TH74893A - ระบบสำหรับการทำความสะอาดพื้นผิวโดยการใช้ละออสารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหล - Google Patents

ระบบสำหรับการทำความสะอาดพื้นผิวโดยการใช้ละออสารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหล

Info

Publication number
TH74893A
TH74893A TH501001758A TH0501001758A TH74893A TH 74893 A TH74893 A TH 74893A TH 501001758 A TH501001758 A TH 501001758A TH 0501001758 A TH0501001758 A TH 0501001758A TH 74893 A TH74893 A TH 74893A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
chamber
under
room
heating
Prior art date
Application number
TH501001758A
Other languages
English (en)
Inventor
บาเนอร์จี นายซูวิค
บี บอเรด นายราเมช
แบรนด์ท์ นายเวอร์เนอร์
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
เรฟ เอ็น พี
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ, เรฟ เอ็น พี filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH74893A publication Critical patent/TH74893A/th

Links

Abstract

DC60 เครื่องและวิธีการจะได้รับการจัดเตรียมขึ้นมาเพื่อการปฏิบัติ ตัวอย่างเช่น ต่อเวเฟอร์สารกึ่ง ตัวนำที่ซึ่งวิถีทางจัดส่ง (34, 35 , 40) เพื่อการให้ความร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาเคมีที่ เป็น ของไหล จะได้รับการจัดวางไว้ในห้อง (12) ที่ซึ่งซับสเทรทได้รับการจัดวางไว้เพื่อให้พื้นผิวอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งด้าน (16, 18) ของซับสเทรทได้รับการทำความสะอาดในห้อง ห้องอาจประกอบด้วยสถ านี (77,88,0 ) จำนวนหนึ่งเพื่อการให้ความร้อน การปฏิบัติทางเคมมีและจัดเตรียมสารไครโอเจนให้กับ ซับสเทรทเพื่อให้เกิดผลในการทำค วามสะอาดดังกล่าว อากาศจะได้รับการจัดเตรียมไว้ในห้องตาม การไหลแ บบลามินา (20) ที่ขนานอย่างแท้จริงกับพื้นผิวที่จะได้รับการปฏิ บัติเพื่อกำจัดวัสดุที่ขจัด ออกมาให้ออกไปจากพื้นผิวและเพื่อป้อ งกันไม่ให้วัสดุนั้นกลับมาพอกพูนใหม่ลงบนพื้นผิวของ ซับสเทรท เครื่องและวิธีการจะได้รับการจัดเตรียมขึ้นมาเพื่อการปฏิบัติ ตัวอย่างเช่น ต่อเวฟอร์สารกึ่ง ตัวนำที่ซึ่งวิถีทางจัดส่ง (34, 35 , 40) เพื่อการให้ความร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาเคมีที่ เป็น ของไหล จะได้รับการจัดวางไว้ในห้อง (12) ที่ซึ่งซับสเทรทได ้รับการจัดวางไว้เพื่อให้พื้นผิวอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งด้าน (16, 18) ของซับสเทรทได้รับการทำความสะอาดในห้อง ห้องอาจประกอบด้วยสถ านี (77,88,0 ) จำนวนหนึ่งเพื่อการให้ความร้อน การปฏิบัติทางเคม ีและจัดเตรียมสารไครโอเจนให้กับ ซับสเทรทเพื่อให้เกิดผลในการทำค วามสะอาดังกล่าว อากาศจะได้รับการจัดเตรียมไว้ในห้องตาม การไหลแ บบลามินา (20) ที่ขนานอย่างแท้จริงกับพื้นผิวที่จะได้รับการปฏิ บัติเพื่อกำจัดวัสดุที่ขจัด ออกมาให้ออกไปจากพื้นผิวและเพื่อป้อ งกันไม่ให้วัสดุนั้นกลับมาพอกพูนใหม่ลงบนพื้นผิวของ ซับสเทรท

Claims (53)

1. เครื่องสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วย ห้อง และวิถีทางจัดส่งสำหรับการให้ความร้อนและสารอย่างน้อยที่สุ ดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยสารโครโอเจน ตัวทำปฏ ิกิริยาที่เป็นของเหลวและสารเหลานี้ผสมรวมกัน โดยจัด วางอยู่ในห ้องเพื่อดำเนินการปฏิบัติต่อพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านขอ งซับสเทรท
2. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยกระแสอากาศ ให้ห้องที่ขนานอย่าง แท้จริงกับพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้าน ของซับสเทรทที่จะได้รับการปฏิบัติ
3. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางหน่ วงความดันที่ติดต่อกับห้อง เพื่อจัดเตรียมให้เกิดสุญญากาศในห้อง
4. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางรอบ รับเพื่อการรองรับ ซับสเทรทในห้อง
5. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 4 ที่ซึ่งวิถีทางรองรับประกอบรวมด้ วยแท่น
6. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 4 ที่ซึ่งวิถีทางรองรับสามารถหมุนไ ด้
7. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 4 ที่ซึ่งวิถีทางรองรับและวิถีทางจ ัดส่งอย่างน้อยที่สุดหนึ่งวิถีทาง ได้รับการทำให้มีโครงสร้างและ ได้รับการจัดการไว้ในห้องเพื่อการเคลื่อนที่โดยสัมพัทธ์กัน
8. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 4 ที่ซึ่งวิถีทางรองรับสามารถเคลื่ อนที่ได้ในห้องเพื่อการเผยออกสู่ พื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้ านเพื่อการปฏิบัติ
9. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งวิถีทางจัดส่งประกอบรวมด ้วยหัวฉีดจำนวนหนึ่งเพื่อจัดส่ง ความร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏ ิกิริยาที่เป็นของไหล
10. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งวิถีทางจัดส่งประกอบรวมด ้วยหัวฉีดจำนวนหนึ่งที่มี โครงสร้างและได้รับการจัดการไว้ในห้อง เพื่อการเคลื่อนที่โดยสัมพัทธ์กับซับสเทรท
11. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางสำ หรับการล้างเพื่อการล้าง พื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านของซับ สเทรท
12. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 11 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางส ำหรับการล้างเพื่อการทำ ให้แห้งบนพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้ านของซับสเทรท
13. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางตั วกรองที่ติดต่ออยู่กับห้อง เพื่อการกรองบรรยากาศของห้อง
14. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งความร้อนที่จัดเตรียมขึ้ นมาโดยวิถีทางจัดส่งจะได้รับการ เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไน โตรเจน อากาศแห้งที่สะอาด CO2 อาร์กอน ฮีเลียม ออกซิเจน และ แก ๊สเหล่านี้ผสมรวมกัน
15. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งสารโครโอเจนได้รับการเลื อกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ตัวกระทำชนิดสารไครโอเจน ของไหลชนิดสาร ไครโอเจน คาร์บอนไดออกไซด์ อาร์กอน ไนโตรเจนและสารเหล่านี้ผสมร่วมกัน
16. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นขอ งไหลได้รับการเลือกมาจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยตัวทำละลายมีขั้ว ตั วทำละลายไม่มีขั้วและตัวทำละลายเหล่านี้ประกอบรวมกัน
17. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นขอ งไหลได้รับการเลือกมาจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยแก๊สไวปฏิกิริยา ไอไ วปฏิกิริยา ไอไวปฏิกิริยาของของเหลวไวปฏิกิริยาและสารเหล่านี้ ผสมรวมกัน
18. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นขอ งไหลได้รับการเลือกมาจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยไอ ดังเช่น ไอน้ำ ไอ ของเหลวที่มีความดันไอสูง และสารเหล่านี้ผสมรวมกัน ของเหลว ดัง เช่น อะซิโทน เอธานอล ของผสมของเอธานอลและอะซิโทน ไอโซโพรพิลแอ ลกอฮอล์ เมธานอล เมธิลฟอร์เมท เมธิลไอโอไดด์ เอธิลโบรไมด์ อะซิโ ทไนไทรล์ เอธิลคลอไรด์ ไพร์โรริดีน ไดเมธิลซัลฟ์ออกไซด์ และสาร เหล่านี้ผสมรวมกัน แก๊ส ดังเช่น โอโซน ไฮโดรเจน ไนโตรเจน ไนโต รเจนออกไซด์ ไนโตรเจนโทรฟลูออไรด์ ฮีเลียม อาร์กอน นีออน ซัลเฟ อร์ไทรออกไซด์ ออกซิเจน ฟลูออรีน แก๊สฟลูออโรคาร์บอน และแก๊สเห ล่านี้ผสมรวมกัน และของผสมของไอดังกล่าว ไอของเหลวความดันไอสูง ดังกล่าว และแก๊สชนิดใดๆ ดังกล่าว ไอน้ำ ไอของไอโซโพรพิลแอลกอฮอ ล์ ไอของของผสมเอธานอลและอะซิโทน ไอของเมธานอล โอโซน ไนโตรเจนไท รฟลูออโรด์ ซัลเฟอร์โทรออกไซด์ ออกซิเจน ฟลูออรีน โอโซน แก๊สฟ ลูออโรคาร์บอน และสารเหล่านี้ผสมรวมกัน
19.เครื่องตามข้อถือสิทธ ิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางสำหรับการขจัดซึ่งจัดวางอยู่ ในห้องเพื่อการขจัดประจุไฟฟ้าสถิตในห้องอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ห้อง วิถีทางจัดส่งและซับสเทรท
20. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 19 ที่ซึ่งวิถีทางสำรหับการขจัดปร ะกอบรวมด้วยวิถีทางสำหรับ การทำให้ตกเป็นไอออน
21. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางสำ หรับการก่อเกิดเพื่อการก่อ เกิดรังสีแม่เหล็กไฟฟ้าสำหรับเกิดกิร ิยาร่วมกับตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหลในห้อง
22. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 9 ที่ซึ่งหัวฉีดจำนวนหนึ่งได้รับก ารจัดวางเป็นกลุ่มที่อยู่ใกล้เคียง กับเพื่อการเคลื่อนที่ไปด้วย กัน
23. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 9 ที่ซึ่งหัวฉีดได้รับการทำให้มีโ ครงสร้างและได้รับการจัดการเพื่อ การเคลื่อนที่แบบแยกต่างหากจากก ัน
24. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 4 ที่ซึ่งวิถีทางรองรับได้รับการท ำให้มีโครงสร้างและได้รับการ จัดการเพื่อจัดวางตัวซับสเทรทในต่ำแ หน่งที่เลือกโดยสัมพัทธ์กับวิถีทางจัดส่ง
25. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 4 ที่ซึ่งวิถีทางรองรับประกอบรวมด ้วยชิ้นส่วนสำหรับการให้ ความร้อนกับซับสเทรท
26. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 25 ที่ซึ่งชิ้นส่วนสำหรับการให้ควา มร้อนประกอบรวมเป็นชิ้น เดียวกับซับสเทรท
27. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ซึ่งห้องประกอบรวมด้วยสถานีจ ำนวนหนึ่งที่ติดต่อกันเพื่อ จัดเตรียมเป็นห้องดังกล่าว
28. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 27 ที่ซึ่งแต่ละสถานีของสถานีจำนว นหนึ่งเป็นชุดที่แยกต่างหากที่ นำมาใช้เพื่อทำให้เกิดกิริยาร่วม กับสถานีจำนวนหนึ่งอย่างน้อยที่สุดหนึ่งสถานี
29. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 27 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยชุดประกอ บสำหรับการขนส่งเพื่อ การขนส่งซับสเทรทไประหว่างหรือไปท่ามกลางส ถานีจำนวนหนึ่ง
30. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 27 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางร องรับที่นำมาใช้เพื่อรองรับ และทำให้ซับสเทรทเคลื่อนที่ไประหว่า งและไปท่ามกลางสถานีจำนวนหนึ่งในห้อง
31. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 29 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยชุดประกอ บควบคุมที่จัดวางไว้เพื่อ ทำให้เกิดกิริยาร่วมกับชุดประกอบสำหรั บการขนส่งเพื่อควบคุมการขนส่งของซับสเทรทไปสู่และ ออกจากชุดประก อบสำหรับการขนส่ง
32. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 31 ที่ซึ่งชุดประกอบสำหรับการขนส่ งประกอบรวมด้วยช่อง ทางเข้าสำหรับเวเฟอร์ที่จะได้รับการนำเข้าสู ่ชุดประกอบสำหรับการขนส่ง และช่องทางออกสำหรับ เวเฟอร์ผ่านการปฏ ิบัติเพื่อให้ได้รับการนำออกจากชุดประกอบสำหรับการขนส่ง
33. เครื่องตามข้อถือสิทธิที่ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยวิถีทางรอ งรับที่จัดวางอยู่ในห้องเพื่อ รองรับและจัดวางตำแหน่งของซับสเทร ทโดยสัมพัทธ์กับวิถีทางจัดส่ง
34. เครื่องสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยวิถีทางจัดส ่งสำหรับการให้ความ ร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นขอ งไหล วิถีทางจัดส่งที่จัดวางอยู่ในห้องที่ซึ่งซับสเทรท ได้รับกา รจัดวางไว้เพื่อการปฏิบัติต่อพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านข องซับสเทรท
35. เครื่องสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยวิถีทางจัด ส่งสำหรับการให้ความ ร้อนและสารไครโอเจน วิถีทางจัดส่งที่จัดวา งอยู่ในห้องที่ซึ่งซับสเทรทได้รับการจัดวางไว้เพื่อการ ปฏิบัติต ่อพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านของซับสเทรท
36. เครื่องสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยวิถีทางจัด ส่งสำหรับการให้ความ ร้อนและตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหล วิถีท างจัดส่งที่จัดวางอยู่ในห้องที่ซึ่งซับสเทรทได้รับการจัด วางไว้ เพื่อการปฏิบัติต่อพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านของซับสเทรท
37. วิธีการสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยการจัดวางซ ับสเทรทในห้อง และการจัดเตรียมให้มีความร้อนและสารอย่างน้อยที่ส ุดหนึ่งชนิดที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย สารไครโอเจน ตัวทำป ฏิกิริยาที่เป็นของไหลและสารเหล่านี้ผสมรวมกันในห้องดังกล่าวสำ หรับ ปฏิบัติต่อพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านของซับสเทรท
38. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการควบคุ มการไหลของอากาศให้ ขนานอย่างแท้จริงกับพื้นผิวอย่างน้อยที่สุดห นึ่งด้านของซับสเทรท
39. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการลดควา มดันในห้องจนถึงความ ดันที่ต่ำกว่าความดันภายนอกห้อง
40. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการรองรั บซับสเทรทไว้ในห้อง เพื่อให้มีการจัดวางตัวเบบเลือกได้สำหรับการ ปฏิบัติในห้อง
41. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการขจัดป ระจุไฟฟ้าสถิตในห้อง และซับสเทรทอย่างน้อยที่สุดหนึ่งส่วน
42. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการจัดให ้มีการแผ่รังสีแม่เหล็ก ไฟฟ้ากับตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหลเพ ื่อเพิ่มพูนสภาพไวปฏิกิริยาของตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหล ดังก ล่าวกับซับสเทรท
43. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ที่ซึ่งพื้นผิวอย่างน้อยที่สุด หนึ่งด้านที่ได้รับการปฏิบัติจะได้รับ การทำความสะอาด
44. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการล้างพ ื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ด้านที่ได้รับการปฏิบัติ
45. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 44 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการทำให้แห้ งบนพื้นผิวที่ได้รับ การล้าง
46. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 44 ที่ซึ่งการล้างจะกระทำด้วยสาร อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่เลือก มาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยน้ำที ่ขจัดไอออนแล้ว ตัวทำละลายอินทรีย์และสารเหล่านี้ผสมรวมกัน
47. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการกรองบ รรยากาศของห้อง
48. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการก่อเก ิดการแผ่รังสีแม่เหล็ก ไฟฟ้าเพื่อการเกิดกิริยาร่วมกับตัวทำปฏิก ิริยาที่เป็นของไหล
49. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยการทำให้ ซับสเทรทเคลื่อนที่ไปใน ห้องเพื่อการปฏิบัติต่อซับสเทรท
50. วิธีการตามข้อถือสิทธิที่ 37 ที่ซึ่งห้องประกอบรวมด้วยสถานี ที่แยกต่างหากจำนวนหนึ่งซึ่ง ติดต่อกันเพื่อการจัดเตรียมเป็นห้อ ง
51. วิธีการสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยการจัดวางซ ับสเทรทลงในห้อง และการให้ความร้อน สารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริย าที่เป็นของไหลในห้องดังกล่าวเพื่อการปฏิบัติ ต่อพื้นผิวอย่างน้ อยที่สุดหนึ่งด้านของซับสเทรทที่จะได้รับการปฏิบัติ
52. วิธีการสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยการจัดวางซ ับสเทรทลงในห้อง และการให้ความร้อนและสารไครโอเจนในห้องที่ซึ่ง ซับสเทรทจะได้รับการจัดวางเพื่อการปฏิบัติต่อ พื้นผิวอย่างน้อยท ี่สุดหนึ่งด้านของซับสเทรท
53. วิธีการสำหรับการปฏิบัติต่อซับสเทรทประกอบรวมด้วยการจัดวางซ ับสเทรทลงในห้อง และการให้ความร้อนและตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของ ไหลในห้องที่ซึ่งซับสเทรทจะได้รับการจัดวางเพื่อ การปฏิบัติต่อพ ื้นผิวอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านของซับเสทรท
TH501001758A 2005-04-20 ระบบสำหรับการทำความสะอาดพื้นผิวโดยการใช้ละออสารไครโอเจนและตัวทำปฏิกิริยาที่เป็นของไหล TH74893A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH74893A true TH74893A (th) 2006-01-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100785433B1 (ko) 세정처리방법 및 세정처리장치
JP3592702B1 (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
EP1701746B1 (en) Apparatus for bio-decontamination of enclosures
TWI654705B (zh) 基板處理裝置
US5715612A (en) Method for precision drying surfaces
KR101965455B1 (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
JP4982320B2 (ja) 基板処理装置
KR20150088829A (ko) 고 종횡비 반도체 디바이스 구조들에 대한 오염물 제거를 갖는 무-스틱션 건조 프로세스
KR101841789B1 (ko) 기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 기억 매체
KR102609934B1 (ko) 기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기억 매체
KR100442869B1 (ko) 반도체 기판 세정공정용 반도체 제조장치 및 그를 이용한반도체 기판 세정공정
US11110390B1 (en) Systems and methods for treating sterilization exhaust gas containing ethylene oxide
KR20060030070A (ko) 기판 처리법 및 기판 처리 장치
KR102585500B1 (ko) 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체
JP5063560B2 (ja) 基板処理装置
US4772357A (en) System for automatically etching pieces
TWI902052B (zh) 處理腔室之洗淨方法、清掃用配件及基板處理系統
JP2004200666A (ja) 基板処理方法及び基板処理装置
WO2021184597A1 (en) Systems and methods for treating sterilization exhaust gas containing ethylene oxide
US7415985B2 (en) Substrate cleaning and drying apparatus
KR102613660B1 (ko) 기판처리장치
CA2248759A1 (en) Method and apparatus for drying and cleaning objects using aerosols
JPH08148464A (ja) 基板処理装置およびそれに用いられる処理槽
JP2003266004A (ja) 蒸気生成装置及び蒸気生成装置を具備する基板処理装置
KR20260049061A (ko) 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치