TH87593B - Plasma source and method for thin film coating using plasma-enhanced chemical vapor deposition. - Google Patents
Plasma source and method for thin film coating using plasma-enhanced chemical vapor deposition.Info
- Publication number
- TH87593B TH87593B TH602001988F TH0602001988F TH87593B TH 87593 B TH87593 B TH 87593B TH 602001988 F TH602001988 F TH 602001988F TH 0602001988 F TH0602001988 F TH 0602001988F TH 87593 B TH87593 B TH 87593B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- plasma
- thin film
- chemical vapor
- vapor deposition
- enhanced chemical
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (30/10/52) การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาแบบใหม่ที่มีประโยชน์ในศิลปะหรือ วิทยาการด้านการเคลือบฟิล์มบางและวิธีการที่ใช้สิ่งเดียวกันนี้ กล่าวอย่างจำเพาะเจาะจงยิ่งขึ้นก็คือ การ ประดิษฐ์นี้จะเป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาที่เป็นเส้นตรงและเป็นสองมิติที่ผลิตพลาสมาที่เป็น เส้นตรงและเป็นสองมิติออกมาซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบไอสารเคมีที่มีการเพิ่มขีดความสามารถของ พลาสมา นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ยังเป็นการจัดเตรียมวิธีการทำสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางและวิธีการ เพิ่มประสิทธิภาพในการเคลือบของวิธีการในลักษณะเช่นนี้ การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาแบบใหม่ที่มีประโยชน์ในศิลปะหรือ วิทยาการด้านการเคลือบฟิล์มบางและวิธีการที่ใช้สิ่งเดียวกันนี้ กล่าวอย่างจำเพาะเจาะจงยิ่งขึ้นก็คือ การ ประดิษฐ์นี้จะเป็นการจัดเตรียมแหล่งของพลาสมาที่เป็นเส้นตรงและเป็นสองมิติที่ผลิตพลาสมาที่เป็น เส้นตรงและเป็นสองมิติออกมาซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบไอสารเคมีที่มีการเพิ่มขีดความสามารถของ พลาสมา นอกจากนี้ การประดิษฐ์นี้ยังเป็นการจัดเตรียมวิธีการทำสารเคลือบที่เป็นฟิล์มบางและวิธีการ เพิ่มประสิทธิภาพในการเคลือบของวิธีการในลักษณะเช่นนี้DC60 (30/10/09) This invention provides a new plasma source useful in the art or science of thin film deposition and a method using the same. More specifically, this invention provides a linear, two-dimensional plasma source that produces a linear, two-dimensional plasma that is useful in plasma-enhanced chemical vapor deposition. The invention also provides a method for making thin film coatings and a method for increasing the coating efficiency of the method. This invention provides a new plasma source useful in the art or science of thin film deposition and a method for using the same. More specifically, this invention provides a linear, two-dimensional plasma source that produces a linear, two-dimensional plasma that is useful in plasma-enhanced chemical vapor deposition. The invention also provides a method for making thin film coatings and a method for increasing the coating efficiency of the method.
Claims (1)
Publications (4)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH87593S TH87593S (en) | 2007-11-20 |
| TH110988A TH110988A (en) | 2011-11-21 |
| TH31887S1 TH31887S1 (en) | 2012-02-08 |
| TH87593B true TH87593B (en) | 2022-04-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| PH12015500539A1 (en) | Plasma source and methods for despositing thin film coatings using plasma enhanced chemical vapor deposition | |
| WO2012027009A3 (en) | Gas distribution showerhead with high emissivity surface | |
| BRPI0816567A2 (en) | VAPOR GENERATOR FOR THE DEPOSIT OF A METAL COATING ON A SUBSTRATE | |
| IN2015KN00588A (en) | ||
| WO2010054112A3 (en) | Plasma resistant coatings for plasma chamber components | |
| MY165288A (en) | Process for producing a polymer coated metal substrate and a metal strip substrate provided with a polymer coating | |
| WO2011062357A3 (en) | Shower head assembly and thin film deposition apparatus comprising same | |
| PT1853652E (en) | Process for applying a coating onto a surface of a lens substrate | |
| MX2017015107A (en) | Coated electrical assembly. | |
| EA201300982A1 (en) | HARD PHARMACEUTICAL PREPARATION COATED | |
| BR112013006310A2 (en) | carbon nanostructures and networks produced by chemical vapor deposition | |
| WO2011006035A3 (en) | Bis-ketoiminate copper precursors for deposition of copper-containing films | |
| WO2011034751A3 (en) | Hot wire chemical vapor deposition (cvd) inline coating tool | |
| TWI350006B (en) | Plasma enhanced thin film deposition method | |
| IN2014CN00762A (en) | ||
| DE502007000802D1 (en) | Seal in high pressure equipment | |
| BR112015009757A2 (en) | coated substrate | |
| IN2014DN02474A (en) | ||
| DE502006004463D1 (en) | DEVICE AND METHOD FOR CONTINUOUS GAS PHASE DEPOSITION UNDER ATMOSPHERIC PRESSURE AND ITS USE | |
| ATE437976T1 (en) | VACUUM COATING SYSTEM | |
| TH87593B (en) | Plasma source and method for thin film coating using plasma-enhanced chemical vapor deposition. | |
| WO2012072475A3 (en) | Cleaning of surfaces in vacuum apparatuses using laser | |
| FI20070131L (en) | A new method for manufacturing optical products | |
| TW200739627A (en) | Metallized film used for condenser and condenser formed from thereof | |
| EA201501107A1 (en) | LAMINATE WITH CONTAINING AMINOPLAST COATING |