TH87593B - แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมา - Google Patents
แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมาInfo
- Publication number
- TH87593B TH87593B TH602001988F TH0602001988F TH87593B TH 87593 B TH87593 B TH 87593B TH 602001988 F TH602001988 F TH 602001988F TH 0602001988 F TH0602001988 F TH 0602001988F TH 87593 B TH87593 B TH 87593B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- plasma
- thin film
- chemical vapor
- vapor deposition
- enhanced chemical
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (30/10/52) การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาแบบใหม่ที่มีประโยชน์ในศิลปะหรือ วิทยาการด้านการเคลือบฟิล์มบางและวิธีการที่ใช้สิ่งเดียวกันนี้ กล่าวอย่างจำเพาะเจาะจงยิ่งขึ้นก็คือ การ ประดิษฐ์นี้จะเป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาที่เป็นเส้นตรงและเป็นสองมิติที่ผลิตพลาสมาที่เป็น เส้นตรงและเป็นสองมิติออกมาซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบไอสารเคมีที่มีการเพิ่มขีดความสามารถของ พลาสมา นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ยังเป็นการจัดเตรียมวิธีการทำสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางและวิธีการ เพิ่มประสิทธิภาพในการเคลือบของวิธีการในลักษณะเช่นนี้ การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาแบบใหม่ที่มีประโยชน์ในศิลปะหรือ วิทยาการด้านการเคลือบฟิล์มบางและวิธีการที่ใช้สิ่งเดียวกันนี้ กล่าวอย่างจำเพาะเจาะจงยิ่งขึ้นก็คือ การ ประดิษฐ์นี้จะเป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาที่เป็นเส้นตรงและเป็นสองมิติที่ผลิตพลาสมาที่เป็น เส้นตรงและเป็นสองมิติออกมาซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบไอสารเคมีที่มีการเพิ่มขีดความสามารถของ พลาสมา นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ยังเป็นการจัดเตรียมวิธีการทำสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางและวิธีการ เพิ่มประสิทธิภาพในการเคลือบของวิธีการในลักษณะเช่นนี้
Claims (1)
1. ยังไม่ประกาศโฆษณา
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH87593S TH87593S (th) | 2007-11-20 |
| TH110988A TH110988A (th) | 2011-11-21 |
| TH31887S1 TH31887S1 (th) | 2012-02-08 |
| TH87593B true TH87593B (th) | 2022-04-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PH12015500539A1 (en) | Plasma source and methods for despositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| WO2012027009A3 (en) | Gas distribution showerhead with high emissivity surface | |
| BRPI0816567A2 (pt) | Gerador de vapor para o depósito de um revestimento metálico sobre um substrato | |
| IN2015KN00588A (th) | ||
| WO2010054112A3 (en) | Plasma resistant coatings for plasma chamber components | |
| WO2011062357A3 (ko) | 샤워헤드 어셈블리 및 이를 구비한 박막증착장치 | |
| MY165288A (en) | Process for producing a polymer coated metal substrate and a metal strip substrate provided with a polymer coating | |
| PT1853652E (pt) | Processo para aplicar uma película revestida ou não revestida sobre pelo menos uma superfície de um substrato de lente | |
| MX2017015107A (es) | Ensamble electrico revestido. | |
| EA201300982A1 (ru) | Твердый фармацевтический препарат с покрытием | |
| SG144072A1 (en) | Cyclic chemical vapor deposition of metal-silicon containing films | |
| WO2011006035A3 (en) | Bis-ketoiminate copper precursors for deposition of copper-containing films | |
| WO2011034751A3 (en) | Hot wire chemical vapor deposition (cvd) inline coating tool | |
| TWI350006B (en) | Plasma enhanced thin film deposition method | |
| IN2014CN00762A (th) | ||
| ATE433069T1 (de) | Dichtung in hochdruckeinrichtungen | |
| BR112015009757A2 (pt) | substrato revestido | |
| ATE437976T1 (de) | Vakuumbeschichtungsanlage | |
| TH87593B (th) | แหล่งพลาสมาและวิธีการสำหรับเคลือบสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางโดยใช้การเคลือบทับไอสารเคมีที่เพิ่มขีดความสามารถของพลาสมา | |
| FI20070131L (fi) | Uusi menetelmä valmistaa optisia tuotteita | |
| TW200739627A (en) | Metallized film used for condenser and condenser formed from thereof | |
| EA201501107A1 (ru) | Ламинат с содержащим аминопласт покрытием | |
| FI20115236A0 (fi) | Pinnoitusmenetelmä, laite ja käyttö | |
| TW200942636A (en) | Plasma enhanced chemical vapor deposition device | |
| JP2016519218A5 (th) |