TH74893B - Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents. - Google Patents

Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents.

Info

Publication number
TH74893B
TH74893B TH501001758A TH0501001758A TH74893B TH 74893 B TH74893 B TH 74893B TH 501001758 A TH501001758 A TH 501001758A TH 0501001758 A TH0501001758 A TH 0501001758A TH 74893 B TH74893 B TH 74893B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
cryogen
substrate
solvent
systems
room
Prior art date
Application number
TH501001758A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH74893A (en
Inventor
นายราเมช บี. บอเรด นายเวอร์เนอร์ แบรนด์ท์ นายซูวิค บาเนอร์จี
Original Assignee
เรฟ เอ็น พี อิงค์
Filing date
Publication date
Application filed by เรฟ เอ็น พี อิงค์ filed Critical เรฟ เอ็น พี อิงค์
Publication of TH74893A publication Critical patent/TH74893A/en
Publication of TH74893B publication Critical patent/TH74893B/en

Links

Abstract

เครื่องและวิธีการจะได้รับการจัดเตรียมขึ้นมาเพื่อการปฏิบัติ ตัวอย่างเช่น ต่อเวฟอร์สารกึ่ง ตัวนำที่ซึ่งวิถีทางจัดส่ง (34, 35 , 40) เพื่อการให้ความร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาเคมีที่ เป็น ของไหล จะได้รับการจัดวางไว้ในห้อง (12) ที่ซึ่งซับสเทรทได ้รับการจัดวางไว้เพื่อให้พื้นผิวอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งด้าน (16, 18) ของซับสเทรทได้รับการทำความสะอาดในห้อง ห้องอาจประกอบด้วยสถ านี (77,88,0 ) จำนวนหนึ่งเพื่อการให้ความร้อน การปฏิบัติทางเคม ีและจัดเตรียมสารไครโอเจนให้กับ ซับสเทรทเพื่อให้เกิดผลในการทำค วามสะอาดังกล่าว อากาศจะได้รับการจัดเตรียมไว้ในห้องตาม การไหลแ บบลามินา (20) ที่ขนานอย่างแท้จริงกับพื้นผิวที่จะได้รับการปฏิ บัติเพื่อกำจัดวัสดุที่ขจัด ออกมาให้ออกไปจากพื้นผิวและเพื่อป้อ งกันไม่ให้วัสดุนั้นกลับมาพอกพูนใหม่ลงบนพื้นผิวของ ซับสเทรท Machines and methods are provided to perform, for example, against semi-wavelengths. Conductors where paths are delivered (34, 35, 40) for heating. The cryogen and fluid chemical reagents are placed in a chamber (12) where the substrate is This has been arranged so that the surface is at least At most one side (16, 18) of the substrate was cleaned in the room. The room may consist of a number of (77,88,0) stations for heating. Chemist practice And provide cryogen to Substrates to achieve results That said Air is provided in a chamber according to a laminar flow (20) that is truly parallel to the surface to be treated. Cleaning to remove material that has been removed Out, away from the surface and to protect Prevent the material from re-accumulating onto the substrate surface.

Claims (2)

1. เครื่องสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วย ห้อง และวิถีทางจัดส่งสำหรับการให้ความร้อนและสารอย่างน้อยที่สุ ดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยสารโครโอเจน ตัวทำปฏ ิกิริยาที่เป็นของเหลวและสารเหลานี้ผสมรวมกัน โดยจัด วางอยู่ในห ้องเพื่อดำเนินการปฏิบัติต่อพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านขอ งซับสเทรท1. The substrate treatment machine consists of a chamber and a delivery route for at least the required heat and substance. One of the types selected from A group consisting of chronogens, liquid reactants and these are mixed together in a chamber to treat at least one surface of the substrate. 2. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยกระแสอากาศ ให้ห้องที่ขนานอย่าง แท้จริงกับพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้าน ของซับสเทรทที่จะได้รับการปฏิบัติ2. The machine according to claim 1 is further integrated with the air stream. Give a room that is parallel like Indeed, with at least one surface. Of substrates that will be treated
TH501001758A 2005-04-20 Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents. TH74893B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH74893A TH74893A (en) 2006-01-23
TH74893B true TH74893B (en) 2006-01-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW200625387A (en) System for cleaning a surface using cryogenic aerosol and fluid reactant
KR101371818B1 (en) Apparatus and method for wet-chemical processing of flat, thin substrate in a continuous method
CN100442448C (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate holding apparatus
TWI326620B (en) Apparatus and method for photoresist removal processing
TW200507979A (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and substrate holding apparatus
TW526520B (en) Apparatus for removing a coating film
TW200721316A (en) Substrate processing apparatus, cooling gas feed nozzle and method for manufacturing semiconductor device
DE69915434D1 (en) Method and device for mixing or dispersing liquids
WO2006034430A3 (en) Systems and methods for drying a plurality of diverse articles
EP1081440A3 (en) Dehumidifier
JPH11510965A (en) Apparatus for processing substrates in a fluid container
KR101534534B1 (en) Movable complex scrubber
JP2002075947A (en) Wet processor
CN203437362U (en) Cleaning device for wafers
US20150136185A1 (en) Apparatus of cleaning substrate
TW391895B (en) Method and apparatus for washing and drying semi-conductor devices
WO2005001888A3 (en) Device and method for cleaning objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers
TW201013139A (en) Heat treating device and heat treating method
DE60219503D1 (en) METHOD AND DEVICE FOR AVOIDING CROSS CONTAMINATION BETWEEN LIQUID NOZZLES NEAR SURFACE
DE60302662D1 (en) METHOD AND DEVICE FOR STAINING A LAYER OF NANOCRYSTALLINE MATERIAL
JP2013509563A5 (en)
JP2019167628A5 (en)
TH74893B (en) Systems for surface cleaning using solvent, cryogen and liquid reagents.
CA2672401A1 (en) Device for batch treatment
ATE395968T1 (en) METHOD AND DEVICE FOR DETECTING ANALYTES