TH87593B - แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมา - Google Patents

แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมา

Info

Publication number
TH87593B
TH87593B TH602001988F TH0602001988F TH87593B TH 87593 B TH87593 B TH 87593B TH 602001988 F TH602001988 F TH 602001988F TH 0602001988 F TH0602001988 F TH 0602001988F TH 87593 B TH87593 B TH 87593B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
plasma
thin film
chemical vapor
vapor deposition
enhanced chemical
Prior art date
Application number
TH602001988F
Other languages
English (en)
Other versions
TH110988A (th
TH87593S (th
TH31887S1 (th
Inventor
มาสช์วิทซ์ นายปีเตอร์
ฮิราตะ นายโอกิ
Original Assignee
ซันโตรี่ เบเวอเรจ แอนด์ ฟู้ด ลิมิเต็ด(ผู้รับโอน)
เอจีซี แฟลต กลาส นอร์ธ อเมริกา
Filing date
Publication date
Publication of TH87593S publication Critical patent/TH87593S/th
Application filed by ซันโตรี่ เบเวอเรจ แอนด์ ฟู้ด ลิมิเต็ด(ผู้รับโอน), เอจีซี แฟลต กลาส นอร์ธ อเมริกา filed Critical ซันโตรี่ เบเวอเรจ แอนด์ ฟู้ด ลิมิเต็ด(ผู้รับโอน)
Publication of TH110988A publication Critical patent/TH110988A/th
Publication of TH31887S1 publication Critical patent/TH31887S1/th
Publication of TH87593B publication Critical patent/TH87593B/th

Links

Abstract

DC60 (30/10/52) การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาแบบใหม่ที่มีประโยชน์ในศิลปะหรือ วิทยาการด้านการเคลือบฟิล์มบางและวิธีการที่ใช้สิ่งเดียวกันนี้ กล่าวอย่างจำเพาะเจาะจงยิ่งขึ้นก็คือ การ ประดิษฐ์นี้จะเป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาที่เป็นเส้นตรงและเป็นสองมิติที่ผลิตพลาสมาที่เป็น เส้นตรงและเป็นสองมิติออกมาซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบไอสารเคมีที่มีการเพิ่มขีดความสามารถของ พลาสมา นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ยังเป็นการจัดเตรียมวิธีการทำสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางและวิธีการ เพิ่มประสิทธิภาพในการเคลือบของวิธีการในลักษณะเช่นนี้ การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาแบบใหม่ที่มีประโยชน์ในศิลปะหรือ วิทยาการด้านการเคลือบฟิล์มบางและวิธีการที่ใช้สิ่งเดียวกันนี้ กล่าวอย่างจำเพาะเจาะจงยิ่งขึ้นก็คือ การ ประดิษฐ์นี้จะเป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาที่เป็นเส้นตรงและเป็นสองมิติที่ผลิตพลาสมาที่เป็น เส้นตรงและเป็นสองมิติออกมาซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบไอสารเคมีที่มีการเพิ่มขีดความสามารถของ พลาสมา นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ยังเป็นการจัดเตรียมวิธีการทำสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางและวิธีการ เพิ่มประสิทธิภาพในการเคลือบของวิธีการในลักษณะเช่นนี้

Claims (1)

1. ยังไม่ประกาศโฆษณา
TH602001988F 2009-08-04 แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมา TH87593B (th)

Publications (4)

Publication Number Publication Date
TH87593S TH87593S (th) 2007-11-20
TH110988A TH110988A (th) 2011-11-21
TH31887S1 TH31887S1 (th) 2012-02-08
TH87593B true TH87593B (th) 2022-04-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PH12015500539A1 (en) Plasma source and methods for despositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition
WO2012027009A3 (en) Gas distribution showerhead with high emissivity surface
BRPI0816567A2 (pt) Gerador de vapor para o depósito de um revestimento metálico sobre um substrato
IN2015KN00588A (th)
WO2010054112A3 (en) Plasma resistant coatings for plasma chamber components
MY165288A (en) Process for producing a polymer coated metal substrate and a metal strip substrate provided with a polymer coating
PT1853652E (pt) Processo para aplicar uma película revestida ou não revestida sobre pelo menos uma superfície de um substrato de lente
EA201300982A1 (ru) Твердый фармацевтический препарат с покрытием
BR112013006310A2 (pt) nanoestruturas de carbono e redes produzidas por deposição de vapor químico
SG144072A1 (en) Cyclic chemical vapor deposition of metal-silicon containing films
WO2011006035A3 (en) Bis-ketoiminate copper precursors for deposition of copper-containing films
WO2011034751A3 (en) Hot wire chemical vapor deposition (cvd) inline coating tool
IN2014CN00762A (th)
ATE433069T1 (de) Dichtung in hochdruckeinrichtungen
CL2008002551A1 (es) Aducto amina-funcional; composicion curable, multicomponentes ; sustrato recubierto con dicha composicion; y procedimiento para proveer un recubrimiento a un sustrato
BR112015009757A2 (pt) substrato revestido
DE502006004376D1 (de) Vakuumbeschichtungsanlage
TH87593B (th) แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมา
FI20070131A0 (fi) Uusi menetelmä valmistaa optisia tuotteita
WO2012072475A3 (de) Reinigen von oberflächen in vakuumapparaturen mittels laser
EA201501107A1 (ru) Ламинат с содержащим аминопласт покрытием
FI20115236A0 (fi) Pinnoitusmenetelmä, laite ja käyttö
TW200942636A (en) Plasma enhanced chemical vapor deposition device
JP2016519218A5 (th)
TW200736405A (en) Coating equipment and coating method