลือบโลหะ2 ชนิดพร้อมกันได้------25/11/2022------(OCR) DC magnetron sputtering machine is a machine used for depositing metal thin films, metal oxide thin films and metal nitride thin films under vacuum conditions. Commonly used DC magnetron sputtering machines, both in research and industry, have only one cathode. However, in this invention, it is a dual-cathode DC magnetron sputtering machine, which allows for a faster film deposition rate. It can also be used to coat two types of metals simultaneously. ------------ ------19/07/2022------(OCR) DC magnetron sputtering machine is a machine used for depositing metal thin films, metal oxide thin films and metal nitride thin films under vacuum conditions. Commonly used DC magnetron sputtering machines, both in research and industry, have only one cathode, but in this invention, it is a dual-cathode DC magnetron sputtering machine. This will speed up the film coating rate. It can also be used to coat two types of metals simultaneously. ------------ ------01/04/2022------(OCR) DC magnetron sputtering machine is a machine used to coat metal thin films, metal oxide thin films and metal nitride thin films under vacuum conditions. Commonly used DC magnetron sputtering machines in both research and industry have only one cathode, but in this invention, it is a dual-cathode DC magnetron sputtering machine, which will speed up the film coating rate. It can also be used to coat two types of metals simultaneously. ------------ ------18/09/2020------(OCR) DC magnetron sputtering machine is a machine used to coat metal thin films, metal oxide thin films. And metal nitride thin films under vacuum conditions. Commonly used DC magnetron sputtering machines, both in research and industry, have only one cathode. However, in this invention, it is a dual-cathode DC magnetron sputtering machine, which will help to speed up the film deposition rate. It can also be used to coat two types of metals simultaneously. ------------ DC60 (12/04/54) DC magnetron sputtering machine is a machine used to deposit metal thin films, metal oxide thin films, and metal nitride thin films under vacuum conditions. Commonly used DC magnetron sputtering machines, both in research and industry, have only one cathode, but in this invention, it is a dual-cathode DC magnetron sputtering machine, which will help to speed up the film deposition rate. It can also be used to coat two types of metals simultaneously. DC magnetron sputtering machine is a machine used to deposit metal thin films, metal oxide thin films, and metal nitride thin films under vacuum conditions. Commonly used DC magnetron sputtering machines, both in research and industry, have a single cathode. However, the present invention uses a dual-cathode DC magnetron sputtering machine, which allows for faster film deposition rates and allows for the simultaneous deposition of two metals.

Claims (1)

1. เครื่องขจัดกลิ่นรองเท้าประกอบด้วยโครงสร้างเครื่อง (12) เป็นกล่องรูปทรงขั้นบันได 3 ขั้น มีฝาปิดทุกด้านที่ ด้านข้างด้าน 1 ของโครงสร้างเครื่อง (12) มีอุปกรณ์ประกอบดังนี้ ช่องหยอด เหรียญ (1) โดยมีกล่องรองเหรียญ (2) และกล่องควบคุมการทำงาน (4) ติดตั้งอยู่ด้านในโครงสร้าง เครื่อง (12) มีช่องแสดงเวลาการทำงาน(10) และสวิทช์ควบคุมการทำงาน (11) ติดอยู่ด้านนอก ของ ด้าน ข้างโครงสร้างเครื่อง (12) มีลักษณะเฉพาะคือที่ภายในด้านบนของขั้นบันไดขั้น 1 และขั้นที่2 ของโครงสร้างเครื่อง( 12) จะมีชุดเป1. The shoe deodorizer consists of a machine structure (12), a 3 step ladder-shaped box, with a lid on all sides on the 1 side of the machine structure (12), with the following accessories: coin compartment (1) with a secondary box. A coin (2) and an operating control box (4) are installed inside the housing (12), an operating time display (10) and an operating switch (11) attached to the outside of the structure side. The machine (12) is characterized by that, inside the top of the 1st and 2nd step of the machine structure (12) there is a
TH601004523A 2010-02-11 Dual cathode DC magnetron sputtering machine TH91671B (en)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH91671A TH91671A (en) 2008-09-30
TH114572A TH114572A (en) 2012-06-22
TH91671B true TH91671B (en) 2023-02-17

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8541101B2 (en) Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article
MX2013015130A (en) High-corrosion-resistance hot-dip galvanized steel plate having highly uniform appearance and manufacturing method therefor.
US20150232982A1 (en) Method for manufacturing a metal-borocarbide layer on a substrate
US20120251838A1 (en) Coated article and method for manufacturing same
CN102345093A (en) Housing and manufacturing method thereof
JP2018507320A (en) Plated steel sheet having excellent adhesion and method for producing the same
EP4130332A3 (en) Spallation resistant thermal barrier coating
TH91671B (en) Dual cathode DC magnetron sputtering machine
JP5889965B2 (en) Housing and manufacturing method thereof
JP2013530308A5 (en)
US8361639B2 (en) Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article
CN107022742A (en) A kind of filming equipment of high target utilization
KR20110129279A (en) Magnet driving method and sputtering device using same
US8580379B2 (en) Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article
CN102548308A (en) Casing and manufacturing method thereof
TW200706673A (en) Temperature control of pallet in sputtering system
WO2009007448A3 (en) Magnetron co-sputtering device
US20110031108A1 (en) Sputtering deposition method and apparatus
CN104894524A (en) A surface treatment device
US20120018296A1 (en) Continuous vacuum sputtering method
US20120064364A1 (en) Coated article
WO2011094060A3 (en) Pump baffle design for integrated pump and sputter source
JP2013108123A5 (en) Deposition method
US20120052291A1 (en) Article and method for manufacturing same
TH114572A (en) Two-cathode DC magnetron sputtering machine