TH74893B - Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents. - Google Patents
Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents.Info
- Publication number
- TH74893B TH74893B TH501001758A TH0501001758A TH74893B TH 74893 B TH74893 B TH 74893B TH 501001758 A TH501001758 A TH 501001758A TH 0501001758 A TH0501001758 A TH 0501001758A TH 74893 B TH74893 B TH 74893B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- cryogen
- substrate
- solvent
- systems
- room
- Prior art date
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 title abstract 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 abstract 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 abstract 1
Abstract
เครื่องและวิธีการจะได้รับการจัดเตรียมขึ้นมาเพื่อการปฏิบัติ ตัวอย่างเช่น ต่อเวฟอร์สารกึ่ง ตัวนำที่ซึ่งวิถีทางจัดส่ง (34, 35 , 40) เพื่อการให้ความร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาเคมีที่ เป็น ของไหล จะได้รับการจัดวางไว้ในห้อง (12) ที่ซึ่งซับสเทรทได ้รับการจัดวางไว้เพื่อให้พื้นผิวอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งด้าน (16, 18) ของซับสเทรทได้รับการทำความสะอาดในห้อง ห้องอาจประกอบด้วยสถ านี (77,88,0 ) จำนวนหนึ่งเพื่อการให้ความร้อน การปฏิบัติทางเคม ีและจัดเตรียมสารไครโอเจนให้กับ ซับสเทรทเพื่อให้เกิดผลในการทำค วามสะอาดังกล่าว อากาศจะได้รับการจัดเตรียมไว้ในห้องตาม การไหลแ บบลามินา (20) ที่ขนานอย่างแท้จริงกับพื้นผิวที่จะได้รับการปฏิ บัติเพื่อกำจัดวัสดุที่ขจัด ออกมาให้ออกไปจากพื้นผิวและเพื่อป้อ งกันไม่ให้วัสดุนั้นกลับมาพอกพูนใหม่ลงบนพื้นผิวของ ซับสเทรท Machines and methods are provided to perform, for example, against semi-wavelengths. Conductors where paths are delivered (34, 35, 40) for heating. The cryogen and fluid chemical reagents are placed in a chamber (12) where the substrate is This has been arranged so that the surface is at least At most one side (16, 18) of the substrate was cleaned in the room. The room may consist of a number of (77,88,0) stations for heating. Chemist practice And provide cryogen to Substrates to achieve results That said Air is provided in a chamber according to a laminar flow (20) that is truly parallel to the surface to be treated. Cleaning to remove material that has been removed Out, away from the surface and to protect Prevent the material from re-accumulating onto the substrate surface.
Claims (2)
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH74893A TH74893A (en) | 2006-01-23 |
TH74893B true TH74893B (en) | 2006-01-23 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW200625387A (en) | System for cleaning a surface using cryogenic aerosol and fluid reactant | |
KR101371818B1 (en) | Apparatus and method for wet-chemical processing of flat, thin substrate in a continuous method | |
CN100442448C (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate holding apparatus | |
TWI326620B (en) | Apparatus and method for photoresist removal processing | |
TW200507979A (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate holding apparatus | |
TW526520B (en) | Apparatus for removing a coating film | |
TW200721316A (en) | Substrate processing apparatus, cooling gas feed nozzle and method for manufacturing semiconductor device | |
DE69915434D1 (en) | Method and device for mixing or dispersing liquids | |
WO2006034430A3 (en) | Systems and methods for drying a plurality of diverse articles | |
EP1081440A3 (en) | Dehumidifier | |
JPH11510965A (en) | Apparatus for processing substrates in a fluid container | |
KR101534534B1 (en) | Movable complex scrubber | |
JP2002075947A (en) | Wet processor | |
CN203437362U (en) | Cleaning device for wafers | |
US20150136185A1 (en) | Apparatus of cleaning substrate | |
TW391895B (en) | Method and apparatus for washing and drying semi-conductor devices | |
WO2005001888A3 (en) | Device and method for cleaning objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers | |
TW201013139A (en) | Heat treating device and heat treating method | |
DE60219503D1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR AVOIDING CROSS CONTAMINATION BETWEEN LIQUID NOZZLES NEAR SURFACE | |
DE60302662D1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR STAINING A LAYER OF NANOCRYSTALLINE MATERIAL | |
JP2013509563A5 (en) | ||
JP2019167628A5 (en) | ||
TH74893B (en) | Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents. | |
CA2672401A1 (en) | Device for batch treatment | |
ATE395968T1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR DETECTING ANALYTES |